CN107249726B - 一种硅氧化合物的制造设备及制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种硅氧化合物的制造设备及制备方法,涉及化工设备领域。该设备具有至少一个罐体(1),所述罐体(1)至少一端设有开口(2),所述罐体(1)包括反应部(3)和收集部(4),所述反应部(3)用于置入原料(5),所述收集部(4)用于置入收集器(6),所述收集器(6)置于罐体(1)的开口端,所述反应部(3)远离罐体(1)的开口端,所述反应部(3)设置于加热炉(7)内,所述收集部(4)和开口(2)均设置于所述加热炉(7)外,所述罐体(1)通过接口(8)抽真空,所述罐体(1)通过罐盖(9)打开或封闭开口(2);该制备方法采用该制造设备。解决了以往的硅氧化合物制造设备和制备方法无法连续生产造成耗能大、效率低的问题。

Description

一种硅氧化合物的制造设备及制备方法
技术领域
本发明涉及化工设备领域,尤其涉及一种硅氧化合物的制造设备及制备方法。
背景技术
SiO是用作制备光学玻璃、半导体材料以及锂离子电池负极材料的重要原料。
由于SiO的生产条件苛刻,其产量不能满足市场需求。目前公开的生产方式一般是在真空和高温条件下使Si和SiO2反应产生SiO气体,并使SiO低温凝结。
目前工业上SiO的生产设备是将反应室和收集室均设于真空筒内,在反应室与真空筒之间的空腔中放置电热丝,这种设备不能有效增加反应室尺寸,导致产品产量较低,还也会导致产品各方向上的材料组成均一性较差。由于发热器件处于真空筒中,无法采用燃烧加热,从而能源消耗较大;由于反应室和收集室都设于真空筒内,取出收集室中的SiO需冷却整个设备,无法实现连续生产,极大的造成了能源的浪费。
发明内容
本发明的一个目的在于提出一种硅氧化合物的制造设备,实现半连续生产,降低能耗。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种硅氧化合物的制造设备,所述设备具有至少一个罐体,所述罐体至少一端设有开口,所述罐体包括反应部和收集部,所述反应部用于置入原料,所述收集部用于置入收集器,所述收集器置于罐体的开口端,所述反应部远离罐体的开口端,所述反应部设置于加热炉内,所述收集部和开口均设置于所述加热炉外,所述罐体通过接口抽真空,所述罐体通过罐盖打开或封闭开口。
进一步,所述收集部上设有冷却装置。
进一步,所述加热炉连通空气。
进一步,所述加热炉采用电加热或燃烧加热。
进一步,所述收集器为至少一端开口的筒状结构。
进一步,所述收集器具有锥度,所述收集器的小端朝向罐盖。
进一步,所述接口设于收集部。
进一步,所述冷却装置包括套设于所述收集部的冷却套,通过冷却介质循环冷却。
进一步,所述反应部的轴线水平。
本发明的另一个目的在于,提出一种硅氧化合物的制备方法,该制备方法提高制备效率,降低能耗:
一种硅氧化合物的制备方法,采用上述的制造设备并进行以下步骤:
步骤一,开启加热炉;
步骤二,开启冷却装置;
步骤三,打开罐盖,将Si粉末和SiO2粉末混合后作为原料放置在反应部中,在收集部中放入收集器,封闭罐盖;
步骤四,通过接口对罐体抽真空;
步骤五,待罐体中的原料反应完毕后,保持加热炉和冷却装置的运行,打开罐盖取出收集器,在反应部中装入新的原料,在收集部中放入新的收集器,封闭罐盖,通过接口对罐体抽真空,开始下一轮反应,并将硅氧化合物产品从取出的收集器上剥离;
步骤六,重复步骤五,直至制备结束。
进一步,所述罐体的装载量为2-200KG,所述加热炉的温度为1100-1400℃,所述罐体的真空度保持在0.01-10000Pa间,所述冷却装置的温度为100-800℃,所述步骤五中放入新的收集器到步骤六中取出该收集器之间的时间为2-60h(小时)。
本发明的有益效果有:
本发明提出的一种硅氧化合物的制造设备,通过将反应部设置于加热炉内,收集部和开口置于加热炉外,通过打开开口取出收集器,放入新的收集器后关闭开口,无需冷却整个设备,加热炉能连续工作,效率高,由于以往的设备需冷却,升温降温过程造成能源的浪费,本设备很大程度上节约了能源;同时提出了采用如上所述的制造设备的制备方法,提高制备效率,降低能耗。
附图说明
图1是本发明实施例一提供的一种硅氧化合物的制造设备的结构示意图;
图2是本发明实施例二提供的一种硅氧化合物的制造设备的结构示意图;
图3是本发明实施例三提供的一种硅氧化合物的制造设备的结构示意图。
图中,1、罐体;2、开口;3、反应部;4、收集部;5、原料;6、收集器;7、加热炉;8、接口;9、罐盖;10、冷却装置;11、冷却套;12、产品。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例一:
如图1所示,一种硅氧化合物的制造设备,该设备具有至少一个罐体1,本实施例中的设备具有一个罐体1,罐体1至少一端设有开口2,本实施例中的罐体1仅一端设有开口2,罐体1包括反应部3和收集部4,反应部3用于置入原料5,收集部4用于置入收集器6,收集器6置于罐体1的开口端,反应部3远离罐体1的开口端,反应部3设置于加热炉7内,收集部4和开口2均设置于加热炉7外,罐体1通过接口8抽真空,罐体1通过罐盖9打开或封闭开口2。
反应时,通过接口8对罐体1排气,使罐体1内的真空度符合要求,加热炉7对反应部3内的原料5加热,原料5经过化学反应生成产品蒸气,由于收集部4位于加热炉7外,位于收集部4外围的空气温度远低于加热炉7,产品蒸气与罐体1外部空气换热,冷凝在收集器6上形成固体产品12,一个生产周期后,打开罐盖9,从开口2中取出收集器6,装入新的原料5,换入新的收集器6,关闭罐盖9,重复上述过程直至完成该次生产,在这个过程中,加热炉7无需停炉,保持生产状态,从而实现半连续生产,极大的提高了效率,节约了能源。
本实施例中,为保证罐体1良好的密封状态,开口2只设在罐体1的一端,本领域技术人员可根据需要,在罐体1的两端都设置开口2,均通过罐盖9密封。
本实施例的收集部4可采用空气冷却或冷却装置冷却,按所需的冷却要求选择冷却方式,为更快冷却收集部4,收集部4上设有冷却装置10。
加热炉7连通空气,从而实现电加热或燃烧加热均可,电加热包括中高频感应加热、微波加热以及电阻加热,电阻加热包括硅碳棒、硅钼棒、石墨电阻加热,燃烧加热采用的燃料包括天然气、煤气、瓦斯气、生物质气或人工燃气,燃烧加热较于电加热,很大程度的节约了能源,由于罐体1内的真空状态,大气压会不利于罐体1的使用寿命,为保证罐体1的使用寿命,本实施例中,罐体1选用耐热钢、陶瓷、刚玉、碳化硅和碳素材料中的一种或几种,为保证密封性、易加工性和加工成本,优选耐热钢,并且优选罐体1的直径为100mm至1000mm,优选罐体1的长度为300mm至5000mm。
收集器6为至少一端开口的筒状结构,方便收集和拿放。
本实施例中,收集器6具有锥度,收集器6的小端朝向罐盖9,方便拿出和放入。
接口8设于收集部4,便于保证罐体1内的真空度。
本实施例中,冷却装置10包括套设于收集部4的冷却套11,通过冷却介质循环冷却,采用水、空气、惰性气体、冷却液均可,本实施例采用循环水冷却,成本低。
本实施例中,冷却套11设置于收集部4的内部或外部均可。
收集器6采用耐热钢、SUS、铁皮、石英、石墨、钨片、碳化硅、氧化铝以及C/C复合材料中的一种或几种。
采用本实施例提出的制造设备制备硅氧化合物的方法是:
步骤一,开启加热炉7;
步骤二,开启冷却装置10;
步骤三,打开罐盖9,将Si粉末和SiO2粉末混合后作为原料5放置在反应部3中,在收集部4中放入收集器6,封闭罐盖9;
步骤四,通过接口8对罐体1抽真空;
步骤五,待罐体1中的原料5反应完毕后,保持加热炉7和冷却装置10的运行,打开罐盖9取出收集器6,在反应部3中装入新的原料5,在收集部4中放入新的收集器6,封闭罐盖9,通过接口8对罐体1抽真空,开始下一轮反应,并将硅氧化合物产品12从取出的收集器6上剥离;
步骤六,重复步骤五,直至制备结束。
该方法在制备过程中无需停炉,步骤五和步骤六实现了设备的半连续工作,极大地提高了生产效率,避免了加热炉7升温降温过程中造成的能源浪费。
为实现较高的生产效率和较低的成本,其中,罐体1的装载量为2-200KG,加热炉7的温度为1100-1400℃,罐体1的真空度保持在0.01-10000Pa间,冷却装置10的温度为100-800℃,步骤五中放入新的收集器6到步骤六中取出该收集器6之间的时间为2-60h。
实施例二:
如图2所示,本实施例与实施例一的区别在于,罐体1两端均设有开口2,均通过罐盖9密封,收集器6和冷却装置10的设置方式与实施例一相同,本实施例中,反应部3设置在加热炉7内,位于反应部3两边的收集部4均设置在加热炉7外,在保证密封良好的前提下,本实施例进一步提高制备产品的速度和生产效率。
实施例三:
如图3所示,本实施例与实施例一的区别在于,设备中具有三个罐体1,对本领域的技术人员而言,根据生产需要和加热炉7的尺寸合理设置罐体1的数目,该数目不局限于本实施例,本实施例设置多个罐体1,更好的利用了加热炉7的热量。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为了清楚说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述设备具有至少一个罐体(1),所述罐体(1)至少一端设有开口(2),所述罐体(1)包括反应部(3)和收集部(4),所述反应部(3)用于置入原料(5),所述收集部(4)用于置入收集器(6),所述收集器(6)置于罐体(1)的开口端,所述反应部(3)远离罐体(1)的开口端,所述反应部(3)设置于加热炉(7)内,所述收集部(4)和开口(2)均设置于所述加热炉(7)外,所述罐体(1)通过接口(8)抽真空,所述罐体(1)通过罐盖(9)打开或封闭开口(2)。
2.如权利要求1所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述收集部(4)上设有冷却装置(10)。
3.如权利要求1所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述加热炉(7)连通空气。
4.如权利要求3所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述加热炉(7)采用电加热或燃烧加热。
5.如权利要求1所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述收集器(6)为至少一端开口的筒状结构。
6.如权利要求5所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述收集器(6)具有锥度,所述收集器(6)的小端朝向罐盖(9)。
7.如权利要求1所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述接口(8)设于收集部(4)。
8.如权利要求2所述的硅氧化合物的制造设备,其特征在于,所述冷却装置(10)包括套设于所述收集部(4)的冷却套(11),通过冷却介质循环冷却。
9.一种硅氧化合物的制备方法,其特征在于,所述制备方法采用如权利要求1-8任一所述的制造设备并进行以下步骤:
步骤一,开启加热炉(7);
步骤二,开启冷却装置(10);
步骤三,打开罐盖(9),将Si粉末和SiO2粉末混合后作为原料(5)放置在反应部(3)中,在收集部(4)中放入收集器(6),封闭罐盖(9);
步骤四,通过接口(8)对罐体(1)抽真空;
步骤五,待罐体(1)中的原料(5)反应完毕后,保持加热炉(7)和冷却装置(10)的运行,打开罐盖(9)取出收集器(6),在反应部(3)中装入新的原料(5),在收集部(4)中放入新的收集器(6),封闭罐盖(9),通过接口(8)对罐体(1)抽真空,开始下一轮反应,并将硅氧化合物产品(12)从取出的收集器(6)上剥离;
步骤六,重复步骤五,直至制备结束。
10.如权利要求9所述的硅氧化合物的制备方法,其特征在于,所述罐体(1)的装载量为2-200KG,所述加热炉(7)的温度为1100-1400℃,所述罐体(1)的真空度保持在0.01-10000Pa间,所述冷却装置(10)的温度为100-800℃,所述步骤五中放入新的收集器(6)到步骤六中取出该收集器(6)之间的时间为2-60h。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017223466A1 (de) * 2017-12-20 2019-06-27 Dialog Semiconductor (Uk) Limited Analog-digital-wandler mit selbst-verfolgung und selbst-rangingfenster
CN109205631A (zh) * 2018-11-12 2019-01-15 杭州致德新材料有限公司 一氧化硅纳米材料连续生产装置及生产工艺
CN110307724B (zh) * 2019-07-04 2024-07-26 广德特旺光电材料有限公司 一种生产一氧化硅的多反应器真空炉
TWI759209B (zh) * 2021-05-19 2022-03-21 中美矽晶製品股份有限公司 矽氧化物之製備裝置
CN115140739B (zh) * 2022-07-19 2023-05-16 新疆晶硕新材料有限公司 一种氧化亚硅的生产设备及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2451567Y (zh) * 2000-11-01 2001-10-03 代国光 一氧化硅生产装置
EP1236682A1 (en) * 2001-02-28 2002-09-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicon oxide powder and its manufacture
CN1712352A (zh) * 2004-06-25 2005-12-28 中国科学院过程工程研究所 一种纳米高纯二氧化硅的制备方法
CN204973821U (zh) * 2015-07-08 2016-01-20 深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司 一种硅氧化合物的制造设备

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3865033B2 (ja) * 2000-02-04 2007-01-10 信越化学工業株式会社 酸化珪素粉末の連続製造方法及び連続製造装置
JP2002088242A (ja) * 2000-09-13 2002-03-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ポリイミド樹脂組成物及びポリイミドフィルム状成形体
CN100516283C (zh) 2001-09-17 2009-07-22 株式会社大阪钛技术 一氧化硅蒸镀材料及其制造方法
US20080135801A1 (en) * 2004-07-29 2008-06-12 Shingo Kizaki Silicon Monoxide Powder For Secondary Battery and Method For Producing the Same
JP5942897B2 (ja) * 2012-03-22 2016-06-29 信越化学工業株式会社 酸化珪素析出体の連続製造方法及び製造装置
JP5737265B2 (ja) 2012-10-23 2015-06-17 信越化学工業株式会社 珪素酸化物及びその製造方法、負極、ならびにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ
CN204162438U (zh) 2014-10-18 2015-02-18 李绍光 一种制取一氧化硅的流化床反应器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2451567Y (zh) * 2000-11-01 2001-10-03 代国光 一氧化硅生产装置
EP1236682A1 (en) * 2001-02-28 2002-09-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicon oxide powder and its manufacture
CN1712352A (zh) * 2004-06-25 2005-12-28 中国科学院过程工程研究所 一种纳米高纯二氧化硅的制备方法
CN204973821U (zh) * 2015-07-08 2016-01-20 深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司 一种硅氧化合物的制造设备

Also Published As

Publication number Publication date
US20170297917A1 (en) 2017-10-19
JP2017535506A (ja) 2017-11-30
WO2017004818A1 (zh) 2017-01-12
JP6461329B2 (ja) 2019-01-30
US10611644B2 (en) 2020-04-07
CN107249726A (zh) 2017-10-13
KR20170088918A (ko) 2017-08-02

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