JP7010639B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、表示装置に関し、特に粘着層を有する表示装置に対するものである。

最近では、表示装置として、液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ ｄｉｓｐｌａｙ；ＯＬＥＤ ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマ表示装置（ｐｌａｓｍａ ｄｉｓｐｌａｙ ｐａｎｅｌ；ＰＤＰ）、電気泳動表示装置（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ ｄｉｓｐｌａｙ）などといった平板表示装置（flat panel display）が使用されている。

表示装置は、順次に積層された複数の層を含む。これらの複数の層が相互に固定されるようにするために、隣接する２つの層の間に粘着層が配置される。例えば、表示パネルの表示面に、タッチパネル、透明保護板（ウィンドウ）または光学シートが、透明の粘着層（Optically Clear Adhesive layer）を介して貼り付けられる。

粘着層として、例えば、硬化によって安定した接着力を有する光硬化性粘着層が使用され得る。これらの光硬化性粘着層は、十分に硬化されていない場合、弱い接着力を持ち、時間が経つにつれて接着力が弱くなりうる。従って、光硬化性粘着層が十分に硬化されたか否かを確認する必要がある。

本発明の一実施例は、粘着層が硬化したか否かを容易に確認できる表示装置を提供しようとする。

また、本発明の他の一実施例は、超音波透過領域を持つ表示装置を提供しようとする。

このために、本発明の一実施例は、表示部と非表示部を有する表示パネルと、前記表示パネル上に配置されたウィンドウと、前記ウィンドウに配置され、前記非表示部と重なるベゼル部と、前記表示パネルと前記ウィンドウとの間に配置された粘着層と、前記ベゼル部と前記粘着層との間に重なるように介在された中問層（ｉｎｔｅｒｌａｙｅｒ）と、を含み、前記中問層は、前記ベゼル部と重なる少なくとも一つのスルーホールを有する表示装置を提供する。

前記表示装置は、前記ウィンドウと前記粘着層との間に配置されたタッチパネルをさらに含む。

前記タッチパネルは、前記中問層と連結される。

前記中問層は、前記表示部と重ならず、前記ウィンドウの縁に沿って閉曲線を形成する。

前記中問層は、導電性を有する。

前記中問層は、金属及び透明導電性酸化物（ＴＣＯ）のうちの少なくとも一つを含む。

前記スルーホールは、１００μｍ～３００μｍの直径を持つ。

前記スルーホールは、前記ウィンドウと前記粘着層との間の空間で導電体と重ならない。

前記粘着層は、光硬化性を持つ。

前記粘着層の少なくとも一部は、前記スルーホールによって定義される空間に配置される。

前記粘着層は、前記スルーホールを介して前記ベゼル部と接触する。

前記表示パネルは、第１基板と、前記第１基板と対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を含む。

前記表示パネルは、第１基板と、前記第１基板上に配置された第１電極と、前記第１電極上に配置された有機発光層と、前記有機発光層上に配置された第２電極と、を含む。

本発明の他の一実施例は、表示部と非表示部を有する表示パネルと、前記表示パネル上に配置されたウィンドウと、前記ウィンドウに配置され、前記非表示部と重なり合うベゼル部と、前記表示パネルと前記ウィンドウとの間に配置された粘着層と、前記ベゼル部と前記粘着層との間に重なるように介在された中問層と、を含み、前記中問層は、平面図で見た場合の凹部を有し、前記凹部は、前記ベゼル部と重畳する表示装置を提供する。

前記中問層は、平面図で見て前記表示部を取り囲んでいる。

前記凹部は、前記表示部に向かって開いている。

前記凹部は、前記ウィンドウと前記粘着層との間の空間で導電体と重ならない。

前記表示装置は、前記ウィンドウと前記粘着層との間に配置されたタッチパネルをさらに含む。

前記凹部は、１００μｍ～３００μｍの直径を持つ。

前記中問層は、導電性を有する。

本発明のまた他の一実施例は、表示部と非表示部を有する表示パネルと、前記表示パネル上に配置されたウィンドウと、前記ウィンドウ上に配置され、前記非表示部と重なり合うベゼル部と、前記表示パネルと前記ウィンドウとの間に配置された粘着層と、を含み、前記表示パネルは、第１基板と、前記第１基板上に配置された複数の配線を有する配線部と、を含み、前記配線部は、互いに隣接する２つの配線によって範囲が区切られる広間隔部を有し、前記広間隔部で前記２つの配線間の間隔は、広間隔部と隣接した領域での間隔よりも大きく、前記広間隔部は、前記ベゼル部と重畳する表示装置を提供する。

前記広間隔部は、超音波検査領域である。

前記広間隔部で前記２つの配線間の間隔は、１００μｍ～３００μｍである。

前記広間隔部は、前記第１基板と前記粘着層との間の空間で導電体と重ならない。

前記表示装置は、前記ウィンドウと前記粘着層との間に配置されたタッチパネルをさらに含む。

前記表示装置は、前記ベゼル部と前記粘着層との間に配置された金属層をさらに含む。

本発明の一実施例による表示装置は、粘着層が硬化したか否かを確認できる超音波透過領域を持つ。これらの超音波透過領域を介して超音波を照射して粘着層が硬化したか否かを容易に確認することができる。

本発明の一実施例による表示装置の斜視図である。 図１のＩ－Ｉ’に沿って切った断面図である。 ウィンドウと中問層の配置に対する平面図である。 図３のＩＩ－ＩＩ’に沿って切った断面図である。 光照射及び超音波照射を説明する断面図である。 本発明の他の一実施例による表示装置の部分断面図である。 本発明のまた他の一実施例によるウィンドウと中問層の配置に対する平面図である。 図７のＩＩＩ－ＩＩＩ’に沿って切った断面図である。 本発明のまた他の一実施例による表示装置の平面図である。 図９の一部分に対する詳細平面図である。 図１０のＩＶ－ＩＶ’に沿って切った断面図である。 本発明のまた他の一実施例による表示パネルの画素配置に対する平面図である。 図１２のＶ－Ｖ’に沿って切った断面図である。 本発明のまた他の一実施例による表示パネルの画素配置に対する平面図である。 図１４のＶＩ－ＶＩ’に沿って切った断面図である。 本発明のまた他の一実施例による表示パネルの断面図である。

以下、添付図面を参照して本発明を詳細に説明する。

本発明は、様々な変更が可能であり、様々な形態で実施され得るところ、特定の実施例のみが図面に例示され、これを中心に、本発明が説明される。だからと言って、本発明の範囲がこれらの特定の実施例に限定されるものではない。本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物または代替物は、本発明の範囲に含まれるものと理解されるべきである。

図面で各構成要素とその形状などが簡略に描かれたり、または誇張されて描かれたりし、実際製品にある構成要素が表現されず、省略されることもある。したがって、図面は、発明の理解を助けるためのものと解釈されるべきである。また、同一の機能をする構成要素は、同一の符号で表示される。

ある層や構成要素が異なる層や構成要素の‘上’にあると記載されのは、ある層や構成要素が異なる層や構成要素と直接接触して配置された場合だけでなく、その間に第３の層が介在されて配置された場合まですべて含む意味である。

ある部分が他の部分と連結されているとするとき、これは直接的に連結されている場合だけでなく、その中間に他の構成要素を置いて電気的に連結されている場合も含む。また、ある部分がある構成要素を含むとするとき、これは特に反対される記載がない限り、他の構成要素を除去するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。

本明細書において、第１、第２、第３などの用語は、様々な構成要素などを説明するのに使用されるが、構成要素などがこれらの用語によって限定されるものではない。前記用語などは、一つの構成要素を他の構成要素などから区別する目的で使用される。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに、第１構成要素が、第２または第３構成要素などと命名されることができ、同様に、第２または第３構成要素も交互的に命名され得る。例えば、“Ａ”という構成要素は、“第１Ａ”、“第２Ａ”または“第３Ａ”と表現され得る。

空間的に相対的な用語である“下（ｂｅｌｏｗ）”、“下（ｂｅｎｅａｔｈ）”、“下部（ｌｏｗｅｒ）”、“上（ａｂｏｖｅ）”、“上部（ｕｐｐｅｒ）”などは、図面に示されているように、一つの素子または構成要素などと異なる素子または構成要素などとの相関関係を容易に記述するために使用され得る。空間的に相対的な用語は、図面に示されている方向に加えて使用時または動作時、素子の互いに異なる方向を含むものと理解されるべきである。例えば、図面に示されている素子を裏返す場合、他の素子の“下（ｂｅｌｏｗ、ｂｅｎｅａｔｈ）”に配置されたものとして記述された素子は、他の素子の“上（ａｂｏｖｅ）”に置かれることとなりうる。したがって、例示的な用語である“下”は、下と上の方向の両方を含むことができる。素子は、他の方向を向くように配置することもでき、これにより、空間的に相対的な用語は、素子の配置方向にしたがって解釈され得る。なお、本願において「重なる」とは、平面表示装置または表示パネルなどの「平面図で見た場合」に、互いに重なっていることを意味するものとする。

他の定義がなければ、本明細書で使用されるすべての用語（技術及び科学的用語を含む）は、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者に共通的に理解され得る意味で使用され得るだろう。また、一般的に使用される事前に定義されている用語は、明白に特別に定義されていない限り、過度に解釈されない。

本発明を明確に説明するために説明と関係ない部分は、省略されており、明細書全体を通じて同一または類似の構成要素については、同一の参照符号が付けられる。

以下、図１～図５を参照して本発明の一実施例を説明する。

図１は、本発明の一実施例による表示装置１０１の斜視図であり、図２は、図１のＩ－Ｉ’に沿って切った断面図である。

図１及び図２に示された表示装置１０１は、平板状のウィンドウ５１０と、ウィンドウ５１０と結合されて収納空間を形成するトレイ状のケース５３０と、ウィンドウ５１０とケース５３０によって作られた平板状の空間に配置された表示パネル１１０と、を含む。ここで、ウィンドウ５１０は、表示パネル１１０における、少なくとも表示領域の全体を覆う、透明材料からなる保護板である。

表示パネル１１０は、支持部５４０と共にケース５３０に装着される。支持部５４０は、例えば、クッション部材であり得るが、これに限定されるものではない。支持部５４０に、表示パネル１１０の駆動のための素材などを配置することもでき、例えば、バッテリーなどを配置することもできる。

表示パネル１１０は、表示部ＤＡと非表示部ＮＤＡを有する。表示部ＤＡは、画像が表示される部分である。非表示部ＮＤＡは、例えば、表示部ＤＡを囲む形態を有することができる。表示パネル１１０としては、例えば、液晶表示パネル、有機発光表示パネルなどがある。表示パネル１１０の詳細な構造は後述する。

表示パネル１１０上に配置されたウィンドウ５１０は、ガラス、プラスチックなどの光透過性部材で作られうる。

ウィンドウ５１０は、一実施形態において、ガラス材で形成されるカバーガラス（ガラスフィルム）であり、具体例によると、アルミノシリケートガラス（aluminosilicate glass）、ソーダライムガラス（soda‐lime glass）などからなる厚さ0.15～0.4mmのガラス板に、これより厚みの小さい、樹脂フィルム（resin film）、コーティング層(coating layer)などが、適宜に積層されたものである。ウィンドウ５１０は、他の一実施形態において、アクリレート、ポリカーボネートなどからなるプラスチック板に、コーティング層(coating layer)、透明粘着剤層（Optically Clear Adhesive layer）などが、適宜に積層されたものである。

ベゼル部５２０は、ウィンドウ５１０に備え付けられるように配置され、表示パネル１１０の非表示部ＮＤＡと重なり合う。図１及び図２を参照すると、ウィンドウ５１０の縁部の全体にわたってベゼル部５２０が配置される。例えば、ウィンドウ５１０の縁部に不透明コーティング層を形成することによってベゼル部５２０が作られるうる。ベゼル部５２０は、ウィンドウ５１０の表面から突出することもできる。

これと異なり、ウィンドウ５１０の縁に沿って延びる凹陥部を形成した後、この凹陥部に不透明コーティング層を充填することによっても、ベゼル部５２０が作られうる。この場合、ベゼル部５２０は、ウィンドウ５１０の表面から突出しないのでありうる。

ベゼル部５２０は、特には、ウィンドウ５１０の縁部の下面に配置することができる。すなわち、ウィンドウ５１０の縁部と、表示パネル１１０の周縁の非表示部ＮＤＡとの間に配置することができる。ベゼル部５２０は、外見上、表示装置の表側に取り付けられる枠縁状の金属フレーム（ベゼル）のように見える部分であって、表示装置の外観デザインまたは遮光などの目的で設けられるのでありうる。そのため、ベゼル部５２０は、図１及び図３に示すように、表示パネル１１０がなす長方形の一方の短辺に沿った箇所では、駆動回路部を覆うように他の部分より幅広でありうる。

ベゼル部５２０は、顔料などの着色料を含有するコーティング層に代えて、長方形リング状に打ち抜いた不透明フィルムを貼り付けることで設けることもできる。ベゼル部５２０は、ウィンドウ５１０の表面から突出する場合の突出寸法が、例えば0.1～0.2ｍｍであり、タッチパネル５６０の厚みが例えば１～２ｍｍであるのに比べて、通常、かなり小さい。

表示パネル１１０とウィンドウ５１０との間に粘着層５７０が配置される。また、ベゼル部５２０と粘着層５７０との間に中問層（ｉｎｔｅｒｌａｙｅｒ）５５０が介在される。図２を参照すると、ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間にタッチパネル５６０が配置される。粘着層５７０によってタッチパネル５６０は、表示パネル１１０に取り付けられる。

タッチパネル５６０は、タッチを認識して情報を入力する手段である。タッチパネル５６０は、タッチを認識するための複数のセンサー電極を含むことができる。タッチパネル５６０の種類が、特に限定されるものではない。

タッチパネル５６０は、中問層５５０と連結され得る。本発明の一実施例によると、中問層５５０は、導電性を有することができる。導電性を有する中問層５５０は、例えば、接地部（ｇｒｏｕｎｄ）の役割をすることができる。これらの中問層５５０は、タッチパネル５６０における静電気の発生を防止することができる。また、中問層５５０は、タッチパネル５６０を他の端子または装置と連結する配線の役割をすることもできる。中問層５５０の役割は、中問層５５０の材料または設計などによって変わることができる。

中問層５５０は、金属を含むことができる。中問層５５０は、金属以外の他の元素をさらに含むこともでき、含まないこともできる。例えば、中問層５５０は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）及びチタン（Ｔｉ）のうちの少なくとも一つを含むことができる。

中問層５５０は、単一層で作られることもでき、複数個の層が積層された積層構造を持つこともできる。中問層５５０は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）などの金属で作られた金属層を含むことができる。また、中問層５５０は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＩＧＺＯなどといった透明導電性酸化物（ＴＣＯ）でも作られうる。すなわち、中問層５５０は、金属層及び透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層のうちの少なくとも一つを含むことができる。

中問層５５０は、具体的な一実施形態において、金属シート、金属層及び樹脂層からなる積層シート、または、金属メッシュを樹脂中に埋め込んだシートを、角を丸めた長方形リング状に打ち抜いた形の導電部材でありうる。この中問層５５０としての部材は、例えば、タッチパネル５６０に嵌め合わせておき、タッチパネル５６０とともに、光硬化前の粘着層５７０を介して、表示パネル１１０に貼り付けることができる。中問層５５０の厚みは、タッチパネル５６０の厚みと実質的に同一とすることができる。

図３は、ウィンドウ５１０と中問層５５０の配置に対する平面図であり、図４は、図３のＩＩ－ＩＩ’に沿って切った断面図である。

図３及び図４を参照すると、中問層５５０は、ベゼル部５２０上に配置される。中問層５５０は、表示パネル１１０の表示部ＤＡと重らないようにして、ウィンドウ５１０の縁に沿って閉曲線を形成する。

また、中問層５５０は、ベゼル部５２０と重なるように配置される少なくとも一つのスルーホール５５２を有する。例えば、中問層５５０は、基材部５５１及び基材部５５１の一部が除去されて形成されたスルーホール５５２を有することができる。ここで、基材部５５１は、例えば、導電性物質で作られうる。

スルーホール５５２は、超音波を通過させる。超音波を利用して粘着層５７０が硬化したか否かを確認する超音波検査過程において、スルーホール５５２は、超音波検査領域になる。本発明の一実施例において、超音波検査領域は、超音波を通過させて超音波検査が行われるようにする領域を意味する。したがって、超音波検査領域は、超音波通過領域ともいえる。

このように、スルーホール５５２によって範囲が決められる超音波検査領域が確保される場合、円滑な超音波検査が行われることができる。それに応じて、粘着層５７０が硬化したか否かまたは未硬化不良か否かを確認することができる。

超音波を通過させることができさえすれば、スルーホール５５２の大きさに制限があるわけではない。スルーホール５５２の大きさが小さければ、超音波通過に困難がありうるのであり、スルーホール５５２の大きさが不必要に大きな場合、スルーホール５５２が過度な面積を占めて、それに応じて、ベゼル部５２０の面積の大きくなる問題点がある。スルーホール５５２の大きさは、スルーホール５５２の直径で表示され得る。

超音波発生器の大きさまたは超音波検査用プローブの大きさを考慮するとき、スルーホールは、例えば、１００μｍ～３００μｍの直径を持つことができる。

スルーホール５５２の形状に特別な制限があるわけではない。スルーホール５５２は、円形、楕円形(ellipse)、卵円形(ovoid)、半円形、多角形などの平面形状を有することができる。例えば、スルーホール５５２は、四角形または五角形の平面形状、特には正方形または正五角形の平面形状を有することもできる。

超音波は、互いに異なる材質からなる層同士の間の界面で伝播速度が変わりうるのであり、反射が起こりうる。例えば、超音波の通過領域に中問層５５０が介在される場合、中問層５５０と他の層との間の界面で、超音波の進行速度が変わりうるのであり、超音波が反射しうる。したがって、超音波の通過領域に層間の界面が複数存在する場合、超音波検査の速度及び正確度が低下しうる。

特に、超音波の通過領域に金属といった導電体が存在する場合、正確な超音波検査が行われないことがありうる。超音波通過領域に金属のような導電体が存在する場合、超音波の進行速度または超音波の反射特性が変わりうるのであり、それに伴い超音波検査の過程で信号の撹乱が起こりうる。

本発明の一実施例によると、スルーホール５５２は、ウィンドウ５１０の縁部と、粘着層５７０の縁部との間の空間で、導電体と重ならない。この空間は、特には、タッチパネル５６０を囲む長方形リング状の空間である。すなわち、ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間のスルーホール５５２の領域には導電体が配置されない。それに伴い、より正確な超音波測定が可能となっている。

図５は、光照射及び超音波照射を説明する断面図である。

粘着層５７０は、表示パネル１１０とタッチパネル５６０とを互いに取り付けるために使用される。表示パネル１１０とタッチパネル５６０との間に粘着剤組成物を配置して粘着層５７０を形成した後、粘着層５７０に光を照射して粘着層５７０を硬化させることにより、粘着層５７０が安定した接着力を持つようにすることができる。このように、光硬化によって安定した接着力を持つ粘着層５７０は、光硬化性粘着層とも呼ばれている。

図５を参照すると、ウィンドウ５１０を介して光Ｌ１が照射されて、粘着層５７０が硬化され得る。このとき、光Ｌ１として、紫外線ＵＶが照射され得る。

ところが、ベゼル部５２０の下部には、光Ｌ１が遮断され、ベゼル部の下部に位置する粘着層５７０は、十分に硬化されないこともありうる。ベゼル部５２０の下部における未硬化を防止するために、粘着層５７０の側面から光Ｌ２、例えば紫外線が照射されることもある。側面から照射される光Ｌ２の透過率には限界があるので、ベゼル部５２０の下部、例えば、図５の“Ａ”領域に位置する粘着層５７０が十分に硬化されないこともありうる。粘着層５７０が十分に硬化されない場合、粘着層５７０が強い接着力を持たないのでありえ、時間が経つにつれて粘着層５７０の接着力が弱くなるのでありうる。

したがって、ベゼル部５２０下部の粘着層５７０が十分に硬化されたことを確認するために、超音波検査が実施され得る。超音波検査のために、ベゼル部５２０の下部に超音波ＳＳが照射される。超音波ＳＳは、スルーホール５５２を介して粘着層５７０まで照射される。ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間のスルーホール５５２に中問層５５０が存在しない場合、特には金属などの導電体が存在しない場合、安定した超音波検査が可能である。このために、ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間の空間でスルーホール５５２が中問層５５０または導電体と重らないようにすることができる。

スルーホール５５２の大きさと間隔は、表示装置１０１の大きさに応じて変わりうる。また、中問層５５０の一端からスルーホール５５２までの距離は、中問層５５０の幅に応じて変わりうる。例えば、中問層５５０の一端からスルーホール５５２の中心までの距離は、１５０μｍ～３００μｍ程度であり得る。

なお、粘着層５７０には、「Optically Clear Adhesive」として市販されている各種の粘着シート製品や、「Liquid optically clear adhesive」として市販されている各種の液状製品を用いることができる。粘着層５７０は、例えば、WO2013／088889に記載されたように、（メタ）アクリル基含有ポリオレフィン化合物と、（メタ）アクリル系モノマーと、光重合開始剤とを含むものを用いることができる。

図６は、本発明の他の一実施例による表示装置１０２の部分断面図である。図６を参照すると、粘着層５７０の少なくとも一部は、スルーホール５５２によって区切られる空間、すなわちスルーホール５５２の内部の空間に配置され得る。例えば、粘着層５７０の形成のための粘着剤組成物がスルーホール５５２に充填された後、硬化が行われ、粘着層５７０の少なくとも一部がスルーホール５５２を充填する構造が作られうる。

また、図６を参照すると、粘着層５７０は、スルーホール５５２を介してベゼル部５２０と接触することができる。

図７は、本発明のさらに他の一実施例によるウィンドウ５１０と中問層５５０の配置に対する平面図であり、図８は、図７のＩＩＩ－ＩＩＩ’に沿って切った断面図である。

図７を参照すると、中問層５５０は、上記のスルーホール５５２に代えて、平面図で見た場合の凹部５５３を有し、凹部５５３は、厚み方向に貫通しており、ベゼル部５２０と重なる。平面図を基準に、凹部５５３は、窪んだ湾（ｂａｙ）の形態を有する。例えば、凹部５５３は、中問層５５０を構成する基材部５５１の一部が除去されて作られうる。すなわち、凹部５５３は、基材部５５１の曲線型の境界を輪郭とするものであり得る。

図７及び図８を参照すると、中問層５５０は、表示部ＤＡを囲んでいる。中問層５５０は、ウィンドウ５１０の縁に沿って延びる閉曲線を形成する。図７によると、凹部５５３は、表示部ＤＡに向かって開いている。

凹部５５３は、ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間の空間にて金属などの導電体と重ならない。

図８を参照すると、ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間にタッチパネル５６０が配置される。この場合、凹部５５３は、その開口が、タッチパネル５６０の周面によって塞（ふさ）がれるのでありうる。

しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではない。凹部５５３は、表示部ＤＡの反対方向に向かって開いたものとすることもできる。

凹部５５３の大きさは、直径で表示され得る。凹部５５３は、１００μｍ～３００μｍの直径を持つことができる。凹部５５３は、超音波を通過させて、円滑な超音波検査が行われるようにする。

図８に、凹部５３３によって範囲が区切られる空間が粘着層５７０で満たされないことが示されている。しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、凹部５３３内の空間が粘着層５７０で充填されるのでもありうる。

すなわち、粘着層５７０の少なくとも一部は、凹部５３３によって範囲が区切られる空間に配置され得る。例えば、粘着層５７０の形成のための粘着剤組成物が凹部５３３に充填された後、硬化が行われて、粘着層５７０の少なくとも一部が、凹部５３３を充填する構造が作られるのでありうる。

以上に説明した実施形態において、中間層５５０に設けられるスルーホール５５２や凹部５３３は、厚み方向に貫通しているものとして説明した。しかし、例えば、中間層が金属層または金属メッシュと、エラストマー樹脂層との積層シートからなるならば、場合によっては、金属層または金属メッシュが省かれ、エラストマー樹脂層が残るものでも良い。

図９は、本発明のさらに他の一実施例による表示装置１０４の平面図である。図１０は、図９の一部分についての詳細な平面図であり、図１１は、図１０のＩＶ－ＩＶ’に沿って切った断面図である。

図９、図１０及び図１１を参照すると、本発明のさらに他の一実施例による表示装置１０４は、表示部ＤＡと非表示部ＮＤＡを有する表示パネル１１０と、表示パネル１１０上に配置されたウィンドウ５１０と、ウィンドウ５１０上に配置され、非表示部ＮＤＡと重なるベゼル部５２０と、表示パネル１１０とウィンドウ５１０との間に配置された粘着層５７０と、を含む。表示装置１０４は、ベゼル部５２０と粘着層５７０との間に配置された中問層５５０をさらに含むことができる。中問層５５０は、導電性を有することができる。中問層５５０は、例えば、金属を含む。

表示パネル１１０は、第１基板１１１及び配線部１３０を含む。配線部１３０は、第１基板１１１上に配置された複数の配線を有する。また、配線部１３０は、互いに隣接する２つの配線ｗ１、ｗ２によって挟まれる広間隔部１３５を有する。広間隔部１３５において２つの配線ｗ１、ｗ２間の間隔は、広間隔部と隣接した領域における間隔よりも大きい。広間隔部１３５は、ベゼル部５２０と重なる。

図９に示された表示装置１０４は、液晶表示装置である。しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、図９に示された構造は、有機発光表示装置にも適用され得る。

図９に示された表示装置１０４は、映像を表示する表示パネル１１０、及び、表示パネル１１０にデータ電圧を供給するデータ駆動部３４０を含む。ここでの表示パネル１１０は、液晶表示パネルである。

表示パネル１１０は、第１基板１１１と、第１基板１１１と向き合う第２基板１１２と、第１基板１１１と第２基板１１２との間に介在された液晶層ＬＣを含む。また、表示パネル１１０は、映像を表示する表示部ＤＡと映像を表示しない非表示部ＮＤＡを含む。

配線部１３０は、第１基板１１１上に配置される。配線部は、複数のゲートラインＧＬ、複数のデータラインＤＬ及び他の信号ラインなどを含み、複数の薄膜トランジスタＴＦＴを含む。ゲートラインＧＬ、データラインＤＬ、他の信号ライン及び電源ラインなどを含む導電性ラインを区別せずに配線とする。

具体的に、複数のゲートラインＧＬ、及び、複数のゲートラインＧＬと絶縁されて交差する複数のデータラインＤＬが表示部ＤＡに配置される。また、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬと連結されて画像を表示する画素ＰＸが、表示部ＤＡに配置される。

ゲート駆動部１２０は、複数のゲートラインＧＬと連結されて非表示部ＮＤＡに配置される。ゲート駆動部１２０は、複数のゲートラインＧＬと電気的に連結されて、ゲート電圧を複数のゲートラインＧＬに順次に印加する。

データ駆動部３４０は、複数のデータラインＤＬと連結されて非表示部ＮＤＡに配置される。データ駆動部３４０は、複数の駆動回路基板３２０ａ、３２０ｂ、３２０ｃ、３２０ｄ、３２０ｅを含む。例えば、複数の駆動回路基板３２０ａ、３２０ｂ、３２０ｃ、３２０ｄ、３２０ｅは、テープキャリアパッケージ（ｔａｐｅ ｃａｒｒｉｅｒ ｐａｃｋａｇｅ；ＴＣＰ）またはチップオンフィルム（ｃｈｉｐ ｏｎ ｆｉｌｍ；ＣＯＦ）と呼ばれるものであり得る。複数の駆動回路基板３２０ａ、３２０ｂ、３２０ｃ、３２０ｄ、３２０ｅに、複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅがそれぞれ実装される。複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅは、複数のデータラインＤＬに電気的に連結されて、複数のデータラインＤＬにデータ電圧を供給する。

表示装置１０４は、ゲート駆動部１２０と複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅの駆動を制御するためのコントロール印刷回路基板３３０をさらに含む。コントロール印刷回路基板３３０は、複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅの駆動を制御するデータ制御信号と映像データを出力し、ゲート駆動部１２０の駆動を制御するゲート制御信号を出力する。

コントロール印刷回路基板３３０は、外部から映像データの入力受けて、データ制御信号とゲート制御信号を生成するタイミングコントローラ３３１、及びゲート制御信号を生成するゲート制御回路３３２を含むことができる。しかし、本発明の一実施例がこのような構造に限定されるものではない。

タイミングコントローラ３３１は、複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅとゲート駆動部１２０の駆動を制御する。ゲート制御回路３３２は、ゲート駆動部１２０の駆動のためのクロック信号、ゲート信号の開始を知らせる開始信号などを生成する。

コントロール印刷回路基板３３０は、データ制御信号と映像データを複数の駆動回路基板３２０ａ、３２０ｂ、３２０ｃ、３２０ｄ、３２０ｅを介して複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅに印加する。また、コントロール印刷回路基板３３０は、ゲート駆動部１２０に隣接する駆動回路基板３２０ａを介してゲート制御信号をゲート駆動部１２０に印加する。

しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅは、表示パネル１１０に直接装着されるとか、可撓性印刷回路膜（ｆｌｅｘｉｂｌｅ ｐｒｉｎｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ ｆｉｌｍ）（図示せず）上に装着されて表示パネル１１０に取り付けられるとか、別の印刷回路基板（ｐｒｉｎｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ ｂｏａｒｄ）（図示せず）上に装着されることもできる。また、複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅは、ゲートラインＧＬ及び薄膜トランジスタと共に表示パネル１１０に集積されることもできる。また、複数のデータ駆動集積回路３２１ａ、３２１ｂ、３２１ｃ、３２１ｄ、３２１ｅ、タイミングコントローラ３３１、及びゲート制御回路３３２は、単一のチップで集積されることもできる。

図１０及び図１１を参照すると、第１基板１１１上に複数のゲートラインＧＬ、複数のデータラインＤＬ及び複数の画素ＰＸが配置される。

また、第１基板１１１上の非表示部ＮＤＡにデータリンク配線１１４ａ、共通電圧配線部１１５ａ、ゲートリンク部１１６ａ、及びゲート駆動部１２０が配置される。ゲート駆動部１２０は、複数のステージＳＴを含む。第１基板１１１上の表示部ＤＡには、画素電極ＰＥが配置される。第２基板１２１上には、遮光部ＢＭ、カラーフィルタＣＦ、共通電極ＣＥなどが配置される。

データリンク配線１１４ａは、データラインＤＬから延長されて、データ駆動部３４０とデータラインＤＬを電気的に接続させる。

共通電圧配線部１１５ａは、一定の間隔を有するように配置された複数の共通電圧配線１１５を含む。複数の共通電圧配線１１５の一方の端部は、一つの共通電圧延長配線１１５ｂを経て共通電圧生成部（図示せず）と接続する。

複数の共通電圧配線１１５は、共通電極ＣＥに電気的に連結される。

ゲートリンク部１１６ａは、共通電圧配線部１１５ａとゲート駆動部１２０との間に配置された複数の信号ライン１１６を含む。ゲートリンク部１１６ａは、様々な配線などを含み、例えば、ゲートスタート信号ライン、複数のクロック信号ライン、正方向信号ライン、逆方向信号ライン、リセット信号ライン、基底電圧ラインなどを含む。ゲートリンク部１１６ａの各信号ライン１１６の一端は、タイミングコントローラ３３１またはゲート制御回路３３２と連結される。また、ゲートリンク部１１６ａの各信号ライン１１６の他端は、信号連結配線１１６ｂを介してゲート駆動部１２０に選択的に連結される。

ゲート駆動部１２０は、画素ＰＸの薄膜トランジスタＴＦＴと共に形成される。このように、ゲート駆動部１２０が画素ＰＸの薄膜トランジスタＴＦＴと同一の基板上に形成された構造は、アモルファスシリコンゲート（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ ｇａｔｅ；ＡＳＧ）構造とも呼ばれている。

ゲート駆動部１２０は、ゲートリンク部１１６ａから供給されるゲートスタート信号ライン、複数のクロック信号ライン、正方向信号ライン、逆方向信号ライン、リセット信号ライン、及び基底電圧ラインによってゲート信号を生成してゲートラインＧＬに供給する。このために、ゲート駆動部１２０は、ゲートラインＧＬとそれぞれ接続された複数のステージＳＴを含む。複数のステージＳＴは、それぞれゲートラインＧＬにゲート信号を印加する。また、隣接したステージＳＴなどは、キャリー信号を伝達するキャリーラインＣＬによって互いに連結される。

例えば、複数のステージＳＴのそれぞれは、ゲートスタート信号ライン、または、以前段ステージから供給されるゲートスタート信号に応答して、複数のクロック信号ラインのうちのいずれか一つから供給されるクロック信号であるゲート信号をゲートラインＧＬに供給する。ゲートラインＧＬは、ゲート駆動部１２０に連結されてゲート信号を画素ＰＸに印加する。

ステージＳＴと画素ＰＸなどとの間にデータラインＤＬなどが配置される。図１０を参照すると、ステージＳＴと、画素ＰＸの配列部との間でデータラインＤＬは、階段状に延長される。しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、ステージＳＴと、画素ＰＸの配列部との間でデータラインＤＬは、斜線または曲線状に延長されるのでもありうる。

図１１を参照すると、表示装置１０４は、第１基板１１１と題２基板１１２を密封するシール部１４０を含む。シール部１４０は、遮光部ＢＭと重なり合うように配置され、ゲート駆動部１２０のステージＳＴの一部とも重なるように配置される。シール部１４０は、当業界で通常的に使用される材料を利用した通常の方法で作られうる。

図１１を参照すると、第１基板１１１上に共通電圧配線部１１５ａとゲートリンク部１１６ａが配置され、その上にゲート絶縁膜１３１、層間絶縁膜１６９及び保護層１３２が配置される。また、ステージＳＴを互いに連結するキャリーラインＣＬも、共通電圧配線部１１５ａ及びゲートリンク部１１６ａと、同一の層に配置される。

図１０及び図１１を参照すると、ゲートリンク部１１６ａを構成する複数の信号ライン１１６の間に広間隔部１３５が形成される。このように、広間隔部１３５は、複数の配線によって囲まれるようにして範囲が区切られるのであり得る。

具体的に、広間隔部１３５は、広間隔部１３５を挟んで対向する２つの配線Ｗ１、Ｗ２によって囲まれた領域であり得る。図１０を参照すると、広間隔部１３５を囲む２つの配線Ｗ１、Ｗ２は、ゲートリンク部１１６ａの複数の信号ライン１１６である。図１０において、ゲートリンク部１１６ａの一群の信号ライン１１６のうちの少なくとも２つの信号ラインが広間隔部１３５を定義する。

広間隔部１３５において、２つの配線Ｗ１、Ｗ２間の間隔は、広間隔部と隣接した領域での間隔よりも大きい。

広間隔部１３５は、複数のデータリンク配線１１４ａの間にも、また、複数の共通電圧配線部１１５ａの間にも形成され得る（図示せず）。

広間隔部１３５の形状に特別な制限があるわけではない。広間隔部１３５は、円形、楕円形、卵円形、半円形、多角形の平面形状を有することができる。例えば、広間隔部１３５は、四角形または五角形の平面形状、特には、角を丸めた正方形または正五角形の平面形状を有することもできる。

広間隔部１３５を介して超音波が通過されて、超音波検査が行われうる。したがって、広間隔部１３５は、超音波検査領域になる。超音波検査によって、広間隔部１３５の上部に位置する粘着層５７０が硬化したか否かまたは硬化の程度が確認され得る。

ベゼル部５２０の下部に中問層５５０が配置されているため、ウィンドウ５１０を介して超音波照射が円滑ではない場合、第１基板１１１の下部から超音波が照射されて、超音波検査が行われうる。この際、第１基板１１１上の複数の配線の間に形成された広間隔部１３５を介して超音波ＳＳが照射され得る。なお、この超音波検査は、表示パネル１１０とウィンドウ５１０とを含む積層体を形成して紫外線などの光を照射した後であって、トレイ状のケース５３０を組み付ける前に行うことができる。

広間隔部１３５の大きさは、広間隔部１３５を挟んで囲む２つの配線Ｗ１、Ｗ２間の最大間隔で定義され得る。広間隔部１３５において２つの配線Ｗ１、Ｗ２間の最大間隔は、１００μｍ～３００μｍである。

金属などの導電体による超音波信号の撹乱を防止するために、広間隔部１３５は、第１基板１１１と粘着層５７０との間で導電体と重らないのでありうる。

図１１を参照すると、表示装置１０４は、ウィンドウ５１０と粘着層５７０との間に配置されたタッチパネル５６０を含む。タッチパネル５６０は、中問層５５０と連結され得る。

図１２は、本発明のまた他の一実施例による表示パネルの画素配置に対する平面図であり、図１３は、図１２のＶ－Ｖ′に沿って切った断面図である。

具体的に、図１２と図１３は、液晶表示パネルを示している。

図１２と図１３の液晶表示パネルは、表示基板ＡＳと、対向基板ＵＳと、表示基板ＡＳと対向基板ＵＳとの間に配置された液晶層ＬＣと、を含む。

表示基板ＡＳは、第１基板１１１と、薄膜トランジスタＴＦＴと、画素電極ＰＥと、ゲート絶縁膜１３１と、保護層１３２と、を含む。薄膜トランジスタＴＦＴは、半導体層ＳＭと、抵抗性接触層ＯＣと、ゲート電極ＧＥと、ソース電極ＳＥと、ドレイン電極ＤＥと、を含む。

第１基板１１１は、透明なガラスまたはプラスチックなどからなる。

第１基板１１１上に複数のゲートラインＧＬ及びゲート電極ＧＥが配置される。ゲート電極ＧＥは、ゲートラインＧＬと一体に構成される。ゲートラインＧＬ及びゲート電極ＧＥは、アルミニウムＡｌやアルミニウム合金といったアルミニウム系列の金属、銀（Ａｇ）や銀合金といった銀系列の金属、銅（Ｃｕ）や銅合金といった銅系列の金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金といったモリブデン系列の金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）及びチタン（Ｔｉ）のうちのいずれか一つで作られうる。ゲートラインＧＬ及びゲート電極ＧＥのうちの少なくとも一つは、物理的性質が異なる少なくとも２つの導電膜を含む多重膜構造を持つこともできる。

ゲート絶縁膜１３１は、ゲートラインＧＬ及びゲート電極ＧＥを含んだ第１基板１１１の全面に配置される。ゲート絶縁膜１３１は、窒化ケイ素ＳｉＮｘまたは酸化ケイ素ＳｉＯｘなどで作られることができる。または、ゲート絶縁膜１３１は、物理的性質が異なる少なくとも２つの絶縁層などを含む多重膜構造を持つことができる。

半導体層ＳＭは、ゲート絶縁膜１３１上に配置される。このとき、半導体層ＳＭは、ゲート絶縁膜１３１の下部に位置したゲート電極ＧＥと重なる。半導体層ＳＭは、非晶質ケイ素または多結晶ケイ素などで作られることができる。半導体層ＳＭは、酸化物半導体からなるのでありうる。

抵抗性接触層ＯＣは、半導体層ＳＭ上に配置される。例えば、抵抗性接触層ＯＣは、チャンネル部分以外の半導体層ＳＭ上に配置される。

また、ゲート絶縁膜１３１上に複数のデータラインＤＬが配置される。データラインＤＬは、ゲートラインＧＬと交差する。ソース電極ＳＥは、データラインＤＬと一体に構成される。ソース電極ＳＥは、抵抗性接触層ＯＣ上に配置される。ドレイン電極ＤＥは、抵抗性接触層ＯＣ上に配置され、画素電極ＰＥに連結される。

データラインＤＬ、ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥのうちの少なくとも一つは、モリブデン、クロム、タンタル及びチタンなどの耐火性金属（ｒｅｆｒａｃｔｏｒｙ ｍｅｔａｌ）またはこれらの合金で作られうる。または、データラインＤＬ、ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥのうちの少なくとも一つは、耐火性金属膜と低抵抗導電膜を含む積層膜構造を持つことができる。

ゲート絶縁膜１３１、半導体層ＳＭ、データラインＤＬ、ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを含んだ第１基板１１１の全面に層間絶縁膜１６９が配置される。層間絶縁膜１６９は、絶縁性材料から作られうるのであり、特に、半導体層ＳＭの露出部位であるチャンネル領域を保護する。

本発明の一実施例において、第１基板１１１の表面から層間絶縁膜１６９との間の部分を配線部１３０といえる。

層間絶縁膜１６９上に保護層１３２が配置される。保護層１３２は、配線部１３０の上部を平坦化する役割をする。したがって、保護層１３２は、平坦化膜とも呼ばれる。

保護層１３２は、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）のような無機絶縁物で作られることができる。これと異なり、保護層１３２は、有機膜で作られることもできる。保護層１３２は、下部無機膜と上部有機膜からなる二層膜構造を持つこともできる。

画素電極ＰＥは、保護層１３２上に配置される。このとき、画素電極ＰＥは、保護層１３２及び層間絶縁膜１６９を貫通して形成されたコンタクトホールＣＨを介してドレイン電極ＤＥと連結される。画素電極ＰＥは、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電性物質で作られることができる。

対向基板ＵＳは、第２基板１２１、カラーフィルタ層１７０及び共通電極ＣＥを含む。図１３を参照すると、対向基板ＵＳは、遮光部ＢＭ及びパッシベーション膜１５０をさらに含む。パッシベーション膜１５０は、カラーフィルタ層１７０と共通電極ＣＥとの間に配置され得る。パッシベーション層１５０は、省略され得る。

第２基板１２１は、透明なガラスまたはプラスチックなどからなる。

第２基板１２１上に遮光部ＢＭが配置される。遮光部ＢＭは、複数の開口部などを有する。開口部は、第１、第２及び第３画素ＰＸ１、ＰＸ２、ＰＸ３の各画素電極ＰＥに対応して配置される。遮光部ＢＭは、開口部などを除いた部分での光を遮断する。例えば、遮光部ＢＭは、薄膜トランジスタＴＦＴ、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬ上に位置して、これらを通過した光が外部に放出されることを遮断する。遮光部ＢＭは、必ずしも必要なものではなく、省略されうる。

カラーフィルタ層１７０は、第２基板１２１上に配置され、バックライト部（図示せず）から入射された光の波長を選択的に遮断する。

カラーフィルタ層１７０は、カラーフィルタＣＦを含む。より具体的に、カラーフィルタ層１７０は、第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３を含むことができる。

第１、第２及び第３カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、遮光部ＢＭによって互いに区分され得る。各カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、画素ＰＸ１、ＰＸ２、ＰＸ３と重なり合うように配置される。例えば、各カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、画素電極ＰＥに対応して遮光部ＢＭの開口部に位置することができる。

カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、少なくとも一部が互いに重なるように配置され得る。

図１３を参照すると、第１カラーフィルタＣＦ１は、赤色画素ＰＸ１に対応され、第２カラーフィルタＣＦ２は、緑色画素ＰＸ２に対応され、第３カラーフィルタＣＦ３は、青色画素ＰＸ３に対応され得る。カラーフィルタ層１７０は、白色カラーフィルタ（図示せず）を含むこともでき、赤色、緑色、青色以外の他の色を有するカラーフィルタを含むこともできる。

カラーフィルタ層１７０上にパッシベーション膜１５０が配置される。

共通電極ＣＥは、パッシベーション膜１５０上に配置される。例えば、共通電極ＣＥは、第２基板１２１の全面に位置することができる。共通電極ＣＥは、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなることができる。

共通電極ＣＥは、画素電極ＰＥと共に液晶層ＬＣに電界を印加する。これにより、共通電極ＣＥと画素電極ＰＥとの間の液晶層ＬＣに電界が形成される。

図示されなかったが、画素電極ＰＥ上に下部配向膜が配置され得る。下部配向膜は、垂直配向膜であり得、光反応物質を含むことができる。同様に図示されなかったが、共通電極ＣＥ上に上部配向膜が配置され得る。上部配向膜は、下部配向膜と同一の物質で作られうる。

第１基板１１１と第２基板１１２との間の対向面（液晶層と接する内側の面）をそれぞれの基板の上部面と定義し、その上部面の反対側に位置した面（外側の面）をそれぞれの基板の下部面と定義するとき、第１基板１１１の下部面（外側の面）と第２基板１１２の下部面（外側の面）にそれぞれ偏光板が配置され得る。

図１４は、本発明のさらに他の一実施例による表示パネルの画素配置に対する平面図であり、図１５は、図１４のＶＩ－ＶＩ’に沿って切った断面図である。

具体的に、図１４及び図１５に示された表示パネルは、有機発光表示パネル１０５である。有機発光表示パネル１０５は、第１基板２１１、駆動回路部２３０及び有機発光素子３１０を含む。

第１基板２１１は、ガラス、石英、セラミックス、及びプラスチックなどからなる群から選択された絶縁性材料で作られることができる。第１基板２１１として、高分子フィルムが使用されうる。

第１基板２１１上にバッファー層２２０が配置される。バッファー層２２０は、種々の無機膜及び種々の有機膜のうちから選択された一つ以上の膜を含むことができる。バッファー層２２０は、省略することもできる。

駆動回路部２３０は、バッファー層２２０上に配置される。駆動回路部２３０は、複数の薄膜トランジスタ１０、２０を含み、有機発光素子３１０を駆動する。すなわち、有機発光素子３１０は、駆動回路部２３０から伝達を受けた駆動信号に応じて、光を放出して画像を表示する。

図１４及び図１５には、一つの画素に、２つの薄膜トランジスタＴＦＴ１０、２０と、一つの蓄電素子（ｃａｐａｃｉｔｏｒ）８０が備えられた２Ｔｒ－１Ｃａｐ構造の能動駆動（ａｃｔｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ；ＡＭ）型有機発光表示パネル１０５が示されている。しかし、本発明の一実施例がこのような構造に限定されるものではない。例えば、有機発光表示パネル１０５は、一つの画素に３つ以上の薄膜トランジスタと２つ以上の蓄電素子を含むことができ、別の配線をさらに含むことができる。ここで、画素は、画像を表示する最小単位をいい、有機発光表示パネル１０５は、複数の画素を通じて画像を表示する。

一つの画素は、スイッチング薄膜トランジスタ１０と、駆動薄膜トランジスタ２０と、蓄電素子８０と、有機発光素子（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ；ＯＬＥＤ）３１０と、を含む。また、一方向に沿って延長されるゲートライン２５１、及び、ゲートライン２５１と絶縁されて交差されるデータライン２７１及び共通電源ライン２７２も、駆動回路部２３０に配置される。一つの画素は、ゲートライン２５１、データライン２７１及び共通電源ライン２７２を境界として範囲を区切られ得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。画素定義膜（画素区画用のバンプ）２９０またはブラックマトリックスによって各画素の範囲が区切られることもありうる。

有機発光素子３１０は、第１電極３１１と、第１電極３１１上に配置された有機発光層３１２と、有機発光層３１２上に配置された第２電極３１３と、を含む。有機発光層３１２は、低分子有機物または高分子有機物からなる。第１電極３１１及び第２電極３１３からそれぞれ正孔と電子が有機発光層３１２内部に注入され、このように注入された正孔と電子が結合されて形成されたエキシトン（ｅｘｉｔｏｎ）が励起状態から基底状態に落ちるとき、発光が行われる。

蓄電素子８０は、層間絶縁膜２６０を挟んで配置された一対の蓄電板２５８、２７８を含む。ここで、層間絶縁膜２６０は、誘電体となる。蓄電素子８０で蓄電された電荷と両蓄電板２５８、２７８との間の電圧によって蓄電容量が決定される。

スイッチング薄膜トランジスタ１０は、スイッチング半導体層２３１と、スイッチングゲート電極２５２と、スイッチングソース電極２７３と、スイッチングドレイン電極２７４と、を含む。駆動薄膜トランジスタ２０は、駆動半導体層２３２と、駆動ゲート電極２５５と、駆動ソース電極２７６と、駆動ドレイン電極２７７と、を含む。半導体層２３１、２３２とゲート電極２５２、２５５は、ゲート絶縁膜２４０によって絶縁される。

スイッチング薄膜トランジスタ１０は、発光させようとする画素を選択するスイッチング素子として使用される。スイッチングゲート電極２５２は、ゲートライン２５１に連結される。スイッチングソース電極２７３は、データライン２７１に連結される。スイッチングドレイン電極２７４は、スイッチングソース電極２７３から離隔配置され、いずれか一つの蓄電板２５８と連結される。

駆動薄膜トランジスタ２０は、選択された画素内の有機発光素子３１０の有機発光層３１２を発光させるための駆動電源を画素電極である第１電極３１１に印加する。駆動ゲート電極２５５は、スイッチングドレイン電極２７４と連結された蓄電板２５８と連結される。駆動ソース電極２７６及び他の一つの蓄電板２７８は、それぞれ共通電源ライン２７２と連結される。駆動ドレイン電極２７７は、平坦化膜２６５に備えられたコンタクトホール（ｃｏｎｔａｃｔ ｈｏｌｅ）を介して有機発光素子３１０の第１電極３１１と連結される。

このような構造によって、スイッチング薄膜トランジスタ１０は、ゲートライン２５１に印加されるゲート電圧によって作動されて、データライン２７１に印加されるデータ電圧を駆動薄膜トランジスタ２０に伝達する役割をする。共通電源ライン２７２から駆動薄膜トランジスタ２０に印加される共通電圧とスイッチング薄膜トランジスタ１０から伝達されたデータ電圧の差に該当する電圧が蓄電素子８０に貯蔵され、蓄電素子８０に貯蔵された電圧に対応する電流が駆動薄膜トランジスタ２０を介して有機発光素子３１０に流れて有機発光素子３１０が発光する。

第１電極３１１は、光透過性を有する透光性電極であることもでき、光反射性を有する反射電極であることもできる。第２電極３１３は、半透過膜で形成されることもありえ、反射漠で形成されることもありうる。

図１５を参照すると、第１電極３１１は、反射電極であり、第２電極３１３は、半透過電極である。有機発光層３１２から発生された光は、第２電極３１３を通過して放出される。しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではない。例えば、第１電極３１１は、光透過性電極であり、第２電極３１３は、反射電極であり、有機発光層３１２から発生された光は、第１電極３１１を通過して放出されうる。

第１電極３１１と有機発光層３１２との間に正孔注入層（ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ；ＨＩＬ）及び正孔輸送層（ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ；ＨＴＬ）のうちの少なくとも一つがさらにと配置されることができ、有機発光層３１２と第２電極３１３との間に電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ；ＥＴＬ）及び電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ；ＥＩＬ）のうちの少なくとも一つがさらに配置され得る。有機発光層３１２、正孔注入層ＨＩＬ、正孔輸送層ＨＴＬ、電子輸送層ＥＴＬ、及び電子注入層ＥＩＬは、有機物質で作られうるので、これらを有機層ともいう。

画素定義膜２９０は、開口部を有する。画素定義膜２９０の開口部は、第１電極３１１の一部を露出させる。画素定義膜２９０の開口部にて、第１電極３１１上に、有機発光層３１２及び第２電極３１３が順に積層される。ここで、前記第２電極３１３は、有機発光層３１２だけでなく、画素定義膜２９０上にも形成される。一方、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、及び電子注入層は、画素定義膜２９０と第２電極３１３との間にも配置され得る。有機発光素子３１０は、画素定義膜２９０の開口部内に位置した有機発光層３１２から、光を発生させる。このように、画素定義膜２９０は、発光領域の範囲を区切ることもできる。

外部環境から有機発光素子３１０を保護するために、第２電極３１３上にキャッピング層（図示せず）が配置されうる。

第２電極３１３上に第２基板２１２が配置される。第２基板２１２は、第１基板２１１と共に有機発光素子３１０を密封する役割をする。第２基板２１２は、第１基板２１１と同様に、ガラス、石英、セラミックス、及びプラスチックなどからなる群から選択された絶縁性材料で作られうる。

図１６は、本発明のまた他の一実施例による表示パネル断面図である。具体的に、図１６の表示パネルは、有機発光表示パネル１０６である。

図１６に示された有機発光表示パネル１０６は、第２電極３１３上に配置されて、有機発光素子３１０を保護する薄膜封止層３５０を含む。

薄膜封止層３５０は、一つ以上の無機膜３５１、３５３、及び一つ以上の有機膜３５２を含み、水分や酸素といった外気が有機発光素子３１０に浸透することを防止する。

薄膜封止層３５０は、無機膜３５１、３５３と有機膜３５２が交互的に積層された構造を有する。図１６に示された薄膜封止層３５０は、２つの無機膜３５１、３５３と１つの有機膜３５２を含めているが、薄膜封止層３５０の構造がこれに限定されるものではない。

無機膜３５１、３５３は、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ、ＳｉＯ_２、ＡｌＯＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＺｎＯ、及びＴａ_２Ｏ_５のうちの一つ以上の無機物を含む。無機膜３５１、３５３は、化学蒸着法（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＣＶＤ）または原子層蒸着法（ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＡＬＤ）を介して形成される。無機膜３５１、３５３は、該当技術分野の従事者に公知された様々な方法を介して形成され得る。

有機膜３５２は、高分子（ｐｏｌｙｍｅｒ）系の素材（高分子を主体とする素材）で作られる。ここで、高分子系の素材は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド、及びポリエチレンなどを含む。また、有機膜３５２は、熱蒸着（蒸着重合）の工程を通じて形成される。有機膜３５２を形成するための熱蒸着工程は、有機発光素子３１０を損傷させない温度範囲内で行われる。有機膜３５２は、該当技術分野の従事者に公知された様々な方法を介して形成され得る。

薄膜の密度が緻密に形成された無機膜３５１、３５３が、主に水分または酸素の浸透を抑制する。ほとんどの水分及び酸素は、無機膜３５１、３５３によって有機発光素子３１０への浸透が遮断される。

無機膜３５１、３５３を通過した水分及び酸素は、有機膜３５２によって再び遮断される。有機膜３５２は、無機膜３５１、３５３に比べて相対的に透湿防止效果は少ない。しかし、有機膜３５２は、透湿抑制のほかに、無機膜３５１、３５３などの間で各層などの間の応力を低減する緩衝層の役割も果たす。また、有機膜３５２は、平坦化特性を有するので、薄膜封止層３５０の最上部の面が平坦になりうる。

薄膜封止層３５０は、１０μｍ以下の薄い厚さを持つことができる。したがって、有機発光表示パネル１０６も薄い厚さを持つことができる。これらの薄膜封止層３５０が適用されることによって、有機発光表示パネル１０６がフレキシブル特性を持つことができる。

第２基板２１２が使用されず、第１基板として可撓性基板が使用される場合、有機発光表示パネル１０６は、フレキシブル表示装置に使用され得る。

以上で説明した本発明は、前述した実施例及び添付された図面に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で様々な置換、変形及び変更が可能であることは、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者にとって明らかであろう。

ＤＡ 表示部
ＮＤＡ 非表示部
ＳＴ ステージ
ＰＸ 画素
ＧＬ ゲートライン
ＤＬ データライン
ＳＭ 半導体層
ＴＦＴ 薄膜トランジスタ
１１１ 第１基板
１１２ 第２基板
１１４ａ データリンク配線
１１５ａ 共通電圧配線部
１１６ａ ゲートリンク部
２１０ ゲート駆動部
５１０ ウィンドウ
５２０ ベゼル部
５３０ ケース
５４０ 支持部
５５０ 中問層
５６０ タッチパネル
５７０ 粘着層

Claims (26)

1. 表示部と非表示部を有する表示パネルと、
   前記表示パネルを覆うように配置されたウィンドウと、
   前記ウィンドウの縁部に配置され、前記非表示部と重なり合うベゼル部と、
   前記表示パネルと前記ウィンドウとの間に配置された粘着層と、
   前記表示パネルの縁に沿って延びるようにして、前記ベゼル部と前記粘着層との間に重なるように介在された中間層と、を含み、
   前記中間層は、前記ベゼル部と重なる少なくとも一つのスルーホールを有し、
   前記スルーホールは、超音波検査領域である、表示装置。
2. 前記ウィンドウと前記粘着層との間に配置されたタッチパネルをさらに含む、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記タッチパネルは前記中間層と電気的に連結された、請求項２に記載の表示装置。
4. 前記中間層は、前記表示部と重ならず、前記ウィンドウの縁に沿って閉曲線を形成する、請求項１に記載の表示装置。
5. 前記中間層は、導電性を有する、請求項１に記載の表示装置。
6. 前記中間層は、金属及び透明導電性酸化物（ＴＣＯ）のうちの少なくとも一つを含む、請求項１に記載の表示装置。
7. 前記スルーホールは、平面形状が、円形、楕円形(ellipse)、卵円形(ovoid)、正方形または正五角形であり、１００μｍ～３００μｍの直径を持つ、請求項１に記載の表示装置。
8. 前記スルーホールは、前記ウィンドウと前記粘着層との間の空間で導電体と重ならない、請求項１に記載の表示装置。
9. 前記粘着層は、光硬化性を持つ材料またはその硬化物を含む、請求項１に記載の表示装置。
10. 前記粘着層の少なくとも一部は、前記スルーホール内の空間に配置される、請求項１に記載の表示装置。
11. 前記粘着層は、前記スルーホールを介して前記ベゼル部と接触する、請求項１に記載の表示装置。
12. 前記表示パネルは、
    第１基板と、
    前記第１基板と対向配置された第２基板と、
    前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を含む、請求項１に記載の表示装置。
13. 前記表示パネルは、
    第１基板と、
    前記第１基板上に配置された第１電極と、
    前記第１電極上に配置された有機発光層と、
    前記有機発光層上に配置された第２電極と、を含む、請求項１に記載の表示装置。
14. 表示部と非表示部を有する表示パネルと、
    前記表示パネルを覆うように配置されたウィンドウと、
    前記ウィンドウの縁部に配置され、前記非表示部と重なり合うベゼル部と、
    前記表示パネルと前記ウィンドウとの間に配置された粘着層と、
    前記表示パネルの縁に沿って延びるようにして、前記ベゼル部と前記粘着層との間に重なるように介在された中間層と、を含み、
    前記中間層は、平面図での凹部を有し、前記凹部は、前記ベゼル部と重なり、
    前記凹部は、超音波検査領域である、表示装置。
15. 前記中間層は、平面図にて前記表示部を取り囲んでいる、請求項１４に記載の表示装置。
16. 前記凹部は、前記表示部に向かって開いている、請求項１５に記載の表示装置。
17. 前記凹部は、前記ウィンドウと前記粘着層との間の空間では導電体と重ならない、請求項１４に記載の表示装置。
18. 前記ウィンドウと前記粘着層との間に配置されたタッチパネルをさらに含む、請求項１４に記載の表示装置。
19. 前記凹部は、平面図にて、窪んだ湾の形態を有し、湾の最も奥の箇所が半円形であり、この箇所にて１００μｍ～３００μｍの直径を持つ、請求項１４に記載の表示装置。
20. 前記中間層は、導電性を有する、請求項１４に記載の表示装置。
21. 表示部と非表示部を有する表示パネルと、
    前記表示パネル上に配置されたウィンドウと、
    前記ウィンドウ上に配置され、前記非表示部と重なり合うベゼル部と、
    前記表示パネルと前記ウィンドウとの間に配置された粘着層と、を含み、
    前記表示パネルは、
    第１基板と、
    前記第１基板上に配置された複数の配線を有する配線部と、を含み、
    前記配線部は、互いに隣接する２つの配線によって範囲が区切られる広間隔部を有し、
    前記広間隔部で前記２つの配線間の間隔は、広間隔部と隣接した領域での間隔よりも大きく、
    前記広間隔部は、前記ベゼル部と重なり、
    前記広間隔部は、超音波検査領域である、表示装置。
22. 前記配線は、前記広間隔部を挟む箇所を除き、この近傍にて、前記表示装置の外縁に沿って互に並行に延びている、請求項２１に記載の表示装置。
23. 前記広間隔部は、平面形状が、円形、楕円形、卵円形、または、角を丸めた正方形または正五角形であり、前記広間隔部で前記２つの配線間の最大間隔は、１００μｍ～３００μｍである、請求項２１に記載の表示装置。
24. 前記広間隔部は、前記第１基板と前記粘着層との間の空間で導電体と重ならない、請求項２１に記載の表示装置。
25. 前記ウィンドウと前記粘着層との間に配置されたタッチパネルをさらに含む、請求項２１に記載の表示装置。
26. 前記表示パネルの縁に沿って延びるようにして、前記ベゼル部と前記粘着層との間に重なるように配置された金属層をさらに含む、請求項２１に記載の表示装置。
    
    

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