CN108139838A - 透明导电膜、透明导电膜的制造方法以及触控传感器 - Google Patents

透明导电膜、透明导电膜的制造方法以及触控传感器 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种即使将形成有导电图案部的支撑体重叠也能够防止导电图案部受到损伤的透明导电膜。多个导电图案部(2)夹着支撑体(1)而配置在支撑体(1)的表面(1A)和背面(1B)相互重叠的位置，在支撑体(1)的宽度方向(DW)上的不同于导电图案部(2)的位置，沿支撑体(1)的输送方向形成牺牲图案部(3)，牺牲图案部(3)具有比在支撑体(1)的表面(1A)上形成的导电图案部(2)的厚度与在支撑体(1)的背面(1B)上形成的导电图案部(2)的厚度之和大的厚度。

Description

透明导电膜、透明导电膜的制造方法以及触控传感器
技术领域
本发明涉及一种透明导电膜，尤其涉及包括由金属细线形成的电极的导电图案部在支撑体的表面上形成的透明导电膜。
并且，本发明也涉及透明导电膜的制造方法以及使用了透明导电膜的触控传感器。
背景技术
以便携式信息设备为始的各种电子设备中，不断普及与液晶显示装置等显示装置组合使用，并通过与画面接触或靠近来进行对电子设备的输入操作的触控传感器。
例如，专利文献1公开了使用透明导电膜的静电电容式触控传感器，该透明导电膜在包括透明薄膜的支撑体的表面和背面由条状金属配线以相互正交的方式形成。为了提高生产性，优选以辊形态制造这种透明导电膜，专利文献1中也记载了基于辊对辊(Roll-to-roll)方式的制造方法。
即，一边输送自输送辊输送的长形的支撑体一边在支撑体的表面和背面分别形成金属配线之后，支撑体卷绕于卷取辊上。此时，如图15所示，沿输送方向DT输送的支撑体41的两个面上分别形成由金属配线形成的多个导电图案部42，多个导电图案部42以相互分离的方式切断支撑体41，由此制造多个透明导电膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-10614号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
然而，如果将在两个面上分别形成有导电图案部42的支撑体41卷绕成辊状，则如图16所示，上下重叠的导电图案部42会相互接触。此外，图16显示了沿着与输送方向DT正交的支撑体41的宽度方向DW的剖面。
并且，在利用辊对辊方式输送支撑体41时，在支撑体41的两个面上形成的导电图案部42无法避免与输送辊的表面接触。
这样，由于各导电图案部42与其他导电图案部42和输送辊等接触，有时会因支撑体41的卷缠偏移、滑移等而在导电图案部42的表面产生摩擦。若导电图案部42的表面摩擦，则导电图案部42的表面会损坏或受到变形等损伤，其结果，将透明导电膜作为触控传感器组装于模组时，可能会引起看到局部眩光的辨视性故障。这种辨视性故障成为透明导电膜的产率降低的原因，因此期望得到解决对策。
并且，辨视性故障的问题并非限于辊对辊方式。即便在例如在片状的多个支撑体上分别形成导电图案部的情况下，将在两个面上分别形成有导电图案部的支撑体重叠载置时，上下重叠的导电图案部也可能相互接触而引起辨视性故障。
本发明是为了解决这种以往的问题而完成的，其目的是提供一种即使将形成有导电图案部的支撑体重叠也能够防止导电图案部受到损伤的透明导电膜。
并且，本发明的目的也是提供这种透明导电膜的制造方法以及使用了透明导电膜的触控传感器。
用于解决技术课题的手段
本发明所涉及的透明导电膜具备：透明的支撑体；导电图案部，在支撑体的一个面上或两个面上形成且包括由金属细线形成的电极；以及牺牲图案部，在支撑体的两个面上的形成导电图案部的位置的区域以外的区域且在支撑体的一个面上或两个面上形成，支撑体的两个面上的牺牲图案部的厚度之和比支撑体的两个面上的导电图案部的厚度之和大。
此处，“支撑体的两个面上的牺牲图案部的厚度之和”设定为如下：仅在支撑体的一个面上形成牺牲图案部时，另一个面上的牺牲图案部的厚度视作0，表示在一个面上形成的牺牲图案部的厚度。同样，“支撑体的两个面上的导电图案部的厚度之和”设定为如下：仅在支撑体的一个面上形成导电图案部时，另一个面上的导电图案部的厚度视作0，表示在一个面上形成的导电图案部的厚度。
可构成为，导电图案部在支撑体的一个面上形成，牺牲图案部在支撑体的与形成导电图案部的面相同的面上或支撑体的与形成导电图案部的面相反一侧的面上或支撑体的两个面上形成。
或者，也可构成为，导电图案部在支撑体的两个面上形成，牺牲图案部在支撑体的两个面中的任意一个面上或支撑体的两个面上形成。
可以是支撑体具有长形的薄膜形状且进行辊输送，多个导电图案部沿着支撑体的输送方向，排列在与支撑体的输送方向正交的支撑体的宽度方向的预先设定的位置，牺牲图案部沿着支撑体的输送方向，且在支撑体的宽度方向上的不同于多个导电图案部的位置的、支撑体的两个面中的任意一个面上或支撑体的两个面上形成。
并且，也可以是支撑体具有长形的薄膜形状且进行辊输送，多个导电图案部沿着支撑体的输送方向，排列在与支撑体的输送方向正交的支撑体的宽度方向的预先设定的位置，牺牲图案部沿着支撑体的输送方向，且在支撑体的宽度方向上的与多个导电图案部相同的位置的、支撑体的两个面中的任意一个面上形成。
优选在支撑体的宽度方向上的多个导电图案部的两侧分别形成有牺牲图案部。
多个牺牲图案部也可对应于沿着支撑体的输送方向排列的多个导电图案部而在支撑体的输送方向上排列形成，或者，遍及沿着支撑体的输送方向排列的多个导电图案部而连续的牺牲图案部也可在支撑体的输送方向上形成。
优选在支撑体的两个面上且支撑体的宽度方向上的相互相同的位置上分别形成牺牲图案部，在支撑体的两个面上形成的至少一方的牺牲图案部具有朝向与支撑体相反方向的凹凸面。在支撑体的两个面上形成的牺牲图案部也可分别具有朝向与支撑体相反方向的凹凸面。
优选支撑体的两个面上的牺牲图案部的厚度之和比支撑体的两个面上的导电图案部的厚度之和大0.1μm以上。
牺牲图案部也可与至少一个导电图案部电连接。
导电图案部和牺牲图案部由含有金、银、铜、镍、钯、铂、铅、锡、铬中的至少一种金属的相同的导电性材料构成为较佳。
本发明所涉及的透明导电膜的制造方法为如下方法，其具备：第1工序，在透明的支撑体的一个面上或两个面上形成包括由金属细线形成的导电部的导电图案部；以及第2工序，在支撑体的两个面上的形成导电图案部的位置的区域以外的区域且在支撑体的一个面上或两个面上形成牺牲图案部，支撑体的两个面上的牺牲图案部的厚度之和设定为比支撑体的两个面上的导电图案部的厚度之和大。
支撑体具有长形的薄膜形状，且一边对支撑体进行辊输送，一边在支撑体的一个面上或两个面上分别形成导电图案部和牺牲图案部为较佳。
也可同时执行第1工序和第2工序。
第1工序和第2工序也可包括：第3工序，在支撑体的一个面上或两个面上形成银盐乳剂层；以及第4工序，对银盐乳剂层进行曝光以及显影而形成由金属银形成的导电图案部和牺牲图案部。
可在第4工序中，通过将对牺牲图案部的曝光量设定为比对导电图案部的曝光量大，使得支撑体的两个面上的牺牲图案部的总厚度比支撑体的两个面上的导电图案部的厚度之和大。
本发明所涉及的触控传感器具有透明的可视区(View area)，该触控传感器具备导电图案部和牺牲图案部由含有金、银、铜、镍、钯、铂、铅、锡、铬中的至少一种金属的相同的导电性材料构成的上述透明导电膜，导电图案部配置在可视区内侧，且牺牲图案部配置在可视区外侧。
牺牲图案部可包括与导电图案部电连接的周边配线。
发明效果
根据本发明，支撑体的两个面上的牺牲图案部的厚度之和比支撑体的两个面上的导电图案部的厚度之和大，因此即使将形成有导电图案部的支撑体重叠，也能够防止导电图案部受到损伤。
附图说明
图1为表示本发明的实施方式1所涉及的透明导电膜的构成的立体图。
图2为表示实施方式1所涉及的透明导电膜的剖视图。
图3为图2的局部放大图。
图4为表示触控传感器的构成的俯视图。
图5为表示电极的网格图案(Mesh pattern)的俯视图。
图6为表示将实施方式1所涉及的透明导电膜重叠的状态的剖视图。
图7为表示实施方式1所涉及的透明导电膜的制造方法的图。
图8为表示实施方式1的透明导电膜的俯视图。
图9为表示可形成牺牲图案部的区域，图9(A)为构成触摸面板时的支撑体表面侧的俯视图，图9(B)为构成触摸面板时的支撑体背面侧的俯视图。
图10为表示实施方式2所涉及的透明导电膜的剖视图。
图11为表示将实施方式2所涉及的透明导电膜重叠的状态的剖视图。
图12为表示实施方式3所涉及的透明导电膜的局部放大剖视图。
图13为表示将实施方式3所涉及的透明导电膜重叠的状态的局部放大剖视图。
图14为表示实施方式4所涉及的透明导电膜的立体图。
图15为表示以往的透明导电膜的构成的立体图。
图16为表示将以往的透明导电膜重叠的状态的剖视图。
图17为表示透明导电膜的一例的俯视图。
具体实施方式
以下，基于附图说明本发明的实施方式。
实施方式1
图1中显示本发明的实施方式1所涉及的透明导电膜的构成。该透明导电膜用于形成多个触控传感器，其具有：透明的支撑体1；在支撑体1的表面1A上以及背面1B上分别形成且由导电性材料构成的多个导电图案部2；以及仅在支撑体1的表面1A上形成的牺牲图案部3。此外，形成牺牲图案部3的支撑体1的表面1A设为，形成触控传感器时配置于辨视侧。
支撑体1为长形的薄膜形状且由具有可挠性的绝缘性材料形成，并且以能够沿着输送方向DT进行辊输送的方式构成。
多个导电图案部2在与支撑体1的输送方向DT正交的宽度方向DW上预先设定的两处位置分别形成列，并且沿着输送方向DT排列。如图2所示，多个导电图案部2夹着支撑体1配置在支撑体1的表面1A和背面1B的相互重叠的位置，通过相互重叠的一对导电图案部2以及位于该等一对导电图案部2之间的局部支撑体1，形成一个触控传感器。
牺牲图案部3在支撑体1的宽度方向DW上不同于导电图案部2的位置，沿着支撑体1的输送方向DT形成。具体而言，如图2所示，在支撑体1的表面1A上，在相对于排列成两列的导电图案部2的支撑体1的宽度方向DW的两侧和排列成两列的导电图案部2之间这三处，分别形成有牺牲图案部3。关于牺牲图案部3的形成并不限定于上述，只要是在支撑体1的宽度方向DW的至少两端沿着支撑体1的输送方向DT形成即可，优选形成为包括导电图案部2之间的三列以上。
并且，牺牲图案部3也可在导电图案部2的宽度方向DW的至少两侧沿着支撑体1的输送方向DT形成。并且，导电图案部2排列为两列以上时，至少在导电图案部2的外侧形成牺牲图案部3即可，导电图案部2之间也可不形成牺牲图案部3。
各牺牲图案部3自导电图案部2沿着支撑体1的宽度方向DW隔着间隔配置，以遍及多个导电图案部2的方式，沿着支撑体1的输送方向DT连续形成。此外，就牺牲图案部3而言，只要在支撑体1的宽度方向DW存在至少一部分牺牲图案部3，牺牲图案部3也可沿着支撑体1的输送方向DT被电切断。
此外，更优选，如图17(A)所示，优选牺牲图案部3在至少存在导电图案部2的任一宽度方向DW上也形成于导电图案部2的两侧，进一步优选，如图17(B)所示，优选多个导电图案部2连续形成的范围的任一宽度方向DW上也形成有牺牲图案部3。进而优选电连接。
如图3所示，该等牺牲图案部3具有比在支撑体1的表面1A上形成的导电图案部2的厚度T2与在支撑体1的背面1B上形成的导电图案部2的厚度T3的和(T2+T3)大的厚度T1。优选牺牲图案部3的厚度T1具有比导电图案部2的厚度T2以及T3的和(T2+T3)大0.1μm以上的值。
支撑体1例如可由聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯类、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)等聚烯烃类、乙烯系树脂、此外，聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、三乙酰纤维素(TAC)构成。此外，从光透射性、热收缩性以及加工性等观点考虑，支撑体1由聚对苯二甲酸乙二酯构成为较佳。
导电图案部2构成触控传感器时配置于触控传感器的透明的可视区内，其包括由金属细线形成的电极。
此处，图4显示一个触控传感器的一例，中央划分有透明的可视区S1，且可视区S1的外侧划分有周边区域S2。
支撑体1的表面1A上，在可视区S1内形成多个第1电极11，该多个第1电极11分别沿着第1方向D1延伸且在与第1方向D1正交的第2方向D2上并列配置，在周边区域S2，与多个第1电极11连接的多个第1周边配线12相互靠近排列。
同样，支撑体1的背面1B上，在可视区S1内形成多个第2电极13，该多个第2电极13分别沿着第2方向D2延伸且在第1方向D1上并列配置，在周边区域S2，与多个第2电极13连接的多个第2周边配线14相互靠近排列。
通过支撑体1的表面1A上的多个第1电极11和支撑体1的背面1B上的多个第2电极13构成触控传感器的检测电极，如图5所示，第1电极11通过由金属细线11A形成的网格图案形成，第2电极13也通过由金属细线13A形成的网格图案形成。
导电图案部2由在这种触控传感器的可视区S1内配置的多个第1电极11和多个第2电极13构成。
图4中虽未显示，但牺牲图案部3在可视区S1的外侧区域形成。牺牲图案部3也可在支撑体1的表面1A上配置于不与第1周边配线12干涉的位置，或者也可形成为包括第1周边配线12。即，第1周边配线12的至少一部分也可兼作具有厚度T1的牺牲图案部3。并且，也可仅由第1周边配线12构成牺牲图案部3。
构成导电图案部2的第1电极11和第2电极13可由含有例如，金、银、铜、镍、钯、铂、铅、锡、铬中的至少一种金属的材料构成。
第1电极11的金属细线11A和第2电极13的金属细线13A的厚度并无特别限定，0.01μm～200μm为较佳，30μm以下为更佳，20μm以下为进一步较佳，0.01～9μm为特佳，0.05～5μm为最佳。只要在上述范围内，则能够比较容易形成低电阻且耐久性优异的电极。
第1周边配线12和第2周边配线14也由与第1电极11和第2电极13相同的导电性材料形成为较佳。
并且，将牺牲图案部3配置于不与第1周边配线12干涉的位置时，牺牲图案部3也由与构成导电图案部2的第1电极11和第2电极13相同的导电性材料形成为较佳，即由含有金、银、铜、镍、钯、铂、铅、锡、铬中的至少一种金属的材料形成。
如图6所示，通过将形成有这种导电图案部2和牺牲图案部3的支撑体1设为例如辊形态，支撑体1形成多个层而重叠时，在支撑体1的表面1A上形成的牺牲图案部3与位于其紧上的支撑体1的背面1B接触，由此，在相互重叠的支撑体1之间形成相当于牺牲图案部3的厚度T1的间隔。
如上所述，牺牲图案部3的厚度T1具有比支撑体1的表面1A上的导电图案部2的厚度T2与支撑体1的背面1B上的导电图案部2的厚度T3的和(T2+T3)大的值，因此相互对置的位在下侧层的支撑体1的表面1A上的导电图案部2与位在上侧层的支撑体1的背面1B上的导电图案部2不会相互接触而经由间隙对置。
因此，能够防止相互对置的导电图案部2相互摩擦而损坏导电图案部2的表面或引起平滑化等变形。因此，将透明导电膜作为触控传感器组装于模组时，能够避免看到局部眩光的辨视性故障的产生。
此外，由在支撑体1由具有可挠性的绝缘性材料形成，因此将支撑体1设为辊形态时，支撑体1可能弯曲而使相互对置的导电图案部2接触，但下侧层的支撑体1的表面1A与上侧层的支撑体1的背面1B通过牺牲图案部3被支撑，因此较大的力不会作用于相互接触的导电图案部2，表面不会损坏或受到变形等损伤。
并且，即使在不将支撑体1设为辊形态，而是将在两个面上分别形成有导电图案部2的片状支撑体1重叠载置时，也同样可防止导电图案部2的损伤。
接下来说明透明导电膜的制造方法。如图7所示，自输送辊21输送的长形的支撑体1通过输送辊22沿着输送方向DT进行辊输送而到达导电层形成部23，在导电层形成部23，在支撑体1的表面1A以及背面1B上分别形成导电图案部2，且在支撑体1的表面1A上形成牺牲图案部3。
在导电层形成部23形成了导电图案部2和牺牲图案部3的支撑体1还经由输送辊22卷绕于卷取辊24上。
导电层形成部23例如能够在支撑体1的表面1A以及背面1B上形成银盐乳剂层，并对该银盐乳剂层进行曝光以及显影而形成由金属银形成的导电图案部2和牺牲图案部3。
具体而言，导电层形成部23中，在支撑体1的表面1A以及背面1B上涂布含有感光性卤化银盐的银盐乳剂层，经由用于形成导电图案部2和牺牲图案部3的光罩，对涂布在支撑体1的银盐乳剂层进行曝光。
例如，如图8所示，将在支撑体1的表面1A上两列形成的导电图案部2中包含六个导电图案部2的区域作为1照射(shot)，沿着支撑体1的输送方向DT按顺序反复进行曝光。继而，通过对经曝光的银盐乳剂层实施显影处理，去除非曝光部分的银盐乳剂，且在曝光部分形成由金属银形成的导电图案部2。
对于牺牲图案部3也同样地进行曝光之后，通过对经曝光的银盐乳剂层实施显影处理，去除非曝光部分的银盐乳剂，且在曝光部分形成由金属银形成的牺牲图案部3。此时，通过将对牺牲图案部3的曝光量设为比对导电图案部2的曝光量大，能够将牺牲图案部3设为比支撑体1的两个面上的导电图案部2的厚度之和(T2+T3)大的值T1。
此外，能够同时执行导电图案部2的形成工序和牺牲图案部3的形成工序。
此处，导电图案部2和牺牲图案部3可使用例如日本特开2011-129501号公报、日本特开2013-149236号公报、日本特开2014-112512号公报等中公开的方法形成。
这样，在导电层形成部23形成了导电图案部2和牺牲图案部3的支撑体1，经由输送辊22向卷取辊24输送并卷绕于卷取辊24上。
此时，在支撑体1的表面1A上形成厚度T1的牺牲图案部3，因此能够防止因支撑体1的卷缠偏移、滑移等引起的导电图案部2的表面损坏或受到变形等损伤。
并且，并非以辊对辊方式，也可通过在片状支撑体1的表面1A上形成导电图案部2和牺牲图案部3，且在支撑体1的背面1B上形成导电图案部2而设为相同，并以单片方式制造透明导电膜，该情况下，也能够防止在支撑体1的两个面上配置的导电图案部2的损伤。
上述实施方式1中，牺牲图案部3在支撑体1的宽度方向DW上的不同于导电图案部2的位置的支撑体1的表面1A上形成，但并非限于此，可将牺牲图案部3形成在支撑体1的两个面上的形成导电图案部2的位置的区域以外的区域。
如图9(A)所示，将支撑体1的表面1A上且在支撑体1的宽度方向DW上的不同于导电图案部2的位置的区域作为区域R1，将支撑体1的表面1A上且在支撑体1的宽度方向DW上的与导电图案部2相同的位置的区域(导电图案部2的形成区域除外)作为区域R2，如图9(B)所示，将支撑体1的背面1B上且在支撑体1的宽度方向DW上的不同于导电图案部2的位置的区域作为区域R3，将支撑体1的背面1B上且在支撑体1的宽度方向DW上的与导电图案部2相同的位置的区域(导电图案部2的形成区域除外)作为区域R4。
上述实施方式1中，仅在支撑体1的表面1A的区域R1形成牺牲图案部3，但牺牲图案部3也可仅在支撑体1的表面1A的区域R2形成，或者也可在支撑体1的表面1A的区域R1和区域R2这两方形成。
并且，并不限在支撑体1的表面1A，牺牲图案部3也可仅在支撑体1的背面1B的区域R3形成，或者也可仅在支撑体1的背面1B的区域R4形成，还可在支撑体1的背面1B的区域R3和区域R4这两方形成。
即便这样，只要牺牲图案部3具有比支撑体1的两个面上的导电图案部2的厚度之和(T2+T3)大的厚度T1，在将长形的支撑体1设为辊形态或者将多个片状支撑体1重叠载置时，也能够防止相互对置的导电图案部2损坏或受到变形等损伤。
实施方式2
图10显示实施方式2所涉及的透明导电膜的构成。该透明导电膜代替在实施方式1的透明导电膜中仅在支撑体1的表面1A上形成的牺牲图案部3，而在支撑体1的表面1A以及背面1B上分别形成牺牲图案部3A以及3B，支撑体1以及多个导电图案部2与实施方式1的透明导电膜相同。
支撑体1的表面1A上，在相对于排列成两列的导电图案部2的支撑体1的宽度方向DW的两侧和排列成两列的导电图案部2之间这三处，分别形成牺牲图案部3A，且支撑体1的背面1B上，在相对于排列成两列的导电图案部2的支撑体1的宽度方向DW的两侧和排列成两列的导电图案部2之间这三处，分别形成牺牲图案部3B。即，在图9(A)所示的区域R1形成牺牲图案部3A，在区域R3形成牺牲图案部3B。
而且，构成为支撑体1的两个面上的牺牲图案部3A以及3B的厚度之和具有比在支撑体1的表面1A上形成的导电图案部2的厚度T2与在支撑体1的背面1B上形成的导电图案部2的厚度T3的和(T2+T3)大的厚度T1。
即便使用这种牺牲图案部3A以及3B，也可例如通过将支撑体1设为辊形态，如图11所示那样在支撑体1形成多个层而重叠时，通过在下侧层的支撑体1的表面1A上形成的牺牲图案部3A与在上侧层的支撑体1的背面1B上形成的牺牲图案部3B接触，而在相互重叠的支撑体1之间形成相当于牺牲图案部3A以及3B的厚度之和T1的间隔。
因此，位在下侧层的支撑体1的表面1A上的导电图案部2与位在上侧层的支撑体1的背面1B上的导电图案部2不会相互接触而经由间隙相对置，从而可防止该等导电图案部2相互摩擦而损坏导电图案部2的表面或引起平滑化等变形。因此，将透明导电膜作为触控传感器组装于模组时，能够避免看到局部眩光的辨视性故障的产生。
并且，除了将牺牲图案部3A以及3B分别形成在区域R1以及R3之外，还可以在支撑体1的宽度方向DW上的与导电图案部2相同的位置的区域即区域R2以及R4中的任意一方，形成厚度T1的牺牲图案部。
此外，代替将牺牲图案部3A以及3B分别形成在图9(A)所示的区域R1以及R3，也能够在支撑体1的宽度方向DW上的与导电图案部2相同的位置的区域即区域R2以及R4，分别形成牺牲图案部3A以及3B。这样也能够防止在支撑体1的两个面上配置的导电图案部2的损伤。
但是，以辊对辊方式制造支撑体1时，若仅在区域R2以及R4形成牺牲图案部3A以及3B，则作为辊形态，支撑体1形成多个层而重叠时，在支撑体1的表面1A上形成的导电图案部2的表面通过在支撑体1的背面1B的区域R4形成的牺牲图案部3B而摩擦，同时在支撑体1的背面1B上形成的导电图案部2的表面通过在支撑体1的表面1A的区域R2形成的牺牲图案部3A而摩擦，将支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中哪一侧配置于辨视侧而构成触控传感器，均可能产生辨视性故障。因此，除了区域R2以及R4之外，还在区域R1以及R3中的至少一方形成总厚度成为T1的牺牲图案部为较佳。
此外，使用片状支撑体1以单片方式制造透明导电膜的情况下，将多个支撑体1重叠时，形成上侧层的支撑体1的导电图案部2与形成下侧层的支撑体1的导电图案部2相互重叠，在区域R2以及R4形成的牺牲图案部3A以及3B不与导电图案部2重叠，因此能够仅在区域R2以及R4形成牺牲图案部3A以及3B。
实施方式3
如实施方式2中记载，在支撑体1的表面1A以及背面1B上分别形成牺牲图案部3A以及3B时，在支撑体1的宽度方向DW上的相互相同的位置形成的牺牲图案部3A以及3B中的至少一方，能够形成朝向与支撑体1相反方向的凹凸面。
例如，如图12所示，在支撑体1的表面1A上配置的牺牲图案部3A具有朝向与支撑体1相反方向的凹凸面31。将形成有具有这种凹凸面31的牺牲图案部3A和不具有凹凸面的牺牲图案部3B的支撑体1，例如通过设为辊形态，如图13所示，支撑体1形成多个层而重叠时，在下侧层的支撑体1的表面1A上形成的牺牲图案部3A的凹凸面31与在上侧层的支撑体1的背面1B上形成的牺牲图案部3B接触。
由此，即使在因支撑体1的卷缠偏移等而使得支撑体1沿着宽度方向DW或者输送方向DT移动的力发挥作用时，由于牺牲图案部3A具有凹凸面31而不易与对应的上侧层的牺牲图案部3B相对移动，也可能进一步可靠地防止相互对置的导电图案部2摩擦而受到损伤。
凹凸面31可设为具有例如0.1μm程度的高度以及100μm～1mm程度的周期的凹凸形状。
此外，如图12所示，在支撑体1的宽度方向DW上的相互相同的位置形成的牺牲图案部3A以及3B中的一方的牺牲图案部3A形成凹凸面31时，凹凸面31的凸部的牺牲图案部3A的厚度与另一牺牲图案部3B的厚度的合计，设定为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值。
并且，也可构成为，在支撑体1的表面1A以及背面1B上形成的牺牲图案部3A以及3B这双方形成凹凸面31，在下侧层的支撑体1的表面1A上形成的牺牲图案部3A的凹凸面31与在上侧层的支撑体1的背面1B上形成的牺牲图案部3B的凹凸面31相互接触。该情况下，支撑体1的表面1A侧的凹凸面31的凸部的牺牲图案部3A的厚度与支撑体1的背面1B侧的凹凸面31的凸部的牺牲图案部3B的厚度的合计，设定为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值。
实施方式4
上述实施方式1中，如图1所示，牺牲图案部3以遍及多个导电图案部2的方式沿着支撑体1的输送方向DT连续形成，但并非限于此，如图14所示，也可与沿着支撑体1的输送方向DT排列的多个导电图案部2分别对应，而沿着支撑体1的输送方向DT排列形成多个牺牲图案部3。
这样，也能够防止在支撑体1的两个面上配置的导电图案部2的损伤。
实施例
以下基于实施例进一步详细说明本发明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的宗旨，则能够进行适当变更。因此，本发明的范围并非应由以下所示的实施例限定性地解释。
实施例1
如图8所示，在厚度40μm、宽度W＝50cm以及长度5000m的支撑体1的表面1A以及背面1B上，通过下述所示的图案形成方法形成导电图案部2，该导电图案部2是线宽3.0μm且节距(pitch)500μm的方形网格图案在宽度A＝15cm以及长度B＝20cm的区域，由各自的方形网格交点夹着支撑体1，在彼此的正方形开口部的中心重叠配置而形成，并且在支撑体1的表面1A设置距离导电图案部2的形成区域20μm的开口，并在图9(A)所示的区域R1形成由一样的整体图案(solid pattern)形成的牺牲图案部3，从而制作出辊形态的透明导电膜。牺牲图案部3具有比在支撑体1的表面1A以及背面1B形成的导电图案部2的厚度之和大的厚度。并且，朝向与支撑体1相反方向的牺牲图案部3的面为平坦面。
此外，导电图案部2将沿着支撑体1的宽度方向DW排列了两个作为一列，将沿着输送方向DT排列了三列的六片(piece)作为1照射，并沿着输送方向DT反复照射而形成。此处，在1照射内，将沿着宽度方向DW排列的导电图案部2之间的间隔G1设为5cm，且将沿着输送方向DT排列的导电图案部2之间的间隔G2设为5cm。并且，将照射间的导电图案部2之间的间隔G3设为10cm。这样，遍及支撑体1的全长而形成导电图案部2。
＜图案形成方法＞
(卤化银乳剂的制备)
向保持为38℃、pH4.5的下述1液中，一边搅拌一边历时20分钟加入下述2液和3液各自的相当于90％的量，从而形成了0.16μm的核粒子。接着历时8分钟加入下述4液和5液，进而历时2分钟加入下述2液和3液的剩余10％的量，直至生长至0.21μm。进一步加入碘化钾0.15g，进行5分钟熟成后结束了粒子形成。
1液：
2液：
水 300ml
硝酸银 150g
3液：
4液：
水 100ml
硝酸银 50g
5液：
之后，按照常用方法通过絮凝(flocculation)法进行了水洗。具体而言，将温度降低至35℃，使用硫酸降低pH直至卤化银沉积(pH为3.6±0.2的范围)。接下来，去除上清液约3公升(第一水洗)。进而加入3公升蒸馏水后，加入硫酸直至卤化银沉积。再次去除上清液3公升(第二水洗)。还重复一次与第二水洗相同的操作(第三水洗)，从而结束了水洗/除盐工序。将水洗/除盐后的乳剂调整为pH6.4、pAg7.5，加入明胶3.9g、苯硫代磺酸钠10mg、苯硫代亚磺酸钠3mg、硫代硫酸钠15mg以及氯金酸10mg，在55℃下实施化学增感以得到最佳灵敏度，作为稳定剂加入了1,3,3a,7-四氮茚(tetrazaindene)100mg，作为防腐剂加入了Proxel(商品名、ICI Co.,Ltd.制造)100mg。最终得到的乳剂含有碘化银0.08莫耳％、将氯溴化银的比率设为氯化银70莫耳％且溴化银30莫耳％、平均粒径0.22μm、变异系数9％的碘氯溴化银立方体粒子乳剂。
(感光性层形成用组成物的制备)
向上述乳剂中添加1,3,3a,7-四氮茚1.2×10-4莫耳/莫耳Ag、对苯二酚1.2×10-2莫耳/莫耳Ag、柠檬酸3.0×10-4莫耳/莫耳Ag、2,4-二氯-6-羟基-1,3,5-三嗪钠盐0.90g/莫耳Ag、微量的硬化剂(hardening agent)，并使用柠檬酸将涂布液pH调整为5.6。
以与所含的明胶成为聚合物/明胶(质量比)＝0.5/1的方式，向上述涂布液中添加了(P-1)所表示的聚合物和含有包含二烷基苯基PEO硫酸酯的分散剂的聚合物乳胶(分散剂/聚合物的质量比为2.0/100＝0.02)。
进而，作为交联剂添加了EPOXY RESIN DY 022(商品名：长濑化学公司(NagaseChemteX Corporation)制造)。此外，交联剂的添加量进行了调整以使后述的感光性层中的交联剂的量成为0.09g/m2。
如上述那样制备了感光性层形成用组成物。
此外，上述(P-1)所表示的聚合物是参照日本专利第3305459号以及日本专利第3754745号而合成。
(感光性层形成工序)
在支撑体1的两个面上涂布上述聚合物乳胶而设置了厚度0.05μm的底涂层。
接下来，在底涂层上设置了防光晕层，该防光晕层由上述聚合物乳胶和明胶、以及光学密度约1.0且通过显影液的碱性脱色的染料的混合物形成。此外，聚合物与明胶的混合质量比(聚合物/明胶)为2/1，聚合物含量为0.65g/m2。
在上述防光晕层之上涂布上述感光性层形成用组成物，进而设置厚度0.15μm的明胶层，从而得到在两个面上形成感光性层的支撑体。将在两个面上形成感光性层的支撑体设为薄膜A。所形成的感光性层为银量6.2g/m2、明胶量1.0g/m2。
(曝光显影工序)
在上述薄膜A的两个面上，经由上述图8的导电图案部2和牺牲图案部3的光罩、和在上述光罩的光源侧仅在导电图案部2上配置的中性密度滤光器(neutral densityfilter)，使用将高压水银灯作为光源的平行光进行了曝光。此外，中性密度滤光器通过相比照射于牺牲图案部3的光量减少照射于导电图案部2的光量，将牺牲图案部3的厚度设定为比在薄膜A的两个面上形成的导电图案部2的厚度之和大的值。
曝光后，通过下述显影液进行显影，进而使用定影液(商品名：CN16X用N3X-R，富士胶片公司(Fujifilm Corporation)制造)进行了显影处理。进而，通过纯水冲洗并进行干燥，从而得到在两个面上形成了由Ag细线形成的功能性图案、由Ag细线形成的厚度调整用图案以及明胶层的支撑体。明胶层形成于Ag细线之间。所得的薄膜设为薄膜B。
(显影液的组成)
显影液1公升(L)中含有以下化合物。
(明胶分解处理)
对于薄膜B，在蛋白质分解酵素(长濑化学公司制造，BioplaseAL-15FG)的水溶液(蛋白质分解酵素的浓度：0.5质量％、液温：40℃)中浸渍了120秒。自水溶液中取出薄膜B后，在温水(液温：50℃)中浸渍120秒并清洗。将明胶分解处理后的薄膜设为薄膜C。
(低电阻化处理)
对于上述薄膜C，使用由金属制辊形成的砑光(calendering)装置，以30kN的压力进行了砑光处理。此时，将具有线粗糙度Ra＝0.2μm、Sm＝1.9μm(利用基恩士公司(KEYENCECORPORATION)制造的形状分析雷射显微镜VK-X110测定(JIS-B-0601-1994))的粗糙表面形状的两片PET薄膜一起输送，以使该等粗糙表面与上述薄膜C的表面和背面相对，从而在上述薄膜C的表面和背面转录形成粗糙表面形状。
上述砑光处理后、历时120秒通过温度150℃的过热蒸气槽而进行了加热处理。将加热处理后的薄膜设为薄膜D。该薄膜D为透明导电膜。
利用基恩士公司制造的形状分析雷射显微镜VK-X110测定了薄膜D的导电图案部2和牺牲图案部3的银部的平均厚度。将结果示于表1。
实施例2
以仅在支撑体1的表面1A上形成导电图案部2，且在区域R1形成的牺牲图案部3的厚度成为比在支撑体1的表面1A上形成的导电图案部2的厚度大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
实施例3
以在支撑体1的表面1A上的区域R1以及背面1B上的区域R3形成牺牲图案部3，且在该等区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的厚度分别成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
实施例4
以在支撑体1的表面1A上的区域R1以及R2形成牺牲图案部3，且在该等区域R1以及R2形成的牺牲图案部3的厚度分别成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
实施例5
以仅在支撑体1的表面1A上的区域R2形成牺牲图案部3，且牺牲图案部3的厚度成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
实施例6
以仅在支撑体1的背面1B上的区域R3形成牺牲图案部3，且牺牲图案部3的厚度成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
实施例7
以仅在支撑体1的背面1B上的区域R4形成牺牲图案部3，且牺牲图案部3的厚度成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
实施例8
除了在支撑体1的表面1A上的区域R1以及背面1B上的区域R3形成的牺牲图案部3之外，还以在支撑体1的表面1A上的区域R2形成比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的厚度的牺牲图案部3的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例3相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。此外，在区域R2形成的牺牲图案部3的厚度设定为比在区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的总厚度小的值。
实施例9
除了在支撑体1的表面1A上的区域R1以及背面1B上的区域R3形成的牺牲图案部3上，形成朝向与支撑体1相反方向的凹凸面31之外，与实施例8相同地制作了辊形态的透明导电膜。凹凸面31是与支撑体1的输送方向DT平行且以1mm周期交替调整曝光量而形成。此外，通过进行粗糙表面形状转录的砑光处理，即便留有平均高低差的差异，也能够形成凹凸面31。
实施例10
以在支撑体1的表面1A上以及背面1B上分别形成导电图案部2，且仅在支撑体1的表面1A上的区域R1形成牺牲图案部3，并且牺牲图案部3的厚度成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了片形态的透明导电膜。
实施例11
以在支撑体1的表面1A上以及背面1B上分别形成导电图案部2，且在支撑体1的表面1A上的区域R2以及背面1B上的区域R4形成牺牲图案部3，并且在该等区域R2以及R4形成的牺牲图案部3的厚度分别成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了片形态的透明导电膜。
此外，实施例10以及11中，将以实施例1中的1照射作为1单元的片材样品5000片堆积于水平面而制作。
比较例1
以仅在支撑体1的表面1A上形成导电图案部2，且在任一区域均不形成牺牲图案部3的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
比较例2
以在区域R1形成的牺牲图案部3的厚度成为与在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和相等的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
比较例3
以在支撑体1的表面1A上的区域R1以及背面1B上的区域R3形成牺牲图案部3，且在区域R1形成的牺牲图案部3的厚度成为比在支撑体1的表面1A上形成的导电图案部2的厚度大，但是在区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的总厚度成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和小的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
比较例4
以在支撑体1的表面1A上的区域R1以及背面1B上的区域R3形成牺牲图案部3，且在该等区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的厚度分别成为与在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度相同的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
比较例5
以在支撑体1的表面1A上的区域R2以及背面1B上的区域R4形成牺牲图案部3，且在该等区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的厚度分别成为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度大的值的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了辊形态的透明导电膜。
比较例6
以在支撑体1的表面1A上以及背面1B上分别形成导电图案部2，且任一区域均不形成牺牲图案部3的方式，调整了曝光时使用的中性密度滤光器的种类、曝光量和光罩，除此之外，按照与实施例1相同的步骤制作了片形态的透明导电膜。
此外，比较例6中，将以实施例1中的1照射作为1单元的片材样品5000片堆积于水平面而制作。
对于通过上述实施例1～11以及比较例1～6制作的透明导电膜，评价了配置在支撑体1的表面1A侧的导电图案部2以及配置在支撑体1的背面1B侧的导电图案部2的局部眩光，得到如以下表1中记载的结果。
[表1]
局部眩光的评价方法如下。
首先，任意切割30片如下支撑体1用作自支撑体1的表面1A侧的局部眩光观察，该切割的支撑体1是位于已制作的透明导电膜的辊内侧第10照射至第30照射之间且在两个面上形成导电图案部2而得，并在支撑体1的表面1A侧贴合透明光学粘合薄膜(3M公司制造，8146-2)的一个面，进而在已贴合的透明光学粘合薄膜的另一面上贴合白板玻璃，接下来，在支撑体1的背面1B侧再贴合1片透明光学粘合薄膜(3M公司制造，8146-2)，进而在已贴合的透明光学粘合薄膜的另一面上贴合厚度100μm的PET(聚对苯二甲酸乙二酯)薄膜，由此制作了30片包括由金属细线形成的网格图案状电极的导电图案部2被白板玻璃和PET薄膜挟持的评价样品SA1。
并且，任意切割30片如下支撑体1用作自支撑体1的背面1B侧的局部眩光观察，该切割的支撑体1是位于已制作的透明导电膜的辊内侧第10照射至第30照射之间且在两个面上形成导电图案部2而得，并在支撑体1的背面1B侧贴合透明光学粘合薄膜(3M公司制造，8146-2)的一个面，进而在已贴合的透明光学粘合薄膜的另一面上贴合白板玻璃，接下来，在支撑体1的表面1A侧贴合透明光学粘合薄膜(3M公司制造，8146-2)的一个面，进而在已贴合的透明光学粘合薄膜的另一面上进一步贴合厚度100μm的PET(聚对苯二甲酸乙二酯)薄膜，由此制作了30片包括由金属细线形成的网格图案状电极的导电图案部2被白板玻璃和PET薄膜挟持的评价样品SA2。
此外，实施例10、11以及比较例6中的片形态的透明导电膜，是代替位在透明导电膜的辊内侧第10照射至第30照射之间且在两个面上形成有导电图案部2的支撑体1，使用了位于片积层物的下侧第10片至第30片之间且在两个面上形成有导电图案部2的支撑体1，除此之外，与上述方法相同地制作了评价样品SA1和SA2。
自支撑体1的表面1A侧的局部眩光在阳光下从玻璃面观察已制的30片评价样品SA1并以下述观点进行了评价。并且，自支撑体1的背面1B侧的局部眩光在阳光下从玻璃面观察已制作的30片评价样品SA2并同样以下述观点进行了评价。
评价结果A表示，在30片中28片以上的评价样品中不存在局部光反射较强的区域，具有面内均匀的辨视性，因此能够较佳地使用。
评价结果B表示，在30片中3片以上的评价样品中存在局部光反射较强的区域，但光反射较强的区域在5mm见方的狭窄范围内，或局部光反射增加部为在室内灯下无法辨视程度的较小增加，实用上不会产生问题。
评价结果C表示，在30片中3片以上且15片以下的评价样品中存在局部光反射较强的区域，光反射较强的区域在比5mm见方宽的范围内，或为在室内灯下也能够辨视的较大增加，实用上会产生问题。
评价结果D表示，在30片中16片以上的评价样品中存在局部光反射较强的区域，光反射较强的区域在比5mm见方宽的范围内，或为在室内灯下也能够辨视的较大增加，实用上会产生较大问题。
牺牲图案部3的总厚度具有比导电图案部2的厚度之和大的值的实施例1～11中确认到，支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的至少一侧中局部眩光的评价结果为A或B，构成触控传感器时能够较佳地使用。
尤其在实施例1、3、6以及8-11中，支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的任一侧的局部眩光的评价结果均为A或B，将支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的哪一侧配置于辨视侧，均能够构成具有较佳的辨视性的触控传感器。
此外，实施例8中，在区域R2形成的牺牲图案部3的厚度设定为比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上且位于宽度方向DW上的相互相同的位置的区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的总厚度小的值，这种情况下，只考虑在区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的总厚度，并且在该等区域R1以及R3形成的牺牲图案部3的总厚度具有比导电图案部2的厚度之和大的值即可。
并且，实施例9中，在支撑体1的表面1A以及背面1B上形成的牺牲图案部3A以及3B这双方具有凹凸面31，表1中，作为牺牲图案部的厚度，一并记载了凹凸面31的凸部的牺牲图案部的厚度和凹部的牺牲图案部的厚度。该实施例9的情况下，只考虑凹凸面31的凸部的牺牲图案部的总厚度，并且该总厚度具有比导电图案部2的厚度之和大的值即可。
并且，实施例2、4以及5中，在支撑体1的表面1A侧的局部眩光的评价结果为A或B，通过将支撑体1的表面1A侧配置于辨视侧，能够构成具有较佳的辨视性的触控传感器。
进而，实施例7中，在支撑体1的背面1B侧的局部眩光的评价结果为B，通过将支撑体1的背面1B侧配置于辨视侧，能够构成具有较佳的辨视性的触控传感器。
另一方面，不具有牺牲图案部3的比较例1以及6、牺牲图案部3的总厚度为导电图案部2的厚度之和以下的值的比较例2～4中确认到，在支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的任一侧的局部眩光的评价结果均为C或D，将支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的哪一侧配置于辨视侧，均会在构成触控传感器时，在实用上产生问题。
并且，牺牲图案部3的总厚度具有比在支撑体1的表面1A上以及背面1B上形成的导电图案部2的厚度之和大的值，但牺牲图案部3在区域R2以及R4的两个面上形成的比较例5中确认到，支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的任一侧的局部眩光的评价结果均为D，将支撑体1的表面1A侧和背面1B侧中的哪一侧配置于辨视侧，均会在构成触控传感器时，在实用上产生问题。
这是由于牺牲图案部3在区域R2以及R4这双方形成，在区域R1以及R3未形成牺牲图案部3，因此可认为，作为辊形态，支撑体1形成多个层而重叠时，在支撑体1的表面1A上形成的导电图案部2的表面和支撑体1的背面1B上形成的导电图案部2的表面，均因摩擦而产生辨视性故障。
符号说明
1、41-支撑体，1A-支撑体的表面，1B-支撑体的背面，2、42-导电图案部，3、3A、3B-牺牲图案部，11-第1电极，11A-第1金属细线，12-第1周边配线，13-第2电极，13A-第2金属细线，14-第2周边配线，21-输送辊，22-输送辊，23-导电层形成部，24-卷取辊，31-凹凸面，DT-输送方向，DW-宽度方向，T1-牺牲图案部的厚度，T2、T3-导电图案部的厚度，S1-可视区，S2-周边区域，D1-第1方向，D2-第2方向，A-宽度，B-长度，G1～G3-间隔，R1～R4-区域。

Claims (20)

1.一种透明导电膜，其具备：
透明的支撑体；
导电图案部，其在所述支撑体的一个面上或两个面上形成且包括由金属细线形成的电极；以及
牺牲图案部，其在所述支撑体的两个面上的形成所述导电图案部的位置的区域以外的区域处形成在所述支撑体的一个面上或两个面上，
所述支撑体的所述两个面上的所述牺牲图案部的厚度之和比所述支撑体的所述两个面上的所述导电图案部的厚度之和大。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其中，
所述导电图案部形成在所述支撑体的一个面上，
所述牺牲图案部形成在所述支撑体的与形成所述导电图案部的面相同的面上，或所述支撑体的与形成所述导电图案部的面相反一侧的面上，或所述支撑体的两个面上。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜，其中，
所述导电图案部形成在所述支撑体的两个面上，
所述牺牲图案部形成在所述支撑体的两个面中的任意一个面上或所述支撑体的两个面上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的透明导电膜，其中，
所述支撑体具有长形的薄膜形状且被进行辊输送，
多个所述导电图案部沿着所述支撑体的输送方向，且排列在与所述支撑体的输送方向垂直的所述支撑体的宽度方向的预先设定的位置处，
所述牺牲图案部沿着所述支撑体的输送方向，且形成在所述支撑体的宽度方向上的不同于多个所述导电图案部的位置处的、所述支撑体的两个面中的任意一个面上或所述支撑体的两个面上。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的透明导电膜，其中，
所述支撑体具有长形的薄膜形状且被进行辊输送，
多个所述导电图案部沿着所述支撑体的输送方向，且排列在与所述支撑体的输送方向垂直的所述支撑体的宽度方向的预先设定的位置处，
所述牺牲图案部沿着所述支撑体的输送方向，且形成在所述支撑体的宽度方向上的与多个所述导电图案部相同的位置处的、所述支撑体的两个面中的任意一个面上。
6.根据权利要求4或5所述的透明导电膜，其中，
在所述支撑体的宽度方向上的多个所述导电图案部的两侧分别形成有所述牺牲图案部。
7.根据权利要求4至6中任意一项所述的透明导电膜，其中，
多个所述牺牲图案部对应于沿着所述支撑体的输送方向排列的多个所述导电图案部而在所述支撑体的输送方向上排列形成。
8.根据权利要求4至6中任意一项所述的透明导电膜，其中，
遍及沿着所述支撑体的输送方向排列的多个所述导电图案部而连续的所述牺牲图案部在所述支撑体的输送方向上形成。
9.根据权利要求4至8中任意一项所述的透明导电膜，其中，
在所述支撑体的所述两个面上且所述支撑体的宽度方向上的彼此相同的位置上分别形成所述牺牲图案部，
在所述支撑体的所述两个面上形成的至少一方的所述牺牲图案部具有朝向与所述支撑体相反方向的凹凸面。
10.根据权利要求9所述的透明导电膜，其中，
在所述支撑体的所述两个面上形成的所述牺牲图案部分别具有朝向与所述支撑体相反方向的凹凸面。
11.根据权利要求1至10中任意一项所述的透明导电膜，其中，
所述支撑体的所述两个面上的所述牺牲图案部的厚度之和比所述支撑体的所述两个面上的所述导电图案部的厚度之和大0.1μm以上。
12.根据权利要求1至11中任意一项所述的透明导电膜，其中，
所述牺牲图案部与至少一个所述导电图案部电连接。
13.根据权利要求1至12中任意一项所述的透明导电膜，其中，
所述导电图案部和所述牺牲图案部由含有金、银、铜、镍、钯、铂、铅、锡、铬中的至少一种金属的相同的导电性材料构成。
14.一种透明导电膜的制造方法，其具备：
第1工序，在透明的支撑体的一个面上或两个面上形成包括由金属细线形成的导电部的导电图案部；以及
第2工序，在所述支撑体的两个面上的形成所述导电图案部的位置的区域以外的区域处，在所述支撑体的一个面上或两个面上形成牺牲图案部，
所述支撑体的所述两个面上的所述牺牲图案部的厚度之和被设定为比所述支撑体的所述两个面上的所述导电图案部的厚度之和大。
15.根据权利要求14所述的透明导电膜的制造方法，其中，
所述支撑体具有长形的薄膜形状，
对所述支撑体进行辊输送的同时在所述支撑体的一个面上或两个面上分别形成所述导电图案部和所述牺牲图案部。
16.根据权利要求14或15所述的透明导电膜的制造方法，其中，
同时执行所述第1工序和所述第2工序。
17.根据权利要求16所述的透明导电膜的制造方法，其中，
所述第1工序和所述第2工序包括：
第3工序，在所述支撑体的一个面上或两个面上形成银盐乳剂层；以及
第4工序，对所述银盐乳剂层进行曝光以及显影而形成由金属银形成的所述导电图案部和所述牺牲图案部。
18.根据权利要求17所述的透明导电膜的制造方法，其中，
在所述第4工序中，通过将对所述牺牲图案部的曝光量设定为比对所述导电图案部的曝光量大，使得所述支撑体的所述两个面上的所述牺牲图案部的总厚度比所述支撑体的所述两个面上的所述导电图案部的厚度之和大。
19.一种触控传感器，其具有透明的可视区，
所述触控传感器具备权利要求13所述的透明导电膜，
所述导电图案部配置在所述可视区内侧，且所述牺牲图案部配置在所述可视区外侧。
20.根据权利要求19所述的触控传感器，其中，
所述牺牲图案部包括与所述导电图案部电连接的周边配线。
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