KR20180108622A - 적층 필름 - Google Patents

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KR20180108622A KR1020187021637A KR20187021637A KR20180108622A KR 20180108622 A KR20180108622 A KR 20180108622A KR 1020187021637 A KR1020187021637 A KR 1020187021637A KR 20187021637 A KR20187021637 A KR 20187021637A KR 20180108622 A KR20180108622 A KR 20180108622A
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coat layer
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KR1020187021637A
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고다이 미야모토
도모타케 나시키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

우수한 투습성 및 가스 배리어성, 우수한 내약품성, 투명성 및 굴곡성을 갖고, 또한, 매우 우수한 내열성을 갖는 적층 필름이 제공된다. 본 발명의 적층 필름은, 제 1 하드 코트층과, 기재와, 제 2 하드 코트층과, ZnO, Al 및 SiO2 를 포함하는 제 1 산화물층과, SiO2 로 구성된 제 2 산화물층을 이 순서로 갖는다. 하나의 실시형태에 있어서는, 적층 필름은, 95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 수축률이 0.5 ％ 이하이고, 95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 투습도가 3.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하이다.

Description

적층 필름
본 발명은 적층 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 하드 코트층으로 협지 (挾持) 된 기재 상에 2 개의 산화물층을 갖는 적층 필름에 관한 것이다.
종래, 화상 표시 장치 (예를 들어, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로루미네선스 (EL) 표시 장치) 나 태양 전지 (예를 들어, 필름형 태양 전지, 박막 태양 전지) 에는, 배리어 필름이 사용되고 있다. 이와 같은 배리어 필름의 개발에 있어서, 제막 (製膜) 속도가 빠르고, 굴절률이 낮고, 양호한 가스 배리어성을 갖는 배리어 필름으로서, Al-Zn-O (알루미늄 첨가 산화아연) 막에 SiO2 를 첨가한 투명 산화물막 (필름) 이 제안되어 있다 (특허문헌 1). 그러나, 이 투명 산화물막은, 내약품성 (예를 들어, 내산성, 내알칼리성) 이 매우 불충분하고, 또한, 투명성에 대해서도 개선이 요망되고 있다. 게다가, 배리어 필름은 통상적으로 투명 산화물막을 지지하는 기재를 갖는 바, 가열 환경하에 있어서는 기재의 수축에 의해 투명 산화물막에 크랙이 발생하고, 배리어 필름의 배리어성이 손상되는 경우가 있다.
일본 공개특허공보 2013-189657호
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 우수한 투습성 및 가스 배리어성, 우수한 내약품성, 투명성 및 굴곡성을 갖고, 또한, 매우 우수한 내열성을 갖는 적층 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 적층 필름은, 제 1 하드 코트층과, 기재와, 제 2 하드 코트층과, ZnO, Al 및 SiO2 를 포함하는 제 1 산화물층과, SiO2 로 구성된 제 2 산화물층을 이 순서로 갖는다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 제 1 하드 코트층은, 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 적층 필름은, 95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 수축률이 0.5 ％ 이하이다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 적층 필름은, 95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 투습도가 3.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하이다.
본 발명의 실시형태에 의하면, 기재와 제 1 산화물층과 제 2 산화물층을 갖는 적층 필름에 있어서, 기재의 양측에 하드 코트층을 형성함으로써, 이와 같은 적층 필름의 우수한 특성 (투습성, 가스 배리어성, 내약품성, 투명성 및 굴곡성) 을 유지하면서, 매우 우수한 내열성을 실현할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 적층 필름의 개략 단면도이다.
이하, 본 발명의 대표적인 실시형태에 대해서 설명하는데, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다.
A. 적층 필름의 전체 구성
도 1 은, 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 적층 필름의 개략 단면도이다. 본 실시형태의 적층 필름 (100) 은, 제 1 하드 코트층 (40) 과, 기재 (10) 와, 제 2 하드 코트층 (50) 과, 제 1 산화물층 (20) 과, 제 2 산화물층 (30) 을 이 순서로 갖는다. 즉, 본 발명의 실시형태에 의하면, 기재와 제 1 산화물층과 제 2 산화물층을 갖는 적층 필름에 있어서, 기재가 제 1 하드 코트층 및 제 2 하드 코트층으로 협지되어 있다. 이와 같은 구성이면, 열에 의한 기재의 치수 변화 (대표적으로는, 기재의 열수축) 를 양호하게 억제할 수 있다. 그 결과, 가열 환경하에 있어서의 기재의 수축에 의한 제 1 및/또는 제 2 산화물층의 크랙을 양호하게 방지할 수 있고, 결과적으로, 가열 환경하에 있어서도 적층 필름의 배리어성을 양호하게 유지할 수 있다. 따라서, 기재와 제 1 산화물층과 제 2 산화물층을 갖는 적층 필름의 우수한 특성 (투습성, 가스 배리어성, 내약품성, 투명성 및 굴곡성) 을 유지하면서, 매우 우수한 내열성을 실현할 수 있다.
제 1 하드 코트층 (40) 의 두께는, 바람직하게는 0.3 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이다. 제 2 하드 코트층 (50) 의 두께는, 바람직하게는 0.3 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이다. 대표적으로는, 제 1 하드 코트층 (40) 및 제 2 하드 코트층 (50) 의 적어도 일방은, 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는다. 예를 들어, 제 1 하드 코트층 (40) 이 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는 하드 코트층이고, 제 2 하드 코트층 (50) 이 통상적인 하드 코트층일 수 있다.
제 1 산화물층 (20) 은, ZnO, Al 및 SiO2 를 포함한다. 제 2 산화물층 (30) 은, SiO2 로 구성되어 있다. 제 1 산화물층 (20) 의 두께는, 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이다. 제 2 산화물층 (30) 의 두께는, 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이다.
적층 필름은, 수분 및 가스 (예를 들어 산소) 에 대한 배리어성을 갖는다. 적층 필름의 40 ℃, 90 ％RH 조건 아래에서의 수증기 투과율 (투습도) 은, 바람직하게는 1.0 × 10-1 g/㎡/24 hr 미만이다. 배리어성의 관점에서는, 투습도의 하한은 낮을수록 바람직하다. 투습도의 측정 한계는, 예를 들어 0.1 × 10-6 g/㎡/24 hr 정도이다. 하나의 실시형태에 있어서는, 디바이스 구성물로부터 시간 경과적으로 발생하는 아웃 가스 (예를 들어, 태양 전지 봉지 (封止) 수지 (EVA) 의 가수 분해에 의해 발생하는 아세트산) 를 방출한다는 관점에서, 투습도의 하한은, 예를 들어 0.1 × 10-4 g/㎡/24 hr 이다. 투습도의 바람직한 상한은, 용도에 따라 변동될 수 있다. 투습도의 상한은, 예를 들어 실내의 화상 표시 장치 (예를 들어, PC 디스플레이) 용도에서는 5.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이고, 옥외의 화상 표시 장치 (디지털 사이니지) 용도에서는 3.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이고, 차재 디스플레이 등의 실내 과혹 환경 용도에서는 1.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이다. 적층 필름의 60 ℃, 90 ％RH 조건 아래에서의 가스 배리어성은, 바람직하게는 1.0 × 10-7 g/㎡/24 hr ∼ 0.5 g/㎡/24 hr 이고, 보다 바람직하게는 1.0 × 10-7 g/㎡/24 hr ∼ 0.1 g/㎡/24 hr 이다. 투습도 및 가스 배리어성이 이와 같은 범위이면, 적층 필름을 대상물 (예를 들어, 화상 표시 장치, 태양 전지) 에 첩합 (貼合) 한 경우에, 당해 대상물을 공기 중의 수분 및 산소로부터 양호하게 보호할 수 있다. 또한, 투습도 및 가스 배리어성은 모두, JIS K7126-1 에 준하여 측정될 수 있다.
적층 필름은, 95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 수축률이 바람직하게는 0.5 ％ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.2 ％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.1 ％ 이하이다. 기재를 2 개의 하드 코트층으로 협지하는 구성을 채용함으로써, 이와 같이 매우 우수한 가열시의 열수축률을 실현할 수 있다. 또한, 열수축률은, JIS K 7133 에 준하여 측정될 수 있다.
적층 필름은, 95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 투습도가 바람직하게는 3.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하이고, 보다 바람직하게는 2.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하이다. 기재를 2 개의 하드 코트층으로 협지하는 구성을 채용함으로써, 기재의 열수축이 억제되고, 따라서, 상기와 같이 적층 필름 전체의 가열시의 열수축이 매우 우수한 (매우 작은) 것이 된다. 그 결과, 가열 환경하에 있어서의 기재의 수축에 의한 제 1 및/또는 제 2 산화물층의 크랙을 양호하게 방지할 수 있고, 이와 같은 가열 후의 투습도를 실현할 수 있다. 또한, 적층 필름은, 95 ℃ 에서 바람직하게는 500 시간, 보다 바람직하게는 600 시간, 더욱 바람직하게는 700 시간 가열해도 투습도가 1.0 × 10-1 g/㎡/24 hr 미만인 내열성을 갖는다.
적층 필름은, 가시광 (예를 들어, 파장 550 ㎚ 의 광) 의 전광선 투과율이 바람직하게는 84 ％ 이상이고, 보다 바람직하게는 87 ％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 90 ％ 이상이다. 본 발명에 의하면, ZnO, Al 및 SiO2 를 포함하는 제 1 산화물층 (이하, AZO 막이라고 칭하는 경우가 있다) 과 SiO2 로 구성된 제 2 산화물층의 적층 구조를 채용함으로써, AZO 막 단독보다 두께가 두꺼워짐에도 불구하고 AZO 막 단독의 구성보다 투명성을 증대시킬 수 있다. 그 결과, 적층 필름은 시인성을 저해하지 않기 때문에, 화상 표시 장치의 배리어 필름으로서 매우 적합하게 사용할 수 있다.
적층 필름은, 바람직하게는 내약품성을 갖는다. 보다 상세하게는, 적층 필름은, 바람직하게는 내산성 및 내알칼리성을 갖는다. 본 명세서에 있어서 「내산성」 이란, 2 ％ 의 염산 용액 (pH 0.3) 을 적층 필름에 적하하고, 10 분 후에 염산 용액을 닦아낸 후의 투습도가 1.0 × 10-1 g/㎡/24 hr 미만인 것을 말한다. 또, 「내알칼리성」 이란, 2 ％ 의 수산화나트륨 용액 (pH 13.7) 을 적층 필름에 적하하고, 10 분 후에 수산화나트륨 용액을 닦아낸 후의 투습도가 1.0 × 10-1 g/㎡/24 hr 미만인 것을 말한다. 상기와 같은 원하는 배리어성 및 투명성을 유지하면서, 이와 같은 우수한 내약품성을 실현한 것이, 본 발명의 성과의 하나이다.
적층 필름은, 바람직하게는 곡률 반경 7 ㎜, 보다 바람직하게는 곡률 반경 5 ㎜ 로 굴곡해도 균열 및 크랙이 발생하지 않는 굴곡성을 갖는다. 상기 소정의 제 1 산화물층과 제 2 산화물층의 적층 구조를 채용함으로써, 우수한 내약품성과 우수한 굴곡성 및 내열성 (후술) 을 양립할 수 있다.
하나의 실시형태에 있어서는, 본 발명의 적층 필름은 장척상 (長尺狀) 이다. 장척상의 적층 필름은, 예를 들어, 롤상으로 권회되어 보관 및/또는 운반될 수 있다. 적층 필름은 굴곡성이 우수하므로, 롤상으로 권회되어도 문제는 발생하지 않는다.
이하, 적층 필름의 구성 요소에 대해서 설명한다.
B. 기재
기재 (10) 는, 바람직하게는 투명하다. 기재는, 가시광 (예를 들어, 파장 550 ㎚ 의 광) 의 전광선 투과율이, 바람직하게는 85 ％ 이상이고, 보다 바람직하게는 90 ％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 95 ％ 이상이다.
기재 (10) 는, 하나의 실시형태에 있어서는, 광학적으로 등방성이다. 이와 같은 구성이면, 적층 필름을 화상 표시 장치에 적용한 경우에 당해 화상 표시 장치의 표시 특성에 대한 악영향을 방지할 수 있다. 본 명세서에 있어서 「광학적으로 등방성」 이란, 면내 위상차 Re(550) 이 0 ㎚ ∼ 10 ㎚ 이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550) 이 ―10 ㎚ ∼ ＋10 ㎚ 인 것을 말한다. 기재의 면내 위상차 Re(550) 은 바람직하게는 0 ㎚ ∼ 5 ㎚ 이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550) 은 바람직하게는 ―5 ㎚ ∼ ＋5 ㎚ 이다. 또한, 「Re(550)」 은, 23 ℃ 에 있어서의 파장 550 ㎚ 의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이고, 필름의 두께를 d (㎚) 로 했을 때, 식：Re = (nx ― ny) × d 에 의해 구해진다. 「Rth(550)」 은, 23 ℃ 에 있어서의 파장 550 ㎚ 의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이고, 필름의 두께를 d (㎚) 로 했을 때, 식：Rth = (nx ― nz) × d 에 의해 구해진다. 여기서, 「nx」 는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향 (즉, 지상축 방향) 의 굴절률이고, 「ny」 는 면내에서 지상축과 직교하는 방향 (즉, 진상축 방향) 의 굴절률이고, 「nz」 는 두께 방향의 굴절률이다.
기재의 평균 굴절률은, 바람직하게는 1.7 미만이고, 보다 바람직하게는 1.59 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.4 ∼ 1.55 이다. 평균 굴절률이 이와 같은 범위이면, 이면 반사를 억제할 수 있고, 높은 광 투과율을 달성할 수 있다는 이점을 갖는다.
기재의 150 ℃ 에서 90 분 가열 후의 열수축률은, 바람직하게는 0.01 ％ ∼ 1 ％ 이고, 보다 바람직하게는 0.2 ％ ∼ 0.5 ％ 이다.
기재를 구성하는 재료로는, 상기 특성을 만족할 수 있는 임의의 적절한 재료를 사용할 수 있다. 기재를 구성하는 재료로는, 예를 들어, 노르보르넨계 수지나 올레핀계 수지 등의 공액계를 갖지 않는 수지, 락톤 고리나 글루타르이미드 고리 등의 고리형 구조를 아크릴계 주사슬 중에 갖는 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지를 들 수 있다. 이와 같은 재료이면, 기재를 형성했을 때에, 분자 사슬의 배향에 수반하는 위상차의 발현을 작게 억제할 수 있다.
기재는, 다른 실시형태에 있어서는, 소정의 위상차를 가지고 있어도 된다. 예를 들어, 기재가 이른바 λ/4 판으로서 기능할 수 있는 면내 위상차를 가지고 있어도 된다. 이와 같은 구성이면, 위상차 층을 별도 배치하는 일 없이, 적층 필름에 양호한 원 편광 기능이 부여되므로, 적층 필름이 화상 표시 장치의 배리어 필름으로서 뿐만 아니라 반사 방지 필름으로서도 양호하게 기능할 수 있다. 이 경우, 기재의 지상축과 화상 표시 장치에 사용되는 편광자의 흡수축이 이루는 각도는, 대표적으로는 약 45° 이다. 이와 같은 기재는, 예를 들어, 노르보르넨계 수지나 폴리카보네이트계 수지의 필름을 적절한 조건으로 연신함으로써 형성될 수 있다.
기재의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 20 ㎛ ∼ 35 ㎛ 이하이다.
C. 제 1 하드 코트층
제 1 하드 코트층 (40) 은, 대표적으로는, 활성 에너지선 경화형 수지로부터 형성된다. 활성 에너지선으로는, 예를 들어, 자외선, 가시광선, 열, 전자선을 들 수 있다. 바람직하게는, 자외선 경화형 수지가 사용될 수 있다. 자외선 경화형 수지로는, 임의의 적절한 수지를 사용할 수 있다. 구체예로는, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지는, 자외선 경화형의 모노머, 올리고머, 폴리머를 포함한다. 자외선 경화형 수지의 대표 예로는, 글리시딜아크릴레이트계 중합체에 아크릴산을 부가 반응시킨 폴리머, 혹은, 다관능 아크릴레이트 중합체 (펜타에리트리톨이나 디펜타에리트리톨 등) 를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지 (자외선 경화형 수지 조성물) 는, 바람직하게는, 중합 개시제 (대표적으로는, 광 중합 개시제) 를 추가로 포함할 수 있다.
제 1 하드 코트층의 두께는, 상기한 바와 같이 바람직하게는 0.3 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.8 ㎛ ∼ 3 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 2 ㎛ 이다.
제 1 하드 코트층의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 100 ℃ ∼ 200 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 110 ℃ ∼ 180 ℃ 이다. 이와 같은 범위이면, 내열성이 우수하고, 고온에서의 치수 안정성이 우수한 적층 필름 (배리어 필름) 을 얻을 수 있다.
제 1 하드 코트층은, JIS K5600-5-4 에 있어서의 연필 경도가, 바람직하게는 3 H 이상 6 H 이하이다. 제 1 하드 코트층이 이 범위에 있음으로써, 기재에 흠집이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 계속해서 적층되는 산화물층을 양호하게 보호할 수 있다.
제 1 하드 코트층이 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는 실시형태에 있어서는, 제 1 하드 코트층은, 층 중에 분산된 미립자를 추가로 포함한다. 미립자는, 유기 미립자여도 되고, 무기 미립자여도 되며, 유기 무기 하이브리드 미립자여도 된다. 미립자는, 예를 들어, 아크릴 폴리머, 실리콘 폴리머, 스티렌 폴리머, 또는 무기 실리카로 구성될 수 있다. 미립자의 형상은, 임의의 적절한 형상이 채용될 수 있다. 구체예로는, 구상 (球狀), 타원 구상, 인편상 (鱗片狀), 부정형을 들 수 있다. 미립자의 사이즈는, 상기의 제 1 하드 코트층의 두께보다 크다. 그 결과, 미립자가 존재하는 위치에 볼록부가 형성되어, 양호한 안티 블로킹 기능이 부여될 수 있다. 미립자의 사이즈는, 미립자가 구상인 경우에는 직경이고, 구상이 아닌 경우에는 높이 (제 1 하드 코트층의 두께 방향에 있어서의 길이) 이다. 미립자의 사이즈는, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 1.5 ㎛ ∼ 3.5 ㎛ 이다. 미립자의 사이즈는, 바람직하게는 최빈 입자경 (입경 분포의 극대값을 나타내는 입경) 이다. 미립자의 함유량은, 제 1 하드 코트층의 총중량의 바람직하게는 0.05 중량％ ∼ 3 중량％ 이다. 이와 같은 범위이면, 압착이 양호하게 방지될 수 있다.
제 1 하드 코트층이 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는 실시형태에 있어서는, 제 1 하드 코트층에 있어서의 볼록부의 분포 밀도는, 바람직하게는 100 개/㎟ ∼ 2000 개/㎟ 이고, 보다 바람직하게는 100 개/㎟ ∼ 1000 개/㎟ 이다. 이와 같은 범위이면, 양호한 안티 블로킹 기능이 실현될 수 있다.
제 1 하드 코트층이 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는 실시형태에 있어서는, 제 1 하드 코트층의 표면의 산술 평균 조도 Ra 는, 바람직하게는 0.005 ㎛ ∼ 0.05 ㎛ 이다. 제 1 하드 코트층의 표면의 최대 높이 Rz 는, 바람직하게는 0.5 ㎛ ∼ 2.5 ㎛ 이다. 산술 평균 조도 및 최대 높이가 이와 같은 범위이면, 양호한 안티 블로킹 기능이 실현될 수 있다.
제 1 하드 코트층의 기재와 반대측의 표면에는, 굴절률 조정층 (인덱스 매칭 (IM) 층) 이 형성되어도 된다. IM 층에 대해서는, 업계에서 주지의 구성이 채용될 수 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.
D. 제 2 하드 코트층
제 2 하드 코트층은, 주로, 기재의 열수축을 제 1 산화물층 및 제 2 산화물층으로 전달하지 않는다는 기능을 갖는다.
제 2 하드 코트층의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 95 ℃ ∼ 200 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 110 ℃ ∼ 180 ℃ 이다. 이와 같은 범위이면, 기재의 열수축이 제 1 산화물층 및 제 2 산화물층에 잘 전달되지 않기 때문에, 가열 환경하에 있어서도 배리어성을 양호하게 유지할 수 있다.
제 2 하드 코트층의 25 ℃ 에 있어서의 인장 탄성률은, 바람직하게는 2.5 ㎬ ∼ 20 ㎬ 이고, 보다 바람직하게는 3 ㎬ ∼ 15 ㎬ 이고, 더욱 바람직하게는 3.5 ㎬ ∼ 10 ㎬ 이다. 하드 코트층의 인장 탄성률이 이와 같은 범위이면, 치수 안정성이 우수한 적층체를 얻을 수 있다. 또한, 인장 탄성률은, JIS K7161 에 준하여 측정할 수 있다.
제 2 하드 코트층의 50 ℃ ∼ 250 ℃ 에 있어서의 선열팽창 계수는, 바람직하게는 0/℃ ∼ 100 × 10-6/℃ 이고, 보다 바람직하게는 0/℃ ∼ 50 × 10-6/℃ 이다. 하드 코트층의 선열팽창 계수가 이와 같은 범위이면, 고온하에서의 치수 안정성이 우수한 적층체를 얻을 수 있다. 또한, 하드 코트층의 선팽창 계수는, 기재의 선팽창 계수보다 높은 것이 바람직하다.
제 2 하드 코트층의 흡수율은, 바람직하게는 0 ％ ∼ 1 ％ 이고, 보다 바람직하게는 0 ％ ∼ 0.5 ％ 이다. 하드 코트층의 흡수율이 이와 같은 범위이면, 고습하에서의 치수 안정성이 우수한 적층체를 얻을 수 있다. 또한, 흡수율은, JIS K7209 에 준하여 측정할 수 있다.
제 2 하드 코트층의 재료, 두께 및 특성, 그리고, 안티 블로킹 기능을 갖는 경우의 구성에 대해서는, 제 1 하드 코트층에 관해서 C 항에서 설명한 것으로부터, 상기와 같은 특성을 갖는 것이 적절히 선택될 수 있다.
또한, 하드 코트층의 상세한 내용에 대해서는, 예를 들어, 일본 특허 제5230788호 명세서에 기재되어 있다. 당해 특허의 기재는, 본 명세서에 참고로서 원용된다.
E. 제 1 산화물층
제 1 산화물층 (20) 은, 상기한 바와 같이, ZnO, Al 및 SiO2 를 포함한다. 제 1 산화물층은, 전체 중량에 대해서, Al 을 바람직하게는 2.5 중량％ ∼ 3.5 중량％, SiO2 를 바람직하게는 20.0 중량％ ∼ 62.4 중량％ 의 비율로 포함한다. ZnO 는, 바람직하게는 잔량이다. ZnO 를 이와 같은 범위로 함유함으로써, 비정성 (非晶性), 배리어성, 굴곡성 및 내열성이 우수한 층을 형성할 수 있다. Al 을 이와 같은 범위로 함유함으로써, 제 1 산화물층은 대표적으로는 스퍼터링으로 형성되는 바, 타겟의 도전율을 증대시킬 수 있다. SiO2 를 이와 같은 범위로 함유함으로써, 이상 방전을 발생시키는 일 없이, 또한, 배리어성을 저해하는 일 없이, 제 1 산화물층의 굴절률을 작게 할 수 있다.
제 1 산화물층의 두께는, 상기한 바와 같이 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 60 ㎚ 이고, 더욱 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 40 ㎚ 이다. 두께가 이와 같은 범위이면, 높은 광 투과성과 우수한 배리어성을 양립할 수 있다는 이점을 갖는다.
제 1 산화물층의 평균 굴절률은, 바람직하게는 1.59 ∼ 1.80 이다. 평균 굴절률이 이와 같은 범위이면, 높은 광 투과성을 달성할 수 있다는 이점을 갖는다.
제 1 산화물층은, 바람직하게는 투명하다. 제 1 산화물층은, 가시광 (예를 들어, 파장 550 ㎚ 의 광) 의 전광선 투과율이, 바람직하게는 85 ％ 이상이고, 보다 바람직하게는 90 ％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 95 ％ 이상이다.
제 1 산화물층은, 대표적으로는 스퍼터링에 의해 기재 상에 형성될 수 있다. 제 1 산화물층은, 예를 들어, Al, SiO2 및 ZnO 를 포함하는 스퍼터링 타겟을 사용하고, 산소를 함유시킨 불활성 가스 분위기하에 있어서, 스퍼터링법에 의해 형성될 수 있다. 스퍼터링 방법으로는, 마그네트론 스퍼터링법, RF 스퍼터링법, RF 중첩 DC 스퍼터링법, 펄스 스퍼터법, 듀얼 마그네트론 스퍼터링법 등을 채용할 수 있다. 기판의 가열 온도는 예를 들어 ―8 ℃ ∼ 200 ℃ 이다. 산소와 불활성 가스의 분위기 가스 전체에 대한 산소의 가스 분압은, 예를 들어 0.05 이상이다.
제 1 산화물층을 구성하는 AZO 막 및 그 제조 방법의 상세한 내용에 대해서는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2013-189657호에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는, 본 명세서에 참고로서 원용된다.
F. 제 2 산화물층
제 2 산화물층 (30) 은, 상기한 바와 같이, SiO2 로 구성된다 (불가피 불순물도 포함될 수 있다). 이와 같은 제 2 산화물층을 제 1 산화물층의 표면에 형성함으로써, 제 1 산화물층에 의한 양호한 특성을 유지하면서, 적층 필름의 내약품성 및 투명성을 현격히 향상시킬 수 있다. 또한, 제 2 산화물층은 저굴절률층으로서 기능할 수 있으므로, 적층 필름에 양호한 반사 방지 특성을 부여할 수 있다.
제 2 산화물층의 두께는, 상기한 바와 같이 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 50 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이고, 더욱 바람직하게는 60 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이다. 두께가 이와 같은 범위이면, 높은 광 투과성과 우수한 배리어성과 우수한 내약품성을 양립할 수 있다는 이점을 갖는다.
제 2 산화물층의 평균 굴절률은, 바람직하게는 1.44 ∼ 1.50 이다. 그 결과, 제 2 산화물층은, 저굴절률층 (반사 방지층) 으로서 양호하게 기능할 수 있다.
제 2 산화물층은, 바람직하게는 투명하다. 제 2 산화물층은, 가시광 (예를 들어, 파장 550 ㎚ 의 광) 의 전광선 투과율이, 바람직하게는 85 ％ 이상이고, 보다 바람직하게는 90 ％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 95 ％ 이상이다.
제 2 산화물층은, 대표적으로는 스퍼터링에 의해 제 1 산화물층 상에 형성될 수 있다. 제 2 산화물층은, 예를 들어, Si, SiC, SiN 또는 SiO 를 타겟으로 하고, 산소를 함유한 불활성 가스 (예를 들어, 아르곤, 질소, CO, CO2, 및 이들의 혼합 가스) 를 사용하여 스퍼터를 실시함으로써 형성될 수 있다. 제 1 산화물층 및 제 2 산화물층은 모두 SiO2 를 포함하므로, 제 1 산화물층과 제 2 산화물층의 밀착성은 매우 우수한 것이 된다. 이로부터, 제 1 산화물층과 제 2 산화물층의 계면에서 충분한 배리어 기능을 발현시키기 위해서는, 제 1 산화물층의 두께는, 상기한 바와 같이 10 ㎚ 이상인 것이 바람직하다. 그 이유로는, 성장 초기막인, 이른바 인큐베이션 레이어의 비율을 충분히 작게 할 수 있어, 목적으로 하는 물성을 갖는 산화물층을 형성할 수 있기 때문이다. 또, 제 1 산화물층과 제 2 산화물층의 토탈 두께는, 바람직하게는 200 ㎚ 이하이고, 보다 바람직하게는 140 ㎚ 이하이다.
G. 적층 필름의 용도
본 발명의 적층 필름은, 예를 들어, 화상 표시 장치, 전자 페이퍼, 태양 전지의 배리어층 (배리어 필름) 으로서 적합하게 사용될 수 있다. 보다 상세하게는, 본 발명의 적층 필름은, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 유기 발광 표시 소자, 전기 영동 방식 표시 소자, 토너 표시 소자, 필름형 태양 전지, 박막 태양 전지 등의 배리어층 (배리어 필름) 으로서 적합하게 사용될 수 있다. 본 발명의 적층 필름은, 바람직하게는 유기 EL 표시 장치, 보다 바람직하게는 굴곡 가능한 유기 EL 표시 장치의 배리어층 (배리어 필름) 으로서 사용될 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다.
(1) 두께
제 1 산화물층 및 제 2 산화물층의 두께는, 투과형 전자 현미경 (히타치 제작소 제조 H-7650) 을 사용하여 단면 (斷面) 을 관찰하고, 측정을 실시하였다. 기재의 두께는 막두께계 (Peacock 사 제조 디지털 다이얼 게이지 DG-205) 를 사용하여 측정하였다.
(2) 투습도
실시예 및 비교예에서 얻어진 적층 필름을 10 ㎝Φ 의 원 형상으로 잘라내고, 측정 시료로 하였다. 이 측정 시료에 대해서, 테크노록스사 제조 「DELTAPERM」 을 사용하여, 40 ℃, 90 ％RH 의 시험 조건으로 투습도를 측정하였다.
(3) 열수축률
실시예 및 비교예에서 얻어진 적층 필름을 100 ㎜ × 100 ㎜ 사이즈로 잘라내고, 측정 시료로 하였다. 이 측정 시료를 95 ℃ 의 오븐에 1000 시간 보관하고, 보관 전후의 측정 시료의 치수를 계측하고, 이하의 식으로부터 열수축률을 산출하였다.
열수축률 (％) = {(보관 전의 치수 ― 보관 후의 치수) / (보관 전의 치수)} × 100
(4) 내열성
실시예 및 비교예에서 얻어진 적층 필름을 100 ㎜ × 100 ㎜ 사이즈로 잘라내고, 측정 시료로 하였다. 이 측정 시료를 95 ℃ 의 오븐에 1000 시간 보관하고, 보관 후의 투습도를 계측하고, 이하의 기준으로 평가하였다.
○：투습도가 1.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하
×：투습도가 1.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 을 초과한다
＜실시예 1＞
기재로서 시클로올레핀 폴리머 장척 필름 (닛폰 제온사 제조, 상품명 「ZEONOR」 (등록상표), 두께 100 ㎛, 면내 위상차 10 ㎚) 을 사용하였다. 이 필름을 연신하여, 면내 위상차가 140 ㎚ 인 λ/4 판을 제조하였다. 연신 필름의 일방의 면에, 자외선 경화형 수지 (DIC 사 제조의 다관능 폴리아크릴레이트, 제품명 「UNIDIC」) 와 미립자 (세키스이 수지사 제조의 가교 아크릴·스티렌계 수지 미립자, 제품명 「SSX105」, 직경 3 ㎛) 를 포함하는 하드 코트제를 도포하고, 자외선을 조사하여 도포막을 경화시키고, 안티 블로킹 기능을 갖는 제 1 하드 코트층을 형성하였다. 제 1 하드 코트층은, 평탄부 (두께 1 ㎛) 와 미립자에 대응하여 랜덤하게 분포된 볼록부를 가지고 있었다. 볼록부의 분포 밀도는 205 개/㎟ 였다. 제 1 하드 코트층의 표면의 산술 평균 조도 Ra 는 0.008 ㎛ 이고, 최대 높이 Rz 는 0.8 ㎛ 였다. 또한, 기재의 타방의 면에, 미립자를 포함하지 않는 하드 코트재를 사용한 것 이외에는 제 1 하드 코트층과 동일하게 하여, 통상적인 하드 코트층인 제 2 하드 코트층을 형성하였다. 제 2 하드 코트층의 두께는 1 ㎛ 였다. 이와 같이 하여, 제 1 하드 코트층/기재/제 2 하드 코트층의 구성을 갖는 적층체 (이하, 기재 적층체라고도 칭한다) 를 제조하였다.
한편, Al, SiO2 및 ZnO 를 포함하는 스퍼터링 타겟을 사용하여, DC 마그네트론 스퍼터링법에 의해 기재 적층체의 제 2 하드 코트층 표면에 제 1 산화물층 (두께 30 ㎚) 을 형성하였다. 다음으로, Si 타겟을 사용하여, 제 1 하드 코트층/기재/제 2 하드 코트층/제 1 산화물층의 적층체의 제 1 산화물층 상에 제 2 산화물층 (50 ㎚) 을 형성하였다. 이와 같이 하여, 제 1 하드 코트층/기재/제 2 하드 코트층/제 1 산화물층 (AZO)/제 2 산화물층 (SiO2) 의 구성을 갖는 적층 필름을 제조하였다. 얻어진 적층 필름을 상기 (2) ∼ (4) 의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
＜실시예 2＞
기재로서 시판되는 PET 장척 필름 (미츠비시 수지사 제조, 상품명 「다이아 호일」, 두께 100 ㎛) 을 사용한 것, 및, 제 1 하드 코트층을 통상적인 하드 코트층 (두께 0.3 ㎛) 으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 적층 필름을 제조하였다. 얻어진 적층 필름을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
＜비교예 1＞
제 1 하드 코트층 및 제 2 하드 코트층 어느 것도 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 기재/제 1 산화물층/제 2 산화물층의 구성을 갖는 적층 필름을 제조하였다. 얻어진 적층 필름을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
＜비교예 2＞
제 1 하드 코트층 및 제 2 하드 코트층 어느 것도 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 기재/제 1 산화물층/제 2 산화물층의 구성을 갖는 적층 필름을 제조하였다. 얻어진 적층 필름을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
Figure pct00001
＜평가＞
표 1 로부터 분명한 바와 같이, 기재의 양측에 하드 코트층을 형성함으로써, 열수축률 및 내열성 (1000 시간 후) 이 현저하게 개선되는 것을 알 수 있다. 또한, 기재와 제 1 산화물층과 제 2 산화물층을 갖는 적층 필름이, 우수한 투습성, 가스 배리어성, 내약품성, 투명성 및 굴곡성을 갖는 것은 실제로 확인하였다. 따라서, 본 발명의 실시예에 의하면, 기재의 양측에 하드 코트층을 형성함으로써, 기재와 제 1 산화물층과 제 2 산화물층을 갖는 적층 필름의 우수한 특성을 유지하면서, 매우 우수한 열수축률 및 내열성을 실현할 수 있다.
산업상 이용가능성
본 발명의 적층 필름은, 예를 들어, 화상 표시 장치, 전자 페이퍼, 태양 전지의 배리어층 (배리어 필름) 으로서 적합하게 사용될 수 있다. 보다 상세하게는, 본 발명의 적층 필름은, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 유기 발광 표시 소자, 전기 영동 방식 표시 소자, 토너 표시 소자, 필름형 태양 전지, 박막 태양 전지 등의 배리어층 (배리어 필름) 으로서 적합하게 사용될 수 있다. 본 발명의 적층 필름은, 바람직하게는 유기 EL 표시 장치, 보다 바람직하게는 굴곡 가능한 유기 EL 표시 장치의 배리어층 (배리어 필름) 으로서 사용될 수 있다.
10 ：기재
20：제 1 산화물층
30：제 2 산화물층
40：제 1 하드 코트층
50：제 2 하드 코트층
100：적층 필름

Claims (4)

  1. 제 1 하드 코트층과, 기재와, 제 2 하드 코트층과, ZnO, Al 및 SiO2 를 포함하는 제 1 산화물층과, SiO2 로 구성된 제 2 산화물층을 이 순서로 갖는, 적층 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 하드 코트층이, 안티 블로킹 기능을 추가로 갖는, 적층 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 수축률이 0.5 ％ 이하인, 적층 필름.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    95 ℃ 에서 1000 시간 가열 후의 투습도가 3.0 × 10-2 g/㎡/24 hr 이하인, 적층 필름.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4498949B2 (ja) * 2005-02-24 2010-07-07 大日本印刷株式会社 ガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイ
JP5382843B2 (ja) * 2007-10-31 2014-01-08 住友化学株式会社 偏光板の製造方法
JP5104711B2 (ja) * 2008-10-15 2012-12-19 大日本印刷株式会社 表示素子用ガスバリア性基板及び表示装置
JP2010221595A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルムおよびガスバリア性フィルムの製造方法
JP5760857B2 (ja) * 2011-08-29 2015-08-12 三菱マテリアル株式会社 スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート
EP2772353A4 (en) * 2011-10-28 2015-06-24 Toray Industries GAS BARRIER FILM
WO2015029623A1 (ja) * 2013-08-27 2015-03-05 リンテック株式会社 ハードコート積層体およびその製造方法
JP6381354B2 (ja) * 2013-09-19 2018-08-29 日本合成化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及びコーティング剤組成物
JP6465019B2 (ja) * 2014-01-27 2019-02-06 東レ株式会社 ガスバリア性フィルム
US10377870B2 (en) * 2014-03-31 2019-08-13 Lintec Corporation Elongated gas barrier laminate and method for producing same
JP5928634B2 (ja) * 2015-04-30 2016-06-01 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよび電子デバイス

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