CN107871448B - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种显示装置。该显示装置包括具有显示区和非显示区的显示面板。在所述显示面板上设置窗口。在所述窗口上设置边框部分。所述边框部分至少部分地与所述非显示区交叠。在所述显示面板和所述窗口之间设置粘合剂层。在所述边框部分和所述粘合剂层之间设置中间层。所述中间层具有与所述边框部分交叠的至少一个超声传输区。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求2016年9月27日提交的韩国专利申请No.10-2016-0124137的优先权，其内容通过引用以其整体并入本文。
技术领域
本发明的示例性实施方式涉及一种显示装置，更特别地，涉及包括粘合剂层的显示装置。
背景技术
通常将比如液晶显示(“LCD”)装置、有机发光二极管(“OLED”)显示装置、等离子体显示面板(“PDP”)装置和电泳显示装置的现代显示装置称为平板显示器，归因于与传统的阴极射线管(CRT)显示装置相比它们的薄度。
平板显示装置一般地包括顺序堆叠的多个层。为了将多个层固定在一起，在两个相邻层之间可以设置粘合剂层。
合适的粘合剂层的一个实例是光固化粘合剂层。光固化粘合剂层在通过光源固化之后可以具有稳定的粘合力。然而，这种光固化粘合剂层当其没有充分固化时具有弱的粘合力，并且随着时间的推移可能发生粘合性的劣化。
发明内容
显示装置包括具有显示区和非显示区的显示面板。在显示面板上设置窗口。在窗口上设置边框部分。边框部分至少部分地与非显示区交叠。在显示面板和窗口之间设置粘合剂层。在边框部分和粘合剂层之间设置中间层。中间层具有与边框部分交叠的至少一个超声传输区。
显示装置包括具有显示区和非显示区的显示面板。在显示面板上设置窗口。在窗口上设置边框部分。边框部分至少部分地与非显示区交叠。在显示面板和窗口之间设置粘合剂层。在边框部分和粘合剂层之间设置中间层。中间层具有凹部分，并且该凹部分至少部分地与边框部分交叠。
显示装置包括具有显示区和非显示区的显示面板。在显示面板上设置窗口。在窗口上设置边框部分。边框部分至少部分地与非显示区交叠。在显示面板和窗口之间设置粘合剂层。显示面板包括第一基板和布线单元。布线单元包括设置在第一基板上的多个布线。布线单元具有由两个邻近布线限定的宽间隙部分。宽间隙部分中的两个布线之间的间隙的尺寸大于与宽间隙部分相邻的区域中的两个布线之间的间隙的尺寸。宽间隙部分至少部分地与边框部分交叠。
显示装置包括被配置来显示图像的显示面板。触摸面板被配置来检测触摸事件。触摸面板设置在显示面板上。在触摸面板上设置粘合剂层。在粘合剂层上设置覆盖层。覆盖层包括窗口和至少部分地围绕该窗口的边框区域。在覆盖层和粘合剂层之间设置中间层。中间层包括与覆盖层的边框区域交叠的基底部分。中间层的基底部分包括一个或多个超声传输区，该一个或多个超声传输区被配置来以比基底部分更大的程度传输超声波。
附图说明
随着本发明及其许多附带方面通过参考以下详细描述同时结合附图进行考虑而变得更好理解，将容易地获得对其更完整的理解，在附图中：
图1是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示装置的透视图；
图2是沿图1的线I-I'截取的截面图；
图3是图示说明窗口和中间层的设置的平面图；
图4是沿图3的线II-II'截取的截面图；
图5是图示说明光辐射和超声波辐射的截面图；
图6是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示装置的局部截面图；
图7是图示说明根据本发明的示例性实施方式的窗口和中间层的设置的平面图；
图8是沿图7的线III-III'截取的截面图；
图9是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示装置的平面图；
图10是图示说明图9的一部分的细节平面图；
图11是沿图10的线IV-IV'截取的截面图；
图12是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示面板的像素布置的平面图；
图13是沿图12的线V-V'截取的截面图；
图14是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示面板的像素布置的平面图；
图15是沿图14的线VI-VI'截取的截面图；以及
图16是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示面板的截面图。
具体实施方式
在描述附图中图示说明的本发明的示例性实施方式时，为了清楚起见，采用了具体术语。然而，本发明不旨在限于该图示说明或任何具体的术语，并且要理解的是，每个要素包括所有等同物。
在附图中，为了清楚和易于其描述，可以放大层和区域的尺寸。当比如层、区域、板等的元件被称为“在另一元件上”时，其可以直接在其他元件上，或者在其间可以存在中间元件。
为了便于描述，在本文中可以使用空间相对术语“在……下方”、“在……下面”、“下”、“在……上方”、“上部”等以描述如附图图示说明的一个元件或部件与另一个元件或部件之间的关系。将理解，除了附图中描绘的取向之外，空间相对术语旨在涵盖使用或操作中的装置的不同取向。例如，在附图中图示说明的装置翻转的情况下，位于另一装置“下方”或“下面”的装置可以被放置在另一装置的“上面”。因此，说明性术语“在……下方”可以包括下部位置和上部位置两者。该装置还可以在另一个方向上取向，因此可以取决于取向来不同地解释空间相对术语。
在整个说明书中，当元件被称为“连接”到另一个元件时，该元件可以“直接连接”到其他元件，和/或“电连接”到其他元件，其中一个或多个中间元件介于其间。还将理解，当在本说明书中使用时，术语“包括”、“包含”、“含有”和/或“含”指定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其组合。
如本文使用的比如“约”或“大约”的术语可以包括所述值，并且考虑到有争议的测量以及与测量特定量相关的误差(例如测量系统的局限性)，可以另外包括由本领域普通技术人员确定的特定值的偏差范围。例如，“约”可以意为在所述值的一个或多个标准偏差内，或者在所述值的±30％、20％、10％、5％之内。
除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域技术人员通常理解的相同的含义。还将理解，除非在本说明书中明确定义，比如常用词典中定义的术语应被解释为具有与相关领域背景下它们的含义一致的含义，并且不会以理想的或过度正式的意思来解释。
可以不提供与描述不相关联的一些部分，以便明确描述本发明的实施方式。要理解的是，对于一些图，可能不会描述一些元件，并且在这些情况下，要假定未描述的元件与已经描述的相应元件类似或相同。此外，在整个说明书中，相同的附图标记可以指代相同的元件。
在下文中，将参照图1、图2、图3、图4和图5来描述本发明的示例性实施方式。
图1是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示装置101的透视图，并且图2是沿图1的线I-I'截取的截面图。
图1和图2中图示说明的显示装置101包括窗口510、耦连到窗口510以提供容纳空间的壳体530以及设置在由窗口510和壳体530限定的空间中的显示面板110。
显示面板110与支撑部分540一起安装在壳体530内。支撑部分540可以是例如缓冲构件，但是本发明的示例性实施方式不限于此。在支撑部分540处可以设置元件，比如用于驱动显示面板110的电池。
显示面板110具有显示区DA和非显示区NDA。显示区DA是其中显示图像的区域。例如，非显示区NDA可以围绕显示区DA。显示面板110的实例可以包括液晶显示(“LCD”)面板、有机发光二极管(“OLED”)显示面板等。下面将描述显示面板110的详细结构。
显示面板110上的窗口510可以包括比如玻璃、塑料等的透光构件。
边框部分520设置在窗口510上并与显示面板110的非显示区NDA交叠。边框部分520可以围绕窗口510，并且边框部分520可以设置在窗口510的上面、下方和左侧和右侧。参考图1和图2，边框部分520设置在窗口510的边缘部分。例如，可以通过在窗口510的边缘部分处形成不透明涂层来提供边框部分520。边框部分520可以从窗口510的表面突出。
根据本发明的示例性实施方式，可以通过在窗口510的边缘部分处限定凹槽，然后用不透明的涂层填充该凹槽来提供边框部分520。在本发明的这样的示例性实施方式中，边框部分520可能不从窗口510的表面突出。
在显示面板110和窗口510之间设置粘合剂层570。此外，在边框部分520和粘合剂层570之间设置中间层550。参考图2，触摸面板560设置在窗口510和粘合剂层570之间。触摸面板560通过粘合剂层570附接到显示面板110。
触摸面板560是被配置来识别触摸的装置。触摸面板560可以包括被配置用于识别触摸的多个传感器电极。触摸面板560可以是可以以所述方式使用的电容式触摸面板、电阻式触摸面板或任何其它类型的触摸面板。
触摸面板560可以连接到中间层550。根据本发明的示例性实施方式，中间层550可以是导电的。例如，导电性中间层550可以用作接地端(ground)。中间层550可以抑制或以其它方式防止在触摸面板560中产生静电。此外，中间层550可以用作将触摸面板560连接到另一个终端或另一个装置的布线。本发明的示例性实施方式不限于此，中间层550可以是遮光图案，并且包括遮光材料。中间层550的作用可以取决于例如中间层550的材料和设计而变化。
中间层550可以包括金属。中间层550还可以包括或可能不包括除了金属以外的元素。例如，中间层550可以包括铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、铝(Al)和/或钛(Ti)。
中间层550可以具有单层结构或其中堆叠多个层的多层结构。中间层550可以包括金属层，比如铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、铝(Al)和/或钛(Ti)。此外，中间层550可以包括透明导电氧化物(TCO)，比如ITO、IZO、AZO、IGZO等。例如，中间层550可以包括金属层和TCO层中的至少一种。
图3是图示说明窗口510和中间层550的设置的平面图，并且图4是沿图3的线II-II'截取的截面图。
参考图3和图4，中间层550设置在边框部分520上。中间层550与显示面板110的显示区DA不交叠。中间层550沿着窗口510的边缘形成闭环。
此外，中间层550可以具有与边框部分520交叠的至少一个通孔552。例如，中间层550可以包括基底部分551和通孔552。可以通过去除基底部分551的一部分来限定通孔552。在本发明的这样的示例性实施方式中，基底部分551可以包括例如导电材料。
通孔552允许超声波从其通过。在使用超声波用于确认粘合剂层570是否适当地固化的超声检查过程中，通孔552成为超声检查区域。在本发明的一个示例性实施方式中，超声检查区域是指超声波从其穿过以进行超声检查的区域。因此，超声检查区域可以被称为超声波传输区。
如此，在由通孔552限定的超声检查区域被固定的情况下，超声检查可以平滑地进行。因此，超声检查可以确定粘合剂层570是否被适当地固化，或者是否存在非固化缺陷。
通孔552可以具有适于允许超声波从其穿过的尺寸。当通孔552的尺寸太小时，超声波可能不容易通过通孔552。当通孔552的尺寸过大时，通孔552占据过多量的空间，这可能导致边框部分520的尺寸增加。通孔552的尺寸可以由通孔552的直径表示。
考虑到超声波发生器的尺寸或用于超声检查的探针的尺寸，通孔552可以具有例如在约100μm至约300μm的范围内的直径。
通孔552的形状不被特别限定。通孔552可以具有圆形、椭圆形、半圆形或多边形平面形状。例如，通孔552可以具有四边形或五边形平面形状。
当超声波传播通过分别包括不同材料的层之间的界面时，超声波的传播速度可能改变，并且超声波可能从界面反射。例如，在中间层550设置在超声波传输区中的情况下，超声波的传播速度可能在中间层550与另一层之间的界面处改变，并且超声波可以从界面反射。因此，当在超声波传输区中有多个层间界面时，超声检查的速度和精度可能降低。
特别地，在超声波传输区中存在导体(比如金属)的情况下，可能不会精确地实施超声检查。当在超声波传输区中存在导体(比如金属)时，超声波的传播速度或反射特性可能改变，从而在超声检查过程中引起信号干扰。
根据本发明的示例性实施方式，通孔552与窗口510和粘合剂层570之间的空隙中的导体不交叠。例如，在窗口510和粘合剂层570之间的通孔552的区域中不设置导体。因此，更精确的超声检查是可能的。
图5是图示说明光辐射和超声波辐射的截面图。
粘合剂层570用于附接显示面板110和触摸面板560。粘合剂层570通过在显示面板110和触摸面板560之间设置粘合剂组合物而形成，然后通过用光辐射粘合剂层570使粘合剂层570固化，使得粘合剂层570可以具有稳定的粘合力。如此，具有由光固化得到的稳定的粘合力的粘合剂层570也称为光固化粘合剂层。
参考图5，粘合剂层570可以经由通过窗口510的光L1辐射来固化。在本发明的这样的示例性实施方式中，紫外光(UV)可以是光L1。
然而，光L1在边框部分520下方的部分处被阻挡，因此在边框部分520下方的粘合剂层570的一部分可能不会充分固化。为了基本上防止在边框部分520下方不固化，光L2(例如，紫外光)可以辐射粘合剂层570的侧表面。因为辐射到侧表面的光L2的透过受限，在边框部分520下方的粘合剂层570的一部分(例如在图5中的区域“A”中)可能不会充分固化。在粘合剂层570未充分固化的情况下，粘合剂层570可能达不到强的粘合力，并且粘合剂层570的粘合力可能随时间而降低。
因此，为了确定边框部分520下方的粘合剂层570是否充分固化，可以进行超声检查。将超声波SS辐射到边框部分520下方的部分用于超声检查。粘合剂层570被通过通孔552的超声波SS辐射。在窗口510和粘合剂层570之间的通孔552中不存在中间层550(例如特别是导体(比如金属))的情况下，可以稳定地进行超声检查。为此，通孔552可能与中间层550不交叠或与窗口510与粘合剂层570之间的空隙中的导体不交叠。
通孔552的尺寸和间隙可以取决于显示装置101的尺寸而变化。此外，从中间层550的一端到通孔552的距离可以取决于中间层550的宽度而变化。例如，从中间层550的一端到通孔552的中心的距离可以在约150μm至约300μm的范围内。
图6是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示装置102的局部截面图。参考图6，粘合剂层570的至少一部分可以设置在由通孔552限定的空间中。例如，可以在形成粘合剂层570的粘合剂组合物填充在通孔552中之后实施固化，使得粘合剂层570的至少一部分可以填充通孔552。
此外，参考图6，粘合剂层570可以通过通孔552接触边框部分520。
图7是图示说明根据本发明的示例性实施方式的窗口510和中间层550的设置的平面图，并且图8是沿图7的线III-III'截取的截面图。
参考图7，中间层550具有凹部分553，并且凹部分553与边框部分520交叠。当在平面上观察时，凹部分553可以具有凹湾的形状。例如，可以通过去除构成中间层550的基底部分551的一部分来限定凹部分553。例如，凹部分553可以由基底部分551的弯曲边界限定。
参考图7和图8，中间层550围绕显示区DA。中间层550沿着窗口510的边缘形成闭环。参考图7，凹部分553朝向显示区DA敞开。
在窗口510和粘合剂层570之间的空隙中，凹部分553与导体(比如金属)不交叠。
参考图8，触摸面板560设置在窗口510和粘合剂层570之间。在本发明的这样的示例性实施方式中，凹部分553可以与触摸面板560相邻。
然而，本发明的示例性实施方式不限于此。凹部分553可以朝向与显示区DA相反的方向敞开。
凹部分553的尺寸可以由直径限定。凹部分553可以具有在约100μm至约300μm的范围内的直径。凹部分553可以允许超声波从其通过以进行超声检查操作。
在图8中，由凹部分533限定的空间被描绘为未填充有粘合剂层570。然而，本发明的示例性实施方式不限于此，并且由凹部分533限定的空间可以填充有粘合剂层570。
例如，粘合剂层570的至少一部分可以设置在由凹部分533限定的空间中。例如，可以在形成粘合剂层570的粘合剂组合物填充在凹部分533中之后实施固化，使得粘合剂层570的至少一部分填充凹部分533。
图9是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示装置104的平面图，图10是图示说明图9的一部分的细节平面图，并且图11是沿图10的线IV-IV'截取的截面图。
参考图9、图10和图11，根据本发明的示例性实施方式的显示装置104包括具有显示区DA和非显示区NDA的显示面板110、在显示面板110上的窗口510、设置在窗口510上并与非显示区NDA交叠的边框部分520、以及设置在显示面板110和窗口510之间的粘合剂层570。显示装置104还可以包括设置在边框部分520和粘合剂层570之间的中间层550。中间层550可以是导电的。中间层550包括例如金属。
显示面板110包括第一基板111和布线单元130。布线单元130在第一基板111上包括多个布线。此外，布线单元130包括由两个相邻布线W1和W2限定的宽间隙部分135。在宽间隙部分135中的两个布线W1和W2之间的间隙大于在与宽间隙部分135相邻的区域中的两个布线W1和W2之间的间隙。宽间隙部分135与边框部分520交叠。
图9中图示说明的显示装置104可以是LCD装置。然而，本发明的示例性实施方式不限于此，并且图9中图示说明的结构可以应用于OLED显示装置或另一种形式的显示装置。
图9中图示说明的显示装置104包括用于显示图像的显示面板110和向显示面板110施加数据电压的数据驱动器340。在本发明的这样的示例性实施方式中，显示面板110可以是LCD面板。
显示面板110包括第一基板111、面向第一基板111的第二基板112以及第一基板111和第二基板112之间的液晶层LC。此外，显示面板110包括用于显示图像的显示区DA和其内不显示图像的非显示区NDA。
在第一基板111上设置布线单元130。布线单元130包括多条栅极线GL、多条数据线DL和其它信号线，并且还包括多个薄膜晶体管(“TFT”)。如本文所使用的，导线可以描述栅极线GL、数据线DL、其它信号线、电源线等。
例如，多条栅极线GL和与多条栅极线GL绝缘并相交的多条数据线DL设置在显示区DA处。此外，用来显示图像的连接到栅极线GL和数据线DL的像素PX设置在显示区DA处。
栅极驱动器120连接到多条栅极线GL并且被设置在非显示区NDA处。栅极驱动器120电连接到多条栅极线GL，以顺序地对多条栅极线GL施加栅电压。
数据驱动器340连接到多条数据线DL并且被设置在非显示区NDA处。数据驱动器340包括多个驱动电路板320a、320b、320c、320d和320e。例如，多个驱动电路板320a、320b、320c、320d和320e可以是带载封装(TCP)或覆晶薄膜(COF)。多个数据驱动集成电路(“IC”)321a、321b、321c、321d和321e安装在多个驱动电路板320a、320b、320c、320d和320e上。多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e电连接到多条数据线DL，以向多条数据线DL施加数据电压。
显示装置104还可以包括控制印刷电路板(“PCB”)330，其被配置来控制栅极驱动器120和多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e的驱动。控制PCB 330输出图像数据和用于控制多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e的驱动的数据控制信号，并且输出用于控制栅极驱动器120的驱动的栅极控制信号。
控制PCB 330可以包括从外部来源接收图像数据并产生数据控制信号和栅极控制信号的定时控制器331，以及产生栅极控制信号的栅极控制电路332。然而，本发明的示例性实施方式不限于这种结构。
定时控制器331控制多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e以及栅极驱动器120的驱动。栅极控制电路332产生用于驱动栅极驱动器120的时钟信号、用于通知栅极信号的起始的起始信号等。
控制PCB 330通过多个驱动电路板320a、320b、320c、320d和320e将数据控制信号和图像数据施加到多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e。此外，控制PCB 330通过与栅极驱动器120相邻的驱动电路板320a将栅极控制信号施加到栅极驱动器120。
然而，本发明的示例性实施方式不限于此，并且多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e可以直接安装在显示面板110中，安装在柔性印刷电路膜上以附接到显示面板110，或者可以安装在单独的PCB上。在本发明的示例性实施方式中，多个数据驱动IC321a、321b、321c、321d和321e可以与显示面板110连同栅极线GL和TFT集成。根据本发明的示例性实施方式，多个数据驱动IC 321a、321b、321c、321d和321e、定时控制器331和栅极控制电路332可以集成到单个芯片中。
参见图10和图11，多条栅极线GL、多条数据线DL和多个像素PX设置在第一基板111上。
此外，数据链路布线114a、公共电压布线单元115a、栅极链路部分116a和栅极驱动器120设置在第一基板111上的非显示区NDA处。栅极驱动器120包括多个级ST。像素电极PE设置在第一基板111上的显示区DA处。遮光部分BM、滤色器CF、公共电极CE等设置在第二基板112上。
数据链路布线114a从数据线DL延伸，并且电连接数据驱动器340和数据线DL。
公共电压布线单元115a包括布置成具有均匀间隙的多个公共电压布线115。多个公共电压布线115的一端通过一个公共电压延伸布线115b连接到公共电压发生器。
多个公共电压布线115电连接到公共电极CE。
栅极链路部分116a包括在公共电压布线单元115a和栅极驱动器120之间的多条信号线116。栅极链路部分116a包括各种布线，例如栅极起始信号线、多条时钟信号线、正向信号线、反向信号线、复位信号线、基极电压线等。栅极链路部分116a的每个信号线116的一端连接到定时控制器331或栅极控制电路332。另外，栅极链路部分116a的每个信号线116的另一端通过信号连接布线116b选择性地连接到栅极驱动器120。
栅极驱动器120与像素PX的TFT一起形成。其中栅极驱动器120形成在与其上设置像素PX的TFT的基板基本上相同的基板上的这样的结构，也被称为非晶硅栅极(ASG)结构。
栅极驱动器120根据栅极起始信号、多个时钟信号、正向信号、反向信号、复位信号以及从栅极链路部分116a施加的基极电压来产生栅极信号，并且将该栅极信号施加到栅极线GL。栅极驱动器120分别包括连接到栅极线GL的多个级ST。多个级ST分别将栅极信号施加到栅极线GL。另外，相邻级ST通过用于传输进位信号的进位线CL彼此连接。
例如，响应于从栅极起始信号线或前面的极施加的栅极起始信号，多个级ST中的每个向栅极线GL施加栅极信号，该栅极信号是从多个时钟信号线中的一个施加的时钟信号。栅极线GL连接到栅极驱动器120，并将栅极信号施加到像素PX。
数据线DL设置在级ST和像素PX之间。参考图10，数据线DL在级ST和像素PX之间以阶梯状形状延伸。然而，本发明的示例性实施方式不限于此，并且数据线DL可以在级ST和像素PX之间以倾斜或弯曲的形状延伸。
参考图11，显示装置104包括密封第一基板111和第二基板112的密封部分140。密封部分140设置成与遮光部分BM交叠并且部分地与栅极驱动器120的级ST交叠。密封部分140可以通过常规方法使用本领域常规使用的材料形成。
参考图11，公共电压布线单元115a和栅极链路部分116a设置在第一基板111上，并且其上设置栅极绝缘层131、绝缘中间层169和保护层132。此外，连接各个级ST的进位线CL也设置在与其上设置公共电压布线单元115a和栅极链路部分116a的层基本上相同的层上。
参考图10和图11，在构成栅极链路部分116a的信号线116中限定宽间隙部分135。如此，宽间隙部分135可以由布线限定。
例如，宽间隙部分135可以由彼此相对的两个布线W1和W2限定，其中宽间隙部分135介于其间。参考图10，限定宽间隙部分135的两个布线W1和W2是栅极链路部分116a的信号线116。在图10中，栅极链路部分116a的信号线116中的至少两条信号线限定宽间隙部分135。
宽间隙部分135中的两个布线W1和W2之间的间隙大于与宽间隙部分135相邻的区域中的两个布线W1和W2之间的间隙。
宽间隙部分135也可以形成在数据链路布线114a和公共电压布线单元115a中。
宽间隙部分135的形状不限于任何特定的布置。例如，宽间隙部分135可以具有圆形、椭圆形、半圆形或多边形平面形状。例如，宽间隙部分135可以具有四边形或五边形平面形状。
超声波可以穿过宽间隙部分135，使得可以进行超声检查。因此，宽间隙部分135成为超声检查区域。超声检查可以确定位于宽间隙部分135上方的粘合剂层570是否被适当地固化，并且此外超声检查可以确定粘合剂层570已被固化的程度。
中间层550设置在边框部分520下方。当超声波没有顺利地通过窗口510辐射时，超声波可以辐射到第一基板111的下部用于超声检查。在本发明的这样的示例性实施方式中，超声波SS可以辐射通过形成在第一基板111上的多个布线之间的宽间隙部分135。
宽间隙部分135的尺寸可以被限定为限定宽间隙部分135的两个布线W1和W2之间的最大间隙。宽间隙部分135处的两个布线W1和W2之间的最大间隙可以在约100μm至约300μm的范围内。
宽间隙部分135可能与第一基板111和粘合剂层570之间的空隙中的导体不交叠。这种布置可以降低或防止超声信号被导体(比如金属)干扰。
参考图11，显示装置104包括设置在窗口510和粘合剂层570之间的触摸面板560。触摸面板560可以连接到中间层550。
图12是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示面板的像素布置的平面图，并且图13是沿图12的线V-V'截取的截面图。
详细地，图12和13图示说明LCD面板。
图12和图13中图示说明的LCD面板包括显示基板AS、相对基板US和设置在显示基板AS和相对基板US之间的液晶层LC。
显示基板AS包括第一基板111、TFT、像素电极PE、栅极绝缘层131和保护层132。TFT包括半导体层SM、欧姆接触层OC、栅极GE、源极SE和漏极DE。
第一基板111可以包括透明材料，比如玻璃或塑料。
多条栅极线GL和栅极GE设置在第一基板111上。栅极线GL和栅极GE一体地形成。栅极线GL和栅极GE可以包括以下或由以下形成：铝(Al)、银(Ag)、铜(Cu)、钼(Mo)、铬(Cr)、钽(Ta)、钛(Ti)或其合金。栅极线GL和栅极GE中的至少一个可以具有多层结构，该多层结构包括具有不同物理性质的至少两个导电层。
栅极绝缘层131设置在包括栅极线GL和栅极GE的第一基板111的整个表面上。栅极绝缘层131可以包括氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)。此外，栅极绝缘层131可以具有多层结构，该多层结构包括具有不同物理性质的至少两个绝缘层。
半导体层SM设置在栅极绝缘层131上。在本发明的这样的示例性实施方式中，半导体层SM与栅极绝缘层131下方的栅极GE交叠。半导体层SM可以包括非晶硅、多晶硅等。半导体层SM可以包括氧化物半导体。
欧姆接触层OC设置在半导体层SM上。例如，在除了沟道区域以外的区域中，欧姆接触层OC设置在半导体层SM上。
此外，多条数据线DL设置在栅极绝缘层131上。数据线DL与栅极线GL相交。源极SE和数据线DL一体地形成。源极SE设置在欧姆接触层OC上。漏极DE设置在欧姆接触层OC上并连接到像素电极PE。
数据线DL、源极SE和漏极DE中的至少一个可以包括以下或由以下形成：难熔金属，比如钼、铬、钽、钛或其合金。进一步，数据线DL、源极SE和漏极DE中的至少一个可以具有包括难熔金属层和低电阻导电层的多层结构。
绝缘中间层169设置在包括栅极绝缘层131、半导体层SM、数据线DL、源极SE和漏极DE的第一基板111的整个表面上。绝缘中间层169可以包括绝缘材料。绝缘层169可以保护半导体层SM的沟道区域和其它暴露部分。
在本发明的一个示例性实施方式中，从第一基板111的表面到绝缘中间层169的部分可以被称为布线单元130。
保护层132设置在绝缘中间层169上。保护层132用于平面化布线单元130的上部。因此，保护层132也被称为平坦化层/平面化层。
保护层132可以包括无机绝缘材料，比如氮化硅(SiNx)和氧化硅(SiOx)。根据本发明的示例性实施方式，保护层132可以包括有机层。根据本发明的示例性实施方式，保护层132可以具有包括下部无机层和上部有机层的双层结构。
像素电极PE设置在保护层132上。根据本发明的示例性实施方式，像素电极PE通过接触孔CH(其通过保护层132和绝缘中间层169限定)连接到漏极DE。像素电极PE可以包括透明导电材料，比如氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO)。
相对基板US包括第二基板121、滤色器层170和公共电极CE。参考图13，相对基板US还包括遮光部分BM和钝化层150。钝化层150可以设置在滤色器层170和公共电极CE之间。钝化层150可以省略。
第二基板121可以包括透明材料，比如玻璃或塑料。
遮光部分BM设置在第二基板121上。遮光部分BM具有多个开口。该开口对应于第一像素PX1、第二像素PX2和第三像素PX3的各自的像素电极PE。遮光部分BM在开口之外的地方阻挡光。例如，遮光部分BM设置在TFT、栅极线GL和数据线DL上。遮光部分BM阻挡光从其中穿过并向外引导光。遮光部分BM可以省略。
滤色器层170设置在第二基板121上并且选择性地阻挡从背光单元入射的光的波长。
滤色器层170包括滤色器CF。例如，滤色器层170可以包括第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3。
第一滤色器CF1、第二滤色器CF2和第三滤色器CF3可以通过遮光部分BM彼此区分开。各个滤色器CF1、CF2和CF3可以被设置以便于与像素PX1、PX2和PX3交叠。例如，滤色器CF1、CF2和CF3中的每个可以位于与像素电极PE对应的遮光部分BM的开口处。
滤色器CF1、CF2和CF3中的每个可以彼此交叠。
参考图13，第一滤色器CF1可以对应于红色像素PX1，第二滤色器CF2可以对应于绿色像素PX2，并且第三滤色器CF3可以对应于蓝色像素PX3。滤色器层170可以包括白色滤色器，并且可以包括具有除了红色、绿色和/或蓝色以外的颜色的滤色器。
钝化层150设置在滤色器层170上。
公共电极CE设置在钝化层150上。例如，公共电极CE可以设置在第二基板121的整个表面上。公共电极CE可以包括透明导电材料，比如ITO或IZO。
公共电极CE连同像素电极PE一起在液晶层LC之上施加电场。结果，在公共电极CE和像素电极PE之间的液晶层LC之上形成电场。
在像素电极PE上可以设置下配向层。下配向层可以是垂直配向层，并且可以包括光反应性材料。上配向层可以设置在公共电极CE上。上配向层可以包括与下配向层中包括的材料基本上相同的材料。
面向彼此的第一基板111和第二基板112的表面被限定为相应基板的上表面，并且该上表面的相对侧上的表面分别被限定为相应基板的下表面。偏振器可以分别设置在第一基板111的下表面和第二基板112的下表面上。
图14是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示面板的像素布置的平面图，并且图15是沿图14的线VI-VI'截取的截面图。
例如，图14和15中图示说明的显示面板是OLED显示面板105。OLED显示面板105包括第一基板211、驱动电路单元230和OLED 310。
第一基板211可以包括绝缘材料，比如玻璃、石英、陶瓷、塑料和/或类似物。在本发明的示例性实施方式中，可以使用聚合物膜作为第一基板211。
缓冲层220设置在第一基板211上。缓冲层220可以包括一个或多个层，该一个或多个层可以包括无机层和/或有机层。缓冲层220可以省略。
驱动电路单元230设置在缓冲层220上。驱动电路单元230包括多个TFT 10和20并且驱动OLED 310。例如，OLED 310可以根据由驱动电路单元230施加的驱动信号来发光，使得可以显示图像。
图14和图15图示说明具有双晶体管、一个电容器(“2Tr-1Cap”)结构的有源矩阵型有机发光二极管(AMOLED)显示装置105。例如，在每个像素中该2Tr-1Cap结构可以包括两个TFT(例如开关TFT 10和驱动TFT 20)和一个电容器80。然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，在每个像素中，OLED显示装置105可以包括三个或更多个TFT和两个或更多个电容器，并且还可以包括额外的布线。本文中，术语“像素”是指用于显示图像的最小单位，并且OLED显示装置105使用多个像素来显示图像。
每个像素PX包括开关TFT 10、驱动TFT 20、电容器80和OLED 310。此外，沿着一个方向延伸的栅极线251，以及与栅极线251绝缘且相交的数据线271和公共电源线272也设置在驱动电路单元230处。每个像素PX可以由栅极线251、数据线271和公共电源线272限定边界，但是本发明的示例性实施方式不限于此。像素PX可以由像素限定层290或黑矩阵限定。
OLED 310包括第一电极311、设置在第一电极311上的有机发光层312以及设置在有机发光层312上的第二电极313。有机发光层312包括低分子有机材料或高分子有机材料。空穴和电子分别从第一电极311和第二电极313注入到有机发光层312中，并在其中复合以形成激子。当激子从激发态下降到基态时，OLED 310发光。
电容器80包括一对电容器板258和278，具有介于其间的绝缘中间层260。在本发明的这样的示例性实施方式中，绝缘中间层260可以是电介质元件。电容器80的电容由累积在电容器80中的电荷和穿过该对电容器板258和278的电压来确定。
开关TFT10包括开关半导体层231、开关栅极252、开关源极273和开关漏极274。驱动TFT 20包括驱动半导体层232、驱动栅极255、驱动源极276和驱动漏极277。还设置栅极绝缘层240以使半导体层231和232与栅极252和255绝缘。
开关TFT 10可以起到选择像素以进行发光的开关元件的作用。开关栅极252与栅极线251连接，并且开关源极273与数据线271连接。开关漏极274连接到电容器板中的一个(例如电容器板258)，并与开关源极273间隔开。
驱动TFT 20向作为像素电极PE的第一电极311施加驱动功率。通过施加驱动功率，有机发光层312可以在所选择的像素内发光。驱动栅极255连接到电容器板258，该电容器板258连接到开关漏极274。驱动源极276和其他电容器板中的每个(例如电容器板278)连接到公共电源线272。驱动漏极277通过限定在平面化层265中的接触孔连接到OLED 310的第一电极311。
利用上述结构，基于施加到栅极线251的栅电压来操作开关TFT 10。开关TFT10用于将施加到数据线271的数据电压传输到驱动TFT 20。等效于由公共电源线272施加到驱动TFT 20的公共电压与由开关TFT 10(或从开关TFT 10)传输的数据电压之间的差的电压被存储在电容器80中。与存储在电容器80中的电压相对应的电流通过驱动TFT 20流向OLED310，使得OLED 310可以发光。
第一电极311可以是具有光透过性的透射电极或具有光反射性的反射电极。第二电极313可以包括半透射层或反射层。
参考图15，第一电极311是反射电极，并且第二电极313是半透射电极。在有机发光层312中产生的光通过第二电极313发射。然而，本发明的示例性实施方式不限于此。例如，第一电极311可以是光透射电极，第二电极313可以是反射电极，并且有机发光层312中产生的光可以通过第一电极311发射。
在第一电极311和有机发光层312之间还可以设置空穴注入层HIL和/或空穴传输层HTL。在有机发光层312和第二电极313之间还可以设置电子传输层ETL和/或电子注入层EIL。有机发光层312、空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、电子传输层ETL和电子注入层EIL可各自包括有机材料，因此可以称为有机层。
像素限定层290具有孔。像素限定层290的孔露出第一电极311的一部分。有机发光层312和第二电极313在像素限定层290的孔处在第一电极311上顺序堆叠。在本发明的这样的示例性实施方式中，第二电极313也可以形成在像素限定层290上以及有机发光层312上。此外，在像素限定层290和第二电极313之间还可以设置HIL、HTL、ETL和EIL。OLED 310从像素限定层290的孔中的有机发光层312发射光。像这样，像素限定层290可以限定发光区域。
在第二电极313上可以设置覆盖层以保护OLED 310免受外部环境的影响。
在第二电极313上设置第二基板212。第二基板212连同第一基板211一起用于密封OLED 310。类似于第一基板211，第二基板212可以包括绝缘材料，比如玻璃、石英、陶瓷、塑料和/或类似物。
图16是图示说明根据本发明的示例性实施方式的显示面板的截面图。图16中图示说明的显示面板是OLED显示面板106。
图16图示说明的OLED显示面板106包括设置在第二电极313上以保护OLED 310的薄膜封装层350。
薄膜封装层350包括一个或多个无机层351和353以及至少一个有机层352。这些无机/有机层351、352、353可以防止比如水分或氧气的外部空气渗入OLED 310。
薄膜封装层350可以具有其中无机层351和353以及有机层352交替堆叠的结构。在图16中，薄膜封装层350包括两个无机层351和353以及一个有机层352，但是薄膜封装层350的结构不限于此。
无机层351和353中的每个可以包括Al2O3、TiO2、ZrO、SiO2、AlON、AlN、SiON、Si3N4、ZnO和/或Ta2O5。无机层351和353可以通过比如化学气相沉积(CVD)法或原子层沉积(ALD)法的方法形成。然而，本发明的示例性实施方式不限于此，并且无机层351和353可以使用本领域技术人员已知的各种方法形成。
有机层352可以包括聚合物类材料。聚合物类材料可以包括例如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺和/或聚乙烯。此外，有机层352可以通过热沉积工艺形成。用于形成有机层352的热沉积工艺可以在可能不损坏OLED 310的温度范围内实施。然而，示例性实施方式不限于此，并且有机层352可以使用所属领域技术人员已知的各种其它方法来形成。
无机层351和353可以具有高密度并且可以防止或有效地减少比如水分或氧气的污染物的渗透。可以通过无机层351和353很大程度地防止水分和氧气渗入OLED 310，尽管无机层351和353可以形成为薄膜。
已经穿过无机层351和353的水分和氧气可以进一步被有机层352阻挡。与无机层351和353相比，有机层352可以具有相对低的防止水分渗透的功效。然而，除了防止水分渗透的功能之外，有机层352还可以用作缓冲层，以降低各个无机层351和353以及有机层352之间的应力。进一步，由于有机层352具有平面化特性，薄膜封装层350的最上表面可以被有机层352平面化。
薄膜封装层350可以具有约10μm或更小的厚度。因此，OLED显示装置106也可以相对薄。通过以这种方式应用薄膜封装层350，OLED显示装置106可以是柔性的。
在省略第二基板212并且使用柔性基板作为第一基板211的情况下，OLED显示面板106可以用于柔性显示装置中。
如本文所述，在本发明的一个或多个示例性实施方式中，显示装置具有用于确认粘合剂层是否固化的超声波传输区。因此，可以经由通过超声波传输区辐射超声波来确认粘合剂层的固化。
从上文中，将理解的是，为了说明的目的，本文已经描述了根据本公开的各种示例性实施方式，并且在不脱离本教导的范围和精神的情况下可以进行各种修改。因此，本文公开的各种实施方式不旨在限制本教导的真实范围和精神。上述和其它示例性实施方式的各种特征可以以任何方式混合和匹配，以产生与本发明一致的另外的示例性实施方式。

Claims (36)

1.一种显示装置，包括：
具有显示区和非显示区的显示面板；
设置在所述显示面板上的窗口；
设置在所述窗口上的边框部分，所述边框部分至少部分地与所述非显示区交叠；
设置在所述显示面板和所述窗口之间的粘合剂层；以及
设置在所述边框部分和所述粘合剂层之间的中间层，
其中所述中间层具有与所述边框部分交叠的至少一个超声传输区，
其中所述超声传输区与在所述窗口和所述粘合剂层之间的空隙中的导体不交叠。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述至少一个超声传输区是通孔。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中所述通孔具有在100μm至300μm的范围内的直径。
4.根据权利要求1所述的显示装置，进一步包括设置在所述窗口和所述粘合剂层之间的触摸面板。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中所述触摸面板连接到所述中间层。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述中间层与所述显示区不交叠，并且所述中间层沿着所述窗口的边缘形成闭环。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述中间层是导电的。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述中间层包括金属或透明导电氧化物。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述粘合剂层包括光固化粘合剂。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述粘合剂层的至少一部分设置在由所述至少一个超声传输区限定的空间内。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述粘合剂层通过所述至少一个超声传输区接触所述边框部分。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述中间层包括被所述边框部分交叠的基底部分，并且
其中所述中间层的所述基底部分包括一个或多个超声传输区，所述一个或多个超声传输区被配置来以比所述基底部分更大的程度传输超声波。
13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示面板进一步包括：
第一基板；
与所述第一基板相对的第二基板；以及
设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层。
14.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述显示面板进一步包括：
第一基板；
设置在所述第一基板上的第一电极；
设置在所述第一电极上的有机发光层；以及
设置在所述有机发光层上的第二电极。
15.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述至少一个超声传输区是凹部分，并且所述凹部分至少部分地与所述边框部分交叠。
16.根据权利要求15所述的显示装置，其中所述中间层平面上至少部分地围绕所述显示区。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述凹部分在朝向所述显示区的方向上是敞开的。
18.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述凹部分与在所述窗口与所述粘合剂层之间的空隙中的导体不交叠。
19.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述凹部分具有在100μm至300μm的范围内的直径。
20.一种显示装置，包括：
具有显示区和非显示区的显示面板；
设置在所述显示面板上的窗口；
设置在所述窗口上的边框部分，所述边框部分至少部分地与所述非显示区交叠；以及
设置在所述显示面板和所述窗口之间的粘合剂层，
其中所述显示面板包括：
第一基板；以及
布线单元，所述布线单元包括设置在所述第一基板上的多个布线，
其中所述布线单元具有由两个邻近布线限定的宽间隙部分，
其中，所述宽间隙部分中的两个布线之间的间隙的尺寸大于与所述宽间隙部分相邻的区域中的两个布线之间的间隙的尺寸，并且
其中所述宽间隙部分至少部分地与所述边框部分交叠，
其中所述宽间隙部分是超声检查区域，并且
其中所述宽间隙部分与在所述第一基板和所述粘合剂层之间的空隙中的导体不交叠。
21.根据权利要求20所述的显示装置，其中，所述宽间隙部分中的所述两个布线之间的间隙的长度在100μm至300μm的范围内。
22.根据权利要求20所述的显示装置，进一步包括设置在所述窗口和所述粘合剂层之间的触摸面板。
23.根据权利要求20所述的显示装置，进一步包括设置在所述边框部分和所述粘合剂层之间的金属层，所述金属层包括金属。
24.一种显示装置，包括：
具有显示区和非显示区的显示面板；
设置在所述显示面板上的窗口；
设置在所述显示面板和所述窗口之间的粘合剂层；以及
放置在所述非显示区上且在所述窗口和所述粘合剂层之间的遮光图案，
其中所述遮光图案具有至少一个超声传输区，
其中所述超声传输区与在所述窗口和所述粘合剂层之间的空隙中的导体不交叠。
25.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述至少一个超声传输区是通孔。
26.根据权利要求25所述的显示装置，其中所述通孔具有在100μm至300μm的范围内的直径。
27.根据权利要求24所述的显示装置，进一步包括设置在所述窗口和所述粘合剂层之间的触摸面板。
28.根据权利要求27所述的显示装置，其中所述触摸面板连接到所述遮光图案。
29.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述遮光图案与所述显示区不交叠，并且所述遮光图案沿着所述窗口的边缘形成闭环。
30.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述遮光图案是导电的。
31.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述遮光图案包括金属或透明导电氧化物。
32.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述粘合剂层包括光固化粘合剂。
33.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述粘合剂层的至少一部分设置在由所述至少一个超声传输区限定的空间内。
34.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述显示装置进一步包括设置在所述窗口上的边框部分，所述遮光图案包括被所述边框部分交叠的基底部分，并且
其中所述遮光图案的所述基底部分包括一个或多个超声传输区，所述一个或多个超声传输区被配置来以比所述基底部分更大的程度传输超声波。
35.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述显示面板进一步包括：
第一基板；
与所述第一基板相对的第二基板；以及
设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层。
36.根据权利要求24所述的显示装置，其中所述显示面板进一步包括：
第一基板；
设置在所述第一基板上的第一电极；
设置在所述第一电极上的有机发光层；以及
设置在所述有机发光层上的第二电极。
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