CN106796375B - 柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方法和附有柱状形成物的基板 - Google Patents

Abstract

本发明的主要目的在于提供：能提高固体成分浓度，且涂布性、显影性良好的柱状形成物用树脂组合物等。本发明通过提供下述柱状形成物用树脂组合物，可以达成上述目的。本发明的柱状形成物用树脂组合物，是在具有基板和柱状形成物的附有柱状形成物的基板中，用于形成上述柱状形成物的柱状形成物用树脂组合物，上述柱状形成物形成于上述基板上，且使上述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离；其特征在于，含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，上述单体(A)的质量与上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，作为上述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体。

Description

柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方 法和附有柱状形成物的基板

技术领域

本发明涉及用于形成在作为电子元件时能使基板与对置基板之间良好地保持一定距离的柱状形成物的柱状形成物用树脂组合物，使用该柱状形成物用树脂组合物的附有柱状形成物的基板的制造方法，和附有柱状形成物的基板。

背景技术

由复数电子元件用基板重叠配置构成的电子元件，近年在各种领域中已开发出通过使基板之间的距离比常规电子元件更大而发挥功能的、或提升功能性的电子元件。

例如在显示设备领域中，作为上述电子元件已经进展开发出液晶透镜(liquidcrystal lens)(例如专利文献1～3)。液晶透镜用于进行显示设备中的三维显示，更具体而言用于裸眼式三维显示方式。液晶透镜具有设有二片电极的基板、以及在两基板间形成的液晶层，通过对二电极之间施加电压使液晶层中的液晶的取向发生变化，从而能够表现出透镜效果。上述液晶透镜中，为确保透镜厚度，必须将上述两基板间的距离(单元间隙)设在25μm～110μm的范围内。

另外，在半导体领域、或印刷电路板领域中，为防止基板上所形成半导体层、导电层发生损伤等情形，由复数基板重叠配置的构成中必须充分设置基板间的距离。

此处，一般设有复数电子元件用基板的电子元件中，作为使基板间保持既定距离的方法，采用在基板上形成柱状树脂层的柱状形成物的方法。作为上述柱状形成物的形成方法可适当地使用光刻法。

然而，上述液晶透镜等所必要的柱状形成物，与常规柱状形成物相比，要求增加高度。

所以，在形成这种柱状形成物时，必须加厚形成树脂组合物的涂膜。然而，以往所使用的树脂组合物存在难以形成充分厚度的涂膜的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2009-276624号公报

专利文献2：日本专利特开2006-293241号公报

专利文献3：日本专利特开2012-173517号公报

发明内容

发明要解决的课题

为了加厚树脂组合物的涂膜，必须提高固体成分浓度，另一方面若提高固体成分浓度，则存在粘度变大，树脂组合物本身难以涂布至基板上的情况、或难以形成具有均匀厚度涂膜的问题。

此处，树脂组合物通常含有单体、聚合物、和光聚合引发剂，根据需要进一步含有溶剂。上述各成分中，聚合物的粘度高于其他成分，其含量会对树脂组合物的粘度造成大幅影响。所以，研究通过减少聚合物含量、增加单体含量，即增加固体成分中单体质量相对于聚合物质量比率(以下有时称为P/M比进行说明)，以抑制提高固体成分浓度时粘度的上升。

然而，由于聚合物赋予树脂组合物显影性，因而减少聚合物含量时，树脂组合物的显影性会降低，且在基板上容易残留不需要的树脂组合物，存在难以使用光刻法将柱状形成物形成所需图案状的顾虑。

本发明是鉴于上述情况而完成的，主要目的在于提供：能提高固体成分浓度，且涂布性、显影性良好的柱状形成物用树脂组合物等。

用于解决课题的手段

本发明者等为达成上述目的进行了深入钻研，结果发现通过将单体的HLB值设定在既定范围内，在提高P/M比时仍可使树脂组合物的显影性良好，从而完成了本发明。

即，本发明提供：[1]一种柱状形成物用树脂组合物，其特征在于，是在具有基板和柱状形成物的附有柱状形成物的基板中，用于形成上述柱状形成物的柱状形成物用树脂组合物，上述柱状形成物形成于上述基板上，且使上述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离，其中，含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，上述单体(A)的质量与上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，作为所述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体。

根据本发明，通过上述单体的HLB值在既定范围内，可以提高固体成分浓度，并且可以形成涂布性与显影性均良好的柱状形成物用树脂组合物。

上述发明中，[2]上述单体(A)优选是多官能(甲基)丙烯酸酯。另外，上述发明中，[3]上述单体(A)优选具有氧亚烷基链。

上述发明中，[4]上述聚合物(B)优选是具有(甲基)丙烯酰基和羧基的聚合物。另外，上述发明中，[5]上述聚合物(B)优选是具有(甲基)丙烯酰基和羧基的环氧树脂。

本发明是提供：[6]一种附有柱状形成物的基板的制造方法，其特征在于，是包括：在基板上涂布树脂组合物而形成涂膜的涂布工序；以及将上述涂膜进行曝光后，通过进行显影而形成柱状形成物的曝光显影工序的附有柱状形成物的基板的制造方法，其中，上述树脂组合物含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，上述单体(A)的质量与上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，作为所述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体。

根据本发明，通过使用上述树脂组合物，在涂布工序中可良好地形成厚度较厚的涂膜。另外，通过使用上述树脂组合物，在显影时，可轻易地将上述涂膜不需要的部分溶解于显影液中，因而可缩短显影时间，可以形成具有良好形状的柱状形成物。

本发明是提供：[7]一种附有柱状形成物的基板，其特征在于，是具有基板和柱状形成物的附有柱状形成物的基板，上述柱状形成物形成于上述基板上，且使上述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离，其中，上述柱状形成物是使树脂组合物固化而成的固化物，上述树脂组合物含有单体(A)、聚合物(B)和光聚合引发剂，上述单体(A)的质量和上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，并且，作为上述单体(A)，上述树脂组合物含有HLB值在8～20的范围内的单体。

根据本发明，通过柱状形成物使上述树脂组合物固化，因而可成为具有良好形状的柱状形成物的附有柱状形成物的基板。

上述发明中，[8]上述柱状形成物优选高度为25μm以上、且下底大小在20μm～50μm的范围内，宽高比在1.3～2.3的范围内。

发明效果

本发明的柱状形成物用树脂组合物可提高固体成分浓度，能起到使涂布性、显影性良好的作用效果。

附图说明

[图1]是表示本发明中附有柱状形成物的基板的制造方法的一例的工序图。

[图2]是表示本发明附有柱状形成物的基板和本发明中柱状形成物的一例的概略截面图。

[图3]是表示本发明中柱状形成物的一例的概略立体图。

[图4]是表示使用本发明附有柱状形成物的基板的液晶透镜的一例的概略截面图。

[图5]是表示本发明附有柱状形成物的基板的另一例的概略截面图。

[图6]是表示本发明附有柱状形成物的基板的另一例的概略截面图。

[图7]是表示本发明附有柱状形成物的基板的另一例的概略截面图。

具体实施方式

以下，对本发明的柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方法、和附有柱状形成物的基板进行详细说明。

A.柱状形成物用树脂组合物

本发明的柱状形成物用树脂组合物(以下有时称为树脂组合物进行说明)，是在具有基板和柱状形成物的附有柱状形成物的基板中，用于形成上述柱状形成物的柱状形成物用树脂组成，上述柱状形成物形成于上述基板上，且使上述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离；其中，该柱状形成物用树脂组合物是含有单体(A)、聚合物(B)和光聚合引发剂(C)，上述单体(A)的质量和上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，并且作为所述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体。需要说明的是，本发明的树脂组合物通常使用作为负型的感光性树脂组合物。

此处所谓HLB值(Hydrophile-Lipophile-Balance)是指亲水性-亲油性-平衡，是表示化合物的亲水性或亲油性大小的值。HLB值是其值越小则表示亲油性越高，值越大则表示亲水性越高。

本发明中HLB值是依照小田法使用下式(1)所计算出的值。关于依照小田法计算HLB值的详细内容，记载于文献“新·表面活性剂入门”(藤本武彦著、三洋化成工业股份有限公司出版、197页)。

HLB＝10×(无机性/有机性) (1)

需要说明的是，式(1)中所谓有机性、无机性是指构成分子的每个原子和官能团所决定数值的合计值，可使用上述文献中所记载的数值。

本发明的树脂组合物在附有柱状形成物的基板的制造方法中形成柱状形成物时使用。以下，针对使用本发明树脂组合物的附有柱状形成物的基板的制造方法，使用附图进行说明。

图1(a)～(d)是表示使用本发明树脂组合物的附有柱状形成物的基板的制造方法的一例的工序图。附有柱状形成物的基板的制造方法中，首先如图1(a)所示，准备基板2。也可预先在基板2上形成透明电极层4。其次，如图1(b)所示，在透明电极层4上涂布树脂组合物而形成涂膜3’(涂布工序)。接着，如图1(c)所示，经由光掩模M照射曝光光L，由此对上述涂膜3’进行曝光。其次，通过对涂膜3’进行显影，如图1(d)所示地形成柱状形成物3(曝光显影工序)。通过以上的工序，可以制造附有柱状形成物的基板1。

其次，针对使用本发明树脂组合物所形成的附有柱状形成物的基板进行说明。

图2(a)是表示附有柱状形成物的基板的一例的概略截面图，图2(b)是图2(a)的柱状形成物放大图，图2(c)是图2(b)中A-A线所示部分的图形、B-B线所示部分的图形、和C-C线所示部分的图形。另外，图3是表示本发明柱状形成物的一例的概略立体图。

如图2(a)～(c)所示，本发明的附有柱状形成物的基板1具有：基板2；以及形成于基板2上，且使基板2与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离的柱状形成物3。如图2(b)、(c)、和图3所示，作为柱状形成物3优选是上底3a的面积与下底3b的面积相同，且在上底3a与下底3b之间设有相对于基板2水平方向的截面积为最大的最大面积部3c的形状。

图2(a)、(b)和图3中表示了附有柱状形成物的基板1用于液晶透镜的例子，表示了在基板2上设有连续形成的透明电极层4，并且在透明电极层4上形成有柱状形成物3的例子。

本发明的附有柱状形成物的基板用于电子元件。针对使用了本发明附有柱状形成物的基板的电子元件，使用附图进行说明。

图4是表示使用本发明附有柱状形成物的基板的电子元件的一例的概略截面图，并表示了电子元件为液晶透镜的例子。液晶透镜30具有：基板2、对置基板12、液晶层20、柱状形成物3、和密封层21，其中，该液晶层20形成于基板2与对置基板12之间，该柱状形成物3形成于基板2上并使基板2与对置基板12之间保持一定距离，该密封层21形成于基板2与对置基板12之间并将液晶层20密封。另外，图4中表示了在基板2上整面形成透明电极层4，并且长条的透明电极层14在对置基板12上排列形成为条纹状的例子。

根据本发明，通过上述单体(A)的HLB值在既定范围内，可以成为固体成分浓度高，且涂布性、显影性良好的树脂组合物。

本发明的树脂组合物的P/M比高于常规树脂组合物。

关于本发明通过将单体(A)的HLB值设在既定范围内，即使提高P/M比时，也能使树脂组合物的显影性良好的理由，虽尚未明确，但可推测如下。

即，作为树脂组合物的显影液通常使用碱水溶液等。树脂组合物中的聚合物对碱水溶液呈可溶性。另外，关于单体(A)也是通过将HLB值设定于既定范围内，与水的亲和性变高，以表现出亲水性，因而推测对含水的碱水溶液呈可溶解状态。

另外，当使用P/M较高、且单体的HLB值较小的树脂组合物在基板上形成涂膜，经曝光后进行显影时，由于未曝光部分的树脂组合物的单体容易残留在基板上，因而为了除去上述未曝光部分的单体需要较多的显影时间。然而，当涂膜厚度较厚时，曝光部分中在基板附近的涂膜，存在利用曝光进行的固化反应不充分进行的情况，显影时间越长，则暴露于显影液中的时间越长，越有容易从基板表面上剥落的可能性。

相对于此，根据本发明，由于树脂组合物的显影性良好，因而未曝光部分的涂膜容易除去，可减少显影液对曝光部分的涂膜的影响，可以形成具有良好形状的柱状形成物。

以下，针对本发明树脂组合物的各成分进行说明。

1.单体(A)

本发明中单体(A)的HLB值在8～20的范围内、优选在8.5～19的范围内、更优选在9～18的范围内。

单体(A)的HLB值可以通过例如在分子中导入表现出亲水性的取代基来进行调整。

作为表现出亲水性的取代基，可以列举例如：羟基、羧基和氧亚烷基链，特别优选氧亚烷基链。作为氧亚烷基链，可以列举例如：氧亚乙基链、氧亚丙基链等。

另外，单体(A)通过曝光光的照射，单体(A)彼此间发生交联表现出固化性。作为单体(A)，从曝光时的反应性的观点出发，优选多官能(甲基)丙烯酸酯单体。作为多官能(甲基)丙烯酸酯，只要是具有2个以上(甲基)丙烯酰基的单体，就没有特别的限定，均可使用。

所谓(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的至少任一者。另外，所谓(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基和甲基丙烯酰基的至少任一者。

作为单体(A)所使用的多官能(甲基)丙烯酸酯，可以列举例如双官能以上的(甲基)丙烯酸酯。更具体而言，可以列举例如：双官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙烯酸酯、四官能～六官能(甲基)丙烯酸酯、七官能～十官能(甲基)丙烯酸酯。

更具体而言，作为本发明中单体(A)，可使用下述通式(1)、通式(2)所示的化合物。

[化1]

(通式(1)中，X表示具有甲基、羟基、羧基的有机基团和(甲基)丙烯酰基；R¹和R²表示氢原子或甲基。a、b、c是各自独立的0～15的整数，a+b+c是0～30。)

[化2]

(通式(2)中，X表示具有甲基、羟基、羧基的有机基团和(甲基)丙烯酰基；R³和R⁴是表示氢原子或甲基。d～h是各自独立的0～10的整数，d+e+f+g+h是0～30。)

作为更具体的单体(A)，可以列举例如：含羟基的单体(A1)、含羧基的单体(A2)、和含氧亚烷基链的单体(A3)。

作为含羟基的单体(A1)，可以列举例如：季戊四醇三丙烯酸酯(HLB值：11.0)、二季戊四醇五丙烯酸酯(HLB值：9.4)等。

作为含羧基的单体(A2)，可以列举例如：Aronix M-510、Aronix M-520(均为东亚合成株式会社制)等。

作为含氧亚烷基链的单体(A3)，可以列举例如在二元～六元的多元醇中加成碳数2～4的环氧烷，再将(甲基)丙烯酸进行酯化反应而合成的。环氧烷例如优选为环氧乙烷或环氧丙烷、更优选为环氧乙烷。

作为具体的含氧亚烷基链的单体(A3)，可以列举例如：三羟甲基丙烷的2.6摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(HLB值：9.9)、三羟甲基丙烷的3摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(HLB值：10.3)、季戊四醇的4摩尔环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(HLB值：11.4)、三羟甲基丙烷的6摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(HLB值：12.2)、三羟甲基丙烷的15摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(HLB值：14.9)、三羟甲基丙烷的20摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(HLB值：15.6)、甘油的9摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(HLB值：14.6)、季戊四醇的4摩尔环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(HLB值：11.4)、二季戊四醇的3摩尔环氧乙烷加成物的六丙烯酸酯(HLB值：9.6)等。

单体(A)中，从显影性和涂布性的观点出发，优选为含氧亚烷基链的单体(A3)，更优选为三羟甲基丙烷的环氧烷加成物的三丙烯酸酯、和季戊四醇的环氧烷加成物的四丙烯酸酯。

需要说明的是，单体(A)至少含有1种即可。另外，单体(A)也可并用HLB小于8.0的多官能(甲基)丙烯酸酯。

单体(A)的含量只要能形成所需柱状形成物，就没有特别的限定，具体而言，相对于树脂组合物的固形成分优选在60质量％～95质量％的范围内、更优选在65质量％～93质量％的范围内、特别优选在70质量％～90质量％的范围内。

这是因为若单体(A)的含量过少，则有难以使用本发明树脂组合物形成柱状形成物的可能性。另外，这是因为若单体(A)的含量过多，则相对地聚合物(B)的含量过少，因而有难以确保显影性的可能性。

需要说明的是，本发明中，所谓“树脂组合物的固形成分”，是指当树脂组合物含有后述溶剂时，除溶剂以外的树脂组合物的成分。

2.聚合物(B)

本发明中聚合物(B)通常分子内具有自由基聚合性基。作为自由基聚合性基从光固化性的观点出发，优选(甲基)丙烯酰基、乙烯基和烯丙基、更优选为(甲基)丙烯酰基。

另外，本发明的聚合物(B)优选为亲水性，聚合物的分子内所含有对亲水性具有贡献的官能团，从碱显影性的观点出发，优选羧基、环氧基、磺酸基、磷酸基，更优选羧基。

本发明的聚合物(B)从上述观点出发，特别优选具有(甲基)丙烯酰基和羧基的聚合物。

作为本发明的聚合物(B)，可以列举例如：亲水性环氧树脂(B1)、亲水性丙烯酸树脂(B2)等。

作为亲水性环氧树脂(B1)，可以通过使市售物的环氧树脂与具有自由基聚合性基的化合物发生反应，进一步与具有羧基等亲水性官能团的化合物发生反应来合成。

例如可以列举使分子中具有环氧基的线型酚醛型环氧树脂与(甲基)丙烯酸发生反应，进一步使之与邻苯二甲酸或邻苯二甲酸酐等多元羧酸或多元羧酸酐发生反应而制造的方法。

另外，作为亲水性丙烯酸树脂(B2)，可以通过利用现有方法使(甲基)丙烯酸衍生物发生聚合，进一步与具有自由基聚合性基的化合物发生反应来获得。

作为此处所使用的(甲基)丙烯酸衍生物，可以列举例如：包含丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸正己酯、丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸-2-乙基已酯、丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸正辛酯、丙烯酸正癸酯、甲基丙烯酸正癸酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、甲基丙烯酸苄酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯的1种以上，和丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸的二聚体、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙酸乙烯酯、以及它们的酸酐等的1种以上的聚合物或共聚物；或者使甲酚线型酚醛树脂的(甲基)丙烯酸改性物与酸酐(例如邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、马来酸酐等)进行加成反应的(甲基)丙烯酸衍生物等。

亲水性(甲基)丙烯酸树脂(B2)在进一步提升感光性间隔物(photo spacer)的弹性回复特性的目的下，根据需要优选在侧链或末端导入(甲基)丙烯酰基。

作为在侧链导入(甲基)丙烯酰基的方法，可以列举例如下述(1)和(2)的方法。

(1)使用(甲基)丙烯酸(b21)或(甲基)丙烯酸酯(b22)中的至少一部分具有能与异氰酸酯基发生反应的基(羟基、或者一级或二级胺基等)的单体制造聚合体，然后再使具有(甲基)丙烯酰基和异氰酸酯基的化合物[异氰酸(甲基)丙烯酰氧基乙酯等]发生反应的方法。

(2)使用(b21)或(b22)中的至少一部分具有能与环氧基发生反应的官能团(羟基、羧基、或者伯胺基或仲胺基等)的单体制造聚合体，然后再使具有(甲基)丙烯酰基和环氧基的化合物[(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等]发生反应的方法。

本发明中，在上述聚合物(B)中，从显影性和固化性的观点出发，优选可以列举：含有(甲基)丙烯酰基和羧基的丙烯酸树脂、含有(甲基)丙烯酰基和羧基的环氧树脂，特别优选可以列举：含有(甲基)丙烯酰基和羧基的环氧树脂。

作为聚合物(B)的含量，只要能形成所需柱状形成物，就没有特别的限定，具体而言，相对于树脂组合物的固形成分，优选在5质量％～40质量％的范围内、更优选在7质量％～35质量％的范围内、特别优选在10质量％～30质量％的范围内。这是因为若聚合物(B)的含量过少，则有难以确保树脂组合物的显影性的可能性。另外，这是因为若聚合物(B)的含量过多，则树脂组合物的粘度会提高，有难以确保涂膜厚度地进行涂布的可能性。

3.光聚合引发剂(C)

作为本发明所使用的光聚合引发剂(C)，是例如利用紫外线能量而产生自由基的化合物，可以列举例如：肟酯系化合物、苯乙酮系化合物、二苯甲酮系化合物、二咪唑系化合物、苯偶姻系化合物、α-二酮系化合物、多核醌系化合物、呫吨酮系化合物、噻吨酮系化合物、三嗪系化合物、缩酮系化合物、偶氮系化合物、过氧化物、2，3-二烷基二酮系化合物、二硫系化合物、秋兰姆化合物类、氟胺系化合物等。这些可以使用1种、或混合使用2种以上。

作为光聚合引发剂(C)，具体而言，可以列举例如：二苯甲酮、米蚩酮(4，4’-双二甲胺基二苯甲酮)、4，4’-双二乙胺基二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲胺基二苯甲酮、2-乙基蒽醌、菲等芳香族酮；苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻苯醚等苯偶姻醚类；甲基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻；2-(邻氯苯基)-4，5-苯基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4，5-二(间甲氧基苯基)咪唑二聚体、2-(邻氟苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体、2，4，5-三芳基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4，5-二(间甲基苯基)咪唑二聚体、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮、2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(对氰基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(对甲氧基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑等卤甲基噻唑化合物；2，4-双(三氯甲基)-6-对甲氧基苯乙烯基-S-三嗪、2，4-双(三氯甲基)-6-(1-对二甲胺基苯基-1，3-丁二烯基)-S-三嗪、2-三氯甲基-4-胺基-6-对甲氧基苯乙烯基-S-三嗪、2-(萘-1-基)-4，6-双-三氯甲基-S-三嗪、2-(4-乙氧基-萘-1-基)-4，6-双-三氯甲基-S-三嗪、2-(4-丁氧基-萘-1-基)-4，6-双-三氯甲基-S-三嗪等卤甲基-S-三嗪系化合物；2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙酮、1，2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮-1，1-羟基-环己基-苯基酮、苄基、苯甲酰基苯甲酸、苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯硫醚、苄基甲基缩酮(benzyl methyl ketal)、二甲胺基苯甲酸酯、对二甲胺基苯甲酸异戊酯、4-二甲胺基苯甲酸-2-正丁氧基乙酯、2-氯噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮等光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂(C)的商品名，可以列举例如：IRGACURE369(汽巴精化公司制)、IRGACURE 819(汽巴精化公司制)、IRGACURE 907(汽巴精化公司制)、IRGACURE OXE02(汽巴精化公司制)、NCI831(ADEKA公司制)等。本发明中这些光聚合引发剂可以单独使用、或混合使用2种以上。

从曝光时的固化性观点出发，优选可以列举：IRGACURE 369和IRGACURE OXE02；IRGACURE 819、IRGACURE 907和IRGACURE OXE02的组合。

作为光聚合引发剂(C)的含量，只要能形成柱状形成物，就没有特别的限定，具体而言，相对于树脂组合物的固形成分，优选在0.5质量％～12.0质量％的范围内、更优选在1.0质量％～11.0质量％的范围内、特别优选在1.5质量％～10.0质量％的范围内。

这是因为若光聚合引发剂(C)的量过少，则有引起涂膜固化不足的可能性，若光聚合引发剂(C)的量过多，则因涂膜表面附近的敏感度提升，有成为大于既定大小的柱状形成物的可能性。

4.溶剂

树脂组合物通常进一步含有溶剂。溶剂可设为与一般树脂组合物所使用的相同，具体而言，可以列举例如：甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇等醇类；α-或β-萜品醇等萜烯类等；丙酮、甲乙酮、环己酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等酮类；甲苯、二甲苯、四甲基苯等芳香族烃类；溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、卡必醇、甲基卡必醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚等二醇醚类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基溶纤剂乙酸酯、卡必醇乙酸酯、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、和乙酸-3-甲氧基丁酯等乙酸酯类等。

5.其他成分

树脂组合物除了上述单体(A)、聚合物(B)、光聚合引发剂(C)、和溶剂之外，还可适当选择追加必要的其他成分。

作为其他的成分，可以列举例如：单官能(甲基)丙烯酸酯、匀染剂、交联剂、固化剂、聚合促进剂、粘度调整剂等。关于这些添加剂可使用公知的添加剂。

6.树脂组合物

作为树脂组合物中所含有上述单体(A)的质量与上述聚合物(B)的质量比率，只要能形成所需柱状形成物，就没有特别限定，优选单体(A)的质量：聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内、更优选在73∶27～87∶13的范围内、特别优选在75∶25～85∶15的范围内。

这是因为若与上述比率相比，单体(A)的质量比率过小的情况或过大的情况，则有难以形成柱状形成物本身的可能性。

作为树脂组合物的固体成分浓度，只要能形成所需柱状形成物的程度，就没有特别限定，优选为20质量％以上、更优选在30质量％～80质量％的范围内、特别优选在50质量％～75质量％的范围内。

这是因为固体成分浓度过低时，有难以充分增厚涂膜厚度的可能性。

需要说明的是，所谓“树脂组合物的固体成分浓度”，是指树脂组合物含有上述溶剂时，固形成分的质量相对于含溶剂的树脂组合物的质量的比率。

作为树脂组合物的粘度，只要在基板上能以所需厚度塗布树脂组合物，就没有特别限定，在25℃下，优选在5mPa·s～100mPa·s的范围内、更优选在10mPa·s～80mPa·s的范围内、特别优选在15mPa·s～70mPa·s的范围内。

这是因为若树脂组合物的粘度过高时、或树脂组合物的粘度过低时，有树脂组合物本身难以涂布于基板上的可能性、或者难以获得良好的涂膜的可能性。

需要说明的是，关于粘度的测定方法，只要是能精度优良地测定粘度的方法，就没有特别限定，例如使用流变仪、B型粘度计、毛细管式粘度计等粘度测定装置的方法。另外，作为粘度的测定方法，可使用数字式粘度计(英弘精机株式会社DV-E)。

树脂组合物通常表现出透明性。

7.用途

本发明的树脂组合物可用于附有柱状形成物的基板的制造方法中的柱状形成物的形成。关于具体的柱状形成物的形成方法，在后述的“B.附有柱状形成物的基板的制造方法”项中进行说明，因而在此省略说明。

B.附有柱状形成物的基板的制造方法

本发明附有柱状形成物的基板的制造方法，其特征在于，包括：在基板上涂布树脂组合物而形成涂膜的涂布工序；将上述涂膜进行曝光后，通过进行显影而形成柱状形成物的曝光显影工序的附有柱状形成物的基板的制造方法，其中，上述树脂组合物含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，上述单体(A)的质量与上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，作为所述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体。

关于本发明附有柱状形成物的基板的制造方法，使用附图进行说明。

图1(a)～(d)是表示本发明附有柱状形成物的基板的制造方法的一例的工序图。需要说明的是，关于图1(a)～(d)，可与上述“A.柱状形成物用树脂组合物”项所说明内容相同，因而在此省略说明。

根据本发明，通过使用上述树脂组合物，可以在涂布工序中良好地形成厚度较厚的涂膜。另外，通过使用上述树脂组合物，在显影时可将上述涂膜的不需要部分轻易地溶解于显影液中，因而可缩短显影时间，且能形成具有良好形状的柱状形成物。

以下，对本发明附有柱状形成物的基板的制造方法的各项工序进行说明。

1.涂布工序

本发明的涂布工序是在基板上涂布树脂组合物而形成涂膜的工序。

(1)基板

作为本发明所使用的基板，可根据电子元件的用途适当选择，并无特别的限定。另外，作为上述基板，可具有透明性、也可不具有透明性。

当上述基板具有透明性时，对于基板的透明性并无特别的限定，例如，全光线穿透率优选为80％以上、更优选为90％以上。此处，基板的全光线穿透率可利用JIS K7361-1(塑料-透明材料的全光线穿透率的试验方法)进行测定。

作为基板，可使用例如：石英玻璃、派热克斯(Pyrex)(注册商标)玻璃、合成石英板等没有挠性的刚性材料；或者树脂薄膜、光学用树脂板等具有挠性的柔性材料等。

作为基板的厚度，只要能形成柱状形成物，就没有特别限定，例如优选在0.05mm～0.85mm的范围内。

也可在基板一侧的表面上形成透明电极层。本发明中，透明电极层可在树脂组合物涂布前形成于基板上，也可使用预先形成有透明电极层的市售基板。

(2)涂布方法

作为本工序所形成涂膜的厚度，只要是能形成柱状形成物的厚度，就没有特别限定，优选为27μm以上、更优选在30μm～110μm的范围内、特别优选在37μm～100μm的范围内。

这是因为若涂膜的厚度过薄时、或过厚时况，有柱状形成物难以形成既定形状的可能性。

作为树脂组合物的涂布方法，可设为一般的涂布方法，例如：旋涂法、模涂法、喷涂法、浸涂法、辊涂法、珠涂法、棒涂法等。

本发明中，作为树脂组合物的涂布方法优选为模涂法。这是由于模涂法是从喷嘴吐出树脂组合物从而进行涂布的方法，因而树脂组合物的粘度对涂布性造成大幅影响，可高度发挥使用上述树脂组合物所造成的作用效果。

本工序中，优选在涂膜形成后进行干燥处理。关于干燥处理，可设为与一般树脂层形成方法所采取的处理相同，因而在此省略说明。另外，干燥处理例如也可在减压下进行。

2.曝光显影工序

本发明的曝光显影工序是在对上述涂膜进行曝光后，通过进行显影而形成柱状形成物的工序。

本工序所使用的曝光光只要对上述涂膜进行曝光能形成所需柱状形成物，就没有特别限定，可使用公知的曝光装置的光源进行照射。

作为本工序所使用的曝光方法，可设为与一般的光刻法所采用的同样，具体而言，可以列举例如使用公知的曝光装置，经由光掩模对涂膜照射曝光光的方法。关于光掩模，只要能形成柱状形成物，就没有特别限定，可设为与一般光掩模同样。

本工序中，在涂膜曝光后，涂膜被显影。

作为涂膜的显影液，只要能将涂膜显影成既定图案状，就没有特别限定，可以列举例如碱水溶液(KOH或K₂CO₃)。

本工序中，根据需要也可以在显影后进行煅烧柱状形成物的煅烧处理。关于煅烧处理，可设为与一般树脂层的形成方法所采用方法同样，因而在此省略说明。

3.其他工序

本发明附有柱状形成物的基板的制造方法中，只要设有上述涂布工序和曝光显影工序，就没有特别限定，根据需要可适当选择追加其他工序。例如当附有柱状形成物的基板用于液晶透镜时，也可以具有在基板上形成透明电极层、遮光部、取向膜等的构成。

4.附有柱状形成物的基板

通过本发明所制造的附有柱状形成物的基板，具有基板、与柱状形成物。关于通过本发明所制造的附有柱状形成物的基板的详细内容，可设为与后述“C.附有柱状形成物的基板”项所说明的内容相同，因而在此省略说明。

C.附有柱状形成物的基板

本发明附有柱状形成物的基板，其特征在于，是具有基板，和形成于上述基板上且使上述基板与形成电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离的柱状形成物的附有柱状形成物的基板，其中，上述柱状形成物是使树脂组合物固化而成的固化物，上述树脂组合物含有单体(A)、聚合物(B)和光聚合引发剂，上述单体(A)的质量和上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，并且作为上述单体(A)，上述树脂组合物含有HLB值在8～20的范围内的单体。

关于本发明附有柱状形成物的基板，使用附图进行说明。

其次，对使用本发明树脂组合物所形成的附有柱状形成物的基板进行说明。

图2(a)是表示本发明附有柱状形成物的基板的一例的概略截面图，图2(b)是图2(a)的本发明柱状形成物放大图，图2(c)是图2(b)中A-A线所示部分的图形、B-B线所示部分的图形、和C-C线所示部分的图形。需要说明的是，关于图2(a)～图2(c)可设为与上述“A.柱状形成物用树脂组合物”项所说明内容相同，因而在此省略说明。

根据本发明，上述柱状形成物是使上述树脂组合物固化的物质，因而可以形成具有与常规柱状形成物相比高度较高、且高度相对于下底大小的比率(以下有时称为“宽高比”进行说明)较高的柱状形成物的附有柱状形成物的基板。

以下，对本发明附有柱状形成物的基板的各构成进行说明。

1.柱状形成物

本发明的柱状形成物形成于基板上，且使上述基板与成为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离。

另外，柱状形成物是使上述“A.柱状形成物用树脂组合物”项所说明树脂组合物固化的物质。关于树脂组合物和柱状形成物的形成方法已有说明，因而在此省略说明。

本发明的柱状形成物是上述树脂组合物的固化物，由此可形成与常规柱状形成物相比高度较高、宽高比较高的形状。

需要说明的是，所谓“柱状形成物的下底”是指柱状形成物的基板一侧的面。另外，所谓“柱状形成物的上底”是指与柱状形成物的基板一侧相反侧的面。

作为柱状形成物的高度，可以根据电子元件的用途适当选择，并无特别的限定，优选为25μm以上、更优选为30μm～110μm的范围内、特别优选为37μm～100μm的范围内。

这是因为若柱状形成物的高度过低时、或过高时，有柱状形成物难以形成既定形状的可能性。

作为具体的下底大小，根据附有柱状形成物的基板所使用的电子元件的用途适当选择，并无特别的限定，例如优选为20μm～50μm的范围内、更优选为25μm～47μm的范围内、特别优选为30μm～45μm的范围内。

这是因为若下底的大小偏小，则有柱状形成物的强度降低的可能性、或难以形成柱状形成物本身的可能性；若下底的大小偏大，则有阻碍电子元件本身、电子元件其他构成的功能的可能性。这是因为例如当电子元件为液晶透镜时，若上述柱状形成物的下底偏大，则上述观察者容易观察到柱状形成物，因而使用液晶透镜的显示设备有难以良好地显示的可能性。

需要说明的是，关于下底的大小，是指在后述下底面积项中所说明的图形大小，例如当上述图形是圆形状的情况是指直径，当上述图形具有长边与短边的情况是指短边。

另外，作为柱状形成物的宽高比，可根据附有柱状形成物的基板所使用的电子元件的种类适当选择，并无特别的限定，优选为1.3～2.3的范围内、更优选为1.5～2.2的范围内、特别优选为1.7～2.1的范围内。

这是因为若上述宽高比未满足上述范围时，使用柱状形成物有难以良好保持基板与对置基板间的距离的可能性。另外，当柱状形成物用于液晶透镜时，使用上述液晶透镜的显示设备有难以良好显示的可能性。另外，这是因为若上述宽高比超过上述范围时，则有难以形成柱状形成物本身的可能性。

作为本发明的柱状形成物，优选上底面积与下底面积相等，且在上述上底与上述下底之间具有相对于上述基板水平方向的截面积为最大的最大面积部的形状。

这是因为可以抑制上述柱状形成物的塑性变形，且当成为电子元件时，能形成具有可使上述基板与对置基板间良好地保持一定距离的柱状形成物的附有柱状形成物的基板。

本发明中，所谓“上底面积与下底面积相等”是指上底面积与下底面积的面积差的绝对值为可以抑制因柱状形成物的底面面积差而产生的塑性变形的程度。具体而言，是指上底面积与下底面积的面积差绝对值，在假设上底与下底的俯视形状为圆形时，上底直径与下底直径的差绝对值为5μm以下。

本发明中，上述上底直径与下底直径的差绝对值，优选为4μm以下、特别优选为3μm以下。

这是因为上述上底直径与下底直径的差绝对值越小，越能抑制因底面面积差而产生的塑性变形。

另外，本发明的柱状形成物形状，是在上述上底与上述下底之间具有相对于上述基板水平方向的截面积为最大的最大面积部的形状。

作为最大面积部的上述截面积与上底和下底中面积较大的底面的面积之差，根据电子元件的用途适当决定，通常假设上底、下底和最大面积部的俯视形状为圆形时，最大面积部的直径与上底和下底中较大直径的差为2μm以上。

本发明中，上述大面积部的直径与上底和下底中较大直径的差，优选在2μm～10μm的范围内、特别优选在2μm～8μm的范围内。

这是因为若上述直径的差偏小，则有难以充分抑制柱状形成物的塑性变形的可能性。另外，若上述直径差偏大，则有难以形成柱状形成物的可能性；或有柱状形成物本身变大，而阻碍电子元件功能的可能性。

作为柱状形成物的上底面积与下底面积，可以根据电子元件的用途适当选择，并无特别的限定，优选为150μm²～2850μm²的范围内、更优选为250μm²～2300μm²的范围内、特别优选为300μm²～2000μm²的范围内。

这是因为若柱状形成物的上底面积与下底面积过大，则有柱状形成物本身变大，而阻碍电子元件功能的可能性；若柱状形成物的上底面积与下底面积过小，则有难以形成柱状形成物的可能性。

作为柱状形成物最大面积部的上述截面积，可以根据电子元件的用途适当选择，并无特别的限定，优选为3000μm²以下、更优选为255μm²～2400μm²的范围内、特别优选为350μm²～2100μm²的范围内。

这是因为若柱状形成物的最大面积部的上述截面积过大，则有柱状形成物本身变大，而阻碍电子元件功能的可能性；若柱状形成物的最大面积部的上述截面积过小，则有难以形成柱状形成物的可能性。

另外，柱状形成物的最大面积部设于上底与下底之间。作为柱状形成物的最大面积部的形成位置(高度)，相对于柱状形成物的高度，通常在25％～75％的范围内、优选在30％～70％的范围内、特别优选在35％～65％的范围内。

这是因为若最大面积部形成位置相对于柱状形成物高度的比率过大时、或过小时，则在位于距最大面积部较远距离的底面侧有容易发生柱状形成物的塑性变形的可能性。

作为柱状形成物的俯视形状，可以根据电子元件适当选择，并无特别的限定，可以列举例如：圆形、椭圆形、正方形、长方形等。

关于上述上底、下底、最大面积部的各面积、柱状形成物的高度、最大面积部的形成位置，可以通过例如测量使用扫描电子显微镜(SEM)从俯视观察柱状形成物的观察影像、和从侧面观察柱状形成物的观察影像来求得。扫描电子显微镜(SEM)可以使用公知的扫描电子显微镜。

本发明中，“上底面积”是指由柱状形成物最上部与基板呈水平方向的面、与从柱状形成物的最大面积部朝上底侧的侧面延长的面交叉而形成的图形的面积。“上底面积”是指例如图2(c)中A所示图形的面积。

另外，“下底面积”是指由形成有柱状形成物的基板表面、与从柱状形成物的最大面积部朝下底侧的侧面延长的面交叉而形成的图形的面积。另外，当柱状形成物经由其他层形成于基板上时，“下底面积”是指其他层的表面、与从柱状形成物的最大面积部朝下底侧的侧面延长的面交叉而形成的图形的面积。“下底面积”是指例如图2(c)中B所示图形的面积。

另外，“最大面积部相对于基板水平方向的截面积”是指柱状形成物相对于基板水平方向的截面积最大值。“最大面积部相对于基板水平方向的截面积”是指例如图2(c)中C所示图形的面积。

另外，柱状形成物的高度是指从上底至下底的垂直方向的距离，具体而言，柱状形成物的高度是指图2(b)中x1所示的距离。

最大面积部的形成位置是指从最大面积部起至下底的垂直方向的距离，具体而言，最大面积部的形成位置是指图2(b)中x2所示的距离。

本发明的柱状形成物是在将本发明附有柱状形成物的基板作为电子元件时，为使基板与对置基板之间保持一定距离而使用。

作为柱状形成物，可以根据各种电子元件适当选择，例如：作为液晶透镜时用于保持单元间隙的柱状形成物、作为印刷电路板时用于使基板间的距离保持一定的构件、在半导体积层基板中用于使基板间的距离保持一定的构件、作为喷墨打印机时用于形成微流路(micro flow path)的构件、作为等离子显示器时的阻隔壁材、作为有机电致发光元件时的阴极隔板。

其中，作为柱状形成物，优选为液晶透镜的柱状形成物。

2.基板

基板支撑上述柱状形成物。关于基板，可设为与上述“B.附有柱状形成物的基板”项中所说明内容同样，因而在此省略说明。

3.其他构成

本发明的附有柱状形成物的基板只要具有上述基板和柱状形成物，就没有特别限定，可以适当选择追加必要的构成。

例如，当柱状形成物用于液晶透镜时，如图2(a)、图5和图6所示，也可以具有在基板2上所形成的透明电极层4、14。如图2(a)、图5所示，透明电极层4也可在基板2上整面形成，如图6所示，长条的透明电极层14也可以呈条纹状排列并形成于基板2上。

另外，如图7所示，也可具有在基板2上形成的取向膜5。也可具有在基板2上形成的遮光部6。

需要说明的是，关于透明电极层、取向膜、遮光部等，可使用液晶透镜所用的公知物，因而在此省略说明。

4.用途

本发明附有柱状形成物的基板可用于各种电子元件，可用于例如：液晶透镜、印刷电路板、半导体层叠基板、喷墨打印机、等离子显示器、有机电致发光元件等。

其中，作为附有柱状形成物的基板，优选用于液晶透镜。

需要说明的是，本发明并不局限于上述实施方式。上述实施方式仅为例示，与本发明申请专利范围所记载技术思想具实质相同构成、并达到同样作用效果的实施方式，均包含在本发明的技术范围中。

实施例

以下，通过实施例和比较例对本发明进行进一步说明，但本发明并不限于此。以下，在无特别声明的前提下，％表示质量％、份表示质量份。

[感光性树脂组合物的制备]

依照以下顺序，获得实施例1～5和比较例1～3的感光性树脂组合物。

在具有加热冷却·搅拌装置、回流冷凝管、滴液漏斗和氮导入管的玻璃制烧瓶中，加入甲酚线型酚醛型环氧树脂“EOCN-102S”(日本化药株式会社制，环氧当量200)200份和丙二醇单甲醚乙酸酯145份，加热至90℃使之均匀溶解。接着，加入丙烯酸76份、三苯基膦2份和对甲氧基苯酚0.2份，在90℃下反应10小时。

在该反应物中进一步加入四氢邻苯二甲酸酐91份，进一步在90℃下反应5小时从而获得丙烯酸改性亲水性环氧树脂(表1中、B-1)。

然后，用丙二醇单甲醚乙酸酯，将上述丙烯酸改性亲水性环氧树脂的含量稀释为50％，获得上述丙烯酸改性亲水性环氧树脂(B-1)的50％丙二醇单甲醚乙酸酯溶液。

上述丙烯酸改性亲水性环氧树脂经固体成分换算的酸值是88.4。通过凝胶渗透色谱(GPC)测得的数均分子量(Mn)是2，200。需要说明的是，SP值是11.3、HLB值是9.8。

通过GPC进行的Mn测定，使用凝胶渗透色谱装置(装置名：HLC-8120GPC、东曹株式会社制)，并使用色谱柱(色谱柱种类：TSKgel GMHXL 2支+TSKgel Multipore HXL-M、东曹株式会社制)，作为溶剂使用四氢呋喃(THF)，在温度40℃下，以TSK标准聚苯乙烯(东曹株式会社制)作为基准物质进行测定而求得。

另外，本发明的SP值通过Fedors等所提案的下述文献所记载的方法进行计算。

“POYMER ENFINEERING AND SCIENCE，February，1974，Vol.14，No.2，RobertF.Fedors(第147～154页)”

SP值越接近，彼此间越容易相互混合(分散性高)，该数值越偏离则越难以混合。

需要说明的是，后述表1的聚合物(B)的数值表示仅有丙烯酸改性亲水性环氧树脂(B-1)的质量份。

依照表1的调配份数，加入各原料，搅拌至均匀为止，获得实施例1～5和比较例1～3的感光性树脂组合物。

[表1]

需要说明的是，表1中简称的化学品的详细如下：

(A-1)：季戊四醇的4摩尔环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(Sartomer公司制“SR494”)(HLB值：11.4)

(A-2)：三羟甲基丙烷的2.6摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(三洋化成工业公司制“Neomer TA-401”)(HLB值：9.9)

(A-3)：三羟甲基丙烷的20摩尔环氧乙烷加成物的三丙烯酸酯(Sartomer公司制“SR415”)(HLB值：15.6)

(A-4)：季戊四醇三丙烯酸酯(共荣社化学公司制“Light Acrylate PE-3A”)(HLB值：11.0)

(A’-1)：季戊四醇四丙烯酸酯(三洋化成工业公司制“Neomer EA-300”)(HLB值：7.8)

(B-1)：上述丙烯酸改性亲水性环氧树脂

(C-1)：(双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(BASF公司制“IRGACURE 819”)

(C-2)：(2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-1-丙酮(BASF公司制“IRGACURE907”)

(C-3)：[1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-乙酮1-(O-乙酰肟)(BASF公司制“IRGACURE OXE02”)

(D-1)：3-丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制“KBM-5103”)

(D-2)：甲基丙烯酸改性磷酸酯(日本化药公司制“PM-21”)

(D-3)：聚醚改性聚二甲基硅氧烷(表面活性剂)(信越化学公司制“KF-352A”)

(D-4)：聚醚改性氟化合物(表面活性剂)(DIC公司制“MEGAFAC TF-2066”)

(E-1)丙二醇单甲醚乙酸酯

(E-2)二乙二醇二甲醚

[评价]

对所获得的实施例1～5和比较例1～3的感光性树脂组合物，进行以下的性能评价。

[显影性的评价]

在10cm×10cm四方的玻璃基板上，利用旋涂机涂布感光性树脂组合物并干燥，形成干燥膜厚5μm的涂膜。该涂膜在加热板上于80℃加热3分钟，然后使用0.05％KOH水溶液进行30秒钟显影，并评价显影性。评价基准如下：

○：目视没有残留物。

×：无法显影。

[显影密合性的评价]

在10cm×10cm四方的玻璃基板上，利用旋涂机涂布感光性树脂组合物并干燥，形成干燥膜厚50μm的涂膜。该涂膜在加热板上于80℃加热3分钟。对所获得涂膜，通过感光性间隔物形成用掩模照射超高压汞灯的光60mJ/cm²(以i线换算计照度22mW/cm²)。需要说明的是，以掩模与基板的间隔(曝光间隙)为150μm进行曝光。然后，使用0.05％KOH水溶液进行90秒钟显影，并评价显影密合性。评价基准如下。若为○可认为显影密合性良好。

○：光掩模开口径25μm，没有剥落。

×：光掩模开口径25μm，出现剥落。

[涂布性的评价]

在利用旋涂机或模具涂布机进行的涂布中，评价是否能进行不会发生涂布不均或条痕的涂布。另外，依照上述显影密合性的曝光条件形成柱状形成物，并对柱状形成物高度的面内分布、柱状形成物的缺损进行评价。评价基准如下。

因为面内分布、涂布不均、柱状形成物的缺损受感光性树脂组合物的涂膜状态影响，而涂膜的状态受感光性树脂组合物的涂布性影响，因而若评价是○可认为涂布性良好。

(面内分布的评价基准)

○：相对于实际所获得各个柱状形成物的平均高度(平均值)，上述各个柱状形成物的高度在平均值±5％的高度范围内。

×：相对于实际所获得各个柱状形成物的平均高度(平均值)，上述各个柱状形成物存在高度超过平均值±5％高度的。

(涂布不均的评价基准)

○：目视涂膜上没有条痕、凹坑(crawling)。

×：目视涂膜上出现条痕、凹坑。

(柱状形成物的缺损)

○：柱状形成物没有缺损。

×：柱状形成物有缺损。

[柱状形成物的形状评价]

求出由实施例1～5和比较例2、3所获得柱状形成物的宽高比。具体而言，选择任意5个柱状形成物。其次，测定各柱状形成物的下底径与高度，计算出宽高比。下底径使用激光显微镜测定，高度使用触针式膜厚计测定。由5个宽高比求出平均值。结果示于表1。

实施例1～5的本发明感光性树脂组合物如表1所示，在显影性、密合性、涂布性、和形状全部方面均优异。

另一方面，比较例1由于未含有HLB值为8以上且20以下的多官能(甲基)丙烯酸酯(A)，因而显影性差，无法形成柱状形成物。另外，比较例2由于单体(A)的质量相对于聚合物(B)的质量比率在60质量％以下，因而涂布性差。另外，比较例3由于单体(A)的质量相对于聚合物(B)的质量比率为95质量％以上，因而密合性差，且由于涂布时产生了条痕，因而柱状形成物出现缺损。实施例1～5所获得柱状形成物的宽高比均为2.0以上，具有良好形状。另一方面，比较例2虽能获得良好的宽高比，但整体的形状波动大。可认为这是由于与实施例相比，比较例2的涂布性较差，因而发生涂布不均。比较例3中，无法获得具有充分宽高比的柱状形成物。

符号说明

1 附有柱状形成物的基板

2 基板

3 柱状形成物

Claims (7)

1.一种柱状形成物用树脂组合物，其特征在于，是在具有基板和柱状形成物的附有柱状形成物的基板中，用于形成所述柱状形成物的柱状形成物用树脂组合物，所述柱状形成物形成于所述基板上，且使所述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离，其中，

含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，

所述单体(A)的质量与所述聚合物(B)的质量比率为所述单体(A)的质量∶所述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，

作为所述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体，

所述单体(A)具有氧亚烷基链。

2.如权利要求1所述的柱状形成物用树脂组合物，其特征在于，所述单体(A)是多官能(甲基)丙烯酸酯。

3.如权利要求1或2所述的柱状形成物用树脂组合物，其特征在于，所述聚合物(B)是具有(甲基)丙烯酰基和羧基的聚合物。

4.如权利要求1或2所述的柱状形成物用树脂组合物，其特征在于，所述聚合物(B)是具有(甲基)丙烯酰基和羧基的环氧树脂。

5.一种附有柱状形成物的基板的制造方法，其特征在于，是包括下述工序的附有柱状形成物的基板的制造方法：

在基板上涂布树脂组合物而形成涂膜的涂布工序；以及

将所述涂膜进行曝光后，通过进行显影而形成柱状形成物的曝光显影工序，其中，

所述树脂组合物含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，

所述单体(A)的质量与所述聚合物(B)的质量比率为所述单体(A)的质量∶所述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，

作为所述单体(A)含有HLB值在8～20的范围内的单体，

所述单体(A)具有氧亚烷基链。

6.一种附有柱状形成物的基板，其特征在于，是具有基板，和形成于所述基板上且使所述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离的柱状形成物的附有柱状形成物的基板，其中，

所述柱状形成物是使树脂组合物固化而成的固化物，

所述树脂组合物含有单体(A)、聚合物(B)和光聚合引发剂，

所述单体(A)的质量和所述聚合物(B)的质量比率为所述单体(A)的质量∶所述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，并且

作为所述单体(A)，所述树脂组合物含有HLB值在8～20的范围内的单体，

所述单体(A)具有氧亚烷基链。

7.如权利要求6所述的附有柱状形成物的基板，其特征在于，所述柱状形成物的高度为25μm以上，下底尺寸在20μm～50μm的范围内，宽高比在1.3～2.3的范围内。

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