CN107428130B - 装饰产品及生产装饰产品的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种装饰产品(10)，其包括由丙烯酸树脂形成的透明件(20)和设置在透明件(20)的后表面(20r)上的装饰层(30)。加工层(21)位于透明件(20)和装饰层(30)之间。通过在透明件(20)的后表面(20r)上进行等离子体处理形成加工层(21)。装饰层(30)是通过进行溅射在加工层(21)上形成的金属层。加工层(21)具有小于或等于260纳米的厚度L。

Description

装饰产品及生产装饰产品的方法
技术领域
本发明涉及一种装饰产品和用于生产装饰产品的方法，装饰产品包括透明件和装饰层，透明件由丙烯酸树脂形成，装饰层布置在透明件的第一表面上，从而透过透明件可从视觉上识别出装饰层。
背景技术
在用于车辆的内部产品和外部产品中，对于装饰产品具有较高的需求，该装饰产品包括透明件的第一表面(例如后表面)上的装饰层，使得透过该透明件从第一表面相对的表面(例如前表面)，视觉上可识别装饰层。例如，在安装有毫米波雷达装置的车辆中，该装饰产品应用于作为徽标部的无线电波传输盖，其位于毫米波雷达装置的前方。专利文献1公开了包括金属膜(装饰层)的无线电波传输盖，通过气相沉积金属诸如铟和透明件后表面上的着色层诸如黑色层形成金属膜，透明件由树脂材料形成。与在基件的前表面上包括装饰层的装饰产品相比，该装饰产品实现了三维立体独特美感。
此外，专利文献2公开了一种技术，其中在通过在丙烯酸树脂形成的基件表面上进行溅射形成金属膜的情况中，通过形成金属膜，同时在惰性气体环境中进行等离子体处理，增加了金属膜与基件的附着力。
[现有技术]
[专利文献]
专利文献1：日本专利公开No.2000-159039
专利文献2：日本专利公开No.4-204502
发明内容
[本发明要解决的问题]
从耐候性、抗划伤性等角度考虑，优选形成诸如无线电波传输盖等装饰产品的透明件使用丙烯酸树脂。因此，专利文献2的技术通过形成装饰层来用于生产装饰产品，通过在丙烯酸树脂形成的透明件上进行溅射而形成装饰层。然而，存在这样的情况，其中装饰层的色调以不期望的方式改变。更具体而言，存在这样的情况，其中，当从透明件观看装饰产品时，与原始色调相比，装饰层的色调变得更黄。
本发明的目的是提供一种装饰产品，其包括通过在丙烯酸树脂形成的透明件上进行溅射形成的装饰层，并且限制当从透明件观看时装饰层色调的变化。
[用于解决问题的方法]
解决上述问题的装饰产品包括由丙烯酸树脂形成的透明件和设置在透明件的第一表面上的装饰层。透过透明件视觉上可识别装饰层。加工层位于透明件和装饰层之间。通过在透明件的第一表面上进行等离子体处理形成加工层。装饰层是通过进行溅射在加工层上形成的金属层。加工层具有小于或等于260纳米的厚度。
优选加工层的厚度为从90纳米至260纳米。
优选加工层为具有类金刚石碳结构的层。
提供一种用于生产装饰产品的第一方面的方法，该装饰产品包括由丙烯酸树脂形成的透明件和布置在透明件的第一表面上的装饰层。透过透明件视觉上可识别装饰层。该方法包括如下步骤：通过进行等离子体处理，在透明件的第一表面上形成加工层；以及在形成加工层的步骤之后，通过进行溅射，在透明件的加工层上形成装饰层。形成加工层的步骤包括，在使用惰性气体的等离子体处理之后执行将透明件暴露于氧气中的处理。
该生产方法增加了透明件与装饰层之间的附着力，尤其是长期附着力。
提供一种用于生产装饰产品的第二方面的方法。该方法包括如下步骤：通过进行等离子体处理，在透明件的第一表面上形成加工层；以及在形成加工层的步骤之后，通过进行溅射，在透明件的加工层上形成装饰层。形成加工层的步骤包括在使用惰性气体的等离子体处理之后执行将透明件暴露于氧气中的处理。
通过进行溅射，装饰产品包括在由丙烯酸树脂形成的透明件上的装饰层，在该装饰产品中，当在透明件上设置加工层时，装饰层的色调发生变化。这是因为当从包括加工层的透明件观看装饰层时，装饰层看起来不同。也就是，加工层的形成降低了透明件的透光度，并改变了透明件的颜色。结果，当透过透明件观看装饰层时，装饰层的色调看起来不同。在本发明中，透明件上加工层的厚度设定为小于或等于260纳米。这限制了装饰层色调的变化，当加工层设置在透明件上时会发生这种色调的变化。
[本发明的效果]
该装饰产品和用于生产本发明装饰产品的方法限制了从透明件观看的装饰层色调的变化。
附图说明
图1A是示出装饰产品的截面图。
图1B是示出装饰产品的局部放大的截面图。
图2是示出从透明件表面(后表面)的深度与通过TOF-SIMS对深度的分析获得的丙烯酸树脂片段(fragment)的二次离子强度的关系。
具体实施方式
现在描述根据本发明一种实施方式的装饰产品。
如图1A和图1B所示，装饰产品10包括透明件20和装饰层30，透明件20包括第一表面和第二表面，第二表面位于第一表面的相对侧，装饰层30被溅射到透明件20的第一表面上。在下文描述中，透明件20的第一表面称为后表面20r，并且透明件20的第二表面称为前表面20f。
透明件20为由丙烯酸树脂形成的透明件或半透明件。当从透明件20观看装饰产品10时，视觉上可识别出装饰层30。只要透明件20包括前表面20f以及后表面20r，透明件20的形状没有具体限制，并且可根据装饰产品10的应用设置。例如，透明件20的前表面20f和后表面20r中的至少一个可以为弧形或具有凹凸状。
已知的丙烯酸树脂诸如包括甲基丙烯酸烷基酯的聚合物、包括丙烯酸烷基酯的聚合物、或包括甲基丙烯酸烷基酯和丙烯酸烷基酯的聚合物可用作形成透明件20的丙烯酸树脂。丙烯酸树脂的实施例包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMA)和聚丙烯酸甲酯。各聚合物可以为共聚物，其部分地包括其他单体，这些单体不包括甲基丙烯酸烷基酯和丙烯酸烷基酯。其他单体的实施例包括复合物，复合物包括乙烯基、2-亚乙烯基或亚乙烯基诸如丁烯、异丁烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、苯乙烯、丙烯腈、以及甲基丙烯腈。此外，对聚合度没有具体限制，并且可以为例如从10000至15000的范围。
如图1B所示，透明件20包括作为后表面20r上的表面层的加工层21，装饰层30设置在该加工层21上。加工层21是设置为增加透明件20和装饰层30之间附着力的层部。通过在透明件20上进行等离子体处理形成加工层21。
在等离子体处理中，供至真空的源气通过等离子体电离，并且源气的离子照射在透明件20上。通过调节等离子体处理中离子的照射时间和朝透明件20加速离子的动力，能够调节透明件20表面上的加工层21的厚度L。用于等离子体处理的源气的实施例包括诸如氩和氮等惰性气体、氧气、氢气以及氧气和氢气的混合气体。能够进行已知的等离子体处理方法作为等离子体处理(例如，专利文献2中公开的方法)。
具体而言，在使用惰性气体作为源气进行等离子体处理之后，优选执行将透明件20暴露于氧气的处理，作为基于等离子体处理形成加工层21的处理。将透明件20暴露于氧气的处理实施例包括使用氧气作为源气执行第二次等离子体处理，并且将透明件20留在氧气环境中(例如空气中)。这增加了透明件20与装饰层30之间的附着力，尤其是长期附着力。
使用TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱仪分析法)的分析结果显示，通过执行等离子体处理形成的加工层21是当透明件20的丙烯酸树脂的分子结构改变时形成的碳层。也就是，使用TOF-SIMS对加工层21的分析允许对C8H13O2和C9H13O4等的峰丢失和碳峰值形成的检测，C8H13O2和C9H13O4等是丙烯酸树脂独特的片段，碳峰形成与类金刚石碳相似。结果显示加工层21是当丙烯酸树脂的分子构造变化时形成的层，并且是具有类金刚石碳结构的无定形碳层。
加工层21的厚度L小于或等于260纳米，并且优选地小于或等于160纳米。此外，加工层21的厚度L的较低极限值没有具体限制，并且优选地例如大于或等于90纳米。当加工层21较厚时，透明件20与装饰层30之间的附着力趋于增强。
按照如下限定加工层21的厚度L。通过图2中的S形状曲线，示出从透明件20后表面20r的深度与从TOF-SIMS对深度的分析获得的丙烯酸树脂片段(例如C8H13O2)的二次离子强度的关系。在图2的曲线中，在预定深度之后，二次离子强度是恒定的。在该曲线中，当二次离子强度是预定深度之后的二次离子强度的恒定值(Y)的一半(Y/2)时，此时的深度(X)设定为加工层21的厚度L。当在TOF-SIMS分析中假设透明件20的加工层21部分由丙烯酸树脂形成，用于图2中图表的透明件20的深度值是基于丙烯酸树脂的蚀刻速度获得的丙烯酸树脂转换值。
装饰层30是布置在透明件20后表面20r上的金属层。通过进行溅射，对透明件20的加工层21执行等离子体处理，在透明件20的加工层21上形成装饰层30。装饰层30的金属包括适用于溅射的已知金属，例如，铬、铝、铟、钛、金、银、铜和铂。此外，金属层的色调没有具体限制。
本实施方式的装饰产品10适用于不同用途，例如用于车辆的内部产品和外部产品、房屋等的内部件和外部件、以及家用器具。用于车辆的内部产品和外部产品的实施例包括作为毫米波雷达装置盖的徽标和背板。
现在对本实施方式的操作进行说明。
通过进行溅射，装饰产品包括在丙烯酸树脂形成的透明件上的装饰层，在该装饰产品中，当在透明件上设置加工层时，装饰层的色调发生变化。这是因为当从包括加工层的透明件观看装饰层时，装饰层看起来不同。也就是，加工层的形成降低了透明件的透光度，并改变了透明件的颜色。结果，当透过透明件观看装饰层时，装饰层的色调看起来不同。
本实施方式的装饰产品10包括加工层21。然而，加工层21的厚度小于或等于260纳米。这限制了装饰层30色调的变化，当从透明件20观看装饰产品10时会发生装饰层30色调的这种变化。
本实施方式具有下述优点。
(1)装饰产品10包括由丙烯酸树脂形成的透明件20和布置在透明件20后表面20r上的装饰层30。通过在透明件20后表面20r(第一表面)上进行等离子体处理形成加工层21，加工层21布置在透明件20与装饰层30之间。装饰层30是通过进行溅射在加工层21上形成的金属层。加工层21的厚度L小于或等于260纳米。
在该结构中，通过执行溅射形成的装饰层30布置在透明件20的加工层21上。这确保透明件20与装饰层30之间的附着力。此外，加工层21具有小于或等于260纳米的厚度。这限制了装饰层30色调的变化，当从透明件20观看装饰产品10时会发生装饰层30色调的这种变化。
(2)优选加工层的厚度大于或等于90纳米。
这进一步增加了透明件20与装饰层30之间的附着力。
(3)当生产装饰产品10时，在执行等离子体处理以在透明件20上设置加工层21时，优选在使用惰性气体的第一等离子体处理之后进行使用氧气执行的第二等离子体处理。
这增强了透明件20与装饰层30之间的附着力，特别是长期附着力。
本实施方式可如下述进行变化。
可以在透明件20的前表面20f(第二表面)上设置第二装饰层。例如，当使用至少部分地包括透明或半透明装饰部分的装饰层时，透过装饰部分能够识别装饰层30。此外，当仅在透明件20的前表面20f的一部分上设置第二装饰层时，装饰层30能够透过没有设置第二装饰层的部分识别。在这些情况中，当在第二装饰层上观看到装饰层30时，装饰产品10具有更复杂的色调和美感。
当设置第二装饰层时，加工层21也可以设置在透明件20的前表面20f(第二表面)上。在这种情况中，优选两个加工层21的总厚度小于或等于260纳米。
可以在装饰层30中位于透明件20相对侧的表面上设置保护装饰层30的保护层、保护件等。
实施例
现在对进一步实现该实施方式的实施例进行说明。
如表1中所示，在对透明件进行等离子体处理的不同处理条件下，进行参考例和实验例的装饰产品的生产。此外，对各实施例中色调的变化和装饰层的附着力进行评估。
<装饰产品的制作>
加工层的形成
在处理腔室的预定位置处布置由PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)形成的透明件(100毫米长×100毫米宽×3毫米厚)。处理腔室包括两个电极，透明件在位于两个电极之间的位置。两个电极彼此间隔开，并朝透明件的前侧和后侧定位。布置透明件之后，将处理腔室设定为真空状态，并且对处理腔室供应转换为等离子体的源气。然后，对两个电极施加电压，以产生辉光放电，并且在透明件表面(后表面)上进行等离子体处理。使用不同的源气，执行两次等离子体处理。在下述条件下进行第一等离子体处理和第二等离子体处理。在参考例中，不执行第一等离子体处理和第二等离子体处理。在实验例8中，不执行第二等离子体处理(将透明件暴露于氧气的处理)。
第一处理条件
源气：氩
气体流率：50标准状态毫升/分(sccm)(0℃，1个大气压(1013百帕))
功率：0.8千瓦(kW)
处理时间：10秒至70秒
第二处理条件
源气：氧
气体流率：30sccm(0℃，1个大气压(1013百帕))
功率：0.5kW
处理时间：10秒
在等离子体处理之后，测量在实验例1至4和8中的各透明件上形成的加工层的厚度。使用TOF-SIMS装置(由ION-TOF公司生产的TOF.SIMS5)，基于由丙烯酸树脂(C8H13O2)形成的片段的二次离子强度测量加工层的厚度。使用TOF-SIMS装置的测量条件如下。
一次离子源：铋
测量模式：高质量分辨率
测量表面：深度方向分析
测量区域：300平方微米
此外，根据实验例1至4的透明件的各加工层的厚度，估算等离子处理之后实验例5至7的透明件的各加工层的厚度。更具体而言，使用通过绘制实验例1至4中各加工层厚度与(第一)等离子体处理的处理时间的关系的图表获得的类似的线，根据实验例5至7的等离子体处理的处理时间，估算实验例5至7中各加工层的厚度。
装饰层的形成
在等离子体处理之后，各实施例的透明件布置在处理腔室中预定位置。处理腔室包括两个电极，透明件在位于它们之间的位置。两个电极彼此间隔开并朝透明件的前侧和后侧定位。此外，溅射靶材布置在透明件后侧与一个电极之间。在布置透明件之后，将处理腔室设定至真空状态，并且处理腔室被供应转换为等离子体的氩。然后，对两个电极施加电压，以产生辉光放电，并且在透明件表面(后表面)上形成由溅射靶材的材料形成的装饰层。在下述溅射条件下形成装饰层。
溅射靶材：铝
功率：0.5kW
处理时间：30秒
<评估>
色调的评估
使用分光光度计(由Konica Minolta公司生产的CM-700d)分析各实施例的装饰产品的透明件一侧的色调(L*a*b*颜色系统)。然后，将缺少加工层的参考例的b*值与具有加工层的各实验例的b*值进行对比，以计算△b*值，其为色调的变化程度，并且在下述三个阶段中基于△b*值评估各实验例的装饰产品的色调。通过从各实验例的b*值减去参考例的b*值能够计算△b*值。表1示出结果。
在表1中，在评估栏中的符号◎、○和×代表下述数值并分别表示优、良、差。
◎：△b*值<2
○：2≤△b*值<3
×：3≤△b*值
对附着力的评估
在形成装饰层之后，各实施例的装饰产品被留在20℃(室温)的大气环境中24小时。然后，使用剥离测试仪(由COTEC,Ltd公司生产的正面检测附着力的测试仪KH-AT-A)，通过执行符合JIS K 5600-5-7的剥离测试，测量装饰层的附着力。表1示出结果。
[表1]
表1中示出的结果确认了透明件加工层的厚度与色调变化程度(△b*值)之间的相关性。当厚度和程度中的一个增加时，另一个也增加。结果示出透明件中加工层的设置改变了装饰层的色调，由于当透过包括加工层的透明件观看装饰层时装饰层看起来不同，而不是因为装饰层的色调发生变化(例如，在装饰层与加工层接触的部分处，装饰层的颜色发生变化)。
因此，尽管当加工层布置在透明件上时，通过形成较薄的加工层而限制装饰层色调的变化。如表1中所示，尽管当形成较薄的加工层时，也能实现通过加工层增加装饰层附着力(分离强度)的效果。
当b*值增加时，色调朝黄色变化。因此，随着加工层变厚，透明件变为黄色。这是由形成加工层的类金刚石碳结构导致的。
在实验例3和实验例8中，加工层的厚度基本相同，在实验例8中，没有进行使用氧气的第二等离子体处理。然而，实验例3比实验例8具有装饰层更高的附着力(分离强度)。该结果确定通过使用氧气进行第二等离子体处理，即，将透明件暴露于氧气的处理能够增加装饰层的附着力。
[附图标记的说明]
10：装饰产品
20：透明件
21：加工层
30：装饰层

Claims (4)

1.一种装饰产品，包括：
透明件，由丙烯酸树脂形成；以及
金属层，布置在所述透明件的第一表面上，其中，透过所述透明件视觉上可识别所述金属层，其中
加工层位于所述透明件和所述金属层之间，其中，通过在所述透明件的第一表面上进行等离子体处理形成所述加工层，
所述金属层是通过进行溅射在所述加工层上形成的，以及
所述加工层具有小于或等于260纳米的厚度。
2.根据权利要求1所述的装饰产品，其中，所述加工层的厚度为90纳米至260纳米。
3.根据权利要求1所述的装饰产品，其中，所述加工层为具有类金刚石碳结构的层。
4.一种用于生产根据权利要求1至3中任意一项的装饰产品的方法，所述方法包括如下步骤：
通过进行等离子体处理，在所述透明件的第一表面上形成所述加工层；以及
在形成所述加工层的步骤之后，通过进行溅射，在所述透明件的所述加工层上形成所述金属层，其中
形成所述加工层的步骤包括，在使用惰性气体的等离子体处理之后，执行将所述透明件暴露于氧气中的处理。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109023232B (zh) * 2018-10-22 2020-12-01 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种塑料基体表面形成非晶碳膜的方法
JP7352238B2 (ja) * 2019-04-03 2023-09-28 上原ネームプレート工業株式会社 樹脂部材及びその製造方法
KR20210077023A (ko) * 2019-12-16 2021-06-25 현대자동차주식회사 차량용 레이더의 전파 투과형 커버

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3686018A (en) * 1970-11-02 1972-08-22 Dow Chemical Co Method of metallizing an organic substrate
JPH01263954A (ja) 1988-04-15 1989-10-20 Hitachi Ltd 光学式情報記録媒体およびその製造方法
JPH0417660A (ja) 1990-05-11 1992-01-22 Mitsubishi Rayon Co Ltd メタクリル樹脂への金属被膜方法
JPH04204502A (ja) 1990-11-30 1992-07-24 Toshiba Emi Ltd 光学反射膜及びその形成方法
JPH04325941A (ja) 1991-04-25 1992-11-16 Sony Corp 光ディスクおよびその製造方法、並びに、光ディスクの製造装置
JPH06289206A (ja) 1993-03-31 1994-10-18 Toshiba Emi Ltd 光学反射膜の形成方法
US6083628A (en) * 1994-11-04 2000-07-04 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Hybrid polymer film
DE19844021C2 (de) 1998-09-25 2001-05-10 Daimler Chrysler Ag Innerhalb des Strahlenganges eines Radargerätes liegendes Verkleidungsteil
JP2000103884A (ja) 1998-09-30 2000-04-11 Sony Corp プラスチックスの表面改質方法およびこの表面改質方法を用いて改質されたプラスチックス
JP2000103883A (ja) 1998-09-30 2000-04-11 Sony Corp プラスチックスの表面改質方法およびこれを用いた情報記録媒体
JP2001123263A (ja) 1999-10-27 2001-05-08 Sumitomo Chem Co Ltd スパッタリング用基板およびその製造方法
DE10304668B4 (de) * 2003-02-05 2006-10-19 König, Klaus-Peter Verfahren zur haftfesten, eine metallische Schicht umfassenden Beschichtung eines Substrats und seine Verwendung
JP2005249773A (ja) 2004-02-02 2005-09-15 Toyota Motor Corp レーダ装置ビーム経路内用成形品
JP2006021377A (ja) * 2004-07-07 2006-01-26 C I Kasei Co Ltd 装飾用金属調フィルム及びその製造方法
JP2007227086A (ja) * 2006-02-22 2007-09-06 Tokyo Electron Ltd 成膜装置および発光素子の製造方法
JP4895897B2 (ja) * 2007-04-05 2012-03-14 株式会社シンクロン 薄膜構造体及びその製造方法
US20120301634A1 (en) * 2010-01-27 2012-11-29 Shuji Nakamura Gas barrier film and process for producing the same, and device using the same
US20120251021A1 (en) * 2011-04-04 2012-10-04 Swei Gwo S Self-lubricating structure and method of manufacturing same
JP5970914B2 (ja) * 2012-03-29 2016-08-17 大日本印刷株式会社 三次元成形加飾フィルム
US20150146287A1 (en) 2012-06-01 2015-05-28 Bayer Materialscience Ag Multilayer structure as reflector

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