CN105589233B - 湿法制程设备及其维护方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种湿法制程设备及其维护方法，所述湿法制程设备包括：设备本体、设于设备本体内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔、设于两行反应腔之间的设备本体上的滑动框；每一反应腔的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板；所述滑动框的底边设于所述设备本体的上表面上，所述底边上设有多个相互平行的滑槽；将所述磁性盖板放置在滑槽内，并用顶边吸附住所述磁性盖板的边缘，进而所述磁性盖板能够沿所述滑槽滑动，通过将所述磁性盖板滑动至非工作区，能够避免磁性盖板占用工作区的空间，便于工作人员对设备进行维护，同时提升工作区的安全系数，避免维护人员受伤。

Description

湿法制程设备及其维护方法
技术领域
本发明涉及液晶显示面板生产制造技术领域，尤其涉及一种湿法制程设备及其维护方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
液晶显示面板的制程可划分为三个阶段：第一阶段为阵列制程(Array)，即把薄膜晶体管制作在玻璃基板上；第二阶段为组合制程(Cell)，即把彩色滤光基板与薄膜晶体管基板对组，并在中间灌入液晶分子；第三阶段为模组制程(LCM)，即在组合后的面板背后加上背光组件及外接集成电路板，完成液晶显示面板的制作。在Array制程中，需要先在玻璃基板的表面形成金属薄膜层，并在金属薄膜层上涂布光阻层，在曝光(Exposure)制程将玻璃基板套上具有特定图案的光罩后对玻璃基板进行曝光，在显影(Developer)制程利用显影液去除被光照射到的光阻(正性光阻)或未被光照射到的光阻(负性光阻)，在蚀刻(Etching)制程蚀刻未被光阻覆盖的金属薄膜，最后去除剩余的光阻层，使光罩上的薄膜晶体管的电路图案形成在玻璃基板上。
目前在液晶面板生产中，显影制程等湿法制程所使用的湿法制程设备的反应腔的盖板大多采用亚克力板(Acrylic)材料。请参考图1，其为一种现有的湿法制程设备的结构图，其盖板的设计为四边固定形式，这种湿法制程设备在清洁和维护的过程中，通常需要将盖板四边的固定拆卸下来，然后用软棉布沾肥皂水进行擦洗、清洁，维护工作繁琐，容易造成二次污染，同时这种湿法制程设备的盖板在安装时容易混淆位置，且表面和角边易划伤。
请参考图2，其为另一种现有的湿法制程设备的结构图，其盖板的设计为悬挂式，这种湿法制程设备在盖板顶部设有具有挂钩的横梁，并且在盖板的相对位置上设有挂钩，该湿法制程设备在清洁和维护的过程中，可将盖板悬挂在横梁之上，维护人员进入反应腔内进行清洁和维护。由于结构较复杂，该显影单元的成本相对较高，且盖板悬挂在维护人员所在的工作区，占用工作空间的同时容易对人员造成伤害。
发明内容
本发明的目的在于提供一种湿法制程设备，该湿法制程设备维护方便，
安全性高，使用寿命长，生产成本低。
本发明的另一目的在于提供一种湿法制程设备的维护方法，能够安全方便的对湿法制程设备的反应腔进行清洁和维护，提高生产效率。
为实现上述目的，本发明提供一种湿法制程设备，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体、设于设备本体内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔、及设于两行反应腔之间的设备本体上的滑动框；
每一反应腔的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板；
所述滑动框的底边设于所述设备本体的上表面上，所述底边上设有多个相互平行的沿所述底边的长度方向延伸的滑槽；
所述滑动框的顶边具有磁性；
所述滑动框的两侧边分别安装于设备本体的两侧壁上；
将所述磁性盖板放置在滑槽内，并用顶边吸附住所述磁性盖板的边缘，进而所述磁性盖板能够沿所述滑槽滑动。
所述每一滑槽的宽度均等于所述磁性盖板的厚度。
所述磁性盖板的一边设有磁性材料，所述滑动框的侧边的长度等于与所述磁性盖板设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度。
所述滑动框能够以所述滑动框的底边为轴线整体进行轴向旋转。
所述磁性盖板通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔的开口上。
本发明还提供一种湿法制程设备的维护方法，包括以下步骤：
步骤1、提供一湿法制程设备，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体、设于设备本体内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔、及设于两行反应腔之间的设备本体上的滑动框；
每一反应腔的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板；
所述滑动框的底边设于所述设备本体的上表面上，所述底边上设有多个相互平行的沿所述底边的长度方向延伸的滑槽；
所述滑动框的顶边具有磁性；
所述滑动框的两侧边分别安装于设备本体的两侧壁上；
步骤2、在某一反应腔需要清洁或维护时，将该反应腔的磁性盖板拆下，放置在对应的滑槽内，并吸附于顶边上；
步骤3、将该反应腔的磁性盖板沿所述滑槽滑动至非工作区；
步骤4、维护人员进入工作区对该反应腔的内侧进行清洁或维护。
所述每一滑槽的宽度均等于所述磁性盖板的厚度，以卡合住所述磁性盖板。
所述磁性盖板的一边设有磁性材料，所述滑动框的侧边的长度等于与所述磁性盖板设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度；
所述步骤2中将所述磁性盖板设有磁性材料的一边的对边放置在滑槽内。
所述滑动框能够以所述滑动框的底边为轴线整体进行轴向旋转；
所述步骤3与步骤4之间还包括将所述滑动框及放置于滑动框内的磁性盖板共同旋转至水平面的步骤。
所述磁性盖板通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔的开口上。
本发明的有益效果：本发明提供的湿法制程设备及其维护方法，所述湿法制程设备包括：设备本体、设于设备本体内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔、及设于两行反应腔之间的设备本体上的滑动框；每一反应腔的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板；所述滑动框的底边设于所述设备本体的上表面上，所述底边上设有多个相互平行的滑槽；所述滑动框的顶边具有磁性所述滑动框的两侧边分别安装于设备本体的两侧壁上；将所述磁性盖板放置在滑槽内，并用顶边吸附住所述磁性盖板的边缘，进而所述磁性盖板能够沿所述滑槽滑动，通过将所述磁性盖板滑动至非工作区，能够避免磁性盖板占用工作区的空间，便于工作人员对设备进行维护，同时提升工作区的安全系数，避免维护人员受伤。本发明还提供一种湿法制程设备的维护方法，能够安全方便的对湿法制程设备的反应腔进行清洁和维护，提高生产效率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为一种现有的湿法制程设备的结构图；
图2为另一种现有的湿法制程设备的结构图；
图3为本发明湿法制程设备的结构图；
图4为本发明湿法制程设备的维护方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3，本发明首先提供一种湿法制程设备，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体10、设于设备本体10内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔20、及设于两行反应腔20之间的设备本体10上的滑动框30；
每一反应腔20的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板21；
所述滑动框30的底边33设于所述设备本体10的上表面上，所述底边33上设有多个相互平行的沿所述底边33的长度方向延伸的滑槽34；所述滑动框30的顶边31具有磁性；
所述滑动框30的两侧边32分别安装于设备本体10的两侧壁上；
将所述磁性盖板21放置在滑槽34内，并用顶边31吸附住所述磁性盖板21的边缘，进而所述磁性盖板21能够沿所述滑槽34滑动。
具体地，所述湿法制程设备可用于清洗、去胶、显影、涂胶和湿法腐蚀等制程。
具体地，所述反应腔20的上表面与所述设备本体10的上表面为同一平面，所述每一滑槽34的宽度均等于所述磁性盖板21的厚度，以便于卡合住所述磁性盖板21。
需要说明的是，所述磁性盖板21的一边设有磁性材料，所述滑动框30的侧边32的长度等于与所述磁性盖板21设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度。
具体地，所述磁性盖板21通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔20的开口上。
特别地，上述湿法制程设备在维护时，通过将所述磁性盖板21放置在滑槽34内，滑动至非工作区，能够避免磁性盖板占用工作区的空间，便于工作人员对设备进行维护，同时提升工作区的安全系数，避免维护人员受伤。进一步地，所述滑动框30还能够以所述滑动框30的底边33为轴线整体进行轴向旋转，从而可以将所述滑动框30由竖直状态旋转至水平状态，进一步减少对工作区空间的占用。
请参阅图4，本发明还提供一种湿法制程设备的维护方法，包括以下步骤：
步骤1、提供一湿法制程设备，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体10、设于设备本体10内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔20、设于两行反应腔20之间的设备本体10上的滑动框30；
每一反应腔20的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板21；
所述滑动框30的底边33设于所述设备本体10的上表面上，所述底边33上设有多个相互平行的滑槽34；
所述滑动框30的顶边31具有磁性；
所述滑动框30的两侧边32分别安装于设备本体10的两侧壁上。
具体地，所述每一滑槽34的宽度均等于所述磁性盖板21的厚度，以卡合住所述磁性盖板21。所述磁性盖板21的一边设有磁性材料，所述滑动框30的侧边32的长度等于与所述磁性盖板21设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度。
所述磁性盖板21通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔20的开口上。
步骤2、在某一反应腔20需要清洁或维护时，将该反应腔20的磁性盖板21拆下，放置在对应的滑槽34内，并吸附于顶边31上；
具体地，通过拧开磁性盖板21四角的螺钉拆下所述磁性盖板21，然后将所述磁性盖板21设有磁性材料的一边的对边放置在滑槽34内，设有磁性材料的一边吸附在顶边31上。
步骤3、将该反应腔20的磁性盖板21沿所述滑槽34滑动至非工作区。
进一步地，所述滑动框30能够以所述滑动框30的底边33为轴线整体进行轴向旋转；进而在步骤3之后还可以将所述滑动框30及放置于滑动框30内的磁性盖板21共同旋转至水平面，旋转的方向为向远离工作区的一侧旋转，以进一步减少对工作区空间的占用，便于维护人员出入。
需要说明的是，所述工作区为维护人员对设备进行维护时所在的区域，非工作区即为没有维护人员的区域。
步骤4、维护人员进入工作区对该反应腔20的内侧进行清洁或维护。
综上所述，本发明提供的湿法制程设备及其维护方法，所述湿法制程设备包括：设备本体、设于设备本体内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔、及设于两行反应腔之间的设备本体上的滑动框；每一反应腔的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板；所述滑动框的底边设于所述设备本体的上表面上，所述底边上设有多个相互平行的滑槽；所述滑动框的顶边具有磁性所述滑动框的两侧边分别安装于设备本体的两侧壁上；将所述磁性盖板放置在滑槽内，并用顶边吸附住所述磁性盖板的边缘，进而所述磁性盖板能够沿所述滑槽滑动，通过将所述磁性盖板滑动至非工作区，能够避免磁性盖板占用工作区的空间，便于工作人员对设备进行维护，同时提升工作区的安全系数，避免维护人员受伤。本发明还提供一种湿法制程设备的维护方法，能够安全方便的对湿法制程设备的反应腔进行清洁和维护，提高生产效率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种湿法制程设备，其特征在于，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体(10)、设于设备本体(10)内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔(20)、及设于两行反应腔(20)之间的设备本体(10)上的滑动框(30)；
每一反应腔(20)的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板(21)；
所述滑动框(30)的底边(33)设于所述设备本体(10)的上表面上，所述底边(33)上设有多个相互平行的沿所述底边(33)的长度方向延伸的滑槽(34)；
所述滑动框(30)的顶边(31)具有磁性；
所述滑动框(30)的两侧边(32)分别安装于设备本体(10)的两侧壁上；
将所述磁性盖板(21)放置在滑槽(34)内，并用顶边(31)吸附住所述磁性盖板(21)的边缘，进而所述磁性盖板(21)能够沿所述滑槽(34)滑动；
所述每一滑槽(34)的宽度均等于所述磁性盖板(21)的厚度，以卡合住所述磁性盖板(21)。
2.如权利要求1所述的湿法制程设备，其特征在于，所述磁性盖板(21)的一边设有磁性材料，所述滑动框(30)的侧边(32)的长度等于与所述磁性盖板(21)设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度。
3.如权利要求1所述的湿法制程设备，其特征在于，所述滑动框(30)能够以所述滑动框(30)的底边(33)为轴线整体进行轴向旋转。
4.如权利要求1所述的湿法制程设备，其特征在于，所述磁性盖板(21)通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔(20)的开口上。
5.一种湿法制程设备的维护方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供一湿法制程设备，设N为大于1的正整数，所述湿法制程设备包括：设备本体(10)、设于设备本体(10)内的两行N列阵列排布的共2×N个反应腔(20)、及设于两行反应腔(20)之间的设备本体(10)上的滑动框(30)；
每一反应腔(20)的上表面均设有开口，对应所述开口设有覆盖所述开口的磁性盖板(21)；
所述滑动框(30)的底边(33)设于所述设备本体(10)的上表面上，所述底边(33)上设有多个相互平行的沿所述底边(33)的长度方向延伸的滑槽(34)；
所述滑动框(30)的顶边(31)具有磁性；
所述滑动框(30)的两侧边(32)分别安装于设备本体(10)的两侧壁上；
步骤2、在某一反应腔(20)需要清洁或维护时，将该反应腔(20)的磁性盖板(21)拆下，放置在对应的滑槽(34)内，并吸附于顶边(31)上；
步骤3、将该反应腔(20)的磁性盖板(21)沿所述滑槽(34)滑动至非工作区；
步骤4、维护人员进入工作区对该反应腔(20)的内侧进行清洁或维护；
所述每一滑槽(34)的宽度均等于所述磁性盖板(21)的厚度，以卡合住所述磁性盖板(21)。
6.如权利要求5所述的湿法制程设备的维护方法，其特征在于，所述磁性盖板(21)的一边设有磁性材料，所述滑动框(30)的侧边(32)的长度等于与所述磁性盖板(21)设有磁性材料的一边相邻的另一边的长度；
所述步骤2中将所述磁性盖板(21)设有磁性材料的一边的对边放置在滑槽(34)内。
7.如权利要求5所述的湿法制程设备的维护方法，其特征在于，所述滑动框(30)能够以所述滑动框(30)的底边(33)为轴线整体进行轴向旋转；
所述步骤3与步骤4之间还包括将所述滑动框(30)及放置于滑动框(30)内的磁性盖板(21)共同旋转至水平面的步骤。
8.如权利要求5所述的湿法制程设备的维护方法，其特征在于，所述磁性盖板(21)通过其四角的螺纹连接固定在所述反应腔(20)的开口上。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107092108A (zh) * 2017-06-23 2017-08-25 武汉华星光电技术有限公司 一种湿式设备及其储液箱

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050120436A (ko) * 2004-06-18 2005-12-22 주식회사 파인어스 홀로그램 도안 스탬핑 방법
CN202729999U (zh) * 2012-08-02 2013-02-13 北京京东方光电科技有限公司 一种闸门及湿法刻蚀设备
WO2013082800A1 (zh) * 2011-12-09 2013-06-13 中国科学院微电子研究所 一种制作用于极紫外光刻的铬侧墙衰减型移相掩模的方法
CN104977198A (zh) * 2015-05-12 2015-10-14 中国科学院近代物理研究所 核孔膜小样品蚀刻装置
CN105044943A (zh) * 2015-08-25 2015-11-11 深圳市华星光电技术有限公司 蚀刻装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050120436A (ko) * 2004-06-18 2005-12-22 주식회사 파인어스 홀로그램 도안 스탬핑 방법
WO2013082800A1 (zh) * 2011-12-09 2013-06-13 中国科学院微电子研究所 一种制作用于极紫外光刻的铬侧墙衰减型移相掩模的方法
CN202729999U (zh) * 2012-08-02 2013-02-13 北京京东方光电科技有限公司 一种闸门及湿法刻蚀设备
CN104977198A (zh) * 2015-05-12 2015-10-14 中国科学院近代物理研究所 核孔膜小样品蚀刻装置
CN105044943A (zh) * 2015-08-25 2015-11-11 深圳市华星光电技术有限公司 蚀刻装置

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