CN108778769A - 加工平版印刷版的方法和设备 - Google Patents

加工平版印刷版的方法和设备 Download PDF

Info

Publication number
CN108778769A
CN108778769A CN201780017686.7A CN201780017686A CN108778769A CN 108778769 A CN108778769 A CN 108778769A CN 201780017686 A CN201780017686 A CN 201780017686A CN 108778769 A CN108778769 A CN 108778769A
Authority
CN
China
Prior art keywords
solution
developer
developing
developing solution
version
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201780017686.7A
Other languages
English (en)
Inventor
P.莫里阿墨
I.博古诺维奇
L.维夫洛阿特
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa NV
Original Assignee
Agfa Graphics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Graphics NV filed Critical Agfa Graphics NV
Publication of CN108778769A publication Critical patent/CN108778769A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3057—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the processing units other than the developing unit, e.g. washing units
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3071—Process control means, e.g. for replenishing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3092—Recovery of material; Waste processing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

公开了一种加工平版印刷版材的方法，其包括以下步骤：(i)通过以1：D的比率稀释母溶液来制备碱性显影溶液；(ii)通过以1：R的比率稀释所述母溶液来制备补充溶液；(iii)用所述碱性显影溶液处理所述版材，所述碱性显影溶液用所述补充溶液再生；其特征在于0≤R<D。

Description

加工平版印刷版的方法和设备
发明领域
本发明涉及加工平版印刷版和设备的方法，其具有减少的加工液消耗。
发明背景
平版印刷通常涉及使用所谓的印刷母版如印刷版，其安装在旋转印刷机的滚筒上。母版在其表面上带有平版图像并通过将油墨施加到所述图像上然后将油墨从母版转移到接受材料(其通常是纸)上来获得印刷品。在常规的平版印刷中，将油墨以及润版水溶液(也称作润版液)供应到由亲油(或疏水，即受墨、拒水)区以及亲水(或疏油，即受水，拒墨)区构成的平版图像上。这些区也可分别被称作印刷区和非印刷区，或者图像区和非图像区。在所谓的无水胶印印刷中，平版图像由受墨和憎墨(拒墨)区构成，并在无水胶印期间，对母版仅供应油墨。
平版印刷母版通常通过印刷版前体(以下称为“版材”或简称为“版”)的依图像(image-wise)暴露和加工来获得，所述印刷版前体在基材上含有热敏或光敏涂层。通常通过数字调制的暴露设备如激光器将版材的涂层依图像暴露于热或光，其引发(物理)化学过程，如消融，聚合，通过聚合物的交联或热塑性聚合物胶乳的颗粒凝聚而不溶化，通过破坏分子间相互作用或通过增加显影阻挡层的渗透性而增溶。虽然一些版材能够在暴露后立即产生平版图像，但是最常用的版材需要用显影剂进行湿加工，因为暴露会在涂层的暴露区和未暴露区之间产生显影剂溶解度或溶解速率的差异。在阳图制版的版材中，涂层的暴露区溶解在显影剂中，而未暴露区保持对显影剂的抗性。在阴图制版的版材中，涂层的未暴露区溶解在显影剂中，而暴露区保持对显影剂的抗性。大多数版材在亲水性基材上含有疏水性涂层，使得对显影剂保持抗性的区域限定版的受墨、印刷区，而亲水性基材通过在非印刷区处将涂层溶解于显影剂而显露。
按照惯例，版材通过在其穿过加工设备时将其浸入显影剂或用显影剂喷洒来显影。通常，经过一段时间或用显影剂处理后，该材料也用例如一个或多个旋转刷或专用的辊进行机械摩擦。显影后，通常用水冲洗版以去除任何剩余的显影剂，然后施胶，这有时也称为修版或脱敏。施胶包括在平版图像、特别是非印刷区上施加保护涂层，以避免铝基材的污染或氧化。胶溶液可以通过例如EP 1 524 113中所公开的浸渍、喷洒或喷射来施加。
EP 1 696 274公开了光敏平版印刷版前体的自动显影方法，其使用碱性显影加工溶液，随后用胶溶液处理。
WO2007/057347公开了制造平版印刷版的方法，其中在包含两个或更多个具有级联系统配置的预洗单元的预洗站中洗涤前体，由此，用于在第一预洗单元和第二预洗单元中洗涤前体的洗涤液分别存在于第一槽和第二槽中，并且由此，当在第二预洗单元中添加新鲜水时，第二槽的洗涤液溢出到第一槽中。
平版制版中的一个重要趋势涉及生态学和可持续性。因此，存在加工大量版材而长时间段不需要更新显影剂的趋势。能够低消耗加工液体如显影剂、冲洗水和胶溶液，或者允许用不包含有害化学物质和/或pH接近7的水性显影剂(中性显影剂)加工的系统和方法也在市场上很受关注。一种变得流行的便利方法涉及使用胶溶液作为显影剂，由此在单个步骤中使版显影和施胶。然而，这些方法只能用于特殊设计的版，其具有在胶溶液中充分可溶解或可分散的平版印刷涂层，从而获得良好的清除(在图像的非印刷区完全除去涂层)。
在加工期间，显影剂变得加载有在显影期间被去除的涂层成分，且随着更多的版被显影，显影剂中的材料量增加。由于显影剂中溶解的材料的量增加，显影剂的活性降低，导致去除平版图像的非印刷区的能力降低。由于显影剂的这种耗尽，印刷版的平版印刷性质随时间变化，这通常通过用新鲜显影剂(也称作“加满(top up)”)或用补充溶液将加工设备的显影溶液再生来补偿。结果，显影剂的化学效率保持恒定和/或在可接受水平。用新鲜显影剂再生显影剂与用补充溶液再生相比的优势在于，操作者需要操作仅一种类型的含一种化学品(即，含有相同浓度的相同化学组分)的显影剂溶液。但是，缺点是消费更多的化学品/成分，或者，换而言之，在加工期间显影剂的活性下降更快，特别是当使用无硅酸盐的显影剂时。术语“新鲜显影剂”是指填充加工设备时使用的显影剂，通常是在再启动(这通常包括排出耗尽的显影剂、清洁设备和用新鲜显影剂再填充设备)之后。术语“补充溶液”定义了用于控制显影溶液活性水平的溶液。与显影溶液相比，补充溶液通常具有更高的碱度和/或阻挡剂(图像保护剂)浓度。
显影剂活性降低的另一个原因是大气中的二氧化碳导致的pH降低，二氧化碳随着时间的推移而溶解在显影溶液中。后者占显影过程中所需再生的约70%。为了减少该时间依赖性再生的量，已经提出了不依赖于显影溶液的碱性组分(即pH水平)的显影系统。那么通常需要向显影溶液添加一些能够溶解图像的非印刷区的替代试剂以替换碱性组分，例如，有机溶剂。然而，最合适的有机溶剂是挥发性有机化合物，因此它们的使用是有问题的，因为在释放到大气或水中时会造成污染和健康危害。
与含硅酸盐的显影剂相比，无硅酸盐的显影剂允许容易得多地维持加工器，但是，在与空气接触时，这些无硅酸盐的显影剂对碳化更敏感。结果，一旦将其加载在加工器中和/或如果含有这样的显影剂的接收器打开时，无硅酸盐的显影剂的效率就大大降低。如果加工器中的显影剂需要更新之前的时间段太长，在加工器下的接收器中的新鲜显影剂将由于例如碳化而变得不合规格。本领域中已知的解决方案包括例如使用避免空气与显影剂接触的柔性包装，或使用包含仅填充一个槽所需量的显影剂的包装。但是，需要太多的包装尺寸且柔性包装是昂贵的。
提供在生产高品质印刷版期间消耗少量显影剂的可持续的、成本有效的加工系统仍有挑战。
发明概述
因此，本发明的一个目的是提供用碱性显影剂溶液加工平版印刷版材的方法和设备，其是较不劳动密集型并且能够减少加工液的消耗和在加工期间产生的废液的量。
该目的通过独立权利要求中限定的方法和设备实现，其中优选的实施方案在从属权利要求中限定。本发明具有以下具体特征：将不同稀释比率的一种碱性溶液用于加工期间的印刷版前体的显影和所述碱性溶液的再生二者。仅涉及一种类型的显影剂的该方法大大有助于废液的减少，使得加工工作不那么劳动密集并且防止差错，因为操作者仅需要操作一种类型的显影剂溶液，即，显影剂溶液包含一种组分/化学品。因此，本申请不仅是简便和成本有效的，而且从环境的观点是有利的。
该方法和设备可以用于加工任何类型的印刷版(阴图制版以及阳图制版)。优选阳图制版热敏版。
根据下文的描述，本发明的其他目的将变得显而易见。
附图简述
图1A是本发明的设备的显影单元的一个优选的实施方案的示意性图示，示出为其填充有显影剂溶液。
图1B是设备的一个优选实施方案的示意性图示，示出为其填充有显影剂和胶溶液。
图2a是沿加工方向观察的显影腔的更详细图示。
图2b是沿垂直于加工方向的方向观察的显影腔的更详细图示。
图3a和3b是提供在显影腔的底板上的突出元件(肋条)的示意性图示。
图4是突出元件的合适形状的示意性横截面。
图中的数字指的是根据本发明的设备的优选显影区段的以下特征：
1 显影区段
2 施胶区段
3 第一施胶单元
4 第二施胶单元
5 显影单元
6 显影腔
7 盖板
8 入口孔
9 出口孔
10 底板，包括第一部分(10A)，第二部分(10B)和弯曲(10C)
11 辊对：11A和11B(显影区段)；11C, 11D, 11E和11F(施胶区段)；和11G(干燥区段)。
12 显影溶液
13 清除辊
14 刷
15 喷杆15B, 15C和15D
16 第一胶贮槽 16A和第二胶贮槽 16B
17 级联溢出
18 排出管
19 干燥区段
20 突出元件
21 侧壁
22 侧壁
23 加工方向
24 干燥装置
25 第一胶溶液
26 第二胶溶液
发明详述
定义
显影区段：设备的一部分，其包括显影单元、显影剂再循环系统和优选的显影剂再生系统。
施胶区段：设备的一部分，其包括施胶单元，并且优选还有胶再循环系统和胶再生系统。
显影单元：设计成容纳显影溶液的容器，任选地包括夹辊。
新鲜(显影或施胶)溶液：尚未用于加工版材的溶液。
施胶单元：设计成容纳胶溶液的容器，任选地包括夹辊、清除辊、刷(一个或多个)和/或用于将胶溶液供应到版的装置。
(再)循环系统：包括必要的管道和泵(一个或多个)以产生显影剂或胶溶液的流的系统。
再生系统：包括必要的管道和泵(一个或多个)以将再生剂液体供应到显影单元或施胶单元的系统。
补充溶液：用于控制显影溶液或胶溶液的活性水平的再生剂液体。
(再)启动：从显影单元排出显影剂，然后用新鲜显影剂再填充显影单元的过程(后一步骤单独来看被称为“启动”)。
除非另有说明，否则溶液的参数值例如pH、密度、粘度、电导率等始终在25℃下测量。
显影
根据本发明，(暴露的)印刷版材通过合适的碱性显影剂(在本文中也称为“显影溶液”)显影。在显影步骤中，版材的涂层的非印刷区至少部分被去除，而基本上不去除印刷区。在非印刷区未通过显影完全除去的情况下，通过用第一和/或第二胶溶液的处理可以实现完全除去。
版材的显影通常在含有显影溶液的容器中进行，例如通过将版浸入或浸渍到显影剂中，或通过将显影剂(旋转)涂布、喷洒和/或倾倒到版上。用显影溶液处理可以与机械摩擦结合，例如通过一个、两个或更多个旋转刷和/或专用的辊例如Molton辊。作为最优选的实施方案，显影通过下文描述的设备来执行。优选地，在用碱性显影溶液处理期间不刷版。优选地，在用碱性显影溶液处理期间不刷版。在显影步骤期间，优选也将图像记录层之上的任何水溶性保护层(如果存在的话)除去。
在加工期间，显影溶液变得加载有已通过显影去除的涂层成分，且随着更多的版被显影，显影溶液中的材料量增加。由于显影溶液中该增加的材料量，显影溶液的活性通常降低，这可导致去除平版印刷前体的非印刷区的能力降低和/或将被去除的成分保持在溶液中或分散状态下的能力降低。此外，由于随着时间的推移，二氧化碳从空气溶解到显影溶液中，可导致显影溶液的pH降低。因此，显影溶液优选通过盖板避开空气。
在本发明中，通过稀释更浓缩的溶液制备新鲜显影溶液，所述浓缩的溶液也称作“母溶液”。
在一个优选的实施方案中，在约一周以上的时间段、更优选约两周以上的时间段内使用少量(如下所定义)的显影溶液，在此期间多个版用相同的显影溶液加工，包括再生。在此期间之后，显影单元重新加载新鲜显影溶液。该过程优选是全自动的，这意味着借助于包括包含所谓母溶液(新鲜显影溶液由其制备)的供应槽、用于收集耗尽的显影剂的废物槽和必要的管道和泵的系统，将显影溶液优选地从显影单元自动排出，并且显影单元优选地自动再填充新鲜显影剂。新鲜显影溶液优选通过用水稀释更浓缩的母溶液而在加工设备内自动地制备。所述加工设备优选包括适合于用水稀释更浓缩的母溶液的装置。或者，浓缩的显影剂的稀释可以在单独的设备中进行。
由于显影溶液仅在有限的时间段内使用，因此可以在两个(再)启动之间的加工期间仅形成可忽略量的淤渣——如盐析化合物、沉淀或絮凝成分和/或其他未溶解化合物。而且，显影溶液中存在的溶解成分和/或化合物的水平可能受到限制；即显影溶液没有耗尽。结果，不仅显影单元的维护(如下所述)变得不那么繁琐，而且出口辊和/或其他辊上的沉积、和/或显影剂单元中加热器元件上的堆积还连同印刷版上淤渣的可能粘附(可能损害其上形成的图像；例如非图像区的受墨)受到限制。
下面描述的本发明的显影单元特别适合于能够在两次(再)启动之间的有限时间段内使用相对小体积的显影溶液。在本发明的上下文中，少量的显影溶液是指例如低于50l的体积，1至20 l，优选为2至15 l，更优选为5至12 l，且最优选为8至10 l。该体积是指显影单元中存在的显影溶液的量，即排除再生系统中、再循环系统中和任何供应和废物收集槽中可存在的体积。所述体积取决于显影单元的宽度(其通常为0.5m至2.0m)，如下所说明。
优选地，在加工一周后和/或在加工例如400 m² 前体后，重新加载显影溶液。优选地，显影溶液的重新加载是自动的。
或者，显影品质可以在较长时期内保持恒定，以便再启动可以推迟较长时间，例如超过一个月，优选超过两个月，更优选超过四个月，并且最优选超过六个月。在这个实施方案中，小体积的显影溶液以及大体积的显影溶液均可使用；然而，优选大体积的显影溶液，例如20至200 l，优选40至150 l，更优选50至100 l，且最优选60至90 l的体积。如上，实际的量取决于显影单元的宽度。
显影单元中的显影溶液的体积优选在Vmin至Vmax的范围内，根据下式，这两者都取决于显影单元的宽度：
Vmax = [B +(W/0.95 m)].升 (式1)
Vmin = [1 +(W/0.95 m)].升 (式2)
其中B表示6至17的整数，并且其中W是宽度，表示为米且垂直于可在显影单元中加工的最大版材的加工方向测量(其中“加工方向”定义为显影单元中的路径，在用显影溶液处理期间版材沿其行进)。优选B表示6、7、8、9至13、14、15、16或17。
显影溶液的再生
显影溶液的活性水平通过在其工作期间添加稀释的母溶液而保持。取决于稀释的母溶液的浓度，再生速率可以为1 ml至100 ml/m2被处理版材，优选为2 ml/m2至85 ml/m2、4 ml/m2至60 ml/m2，更优选为5 ml/m2至30 ml/m2，并且最优选为1 ml/m2至30 ml/m2。
已经意外地发现，通过使用稀释的母溶液作为显影溶液和稀释的母溶液作为补充溶液，其特征在于，与显影溶液的稀释水平相比，补充溶液的稀释水平更小，与用所述显影溶液再生相比，保持显影溶液活性在足够水平和/或恒定所需要的补充溶液的量显著更少。
显影溶液与补充溶液从相同的母溶液稀释，显影溶液以比率1：D稀释，补充溶液以比率1：R稀释，且0 ≤ R < D。优选R和D独立地包含在1和50之间，更优选2和20之间，且最优选3和10之间。稀释比率的1:R和1:D表示将1份母溶液分别稀释到R或D份溶剂中；溶剂优选水。
并且，当在有限的时间段内使用少量的显影剂时，需要很少的补充以将显影剂的活性保持在足够的水平和/或恒定。结果，与使用较长时间段的大量显影剂的现有技术的显影相比，其中使用少量显影剂的该实施方案产生较少的废物。实际上，在所述有限的时间段内产生的废物——包括排出的显影剂的量和施加的补充溶液的量，与在较长时间段内进行显影时所产生的废物相比要少。
此外，通过例如添加水和/或显影溶液，显影溶液的体积优选保持恒定；在本领域中也被称为加满(top-up)显影溶液。
当显影溶液的活性变得太低和/或为了保持活性水平恒定时，可以连续或分批加入所提及的再生剂液体。显影溶液的活性水平可以通过监测例如如下参数来确定：pH、密度、粘度、电导率，从用新鲜溶液(再)启动以来所加工的被加工版的数目和/或面积(平方米)，和/或从用新鲜溶液(再)启动以来所经历的时间。当通过这些参数之一(例如显影溶液的电导率)的测量来调节再生剂的添加时，可以在达到或超过该参数的预定阈值时添加再生剂液体。每次添加的再生剂的量取决于预定的阈值。例如，当测量的参数是加工的版材的平方米数时，每次在加工预定的版材面积之后添加预定的补充量。作为另一个实例，测量的参数可以是用电导率仪监测的溶液的电导率或电导率增加。例如超出限定的电导率值时，再生剂可以自动添加到显影溶液中。
显影单元优选地包含将显影溶液排出到收集槽中的溢出管。排出的显影溶液可以通过例如过滤、倾析或离心而纯化和/或再生，然后重新使用，但是优选收集排出的显影溶液以进行处置。
显影溶液的再循环
存在于显影单元中的显影溶液可以循环，例如，借助于循环泵。在它最简单的形式中，循环意味着在显影单元内产生显影溶液流，优选产生足够的湍流以改善从版的涂层去除非印刷区。结果，在用显影溶液处理期间，不需要在该加工步骤期间应用一个或多个刷。在一个优选的实施方案中，显影腔不含任何刷。显影溶液可以经由显影单元的出口被吸入，优选在显影单元的出口辊附近，可以由此排出到废物收集槽。
根据一个更优选的实施方案，显影溶液的至少一部分不被排出，而是被再循环，即沿闭合回路传送，例如从显影单元的贮槽传送到一个或多个进入口，例如喷洒喷嘴或喷射喷嘴(如下面进一步描述的)，其将显影剂施加到版上和/或与版接触的任选的刷上。过量的显影剂然后从版流回贮槽。如下所述，这种再循环的最优选的实施方案涉及将显影剂泵入显影腔。
在再循环期间，显影溶液优选至少部分地从显影单元去除(吸入)，然后通过形成在例如显影腔的侧壁中的至少一个进入口注射回显影单元(或腔，参见下文)中，从而循环和搅拌显影溶液。更优选地，被吸走的显影溶液通过显影单元中靠近出口辊对的至少一个进入口注射。甚至更优选地，被吸走的显影溶液通过形成在显影单元的盖板和/或腔中的至少一个进入口注射。最优选地，被吸走的显影溶液通过至少一个喷杆注射，所述喷杆优选安置在靠近出口辊对的显影单元中，更优选平行于出口辊。显影溶液优选至少部分地从显影单元中的出口辊下方和/或附近的区域吸入。优选地，滤器存在于循环系统中，例如管道中，所述滤器能够从显影溶液中去除淤渣和/或溶解成分。
显影溶液
取决于被加工印刷版的类型，任何类型的碱性显影剂可用于本发明的方法中。可以使用基于溶剂的或水性碱性显影剂。基于溶剂的显影剂主要用于显影阴图制版版材，而阳图制版版材通常需要高碱性显影剂，其中没有很多溶剂。
除非另外指出，否则本文给出的显影剂成分的量指用于(再)启动的新鲜显影剂。这样的新鲜显影剂通过用水稀释更浓缩的溶液—所谓的母溶液(参见上文)来获得。显影剂浓缩物的稀释可以在单独的设备中完成或可以集成在加工设备中。结果，本发明的优选的实施方案允许通过使用小于150 ml/m2的这种浓缩溶液以良好的清除将版显影，优选为小于50 ml/m2，最优选为小于25 ml/m²的这种浓缩溶液。0.5至10ml/m2，或者，0.2至2ml/m2的显影剂优选使用。
优选的碱性显影剂是具有至少10的pH的水溶液，更典型地至少12，优选13至14。
高pH显影剂可以包含至少一种碱金属硅酸盐，如硅酸锂、硅酸钠和/或硅酸钾。硅酸钠和硅酸钾是优选的，并且硅酸钠是最优选的。如果需要，可以使用碱金属硅酸盐的混合物。特别优选的高pH显影剂包含SiO2与M2O重量比至少为至少0.3的碱金属硅酸盐，其中M是碱金属。优选地，该比为0.3至1.2。更优选为0.6至1.1，最优选为0.7至1.0。高pH显影剂中碱金属硅酸盐的量通常为每1000g显影剂至少20g SiO2(即，至少2重量％)，优选每1000g显影剂20g至80g SiO2(2-8重量％)。更优选每1000克显影剂40g至65g SiO2(4-6.5重量％)。
在一个高度优选的实施方案中，作为碱金属硅酸盐的替代物，碱度通过合适浓度的任何合适的碱提供。这样的显影剂称作“无硅酸盐的”显影剂。适合的碱包括氢氧化铵、氢氧化钠、氢氧化锂、氢氧化钾和/或有机胺，和/或其混合物。优选的碱是氢氧化钠。这样的无硅酸盐的显影剂的确基本上排除了碱金属硅酸盐。用语“基本上”意指容忍不可避免的杂质、作为副产物的和/或可能已经加入显影溶液中的非常少量的微不足道的硅酸盐的存在。非常少量是指例如小于1%重量，优选小于0.5%重量，且最优选小于0.1%重量，基于显影溶液的总重量。
基于溶剂的碱性显影剂优选具有高于9、更优选高于9.5且最优选高于10的pH。基于溶剂的显影剂包含水和有机溶剂或有机溶剂的混合物。它们通常不含硅酸盐(无硅酸盐，参见上文)、碱金属氢氧化物以及硅酸盐与碱金属氢氧化物的混合物。显影剂优选为单相。因此，有机溶剂或有机溶剂的混合物优选与水混溶或者充分溶于显影剂中使得不发生相分离。
以下有机溶剂及其混合物适用于基于溶剂的显影剂：苯酚与环氧乙烷的反应产物(苯酚乙氧基化物)和与环氧丙烷的反应产物(苯酚丙氧基化物)，如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)；苄醇；乙二醇的和丙二醇的与具有6个或更少碳原子的酸的酯，和乙二醇、二乙二醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙氧基乙醇、2-(2-乙氧基)乙氧基乙醇和2-丁氧基乙醇。包含苯氧基乙醇的显影剂是优选的。显影剂通常包含0.5%重量至15%重量、优选3%重量至5%重量的一种或多种有机溶剂，基于显影剂的重量。
用于加工阳图制版版的适合的备选的显影剂包含非还原糖和碱。这样的碱性显影剂优选具有高于9、更优选高于10且最优选高于12的pH。这样的显影剂通常不含硅酸盐(无硅酸盐，参见上文)、碱金属氢氧化物以及硅酸盐与碱金属氢氧化物的混合物。术语“非还原糖”是指不含游离醛或酮基团并因此非还原的糖，例如通过将糖氢化和还原得到的海藻糖型寡糖、糖苷和糖醇。海藻糖型寡糖的实例包括蔗糖和海藻糖。糖苷的实例包括烷基糖苷、苯酚糖苷和芥子油糖苷。糖醇的实例包括D, L-阿拉伯糖醇、核糖醇、木糖醇、D, L-山梨糖醇、D, L-甘露醇、D, L-艾杜糖醇、D, L-塔罗糖醇、卫矛醇和arodulicitol。此外，可以使用通过二糖的氢化获得的麦芽糖醇或通过低聚糖的氢化获得的还原材料(还原淀粉糖浆)。这些非还原糖中优选的是糖醇和蔗糖。在这些非还原糖中甚至更理想的是D-山梨糖醇、蔗糖和还原淀粉糖浆，因为它们在适当的pH范围内具有缓冲作用。
这些非还原糖可以单独使用，也可以将其两种以上组合使用。显影剂中这些非还原糖的比例优选为0.1至30重量％，更优选为1至25重量％。
上述非还原糖可以与作为碱的碱性试剂组合使用，碱性试剂适当地选自已知材料如无机碱性试剂，例如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、磷酸三钠、磷酸三钾、磷酸三铵、磷酸二钠、磷酸二钾、磷酸二铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾和硼酸铵、柠檬酸钾、柠檬酸三钾和柠檬酸钠。
碱性试剂的进一步优选实例包括有机碱性试剂，如一甲胺、二甲胺、三甲胺、一乙胺、二乙胺、三乙胺、一异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正丁胺、一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、氮丙环、乙二胺和吡啶。
这些碱性试剂可以单独使用或以其两种以上的组合使用。这些碱性试剂中优选氢氧化钠、氢氧化钾、磷酸三钠、磷酸三钾、碳酸钠和碳酸钾。
另一种备选的无硅酸盐(无硅酸盐，见上文)且无糖的碱性水性显影剂组合物具有至少12的pH，并且包含：(a)氢氧化物，(b)选自钡、钙、锶和锌阳离子的金属阳离子M2'，(c)用于金属阳离子M+的螯合剂和(d)不同于所有上述a、b和c的碱金属盐。
所有上述显影剂的任选成分例如为阴离子、非离子和/或两性表面活性剂，杀生物剂(抗微生物剂和/或抗真菌剂)，消泡剂或螯合剂(如碱金属葡糖酸盐)，增溶剂，图像保护剂如阻挡剂或阻滞剂，溶解抑制剂和增稠剂(水溶性或水分散性多羟基化合物，如甘油或聚乙二醇)。
显影步骤之后可以是冲洗步骤和/或施胶步骤。施胶步骤涉及用胶溶液后处理平版印刷版。胶溶液通常是包含一种或多种表面保护性化合物的水性液体，所述表面保护性化合物能够保护印刷版的平版图像免于污染或破坏。这样的化合物的适合实例为成膜亲水性聚合物或表面活性剂。在用胶溶液处理并干燥之后优选保留在版上的层优选包含0.1至20 g/m2的表面保护性化合物。该层优选保留在版上，直到版安装在印刷机上，并且在印刷机运行已开始时通过油墨和/或润版液移除。如果需要，版前体可以用本领域已知的合适修正剂或防腐剂进一步后处理。
优选的实施方案：级联配置
在本发明的一个优选实施方案中，上述显影之后可以用胶溶液进行至少两次处理，所述胶溶液通过包括第一和第二施胶单元的级联施胶区段施加，其中第一和第二施胶步骤分别进行。该施胶区段也被称为“施胶系统”。在该实施方案中，在用碱性显影溶液处理版材和用第一和第二胶溶液连续处理之间不存在水冲洗步骤。
在第一施胶步骤中，用第一胶溶液处理被加工版。该处理的主要目的是冲洗和/或中和版，即从版表面除去任何显影剂，和确保图像的良好清除(如果还没有在显影单元中获得)。在第二施胶步骤中，版材随后用第二胶溶液处理。第二步骤的主要目的是通过施加胶层来保护平版图像，如下面进一步讨论的。然而，应该理解，第一和第二施胶步骤的所述目的不是对本发明的限制。例如，对于在第一施胶步骤后涂层的非印刷区没有完全去除的那些版材，第二胶溶液也可以有助于图像的清除。减少的清除通常会导致印刷版上的调色(非图像区中的受墨)和/或橡皮布上的油墨堆积。
优选通过喷洒、喷射、浸渍、浸入或通过包括旋涂、辊涂、狭缝涂布或凹版涂布的涂布技术使胶溶液与印刷版接触。优选使用喷杆。喷杆通常包括具有预定系列孔的中空杆。施胶单元还可以提供有至少一个用于摩擦和/或刷版的辊，同时将胶施加到涂层。
两个施胶步骤在配置为级联的两个不同施胶单元中进行，由此第二胶溶液溢出到第一施胶单元中。这样的级联配置提供了如下的优点：减少例如第二胶溶液中的溶解成分带入所导致的淤渣形成和/或污染，由此可以减少或抑制第二施胶单元中胶溶液粘度的增加。这导致施胶系统的寿命提高，因为只有第一施胶单元的胶溶液变得加载有来自拖出的显影溶液的污染物，由此第二胶溶液可用于施胶更多数目的版，以便节约成本和实现可持续的系统。
在具有级联配置的方法的使用期间，两个胶溶液的组成可以不同，尽管第一胶溶液从第二胶溶液经由级联溢出产生。这种差异可能是由于，例如通过从显影单元与版一起拖出到第一施胶单元中的显影剂和/或通过涂层的非印刷区的进一步溶解(如果通过显影没有充分实现清除)的污染，进一步结合例如通过级联溢出的第一胶溶液的不充分再生。后一个问题可以通过主动地从第二施胶单元向第一施胶单元泵送胶溶液(除了级联溢出之外)来解决。
胶溶液的(再)循环
第一和/或第二胶溶液优选(再)循环，更优选彼此独立地(再)循环。第一和第二胶溶液分别保存在两个浴或贮槽中，它们由此被再循环到例如供应胶溶液的喷杆中。然后胶溶液流回相应的贮槽中。
优选地，滤器存在于(再)循环系统中，例如，在管道中，其能够从胶溶液中去除任何类型的淤渣和/或溶解成分。
胶溶液的再生
胶溶液可以通过加入水或补充溶液或其混合物来再生。补充溶液可以包含与新鲜溶液相比更多、更少或不同的成分。
当活性产品的浓度在胶溶液中低于所需水平时，可以加入浓缩的补充溶液。当胶溶液中活性产品的浓度高于所需水平时和/或胶溶液的粘度增加时或胶溶液的体积低于所需水平时，例如由于溶剂或水的蒸发，则可以使用稀释的补充溶液或水。
上述再生剂液体可以被添加到第一和/或第二胶溶液中。添加到第一胶溶液的再生剂的量可能受到限制，以仅补偿级联中排出和与版一起被拖出的体积。添加到第二胶溶液的再生剂的量优选被调整，以补偿由拖出的显影剂导致的胶溶液的变劣以及作为废物排出的体积。
为了限制在加工期间产生的废物量，优选添加的用于胶溶液再生的补充溶液的量小。因此，再生速度—取决于补充/胶溶液的浓度—优选为每m2被处理版1ml至100ml，更优选2ml/m2至85ml/m2，更优选4ml/m2至60ml/m2，且最优选5ml/m2至30ml/m2。
再生剂的添加，即其类型和量，可以通过测量例如被加工版的数量和/或面积、胶溶液的pH或pH变化、粘度、密度、自施胶系统装载新鲜胶溶液以来所经历的时间来调节，或通过监测每个施胶单元中的最小和最大体积、或它们中至少两个的组合来调节。
第一施胶单元优选包含通过溢出将胶溶液排出到收集槽中的溢出管。排出的胶溶液可以通过例如过滤、倾析或离心来清洁，然后重新使用以再生第一和/或第二胶溶液。然而，优选排出的第一胶溶液被收集来处置。
胶溶液
下文中描述的胶溶液的组成是指用于(再)启动的新鲜胶溶液。在具有级联配置的实施方案中，优选地，相同的胶溶液用于施胶区段的两个单元中的(再)启动。在一个备选的实施方案中，(再)启动可涉及用不同的胶溶液填充第一和第二施胶单元。在这种情况下，本文中描述的胶溶液的组成是指用于第二施胶单元的新鲜胶溶液。这样的新鲜胶溶液可以作为即用型溶液获得，或通过稀释由制造商供应的更浓缩的溶液获得。胶浓缩物的稀释可以在单独的设备中完成或可以集成在加工设备中。
优选地，第二胶溶液在加工一周后和/或在加工例如400m²的前体之后重新加载。优选地，第一和/或第二胶溶液的重新加载是自动的。
或者，胶品质可以保持恒定较长时间，使得再启动可以推迟较长时间，例如超过一个月，优选超过两个月，更优选超过四个月，并且最优选超过六个月。
在本发明中用作新鲜胶溶液的合适的胶溶液是包含一种或多种能够保护印刷版的平版图像免受污染、氧化或破坏的表面保护性化合物的水性液体。这种化合物的合适实例是成膜亲水聚合物或表面活性剂。在第二施胶步骤中用胶溶液处理和干燥后优选保留在版上的层优选包含0.1-20 g/m2表面保护性化合物。该层优选保留在版上，直到版安装在印刷机上，并且在印刷机运行开始时通过油墨和/或润版液移除。胶溶液优选具有低于11，更优选低于9的pH，甚至更优选pH为0至8，并且最优选1至6。本文使用的合适的胶溶液具有约2、5或7的pH。
当胶溶液需要更高浓度的表面活性剂时或当需要将胶溶液的pH控制在所需pH值或在两个pH值范围(例如1-9)中的所需pH值时，可以加入非离子表面活性剂的溶液和/或缓冲剂的溶液。
加工设备
本发明还提供了专门设计用于执行本发明的加工方法的设备。
附图表示这种加工设备的高度优选的实施方案，其包括显影区段(1)、冲洗和/或施胶区段(未示出)。显影区段(1)优选包括显影单元(5)，显影单元包括基本封闭的显影腔(6)，显影腔包括盖板(7)、底板(10)和侧壁(21,22)。
优选存在于设备的显影区段中但未在附图中显示的公知的特征是：用于将版逐一递送至显影区段的进料器；再生系统；包含母溶液、新鲜胶溶液或一种或多种补充溶液的供应槽；适合于通过用水稀释更浓缩的溶液产生显影溶液的装置；废物收集槽，其中耗尽的显影剂或胶溶液被排出；稀释浓缩母溶液的水槽；和其他常规零件。
当下面的描述涉及在设备的操作期间行进通过各个区段的版材时，假设版朝上，即，热敏或光敏涂层朝上(版的另一侧称为“背侧”)。然而，版朝下的实施方案同样在本发明的范围内。
优选的加工设备：显影区段(图1A)
显影区段(1)包括显影单元(5)，该显影单元优选地包括至少两个辊对(11A，11B)-也称为夹辊或给料辊–其将版传送进出显影单元。显影单元优选包括让显影溶液避开空气的盖板(7)。
优选地，入口辊对(11A)将版供给到显影单元中，更优选地供给到单元的显影腔(6)中，该显影腔是由底板(10)、盖板(7)和侧壁(21,22)限定的基本上封闭的体积。腔具有版进入腔的入口孔(8)和版离开腔的出口孔(9)。出口辊对(11B)优选将版从显影区段输送到施胶区段。
可在入口孔处提供橡胶刀以防止空气流入腔。显影腔优选完全充满显影溶液，在盖板和显影溶液表面之间不存在任何空气。优选地，覆盖显影腔的盖板与显影溶液的液面完全接触，从而切断显影溶液上方的任何空气流-即从入口孔到出口孔的空气流。盖板的主要功能是减少显影溶液通过从环境空气中吸收二氧化碳和/或蒸发水的可能变劣，从而允许降低再生(如果有的话)的速度。盖板也可以延伸超出入口孔或出口孔，例如，盖板可以包括覆盖夹辊的上部外围表面的弧形曲线或矩形形状。
显影腔的体积优选尽可能低。优选腔的体积为0.5dm³至50dm³；更优选1dm³至25dm³，最优选2至10dm³。在一个优选的实施方案中，入口孔(8)和出口孔(9)是具有至少10、更优选至少20的纵横比(高度/宽度)的窄缝。入口缝(8)的高度优选为版厚度的2至5倍。出口缝(9)优选更窄，例如具有仅为版厚度的几倍(例如2至3)大的高度。
底板(10)优选地包括由向上的弯曲(10C)分开的至少两个部分，使得底板的第一部分(10A)以相对于底板的第二部分(10B)为0.5°至60°的角度取向。更优选地，相对于第一部分，该角度为1°至50°，更优选为5°至45°，且最优选为10°至35°。底板的第一部分和/或第二部分的长度(沿加工方向的距离)优选地适合于获得版通过显影腔的平滑移动。优选地，第一部分(10A)的长度为0至50cm，更优选为1至30cm，最优选为2至15cm。第二部分(10B)的长度优选为1至50cm，更优选为2至30cm，最优选为3至25cm。优选地，向上的弯曲相对于加工方向基本垂直。
底板(10)的面向显影腔内部的表面优选地提供有一个或多个突出元件(20)，该元件保持版的背侧与底板之间的距离。优选地，存在至少两个突出元件，更优选存在至少三个突出元件，并且最优选存在至少四个突出元件。结果，减少了在版的背侧形成的划痕，并且获得了版通过腔的平滑输送。此外，底板的突出表面可以防止版与淤渣(如在突出元件之间收集的盐析化合物、沉淀或絮凝成分)之间的接触。
突出元件可以具有任何形状，例如球形、矩形、椭圆形、三角形或纵向。图4示出了突出元件的合适形状。优选的突出元件是细长肋条。优选盖板提供有至少两个细长肋条；更优选至少三个，且最优选至少四个。这些元件可以彼此平行安置。细长肋条的长度优选为1mm至25cm，更优选为5mm至15cm，且最优选为10mm至10cm。长度可以至少是10A和10B的长度的总和。细长肋条的高度优选为至少0.1mm且至多50mm，更优选为0.1mm至10mm，且最优选为1mm至5mm。细长肋条可以相对于加工方向以一角度取向。这样的细长肋条可以平行于版的加工方向，如图3中的箭头(23)所示，但是更优选相对于加工方向以一角度取向。所述角度(图3b中的α)相对于加工方向例如为1至45°，优选为5至35°，且最优选为10至25°。或者，角度α对于一个或多个肋条可以具有不同的值，或者换句话说，肋条可以相对于彼此不完全平行。
在图2a的优选的实施方案中，突出元件(20)具有梯形横截面，其顶部为圆形。突出元件的高度(在球形、圆形或椭圆形形状的情况下在最高部分处测量)优选为至少0.1mm且至多50mm，更优选为1mm至10mm，且最优选为1mm至5mm。
这些元件可以例如随机、集合成矩阵或沿着平行线安置。这些线可以平行于版的加工方向，如图3中的箭头(23)所示，但是更优选相对于加工方向以一角度取向。所述角度(α，如图3b中对细长肋条所示)例如相对于加工方向为1至45°，优选为5至35°，且最优选为10至25°。或者，角度α对于一条或多条线可以具有不同的值，或者换句话说，线可以相对于彼此不完全平行。线的长度优选为1mm至25cm，更优选为5mm至15cm，最优选为10mm至10cm。长度可以至少是10A和10B的长度的总和。
显影腔优选不包括通常存在于现有技术的显影单元中的一个或多个辊对。由于如上所述的本发明的显影腔的特殊设计，版沿着底板(平行或几乎平行地)输送通过单元，所述底板优选地配置有向上的弯曲(参见上文)以将版向上引导或推动而不需要运输辊。在输送期间，版可能会与底板接触。
在一个优选的实施方案中，盖板还提供有任何上述突出元件。在另一个实施方案中，只有盖板提供有上述突出元件。盖板上的突出元件可在显影溶液中引起湍流，由此操控所谓的边界层和/或层流的形成以实现最佳显影。在一个优选的实施方案中，盖板提供有至少两个突出元件，更优选提供有至少三个突出元件，且最优选提供有多于三个突出元件。
突出元件可以由金属、纤维和/或其他柔性/可延展材料制成。突出元件(浮雕)可以是经挤出、取向、膨胀、编织或管状的，并且可以由聚丙烯、聚乙烯、尼龙、PVC或PTFE制成。金属浮雕可以由钢或其他金属编织、针织、焊接、膨胀、光化学蚀刻或电铸。
如上所述，显影溶液借助于将补充溶液供应到显影单元(5)和/或显影腔(6)的入口再生。如上所述，补充溶液从母溶液稀释。再生剂系统的其它公知元件未在附图中示出，例如用于容纳补充溶液的供应槽；适合于稀释显影溶液的装置；将再生剂液体供应到显影单元(5)和/或显影腔(6)的泵和必要管道。
优选的加工设备：通过喷嘴供应显影剂
为了在显影单元内提供足够的湍流，显影剂优选借助于喷洒或喷射显影剂流到版表面上的喷嘴来施加到印刷版上。喷嘴可以被配置为喷嘴阵列，例如在喷杆中孔的阵列或者在喷墨头(例如阀喷射头)中的喷射喷嘴的阵列。
喷嘴的使用特别适合于其中显影单元包括如上所述的显影腔的实施方案。在该实施方案中，喷嘴可以集成在显影腔的一个侧壁中或两个侧壁中，以便将显影溶液横向地排出于版的涂层上。在备选方案中，喷嘴可以存在于底板或盖板中，这取决于两者的哪一个面向印刷版的图像记录层。喷嘴集成在一个或两个侧壁中以及在底板和/或盖板中的组合实施方案也在本发明的范围内。不需要使用刷来获得版的快速和有效的显影。在一个优选的实施方案中，显影腔不包含任何刷，由此消除了图像区上的划痕的风险和/或刷的维护(清洁)。
显影剂优选作为加压流由喷嘴供应到版的表面区域上，使得版的连续目标区域动态且均匀地由显影溶液淹没。显影溶液的喷嘴流可以在方向、形状、重叠和表面湍流方面进行调整。尽管版目标区域优选经历连续的湍流淹没，但也可以以连续的脉冲来施加通过喷嘴的供应。由此通过提供引起湍流并且不断移位和替换的显影剂液体流来快速且均匀地实现可溶性涂层区域的溶解。
在足够的体积流速下，显影溶液在显影停留时间期间在版的表面上不断移位，由此没有边界层在版上形成并与版一起行进，并且每个单位体积的涂层被快速且均匀地加工。优选地，取决于版行进通过显影单元的速度，将显影溶液的湍流流施加到经涂布版的每个单位区域上历时短的停留时间；例如，以0.5至5m/min的速度，小于约30秒的停留时间，更优选5至25秒的停留时间，和最优选8至15秒的停留时间。这些数字只是实践指导，可能超出这些范围。
不需要使用刷来获得版的快速和有效的显影。在一个优选的实施方案中，显影腔不包含任何刷，由此消除了图像区上的划痕的风险和/或刷的维护(清洁)。
合适的喷洒喷嘴可以以许多尺寸和配置商购获得，例如，来自Spraying SystemsCo.(Wheaton，Illinois，USA)。喷洒喷嘴的重要参数是流速、喷洒压力、液滴尺寸、喷洒模式和喷洒喷嘴对齐方式。有用的喷洒压力在1至5巴的范围内，更优选在1.5至2.5巴的范围内。优选的喷洒图案是锥形边缘平面图案，因为它可以由于重叠分布而在整个版区域上提供均匀覆盖。喷洒锥的角度和喷洒喷嘴与版之间的喷洒距离限定了版上的目标区域。喷嘴可以具有从5°到170°的喷洒角度，对于给定的喷洒距离，较大的角度产生大的目标区域。版上的喷嘴目标区域取决于喷洒角度和喷洒距离，并且可以高达15cm，这可以通过具有例如110°的喷洒角度、5cm的喷洒距离的喷嘴来实现。然而，较小的目标区域是优选的，例如小于5cm，这可以通过具有50°的喷洒角度和5cm的喷洒距离或者分别为30°和10cm的喷嘴N来实现。喷洒的合适液滴尺寸从小于1mm、例如100μm(通过所谓的雾化喷嘴实现)直到数毫米，例如，从1到5mm，优选从1到2mm。液滴大小主要由喷洒压力以及当然由显影剂液体的性质来决定。
喷洒喷嘴优选地由耐受显影剂液体并且提供长磨损寿命的材料制成，例如不锈钢、陶瓷或碳化物。有关喷洒喷嘴的更多信息可以见于如下书籍，例如“工业喷洒和雾化(Industrial Sprays and Atomization)”，Springer，第1版(2002年9月17日)和“雾化和喷洒手册(Handbook of Atomization and Sprays)”，Springer，2011。
特别是当使用高分辨率喷嘴、即在版上具有非常小的目标区域的喷嘴(诸如喷墨头的喷嘴)时，可以通过从制版机或工作流程软件供应图像数据到本发明设备的数字控制器，在设备中设立更多的智能。可以通过数字控制器在本发明的设备中实现图像控制的显影，其中计算作为图像的一部分的每个喷嘴的目标区域处的平均点覆盖，并且其根据所述平均点覆盖来调节沉积在该目标区域的显影剂体积。在这样的实施方案中，没有显影剂沉积在图像的“全黑”部分上，即完全由印刷区组成的部分；并且足够量的显影剂沉积在图像的灰色和白色部分上，其中使所述量与所述灰色和白色部分的平均点覆盖成比例。有关合适的喷嘴的更多细节可见于EP 2 775 351(例如[0034]至[0049])中。
优选的加工设备：水冲洗和/或施胶区段
在如上所述的显影区段之后，加工设备优选包含如本领域中常规的水冲洗和/或施胶区段。
在一个优选的实施方案中，加工设备的施胶区段可以包含至少两个以级联配置提供的施胶单元，这意味着胶溶液从第二施胶单元溢出到第一施胶单元中。可以使用另外的施胶单元，但优选仅包含两个施胶单元。优选地，第一施胶单元不允许溢出到显影区段。
通过喷洒、喷射、浸渍或涂布技术(包括旋涂、辊涂、狭缝涂布或凹版涂布)将胶溶液施加到印刷版上。优选使用喷洒或(阀)喷射喷嘴。上述用于供应显影溶液的喷嘴的所有特征同样适用于可能根据版面积或甚至根据版的图像数据而在版上沉积胶的优选的实施方案，如EP 2 775 351中所述。
在图1B的优选的实施方案中，第一施胶单元的夹辊(11C, 11D)提供有清除辊(13)以防止胶污染到显影剂单元中。在第一施胶单元中设置两个喷杆：一个杆(15B)，其能够将胶喷洒到辊对(11C)的辊隙和被配置成将胶施加于版的图像上的刷(14)上；和一个杆(15C)，其将胶朝向辊对(11D)的辊隙喷洒。将胶喷洒到辊对的辊隙的杆优选包含至少一排孔；能够将胶喷洒到辊和刷(14)上的杆(15B)优选地包含至少两排孔。优选地，用于喷洒第一胶溶液的杆，更优选杆(15B)和(15C)为所谓的慢进模式(jog-mode)，即定期提供胶，即使在版不存在于施胶单元中时也如此，以防止夹辊和/或刷发粘。优选地，夹辊定期接合；即使没有版通过也如此。第二施胶单元还包括喷杆(15D)，其能够保持第二单元(11E，11F)中的两个夹辊都是湿的，并且在版的表面上提供修版层。该喷杆也可以为慢进模式。
如上所述，第二胶溶液优选通过将再生剂液体供应到第二施胶单元、例如到贮槽(16B)的入口再生，所述再生剂液体可以是水、任选稀释的新鲜胶和/或补充溶液。附图中未示出再生剂系统的其他公知元件，例如用于容纳新鲜胶溶液、水或补充溶液的供应槽；将再生剂液体供应到第二施胶单元的泵和必要管道。第一胶溶液也可以通过与用于第二胶溶液的相同或类似的再生系统再生。第一胶溶液也可以通过主动将胶溶液从第二施胶单元泵送到第一施胶单元而再生。
优选的加工设备：干燥区段
在施加最终胶之后，优选不冲洗版，而是立即将其传送至优选集成到设备中的干燥区段。干燥可以通过用于发射热空气、红外和/或微波辐射的装置以及本领域中通常已知的其他方法来实现。然后可以将版安装在印刷机的版滚筒上并且可以开始印刷过程。
平版印刷版材
可以根据本发明的方法和用本发明的设备加工任何类型的热敏和/或光敏版材。优选的材料是需要碱性加工的阳图制版或阴图制版版材。阳图制版热敏材料是高度优选的。
载体
用于本发明的平版印刷版材的优选载体具有亲水表面或提供有亲水层。特别优选的平版印刷载体是粒化且阳极化的铝载体，更优选通过在包含硝酸和/或盐酸的溶液中电化学粒化而粒化的且然后在包含磷酸和/或硫酸的溶液中电化学阳极化的铝。
涂层组成
本发明中使用的平版印刷版前体可以是阴图制版或阳图制版的，即分别可在暴露区或未暴露区形成受墨区。以下详细讨论热敏和光敏涂层的合适实例。
热敏印刷版前体。
热敏印刷版前体的成像机理可以通过直接暴露于热来触发，例如通过热敏头，或通过涂层中能够将光、更优选红外光转换成热的一种或多种化合物的光吸收。这些热敏平版印刷版前体优选对可见光不敏感，即暴露于可见光对涂层在显影剂中的溶解速率不导致实质影响。最优选地，涂层对环境日光不敏感。
热印刷版前体的第一个合适的实例是基于疏水热塑性聚合物颗粒的热诱导聚结的前体，所述疏水热塑性聚合物颗粒优选分散在亲水连结料中，如描述于例如EP 770 494,EP 770 495, EP 770 497, EP 773 112, EP 774 364, EP 849 090, EP 1 614 538, EP1 614 539, EP 1 614 540, EP 1 777 067, EP 1 767 349, WO 2006/037716, WO 2006/133741和WO 2007/045515。根据优选的实施方案，热塑性聚合物颗粒包括苯乙烯和丙烯腈单元，其重量比为1：1至5：1(苯乙烯：丙烯腈)，例如以2：1的比。合适的亲水连结料的实例是乙烯醇、丙烯酰胺、羟甲基丙烯酰胺、羟甲基甲基丙烯酰胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯的均聚物和共聚物以及马来酸酐/乙烯基甲基醚共聚物。
如WO 2007/04551中所述，优选这种图像记录层包含含有至少一个膦酸基团或至少一个磷酸基团或其盐的有机化合物。
在第二个合适的实施方案中，热敏印刷版前体包含含有芳基重氮磺酸盐均聚物或共聚物的涂层，所述芳基重氮磺酸盐均聚物或共聚物在暴露于热或UV光之前亲水且可溶于加工液中，并且在这种暴露之后变得疏水且较少溶解。
这种芳基重氮磺酸盐聚合物的优选实例为可通过芳基重氮磺酸盐单体的均聚或与其它芳基重氮磺酸盐单体和/或与乙烯基单体如(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯酰胺、丙烯腈、乙酸乙烯酯、氯乙烯、偏二氯乙烯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的共聚制备的化合物。合适的芳基重氮磺酸盐单体公开于 EP-A 339393, EP-A 507008和EP-A 771645，且合适的芳基重氮磺酸盐聚合物公开于EP 507,008；EP 960,729；EP 960,730和EP 1 267 211。
高度优选的热敏印刷版前体是阳图制版的，并且包括基于亲油树脂的热诱导增溶的涂层。亲油树脂优选为可溶于水性显影剂、更优选pH为7.5至14的水性碱性显影溶液中的聚合物。优选的聚合物为酚醛树脂，例如酚醛清漆、甲阶酚醛树脂、聚乙烯基酚和羧基取代的聚合物。这些聚合物的典型实例描述于DE-A-4007428, DE-A-4027301和DE-A-4445820。涂层优选含有至少一个包含酚醛树脂的层。该层也被称为“成像层”或第一层。存在于成像层中的酚醛树脂的量相对于存在于成像层中的所有组分的总重量，优选为至少50重量％，优选为至少80重量％。
在一个优选的实施方案中，亲油树脂是酚醛树脂，其中苯基或羟基被有机取代基化学改性。用有机取代基化学改性的酚醛树脂对印刷化学品如润版液或版处理液如版清洁剂表现出增强的耐化学性。这种化学改性的酚醛树脂的实例描述于EP-A 0 934 822, EP-A1 072 432, US 5 641 608, EP-A 0 982 123, WO 99/01795, EP-A 02 102 446, EP-A02 102 444, EP-A 02 102 445, EP-A 02 102 443, EP-A 03 102 522中。优选描述于EP-A 02 102 446中的改性树脂，特别是其中所述酚醛树脂的苯基被具有–N=N-Q结构的基团取代，其中–N=N-基团共价结合到苯基的碳原子上，并且其中Q是芳族基团的那些树脂。
亲油树脂也可以与其他聚合物如包括氨基甲酸酯基团的聚合物和/或聚乙烯醇缩醛树脂混合或置换。为了改善涂层的耐磨性而添加的合适的聚乙烯醇缩醛树脂描述于US5,262,270；US 5,169,897；US 5,534,381；US 6,458,511；US 6,541,181；US 6,087,066；US6,270,938；WO 2001/9682；EP 1 162 209；US 6,596,460；US 6,596,460；US 6,458,503；US6,783,913；US 6,818,378；US 6,596,456；WO 2002/73315；WO 2002/96961；US 6,818,378；WO 2003/79113；WO 2004/20484；WO 2004/81662；EP 1 627 732；WO 2007/17162；WO 2008/103258；US 6,087,066；US 6,255,033；WO 2009/5582；WO 2009/85093；WO 2001/09682；US2009/4599；WO 2009/99518；US 2006/130689；US 2003/166750；US 5,330,877；US 2004/81662；US 2005/3296；EP 1 627 732；WO 2007/3030；US 2009/0291387；US 2010/47723和US 2011/0059399。
聚乙烯醇缩醛树脂优选含有以下缩醛部分：
其中R1表示脂族碳链如甲基、乙基、丙基、丁基或戊基，任选取代的芳基如苯基、苄基、萘基、甲苯基、邻-间-或对-二甲苯基、蒽基或菲基，或者任选取代的杂芳基如吡啶基、嘧啶基、吡唑基、三嗪基、咪唑基、呋喃基、噻吩基、异噁唑基、噻唑基和咔唑基。最优选乙烯醇缩醛选自乙烯醇缩甲醛、乙烯醇缩乙醛、乙烯醇缩丙醛和/或乙烯醇缩丁醛。
优选的聚乙烯醇缩醛树脂是包含缩醛部分和烯属部分的共聚物，如WO2014/106554, WO2015/158566, WO2015/173231, WO2015/189092和WO2016/001023中所述。特别优选的聚乙烯醇缩醛树脂是包括烯属部分和缩醛部分的树脂，所述缩醛部分包括包含至少一个羟基的任选取代的芳族或杂芳族基团(WO2014/106554)；或者包括任选取代的芳族或杂芳族基团的聚乙烯醇缩醛树脂是相对于吸电子基团在邻位或对位包含至少一个羟基的树脂(WO2015/158566)。
所述涂层还可以包含第二层，所述第二层包含一种或多种不溶于水且可溶于碱性溶液中的其他连结料(如具有pKa小于13的酸性基团的有机聚合物)，以确保该层在水性碱性显影剂中是可溶的或至少可溶胀的。该层位于上述包含亲油树脂的层即成像层与亲水载体之间。该层也被称为“第二层”。连结料可以选自聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、苯乙烯系树脂、聚氨酯树脂或聚脲树脂。连结料可以具有一个或多个官能团。官能团可以选自下列：
(I)磺酰胺基团如-NR-SO2-、-SO2-NR-或-SO2-NR’R”，其中R和R'独立地表示氢或任选取代的烃基，如任选取代的烷基、芳基或杂芳基；关于这些聚合物的更多细节可见于EP 2 159049；
(II)包含酸性氢原子的磺酰胺基团，如
–SO2-NH-CO-或–SO2-NH-SO2-，如例如在US 6,573,022和/或EP 90968(5)7中公开的；这些化合物的合适实例包括例如N-(对甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺和N-(对甲苯磺酰基)丙烯酰胺；
(III)脲基团如–NH-CO-NH-，关于这些聚合物的更多细节可见于WO 01/96119；
(IV)如EP 2 497 639中所述的星形聚合物，其中至少三个聚合物链键合到核心；
(V)羧酸基团；
(VI)腈基团；
(VII)磺酸基团；
(VIII)磷酸基团和/或
(IX)氨基甲酸酯基团。
包含磺酰胺基团的(共)聚合物是优选的。磺酰胺(共)聚合物优选为通过含有至少一个磺酰胺基团的单体的均聚或通过这种单体与其它可聚合单体的共聚而制备的高分子量化合物。优选地，在其中本发明的聚乙烯醇缩醛连结料存在于第二层中的实施方案中，包含至少一个磺酰胺基团的共聚物存在于位于包括本发明的聚乙烯醇缩醛连结料的层与亲水载体之间的第二层中。
与包含至少一个磺酰胺基团的单体共聚的单体的实例包括如EP 1 262 318, EP1 275 498, EP 909 657, EP 1 120 246, EP 894 622, US 5,141,838, EP 1 545 878和EP 1 400 351中公开的单体。优选的单体比如：(甲基)丙烯酸烷基酯或芳基酯，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-苯基乙酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯；(甲基)丙烯酸；(甲基)丙烯酰胺；N-烷基或N-芳基(甲基)丙烯酰胺如N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-苄基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(4-甲基吡啶基)(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯腈；苯乙烯；取代的苯乙烯如2-、3-或4-羟基-苯乙烯、4-苯甲酸-苯乙烯；乙烯基吡啶如2-乙烯基吡啶、3-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶；取代的乙烯基吡啶如4-甲基-2-乙烯基吡啶；乙酸乙烯酯，任选地，共聚的乙酸乙烯酯单体单元至少部分水解形成醇基、和/或至少部分地通过醛化合物如甲醛或丁醛反应形成乙缩醛或丁缩醛基团；乙烯醇；乙烯醇缩乙醛；乙烯醇缩丁醛；乙烯基醚如甲基乙烯基醚；乙烯基酰胺；N-烷基乙烯基酰胺如N-甲基乙烯基酰胺、己内酰胺、乙烯基吡咯烷酮；马来酰亚胺；N-烷基或N-芳基马来酰亚胺如N-苄基马来酰亚胺。
磺酰胺(共)聚合物和/或其制备方法的合适实例公开于EP 933 682, EP 982123, EP 1 072 432, WO 99/63407, EP 1 400 351和EP 2 159 049中。磺酰胺(共)聚合物的非常优选的实例描述于EP 2 047 988 A中的[0044]至[0046]中。
磺酰胺(共)聚合物的具体优选实例是包含N-(对氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(间氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(邻氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺和/或(甲基)丙烯酸间氨基磺酰基苯基酯的聚合物。
包含酰亚胺基团的(共)聚合物也优选作为热敏涂层中的连结料。具体实例包括甲基乙烯基醚/马来酸酐共聚物的衍生物和苯乙烯/马来酸酐共聚物的衍生物，其包含N-取代的环状酰亚胺单体单元和/或N-取代的马来酰亚胺如N-苯基马来酰亚胺单体单元和N-苄基-马来酰亚胺单体单元。优选地，该共聚物存在于位于包括本发明的聚乙烯醇缩醛连结料的层与亲水载体之间的第二层中。该共聚物优选是碱溶性的。合适的实例描述于 EP 933682, EP 894 622 A [0010]至[0033], EP 901 902, EP 0 982 123 A [007]至[0114],EP 1 072 432 A [0024]至[0043]和WO 99/63407 (第4页第13行至第9页第37行)中。
例如通过使苯酚、间苯二酚、甲酚、二甲苯酚或三甲基苯酚与醛(特别是甲醛)或酮反应所获得的具有游离酚羟基的缩聚物和聚合物也可以加入热敏涂层。氨磺酰基或氨基甲酰基取代的芳族化合物与醛或酮的缩合物也是合适的。双羟甲基取代的脲、乙烯基醚、乙烯醇、乙烯醇缩醛或乙烯基酰胺的聚合物和丙烯酸苯酯的聚合物以及羟基-苯基马来酰亚胺的共聚物同样是合适的。此外，可提及具有乙烯基芳族化合物或(甲基)丙烯酸芳基酯的单元的聚合物，这些单元中的每一个还可具有一个或多个羧基、酚羟基、氨磺酰基或氨基甲酰基。具体实例包括具有(甲基)丙烯酸2-羟基苯酯的、4-羟基苯乙烯的或羟苯基马来酰亚胺的单元的聚合物。这些聚合物可以另外含有不具有酸性单元的其他单体的单元。这种单元包括乙烯基芳族化合物、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、甲基丙烯酰胺或丙烯腈。
涂层的溶解行为可以通过任选的溶解度调节组分进行微调。更具体地说，可以使用显影性改善化合物、显影加速剂和显影抑制剂。在涂层包含多于一层的实施方案中，可以将这些成分添加到涂层的第一层和/或第二层和/或任选的其它层。
合适的显影性改善化合物是：(i)如WO 2003/79113中所公开的在加热时释放气体的化合物，(ii)如WO 2004/81662中所公开的化合物，(iii)如WO 2008/103258中所公开的包含一种或多种碱性含氮有机化合物的组合物，和(iv)如WO 2009/85093中所公开的具有至少一个氨基和至少一个羧酸基团的有机化合物。
可用于显影性改善组合物中的碱性含氮有机化合物的实例是N-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮、1-(2-羟乙基)哌嗪、N-苯基二乙醇胺、三乙醇胺、2-[双(2-羟乙基)氨基]-2-羟甲基-1,3-丙二醇、N,N,N',N'-四(2-羟乙基)乙二胺、N,N,N',N'-四(2-羟丙基)-乙二胺、3-[(2-羟乙基)苯基氨基]丙腈和六氢-1,3,5-三(2-羟乙基)-s-三嗪。优选使用N,N,N',N'-四(2-羟丙基)-乙二胺。两种或更多种这些化合物的混合物也是有用的。碱性含氮有机化合物可以从许多商业来源获得，包括BASF(德国)和Aldrich Chemical Company(Milwaukee，WI)。
基于涂层组合物的总固体，碱性含氮有机化合物(一种或多种)优选以1至30重量％、典型地3至15重量％的量存在于涂层中。
优选地，一种或多种碱性含氮有机化合物与一种或多种酸性显影性改善化合物如羧酸或环状酸酐、磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、次膦酸、膦酸酯、酚、磺酰胺或磺酰亚胺组合使用，因为这样的组合可以允许进一步改善的显影宽容度和印刷耐久性。在US 2005/0214677的[0030]至[0036]中提供了酸性显影性改善化合物的代表性实例。基于涂层组合物的总干重，它们可以以0.1至30重量％的量存在。一种或多种碱性含氮有机化合物与一种或多种酸性显影性改善化合物的摩尔比通常为0.1:1至10:1，更通常为0.5:1至2:1。
显影加速剂是充当溶解促进剂的化合物，因为它们能够增加涂层的溶解速率。例如，可以使用环状酸酐、酚或有机酸以改善水性显影性。环状酸酐的实例包括邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、3,6-桥氧-4-四氢邻苯二甲酸酐、四氯邻苯二甲酸酐、马来酸酐、氯马来酸酐、α-苯基马来酸酐、琥珀酸酐和均苯四酸酐，如美国专利号4,115,128中所述。酚的实例包括双酚A、对硝基苯酚、对乙氧基苯酚、2,4,4'-三羟基二苯甲酮、2,3,4三羟基二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4,4',4”-三羟基三苯基甲烷和4,4',3”,4”-四羟基-3,5,3',5'-四甲基三苯基甲烷等。有机酸的实例包括磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸酯和羧酸，如在例如JP-A No.60-88,942和2-96,755中所述。这些有机酸的具体实例包括对甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对甲苯亚磺酸、乙基硫酸、苯基膦酸、苯基次膦酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、间苯二甲酸、己二酸、对甲苯甲酸、3,4-二甲氧基苯甲酸、3,4,5-三甲氧基苯甲酸、3,4,5-三甲氧基肉桂酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、4-环己烯-1,2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗坏血酸。相对于整个涂层，涂层中所含的环状酸酐、酚或有机酸的量优选在0.05至20重量％的范围内。聚合物显影加速剂如包含至少70摩尔％间甲酚作为重复单体单元的酚醛树脂也是合适的显影加速剂。
在一个优选的实施方案中，涂层还含有显影剂耐受工具，也称为显影抑制剂，即一种或多种能够在加工期间延迟未暴露区的溶解的成分。溶解抑制效果优选通过加热来逆转，从而暴露区的溶解基本不会延迟，由此可以获得暴露区和未暴露区之间的大的溶解差异。在例如EP 823 327和WO 97/39894中所述的化合物由于与涂层中的碱溶性树脂(一种或多种)例如通过氢桥形成的相互作用而充当溶解抑制剂。这种类型的抑制剂通常是包含至少一个芳族基团和氢键合位点如氮原子(可以是杂环或氨基取代基的一部分)、鎓基、羰基、亚磺酰基或磺酰基的有机化合物。这种类型的合适的溶解抑制剂已经在例如EP 825 927和EP 823 327中公开。下面提到的一些化合物，例如红外染料如花青和对比染料如季铵化三芳基甲烷染料也可以充当溶解抑制剂。
其他合适的抑制剂改善了显影剂耐受性，因为它们延迟了水性碱性显影剂渗透入涂层中。这样的化合物可以存在于第一层和/或任选的第二层中和/或所述层顶部上的显影阻挡层中，如在例如EP 864 420, EP 950 517, WO 99/21725和WO 01/45958中所述。通过暴露于热和/或红外光，可以增加显影剂中阻挡层的溶解性和/或渗透性。
拒水聚合物代表另一类型的合适的溶解抑制剂。这种聚合物似乎通过从涂层中排斥水性显影剂来增加涂层的显影剂耐受性。可以将拒水聚合物添加到涂层的第一和/或第二层中和/或可以存在于提供在这些层的顶部上的单独的层中。在后一种实施方案中，拒水聚合物形成阻挡层，其让涂层避开显影剂，并且该阻挡层在显影剂中的溶解度或通过显影剂渗透阻挡层的能力可通过暴露于热或红外光增加，如在例如EP 864 420、EP 950 517和WO99/21725中所述。
延迟水性碱性显影剂渗入涂层的抑制剂的优选实例包括包含硅氧烷和/或全氟烷基单元的拒水聚合物。聚硅氧烷可以是直链、环状或复合交联聚合物或共聚物。术语聚硅氧烷化合物应包括含有多于一个硅氧烷基团–Si(R,R’)-O-的任何化合物，其中R和R'是任选取代的烷基或芳基。优选的硅氧烷是苯基烷基硅氧烷和二烷基硅氧烷。聚合物中硅氧烷基团的数目为至少2，优选至少10，更优选至少20。其可以小于100，优选小于60。
拒水聚合物可以是嵌段共聚物或接枝共聚物，其包括极性嵌段如聚-或低聚(环氧烷)和疏水嵌段如长链烃基、聚硅氧烷和/或全氟化烃基。全氟化表面活性剂的典型实例是可得自Dainippon Ink & Chemicals, Inc.的Megafac F-177。其它合适的共聚物包含约15至25个硅氧烷单元和50至70个环氧烷基团。优选的实例包括包含苯基甲基硅氧烷和/或二甲基硅氧烷以及环氧乙烷和/或环氧丙烷的共聚物，如Tego Glide 410, Tego Wet 265,Tego Protect 5001或Silikophen P50/X，均可从德国Essen的Tego Chemie商购获得。
涂层中这种拒水聚合物的合适量为0.5-25mg/m2，优选0.5-15mg/m2，且最优选0.5-10mg/m2。当拒水聚合物也拒墨时，例如，在聚硅氧烷的情况下，高于25mg/m2的量可导致未暴露区的受墨性差。另一方面，低于0.5mg/m2的量可能导致不令人满意的显影耐受性。
据信在涂布和干燥期间，拒水聚合物或共聚物充当表面活性剂，并由于其双官能结构而倾向于将其本身定位在涂层和空气之间的界面处，并由此形成单独的顶层，即使作为涂层溶液的成分应用时也是如此。同时，这种表面活性剂还充当提高涂层品质的铺展剂。或者，拒水聚合物或共聚物可以以单独的溶液施加，涂布在包括一层或任选多层的涂层上。在该实施方案中，在不能溶解其他层中存在的成分的单独溶液中使用溶剂可能是有利的，以便在涂层的顶部获得高度浓缩的拒水相。
上述热敏印刷版前体的涂层优选进一步包含红外光吸收染料或颜料，在该涂层包含多于一层的实施方案中，该红外光吸收染料或颜料可存在于第一层中，和/或第二层中，和/或任选的其他层中。优选的IR吸收染料是花青染料、部花青染料、吲哚苯胺染料、氧杂菁染料、吡喃鎓染料和方酸内鎓染料。合适的IR染料的实例描述于例如EP-A 823327,978376, 1029667, 1053868, 1093934；WO 97/39894和00/29214。优选的化合物是以下花青染料：
IR-1
IR-2
相对于涂层整体而言，涂层中IR-染料的浓度优选为0.25至15.0重量％，更优选为0.5至10.0重量％，最优选为1.0至7.5重量％。
涂层可以进一步包含一种或多种着色剂，如染料或颜料，其为涂层提供可见颜色，并且在加工步骤期间未被除去的图像区处保留在涂层中。由此形成可见图像，并且在经显影的印刷版上检查平版图像变得可行。这种染料通常被称为对比染料或指示剂染料。优选地，染料具有蓝色和在600nm至750nm的波长范围内的最大吸收。这种对比染料的典型实例是氨基取代的三芳基甲烷或二芳基甲烷染料，例如结晶紫、甲基紫、维多利亚纯蓝、flexoblau 630、basonylblau 640、金胺和孔雀石绿。在EP-A 400,706中深入讨论的染料也是合适的对比染料。如在例如WO2006/005688中所述，与特定添加剂组合，只使涂层稍微着色但暴露后变得强烈着色的染料，也可用作着色剂。
任选地，涂层可进一步含有另外的成分，如表面活性剂、特别是全氟表面活性剂，二氧化硅或二氧化钛颗粒，或聚合物颗粒如消光剂和间隔剂。
可以使用任何涂布方法将一种或多种涂层溶液施加到载体的亲水表面。多层涂层可以通过连续涂布/干燥每个层或通过一次同时涂布几种涂层溶液来施加。在干燥步骤中，从涂层中除去挥发性溶剂，直到涂层自支撑并触摸干燥。然而，在干燥步骤中除去所有溶剂是不必要的(甚至也许不可能)。事实上，残余溶剂含量可以被认为是一种另外的组成变量，通过该变量可以优化组成。通常通过将热空气吹到涂层上来进行干燥，通常在至少70℃，合适的是80-150℃，特别是90-140℃的温度下进行。也可以使用红外灯。干燥时间通常可以是15-600秒。
在涂布和干燥之间，或在干燥步骤之后，热处理和随后的冷却可提供另外的益处，如在WO99/21715, EP-A 1074386, EP-A 1074889, WO00/29214,和WO/04030923, WO/04030924, WO/04030925中所述。
印刷版前体可以通过例如LED或激光暴露于红外光。最优选地，用于暴露的光是发射具有约750至约1500nm、更优选750至1100nm范围内的波长的近红外光的激光，如半导体激光二极管，Nd:YAG或Nd:YLF激光器。所需的激光功率取决于版前体的敏感度，激光束的像素驻留时间(其取决于光斑直径(现代制版机在1/e2最大强度下的典型值：5-25µm))，暴露设备的扫描速度和分辨率(即每单位直线距离的可寻址像素的数目，通常以每英寸点数或dpi表示；典型值：1000-4000dpi)。
光敏印刷版前体
除了上述热材料之外，还可以使用光敏涂层。这种版的典型实例是UV敏感的“PS”版和所谓的光聚合物版，其含有在暴露时硬化的光可聚合组合物。
在本发明的一个具体实施方案中，使用常规的UV敏感的“PS”版前体。在EP 1,029,668 A2中，已经讨论了在300-450nm范围内(接近UV和蓝光)敏感的这种版前体的合适实例。阳图制版和阴图制版组合物通常用于“PS”版前体中。
阳图制版成像层优选包含邻萘醌二叠氮化合物(NQD)和碱溶性树脂。特别优选各种羟基化合物的邻萘醌二叠氮磺酸酯或邻萘醌二叠氮羧酸酯，和各种芳族胺化合物的邻萘醌二叠氮磺酸酰胺或邻萘醌二叠氮羧酸酰胺。可以使用两种NQD系统的变体：单组分系统和双组分系统。在现有技术中已经广泛公开了这种光敏印刷版，例如在 U.S. 3,635,709,J.P. KOKAI No. 55-76346, J.P. KOKAI No. Sho 50-117503, J.P. KOKAI No. Sho 50-113305, U.S. 3,859,099；U.S. 3,759,711；GB-A 739654, US 4,266,001和J.P. KOKAINo. 55-57841中。
“PS”版的阴图制版层优选包含重氮盐、重氮树脂或芳基重氮磺酸盐均聚物或共聚物。低分子量重氮盐的合适实例包括：联苯胺氯化双重氮盐(benzidinetetrazoniumchloride)，3,3'-二甲基联苯胺氯化双重氮盐，3,3'-二甲氧基联苯胺氯化双重氮盐，4,4'-二氨基二苯胺氯化双重氮盐，3,3'-二乙基联苯胺硫酸双重氮盐，4-氨基二苯胺硫酸重氮盐，4-氨基二苯胺氯化重氮盐，4-哌啶子基苯胺硫酸重氮盐，4-二乙氨基苯胺硫酸重氮盐，和重氮二苯胺与甲醛的低聚缩合产物。重氮树脂的实例包括芳族重氮盐的缩合产物作为光敏物质。例如在DE-P-1 214 086中描述了这种缩合产物。光或热敏层优选还含有连结料例如聚乙烯醇。
在暴露时，重氮树脂或重氮盐从水溶性转变为水不溶性(由于重氮鎓基团的破坏)，并且另外重氮的光解产物可以增加聚合物连结料或重氮树脂的交联水平，从而将图像模式的涂层选择性地从水溶性转化为水不溶性。未暴露区保持不变，即水溶性。
如上所述，这种印刷版前体可以使用碱性水溶液显影。
在第二个合适的实施方案中，光敏印刷版前体基于光聚合反应，并且包含涂层，所述涂层包含含有自由基引发剂的光可固化组合物(如在例如US 5,955,238；US 6,037,098；US 5,629,354；US 6,232,038；US 6,218,076；US 5,955,238；US 6,037,098；US 6,010,824；US 5,629,354；DE 1,470,154；EP 024 629；EP 107,792；US 4,410,621；EP 215 453；DE 3,211,312和EP A 1 091 247中所公开)、可聚合化合物(如在EP 1 161 4541, EP 1349 006, WO2005/109103, EP 1 788 448, EP 1 788 435, EP 1 788 443, EP 1 788434中所公开)和聚合物连结料(如在例如US2004/0260050, US2005/0003285；US2005/0123853；EP 1 369 232；EP 1 369 231；EP 1 341 040；US 2003/0124460, EP 1 241 002,EP 1 288 720, US 6,027,857, US 6,171,735；US 6,420,089；EP 152 819；EP 1 043627；US 6,899,994；US2004/0260050；US 2005/0003285；US2005/0170286；US2005/0123853；US2004/0260050；US2005/0003285；US 2004/0260050；US 2005/0003285；US2005/0123853和US2005/0123853中所公开)。可以任选地添加其它成分，例如敏化剂、共引发剂、抑制剂、增粘化合物、着色剂、表面活性剂和/或印出剂。这些印刷版前体可以使用例如Ar激光器(488nm)或FD-YAG激光器(532nm)、半导体激光器InGaN(350-450nm)、红外激光二极管(830nm)或Nd-YAG激光器(1064nm)，以蓝光、绿光或红光(即450-750nm的波长范围)、以紫光(即350-450nm的波长范围)或以红外光(即750-1500的波长范围)进行敏化。
为了保护热和/或光敏印刷版前体的涂层的表面，特别是免受机械损伤，还可以任选地施加保护层。保护层通常包含至少一种水溶性连结料，例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、部分水解的聚乙酸乙烯酯、明胶、碳水化合物或羟乙基纤维素，并且可以以任何已知的方式如由水溶液或分散体生产，如果需要的话，该水溶液或分散体可含有少量(即基于用于保护层的涂层溶剂的总重量少于5重量％)的有机溶剂。保护层的厚度可以适当地为任何量，有利地最高达到5.0μm，优选0.1-3.0μm，特别优选0.15-1.0μm。
任选地，涂层可进一步含有另外的成分，如表面活性剂、特别是全氟表面活性剂，二氧化硅或二氧化钛颗粒，有机或无机间隔剂颗粒或消光剂。
可以使用任何涂布方法将两种或更多种涂层溶液施加到载体的亲水表面。多层涂层可以通过连续涂布/干燥每个层或通过一次同时涂布几种涂层溶液来施加。在干燥步骤中，从涂层中除去挥发性溶剂，直到涂层自支撑并触摸干燥。然而，在干燥步骤中除去所有溶剂是不必要的(甚至也许不可能)。事实上，残余溶剂含量可以被认为是一种另外的组成变量，通过该变量可以优化组成。通常通过将热空气吹到涂层上来进行干燥，通常在至少70℃，合适的是80-150℃，特别是90-140℃的温度下进行。也可以使用红外灯。干燥时间通常可以是15-600秒。
在涂布和干燥之间，或在干燥步骤之后，热处理和随后的冷却可提供另外的益处，如WO99/21715, EP-A 1074386, EP-A 1074889, WO00/29214, 和WO/04030923, WO/04030924, WO/04030925中所述。
实施例
1. 加工溶液
ARKANA DEV用作显影剂且ARKANA REP用作补充剂溶液；两者均从Agfa Graphics NV商购可得。在下表1中，汇总了母溶液(MS)的成分。
表1：母溶液MS的成分
(1) Akypo RLM 45 CA是从Kao chemicals GmbH商购可得的92％的聚氧乙烯十二烷基醚羧酸溶液；
(2) Briquest 543-25S是从Solvay商购可得的25％的二乙撑三胺五钠溶液；
(3) Preventol Ri50是从Lanxess商购可得的50％的苯扎氯铵溶液；
(4) SERVOXYL VPDZ 9/100是从Elementis Specialties Inc.商购可得的磷酸酯；
(5) SAG220是从Momentive商购可得的20％的硅酮系表面活性剂溶液。
使用软化水稀释母溶液MS直至获得特定的电导率(参见表2)。
表2：稀释的母溶液MSD1和MSD2
MSD 1 MSD 2
在25℃下的电导率*(mS/cm) 90 106
*：使用从WTW商购可得的Profline Cond 3110测量电导率。
成像和加工
从AGFA Graphics NV.商购可得的Energy Elite Eco版PP-01、PP-02和PP-03在从Kodak商购可得的具有20 W成像头并且在140 rpm和2400 dpi下操作的Creo Trendsetter3244上以不同的能量密度曝光。
曝光后，将版插入从AGFA Graphics NV商购可得的Arkana加工器125，以150 cm/min操作，并使用设定在25℃的温度的加工溶液(表3)。
表3：PP-01、PP-02和PP-03的加工
* ARKANA DEV和ARKANA REP均从Agfa Graphics NV.商购可得
MSD 1和MSD 2：参见上表2；
** 胶溶液从AGFA Graphics NV.商购可得。
2. 耗尽测试(exhaustion test)
程序：
50m²经完全暴露的从AGFA Graphics NV商购可得的Energy Elite Eco版如上所述连续在五天期间加工。在每加工50 m2后测量加工溶液的电导率、版敏感度和补充消耗。
电导率
表4汇总了显影剂溶液的电导率测量结果。使用显影溶液(ARKANA DEV 1，实施例1)、补充溶液(ARKANA REP 1，实施例2)和稀释母溶液(MSD2，实施例3)以表3中规定的补充速率使加工溶液再生。对于实施例1，在加工100m2版之后已经将补充速率提高到75ml/m²和100ml/h以便将版敏感度保持在可接受的范围内。
表4：针对耗尽，加工溶液的电导率演变
* m2经加工的印刷版前体；
** 对于实施例1，在加工100m2之后已经将补充速率提高到75ml/m²和100ml/h以便将版敏感度保持在可接受的范围内。
敏感度
版敏感度结果汇总在表5中。
在经加工的版上作为如下能量密度确定敏感度，在该能量密度下用从GretagMacbeth AG商购可得的GretagMacbeth D19C密度计测量时，1×1像素棋盘图案具有52％点面积覆盖率。
表5：针对耗尽的版敏感度(mJ/cm2)演变
* m2经加工的印刷版前体；
** 对于PP-01，在加工100m2之后已经将补充速率提高到75ml/m²和100ml/h以便将版敏感度保持在可接受的范围内。
补充
表6汇总了耗尽试验中累积补充消耗的结果。
表6：针对耗尽的累积补充剂消耗演变
* m2经加工的印刷版前体；
** 对于PP-01，在加工100m2之后已经将补充速率提高到75ml/m²和100ml/h以便将版敏感度保持在可接受的范围内。
汇总在表4、5和6中的结果表明：
- 在也称作加满模式的实施例1中，需要大量的显影溶液以保持稳定的版敏感度，导致废物的高产生；
- 比较实施例2和发明实施例3的版敏感度在耗尽试验期间是稳定的，而比较实施例1的敏感度显著下降；
- 在其中使用稀释的母溶液进行补充的发明实施例3中，获得与其中使用补充溶液的比较实施例2所获得的相同的低补充消耗的优点。使用稀释的母溶液的主要优点是仅需要一种类型的溶液(即，含有相同的化学组分)，即母溶液。

Claims (15)

1.一种加工平版印刷版材的方法，包括以下步骤：
- 通过以1：D的比率稀释母溶液来制备碱性显影溶液；
- 通过以1：R的比率稀释所述母溶液来制备补充溶液；
- 用所述碱性显影溶液处理版材，所述碱性显影溶液用所述补充溶液再生；
所述方法的特征在于0≤R<D；并且
其中稀释比率的1：R和1：D是指将1份母溶液分别稀释到R或D份溶剂中。
2.根据权利要求1所述的方法，其中D包含在1和50之间。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述碱性显影溶液基本无硅酸盐。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述碱性显影溶液具有至少为10的pH。
5.根据前述权利要求中任一项所述的加工方法，其中在用碱性显影溶液处理版材后，用第一胶溶液并连贯地用第二胶溶液进一步处理版材，其特征在于第一胶溶液和第二胶溶液配置成级联，由此第二胶溶液溢出到第一胶溶液中。
6.根据权利要求5所述的方法，其中第一胶溶液和第二胶溶液独立地具有0至8的pH值。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述版材包括在载体上的热敏阳图制版涂层，其中所述涂层包括图像记录层，所述图像记录层包含红外吸收剂和亲油树脂和/或乙烯醇缩醛(共)聚合物。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述版材包括位于载体和图像记录层之间的第二层，所述第二层包含至少一种聚合物，所述聚合物包括磺酰胺基团、酰亚胺基团、腈基团、氨基甲酸酯基团、脲基团、羧基基团、磺酸基团和/或磷酸基团。
9.一种通过加工设备加工多个平版印刷版材的方法，所述方法包括以下步骤：
(a) 用显影溶液填充设备的显影单元；
(b) 重复根据前述权利要求中任一项所述的方法，从而加工所述多个印刷版材；
(c) 从显影单元排出显影溶液；
(d) 再填充显影单元。
10. 根据权利要求9所述的方法，其中步骤(a)中使用的显影溶液的体积小于50 l，并且其中步骤(c)和(d)在步骤(a)后的两周内进行。
11.根据权利要求9或10中任一项所述的方法，其中在步骤(a)中，显影单元通过包括供应槽的系统自动地再填充显影剂，所述供应槽包括母溶液和适合于用水稀释母溶液的装置。
12.根据权利要求11所述的方法，其中适合于用水稀释母溶液的装置集成在加工设备中。
13.根据权利要求9-12中任一项所述的方法，其中在步骤(c)中，通过包括用于收集耗尽的显影剂的废物槽和必要的管道和泵的系统，将显影溶液从显影单元自动排出。
14.一种加工平版印刷版材的设备，所述设备包括：
- 显影区段(1)，包括显影单元(5)和显影剂再生系统;
- 适合于通过用水稀释更浓缩的溶液来产生显影溶液和补充溶液的装置；和
- 施胶区段(2)，包括第一(3)和第二(4)施胶单元，
其特征在于，第一和第二施胶单元通过级联配置连接，所述级联配置允许液体从第二施胶单元溢出到第一施胶单元中，并且显影溶液和补充溶液从相同的母溶液稀释，显影溶液以比率1：D稀释，补充溶液以比率1：R稀释，且0≤R<D；并且
其中稀释比率的1：R和1：D是指将1份母溶液分别稀释到R或D份溶剂中。
15.根据权利要求14所述的设备，其中所述显影单元不包括刷和/或运输辊。
CN201780017686.7A 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备 Pending CN108778769A (zh)

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP16160576.1 2016-03-16
EP16160591 2016-03-16
EP16160576 2016-03-16
EP16160627.2 2016-03-16
EP16160627 2016-03-16
EP16160616 2016-03-16
EP16160616.5 2016-03-16
EP16160591.0 2016-03-16
EP16168969 2016-05-10
EP16168969.0 2016-05-10
PCT/EP2017/052414 WO2017157575A1 (en) 2016-03-16 2017-02-03 Method and apparatus for processing a lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108778769A true CN108778769A (zh) 2018-11-09

Family

ID=57909645

Family Applications (10)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201780017686.7A Pending CN108778769A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780017609.1A Pending CN108778743A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017598.7A Pending CN108780282A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的设备和相应方法
CN201780017939.0A Pending CN108778746A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017687.1A Active CN108883650B (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780018002.5A Pending CN108778747A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017599.1A Pending CN108780283A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780017600.0A Pending CN108883629A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017696.0A Pending CN108778744A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780017701.8A Pending CN108778745A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法

Family Applications After (9)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201780017609.1A Pending CN108778743A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017598.7A Pending CN108780282A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的设备和相应方法
CN201780017939.0A Pending CN108778746A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017687.1A Active CN108883650B (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780018002.5A Pending CN108778747A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017599.1A Pending CN108780283A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780017600.0A Pending CN108883629A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法
CN201780017696.0A Pending CN108778744A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法和设备
CN201780017701.8A Pending CN108778745A (zh) 2016-03-16 2017-02-03 加工平版印刷版的方法

Country Status (9)

Country Link
US (9) US20190079405A1 (zh)
EP (10) EP3430475B1 (zh)
JP (4) JP6710288B2 (zh)
CN (10) CN108778769A (zh)
AU (4) AU2017234830A1 (zh)
BR (7) BR112018068753A2 (zh)
CA (4) CA3017777A1 (zh)
ES (1) ES2812324T3 (zh)
WO (10) WO2017157571A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107357140B (zh) * 2017-09-14 2021-05-04 江阴江化微电子材料股份有限公司 一种正性光刻胶用显影液及其应用
EP3495891B1 (en) 2017-12-08 2021-06-16 Agfa Nv A method for making a lithographic printing plate
WO2019187818A1 (ja) 2018-03-29 2019-10-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版作製用現像処理装置、及び、平版印刷版の作製方法
CN108749274B (zh) * 2018-04-30 2022-10-04 浙江聚众柔印科技有限公司 柔性制版机中药水分散装置
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
US11136531B2 (en) * 2018-10-22 2021-10-05 Allied Pressroom Products Cleaning system for a printing press recirculation system
EP3778253A1 (en) * 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030031960A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-13 Ulrich Fiebag Method for developing lithographic printing plate precursors using a coating attack-suppressing agent
EP1696274A2 (en) * 2005-02-23 2006-08-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for controlling development in automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plate precursor and automatic developing machine therefor
EP1788450A1 (en) * 2005-11-18 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
WO2007057347A1 (en) * 2005-11-18 2007-05-24 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
CN103797421A (zh) * 2011-09-08 2014-05-14 爱克发印艺公司 制备平版印刷印版的方法
CN104870193A (zh) * 2013-01-01 2015-08-26 爱克发印艺公司 (乙烯、乙烯醇缩醛)共聚物和它们在平版印刷版前体中的用途
CN104981738A (zh) * 2013-01-11 2015-10-14 爱克发印艺公司 制造平版印刷版的方法

Family Cites Families (207)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL88160C (zh) 1953-03-11
GB1084070A (en) 1960-08-05 1967-09-20 Kalle Ag Process and material for the preparation of planographic printing plates
NL132774C (zh) 1960-10-07
NL296772A (zh) 1962-03-21
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
US3759711A (en) 1970-09-16 1973-09-18 Eastman Kodak Co Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
JPS5236043B2 (zh) 1974-02-21 1977-09-13
JPS5645127B2 (zh) 1974-02-25 1981-10-24
JPS5280022A (en) 1975-12-26 1977-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd Light solubilizable composition
CA1090189A (en) * 1976-05-03 1980-11-25 American Hoechst Corporation Lithographic plate finisher comprising a solvent phase and an aqueous phase containing tapioca dextrin
DE2828037A1 (de) 1978-06-26 1980-01-10 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch
JPS5557841A (en) 1978-10-20 1980-04-30 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS5576346A (en) 1978-12-05 1980-06-09 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS62143055A (ja) * 1979-02-27 1987-06-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用処理剤
US4252887A (en) 1979-08-14 1981-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
GB2088901B (en) 1980-10-23 1983-12-07 Vickers Ltd Anodised aluminium sheet for lithographic printing plate production
US4459349A (en) 1981-03-27 1984-07-10 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition
US4410621A (en) 1981-04-03 1983-10-18 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
DE3126627A1 (de) 1981-07-06 1983-01-20 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Polyvinylmethylphosphinsaeure, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE3212252A1 (de) 1982-04-02 1983-10-06 Badische Maschf Gmbh Fuellrahmen fuer giesserei-formmaschinen
US4545919A (en) * 1982-08-31 1985-10-08 Ciba-Geigy Corporation Detergent composition for washing off dyeings obtained with fibre-reactive dyes and washing process comprising the use thereof
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
JPS6088942A (ja) 1983-10-21 1985-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3404366A1 (de) 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4647173A (en) * 1985-02-12 1987-03-03 Ciba-Geigy Ag Apparatus for the liquid-processing of light-sensitive sheet material
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
DE3715791A1 (de) 1987-05-12 1988-11-24 Hoechst Ag Druckplattentraeger sowie verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung
DE3717654A1 (de) 1987-05-26 1988-12-08 Hoechst Ag Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger
JPH0769605B2 (ja) 1988-02-25 1995-07-31 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3814164A1 (de) 1988-04-27 1989-11-09 Bayer Ag Polymerisierbare aryldiazosulfonate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von polymerisaten
JPH0296755A (ja) 1988-10-03 1990-04-09 Konica Corp 感光性組成物
CA2016687A1 (en) 1989-05-31 1990-11-30 Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap Dyes and dye-donor elements for use in thermal dye sublimation transfer
JP2656354B2 (ja) * 1989-09-05 1997-09-24 富士写真フイルム株式会社 湿式電子写真現像装置
DE4001466A1 (de) 1990-01-19 1991-07-25 Hoechst Ag Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger
DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4027301A1 (de) 1990-08-29 1992-03-05 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE69110272T2 (de) 1991-03-08 1996-02-08 Agfa Gevaert Nv Lithographische Druckform, die auf einem aryldiazosulfonathaltigen Harz basiert.
US5262270A (en) 1991-07-30 1993-11-16 Eastman Kodak Company Photosensitive compositions and lithographic printing plates containing binary acetal polymers
US5169897A (en) 1991-07-30 1992-12-08 Eastman Kodak Company Binary acetal polymers useful in photosensitive compositions and lithographic printing plates
DE4134143A1 (de) 1991-10-16 1993-06-24 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von flachdruckformen und danach hergestellte flachdruckformen
DE4307923B4 (de) * 1992-03-13 2008-07-31 Fujifilm Corp. Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung
US5330877A (en) 1992-05-29 1994-07-19 Ulano Corporation Photosensitive compositions containing stilbazolium groups
US6010824A (en) 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
GB9326150D0 (en) 1993-12-22 1994-02-23 Alcan Int Ltd Electrochemical roughening method
DE4417907A1 (de) 1994-05-21 1995-11-23 Hoechst Ag Verfahren zur Nachbehandlung von platten-, folien- oder bandförmigem Material, Träger aus derartigem Material und seine Verwendung für Offsetdruckplatten
DE4423140A1 (de) 1994-07-01 1996-01-04 Hoechst Ag Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE4445820A1 (de) 1994-12-21 1996-06-27 Hoechst Ag Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
US5629354A (en) 1995-02-28 1997-05-13 Eastman Kodak Company Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator
US5910395A (en) 1995-04-27 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
US5534381A (en) 1995-07-06 1996-07-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acetal polymers useful in photosensitive compositions
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
EP0770495B1 (en) 1995-10-24 2002-06-19 Agfa-Gevaert A method for making a lithographic printing plate involving on press development
DE69517174T2 (de) 1995-10-24 2000-11-09 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
EP0770497B1 (en) 1995-10-24 2002-04-03 Agfa-Gevaert A method for making a lithographic printing plate involving development by plain water
DE69518526T2 (de) 1995-10-31 2001-06-13 Agfa Gevaert Nv Auf der Druckpressentwicklung von lithographischen Druckplatten bestehend aus lichtempfindlichem Schichten mit Aryldiazosulphonatharzen
EP0773112B1 (en) 1995-11-09 2001-05-30 Agfa-Gevaert N.V. Heat sensitive imaging element and method for making a printing plate therewith
EP0774364B1 (en) 1995-11-16 2000-10-11 Agfa-Gevaert N.V. Method for making a lithographic printing plate by image-wise heating an imaging element using a thermal head
EP0778292A3 (en) 1995-12-04 1998-11-04 Bayer Corporation Method for the production of anhydride modified polyvinyl acetals useful for photosensitive compositions
JPH09239942A (ja) 1996-03-08 1997-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法
RU2153986C2 (ru) 1996-04-23 2000-08-10 Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
EP0849090A3 (en) 1996-12-19 1998-07-01 Agfa-Gevaert N.V. Thermosensitive imaging element for the preparation of lithographic printing plates with improved transporting properties
EP0864420B2 (en) 1997-03-11 2005-11-16 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0869393B1 (en) 1997-03-31 2000-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
BR9810545A (pt) 1997-07-05 2000-09-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Métodos para a formação de configuração
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
GB9722861D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6218076B1 (en) 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same
US6261740B1 (en) 1997-09-02 2001-07-17 Kodak Polychrome Graphics, Llc Processless, laser imageable lithographic printing plate
EP0901902A3 (en) 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
EP1449654A1 (en) 1997-10-17 2004-08-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive composition for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser
GB9722862D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
DE19803564A1 (de) 1998-01-30 1999-08-05 Agfa Gevaert Ag Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
DE69925053T2 (de) 1998-02-04 2006-03-02 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
JPH11258818A (ja) * 1998-03-16 1999-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の処理方法
EP0950517B1 (en) 1998-04-15 2001-10-04 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0960729B1 (en) 1998-05-25 2003-05-28 Agfa-Gevaert A heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate
EP0960730B1 (en) 1998-05-25 2003-07-02 Agfa-Gevaert A heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate
GB9811813D0 (en) 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE69930019T2 (de) 1998-08-24 2006-10-12 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Flachdruckplatte
US6232038B1 (en) 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
DE19847616C2 (de) 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
AU757494B2 (en) 1998-11-16 2003-02-20 Mitsubishi Chemical Corporation Positive-working photosensitive lithographic printing plate and method for producing the same
JP3996305B2 (ja) 1999-02-15 2007-10-24 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷用材料
DE19915717A1 (de) 1999-04-08 2000-10-12 Agfa Gevaert Ag Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
DE60037951T2 (de) 1999-05-21 2009-02-05 Fujifilm Corp. Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
JP4480812B2 (ja) 1999-07-27 2010-06-16 富士フイルム株式会社 感光又は感熱性ポジ型平版印刷版原版、および製版方法
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
JP4037015B2 (ja) 1999-09-22 2008-01-23 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材
DE60008184T2 (de) 1999-10-19 2004-11-18 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
JP2001159823A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置
JP2001209172A (ja) 2000-01-27 2001-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及びその製版方法
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6270938B1 (en) 2000-06-09 2001-08-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
JP2002029163A (ja) * 2000-07-13 2002-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
GB0022742D0 (en) 2000-09-15 2000-11-01 Smithkline Beecham Biolog Vaccine
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
JP2002268238A (ja) * 2001-03-06 2002-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版の製版方法
US6458503B1 (en) 2001-03-08 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Fluorinated aromatic acetal polymers and photosensitive compositions containing such polymers
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US20020187427A1 (en) * 2001-05-18 2002-12-12 Ulrich Fiebag Additive composition for both rinse water recycling in water recycling systems and simultaneous surface treatment of lithographic printing plates
US6596456B2 (en) 2001-05-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Use of cinnamic acid groups containing acetal polymers for radiation-sensitive compositions and lithographic printing plates
JP2002357894A (ja) 2001-06-01 2002-12-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版およびその処理方法
US6649319B2 (en) * 2001-06-11 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of processing lithographic printing plate precursors
EP1267211A1 (en) 2001-06-13 2002-12-18 Agfa-Gevaert UV-sensitive imaging element for making lithographic printing plates
EP1275498A3 (en) 2001-07-09 2005-05-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and production method of lithographic printing plate
EP1288720B1 (en) 2001-08-29 2012-02-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of printing plate
JP2003162045A (ja) 2001-11-26 2003-06-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷用原板
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US20050003296A1 (en) 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
AU2003209895A1 (en) 2002-03-15 2003-09-29 Creo Inc. Sensitivity enhancement of radiation-sensitive elements
EP1349006B1 (en) 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
US6783913B2 (en) 2002-04-05 2004-08-31 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymeric acetal resins containing free radical inhibitors and their use in lithographic printing
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
JP4095821B2 (ja) * 2002-04-22 2008-06-04 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
DE60224642T2 (de) 2002-04-26 2009-01-15 Agfa Graphics N.V. Negativ-arbeitender thermischer Flachdruckplattenvorläufer, der einen Aluminiumträger mit einer glatten Oberfläche enthält
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US20040009426A1 (en) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
US7108956B2 (en) * 2002-07-03 2006-09-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Thermosensitive lithographic printing plate
DE10239505B4 (de) 2002-08-28 2005-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit hoher Chemikalienbeständigkeit
ATE322985T1 (de) 2002-09-19 2006-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographischer druckplattenvorläufer
AU2003271763A1 (en) 2002-10-04 2004-04-23 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
CN100439119C (zh) 2002-10-04 2008-12-03 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
EP1558447B1 (en) 2002-10-04 2007-08-15 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate precursor
US7358032B2 (en) * 2002-11-08 2008-04-15 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor
JP2004212681A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の自動現像方法及びその自動現像装置
WO2004071767A1 (en) * 2003-02-11 2004-08-26 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor.
WO2004081662A2 (en) 2003-03-14 2004-09-23 Creo Inc. Development enhancement of radiation-sensitive elements
EP1524113B1 (en) 2003-10-16 2010-03-24 Agfa Graphics N.V. Method of making a heat-sensitive lithographic printing plate.
JP4391285B2 (ja) 2004-03-26 2009-12-24 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US20070224543A1 (en) 2004-05-06 2007-09-27 Agfa-Gevaert Photopolymer Printing Plate Precursor
EP1614540B1 (en) 2004-07-08 2008-09-17 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
CN1984778B (zh) 2004-07-08 2010-12-29 爱克发印艺公司 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
ES2321955T3 (es) 2004-07-08 2009-06-15 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar un precursor de plancha de impresion litografica negativa termosensible.
EP1614539B1 (en) 2004-07-08 2008-09-17 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
EP1614541A3 (en) 2004-07-08 2006-06-07 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate.
JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
ES2338137T3 (es) 2004-10-01 2010-05-04 Agfa Graphics Nv Metodo de elaboracion de planchas de impresion litograficas.
JP2006126349A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 自動現像装置の現像液補充方法
EP1696275B1 (en) * 2005-02-23 2014-04-02 FUJIFILM Corporation Method for replenishing development replenisher in automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plate precursor and automatic photosensitive lithographic printing plate precursor developing machine
ES2401701T3 (es) 2005-06-03 2013-04-23 American Dye Source, Inc. Copolímeros de acetal que absorben en el infrarrojo cercano térmicamente reactivos, métodos de preparación y métodos se uso
EP1904305B1 (en) 2005-06-17 2009-06-24 Agfa Graphics Nv Method for making a negative-working lithographic printing plate precursor.
WO2007004551A1 (ja) 2005-07-01 2007-01-11 Rorze Corporation コンテナ搬送装置及びコンテナ搬送システム
WO2007017162A2 (en) 2005-08-05 2007-02-15 Kodak Graphic Communications Gmbh Dual-layer heat- sensitive imageable elements with a polyvinyl acetal top layer
DE602005008434D1 (de) 2005-09-27 2008-09-04 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
DE602005008442D1 (de) 2005-10-20 2008-09-04 Agfa Graphics Nv Verfahren zum Herstellen eines Lithographiedruckformvorläufers
WO2007045515A1 (en) 2005-10-20 2007-04-26 Agfa Graphics Nv Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
ES2479066T3 (es) 2005-11-18 2014-07-23 Agfa Graphics N.V. Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
ES2320561T3 (es) * 2005-11-18 2009-05-25 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica.
DE602005013536D1 (de) 2005-11-18 2009-05-07 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
DK1788435T3 (da) 2005-11-21 2013-06-17 Agfa Graphics Nv Fremgangsmåde til fremstilling af en litografisk trykplade
EP1788448B1 (en) 2005-11-21 2009-04-29 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
ES2330147T3 (es) * 2005-11-24 2009-12-04 Agfa Graphics Nv Metodo de fabricacion de una plancha de impresion litografica.
EP1826021B1 (en) * 2006-02-28 2009-01-14 Agfa Graphics N.V. Positive working lithographic printing plates
DE602006010342D1 (de) * 2006-05-24 2009-12-24 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
CN101086621A (zh) * 2006-06-09 2007-12-12 富士胶片株式会社 平版印刷版原版以及平版印刷版原版层叠体
US7544462B2 (en) 2007-02-22 2009-06-09 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers
EP1974912A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-01 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate precursor.
US7723012B2 (en) 2007-06-28 2010-05-25 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s
EP2047988B1 (en) 2007-10-09 2014-03-12 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
US8088549B2 (en) 2007-12-19 2012-01-03 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive elements with developability-enhancing compounds
JP5155677B2 (ja) * 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
US20090197206A1 (en) * 2008-01-25 2009-08-06 Ray Kevin B Method of making images using fresh processing solution
US8198011B2 (en) 2008-02-04 2012-06-12 Eastman Kodak Company Method of imaging and developing positive-working imageable elements
ATE481240T1 (de) * 2008-02-28 2010-10-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
JP5422134B2 (ja) * 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
US8084189B2 (en) 2008-05-22 2011-12-27 Eastman Kodak Company Method of imaging and developing positive-working imageable elements
US8187792B2 (en) 2008-08-21 2012-05-29 Eastman Kodak Company Processing of positive-working lithographic printing plate precursor
JP5171483B2 (ja) * 2008-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
ATE552111T1 (de) 2008-09-02 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
US20110168044A1 (en) * 2008-09-24 2011-07-14 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP2360529B1 (en) * 2008-11-26 2016-08-24 FUJIFILM Corporation Method for manufacturing lithographic printing plate, developer for original lithographic printing plate, and replenisher for developing original lithographic printing plate
EP2194429A1 (en) * 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
JP5581078B2 (ja) * 2009-03-02 2014-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
EP2481603A4 (en) * 2009-09-24 2015-11-18 Fujifilm Corp LITHOGRAPHIC ORIGINAL PRESSURE PLATE
US8828648B2 (en) * 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
JP5346845B2 (ja) * 2010-02-26 2013-11-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液
JP5525873B2 (ja) * 2010-03-15 2014-06-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
US8828646B2 (en) * 2010-03-26 2014-09-09 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of producing thereof
US8846300B2 (en) * 2010-03-31 2014-09-30 Fujifilm Corporation Developer for processing lithographic printing plate precursor, method for manufacturing lithographic printing plate by using the developer, and printing method
JP5690645B2 (ja) * 2010-05-31 2015-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製版方法、及び、新規高分子化合物。
DE102010031561A1 (de) * 2010-07-20 2012-01-26 Behr Gmbh & Co. Kg System zur Nutzung von Abwärme eines Verbrennungsmotors
JP2012073595A (ja) * 2010-08-31 2012-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5705584B2 (ja) * 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5241871B2 (ja) 2011-03-11 2013-07-17 富士フイルム株式会社 サーマルポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5432960B2 (ja) * 2011-08-24 2014-03-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5604398B2 (ja) * 2011-09-30 2014-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5711168B2 (ja) * 2012-02-27 2015-04-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP5715975B2 (ja) * 2012-02-29 2015-05-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法
EP2775351B1 (en) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Apparatus and method for processing a lithographic printing plate
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
ES2660063T3 (es) 2014-06-13 2018-03-20 Agfa Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030031960A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-13 Ulrich Fiebag Method for developing lithographic printing plate precursors using a coating attack-suppressing agent
EP1696274A2 (en) * 2005-02-23 2006-08-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for controlling development in automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plate precursor and automatic developing machine therefor
EP1788450A1 (en) * 2005-11-18 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
WO2007057347A1 (en) * 2005-11-18 2007-05-24 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
CN103797421A (zh) * 2011-09-08 2014-05-14 爱克发印艺公司 制备平版印刷印版的方法
CN104870193A (zh) * 2013-01-01 2015-08-26 爱克发印艺公司 (乙烯、乙烯醇缩醛)共聚物和它们在平版印刷版前体中的用途
CN104981738A (zh) * 2013-01-11 2015-10-14 爱克发印艺公司 制造平版印刷版的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20190084334A1 (en) 2019-03-21
EP3429864A1 (en) 2019-01-23
CA3017781A1 (en) 2017-09-21
EP3429850A1 (en) 2019-01-23
EP3429852A1 (en) 2019-01-23
BR112018068753A2 (pt) 2019-01-22
CN108883650A (zh) 2018-11-23
WO2017157572A1 (en) 2017-09-21
US20190072855A1 (en) 2019-03-07
WO2017157571A1 (en) 2017-09-21
EP3429848A1 (en) 2019-01-23
EP3429865A1 (en) 2019-01-23
EP3429852B8 (en) 2021-12-15
CN108780282A (zh) 2018-11-09
CN108778743A (zh) 2018-11-09
BR112018068709A2 (pt) 2019-01-15
CA3017806A1 (en) 2017-09-21
JP2019510272A (ja) 2019-04-11
US20190072856A1 (en) 2019-03-07
EP3429847A1 (en) 2019-01-23
WO2017157570A1 (en) 2017-09-21
BR112018068745A2 (pt) 2019-01-22
BR112018068694A2 (pt) 2019-01-15
EP3430475B1 (en) 2020-08-12
CN108778744A (zh) 2018-11-09
WO2017157578A1 (en) 2017-09-21
EP3429849B1 (en) 2021-08-18
EP3429851A1 (en) 2019-01-23
US20190079404A1 (en) 2019-03-14
EP3429852B1 (en) 2021-11-10
US20190079403A1 (en) 2019-03-14
WO2017157574A1 (en) 2017-09-21
JP6710288B2 (ja) 2020-06-17
BR112018068728A2 (pt) 2019-01-22
EP3430474A1 (en) 2019-01-23
EP3429849A1 (en) 2019-01-23
AU2017234829A1 (en) 2018-07-19
EP3429851B1 (en) 2021-08-18
WO2017157577A1 (en) 2017-09-21
US20190079407A1 (en) 2019-03-14
JP2019513240A (ja) 2019-05-23
US20190072854A1 (en) 2019-03-07
WO2017157579A1 (en) 2017-09-21
BR112018068758A2 (pt) 2019-01-22
JP2019510270A (ja) 2019-04-11
AU2017235148A1 (en) 2018-07-12
CN108883650B (zh) 2021-05-07
WO2017157576A1 (en) 2017-09-21
ES2812324T3 (es) 2021-03-16
CN108778746A (zh) 2018-11-09
AU2017234830A1 (en) 2018-07-19
CA3017777A1 (en) 2017-09-21
US20190079406A1 (en) 2019-03-14
WO2017157573A1 (en) 2017-09-21
EP3430475A1 (en) 2019-01-23
CN108778747A (zh) 2018-11-09
JP2019510271A (ja) 2019-04-11
CA3017801A1 (en) 2017-09-21
WO2017157575A1 (en) 2017-09-21
AU2017235147A1 (en) 2018-07-12
CN108883629A (zh) 2018-11-23
EP3429848B1 (en) 2021-08-18
CN108778745A (zh) 2018-11-09
CN108780283A (zh) 2018-11-09
EP3429847B1 (en) 2021-08-18
BR112018068761A2 (pt) 2019-01-22
US20190079405A1 (en) 2019-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108778769A (zh) 加工平版印刷版的方法和设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20181109