CN105552247A - 复合基板、柔性显示装置及其制备方法 - Google Patents

复合基板、柔性显示装置及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种复合基板，以及柔性显示装置及其制备方法，该复合基板包括第一基板和柔性基板，所述柔性基板包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层设置在所述第一基板上，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层。本发明实施例提供的柔性基板，无需在柔性基板远离显示元件的表面上粘贴下保护膜层，在柔性基板与第一基板之间没有设置离型层或者剥离层，能够提供显示器的制备良率，提高显示效果。

Description

复合基板、柔性显示装置及其制备方法
技术领域
本发明涉及平板显示技术，特别涉及一种复合基板，以及柔性显示装置及其制备方法。
背景技术
显示面板目前被广泛的应用于手机、掌上电脑(PersonalDigitalAssistant,PDA)等便携式电子产品中，例如：薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,TFT-LCD)、有机发光二级管显示器(OrganicLightEmittingDiode,OLED)、低温多晶硅(LowTemperaturePoly-silicon,LTPS)显示器以及等离子体显示器(PlasmaDisplayPanel,PDP)等。在市场竞争的推动下，更轻便、显示效果更优越、价格更低的显示装置受到了越来越多的追捧。
现有的柔性有机电致发光显示装置的制备工艺流程包括：(1)在玻璃基板上形成离型层或者剥离层；(2)在离型层或者剥离层上形成柔性基板；(3)在柔性基板上制作薄膜晶体管驱动电路；(4)蒸镀有机发光器件；(5)在有机发光器件上制作封装层；(6)贴上保护膜；(7)将柔性基板与玻璃基板分离；(8)贴下保护膜。在该制备工艺过程中，由于从玻璃基板取下的柔性基板非常柔软，使得在贴合下保护膜时，存在很多工艺上的困难。例如产生气泡，损伤薄膜晶体管和有机发光器件等，从而降低柔性显示器的良率。由于离型层或者玻璃层表面的不平整，会导致涂布的聚酰亚胺层的厚度不均匀，影响显示器的显示效果；并且离型层需要选择耐高温的材料，可选择性较小，且离型层的粘结度比较低，如果在制备显示器件的过程中柔性基板发生移位，会降低显示器的良率，影响显示器的显示效果。并且显示装置上会残留一定厚度的离型层或者剥离层，增加了显示装置的厚度，不能满足对薄的显示装置的市场需求。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种复合基板，包括第一基板和柔性基板，所述柔性基板包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层设置在所述第一基板上，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层。
本发明实施例还提供一种柔性显示装置，包括柔性基板和显示元件，所述柔性基板包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层设置在所述第一基板上，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层；
所述显示元件，位于所述柔性基板的第二有机膜层上。
本发明实施例还提供一种柔性显示装置的制备方法，包括以下步骤，
提供一第一基板，在所述第一基板上形成第一有机膜层；
在所述第一有机膜层上形成至少一层无机膜层；
在形成有所述无机膜层的第一基板上形成第二有机膜层；
在所述第二有机膜层上形成显示元件；
分离所述柔性基板与所述第一基板。
本发明实施例提供的复合基板，以及柔性显示装置及其制备方法具有以下有益效果：
1.本发明实施例提供的柔性基板，无需在柔性基板远离显示元件的表面上粘贴下保护膜层，从而能够克服工艺上粘贴下保护膜层困难，且容易产生气泡，损伤薄膜晶体管和发光器件等问题，从而提高柔性显示器的良率。
2.本发明实施例提供的柔性基板，在柔性基板与第一基板之间没有设置离型层或者剥离层，这样能够克服由于离型层或者玻璃层表面的不平整，而导致涂布的聚酰亚胺层的厚度不均匀的问题；并且能够提供显示器的制备良率，提高显示效果。
3.无机膜层的材料包括金属材料，使得该柔性基板有较好的散热效果，并且尤其时柔性基板的厚度小于等于50μm时，柔性基板比较薄，既可以满足市场需求，又可以使得柔性显示装置有较好的散热效果，还可以在激光切割分离第一基板和柔性基板时，对显示器件进行一定的保护，防止激光照射产生的热量对显示器件造成损伤。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的复合基板的一种结构示意图；
图2是本发明实施例提供的柔性基板的一种结构示意图；
图3是本发明实施例提供的柔性显示装置的一种结构示意图；
图4是本发明实施例提供的柔性显示装置制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种复合基板，具体如图1所示，该复合基板包括第一基板1和柔性基板2，所述柔性基板2包括第一有机膜层21和第二有机膜层22，所述第一有机膜层21设置在所述第一基板1上，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层，如图1所示，第一有机膜层21和第二有机膜层22之间设置有一层无机膜层23；该柔性基板上还设置有显示元件，该显示元件包括薄膜晶体管3和有机发光元件4；有机发光元件4上面设置有封装层5，封装层对该复合基板进行密封，防止外界水汽进入显示元件内，而影响显示效果；封装层5上设置有上保护层。其中，第一基板为玻璃基板或者刚性基板。在本发明实施例中，采用激光照射的方法对所述柔性基板和所述第一基板进行切割照射后分离。本发明实施例提供的复合基板，无需在柔性基板远离显示元件的表面上粘贴下保护膜层，从而能够克服工艺上粘贴下保护膜层困难，且容易产生气泡，损伤薄膜晶体管和发光器件等问题，从而提高柔性显示器的良率；且在柔性基板与第一基板之间没有设置离型层或者剥离层，这样能够克服由于离型层或者玻璃层表面的不平整，而导致涂布的聚酰亚胺层的厚度不均匀的问题；并且能够提供显示器的制备良率，提高显示效果。
以上仅为本发明的一种实施方式，本发明的实施方式还可以为，该复合基板中的柔性基板还包括至少一层第三有机膜层，该第三有机膜层设置在第一有机膜层和第二有机膜层之间；如图2所示，该柔性基板2包括第一有机膜层21和第二有机膜层22，该第一有机膜层21和第二有机膜层22之间还设置有至少一层第三有机膜层24，第三有机膜层24和无机膜层23交替间隔堆叠。
在本发明实施例中，该复合基板的柔性基板中第一有机膜层、第二有机膜层和第三有机膜层的材料均为聚酰亚胺；该第一有机膜层、第二有机膜层和第三有机膜层的厚度均为10μm-20μm。该无机膜层的材料包括氧化硅，氮化硅、铝、钛、钼、氧化铝中的至少一种材料；无机膜层的厚度为50nm-500nm。该柔性基板的厚度小于等于50μm。其中，无机膜层的材料包括金属材料，使得该柔性基板有较好的散热效果，并且尤其时柔性基板的厚度小于等于50μm时，柔性基板比较薄，既可以满足市场需求，又可以使得柔性显示装置有较好的散热效果，还可以在激光切割分离第一基板和柔性基板时，对显示器件进行一定的保护，防止激光照射产生的热量对显示器件造成损伤。
本发明实施例提供一种柔性显示装置，如图3所示，该柔性显示装置包括柔性基板2和显示元件，所述柔性基板2包括第一有机膜层21和第二有机膜层22，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层，如图3所示，第一有机膜层21和第二有机膜层22之间设置有一层无机膜层23；该柔性基板上设置有显示元件，该显示元件包括薄膜晶体管3和有机发光元件4；有机发光元件4上面设置有封装层5，封装层对该复合基板进行密封，防止外界水汽进入显示元件内，而影响显示效果；封装层5上设置有上保护层。本发明实施例提供的柔性显示装置，无需在柔性基板远离显示元件的表面上粘贴下保护膜层，从而能够克服工艺上粘贴下保护膜层困难，且容易产生气泡，损伤薄膜晶体管和发光器件等问题，从而提高柔性显示器的良率；且在柔性基板与第一基板之间没有设置离型层或者剥离层，这样能够克服由于离型层或者玻璃层表面的不平整，而导致涂布的聚酰亚胺层的厚度不均匀的问题；并且能够提供显示器的制备良率，提高显示效果。
以上仅为本发明的一种实施方式，本发明的实施方式还可以为，该柔性显示装置中的柔性基板还包括至少一层第三有机膜层，该第三有机膜层设置在第一有机膜层和第二有机膜层之间；如图2所示，该柔性基板2包括第一有机膜层21和第二有机膜层22，该第一有机膜层21和第二有机膜层22之间还设置有至少一层第三有机膜层24，第三有机膜层24和无机膜层23交替间隔堆叠。
在本发明实施例中，该柔性显示装置的柔性基板中第一有机膜层、第二有机膜层和第三有机膜层的材料均为聚酰亚胺；该第一有机膜层、第二有机膜层和第三有机膜层的厚度均为10μm-20μm。该无机膜层的材料包括氧化硅，氮化硅、铝、钛、钼、氧化铝中的至少一种材料；无机膜层的厚度为50nm-500nm。该柔性基板的厚度小于等于50μm。其中，无机膜层的材料包括金属材料，使得该柔性基板有较好的散热效果，并且尤其时柔性基板的厚度小于等于50μm时，柔性基板比较薄，既可以满足市场需求，又可以使得柔性显示装置有较好的散热效果，还可以在制备柔性显示装置的过程中，对显示器件进行一定的保护，防止激光照射产生的热量对显示器件造成损伤。
本发明实施例提供一种柔性显示装置的制备方法，参考图4所示的流程图，本发明实施例中的柔性显示装置的结构示意图可以参考图3，该柔性显示装置的制备方法包括以下步骤，
提供一第一基板1，在所述第一基板1上形成第一有机膜层21；
在所述第一有机膜层21上形成至少一层无机膜层23；
在形成有所述无机膜层23的第一基板1上形成第二有机膜层22；
在所述第二有机膜层22上形成显示元件；
分离所述柔性基板2与所述第一基板1。
在本发明实施例中，所述在所述第一基板上形成第一有机膜层步骤包括：在第一基板上涂布一层第一膜层，对所述第一膜层进行烘烤形成所述第一有机膜层，其中，烘烤的温度大于等于400℃，烘烤时间小于等于6h。
在本发明实施例中，采用等离子体增强化学气相沉积、物理气相沉积、原子力层积、溶胶凝胶法中的任意一种方法形成所述无机膜层。
在本发明实施例中，所述在形成有所述无机膜层的第一基板上形成第二有机膜层步骤包括：在所述形成有所述无机膜层的第一基板上涂布一层第一膜层，对所述第一膜层进行烘烤形成所述第二有机膜层，其中，烘烤的温度大于等于400℃，烘烤时间为小于等于6h。
在本发明实施例中，所述分离所述柔性基板与所述第一基板步骤包括：采用激光照射的方法对所述柔性基板和所述第一基板进行切割照射后分离。
在本发明实施例中，参考如图3所示的柔性显示装置的结构示意图，所述分离所述柔性基板与所述第一基板步骤之前还包括，在形成有显示元件的柔性基板上形成封装层5，在封装层5上贴上保护膜层6；封装层对该复合基板进行密封，防止外界水汽进入显示元件内，而影响显示效果。
本发明实施例提供的柔性显示装置的制备方法，无需在柔性基板远离显示元件的表面上粘贴下保护膜层，从而能够克服工艺上粘贴下保护膜层困难，且容易产生气泡，损伤薄膜晶体管和发光器件等问题，从而提高柔性显示器的良率；且在柔性基板与第一基板之间没有形成离型层或者剥离层，这样能够克服由于离型层或者玻璃层表面的不平整，而导致涂布的聚酰亚胺层的厚度不均匀的问题；并且能够提供显示器的制备良率，提高显示效果。
以上对本发明实施例所提供的双栅极驱动的横向排列的像素结构及显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (20)

1.一种复合基板，包括第一基板和柔性基板，所述柔性基板包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层设置在所述第一基板上，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层。
2.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述第一有机膜层和所述第二有机膜层之间还设置有至少一层第三有机膜层，所述第三有机膜层和所述无机膜层交替间隔堆叠。
3.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述第一基板为玻璃基板或者刚性基板。
4.根据权利要求2所述的复合基板，其特征在于，所述第一有机膜层、所述第二有机膜层和所述第三有机膜层的材料均为聚酰亚胺。
5.根据权利要求2所述的复合基板，其特征在于，所述第一有机膜层、所述第二有机膜层和所述第三有机膜层的厚度均为10μm-20μm。
6.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述无机膜层的材料包括氧化硅，氮化硅、铝、钛、钼、氧化铝中的至少一种材料。
7.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述无机膜层的厚度为50nm-500nm。
8.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述柔性基板的厚度小于等于50μm。
9.一种柔性显示装置，包括柔性基板和显示元件，所述柔性基板包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层和第二有机膜层之间设置有至少一层无机膜层；
所述显示元件，位于所述柔性基板的第二有机膜层上。
10.根据权利要求9所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一有机膜层和所述第二有机膜层之间还设置有至少一层第三有机膜层，所述第三有机膜层和所述无机膜层交替间隔堆叠。
11.根据权利要求10所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一有机膜层、所述第二有机膜层和所述第三有机膜层的材料均为聚酰亚胺。
12.根据权利要求10所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一有机膜层、所述第二有机膜层和所述第三有机膜层的厚度均为10μm-20μm。
13.根据权利要求9所述的柔性显示装置，其特征在于，所述无机膜层的材料包括氧化硅，氮化硅、铝、钛、钼、氧化铝中的至少一种材料。
14.根据权利要求9所述的柔性显示装置，其特征在于，所述无机膜层的厚度为50nm-500nm。
15.根据权利要求9所述的柔性显示装置，其特征在于，所述柔性基板的厚度小于等于50μm。
16.一种柔性显示装置的制备方法，包括以下步骤，
提供一第一基板，在所述第一基板上形成第一有机膜层；
在所述第一有机膜层上形成至少一层无机膜层；
在形成有所述无机膜层的第一基板上形成第二有机膜层；
在所述第二有机膜层上形成显示元件；
分离所述柔性基板与所述第一基板。
17.根据权利要求16所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于，所述在所述第一基板上形成第一有机膜层步骤包括：在所述第一基板上涂布一层第一膜层，对所述第一膜层进行烘烤形成所述第一有机膜层，其中，烘烤的温度大于等于400℃，烘烤时间小于等于6h。
18.根据权利要求16所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于，采用等离子体增强化学气相沉积、物理气相沉积、原子力层积、溶胶凝胶法中的任意一种方法形成所述无机膜层。
19.根据权利要求16所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于，所述在形成有所述无机膜层的第一基板上形成第二有机膜层步骤包括：在所述形成有所述无机膜层的第一基板上涂布一层第一膜层，对所述第一膜层进行烘烤形成所述第二有机膜层，其中，烘烤的温度大于等于400℃，烘烤时间为小于等于6h。
20.根据权利要求16所述的柔性显示装置的制备方法，其特征在于，所述分离所述柔性基板与所述第一基板步骤包括：采用激光照射的方法对所述柔性基板和所述第一基板进行切割照射后分离。
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