CN108602315A - 导电性层叠薄膜 - Google Patents

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Abstract

提供同时满足优异的阻隔性和耐化学药品性的导电性层叠薄膜。本发明的导电性层叠薄膜(100)具有：基材(10)；在基材的一侧自该基材侧起依次设置的、包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层(20)及表面保护层(40)；以及设置于基材的另一侧的导电层(50)。1个实施方式中，导电性层叠薄膜在第1氧化物层与表面保护层之间还具有由SiO2构成的第2氧化物层(30)。

Description

导电性层叠薄膜
技术领域
本发明涉及导电性层叠薄膜。更详细而言，本发明涉及在基材的一侧具有至少1个氧化物层、在相反侧具有导电层的层叠薄膜。
背景技术
以往，在图像显示装置(例如液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置)、太阳能电池(例如薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池)中使用阻隔薄膜。在这种阻隔薄膜的开发中，作为制膜速度快、折射率低、具有良好的阻气性的阻隔薄膜，提出了在Al-Zn-O(添加铝的氧化锌)膜中添加有SiO2的透明氧化物膜(薄膜)(专利文献1)。另外，近年来以智能电话为代表，图像显示装置兼具触摸面板型输入装置的触摸面板型输入显示装置正在急剧增加。如果上述阻隔薄膜能够作为触摸面板用导电性薄膜使用，则装置的薄型化得以实现，是非常理想的。但是，上述透明氧化物膜的耐化学药品性(例如耐酸性、耐碱性)非常不充分，无法适用于导电性薄膜的导电层的图案化(代表性地为蚀刻)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013-189657号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是为解决上述以往的问题而作出的，其目的在于，提供同时满足优异的阻隔性和耐化学药品性的导电性层叠薄膜。
用于解决问题的方案
本发明的导电性层叠薄膜具有：基材；在该基材的一侧自该基材侧起依次设置的、包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层、及表面保护层；以及设置于该基材的另一侧的导电层。
1个实施方式中，上述导电性层叠薄膜在上述第1氧化物层与上述表面保护层之间还具有由SiO2构成的第2氧化物层。
1个实施方式中，上述基材与构成上述表面保护层的树脂薄膜在150℃下加热90分钟后的热收缩率之差为0.4％以下。
1个实施方式中，上述第1氧化物层与上述表面保护层的150℃、90分钟的加热试验后的剥离力为1.5N/25mm以下。
1个实施方式中，上述第2氧化物层与上述表面保护层的150℃、90分钟的加热试验后的剥离力为1.5N/25mm以下。
1个实施方式中，上述导电层进行了图案化。
发明的效果
根据本发明的实施方式，通过在具有作为阻隔层而起作用的至少1个氧化物层和导电层的导电性层叠薄膜中在氧化物层的表面设置表面保护层，能够实现作为阻隔薄膜的优异的阻隔性和可适用于导电层的图案化(代表性地为蚀刻)的耐化学药品性。1个实施方式中，采用包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层与由SiO2构成的第2氧化物层的层叠结构作为氧化物层，并且，在第2氧化物层的表面设置表面保护层，由此能够实现非常优异的阻隔性。
附图说明
图1为本发明的1个实施方式的导电性层叠薄膜的示意截面图。
具体实施方式
以下，对本发明的代表性的实施方式进行说明，但本发明不限定于这些实施方式。
A.导电性层叠薄膜的整体构成
图1为本发明的1个实施方式的导电性层叠薄膜的示意截面图。本实施方式的导电性层叠薄膜100具有：基材10、在基材10的一侧自基材10侧起依次设置的第1氧化物层20及表面保护层40、以及设置于基材10的另一侧的导电层50。通过具有这样的构成，本发明的实施方式的导电性层叠薄膜可作为图像显示装置用的阻隔薄膜及触摸面板用导电性薄膜这两者而起作用。通过在氧化物层的表面设置表面保护层，可以实现可适用于导电层的图案化(代表性地为蚀刻)的耐化学药品性。而且，为这样的构成时，能够防止在制造工艺中的输送时在氧化物层产生伤痕，因此能够防止起因于制造工艺的阻隔性的降低。表面保护层可以在最终的使用时作为导电性层叠薄膜的构成层而残留，也可以剥离去除。如代表性的图示例所示，导电性层叠薄膜100在第1氧化物层20与表面保护层40之间还具有第2氧化物层30。通过采用第1氧化物层与第2氧化物层的层叠结构作为氧化物层，从而能够显著地改善阻隔性。
第1氧化物层20包含ZnO、Al及SiO2。第2氧化物层30由SiO2构成。通过使第1氧化物层及根据需要的第2氧化物层为这样的构成，从而能够实现非常优异的阻隔性。第1氧化物层20的厚度优选为10nm～100nm。第2氧化物层30的厚度优选为10nm～100nm。
在基材10的至少一个面(即，基材10与第1氧化物层之间、和/或、基材10与导电层50之间)可以根据目的形成折射率匹配(IM)层和/或硬涂(HC)层(均未图示)。需要说明的是，IM层及HC层的材料、构成等为本领域周知的，因此省略详细的说明。
导电性层叠薄膜具有对水分及气体(例如氧气)的阻隔性。层叠薄膜在40℃、90％RH条件下的水蒸气透过率(透湿度)优选为不足1.0×10-1g/m2/24hr。从阻隔性的观点出发，透湿度的下限越低越优选。透湿度的测定极限例如为0.1×10-6g/m2/24hr左右。1个实施方式中，从放出由装置构成物经时产生的逸气(out gas)(例如通过太阳能电池密封树脂(EVA)的水解产生的乙酸)的观点出发，透湿度的下限例如为0.1×10-4g/m2/24hr。透湿度的优选的上限可以根据用途而变动。对于透湿度的上限，例如在室内的图像显示装置(例如PC显示器)用途中为5.0×10-2g/m2/24hr，在室外的图像显示装置(数位看板)用途中为3.0×10-2g/m2/24hr，在车载显示器等室内严酷环境用途中为1.0×10-2g/m2/24hr。导电性层叠薄膜在60℃、90％RH条件下的阻气性优选为1.0×10-7g/m2/24hr～0.5g/m2/24hr、更优选为1.0×10-7g/m2/24hr～0.1g/m2/24hr。透湿度及阻气性为这样的范围时，将导电性层叠薄膜贴合于对象物(例如图像显示装置、太阳能电池)的情况下，可良好地保护该对象物免受空气中的水分及氧气的影响。需要说明的是，透湿度及阻气性均可依据JIS K7126-1进行测定。
导电性层叠薄膜的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率为优选为84％以上、更优选为87％以上、进一步优选为90％以上。为这样的范围时，导电性层叠薄膜不损害可视性，因此可以非常适合地作为图像显示装置的阻隔薄膜使用。例如采用包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层(以下有时称为AZO膜)与由SiO2构成的第2氧化物层的层叠结构的情况下，从而即使厚度比单独的AZO膜厚，与AZO膜单独的构成相比，也能够增大透明性。
导电性层叠薄膜具有可适用于导电层的图案化(代表性地为蚀刻)的耐化学药品性。更详细而言，导电性层叠薄膜优选具有耐酸性及耐碱性。本说明书中，“耐酸性”是指将导电性层叠薄膜浸渍于40℃、7％的稀硝酸溶液中并在10分钟后取出后测定的透湿度为不足1.0×10-1g/m2/24hr。另外，“耐碱性”是指，将样品浸渍于40℃、7％的氢氧化钠溶液中并在10分钟后取出后测定的透湿度为不足1.0×10-1g/m2/24h。
导电性层叠薄膜具有即使以优选曲率半径7mm、更优选曲率半径5mm弯曲也不产生破裂及裂纹这样的弯曲性。通过采用上述规定的第1氧化物层与第2氧化物层的层叠结构，从而能够兼顾耐化学药品性和优异的弯曲性及耐热性(后述)，进而，通过设置表面保护层，从而能够显著提高耐化学药品性。
导电性层叠薄膜即使在95℃下进行优选500小时、更优选600小时、进一步优选700小时的加热也不变色，并且具有不产生由尺寸变化所导致的第一氧化物层的裂纹这样的耐热性。通过采用上述规定的第1氧化物层与第2氧化物层的层叠结构，从而能够兼顾优异的耐化学药品性和优异的弯曲性及耐热性。
导电性层叠薄膜中的基材10与构成表面保护层50的树脂薄膜在150℃下加热90分钟后的热收缩率之差优选为0.4％以下、更优选为0.3％以下、进一步优选为0.1％以下。基材与表面保护层的热收缩率之差为这样的范围时，具有能够显著抑制卷取、能够将导电性层叠薄膜保持为平坦的形状的优点。需要说明的是，热收缩率可依据JIS K7133进行测定。
导电性层叠薄膜中的氧化物层(第1氧化物层20、或存在情况下的第2氧化物层30)与表面保护层40的150℃、90分钟的加热试验后的剥离力优选为1.5N/25mm以下、更优选为1.2N/25mm以下、进一步优选为1.0N/25mm以下、特别优选为0.8N/25mm以下。如上所述，在导电性层叠薄膜在最终使用时将表面保护层剥离的情况下，有时在剥离时在第1氧化物层和/或第2氧化物层(存在的情况下)产生裂纹，结果，有时损害阻隔性。氧化物层与表面保护层的加热试验后的剥离力为这样的范围时，可良好地防止如上所述的裂纹的产生。氧化物层与表面保护层的加热试验前的剥离力例如为0.3N/25mm以上。加热试验前的剥离力为这样的范围时，可防止制造工艺(例如输送时)中的表面保护层的浮起、剥落、剥离等。
1个实施方式中，本发明的导电性层叠薄膜为长条状。长条状的导电性层叠薄膜例如可以卷绕成卷状而进行保管和/或运输。导电性层叠薄膜的弯曲性优异，因此即使卷绕成卷状也不会产生不良情况。
以下，对导电性层叠薄膜的构成要素进行说明。
B.基材
基材10优选为透明的。基材的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为85％以上、更优选为90％以上、进一步优选为95％以上。
1个实施方式中，基材10在光学上为各向同性。为这样的构成时，将层叠薄膜应用于图像显示装置的情况下，能够防止对该图像显示装置的显示特性的不良影响。本说明书中“在光学上为各向同性”是指，面内相位差Re(550)为0nm～10nm、厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm～+10nm。基材的面内相位差Re(550)优选为0nm～5nm、厚度方向的相位差Rth(550)优选为-5nm～+5nm。需要说明的是，“Re(550)”为23℃下用波长550nm的光测定的薄膜的面内相位差，将薄膜的厚度设为d(nm)时，根据式：Re＝(nx-ny)×d来求出。“Rth(550)”为23℃下用波长550nm的光测定的薄膜的厚度方向的相位差，将薄膜的厚度设为d(nm)时，根据式：Re＝(nx-nz)×d来求出。此处，“nx”为面内的折射率为最大的方向(即慢轴方向)的折射率，“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率，“nz”为厚度方向的折射率。
基材的平均折射率优选为不足1.7、更优选为1.59以下、进一步优选为1.4～1.55。平均折射率为这样的范围时，具有能够抑制背面反射、能够实现高透光率的优点。
基材在150℃下加热90分钟后的热收缩率优选为0.01％～1％、更优选为0.2％～0.5％。为这样的范围时，与表面保护层的热收缩率之差的调整容易。
作为构成基材的材料，可以使用能满足上述特性的任意适当的材料。作为构成基材的材料，例如可列举出降冰片烯系树脂、烯烃系树脂等不具有共轭体系的树脂、丙烯酸类主链中具有内酯环、戊二酰亚胺环等环状结构的树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂。为这样的材料的话，在形成基材时，能够将伴随分子链取向的相位差的出现抑制为较小。
在另一实施方式中，基材可以具有规定的相位差。例如，基材可以具有可作为所谓λ/4板而起作用的面内相位差。为这样的构成时，可在不另行配置相位差层的情况下对层叠薄膜赋予良好的圆偏振光功能，层叠薄膜不仅可作为图像显示装置的阻隔薄膜而良好地发挥作用，也作为防反射薄膜而良好地发挥作用。该情况下，基材的慢轴与图像显示装置中所用的偏光件的吸收轴所成的角度代表性地为约45°。这样的基材例如可以通过在适当的条件下对降冰片烯系树脂、聚碳酸酯系树脂的薄膜进行拉伸来形成。
基材的厚度优选为10μm～50μm以下、更优选为20μm～35μm以下。
C.第1氧化物层
如上所述，第1氧化物层20包含ZnO、Al及SiO2。第1氧化物层相对于总重量以优选2.5重量％～3.5重量％的比率包含Al、以优选20.0重量％～62.4重量％的比率包含SiO2。ZnO优选为余量。通过以这样的范围含有ZnO，从而能够形成非晶性、阻隔性、弯曲性及耐热性优异的层。通过以这样的范围含有Al，代表性地通过溅射形成第1氧化物层时，能够增大靶的导电率。通过以这样的范围含有SiO2，从而能够在不发生异常放电、并且不损害阻隔性的情况下减小第1氧化物层的折射率。
第1氧化物层的厚度如上所述优选为10nm～100nm、更优选为10nm～60nm、进一步优选为20nm～40nm。厚度为这样的范围时，具有能够兼顾高透光性和优异的阻隔性的优点。
第1氧化物层的平均折射率优选为1.59～1.80。平均折射率为这样的范围时，具有能够实现高透光性的优点。
第1氧化物层优选为透明的。第1氧化物层的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为85％以上、更优选为90％以上、进一步优选为95％以上。
第1氧化物层代表性的是可以通过溅射在基材上形成。第1氧化物层例如可以使用包含Al、SiO2及ZnO的溅射靶，在含有氧的非活性气体气氛下通过溅射法形成。作为溅射的方法，可以采用磁控溅射法、RF溅射法、RF叠加DC溅射法、脉冲溅射法、双靶磁控溅射法等。基板的加热温度例如为-8℃～200℃。氧的气体分压相对于氧气和非活性气体的气氛气体整体例如为0.05以上。
关于构成第1氧化物层的AZO膜及其制造方法的详细情况，例如记载于日本特开2013-189657号公报中。该公报的记载作为参考而援引至本说明书中。
D.第2氧化物层
如上所述，第2氧化物层30由SiO2构成(也可包含不可避免的杂质)。通过在第1氧化物层的表面形成这样的第2氧化物层，从而能够维持第1氧化物层带来的良好的特性、并且显著提高层叠薄膜的耐化学药品性及透明性。进而，由于第2氧化物层可以作为低折射率层而起作用，因此可对层叠薄膜赋予良好的防反射特性。
第2氧化物层的厚度如上所述优选为10nm～100nm、更优选为50nm～100nm、进一步优选为60nm～100nm。厚度为这样的范围时，具有能够兼顾高透光性、优异的阻隔性和优异的耐化学药品性的优点。
第2氧化物层的平均折射率优选为1.44～1.50。其结果，第2氧化物层可以作为低折射率层(防反射层)而良好地发挥作用。
第2氧化物层优选为透明的。第2氧化物层的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为85％以上、更优选为90％以上、进一步优选为95％以上。
第2氧化物层代表性的是可以通过溅射在第1氧化物层上形成。第2氧化物层例如可以通过将Si、SiC、SiN或SiO作为靶、使用含有氧的非活性气体(例如氩气、氮气、CO、CO2、及它们的混合气体)进行溅射来形成。由于第1氧化物层及第2氧化物层均包含SiO2，因此第1氧化物层与第2氧化物层的密合性非常优异。由此，为了在第1氧化物层与第2氧化物层的界面表现充分的阻隔功能，第1氧化物层的厚度如上所述优选为10nm以上。作为其理由，是因为，能够充分减小作为成长初期膜的所谓起始层的比率，能够形成具有目标物性的氧化物层。另外，第1氧化物层与第2氧化物层的总厚度优选为200nm以下、更优选为140nm以下。
E.表面保护层
表面保护层40具有在导电层的图案化(代表性地为蚀刻)中可适当地保护氧化物层的耐化学药品性。更详细而言，表面保护层优选具有耐酸性及耐碱性。本说明书中，“耐酸性”是指在10％的稀硝酸中在30℃下浸渍10天后的拉伸强度的保持率为90％以上。另外，“耐碱性”是指在10％的氢氧化钠水溶液中在30℃下浸渍10天后的拉伸强度的保持率为90％以上。通过设置具有这样的耐化学药品性的表面保护层，能够维持氧化物层带来的优异的阻隔性，并且进行导电性层叠薄膜的导电层的图案化(代表性地为蚀刻)。
表面保护层在150℃下加热90分钟后的热收缩率优选为0.01％～1％、更优选为0.2％～0.5％。为这样的范围时，与基材的热收缩率之差的调整容易。
表面保护层由能满足如上所述的特性的任意适当的树脂薄膜构成。若考虑到将导电性层叠薄膜用于图像显示装置时的可视性，则树脂薄膜优选为透明的。作为构成树脂薄膜的材料的具体例，可列举出聚酯系树脂、环烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂。优选为聚酯系树脂、环烯烃系树脂或聚碳酸酯系树脂。这些树脂除了优异的透明性以外，吸水性低、水分阻断性、热稳定性、各向同性、及利用辊的卷取等中的处理性也优异。特别优选为作为非晶性树脂的环烯烃系树脂或聚碳酸酯系树脂。通过在表面保护层使用由这些树脂构成的薄膜，导电层的结晶化更良好地进行，因此能够防止导电性层叠薄膜的电阻值异常，并且进一步提高导电层与基材的密合性从而防止膜剥落。
表面保护层的厚度优选为20μm～200μm、更优选为50μm～100μm。厚度为这样的范围时，具有能够兼顾弯曲性和机械特性(例如耐冲击性、耐划痕性)的优点。
表面保护层借助任意适当的粘合剂层贴合于氧化物层(第1氧化物层、或存在时为第2氧化物层)。上述粘合剂优选为低透湿性的粘合剂。作为形成低透湿性的粘合剂的材料，例如可列举出以丙烯酸类聚合物、有机硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系聚合物、橡胶系聚合物、异氰酸酯聚合物、聚乙烯醇系聚合物、明胶系聚合物、乙烯基系聚合物、胶乳系聚合物、水系聚酯等聚合物为基础聚合物的材料。优选为以丙烯酸类聚合物/或橡胶系聚合物为基础聚合物的材料，更优选为以橡胶系聚合物为基础聚合物的材料。这些材料可具有更低的透湿性。粘合剂层可以以在表面保护层的剥离时会残留在氧化物层侧的方式来构成。为这样的构成时，能够在不新涂布粘合剂下将导电性层叠薄膜贴合于图像显示装置等。这样的构成例如可以通过对表面保护层的粘合剂层侧的一面实施剥离处理(即，通过使用表面保护层作为隔膜)来实现。
可以对表面保护层的氧化物层侧的表面实施易粘接处理。为这样的构成时，与粘合剂层的密合性可提高。作为易粘接处理，可列举出表面处理、底涂层(易粘接层、锚固层)的形成。作为表面处理的具体例，可列举出溅射、电晕放电、火焰放射、紫外线照射、电子束照射、化学转化处理、氧化处理等蚀刻处理。进而，根据需要，也可以对表面保护层表面进行除尘、洁净化。作为这样的处理的具体例，可列举出溶剂清洗、超声波清洗。在具有易粘接效果和表面洁净效果这两者方面，优选电晕放电处理。进而，电晕放电处理为不使用溶液等的干法工艺，并且能够在不损伤表面保护层下对表面保护层上残留不少的有机成分、微小的粉尘进行分解处理，因此在表面洁净效果大这点上也是优选的。需要说明的是，电晕放电处理的具体方法包括：在大气压或进行了排气处理的真空室内的环境下，导入氩气、氮气、CO及CO2等非活性气体，施加通常的溅射法中也使用的DC、RF等的电力。为了防止微小粉尘的再附着，优选在真空室内的处理。该情况下，优选根据作为处理对象物的表面保护层与对电极的距离，在电极间距离1mm～10mm、处理压力0.1Pa～1Pa、输入功率密度1kW/m2～10kW/m2下进行处理。
可以对表面保护层的与氧化物层处于相反侧(导电性层叠薄膜的最表面)实施抗静电处理。作为抗静电处理的具体例，可列举出导电性聚合物的涂布、基于溅射的导电层的形成。为这样的构成时，能够防止在卷对卷下的薄膜输送时因薄膜带电而引起的火花放电所导致的在薄膜上的伤痕。
F.导电层
导电层50代表性地为透明的(即，导电层为透明导电层)。通过形成导电层，导电性层叠薄膜可作为触摸面板型输入显示装置中的触摸面板用导电性薄膜而起作用。
导电层根据需要可进行图案化。在图案化中，可形成导通部和绝缘部。结果，可形成电极。电极可以作为用于感知对触摸面板的接触的接触式传感器电极而起作用。图案的形状优选作为触摸面板(例如静电容量方式触摸面板)而良好地工作的图案。作为具体例，可列举出日本特表2011-511357号公报、日本特开2010-164938号公报、日本特开2008-310550号公报、日本特表2003-511799号公报、日本特表2010-541109号中记载的图案。图案化(patterning)代表性地可通过蚀刻进行。如上所述，本发明的实施方式中，通过在氧化物层上设置表面保护层，从而能在不损害氧化物层带来的阻隔性下进行蚀刻。
导电层的总透光率优选为80％以上、更优选为85％以上、进一步优选为90％以上。
导电层的密度优选为1.0g/cm3～10.5g/cm3、更优选为1.3g/cm3～3.0g/cm3。
导电层的表面电阻值优选为0.1Ω/□～1000Ω/□、更优选为0.5Ω/□～500Ω/□、进一步优选为1Ω/□～250Ω/□。
作为导电层的代表例，可列举出包含金属氧化物的导电层。作为金属氧化物，例如可列举出氧化铟、氧化锡、氧化锌、铟-锡复合氧化物、锡-锑复合氧化物、锌-铝复合氧化物、铟-锌复合氧化物。其中优选铟-锡复合氧化物(ITO)。
导电层的厚度优选为0.01μm～0.05μm、更优选为0.01μm～0.03μm。为这样的范围时，能够得到导电性及光透过性优异的导电层。
G.导电性层叠薄膜的用途
本发明的导电性层叠薄膜例如可以适宜作为图像显示装置、电子纸、太阳能电池的阻隔层(阻隔薄膜)使用。更详细而言，本发明的导电性层叠薄膜可以适宜作为液晶显示装置、有机EL显示装置、有机发光显示元件、电泳方式显示元件、调色剂显示元件、薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池等的阻隔层(阻隔薄膜)使用。进而，本发明的导电性层叠薄膜也可以适宜作为触摸面板型输入显示装置的触摸面板用导电性薄膜使用。
[实施例]
以下，通过实施例具体地对本发明进行说明，但本发明不受这些实施例的限定。需要说明的是，各特性的测定方法如下。
(1)厚度
透射型电子显微镜(日立制作所株式会社制H-7650)观察截面，进行测定。基材及表面保护层的厚度使用膜厚计(Peacock公司制数字千分表DG-205)进行测定。
(2)热收缩率
将实施例及比较例中使用的基材及表面保护层分别切成为输送方向(MD：MachineDirection，机械方向)为10cm、与MD正交的方向(TD：Transverse Direction，横向)为10cm的正方形，用株式会社Mitutoyo制CNC图像测定器对MD方向和TD方向的尺寸进行测定。将各自的尺寸设为L1MD、L1TD。测定后，将各样品在150℃、90分钟的条件下加热，同样地操作测定加热后的尺寸。将加热后的尺寸分别设为L2MD、L2TD。用(L1MD-L2MD)/L1MD×100求出MD方向的热收缩率。用(L1TD-L2TD)/L1TD×100求出TD方向的热收缩率。关于基材与表面保护层的MD方向的热收缩率差和TD方向的热收缩率差，将热收缩率差大者定义为最大热收缩率差。
(3)剥离力
对实施例及比较例中得到的导电性层叠薄膜，在拉伸速度0.3m/分钟及拉伸速度10m/分钟的条件下测定180°(剥离角)的粘合力(N/25mm)。
(4)卷曲
将实施例及比较例中得到的导电性层叠薄膜切成100mm×100mm尺寸，作为测定试样。将该测定试样静置在水平的台上，测定测定试样的4角距离台的浮起高度(mm)。将4角的测定值的平均值作为卷曲值。需要说明的是，试样蜷缩起来的情况下记为“不可测定”。
(5)耐化学药品性(溶剂浸渍后的阻隔性)
将实施例及比较例中得到的导电性层叠薄膜切成100mm×100mm尺寸，作为测定试样。测量将该测定试样在10％的氢氧化钠溶液中浸渍10分钟后的透湿度，按照以下的基准进行评价。需要说明的是，对于透湿度，使用テクノロックス社制“DELTAPERM”，在40℃、90％RH的试验条件下测定透湿度。
○：透湿度为1.0×10-2g/m2/24hr以下
×：透湿度超过1.0×10-2g/m2/24hr
(6)外观
将表面保护层从实施例及比较例中得到的导电性层叠薄膜剥离，通过目视确认剥离后的外观，按照以下的基准进行评价。
○：未观察到裂纹
×：观察到裂纹
(7)表面保护层剥离后的阻隔性
将实施例及比较例中得到的层叠薄膜切成100mm×100mm尺寸，接着，剥离表面保护层，作为测定试样。测量该测定试样的透湿度，按照以下的基准进行评价。
○：透湿度为1.0×10-2g/m2/24hr以下
×：透湿度超过1.0×10-2g/m2/24hr
<实施例1>
将市售的COP薄膜(Zeon Corporation制、商品名“ZEONOR”、厚度40μm)作为基材，使用包含Al、SiO2及ZnO的溅射靶，通过DC磁控溅射法在基材上形成第1氧化物层(厚度30nm)。接着，使用Si靶，在基材/第1氧化物层的层叠体的第1氧化物层上形成第2氧化物层(50nm)。这样操作，制作基材/第1氧化物层(AZO)/第2氧化物层(SiO2)的层叠体。
接着，通过溅射在上述层叠体的与氧化物层处于相反侧的基材表面上形成包含铟-锡复合氧化物的透明导电层(厚度20nm)。具体的步骤如下：在导入有Ar及O2(流量比为Ar：O2＝99.9：0.1)的真空气氛下(0.40Pa)下，使用10重量％的氧化锡和90重量％的氧化铟的烧结体作为靶，将薄膜温度设为-8℃、使用将水平磁场设为100mT的DC磁控溅射法。
接着，借助丙烯酸类粘合剂(厚度25μm)将表面保护层贴合在上述中得到的导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层的层叠体的第2氧化物层表面上。需要说明的是，作为表面保护层，使用环烯烃聚合物(COP)薄膜(Zeon Corporation制、商品名“ZEONOR”(注册商标)、厚度100μm、面内相位差10nm)。另外，该COP薄膜预先通过在真空室内进行电晕处理来实施易粘接处理。电晕处理条件为电极间距离10mm、处理压力0.1Pa、输入功率密度5kW/m2，处理气体使用氩气。
如上那样操作，制作具有导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层/表面保护层的构成的导电性层叠薄膜。最后，通过蚀刻对导电层进行图案化。将所得导电性层叠薄膜供于上述(2)～(7)的评价。将结果示于表1。
<实施例2>
作为表面保护层，使用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)聚合物长条薄膜(MITSUBISHIRAYON CO.,LTD.制、商品名“ACRYPLEN”(注册商标)、厚度100μm)，除此以外，与实施例1同样地操作，制作具有导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层/表面保护层的构成的导电性层叠薄膜，通过蚀刻对导电层进行图案化。需要说明的是，对PMMA薄膜预先实施与实施例1同样的电晕处理。将所得导电性层叠薄膜供于上述(2)～(7)的评价。将结果示于表1。
<实施例3>
不对PMMA薄膜实施电晕处理，除此以外，与实施例2同样地操作，制作具有导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层/表面保护层的构成的导电性层叠薄膜，通过蚀刻对导电层进行图案化。将所得导电性层叠薄膜供于上述(2)～(7)的评价。将结果示于表1。
<实施例4>
作为表面保护层，使用“日东电工株式会社制E-Mask RP207”，除此以外，与实施例1同样地操作，制作具有导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层/表面保护层的构成的导电性层叠薄膜，通过蚀刻对导电层进行图案化。将所得导电性层叠薄膜供于上述(2)～(7)的评价。将结果示于表1。
<实施例5>
作为表面保护层，使用“日东电工株式会社制E-Mask RP301”，除此以外，与实施例1同样地操作，制作具有导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层/表面保护层的构成的导电性层叠薄膜，通过蚀刻对导电层进行图案化。将所得导电性层叠薄膜供于上述(2)～(7)的评价。将结果示于表1。
<比较例1>
不形成表面保护层，除此以外，与实施例1同样地操作，制作具有导电层/基材/第1氧化物层/第2氧化物层的构成的导电性层叠薄膜，通过蚀刻对导电层进行图案化。将所得导电性层叠薄膜供于上述(2)～(7)的评价。将结果示于表1。
[表1]
<评价>
根据表1明确可知，本发明的实施例的导电性层叠薄膜即使经过用于导电层图案化的蚀刻工序，也同时满足优异的阻隔性和耐化学药品性。未设置表面保护层的比较例1的蚀刻后的耐化学药品性、外观(裂纹)及阻隔性均恶劣。进而，若将实施例1～3与实施例4～5进行比较，则可明确通过将基材与表面保护层的热收缩率之差设为规定值以内，能够显著抑制卷曲。
产业上的可利用性
本发明的导电性层叠薄膜可以适宜作为例如图像显示装置、电子纸、太阳能电池的阻隔层(阻隔薄膜)使用。更详细而言，本发明的导电性层叠薄膜可以适宜作为液晶显示装置、有机EL显示装置、有机发光显示元件、电泳方式显示元件、调色剂显示元件、薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池等的阻隔层(阻隔薄膜)使用。进而，本发明的导电性层叠薄膜也可以适宜作为触摸面板型输入显示装置的触摸面板用导电性薄膜使用。
附图标记说明
10 基材
20 第1氧化物层
30 第2氧化物层
40 表面保护层
50 导电层
100 层叠薄膜

Claims (6)

1.一种导电性层叠薄膜，其具有：
基材；
在该基材的一侧自该基材侧起依次设置的、包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层、及表面保护层；以及
设置于该基材的另一侧的导电层。
2.根据权利要求1所述的导电性层叠薄膜，其中，在所述第1氧化物层与所述表面保护层之间还具有由SiO2构成的第2氧化物层。
3.根据权利要求1或2所述的导电性层叠薄膜，其中，所述基材与构成所述表面保护层的树脂薄膜在150℃下加热90分钟后的热收缩率之差为0.4％以下。
4.根据权利要求1或3所述的导电性层叠薄膜，其中，所述第1氧化物层与所述表面保护层的150℃、90分钟的加热试验后的剥离力为1.5N/25mm以下。
5.根据权利要求2或3所述的导电性层叠薄膜，其中，所述第2氧化物层与所述表面保护层的150℃、90分钟的加热试验后的剥离力为1.5N/25mm以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的导电性层叠薄膜，其中，所述导电层进行了图案化。
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