CN108602316A - 层叠薄膜 - Google Patents

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Abstract

提供具有优异的透湿性及阻气性、优异的耐化学药品性、透明性及弯曲性,并且具有非常优异的耐热性的层叠薄膜。本发明的层叠薄膜依次具有:第1硬涂层;基材;第2硬涂层;包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层;以及由SiO2构成的第2氧化物层。1个实施方式中,层叠薄膜在95℃下加热1000小时后的收缩率为0.5%以下、在95℃下加热1000小时后的透湿度为3.0×10‑2g/m2/24hr以下。

Description

层叠薄膜
技术领域
本发明涉及层叠薄膜。更详细而言,本发明涉及在由硬涂层夹持的基材上具有2个氧化物层的层叠薄膜。
背景技术
以往,在图像显示装置(例如液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置)、太阳能电池(例如薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池)中使用阻隔薄膜。在这种阻隔薄膜的开发中,作为制膜速度快、折射率低、具有良好的阻气性的阻隔薄膜,提出了在Al-Zn-O(添加铝的氧化锌)膜中添加有SiO2的透明氧化物膜(薄膜)(专利文献1)。但是,该透明氧化物膜的耐化学药品性(例如耐酸性、耐碱性)非常不充分,进而,透明性也要求改善。而且,阻隔薄膜通常具有支撑透明氧化物膜的基材,有时在加热环境下因基材的收缩而在透明氧化物膜上产生裂纹,损害阻隔薄膜的阻隔性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2013-189657号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是为了解决上述现有问题而做出的,其目的在于,提供具有优异的透湿性及阻气性、优异的耐化学药品性、透明性及弯曲性,并且具有非常优异的耐热性的层叠薄膜。
用于解决问题的方案
本发明的层叠薄膜依次具有:第1硬涂层;基材;第2硬涂层;包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层;以及由SiO2构成的第2氧化物层。
1个实施方式中,上述第1硬涂层还具有抗粘连功能。
1个实施方式中,上述层叠薄膜在95℃下加热1000小时后的收缩率为0.5%以下。
1个实施方式中,上述层叠薄膜在95℃下加热1000小时后的透湿度为3.0×10-2g/m2/24hr以下。
发明的效果
根据本发明的实施方式,在具有基材、第1氧化物层和第2氧化物层的层叠薄膜中,通过在基材的两侧设置硬涂层,从而能够维持这种层叠薄膜的优异的特性(透湿性、阻气性、耐化学药品性、透明性及弯曲性)、并且实现非常优异的耐热性。
附图说明
图1为本发明的1个实施方式的层叠薄膜的示意截面图。
具体实施方式
以下,对本发明的代表性的实施方式进行说明,但本发明并不限定于这些实施方式。
A.层叠薄膜的整体构成
图1为本发明的1个实施方式的层叠薄膜的示意截面图。本实施方式的层叠薄膜100依次具有第1硬涂层40、基材10、第2硬涂层50、第1氧化物层20、和第2氧化物层30。即,根据本发明的实施方式,在具有基材、第1氧化物层和第2氧化物层的层叠薄膜中,基材被第1硬涂层及第2硬涂层夹持。为这样的构成时,能够良好地抑制由热导致的基材的尺寸变化(代表性地为基材的热收缩)。其结果,能够良好地防止加热环境下的基材的收缩导致的第1和/或第2氧化物层的裂纹,结果,即使在加热环境下也能够良好地维持层叠薄膜的阻隔性。因此,能够维持具有基材、第1氧化物层和第2氧化物层的层叠薄膜的优异的特性(透湿性、阻气性、耐化学药品性、透明性及弯曲性),并且实现非常优异的耐热性。
第1硬涂层40的厚度优选为0.3μm~5μm。第2硬涂层50的厚度优选为0.3μm~5μm。代表性地,第1硬涂层40及第2硬涂层50中至少一者还具有抗粘连功能。例如第1硬涂层40为还具有抗粘连功能的硬涂层、第2硬涂层50可以为通常的硬涂层。
第1氧化物层20包含ZnO、Al及SiO2。第2氧化物层30由SiO2构成。第1氧化物层20的厚度优选为10nm~100nm。第2氧化物层30的厚度优选为10nm~100nm。
层叠薄膜具有对水分及气体(例如氧气)的阻隔性。层叠薄膜在40℃、90%RH条件下的水蒸气透过率(透湿度)优选为不足1.0×10-1g/m2/24hr。从阻隔性的观点出发,透湿度的下限越低越优选。透湿度的测定极限例如为0.1×10-6g/m2/24hr左右。1个实施方式中,从放出由装置构成物经时产生的逸气(out gas)(例如通过太阳能电池密封树脂(EVA)的水解产生的乙酸)的观点出发,透湿度的下限例如为0.1×10-4g/m2/24hr。透湿度的优选的上限可以根据用途而变动。对于透湿度的上限,例如在室内的图像显示装置(例如PC显示器)用途中为5.0×10-2g/m2/24hr,在室外的图像显示装置(数位看板)用途中为3.0×10-2g/m2/24hr,在车载显示器等室内严酷环境用途中为1.0×10-2g/m2/24hr。层叠薄膜在60℃、90%RH条件下的阻气性优选为1.0×10-7g/m2/24hr~0.5g/m2/24hr、更优选为1.0×10-7g/m2/24hr~0.1g/m2/24hr。透湿度及阻气性为这样的范围时,将层叠薄膜贴合于对象物(例如图像显示装置、太阳能电池)的情况下,可良好地保护该对象物免受空气中的水分及氧气的影响。需要说明的是,透湿度及阻气性均可依据JIS K7126-1进行测定。
层叠薄膜在95℃下加热1000小时后的收缩率优选为0.5%以下、更优选为0.2%以下、进一步优选为0.1%以下。通过采用由2个硬涂层夹持基材的构成,从而能够实现非常优异的加热时的热收缩率。需要说明的是,热收缩率可以依据JIS K7133进行测定。
层叠薄膜在95℃下加热1000小时后的透湿度优选为3.0×10-2g/m2/24hr以下、更优选为2.0×10-2g/m2/24hr以下、进一步优选为1.0×10-2g/m2/24hr以下。通过采用由2个硬涂层夹持基材的构成,从而基材的热收缩得以抑制,因此,如上所述那样,层叠薄膜整体的加热时的热收缩非常优异(非常小)。其结果,能够良好地防止加热环境下的基材的收缩导致的第1和/或第2氧化物层的裂纹,能够实现这样的加热后的透湿度。需要说明的是,层叠薄膜具有即使在95℃下加热优选500小时、更优选600小时、进一步优选700小时,透湿度也不足1.0×10-1g/m2/24hr这样的耐热性。
层叠薄膜的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为84%以上、更优选为87%以上、进一步优选为90%以上。根据本发明,通过采用包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层(以下有时称为AZO膜)与由SiO2构成的第2氧化物层的层叠结构,从而即使厚度比单独的AZO膜厚,与AZO膜单独的构成相比也能够增大透明性。其结果,层叠薄膜不损害可视性,因此可以非常适合地作为图像显示装置的阻隔薄膜使用。
层叠薄膜优选具有耐化学药品性。更详细而言,层叠薄膜优选具有耐酸性及耐碱性。本说明书中,“耐酸性”是指,将2%的盐酸溶液(pH0.3)滴加至层叠薄膜,在10分钟后擦去盐酸溶液后的透湿度为不足1.0×10-1g/m2/24hr。另外,“耐碱性”是指,将2%的氢氧化钠溶液(pH13.7)滴加至层叠薄膜,在10分钟后擦去氢氧化钠溶液后的透湿度为不足1.0×10- 1g/m2/24hr。本发明的成果之一在于,维持如上所述那样的期望的阻隔性及透明性,并且实现这样的优异的耐化学药品性。
层叠薄膜具有即使以优选曲率半径7mm、更优选曲率半径5mm弯曲也不产生破裂及裂纹这样的弯曲性。通过采用上述规定的第1氧化物层与第2氧化物层的层叠结构,从而能够兼顾优异的耐化学药品性和优异的弯曲性及耐热性(后述)。
1个实施方式中,本发明的层叠薄膜为长条状。长条状的层叠薄膜例如可以卷绕成卷状而进行保管和/或运输。层叠薄膜的弯曲性优异,因此即使卷绕成卷状也不会产生不良情况。
以下,对层叠薄膜的构成要素进行说明。
B.基材
基材10优选为透明的。基材的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为85%以上、更优选为90%以上、进一步优选为95%以上。
1个实施方式中,基材10在光学上为各向同性。为这样的构成时,将层叠薄膜应用于图像显示装置的情况下,能够防止对该图像显示装置的显示特性的不良影响。本说明书中“在光学上为各向同性”是指,面内相位差Re(550)为0nm~10nm、厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm~+10nm。基材的面内相位差Re(550)优选为0nm~5nm、厚度方向的相位差Rth(550)优选为-5nm~+5nm。需要说明的是,“Re(550)”为23℃下用波长550nm的光测定的薄膜的面内相位差,将薄膜的厚度设为d(nm)时,根据式:Re=(nx-ny)×d来求出。“Rth(550)”为23℃下用波长550nm的光测定的薄膜的厚度方向的相位差,将薄膜的厚度设为d(nm)时,根据式:Re=(nx-nz)×d来求出。此处,“nx”为面内的折射率为最大的方向(即慢轴方向)的折射率,“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率,“nz”为厚度方向的折射率。
基材的平均折射率优选为不足1.7、更优选为1.59以下、进一步优选为1.4~1.55。平均折射率为这样的范围时,具有能够抑制背面反射、能够实现高透光率的优点。
基材在150℃下加热90分钟后的热收缩率优选为0.01%~1%、更优选为0.2%~0.5%。
作为构成基材的材料,可以使用能满足上述特性的任意适当的材料。作为构成基材的材料,例如可列举出降冰片烯系树脂、烯烃系树脂等不具有共轭体系的树脂、丙烯酸类主链中具有内酯环、戊二酰亚胺环等环状结构的树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂。为这样的材料的话,在形成基材时,能够将伴随分子链取向的相位差的出现抑制为较小。
在另一实施方式中,基材可以具有规定的相位差。例如,基材可以具有可作为所谓λ/4板而起作用的面内相位差。为这样的构成时,可在不另行配置相位差层的情况下对层叠薄膜赋予良好的圆偏振光功能,层叠薄膜不仅可作为图像显示装置的阻隔薄膜而良好地发挥作用,也作为防反射薄膜而良好地发挥作用。该情况下,基材的慢轴与图像显示装置中所用的偏光件的吸收轴所成的角度代表性地为约45°。这样的基材例如可以通过在适当的条件下对降冰片烯系树脂、聚碳酸酯系树脂的薄膜进行拉伸来形成。
基材的厚度优选为10μm~50μm以下、更优选为20μm~35μm以下。
C.第1硬涂层
第1硬涂层40代表性地由活性能量射线固化型树脂形成。作为活性能量射线,例如可列举出紫外线、可见光线、热、电子束。可以优选使用紫外线固化型树脂。作为紫外线固化型树脂,可以使用任意适当的树脂。作为具体例,可列举出聚酯系树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯系树脂、酰胺系树脂、有机硅系树脂、环氧系树脂。紫外线固化型树脂包含紫外线固化型的单体、低聚物、聚合物。作为紫外线固化型树脂的代表例,可列举出使丙烯酸缩水甘油酯系聚合物与丙烯酸进行加成反应而成的聚合物、或多官能丙烯酸酯聚合物(季戊四醇、二季戊四醇等)。紫外线固化型树脂(紫外线固化型树脂组合物)优选还包含聚合引发剂(代表性的为光聚合引发剂)。
第1硬涂层的厚度如上所述优选为0.3μm~5μm、更优选为0.8μm~3μm、进一步优选为1μm~2μm。
第1硬涂层的玻璃化转变温度优选为100℃~200℃、更优选为110℃~180℃。为这样的范围时,能够得到耐热性优异、高温下的尺寸稳定性优异的层叠薄膜(阻隔薄膜)。
第1硬涂层的JIS K5600-5-4中的铅笔硬度优选为3H以上且6H以下。通过使第1硬涂层处于该范围,从而能够防止在基材产生伤痕,能够良好地保护接着层叠的氧化物层。
在第1硬涂层还具有抗粘连功能的实施方式中,第1硬涂层还包含分散于层中的微粒。微粒可以为有机微粒,可以为无机微粒,也可以为有机无机混合微粒。微粒可以由例如丙烯酸类聚合物、有机硅聚合物、苯乙烯聚合物、或无机二氧化硅构成。微粒的形状可以采用任意适当的形状。作为具体例,可列举出球状、椭圆球状、鳞片状、不定形。微粒的尺寸比上述的第1硬涂层的厚度大。其结果,在微粒存在的位置形成凸部,可赋予良好的抗粘连功能。对于微粒的尺寸,在微粒为球状的情况下是直径,在不为球状的情况下是高度(第1硬涂层的厚度方向的长度)。微粒的尺寸优选为1μm~5μm、进一步优选为1.5μm~3.5μm。微粒的尺寸优选为最频粒径(显示粒径分布的极大值的粒径)。微粒的含量为第1硬涂层的总重量的优选0.05重量%~3重量%。为这样的范围时,可良好地防止压接。
在第1硬涂层还具有抗粘连功能的实施方式中,第1硬涂层中的凸部的分布密度优选为100个/mm2~2000个/mm2、更优选为100个/mm2~1000个/mm2。为这样的范围时,可实现良好的抗粘连功能。
在第1硬涂层还具有抗粘连功能的实施方式中,第1硬涂层的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.005μm~0.05μm。第1硬涂层的表面的最大高度Rz优选为0.5μm~2.5μm。算术平均粗糙度及最大高度为这样的范围时,可实现良好的抗粘连功能。
可以在第1硬涂层的与基材处于相反侧的表面形成折射率调整层(折射率匹配(IM)层)。关于IM层,可以采用本领域周知的构成,因此省略详细的说明。
D.第2硬涂层
第2硬涂层主要具有不将基材的热收缩传递至第1氧化物层及第2氧化物层的功能。
第2硬涂层的玻璃化转变温度优选为95℃~200℃、更优选为110℃~180℃。为这样的范围时,基材的热收缩不易传递至第1氧化物层及第2氧化物层,因此即使在加热环境下也能够良好地维持阻隔性。
第2硬涂层在25℃下的拉伸模量优选为2.5GPa~20GPa、更优选为3GPa~15GPa、进一步优选为3.5GPa~10GPa。硬涂层的拉伸模量为这样的范围时,能够得到尺寸稳定性优异的层叠体。需要说明的是,拉伸模量可以依据JIS K7161进行测定。
第2硬涂层在50℃~250℃下的线热膨胀系数优选为0/℃~100×10-6/℃、更优选为0/℃~50×10-6/℃。硬涂层的线热膨胀系数为这样的范围时,能够得到高温下的尺寸稳定性优异的层叠体。需要说明的是,硬涂层的线膨胀系数优选高于基材的线膨胀系数。
第2硬涂层的吸水率优选为0%~1%、更优选为0%~0.5%。硬涂层的吸水率为这样的范围时,能够得到在高湿下的尺寸稳定性优异的层叠体。需要说明的是,吸水率可以依据JIS K7209进行测定。
关于第2硬涂层的材料、厚度及特性、以及具有抗粘连功能时的构成,可以从关于第1硬涂层的C项中说明的例子中适当地选择具有如上所述那样的特性的例子。
需要说明的是,关于硬涂层的详细情况,例如记载于日本特许第5230788号说明书中。该专利的记载作为参考而援引至本说明书中。
E.第1氧化物层
如上所述,第1氧化物层20包含ZnO、Al及SiO2。第1氧化物层相对于总重量以优选2.5重量%~3.5重量%的比率包含Al、以优选20.0重量%~62.4重量%的比率包含SiO2。ZnO优选为余量。通过以这样的范围含有ZnO,从而能够形成非晶性、阻隔性、弯曲性及耐热性优异的层。通过以这样的范围含有Al,代表性地通过溅射形成第1氧化物层时,能够增大靶的导电率。通过以这样的范围含有SiO2,从而能够在不发生异常放电、并且不损害阻隔性的情况下减小第1氧化物层的折射率。
第1氧化物层的厚度如上所述优选为10nm~100nm、更优选为10nm~60nm、进一步优选为20nm~40nm。厚度为这样的范围时,具有能够兼顾高透光性和优异的阻隔性的优点。
第1氧化物层的平均折射率优选为1.59~1.80。平均折射率为这样的范围时,具有能够实现高透光性的优点。
第1氧化物层优选为透明的。第1氧化物层的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为85%以上、更优选为90%以上、进一步优选为95%以上。
第1氧化物层代表性的是可以通过溅射在基材上形成。第1氧化物层例如可以使用包含Al、SiO2及ZnO的溅射靶,在含有氧的非活性气体气氛下通过溅射法形成。作为溅射的方法,可以采用磁控溅射法、RF溅射法、RF叠加DC溅射法、脉冲溅射法、双靶磁控溅射法等。基板的加热温度例如为-8℃~200℃。氧的气体分压相对于氧气和非活性气体的气氛气体整体例如为0.05以上。
关于构成第1氧化物层的AZO膜及其制造方法的详细情况,例如记载于日本特开2013-189657号公报中。该公报的记载作为参考而援引至本说明书中。
F.第2氧化物层
如上所述,第2氧化物层30由SiO2构成(也可包含不可避免的杂质)。通过在第1氧化物层的表面形成这样的第2氧化物层,从而能够维持第1氧化物层带来的良好的特性、并且显著提高层叠薄膜的耐化学药品性及透明性。进而,由于第2氧化物层可以作为低折射率层而起作用,因此可对层叠薄膜赋予良好的防反射特性。
第2氧化物层的厚度如上所述优选为10nm~100nm、更优选为50nm~100nm、进一步优选为60nm~100nm。厚度为这样的范围时,具有能够兼顾高透光性、优异的阻隔性和优异的耐化学药品性的优点。
第2氧化物层的平均折射率优选为1.44~1.50。其结果,第2氧化物层可以作为低折射率层(防反射层)而良好地发挥作用。
第2氧化物层优选为透明的。第2氧化物层的可见光(例如波长550nm的光)的总透光率优选为85%以上、更优选为90%以上、进一步优选为95%以上。
第2氧化物层代表性的是可以通过溅射在第1氧化物层上形成。第2氧化物层例如可以通过将Si、SiC、SiN或SiO作为靶、使用含有氧的非活性气体(例如氩气、氮气、CO、CO2、及它们的混合气体)进行溅射来形成。由于第1氧化物层及第2氧化物层均包含SiO2,因此第1氧化物层与第2氧化物层的密合性非常优异。由此,为了在第1氧化物层与第2氧化物层的界面表现充分的阻隔功能,第1氧化物层的厚度如上所述优选为10nm以上。作为其理由,是因为,能够充分减小作为成长初期膜的所谓起始层的比率,能够形成具有目标物性的氧化物层。另外,第1氧化物层与第2氧化物层的总厚度优选为200nm以下、更优选为140nm以下。
G.层叠薄膜的用途
本发明的层叠薄膜例如可以适宜作为图像显示装置、电子纸、太阳能电池的阻隔层(阻隔薄膜)使用。更详细而言,本发明的层叠薄膜可以适宜作为液晶显示装置、有机EL显示装置、有机发光显示元件、电泳方式显示元件、调色剂显示元件、薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池等的阻隔层(阻隔薄膜)使用。本发明的层叠薄膜可以作为优选有机EL显示装置、更优选能弯曲的有机EL显示装置的阻隔层(阻隔薄膜)使用。
[实施例]
以下,通过实施例具体地对本发明进行说明,但本发明并不受这些实施例限定。需要说明的是,各特性的测定方法如下。
(1)厚度
对于第1氧化物层及第2氧化物层的厚度,使用透射型电子显微镜(日立制作所制H-7650)观察截面,进行测定。基材的厚度使用膜厚计(Peacock公司制数字千分表DG-205)进行测定。
(2)透湿度
将实施例及比较例中得到的层叠薄膜切成10cmΦ的圆状,作为测定试样。对该测定试样使用テクノロックス社制“DELTAPERM”在40℃、90%RH的试验条件下测定透湿度。
(3)热收缩率
将实施例及比较例中得到的层叠薄膜切成100mm×100mm尺寸,作为测定试样。将该测定试样在95℃的烘箱保管1000小时,测定保管前后的测定试样的尺寸,根据下式算出热收缩率。
热收缩率(%)={(保管前的尺寸-保管后的尺寸)/(保管前的尺寸)}×100
(4)耐热性
将实施例及比较例中得到的层叠薄膜切成100mm×100mm尺寸,作为测定试样。将该测定试样在95℃的烘箱保管1000小时,测量保管后的透湿度,按照以下的基准进行评价。
○:透湿度为1.0×10-2g/m2/24hr以下
×:透湿度超过1.0×10-2g/m2/24hr
<实施例1>
作为基材,使用环烯烃聚合物长条薄膜(Zeon Corporation制、商品名“ZEONOR”(注册商标)、厚度100μm、面内相位差10nm)。对该薄膜进行拉伸,制作面内相位差为140nm的λ/4板。在拉伸薄膜的一个面涂布包含紫外线固化型树脂(DIC株式会社制的多官能聚丙烯酸酯、制品名“UNIDIC”)和微粒(积水树脂株式会社制的交联丙烯酸-苯乙烯系树脂微粒、制品名“SSX105”、直径3μm)的硬涂剂,照射紫外线而使涂布膜固化,形成具有抗粘连功能的第1硬涂层。第1硬涂层具有平坦部(厚度1μm)和与微粒相对应地随机分布的凸部。凸部的分布密度为205个/mm2。第1硬涂层的表面的算术平均粗糙度Ra为0.008μm、最大高度Rz为0.8μm。进而,在基材的另一个面使用不含微粒的硬涂材料,除此以外,与第1硬涂层同样地操作,形成通常的硬涂层即第2硬涂层。第2硬涂层的厚度为1μm。如此操作,制作具有第1硬涂层/基材/第2硬涂层的构成的层叠体(以下也称为基材层叠体)。
另一方面,使用包含Al、SiO2及ZnO的溅射靶,通过DC磁控溅射法在基材层叠体的第2硬涂层表面形成第1氧化物层(厚度30nm)。接着,使用Si靶,在第1硬涂层/基材/第2硬涂层/第1氧化物层的层叠体的第1氧化物层上形成第2氧化物层(50nm)。如此操作,制作具有第1硬涂层/基材/第2硬涂层/第1氧化物层(AZO)/第2氧化物层(SiO2)的构成的层叠薄膜。将所得层叠薄膜供于上述(2)~(4)的评价。将结果示于表1。
<实施例2>
作为基材,使用市售的PET长条薄膜(三菱树脂株式会社制、商品名“DIAFOIL”、厚度100μm),并且,将第1硬涂层制成通常的硬涂层(厚度0.3μm),除此以外,与实施例1同样地操作,制作层叠薄膜。将所得层叠薄膜供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<比较例1>
不形成第1硬涂层及第2硬涂层二者,除此以外,与实施例1同样地操作,制作具有基材/第1氧化物层/第2氧化物层的构成的层叠薄膜。将所得层叠薄膜供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<比较例2>
不形成第1硬涂层及第2硬涂层二者,除此以外,与实施例2同样地操作,制作具有基材/第1氧化物层/第2氧化物层的构成的层叠薄膜。将所得层叠薄膜供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
[表1]
构成 热收缩率 耐热性
实施例1 第1氧化物/第2氧化物/第2HC/基材/第1HC(AB) 0.05%
实施例2 第1氧化物/第2氧化物/第2HC/基材/第1HC 0.22%
比较例1 第1氧化物/第2氧化物/基材 0.6% ×
比较例2 第1氧化物/第2氧化物/基材 0.9% ×
*HC是指硬涂层,AB是指抗粘连
<评价>
根据表1明确可知,通过在基材的两侧设置硬涂层,热收缩率及耐热性(1000小时后)显著得到改善。需要说明的是,实际上确认了具有基材、第1氧化物层和第2氧化物层的层叠薄膜具有优异的透湿性、阻气性、耐化学药品性、透明性及弯曲性。因此,根据本发明的实施例,通过在基材的两侧设置硬涂层,能够维持具有基材、第1氧化物层和第2氧化物层的层叠薄膜的优异的特性、并且实现非常优异的热收缩率及耐热性。
产业上的可利用性
本发明的层叠薄膜例如可适宜作为图像显示装置、电子纸、太阳能电池的阻隔层(阻隔薄膜)使用。更详细而言,本发明的层叠薄膜适宜作为液晶显示装置、有机EL显示装置、有机发光显示元件、电泳方式显示元件、调色剂显示元件、薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池等的阻隔层(阻隔薄膜)使用。本发明的层叠薄膜可以作为优选有机EL显示装置、更优选能弯曲的有机EL显示装置的阻隔层(阻隔薄膜)使用。
附图标记说明
10 基材
20 第1氧化物层
30 第2氧化物层
40 第1硬涂层
50 第2硬涂层
100 层叠薄膜

Claims (4)

1.一种层叠薄膜,其依次具有:第1硬涂层;基材;第2硬涂层;包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层;以及由SiO2构成的第2氧化物层。
2.根据权利要求1所述的层叠薄膜,其中,所述第1硬涂层还具有抗粘连功能。
3.根据权利要求1或2所述的层叠薄膜,其在95℃下加热1000小时后的收缩率为0.5%以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的层叠薄膜,其在95℃下加热1000小时后的透湿度为3.0×10-2g/m2/24hr以下。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113495305A (zh) * 2020-03-19 2021-10-12 精工爱普生株式会社 多透镜阵列、光源装置以及投影仪

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3700743A4 (en) * 2017-10-27 2021-08-11 Applied Materials, Inc. SOFT COVERING LENS FILMS

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006231644A (ja) * 2005-02-24 2006-09-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイ
CN101424766A (zh) * 2007-10-31 2009-05-06 住友化学株式会社 偏振片的制造方法
JP2010094863A (ja) * 2008-10-15 2010-04-30 Dainippon Printing Co Ltd 表示素子用ガスバリア性基板及び表示装置
JP2010221595A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルムおよびガスバリア性フィルムの製造方法
JP2013047363A (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 Mitsubishi Materials Corp スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート
WO2015111572A1 (ja) * 2014-01-27 2015-07-30 東レ株式会社 ガスバリア性フィルム
JP2015186922A (ja) * 2015-04-30 2015-10-29 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよび電子デバイス

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013061726A1 (ja) * 2011-10-28 2013-05-02 東レ株式会社 ガスバリア性フィルム
WO2015029623A1 (ja) * 2013-08-27 2015-03-05 リンテック株式会社 ハードコート積層体およびその製造方法
JP6381354B2 (ja) * 2013-09-19 2018-08-29 日本合成化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及びコーティング剤組成物
EP3127696B1 (en) * 2014-03-31 2024-05-01 LINTEC Corporation Elongated gas barrier laminate and method for producing same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006231644A (ja) * 2005-02-24 2006-09-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイ
CN101424766A (zh) * 2007-10-31 2009-05-06 住友化学株式会社 偏振片的制造方法
JP2010094863A (ja) * 2008-10-15 2010-04-30 Dainippon Printing Co Ltd 表示素子用ガスバリア性基板及び表示装置
JP2010221595A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルムおよびガスバリア性フィルムの製造方法
JP2013047363A (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 Mitsubishi Materials Corp スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート
WO2015111572A1 (ja) * 2014-01-27 2015-07-30 東レ株式会社 ガスバリア性フィルム
JP2015186922A (ja) * 2015-04-30 2015-10-29 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよび電子デバイス

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113495305A (zh) * 2020-03-19 2021-10-12 精工爱普生株式会社 多透镜阵列、光源装置以及投影仪
CN113495305B (zh) * 2020-03-19 2023-02-28 精工爱普生株式会社 多透镜阵列、光源装置以及投影仪

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