CN105191501A - 显示设备、制造该显示设备的方法以及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本公开的一种显示单元包括：多个像素，被配置成发射相互不同的发射光；以及绝缘膜，设置在所述多个像素之间并且具有相对于所述发射光的反射表面，其中所述绝缘膜的所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置。

Description

显示设备、制造该显示设备的方法以及电子设备
技术领域
本公开涉及一种通过使用有机电致发光(EL)现象来发光的显示单元、制造所述显示单元的方法以及包括所述显示单元的电子设备。
背景技术
因为信息和通信行业的加速发展，因此需求具有高性能的显示装置。尤其是，由于下一代的显示装置具有如自发光显示装置的优点，不仅具有宽的视角和优良的对比度而且也具有快速的响应速度，因此有机EL装置已经吸引了关注。有机EL装置(光发射装置)具有一个配置，其中包括光发射层的多层被层叠起来。更具体地，有机EL装置例如可以被配置成连接到TFT(薄膜晶体管)的布线层，所述TFT控制光发射装置、注入空穴的阳极、光发射层、注入电子的阴极、树脂、彩色滤光层和像素分离层的驱动。光发射装置通过将来自阳极和阴极的空穴和电子分别注入到光发射层并将所述空穴和电子复合来发光。其间夹入光发射层的阳极和阴极中的一个也起反光镜的作用，根据光发射角度或波长会产生不同的干涉效应。因此，光发射装置的光发射强度随着光发射角度和波长有极大的不同。
例如，在光发射角度大的情况下，发射光在装置中传播，并不被允许从面板离开。因此，例如，在专利文献1中，公开了一种显示单元，其中泄露到绝缘膜的成份光通过使用具有相互不同折射率的两种光学薄膜叠层被返回到作为绝缘膜的有机层，所述绝缘膜将多个光发射装置相互分离。此外，在专利文献2中，公开了一种显示单元，其中为每个装置设置一个包括谐振部的光发射装置的光程。
引文列表
专利文献
专利文献1：日本未审专利申请公开No.2010-153127
专利文献2：日本未审专利申请公开No.2006-30250
发明内容
然而，在专利文献1中的显示单元中，存在虽然发光效率提高但是颜色再现性随着视角而改变的问题。此外，在专利文献2中的显示单元中，存在虽然颜色再现性提高但是制造工艺复杂的问题。
因此，可期望的是，提供一种能够通过简单方法提高颜色再现性并抑制亮度变化的显示单元、制造所述显示单元的方法以及电子设备。
根据本技术的一个实施例的显示单元包括：配置成发射相互不同的发射光的多个像素；以及设置在所述多个像素之间并且具有相对于发射光的反射平面的绝缘膜，其中所述绝缘膜的所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置。
根据本技术的一个实施例的制造显示单元的方法包括：布置多个配置成发射相互不同发射光的像素；以及在所述多个像素之间形成具有相对于所述发射光的反射平面并且其中所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置的绝缘膜。
根据本技术的一个实施例的电子设备包括上述显示单元。
在根据本技术的所述实施例的所述显示单元、制造所述显示单元的方法和所述电子设备中，具有反射表面的所述绝缘膜设置在所述像素之间，并且绝缘膜形成为针对每个像素设置所述绝缘膜的所述反射表面的所述角度；因此，在每个像素中具有高光反射强度的发射光可沿着任意方向反射。
根据本技术的所述实施例的所述显示单元、制造所述显示单元的方法以及所述电子设备，所述绝缘膜形成为针对每个像素设置所述反射表面角度；因此，每个像素中的具有高光反射强度的发射光的发射方向被调节。因此，可提高每个像素的颜色再现性。此外，允许抑制每个像素中光发射亮度的变化。
附图说明
图1是根据本公开的一个实施例示出的显示单元配置的平面图。
图2是图1示出的所述显示单元的一个像素的一个实例的剖面图。
图3A是根据一个比较实例示出的显示单元中发射光的光路的示意图。
图3B是图3A示出的所述显示单元的视角与亮度之间关系的特征图。
图4A是图1示出的所述显示单元中发射光的光路的示意图。
图4B是图1示出的所述显示单元的视角与亮度之间关系的特征图。
图5是图1示出所述显示单元的一个像素的另一实例的剖面图。
图6是图1示出的所述显示单元的配置图。
图7是图6示出的所述显示单元的像素驱动电路的一个实例的图。
图8A是描述制造图1示出的所述显示单元的方法的一个实例的剖面图。
图8B是示出图8A后的工艺的剖面图。
图8C是示出图8B后的工艺的剖面图。
图9是图示制造图1示出的所述显示单元的方法的另一实例的剖面图。
图10A是根据修改修改实例1的显示单元的剖面图。
图10B是图10A示出的所述显示单元的平面图。
图11示出了根据修改修改实例2的像素形状(A)至(D)的实例。
图12是示出使用图11示出的所述像素形状(C)的显示单元的配置的平面图的一个实例。
图13A是示出一个比较实例中视角和亮度的改变的特征图。
图13B是示出本公开的实例1中视角和亮度的变化的特征图。
图14A是示出一个比较实例中视角和亮度的变化的特征图。
图14B是示出本公开的实例2中视角和亮度的变化的特征图。
图15A是示出一个比较实例中视角和亮度的变化的特征图。
图15B是示出本公开的实例3中视角和亮度的变化的特征图。
图16是示出本公开的实例4中视角和亮度的变化的特征图。
图17A是根据上述实施例等使用所述像素示出所述显示单元的应用实例1的前侧面上的外观的立体图。
图17B是根据上述实施例等使用所述像素示出所述显示单元的应用实例1的后侧面上的外观的立体图。
图18是示出应用实例2的外观的立体图。
图19A是示出从应用实例2的前侧面观看的外观的立体图。
图19B是示出从应用实例2的后侧面观看的外观的立体图。
图20是示出应用实例3的外观的立体图。
图21是示出应用实例4的外观的立体图。
图22A是在其中应用实例5关闭状态下的前视图、左侧视图、右侧视图、顶视图和底视图。
图22B是在其中应用实例5打开状态下的前视图和侧视图。
具体实施方式
通过参考附图，本公开的一些实施例将在以下详细地描述。应该注意的是，说明书按以下顺序给出。
1.实施例
1-1.基本配置
1-2.显示单元·的整体配置
1-3.制造方法
1-4.功能和效果
2.修改修改实例
修改修改实例1(对每个像素调节开口率的一个实例)
修改修改实例2(像素形状的实例)
修改修改实例3(调节绝缘膜的反射率率的一个实例)
3.实例
4.应用实例(电子设备的实例)
(1.实施例)
图1示出了根据本发明的一个实施例的显示单元(显示单元1A)的平面配置的一个实例。该显示单元1A使用于照相机的取景器或头戴式显示器等，并可以具有一个配置，其中多个像素2在显示区域110中以点进行设置。该像素2中每个可以被配置成三种颜色的子像素，即红色像素2R、绿色像素2G和蓝色像素2B，并且子像素2R、2G和2B包括生成对应于其的单色光的光发射装置(分别生成红色的单色光的红色发射光装置10R(用于红色像素2R)、生成绿色的单色光的绿色发射光装置10G(用于绿色像素2B)以及生成蓝色的单色光的蓝色光发射装置10B(用于蓝色像素2B))(所有参考图2)。
(1-1基本配置)
图2示出了图1示出的一个像素2的剖面配置。该像素2被配置成三种颜色的子像素，即如上所述的红色像素2R、绿色像素2G和蓝色像素2B，其中的每个具有由绝缘膜13(13RG、13GB和13BR)所分隔的光发射区域。这里，子像素2R、2G和2B中的每个的光发射区域可以具有例如图1示出的圆形形状。
该绝缘膜13是所称的分隔壁，该分隔壁将光发射装置10R、10G和10B相互电分离，并设置有作为子像素2R、2G和2B的每个中的光发射区域的开口部分13A。这将在后详细描述，有机层14设置在开口部分13A中，该有机层14包括光发射层14C(红色光发射层14CR、绿色光发射层14CG和蓝色光发射层14CB)，配置为对应于光发射装置10R、10G和10B中的一个。绝缘膜13的材料的例子可包括但不限于例如聚酰亚胺、酚醛树脂和丙烯酸树脂的有机材料，并且例如可以使用有机材料和无机材料的组合。无机材料的例子可以包括SiO2、SiO、SiC和SiN。该绝缘膜13例如可以作为由上述有机材料制成的单层膜而形成。在有机材料和无机材料被组合的情况下，可以采用有机膜和无机膜的层叠配置。
该绝缘膜13的剖面表面可以具有例如梯形形状或矩形形状，并且该绝缘膜13的侧表面作为对于发射自光发射层14CR、14CG和14CB的发射光LR、LG和LB的反射表面。发射光LR、LG和LB由反射表面反射，并可以向上发射，例如由图2示出的交替的长的和短的虚线所指示的那样。
在这个实施例中，如图2示出的那样，该绝缘膜13具有为每个侧表面设置的反射表面角度(θ)，红色像素2R、绿色像素2G和蓝色像素2B由该侧表面包围。在此，该反射表面角度(θ)例如可以是第一电极12的顶表面与该绝缘膜13的侧表面所形成的角度，并且例如可以是从45°至90°，45°和90°两者包括在内。
来自光发射层14CR、14CG和14CB中的每个的发射光根据光发射角度和波长产生不同的干涉效应。因此，具有高光发射强度的光的光发射方向根据光发射装置10R、10G和10B中的每个而不同。图3A示意地示出了通常使用的显示单元100和来自光发射装置110R、110G和110B的发射光LR、LG和LB的剖面配置。应该注意的是，实线指的是具有高光发射强度的发射光LR、LG和LB的光，以及虚线指的是具有低光发射强度的发射光LR、LG和LB的光。
在显示单元100中，设置在光发射装置110R、110G和110B之间的绝缘膜113均匀地形成。换句话说，设置在光发射装置110R、110G和110B之间的绝缘膜113形成为使得其反射表面角(θ)可相等。如上所述，发射自光发射装置110R、110G和110B的光发射层114CR、114CG和114CB中的每个的光根据波长具有不同的光发射强度。因此，如图3A示出的那样，发射自光发射层114CR、114CG和114CB(所称的具有高光发射强度的光和具有低发射强度的光)的每个的发射光通过绝缘膜113的反射表面根据各波长反射到不同的方向上。因此，就会发生图3B示出的在光发射装置110R、110G和110B之间的视角中的色偏以及亮度的变化。
图4A示意地示出了在这个实施例中的显示单元1A中的发射光LR、LG和LB的发射方向。在这个实施例中，如上所述，对于子像素2R、2G和2B中的每个设置作为相对于反射光LR、LG和LB的反射表面的绝缘膜13的倾角，即反射表面角度(θ)。因此，如图4A示出的那样，具有高光发射强度的发射光LR、LG和LB的光被发射到基本相同的方向上。换句话说，如图4B示出的那样，光发射装置10R、10G和10B具有基本均匀的视角特性。这样，在子像素2R、2G和2B之间的色偏和亮度的变化被消除。
应该注意的是，相对于发射光LR、LG和LB的绝缘膜13的最佳反射表面角度(θ)不仅根据待被反射的发射光的波长而且根据第一电极12和包括光发射层14C的有机层14的膜厚度来改变，该膜厚度配置每个光发射装置10和各自层的材料。因此，当一个实例通过使用以下表达式(1)通过计算在光发射装置10R、10G和10B中的每个的反射表面角度(θ)的近似值(θ)来形成时，其中光发射强度强时对应的角度为φ，于是每个绝缘膜13的反射表面角度(θ)进一步被调节，可以通过视角来进一步减少色偏。
(数学表达式)θ＝90-φ/2(°)......(1)
对于这个实施例，对子像素2R、2G和2B中的每个具有不同反射表面角度(θ)的绝缘膜13可以通过使用例如感光树脂通过光刻形成，这将在后详细描述。更具体地，可以通过使用具有以步进方式改变透光率的光掩膜或光刻胶图案用于处理形成任意反射表面，该处理通过结合典型的干法蚀刻调节相应的侧壁角度。
应该注意的是，在这个实施例中，绝缘膜13的反射表面对于红色像素2R、绿色像素2G和蓝色像素2B中的每个被调节成最佳角度；然而，绝缘膜13的反射表面角度(θ)可以设计为使得该子像素中的两个的反射表面角度可相等。更具体地，例如，对于图5示出的显示单元1B，红色像素3R和蓝色像素3B的反射表面的角度(θ)可以相等，并且绝缘膜13的反射表面的角度(θ)可以对于红色像素3R和蓝色像素3B和对于绿色像素3G进行设计，以调节每个发射光的发射方向。当对于像素3R、3G和3B中的每个设置反射角时，获得较高的颜色再现性；然而，即使三个子像素中的两个的反射表面角度(θ)被调节成相等，颜色再现性也充分地被提高。此外，可以进一步简化绝缘膜13的反射表面角度的形成。
而且，在图2中，示出了其中绝缘膜13的顶表面与驱动基底10成水平的状态；然而，这个实施例没有受其限制，绝缘膜13的顶表面可以具有凹凸或弯曲的表面。而且，绝缘膜13的厚度可以大于第一电极12的厚度，并可以优选地是沿着来自光发射层14C的发射光的平面方向的光可例如反射到顶表面方向的一个厚度。更具体地，从第一电极12的顶表面到分隔壁13的顶表面的距离可以是1μm或更大。应该注意的是，该距离的上限可以优选地但不特别地限定于等于或小于例如一个像素的尺寸。
(1-2.显示单元的整体配置)
图6示出了显示单元1A的配置。如上所述，这个显示单元1A作为例如包括作为光发射装置10R、10G和10B的有机EL装置的照相机的取景器的小尺寸至中尺寸的显示单元来使用，并且例如可以包括作为用于围绕显示区域110的图像显示的驱动器的信号线驱动电路120和扫描线驱动电路130。
像素驱动电路140设置在显示区域110中。图7示出了像素驱动电路140的一个实例。像素驱动电路140是一个形成于第一电极12下方的有源驱动电路，这将在后描述。换句话说，像素驱动电路140包括驱动晶体管Tr1和写入晶体管Tr2、在晶体管Tr1和Tr2之间的电容器Cs(保持电容器)以及与在第一电源线(Vcc)和第二电源线(GND)之间的晶体管Tr1串联连接的光发射装置10R(或10G或10B)。驱动晶体管Tr1和写入晶体管Tr2中的每个配置为典型的薄膜晶体管，并且薄膜晶体管可以例如具有但不仅仅具有倒置交错配置(所称的底栅型)或交错配置(顶栅型)。
在像素驱动电路140中，多个信号线120A沿着列向设置，以及多个扫描线130A沿着行向设置。每个信号线120A和每个扫描线130A的一个交叉点对应于光发射装置10R、10G和10B中的一个(一个子像素)。信号线120A中的每个与信号线驱动电路120连接，以及图像信号通过信号线120A被从信号线驱动电路120传送到写入晶体管Tr2的源极。扫描线130A中的每个与扫描线驱动电路130连接，以及扫描信号随后通过扫描线130A被从扫描线驱动电路130传送到写入晶体管Tr2的栅极。
如图2示出的那样，光发射装置10R、10G和10B中的每个包括作为阳极的第一电极12、绝缘膜13、包括光发射层14C的有机层14、以及作为阴极的第二电极15，他们以这个顺序被从驱动基底11被堆叠起来，驱动基底11设置有上述像素驱动电路140的驱动晶体管Tr1和平面化绝缘膜(未图示)。驱动晶体管Tr1通过设置在该平面化绝缘膜中的连接孔(未图示)电连接到第一电极12。
此光发射装置10R、10G和10B覆盖有保护层16，以及密封基底19使用位于两者之间的粘结层17来粘合到整个保护层16上。应该注意的是，密封基底19包括彩色滤光片18A和黑色矩阵18B，在彩色滤光片18A中，对应颜色的彩色滤光片(红色滤光片18AR、绿色滤光片18AG和蓝色滤光片18AB)分别地设置在光发射装置10R、10G和10B上。保护层16可以由氮化硅(SiNx)、氧化硅或金属氧化物等制成。粘结层17可以例如由热固性树脂或紫外线固化树脂制成。
第一电极12也起反射层的作用，并且为了提高光发射效率，第一电极12可期望地具有尽可能高的反射率。特别地，在第一电极12作为阳极使用的情况下，第一电极12可期望地由具有高空穴注入性能的材料制成。对于第一电极12，例如，其沿着层叠方向的厚度(以下简称为“厚度”)可是从100nm至1000nm，包括100nm和1000nm两者，可以使用例如铬(Cr)、金(Au)、铂(Pt)、镍(Ni)、铜(Cu)、钨(W)或银(Ag)的金属元素的单质或其合金。例如铟和锡氧化物(ITO)的透明导电膜可以设置在第一电极12的表面上。应该注意到，尽管通过提供合适的空穴注入层而允许高反射率用于作为第一电极12，但是其中在表面上存在氧化膜和由小的功函数引起的空穴注入势垒的材料甚至将引起一个问题。
绝缘膜13被配置成确保第一电极12与第二电极15之间的绝缘并且被配置成将光发射区域分隔成期望的形状，以及可以例如由感光树脂制成。绝缘膜13围绕第一电极12设置，以及从第一电极12的绝缘膜13暴露的区域，即绝缘膜13的开口部分13A，作为光发射区域。在这个实施例中，如上所述，绝缘膜13的侧表面具有一个倾角，即为红色像素2R、绿色像素2G和蓝色像素2B中的每个设置的反射表面角度(θ)。应该注意的是，有机层14和第二电极15也设置在绝缘膜13上；然而只有光发射区域发射光。
有机层14可以例如具有一个配置，其中空穴注入层14A、空穴传输层14B、光发射层14C、电子传输层14D和电子注入层14E以从第一电极12的顺序被层叠。除了光发射层14C以外的层可以根据需要设置。有机层14对于光发射装置10R、10G和10B的发光颜色中的每个具有不同的配置。空穴注入层14A是缓冲层，以提高空穴注入效率并阻止泄露。空穴传输层14B被配置成提高到光发射层14C的空穴传输效率。光发射层14C配置成通过复合响应于所施加电场的电子和空穴来发射光。电子传输层14D被配置成提高到光发射层14C的电子传输效率。电子注入层14E被配置成提高电子注入效率。
光发射装置10R的空穴注入层14A可以具有例如5nm至300nm的厚度，包括5nm和300nm两者，并且可以例如由苯并菲衍生物制成。光发射装置10R的空穴传输层14B可以具有例如5nm至300nm的厚度，包括5nm和300nm两者，并且可以例如由双[(N-萘基)-N-苯基]联苯胺(α-NPD)制成。光发射装置10R的光发射层14C可以具有例如10nm至100nm的厚度，包括10nm和100nm两者，并且可以由与40％体积的2，6-双[4-[N-(4-甲氧基苯基)-N-苯基]氨基苯乙烯]萘-1，5-二腈(BSN-BCN)混合的8-羟基喹啉铝络合物(Alq3)制成。光发射装置10R的电子传输层14D可以具有例如5nm至300nm的厚度，包括5nm和300nm两者，并且可以例如由Alq3制成。光发射装置10R的电子注入层14E可以具有例如大约0.3nm的厚度，并且可以由LiF或Li2O等制成。
第二电极15可以具有例如大约10nm的厚度，并且可以由铝(Al)、镁(Mg)、钙(Ca)或钠(Na)的合金制成。具体地，镁和银的合金(Mg-Ag合金)可以是优选的，因为Mg-Ag合金在薄膜中具有导电性和小的吸收率。虽然在Mg-Ag合金中的镁与银的比例没有受到具体的限制，但是该比例可以优选地在Mg∶Ag＝20∶1至1∶1范围内，20∶1、1∶1包括在膜厚比中。此外，第二电极15的材料可以是铝(Al)和锂(Li)的合金(Al-Li合金)。
第二电极15也可以起半透明反射层的作用。在第二电极15具有作为半透明反射层的功能的情况下，光发射装置10R具有谐振腔结构MC1，并且谐振腔结构MC1使发射自光发射层14C的光可在第一电极12与第二电极15之间谐振。在谐振腔结构MC1中，在第一电极12与有机层14之间的界面作为反射表面P1，中间层18与电子注入层14E之间的界面作为半透射反射表面P2，有机层14作为谐振部分，以及谐振腔结构MC1使发射自光发射层14C的光被谐振并从半透射反射表面P2中提取光。当谐振腔结构MC1被包括时，发射自光发射层14C的光导致多重干涉，以减少从半穿透反射表面P2提取光谱的半宽度，从而提高峰值强度。换句话说，沿着前方的光辐射强度被提高以提高发射光的色纯度。而且，来自密封基底19的外部入射光可通过多重干涉被衰减，并且在光发射装置10R、10G和10B中的外部光的反射率可通过结合彩色滤光片23而降低至极小值。
(1-3.制造方法)
接下来，将使用图8A至8C和图9来描述制造显示单元1A的方法。
首先，包括第一电极12和驱动晶体管Tr1的像素驱动电路140在由上述材料制成的驱动基底11上形成，然后，平面化的绝缘膜通过使用感光树脂涂覆像素驱动电路140的整个表面来形成。该平面化绝缘膜通过曝光和显影与该连接孔的形成一起图案化为预定的形状，并然后被燃烧。
随后，如图8A示出的那样，由上述材料制成的第一电极12例如通过溅射法形成，第一电极12通过湿法蚀刻可选择地移除以被分离用于光发射装置10R、10G和10B中的每个，然后，驱动基底11的整个表面使用待作为绝缘膜13的感光树脂进行涂覆。
接下来，开口部分例如通过光刻设置为对应于光发射区域，然后燃烧该感光树脂以形成绝缘膜13。更具体地，如图8B示出的那样，用于像素2R、2G和2B中的每个的具有不同的光透过率的光掩膜21A在感光树脂上形成，然后曝光，从而形成具有特定倾角的光刻胶图案22。应该注意的是，光掩膜21A例如通过使用光阻抗蚀膜21b来覆盖玻璃基底21a的底表面并在预定位置处形成裂缝而形成。接下来，干法蚀刻使用作为掩膜的光刻胶图案22来进行，以形成具有如图8C示出的相互不同的反射表面角度(θ)的绝缘膜13。
应该注意的是，这里使用其中预定裂缝在对应于像素2R、2G和2B的位置处形成的光掩膜21A；然而，光掩膜21A不限于此，例如图9示出的那样，绝缘膜13可以使用其中倾角形成为获得预定光透过率的光掩膜21B进行处理。
接下来，具有上述厚度的有机层14的由上述材料制成的空穴注入层14A、空穴传输层14B、光发射层14C和电子传输层14D例如通过蒸发法形成。接下来，具有上述厚度的由上述材料制成的第二电极15例如通过蒸发法形成。因此，如图2和5示出的光发射装置10R、10G和10B被形成。
接下来，由上述材料制成的保护层16例如通过CVD(化学气相沉积)法或溅射法在光发射装置10R、10G和10B上形成。接下来，粘结层17在保护层16上形成，包括彩色滤光片18A和黑色矩阵18B的密封基底19使用位于两者之间的粘结层17被粘结到保护层16上。这样，图2或5示出的显示单元1A或1B完成。
在这个显示单元1A中，扫描信号通过晶体管Tr2的栅极从扫描线驱动电路130被传送到每个像素12，并且该图像信号通过待保留在保持电容器Cs中的写入晶体管Tr2从信号线驱动电路120被传送到保持电容Cs。换句话说，晶体管Tr1的开启-关闭控制响应于保留在保持晶体管Cs中的信号来进行，并且驱动电流Id因此被注入到光发射装置10R、10G和10B中，以使光发射装置10R、10G和10B可通过空穴和电子的复合来发射光。这个光在第一电极12与第二电极15之间多次反射，或者来自第一电极12的反射光和发射自光发射层14C的光通过干涉相互加强，光穿过第二电极15、彩色滤光片23和密封基底19以被提取。
(1-4.功能和效果)
在这个实施例中，将各自的子像素2R、2G和2B相互分离的绝缘膜13的侧表面作为相对于发射自光发射层14C的光的反射表面，针对子像素2R、2G和2B中的每个设置反射表面角度(反射表面角度(θ))。对于子像素2R、2G和2B中的每个的具有不同的反射表面角度(θ)的绝缘膜13可使用在对应于像素2R、2G和2B中的每个的位置处具有预定光透过率的光掩膜通过实施光刻来形成。因此，具体地，具有其发射方向根据光发射装置10R、10G和10B中的每个的发射光的每个波长而不同的高发射光强度的发射光可沿着任意方向反射。更具体地，具有来自子像素2R、2G和2B的具有高发射光强度的发射光反射到基本相同的方向。
这样，在这个实施例中的显示单元1A和制造显示单元的方法中，分隔子像素2R、2G和2B并作为相对于来自光发射层14C的发射光的反射表面的绝缘膜13的倾斜表面(侧表面)使用具有预定光透过率的光掩膜通过光刻来形成。因此，对于像素2R、2G和2B中的每个具有不同反射角的倾斜表面可易于形成。换句话说，各自子像素2R、2G和2B的绝缘膜13的倾斜表面可以在适合于光发射装置10R、10G和10B的发射光LR、LG和LB的角度上分别地单独形成，更具体地，在对于子像素2R、2G和2B的每个波长具有不同的高发射光强度的发射光可被反射到基本相同的反射方向所在的角度(反射表面角度(θ))上分别地单独形成。因此，子像素2R、2G和2B的色偏的发生受到抑制，颜色再现性被提高。
而且，具有高光发射强度的发射光可有效地使用；因此，子像素2R、2G和2B中的每个的亮度的变化被抑制，亮度被提高。而且，因为光发射效率被提高，因此具有低功率消耗的显示单元可被提供。
(4.修改实例)
以下描述上述实施例的修改实例。在以下描述中，对于上述实施例中的相同部件用相同的数字指示，并且将不再描述。
(修改实例1)
图10A示意地示出了根据修改实例1配置显示单元1C的像素4(子像素4R、4G和4B)的剖面配置，图10B示意地示出了各自的子像素4R、4G和4B的光发射区域，即开口部分13AR、13AG和13AB的开口的尺寸。除了光发射装置10R、10G和10B的光发射区域(即像素4R、4G和4B的开口部分13AR、13AG和13AB)的开口率相互不同外，显示单元1C具有类似于上述显示单元1A和1B的那些配置。
对于各自像素4R、4G和4B的输出，蓝色像素4B的输出通常是高的，并且红色像素4R的输出通常是低的。这是由形成光发射装置10R、10G和10B的光发射层14CR、14CG和14CB的材料的性能所导致的。在对于像素4R、4G和4B中的每个具有不同的输出的显示单元中，颜色再现性(即所称的着色)的变化可能由视角所导致。
在另外一方面，在这个修改实例中，为每个像素调节绝缘膜13的开口部分13AR、13AG和13AB的开口率。更具体地，例如，基于绿色像素4G的开口部分13AG，在红色像素4R中的绝缘膜13的开口部分13AR的尺寸增加，在蓝色像素4B中的绝缘膜13的开口部分13AB的尺寸减少。换句话说，如图10B示出的那样，红色像素4R、绿色像素4G和蓝色像素4B的开口率按这个顺序变小(该光发射区域变窄)。RGB(红绿蓝)的光发射水平通过以这样一个方式使像素4R、4G和4B的亮度一致来变得一致，从而通过视角抑制着色。
(修改实例2)
图11示意地示出了配置上述显示单元1A至1C的像素2至4的像素形状的其它实例。在上述实施例和上述修改实例1中，其中像素2的形状(即该光发射区域)是圆形的情况被描述；然而，该形状不限于此。例如，该形状可以如图11(A)示出的那样是椭圆形的、如图11(B)和(C)示出的那样是矩形的或如图11(D)示出的那样是基本矩形的。在如同上述实施例的圆形形状中，各自的像素以点设置；然而，在当在像素2具有如图11(C)示出的垂直地长的矩形形状的情况下，例如，如图12示出的那样，像素可以以矩阵设置。
(修改实例3)
应该注意的是，在配置上述显示单元1A至1C的绝缘膜13中，除了针对子像素2R、2G和2B中的每个设计反射表面角(θ)外，还可以改变该绝缘膜的组成材料。例如，绝缘膜可以使用具有不同折射率的材料来形成，从而调节来自光发射层14CR、14CG和14CB中的每个的发射光的发射方向。
具有不同折射率的材料可以包括以下材料。具有高折射率的材料的例子可以包括氮化硅(Si3N4)、氧化铝(Al2O3)、氧化铬(Cr2O3)、氧化镓(Ga2O3)、氧化铪(HfO2)、氧化镍(NiO)、氧化镁(MgO)、氧化铟锡(ITO)、镧氧化物(La2O3)、氧化铌(Nb2O5)、氧化钽(Ta2O5)、氧化钇(Y2O3)、氧化钨(WO3)、一氧化钛(TiO)、二氧化钛(TiO2)和氧化锆(ZrO2)。具有低折射率的材料的实例可以包括氧化硅(SiO2)、氟化铝(AlF3)、氟化钙(CaF2)、氟化铈(CeF3)、氟化镧(LaF3)、氟化锂(LiF)、氟化镁(MgF2)、氟化钕(NdF3)和氟化钠(NaF)。
特定组合的实例可以包括氮化硅(Si3N4)和氧化硅(SiO2)的组合。
(3.实例)
根据本公开的显示单元的实例将在以下描述。
(实例1)
在这个实例中，作为标准的例子，制造具有在上述实施例中所描述的像素配置的显示单元1A。更具体地，在光发射装置10R、10G和10B中，包括光发射层14C的各自的层的膜厚度在子像素2R、2G和2B中是相同。在这种情况下，制造例子1(比较实例)和例子2(实例)。在例子1中，子像素2R、2G和2B的绝缘膜13的反射表面角度(θ)是相同的，在例子2(实例)中，绝缘膜13的反射表面角度(θ)对于子像素2R、2G和2B中的每个进行调节，更具体地，绿色像素2G的绝缘膜13的反射表面角度(θ)是70°，红色像素2R和蓝色像素2B的反射表面角度是80°。测量例子1和例子2中的每个的每个视角处的亮度。
图13A和13B分别示出了例子1和2中的视角与亮度(强度)之间的关系的特征图。在图13A中可以发现，在绿色发射光、红色发射光和蓝色发射光之间的变化很大，并且在图13B中，像素2R、2G和2B中的每个视角处的亮度的值基本相等。此外，与图13A相比较，发现在0°的视角处的亮度极大地提高。
(实例2)
这个实例不同于上述实例之处在于第一电极12的厚度对于每个光发射装置改变。图14A是示出了作为比较实例的例子3的视角与亮度之间关系的特征图，图14B是图示作为实例的例子4的视角与亮度之间的关系的特征图。应该注意的是，在例子4的像素2R、2G和2B中的绝缘膜13的反射表面角度(θ)分别是80°、70°和70°。
从图14A中可以看出，经提高的亮度通过调节像素2R、2G和2B中的每个的第一电极12的膜厚度来获得；然而，在像素2R、2G和2B之间的视角处亮度的变化是明显的。另外一个方面，从图14B中可以看出，对于上述实例1的例子2，在子像素2R、2G和2B的每个视角处的亮度值基本相等。
(实例3)
这个实例不同于上述实例，因为光发射层14C的膜厚度被改变。图15A是示出了作为比较实例的例子5的视角与亮度之间关系的特征图，图15B是示出了作为实例的例子6的视角与亮度之间关系的特征图。应该注意的是，在例子6的像素2R、2G和2B中的绝缘膜13的反射表面角度(θ)分别是80°、70°和70°。
从图15A中可以看出，经提高的亮度通过调节像素2R、2G和2B中的每个的第一电极14的膜厚度来获得；然而，在像素2R、2G和2B之间的视角处亮度的变化是明显的。在另外一个方面，从图14B中可以看出，对于上述实例1的例子2和4，在子像素2R、2G和2B的每个视角处的亮度值基本相等。
从实例2和3中可以看出，即使对于各自子像素改变光发射装置10R、10G和10B的第一电极12的厚度，通过视角所进行的色偏仍可减少。
(实例4)
在这个实例(例子7)中，对于每个像素调节例子6的光发射的尺寸。更具体地，在例子6中，红色像素2R的光发射区域的尺寸增加3％，蓝色像素2B的光发射区域的尺寸减少3％。图16是示出了例子7的视角与亮度之间关系的特征图。
从图16中可以看出，由像素2R、2G和2B中的每个的视角所导致的色偏通过不仅调节绝缘膜13的反射表面角度(θ)而且调节像素2R、2G和2B中的每个的光发射区域来减少，从而获得优化。
(4.应用实例)
包括在上述实施例和上述修改实例1至3中所描述的像素2至4的显示单元1A至1C具体地对于照相机的取景器和头戴式显示器可以优选地使用，并可被安装在显示图像(或图片)的任何领域中的电子设备中，例如以下电子设备。
图17A和17B示出了一部智能手机的外观。该智能手机例如可以包括显示部分110(显示单元1A)、非显示部分(外壳)120以及操作部分130。操作部分130可以设置在非显示部分120的前表面或顶表面上。
图18示出了一台电视机的外观配置。电视机例如可以包括具有前面板210以及滤光玻璃220的图像显示屏幕部分200(显示单元1A)。
图19A和19B分别示出了一台数码相机的前表面和后表面的外观配置。该数码相机例如可以包括闪光灯的光发射部分310、显示部分320(显示单元1A)、菜单切换330以及和快门按钮340。
图20示出了一台笔记本式个人计算机的外观配置。该个人计算机例如可以包括主体410、用于输入文字等操作的键盘420以及显示图像的显示部分430(显示单元1A)。
图21示出了一台摄影机的外观配置。该摄影机例如可以包括主体部分510、设置在主体部分510的前侧表面上并用于拍摄对象的图像的透镜520、拍摄开始和停止的开关530、以及显示部分540(显示单元1A)。
图22A和22B示出了一部移动电话的外观配置。图19A示出了其中移动电话关闭状态下的前表面、左侧表面、右侧表面、顶表面和底表面。图19B示出了移动电话打开状态下的前表面和侧表面。该移动电话可以具有一个配置，其中，例如，顶侧面外壳610和底侧面外壳620通过连接部分(铰接部分)620连接在一起，并且该移动手机可以包括显示器640(显示单元1A至1C)、子显示器650、照片光线660以及照相机670。
虽然本公开参考实施例和修改实例1-3来描述，但是本公开不限于此，并可进行不同的修改。例如，每层的材料和厚度以及形成每层的方法和条件不受限于上述实施例等中所描述的那些，每层可以通过任何其它方法在任何其它条件下由具有任何其它厚度的任何其它材料制成。
此外，在上述实施例等中所描述的所有的各层并非必须被包括，它们中的一个或多个可以根据需要被省略。而且，可以添加除了在上述实施例中所描述的层外的层。例如，例如在日本未审专利申请公开No.2011-233855中描述的使用具有空穴传输能力的材料的一个或多个层，例如公共空穴传输层，可以添加在电荷传输层17与蓝光发射装置10B的蓝光发射层14CB之间。当添加此层时，光发射装置10B的光发射效率和寿命特性被提高。
而且，在上述实施例等中，配置一个像素的子像素包括三个像素(即红色像素、绿色像素和蓝色像素)的情况作为实例被描述；然而，除了三个子像素外还可以添加白色像素或黄色像素。
应该注意的是，本技术可具有以下配置。
(1)一种显示单元，其包括：
多个像素，被配置成发射相互不同的发射光；以及
绝缘膜，设置在所述多个像素之间并且具有相对于所述发射光的反射表面，
其中所述绝缘膜的所述反射表面的角度针对所述像素中的每个而设置。
(2)根据(1)所述的显示单元，其中包括红色像素、绿色像素和蓝色像素，以及所述红色像素、所述绿色像素和所述蓝色像素的所述反射表面角度(θ)相互不同。
(3)根据(1)或(2)所述的显示单元，其中具有由红色像素、绿色像素或蓝色像素组成的第一像素和与第一像素的颜色不同的第二像素，所述第一像素的所述反射表面角度(θ)不同于所述第二像素的所述反射表面角度。
(4)根据(1)至(3)中任何一项所述的显示单元，其中所述反射表面角度(θ)使用所述发射光的光发射强度强时所在的角度(φ)来确定。
(5)根据(1)至(4)中任何一项所述的显示单元，其中所述多个像素具有相互不同的开口率。
(6)根据(1)至(5)中任何一项所述的显示单元，其中所述绝缘膜的一个反射表面对于所述多个像素中的每个具有不同的折射率。
(7)一种制造显示单元的方法，其包括：
布置多个被配置成发射相互不同的发射光的像素；以及
在所述多个像素之间形成具有相对于所述发射光的反射平面并且其中所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置的绝缘膜。
(8)根据(7)所述的制造显示单元的方法，其中所述绝缘膜的所述反射表面的所述角度通过使用具有以步进方式改变透光率的光掩膜的光刻调节。
(9)一种电子设备，设置有显示单元，所述显示单元包括：
多个像素，被配置成发射相互不同的发射光；以及
绝缘膜，设置在所述多个像素之间并且具有相对于所述发射光的反射表面，
其中所述绝缘膜的所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置。
本申请包含与于2013年3月21日在日本专利局提交的日本优先权专利申请JP2013-58492中所公开的有关主题，其整个内容通过引用合并在本文中。
本领域的技术人员应该理解的是，只要位于所附权利要求或其等效物的范围内，就可以根据设计需要和其它因素进行各种修改、组合、子组合和改变。

Claims (9)

1.一种显示单元，其包括：
多个像素，被配置成发射相互不同的发射光；以及
绝缘膜，设置在所述多个像素之间并且具有相对于所述发射光的反射表面，
其中所述绝缘膜的所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置。
2.根据权利要求1所述的显示单元，其中包括红色像素、绿色像素和蓝色像素，以及所述红色像素、所述绿色像素和所述蓝色像素的所述反射表面角度(θ)相互不同。
3.根据权利要求1所述的显示单元，其中具有由红色像素、绿色像素或蓝色像素组成的第一像素和与第一像素的颜色不同的第二像素，所述第一像素的所述反射表面角度(θ)不同于所述第二像素的所述反射表面角度。
4.根据权利要求1所述的显示单元，其中所述反射表面角度(θ)使用所述发射光的光发射强度强时所在的角度(φ)来确定。
5.根据权利要求1所述的显示单元，其中所述多个像素具有相互不同的开口率。
6.根据权利要求1所述的显示单元，其中所述绝缘膜的一个反射表面对于所述多个像素中的每个具有不同的折射率。
7.一种制造显示单元的方法，其包括：
布置多个被配置成发射相互不同的发射光的像素；以及
在所述多个像素之间形成具有相对于所述发射光的反射平面并且其中所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置的绝缘膜。
8.根据权利要求7所述的制造显示单元的方法，其中所述绝缘膜的所述反射表面的所述角度通过使用具有以步进方式改变透光率的光掩膜的光刻调节。
9.一种电子设备，设置有显示单元，所述显示单元包括：
多个像素，被配置成发射相互不同的发射光；以及
绝缘膜，设置在所述多个像素之间并且具有相对于所述发射光的反射表面，
其中所述绝缘膜的所述反射表面的角度针对所述像素中的每一个而设置。
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