CN108695444B - 显示器件及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明揭示了一种显示器件及其制作方法，所述显示器件包括：前端结构，设置在所述前端结构上的发光层，以及设置在所述发光层背离所述前端结构的一侧面上的选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围。由此，本发明的显示器件，达到了去掉偏光片同时减少环境光反射的效果，使得亮度增加；同时去掉圆偏光可适应柔性和可弯折显示器件的发展趋势，提高柔性。

Description

显示器件及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示领域，特别是涉及一种显示器件及其制作方法。
背景技术
显示器件用于在屏幕上显示图像，代表性地相应于电视机、手机、计算机、平板电脑等。
如图1示出了一种顶发光式柔性显示器件的结构示意图，包括基底1，例如具有TFT(Thin Film Transistor)层，设置在基底上的发光层2，在发光层2背离所述基底1的一侧面上设置有偏光片3。
通常，显示器件使用圆偏光片来减少金属电极(设置在发光层2中)对外界环境光的反射，达到显示屏体在户外有较高的对比度的效果，但随着显示器件的可弯折和柔性的发展趋势，使得现用的圆偏光不能满足柔性和可弯折显示器件的应用。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种显示器件及其制作方法，提高亮度，并提高柔性。
为解决上述技术问题，本发明提供一种显示器件，包括：前端结构，设置在所述前端结构上的发光层，以及设置在所述发光层上背离所述前端结构的选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围。
可选的，对于所述的显示器件，所述发光层包括RGB三色发光单元，所述选择性透光层仅允许RGB三色光谱的光透过。
可选的，对于所述的显示器件，所述发光层所发出的R光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的R光谱的波长范围中；所述发光层所发出的G光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的G光谱的波长范围中；所述发光层所发出的B光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的B光谱的波长范围中。
可选的，对于所述的显示器件，所述选择性透光层针对所述RGB三色光谱的三种透过率相互独立。
可选的，对于所述的显示器件，所述选择性透光层为一体结构。
可选的，对于所述的显示器件，所述选择性透光层为阵列结构，包括多个子部分，每个子部分在所述发光层上的投影至少覆盖所述发光层的一个发光单元。
可选的，对于所述的显示器件，每个所述子部分至少允许与对应的发光单元发出的光的光谱范围一致的光透过。
本发明还提供一种显示器件的制造方法，包括：
提供前端结构，
在所述前端结构上形成发光层；以及
在所述发光层上背离所述前端结构形成选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围。
可选的，对于所述的显示器件的制作方法，所述发光层包括RGB三色发光单元，所述选择性透光层仅允许RGB光谱的光透过。
可选的，对于所述的显示器件的制作方法，所述发光层所发出的R光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的R光谱的波长范围中；所述发光层所发出的G光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的G光谱的波长范围中；所述发光层所发出的B光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的B光谱的波长范围中。
本发明提供的显示器件，包括：前端结构，设置在所述前端结构上的发光层，以及设置在所述发光层上的选择性透光层，所述选择性透光层至少允许与发光层发出的光相对应光谱的光透过。由此，本发明的显示器件，达到了去掉偏光片同时减少环境光反射的效果，使得亮度增加；同时去掉圆偏光可适应柔性和可弯折显示器件的发展趋势，提高柔性。
进一步的，由于本发明能够使得亮度增加，借助于此效果还可以带来薄膜晶体管功耗减小、电流减小、寿命增加等一系列优势。
附图说明
图1为一种显示器件的结构示意图；
图2为本发明一实施例中显示器件的结构示意图；
图3为本发明一实施例中发光层所发出的各色光与白光光谱的波长范围的示意图；
图4为本发明一实施例中光谱的透过率示意图；
图5为本发明一实施例中光谱的透过率示意图；
图6为本发明另一实施例中显示器件的结构示意图；
图7为本发明又一实施例中显示器件的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的显示器件及其制作方法进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
在下面的描述中，应该理解，当层(或膜)、区域、图案或结构被称作在衬底、层(或膜)、区域、焊盘和/或图案“上”时，它可以直接位于另一个层或衬底上，和/或还可以存在插入层。另外，应该理解，当层被称作在另一个层“下”时，它可以直接位于另一个层下，和/或还可以存在一个或多个插入层。另外，可以基于附图进行关于在各层“上”和“下”的指代。
本发明提出了一种显示器件，包括：前端结构，设置在所述前端结构上的发光层，以及设置在所述发光层上背离所述前端结构的选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围。由此，本发明的显示器件，达到了去掉偏光片同时减少环境光反射的效果，使得亮度增加；同时去掉圆偏光可适应柔性和可弯折显示器件的发展趋势，提高柔性。
以下列举所述显示器件的较优实施例，以清楚的说明本发明的内容，应当明确的是，本发明的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本发明的思想范围之内。
下面结合图2-图3对本发明的显示器件进行详细说明。
如图2和图3所示，在本发明一个实施例的显示器件中，包括：
前端结构10，设置在所述前端结构10上的发光层20，以及设置在所述发光层20背离所述前端结构的一侧面上的选择性透光层30，所述选择性透光层30所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层20发出的光的光谱范围。
所述选择性透光层30所针对的光不仅仅包括发光层20本身发出的光，还包括其他来源的光，例如折射光等亦包括在内。
在一个实施例中，所述前端结构10包括基底和设置在所述基底上的薄膜晶体管(TFT)层。
例如，所述基底为透明材料制成，例如可以是玻璃、石英、硅晶片、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或者金属箔、PI(聚酰亚胺)等。所述基板的选择及预处理为本领域技术人员所熟悉，例如依据实际需求，可以选择为柔性基底等，又如可以在基底上形成缓冲层(未图示)等。
所述薄膜晶体管(TFT)层可以为现有结构。例如，可以是底栅结构的薄膜晶体管，也可以为顶栅结构的薄膜晶体管，此处不进行举例。
所述薄膜晶体管(TFT)层可以包括多个薄膜晶体管，所述多个薄膜晶体管组成阵列结构。
在一个实施例中，所述发光层20包括多个发光单元21、22、23，具体的，可以是RGB三色发光单元，例如发光单元21为R色发光单元，发光单元22为G色发光单元，发光单元23为B色发光单元，所述发光单元21、22、23平行排布，且由像素限定层相互隔离，如可以用黑矩阵24隔离，所述黑矩阵为不透光结构。
具体的，每个发光单元21、22、23均包括阳极，所述阳极设置在所述薄膜晶体管层上，在所述阳极上设置有发光结构层，在所述发光结构层上设置有阴极。
所述阳极例如可以是能够需要满足功函数高、导电性好、光反射性好的材质，可以包括ITO(氧化铟锡)和/或Ag(银)，即为ITO(氧化铟锡)电极和/或Ag(银)电极，例如采用ITO(氧化铟锡)/Ag(银)/ITO(氧化铟锡)的结构。
所述发光结构层例如是包括利用蒸镀工艺在阳极上依次形成的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。
所述阴极例如可以是需满足透光性高、导电性好，常采用Ag(银)、Mg(镁)或Mg/Ag合金。
对于所述发光层20包括RGB三色发光单元21、22、23的情况，所述选择性透光层30仅允许RGB三色光谱的光透过。
具体的，如图3所示，示出了所述发光层20所发出的RGB光谱与白光光谱的关系图。因此在本发明中，可以使得所述发光层20所发出的R光的波长范围位于所述选择性透光层30允许透过的R光谱的波长范围中；所述发光层20所发出的G光的波长范围位于所述选择性透光层30允许透过的G光谱的波长范围中；所述发光层20所发出的B光的波长范围位于所述选择性透光层30允许透过的B光谱的波长范围中。
在一个实施例中，所述选择性透光层30所允许的红色(R)光谱范围为：550～730nm，绿色(G)光谱范围为：480～650nm，蓝色(B)光谱范围为：420～550nm。发光层20所发出的RGB光谱范围分别是，R：560～720nm，G：490～640nm，B：430～540nm，可见所述发光层20所发出的RGB光谱范围完全落在所述选择性透光层30所允许的光谱范围内。
可以理解的是，对于不同的OLED器件发光光谱的范围可能不同，则相应的，所述选择性透光层30所允许的RGB光谱的范围可以相应的变动。即波长范围涵盖发光层202所发出的光的波长范围即可。
上文以RGB三色光谱为例进行了说明，可以理解的是，并不限于具体RGB三色光谱。可以总结如下：记发光层发出的一种光谱范围为A＝[a1，a2]，选择性透光层30所允许的光谱范围为B，则B＝[a1+b1，a2+b2]，其中a1，a2为正数，0≤b1≤100nm，例如5nm、10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm等，0≤b2≤100nm，例如5nm、10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm等。对于具有多种色光谱的情况，同样满足上述A与B的关系。
在一个实施例中，所述选择性透光层30针对所述RGB三色光谱的三种透过率相互独立。
例如，图4和图5分别示出了两种RGB三色光谱的透过率，可以理解的是，依据实际需求，本领域技术人员可以灵活选择不同光谱的透过率。
在一个实施例中，所述选择性透光层30可以为一层薄膜，也可以为多层薄膜。例如，所述选择性透光层30的总厚度可以是小于等于现有偏光片的厚度。依据实际需求，也可以是其他任意厚度，本发明对此并不做特别限制。同样的，所述选择性透光层30的材料选择只需要满足特定光谱的透过即可，例如RGB的透过，或者是单色R，单色G以及单色B的透过(这种情况将在下文介绍其结构)。
在一个实施例中，所述选择性透光层30为一体结构。此时，所述选择性透光层30可以为同时只允许RGB三色光的透过。
下面列举选择性透光层的几种可选结构，为了区别，对选择性透光层采用不同标号。
在一个实施例中，如图6和图7所示，所述选择性透光层31为阵列结构，包括多个子部分，每个子部分在所述发光层20的投影至少覆盖所述发光层20的一个发光单元。
具体的，图6和图7所示结构与图2基本一致，相同部分采用了同样的标号，可参照前文描述。区别在于，在图6中，所述选择性透光层31为阵列结构，在一个实施例中，图6中所示的选择性透光层31的每个子部分可以为相同材料，其可以是一体形成在发光层20上后，采用刻蚀等操作将位于黑矩阵24正上方的部分选择性透光层去除后获得，即所述选择性透光层31的每个子部分并不接触。
在图7中，所述选择性透光层32为阵列结构，即包括多个子部分，在一个实施例中，图7中所示的选择性透光层32的每个子部分可以为不相同材料，具体的，所述选择性透光层32包括第一透光层321，第二透光层322和第三透光层323，每个子部分分别至少允许与对应的发光单元21、22、23发出的光的光谱范围一致的光透过。例如，当第一透光层321与R发光单元对应，则第一透光层321允许R色光谱透过；当第二透光层322与G发光单元对应，则第二透光层322允许G色光谱透过；当第三透光层323与B发光单元对应，则第三透光层323允许B色光谱透过。
在图7中示出了每个透光层相互接触，可以理解的是，也可以采用如图6所示布局，即每个透光层之间并不接触。
可见，本发明提供的显示器件，包括：前端结构，设置在所述前端结构上的发光层，以及设置在所述发光层上的选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围。由此，本发明的显示器件，达到了去掉偏光片同时减少环境光反射的效果，使得亮度增加，进而带来薄膜晶体管功耗减小、电流减小、寿命增加等一系列优势；同时去掉圆偏光可适应柔性和可弯折显示器件的发展趋势，提高柔性。
下面介绍本发明的显示器件的制作方法，包括：
步骤S11，提供前端结构；
步骤S12，在所述前端结构上形成发光层；以及
步骤S13在所述发光层上背离所述前端结构形成选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围。
其中，所述前端结构及发光层的具体结构已经在上文描述，可以采用现有任何工艺完成步骤S11和步骤S12，此处不进行详述。
对于步骤S13，在一个实施例中，所述选择性透光层可以采用贴合的方式形成，即先获得符合设计需求的选择性透光层，然后贴合到所述发光层上即可。
在一个实施例中，所述选择性透光层可以采用涂覆固化的方式形成，即选取相应的材料涂覆在所述发光层上，之后进行固化，例如紫外固化等操作，形成所需的选择性透光层。
如上文所述，所述发光层包括RGB三色发光单元，所述选择性透光层允许RGB光谱的光透过。例如，所述发光层所发出的R光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的R光谱的波长范围中；所述发光层所发出的G光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的G光谱的波长范围中；所述发光层所发出的B光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的B光谱的波长范围中。这样，制得的显示器件，达到了去掉偏光片同时减少环境光反射的效果，使得亮度增加，进而带来薄膜晶体管功耗减小、电流减小、寿命增加等一系列优势；同时去掉圆偏光可适应柔性和可弯折显示器件的发展趋势，提高柔性。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (5)

1.一种显示器件，其特征在于，包括：前端结构，设置在所述前端结构上的发光层，以及设置在所述发光层背离所述前端结构的一侧面上的选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围，所述选择性透光层为一层或多层的一体结构薄膜，所述发光层包括RGB三色发光单元，所述选择性透光层对应于每个所述发光单元的子部分的材料相同，且各个所述子部分均仅允许RGB三色光谱的光透过。
2.如权利要求1所述的显示器件，其特征在于，所述发光层所发出的R光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的R光谱的波长范围中；所述发光层所发出的G光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的G光谱的波长范围中；所述发光层所发出的B光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的B光谱的波长范围中。
3.如权利要求2所述的显示器件，其特征在于，所述选择性透光层针对所述RGB三色光谱的三种透过率相互独立。
4.一种显示器件的制作方法，其特征在于，包括：
提供前端结构，
在所述前端结构上形成发光层；以及
在所述发光层背离所述前端结构的一侧面上形成选择性透光层，所述选择性透光层所允许透过的光的光谱范围涵盖所述发光层发出的光的光谱范围，所述选择性透光层为一层或多层的一体结构薄膜，所述发光层包括RGB三色发光单元，所述选择性透光层对应于每个所述发光单元的子部分的材料相同，且各个所述子部分均仅允许RGB光谱的光透过。
5.如权利要求4所述的显示器件的制作方法，其特征在于，所述发光层所发出的R光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的R光谱的波长范围中；所述发光层所发出的G光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的G光谱的波长范围中；所述发光层所发出的B光的波长范围位于所述选择性透光层允许透过的B光谱的波长范围中。
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