CN104903092A

CN104903092A - 基板及使用其的触摸面板构件

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Publication number: CN104903092A
Application number: CN201480004900.1A
Authority: CN
Inventors: 荒木齐; 诹访充史
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2013-01-29
Filing date: 2014-01-16
Publication date: 2015-09-09
Anticipated expiration: 2034-01-16
Also published as: KR102131595B1; TW201442879A; EP2952342A4; TWI603850B; JPWO2014119372A1; CN104903092B; EP2952342A1; US20150370358A1; KR20150110474A; JP6003979B2; WO2014119372A1

Abstract

本发明的目的在于，通过使用了涂布或印刷等简易技术的成本上、工艺上的负荷小的手法，提供具备ITO图案视认性低的ITO的基板，提供使用了该基板的触摸面板构件。本发明提供一种基板，其具有由透明底基板的上表面起以(I)ITO(Indium Tin Oxide)薄膜、(II)膜厚为0.01μm～0.4μm的有机系薄膜、膜厚为0.01μm～10μm的氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有薄膜的部位。

Description

基板及使用其的触摸面板构件

技术领域

本发明涉及基板以及使用其的触摸面板构件。

背景技术

近年，智能手机、平板终端普及的同时触摸面板得到关注。作为该触摸面板的课题之一，可列举由于传感器形成中使用的Indium Tin Oxide(以下称为“ITO”)的图案的视认所导致的终端的外观变差、即ITO的图案视认性的问题。另外，最近终端的轻量化、薄型化的要求增强，例如对通过在盖板玻璃(cover glass)的背面侧形成传感器来降低玻璃数的方式等进行了研究(专利文献1)。但是，被称为盖板玻璃一体型的该方式的情况下，与以往的传感器玻璃/盖板玻璃分离型的方式相比，由终端的最表面至ITO图案的距离缩短，ITO的图案视认性的问题更显著。

作为降低液晶显示装置用的ITO的图案视认性的代表性的技术，开发了在ITO的上部或下部形成绝缘层薄膜、降低界面反射的技术(专利文献2～4)。另外，作为降低触摸面板用的ITO的图案视认性的技术，开发了设置Nb₂O₃和SiO₂的薄膜作为底涂层或表涂层的技术(专利文献5和6)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-301767号公报

专利文献2：日本特开平1-205122号公报

专利文献3：日本特开平6-033000号公报

专利文献4：日本特开平8-240800号公报

专利文献5：日本特开2010-152809号公报

专利文献6：日本特开2010-086684公报。

发明内容

发明要解决的问题

但是，由于触摸面板的结构上的限制，不能或者难以将以往的液晶显示装置用的技术转用于触摸面板。另外，虽然以往的触摸面板用的技术可以切实地降低ITO的图案视认性，但是必须利用真空工艺形成多个层，因此成本上的负荷大。

因此，本发明的目的在于，提供降低触摸面板的ITO的图案视认性的同时，能够抑制制作时的成本上或工艺上的负荷的基板。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述问题而进行深入研究，结果发现，具有由透明底基板的上表面起以ITO薄膜(I)，膜厚为0.01～0.4μm、折射率为1.58～1.85的有机系薄膜(II)，膜厚为0.01～10μm的氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有薄膜的部位的基板，能够显著地改善触摸面板的ITO的图案视认性问题。

即，本发明采用以下的构成。

[1]基板，其具有由透明底基板的上表面起以ITO薄膜(I)，膜厚为0.01～0.4μm、折射率为1.58～1.85的有机系薄膜(II)，膜厚为0.01～10μm的氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有薄膜的部位。

[2]根据[1]所述的基板，其具有在前述氧化硅薄膜(III)的上表面层叠有折射率为1.46～1.52的透明粘合薄膜(IV)的部位。

[3]根据[1]或[2]所述的基板，其中，前述有机系薄膜(II)含有金属氧化物粒子。

[4]根据[1]～[3]中任一项所述的基板，其中，前述有机系薄膜(II)含有选自聚酰亚胺、cardo树脂、丙烯酸系树脂、聚硅氧烷、聚苯并噁唑、酚醛树脂、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜、聚氨酯和聚酯中的树脂。

[5]根据[1]～[4]中任一项所述的基板，其中，前述有机系薄膜(II)具有羧基和/或酚性羟基。

[6]根据[1]～[5]中任一项所述的基板，其中，前述有机系薄膜(II)使用含有选自聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体和聚苯并噁唑前体中的前体的树脂组合物形成。

[7]根据[1]～[6]中任一项所述的基板，其中，前述透明底基板为钢化玻璃基板。

[8]触摸面板构件，其使用[1]～[7]中任一项所述的基板。

发明的效果

根据本发明的基板，可以显著地降低触摸面板中的ITO的图案视认性，并且由于ITO被有机系薄膜保护而可以提高触摸面板的耐久性。另外，本发明的基板可以通过成本上或工艺上的负荷小的方法制造。

附图说明

图1为表示ITO图案、透明绝缘膜和钼/铝/钼布线的制作过程的示意图。

图2为表示本发明的基板的截面的示意图。

图3为表示具备透明粘合薄膜(IV)的本发明的基板的截面的示意图。

具体实施方式

本发明的基板的特征在于，具有由透明底基板的上表面起以ITO薄膜(I)，膜厚为0.01～0.4μm、折射率为1.58～1.85的有机系薄膜(II)，膜厚为0.01～10μm的氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有薄膜的部位。

通过膜厚不同的有机系薄膜(II)和氧化硅薄膜(III)的组合，可以减弱形成于下层的ITO薄膜(I)的上部界面和下部界面中的反射光，从而可以降低ITO的图案视认性。

在此，有机系薄膜指的是含有一种以上有机成分的薄膜。

需要说明的是，本说明书中，以“～”表示范围时，都意味着含有其两边界的数值。

通过有机系薄膜(II)的膜厚和折射率分别为0.01～0.4μm和1.58～1.85，并且在其上表面具备膜厚为0.01～10μm的氧化硅薄膜(III)，可以控制有机系薄膜(II)的上部界面和下部界面中的反射光的相位和强度，如上所述减弱ITO薄膜(I)的上部界面和下部界面中的反射光，从而可以降低ITO的图案视认性。若有机系薄膜(II)的膜厚小于0.01μm或者超过0.4μm则难以控制相位，因此难以得到图案视认性的降低效果。若有机系薄膜(II)的折射率小于1.58或者超过1.85则不能控制反射光的强度，难以得到图案视认性的降低效果。

通过氧化硅薄膜(III)的膜厚为0.01～10μm，可以控制下部界面的反射光(即，有机系薄膜(II)的上部界面的反射光)的强度。另外，同时可以保护含有ITO薄膜(I)的底层金属，因此在触摸面板用途中，可以提高触摸面板的可靠性。若氧化硅薄膜(III)的膜厚低于0.01μm，则由于上部界面的反射光影响而难以得到图案视认性的降低效果，而且得不到保护底层金属的功能。若超过10μm，则由于稍微的应变即容易形成裂纹，损害触摸面板的可靠性和外观。

在此，本说明书中，“折射率”指的是波长633nm的光的折射率。折射率在膜厚为1μm以上的情况下可以通过棱镜耦合器测定，在膜厚为1μm以下的情况下可以通过椭圆偏振法（ellipsometry）测定。

另外，本说明书中，膜厚指的是层叠有ITO薄膜(I)、有机系薄膜(II)、氧化硅薄膜(III)的充分宽的区域(例如若为图2、图3则为附图标记8的区域)中的膜的厚度。膜厚可以通过触针式步距规测定。

作为形成本发明的基板的底层的透明底基板的原材料，若具有透过光的功能则没有特别限制，但是优选为每0.1mm厚度的全光线透过率(根据JIS K7361-1)为80%以上的原材料，可列举例如玻璃、丙烯酸系树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚砜、聚丙烯、聚乙烯、聚酰亚胺或环烯烃聚合物。其中，从透明性的观点考虑，优选为玻璃、丙烯酸系树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯或环烯烃聚合物，从耐热性、耐化学品性的观点考虑，更优选为玻璃。

作为玻璃，可列举出例如碱性玻璃、无碱玻璃、热钢化玻璃或化学钢化玻璃，但是优选为作为触摸面板的盖板玻璃广泛使用的钢化玻璃、即热钢化玻璃或化学钢化玻璃。钢化玻璃指的是表面形成有压缩应力层的玻璃。通常压缩应力层的压缩应力为400～2000MPa、压缩应力层的厚度为10～70μm。

作为丙烯酸系树脂，优选聚甲基丙烯酸甲酯。

作为聚酯树脂，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或聚对苯二甲酸丁二醇酯。

作为聚碳酸酯，优选为通过双酚A与光气的缩聚而得到的树脂。

作为聚酰亚胺，从透明性的观点考虑优选为将脂肪族羧酸二酐和/或脂肪族二胺作为单体的树脂。

作为环烯烃聚合物，例如优选将环己烯或降冰片烯或者它们的衍生物加聚或开环易位聚合而得到的环烯烃聚合物。

本发明的基板在透明底基板的上表面具有ITO薄膜(I)。ITO薄膜用作触摸面板的透明导电膜。作为ITO薄膜的形成方法，从容易得到低电阻的薄膜、能够精密地控制膜厚的观点考虑，优选溅射法。ITO薄膜(I)的膜厚优选为1～200nm。

在ITO薄膜(I)的上表面进而层叠有机系薄膜(II)和氧化硅薄膜(III)。氧化硅薄膜(III)兼具保护触摸面板不受损伤、不受湿气等影响的作为保护膜的功能，可以提高成品率和可靠性。有机系薄膜(II)的膜厚优选为0.05～0.2μm，更优选为0.07～0.12μm。有机系薄膜(II)的折射率优选为1.60～1.75，更优选为1.63～1.70。氧化硅薄膜(III)的膜厚优选为0.05～5μm，更优选为0.2～2μm。

有机系薄膜(II)优选以折射率为1.58～1.85的树脂、其他树脂和金属氧化物粒子的复合体形式形成。作为有机系薄膜(II)的形成方法，制造树脂组合物、利用涂布或印刷技术加工的方法由于成本上以及工艺上的负荷小而优选。作为所制造的树脂组合物的涂布中使用的装置，可列举出例如旋涂、浸涂、帘流涂布、喷涂或狭缝涂布等的全表面涂布装置，或者丝网印刷、辊涂、微凹版涂布或喷墨等的印刷装置。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的树脂，可列举出例如聚酰亚胺、cardo树脂、丙烯酸系树脂、聚硅氧烷、聚苯并噁唑、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜、聚氨酯或聚酯，从仅通过树脂成分也容易将折射率调整于1.58～1.85的范围的观点考虑，优选聚酰亚胺、cardo树脂、聚苯并噁唑、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜或聚氨酯，从与ITO的密合性高的观点考虑，更优选聚酰亚胺、聚苯并噁唑或聚酰胺酰亚胺。另外，从透过率的观点考虑，优选丙烯酸系树脂或聚硅氧烷。进而，也优选具有羧基和/或酚性羟基等碱可溶性基团的树脂。通过具有碱可溶性基团，可以作为感光性树脂组合物的基础树脂，能够简便地进行图案加工。

由以上可知，有机系薄膜(II)优选含有选自聚酰亚胺、cardo树脂、丙烯酸系树脂、聚硅氧烷、聚苯并噁唑、酚醛树脂、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜、聚氨酯和聚酯中的树脂。

另外，有机系薄膜(II)优选含有具有羧基和/或酚性羟基的树脂。

有机系薄膜(II)的形成使用聚酰亚胺的情况下，将聚酰亚胺前体涂布于具有ITO薄膜(I)的透明底基板之后，通过脱水闭环反应形成聚酰亚胺的薄膜，从涂布液的保存稳定性、树脂的溶解性和碱可溶性基团的导入容易性的观点考虑优选。在此，作为聚酰亚胺前体，可列举出例如聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰胺酸酰胺或聚异酰亚胺。具有四羧酸残基和二胺残基的聚酰胺酸，可以通过使得四羧酸或者相对应的四羧酸二酐或四羧酸二酯二酰氯、与二胺或者相对应的二异氰酸酯化合物或三甲基甲硅烷基化二胺反应来得到。聚酰亚胺，可以通过加热处理、或者酸、碱等的化学处理将聚酰胺酸脱水闭环来得到。更具体而言，可以加入间二甲苯等与水共沸的溶剂进行加热处理，也可以加入弱酸性的羧酸化合物在100℃以下的低温下进行加热处理。作为上述化学处理中使用的闭环催化剂，可列举出例如羧酸酐或二环己基碳二亚胺等脱水缩合剂或者三乙胺等碱。

有机系薄膜(II)的形成使用聚苯并噁唑的情况下，将聚苯并噁唑前体涂布于具有ITO薄膜(I)的透明底基板之后，通过脱水闭环反应形成聚苯并噁唑的薄膜，从涂布液的保存稳定性、树脂的溶解性和碱可溶性基团的导入容易性观点考虑优选。作为聚苯并噁唑前体，可列举出例如聚羟基酰胺、聚氨基酰胺、聚酰胺或聚酰胺酰亚胺，但是优选聚羟基酰胺。具有二羧酸残基和双氨基苯酚残基的聚羟基酰胺，可以通过使得双氨基苯酚、与二羧酸或者相对应的二羧酸酰氯或二羧酸活性酯等反应来得到。聚苯并噁唑，可以通过加热处理或化学处理将聚羟基酰胺脱水闭环来得到。更具体而言，可以加入间二甲苯等与水共沸的溶剂进行加热处理，也可以加入酸性化合物在200℃以下的低温下进行加热处理。作为上述化学处理中使用的闭环催化剂，可列举出例如磷酸酐、碱或碳二亚胺化合物。

有机系薄膜(II)的形成使用聚酰胺酰亚胺的情况下，将聚酰胺酰亚胺前体涂布于具有ITO薄膜(I)的透明底基板之后，通过脱水闭环反应形成聚酰胺酰亚胺的薄膜，从涂布液的保存稳定性、树脂的溶解性和碱可溶性基团的导入容易性观点考虑优选。具有三羧酸残基和二胺残基的聚酰胺酰亚胺前体，可以通过将三羧酸或其衍生物、与二胺或对应于其的二异氰酸酯化合物聚合来得到。聚酰胺酰亚胺可以通过与由聚酰亚胺前体得到聚酰亚胺的方法相同的方法得到。

因此，本发明中，有机系薄膜(II)优选使用树脂组合物形成，所述树脂组合物含有选自聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体和聚苯并噁唑前体中的前体。通过使用含有选自聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体和聚苯并噁唑前体中的前体的树脂组合物来形成有机系薄膜(II)，可以使得有机系薄膜(II)有效地含有选自聚酰亚胺、cardo树脂、丙烯酸系树脂、聚硅氧烷、聚苯并噁唑、酚醛树脂、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜、聚氨酯和聚酯中的树脂。

有机系薄膜(II)的形成中使用的聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、聚酰胺酰亚胺或聚酰胺酰亚胺前体，优选具有选自下述通式(1)～(4)中的一个以上式子所示的结构单元。另外，可以含有具有这些结构单元的两种以上的树脂，也可以为两种以上结构单元共聚而成的。有机系薄膜(II)的形成中使用的聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、聚酰胺酰亚胺或聚酰胺酰亚胺前体，优选在树脂的结构单元中具有50摩尔%以上、更优选具有70摩尔%以上、进一步优选具有90摩尔%以上的选自通式(1)～(4)中的一个以上式子所示的结构单元。

[化1]

。

通式(1)～(4)中，多个R¹、R²和R⁸可以分别相同或不同、表示碳原子数为2以上的2～8价有机基团。多个R⁷表示碳原子数为2以上的4～8价有机基团。多个R³和R⁴可以分别相同或不同、表示酚性羟基或羧基或它们烷基化而成的基团。多个R⁵、R⁶、R⁹和R¹⁰可以分别相同或不同、为选自氢原子、酚性羟基、磺酸基、硫醇基和碳原子数为1～20的1价有机基团中的基团。Y表示末端基团。n处于10～10000的范围，r、s和q为0～6的整数，p、m和l分别表示0～4的整数。

通式(1)～(4)中，R¹(R³)_m(R⁵)_r(CO)₂表示二-、三-或四-羧酸残基，R⁷(R⁹)_p(CO)₄表示四羧酸残基(以下将它们总称为“酸残基”)。

另外，通过聚合时使用对应于这些酸残基的酸成分，可以使得这些酸残基含有在结构单元中。例如通过聚合时使用R¹(R³)_m(R⁵)_r(COOH)₂或R⁷(R⁹)_p(COOH)₄这样的酸成分，可以使得R¹(R³)_m(R⁵)_r(CO)₂或R⁷(R⁹)_p(CO)₄这样的酸残基含有在结构单元中。

作为构成R¹(R³)_m(R⁵)_r(COOH)₂和R⁷(R⁹)_p(COOH)₄的酸成分，可列举出例如对苯二甲酸、间苯二甲酸、二苯基醚二甲酸、双(羧基苯基)六氟丙烷、联苯二甲酸、二苯甲酮二甲酸或三苯基二甲酸等二羧酸，偏苯三酸、均苯三酸、二苯基醚三甲酸或联苯三甲酸等三羧酸，或者均苯四甲酸、3,3’,4,4’-联苯四甲酸、2,3,3’,4’-联苯四甲酸、2,2’,3,3’-联苯四甲酸、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸、2,2’,3,3’-二苯甲酮四甲酸、2,2-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷、2,2-双(2,3-二羧基苯基)六氟丙烷、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷、双(3,4-二羧基苯基)甲烷、双(2,3-二羧基苯基)甲烷、双(3,4-二羧基苯基)砜、双(3,4-二羧基苯基)醚、1,2,5,6-萘四甲酸、2,3,6,7-萘四甲酸、2,3,5,6-吡啶四甲酸或3,4,9,10-苝四甲酸等芳香族四羧酸或者丁烷四甲酸、环丁烷四甲酸、1,2,3,4-环戊烷四甲酸、环己烷四甲酸、双环[2.2.1.]庚烷四甲酸、双环[3.3.1.]四甲酸、双环[3.1.1.]庚-2-烯四甲酸、双环[2.2.2.]辛烷四甲酸或金刚烷四甲酸等脂肪族四羧酸。另外，作为酸残基的优选结构，可列举出例如下述结构或这些结构中的1～4个氢原子被碳原子数为1～20的烷基、氟代烷基、烷氧基、酯基、硝基、氰基、氟原子或氯原子取代而成的结构。

这些酸可以直接使用或者以酸酐、酰氯或活性酯的形式使用。

其中，J表示直接键合、-COO-、-CONH-、-CH₂-、-C₂H₄-、-O-、-C₃H₆-、-SO₂-、-S-、-Si(CH₃)₂-、-O-Si(CH₃)₂-O-、-C₆H₄-、-C₆H₄-O-C₆H₄-、-C₆H₄-C₃H₆-C₆H₄-或-C₆H₄-C₃F₆-C₆H₄-。

另外，通过使用二甲基硅烷二邻苯二甲酸或1,3-双(邻苯二甲酸)四甲基二硅氧烷等含硅原子的四羧酸，可以提高对于透明底基板的粘接性、对于洗涤等中使用的氧等离子体、UV臭氧处理的耐性。这些含硅原子的二羧酸或四羧酸优选使用全部酸成分的1～30摩尔%。

通式(1)～(4)中，R²(R⁴)_l(R⁶)_s(N-)₂和R⁸(R¹⁰)_q(N-)₂表示二胺残基或双氨基苯酚残基(以下将它们总称为“胺残基”)。

另外，通过聚合时使用对应于这些胺残基的二胺成分或双氨基苯酚成分，可以使得这些胺残基含有在结构单元中。例如通过聚合时使用R²(R⁴)_l(R⁶)_s(NH₂)₂或R⁸(R¹⁰)_q(NH₂)₂等二胺成分或双氨基苯酚成分，可以使得R²(R⁴)_l(R⁶)_s(N-)₂和R⁸(R¹⁰)_q(N-)₂等胺残基含有在结构单元中。

作为构成R²(R⁴)_l(R⁶)_s(NH₂)₂和R⁸(R¹⁰)_q(NH₂)₂的二胺成分以及双氨基苯酚成分(以下将它们总称为“二胺成分”)，可列举出例如双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷、双(3-氨基-4-羟基苯基)砜、双(3-氨基-4-羟基苯基)丙烷、双(3-氨基-4-羟基苯基)亚甲基、双(3-氨基-4-羟基苯基)醚、双(3-氨基-4-羟基)联苯或双(3-氨基-4-羟基苯基)芴等含羟基的二胺，3,5-二氨基苯甲酸或3-羧基-4,4’-二氨基二苯基醚等含羧基的二胺，3-磺酸-4,4’-二氨基二苯基醚等含磺酸的二胺，或二硫代羟基苯二胺、3,4’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基甲烷、3,4’-二氨基二苯基砜、4,4’-二氨基二苯基砜、3,4’-二氨基二苯基硫醚、4,4’-二氨基二苯基硫醚、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、苯炔、间苯二胺、对苯二胺、1,5-萘二胺、2,6-萘二胺、双(4-氨基苯氧基苯基)砜、双(3-氨基苯氧基苯基)砜、双(4-氨基苯氧基)联苯、双{4-(4-氨基苯氧基)苯基}醚、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联苯、2,2’-二乙基-4,4’-二氨基联苯、3,3’-二甲基-4,4’-二氨基联苯、3,3’-二乙基-4,4’-二氨基联苯、2,2’,3,3’-四甲基-4,4’-二氨基联苯、3,3’,4,4’-四甲基-4,4’-二氨基联苯或2,2’-二(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯，或者它们的芳香族环的氢原子的一部分被烷基或卤原子取代的化合物，环己基二胺或亚甲基双环己基胺等脂肪族二胺。进而这些二胺可以被甲基、乙基等碳原子数为1～10的烷基，三氟甲基等碳原子数为1～10的氟代烷基，F、Cl、Br或I等的1个以上基团取代。要求耐热性的用途中，优选使用全部二胺成分的50摩尔%以上的芳香族二胺。另外，作为胺残基的优选结构，可列举出例如下述结构或这些结构中的1～4个氢原子被碳原子数为1～20的烷基、氟代烷基、烷氧基、酯基、硝基、氰基、氟原子或氯原子取代的结构。

这些二胺可以直接使用或者以相对应的二异氰酸酯化合物或三甲基甲硅烷基化二胺的形式使用。

另外，通过作为二胺成分使用1,3-双(3-氨基丙基)四甲基二硅氧烷或1,3-双(4-苯胺基)四甲基二硅氧烷等含硅原子的二胺，可以提高对于透明底基板的粘接性、对于洗涤等中使用的氧等离子体、UV臭氧处理的耐性。这些含硅原子的二胺优选使用全部二胺成分的1～30摩尔%。

为了提高有机系薄膜(II)的形成中使用的树脂组合物的保存稳定性，优选主链末端被单胺、酸酐、单羧酸、单酰氯化合物或单活性酯化合物等封端剂封端。作为封端剂使用的单胺的导入比率，相对于全部胺成分优选为0.1～60摩尔%，更优选为5～50摩尔%。作为封端剂使用的酸酐、单羧酸、单酰氯化合物或单活性酯化合物的导入比率，相对于二胺成分优选为0.1～100摩尔%，更优选为5～90摩尔%。需要说明的是，也可以通过使得多种封端剂反应来导入多种不同的末端基团。

作为单胺，优选苯胺、2-乙炔基苯胺、3-乙炔基苯胺、4-乙炔基苯胺、5-氨基-8-羟基喹啉、1-羟基-7-氨基萘、1-羟基-6-氨基萘、1-羟基-5-氨基萘、1-羟基-4-氨基萘、2-羟基-7-氨基萘、2-羟基-6-氨基萘、2-羟基-5-氨基萘、1-羧基-7-氨基萘、1-羧基-6-氨基萘、1-羧基-5-氨基萘、2-羧基-7-氨基萘、2-羧基-6-氨基萘、2-羧基-5-氨基萘、2-氨基苯甲酸、3-氨基苯甲酸、4-氨基苯甲酸、4-氨基水杨酸、5-氨基水杨酸、6-氨基水杨酸、2-氨基苯磺酸、3-氨基苯磺酸、4-氨基苯磺酸、3-氨基-4,6-二羟基嘧啶、2-氨基苯酚、3-氨基苯酚、4-氨基苯酚、2-氨基苯硫酚、3-氨基苯硫酚或4-氨基苯硫酚。另外，它们可以使用两种以上。

作为酸酐、单羧酸、单酰氯化合物或单活性酯化合物，优选邻苯二甲酸酐、马来酸酐、降冰片烯二酸酐、环己烷二甲酸酐或3-羟基邻苯二甲酸酐等酸酐，3-羧基苯酚、4-羧基苯酚、3-羧基苯硫酚、4-羧基苯硫酚、1-羟基-7-羧基萘、1-羟基-6-羧基萘、1-羟基-5-羧基萘、1-巯基-7-羧基萘、1-巯基-6-羧基萘、1-巯基-5-羧基萘、3-羧基苯磺酸或4-羧基苯磺酸等单羧酸类或它们的羧基酰氯化而成的单酰氯化合物，对苯二甲酸、邻苯二甲酸、马来酸、环己烷二甲酸、1,5-二羧基萘、1,6-二羧基萘、1,7-二羧基萘或2,6-二羧基萘等二羧酸类的仅一个羧基酰氯化而成的单酰氯化合物或者通过单酰氯化合物与N-羟基苯并三唑或N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺的反应得到的活性酯化合物。另外，它们可以使用两种以上。

导入到树脂中的封端剂，例如可以通过将导入了封端剂的树脂溶解于酸性溶液、分解为作为树脂的结构单元的胺成分和酸成分之后、进行气相色谱(GC)或NMR测定来容易地检测。另外，也可以通过利用热分解气相色谱(PGC)、红外光谱或¹³CNMR光谱测定检测导入了封端剂的树脂来容易地检测。

有机系薄膜(II)的形成中使用的聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、聚酰胺酰亚胺或聚酰胺酰亚胺前体的重均分子量(以下称为“Mw”)，按照利用凝胶渗透色谱(以下称为“GPC”)测得的聚苯乙烯换算，优选为5000～200000。通过使得Mw处于上述范围，使得涂布特性和形成图案时对显影液的溶解性变得良好。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的cardo树脂，优选为具有cardo结构的环氧化合物或丙烯酸系化合物的固化物、或者具有cardo结构的聚酯化合物。作为具有cardo结构的环氧化合物，可列举出例如9,9-双(4-缩水甘油基氧基苯基)芴或9,9-双[4-(2-缩水甘油基氧基乙氧基)苯基]芴。作为具有cardo结构的丙烯酸系化合物，可列举出例如9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、9,9-双[4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、9,9-双[4-(3-丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]芴或9,9-双[4-(2-(3-丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)乙氧基)苯基]芴。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的聚醚砜，可列举出例如“スミカエクセルPES 3600P”、“スミカエクセルPES 4100P”或“スミカエクセルPES 4800P”(都为住友化学制)。

有机系薄膜(II)的形成中使用的酚醛树脂，例如可以使得酚类化合物与醛类化合物在碱性催化剂的存在下反应之后、在酸性下利用常规方法使得羟甲基进行烷氧基化来得到。作为酚类化合物，优选为苯酚、对甲酚、间甲酚、邻甲酚、2,3-二甲基苯酚、2,4-二甲基苯酚、2,5-二甲基苯酚、2,6-二甲基苯酚、3,4-二甲基苯酚或3,5-二甲基苯酚。另外，作为醛类化合物，可列举出例如福尔马林、低聚甲醛、乙醛、苯甲醛、羟基苯甲醛或氯乙醛，它们可以使用两种以上。

有机系薄膜(II)的形成中使用的聚氨酯，优选为通过多官能异氰酸酯与多元醇的反应而得到的聚氨酯。作为多官能异氰酸酯，可列举出例如六亚甲基二异氰酸酯、1,3-双(异氰酸酯甲基)苯、1,3-双(异氰酸酯甲基)环己烷、降冰片烯二异氰酸酯、萘-1,5-二异氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二异氰酸酯或甲苯-2,4-二异氰酸酯，作为多元醇，可列举出例如乙二醇、丙二醇、季戊四醇、二季戊四醇、1,4-双(2-羟基乙氧基)苯、1,3-双(2-羟基乙氧基)苯、4,4’-双(2-羟基乙氧基)联苯、2,2-双(4-(2-羟基乙氧基)苯基)丙烷或双(4-(2-羟基乙氧基)苯基)甲烷，它们可以使用两种以上。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的三聚氰胺树脂，可列举出例如通过三聚氰胺与甲醛的反应而得到的树脂。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的聚酯，例如经过多官能环氧化合物与多元羧酸化合物的加聚反应、或者多元醇化合物与二酸酐的加聚反应而得到的聚酯，由于合成容易、副反应少，因此优选。作为多元醇化合物，由于容易导入自由基聚合性基团和芳香环，因此优选为通过多官能环氧化合物与含自由基聚合性基团的一元酸化合物的反应而得到的多元醇化合物。

作为经过多官能环氧化合物与多元羧酸化合物的加聚反应的方法，可列举出例如在催化剂存在下，相对于多官能环氧化合物加入多元羧酸化合物1.01～2当量进行聚合之后，在末端的羧酸部位加成含自由基聚合性基团的环氧化合物，在所生成的羟基加成酸酐的方法。另外，可列举出在催化剂存在下，相对于多元羧酸化合物加入多官能环氧化合物1.01～2当量进行聚合之后，在末端的环氧部位加成含自由基聚合性基团的一元酸化合物，向所生成的羟基加成酸酐的方法。

作为经过多元醇化合物与二酸酐的加聚反应的方法，可列举出例如在催化剂存在下，使得多元醇化合物与二酸酐以任意比率聚合之后，向所生成的羧基的一部分加成含自由基聚合性基团的环氧化合物的方法。需要说明的是，多元醇化合物具有自由基聚合性基团的情况下，也可以不加成含自由基聚合性基团的环氧化合物。

作为加聚反应和加成反应中使用的催化剂，可列举出例如四丁基乙酸铵等铵系催化剂，2,4,6-三(二甲基氨基甲基)苯酚或二甲基苄基胺等氨基系催化剂，三苯基膦等磷系催化剂或乙酰丙酮铬或氯化铬等铬系催化剂。

作为多官能环氧化合物，为了调整固化膜等的折射率以及提高耐化学品性，优选为下述通式(5)所示的化合物。

[化7]

(R¹¹和R¹²各自独立地表示氢、碳原子数为1～12的烷基或环烷基、碳原子数为6～20的芳基或它们被取代而成的基团，或者R¹¹和R¹²一起表示碳原子数为2～12的环烷基、碳原子数为5～12的芳香环或它们被取代而成的基团。R¹³和R¹⁴各自独立地表示氢、碳原子数为2～12的烷基、碳原子数为6～20的芳基或它们被取代而成的基团。m和l各自独立地表示0～10的整数。)。

作为R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴，可列举出例如甲基、乙基、丙基、环戊基、环己基、苯基、萘基、邻甲苯基、联苯基或以下所示的取代基。

另外，R¹¹和R¹²可以形成环状结构，环状结构优选为5～7元环。作为R¹¹和R¹²形成环状结构时的具体例，可列举出以下所示的取代基。

[化9]

(带＊的碳为相当于通式(5)中带＊的碳的碳)。

作为多官能环氧化合物，可列举出例如以下所示的化合物。

作为多元羧酸化合物，可列举出例如琥珀酸、马来酸、富马酸、衣康酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、偏苯三酸、均苯四甲酸、2,2’-联苯二甲酸或4,4’-联苯二甲酸，但是为了提高固化膜等的耐化学品性和绝缘性，优选为邻苯二甲酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、偏苯三酸、均苯四甲酸、2,2’-联苯二甲酸或4,4’-联苯二甲酸。

作为多元醇化合物，可列举出例如乙二醇、丙二醇、丁二醇、甘油、三羟甲基丙烷或季戊四醇等脂肪族醇化合物，9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴、通过多官能环氧化合物与含自由基聚合性基团的一元酸化合物的反应而得到的化合物或者通过下述通式(6)所示的双酚化合物与含自由基聚合性基团的环氧化合物的反应而得到的化合物等芳香族醇化合物，但是优选芳香族醇化合物。需要说明的是，通式(6)中的R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴与通式(5)相同。

作为二酸酐，可列举出例如均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四甲酸二酐、2,2’,3,3’-联苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2,2’,3,3’-二苯甲酮四甲酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、2,2-双(2,3-二羧基苯基)六氟丙烷二酐、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、双(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、双(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、双(3,4-二羧基苯基)砜二酐、双(3,4-二羧基苯基)醚二酐、1,2,5,6-萘四甲酸二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐、2,3,5,6-吡啶四甲酸二酐或3,4,9,10-苝四甲酸二酐等芳香族四甲酸二酐，丁烷四甲酸二酐、环丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-环戊烷四甲酸二酐、环己烷四甲酸二酐、双环[2.2.1.]庚烷四甲酸二酐、双环[3.3.1.]四甲酸二酐、双环[3.1.1.]庚-2-烯四甲酸二酐、双环[2.2.2.]辛烷四甲酸二酐或金刚烷四甲酸二酐等脂肪族四甲酸二酐，但是为了提高固化膜等的耐化学品性和绝缘性，优选为均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、2,3,3’,4’-联苯四甲酸二酐或2,2’,3,3’-联苯四甲酸二酐，为了提高固化膜等的透明性，优选为环丁烷四甲酸二酐、1,2,3,4-环戊烷四甲酸二酐或环己烷四甲酸二酐。

作为含自由基聚合性基团的一元酸化合物，可列举出例如(甲基)丙烯酸、琥珀酸单(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)酯、四氢邻苯二甲酸单(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)酯或对羟基苯乙烯。

作为含自由基聚合性基团的环氧化合物，可列举出例如(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-乙基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-正丙基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-正丁基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧丁基酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧庚基酯、(甲基)丙烯酸α-乙基-6,7-环氧庚基酯、丁基乙烯基醚、丁基烯丙基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、2-羟基乙基烯丙基醚、环己烷乙烯基醚、环己烷烯丙基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基丁基烯丙基醚、烯丙基缩水甘油基醚、乙烯基缩水甘油基醚、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-间乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-对乙烯基苄基缩水甘油基醚、2,3-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,4-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,5-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,6-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,4-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,5-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,6-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、3,4,5-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯或2,4,6-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯。

作为酸酐，可列举出例如琥珀酸酐、马来酸酐、衣康酸酐、邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、均苯四甲酸一酐、2,3-联苯二甲酸酐、3,4-联苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、戊二酸酐、3-甲基邻苯二甲酸酐、降冰片烯二羧酸酐、环己烯二羧酸酐或3-三甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的丙烯酸系树脂，含羧基的丙烯酸系树脂从图案加工性的观点考虑优选，从固化膜硬度的观点考虑优选至少一部分导入烯属不饱和双键基团。作为丙烯酸系树脂的合成方法，可列举出(甲基)丙烯酸系化合物的自由基聚合。作为(甲基)丙烯酸系化合物，可列举出例如含羧基和/或酸酐基的(甲基)丙烯酸系化合物或其它的(甲基)丙烯酸酯。作为自由基聚合的催化剂，通常使用偶氮双异丁腈等偶氮化合物或过氧化苯甲酰等有机过氧化物。自由基聚合的条件适当设定即可，但是优选向溶剂中添加含羧基和/或酸酐基的(甲基)丙烯酸系化合物、其它的(甲基)丙烯酸酯和自由基聚合催化剂，通过鼓泡、减压脱气等，将反应容器内充分进行氮置换之后，在60～110℃下反应30～300分钟。使用含酸酐基的(甲基)丙烯酸系化合物的情况下，优选加入理论量的水在30～60℃下反应30～60分钟。另外，根据需要可以使用硫醇化合物等链转移剂。

作为丙烯酸系树脂的合成中使用的(甲基)丙烯酸系化合物，可列举出例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酐、衣康酸、衣康酸酐、琥珀酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、四氢邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸环丙酯、(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环己烯酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基环己酯、(甲基)丙烯酸2-环丙氧基羰基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-环戊氧基羰基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-环己氧基羰基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-环己烯基氧基羰基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(4-甲氧基环己基)氧基羰基乙基酯、(甲基)丙烯酸降冰片烷基酯、(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸三环癸基酯、(甲基)丙烯酸四环癸基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸金刚烷基甲酯、(甲基)丙烯酸1-甲基金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-乙基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-正丙基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-正丁基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧丁基酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧庚基酯、(甲基)丙烯酸α-乙基-6,7-环氧庚基酯或甲基丙烯酸苄酯，从显影性的观点考虑，更优选(甲基)丙烯酸，从耐热性的观点考虑，更优选(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸三环癸基酯或(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯。

另外，丙烯酸系树脂可以为(甲基)丙烯酸系化合物与其它的含不饱和双键的单体的共聚物。作为其它的含不饱和双键的单体，可列举出例如苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对羟基苯乙烯、马来酸酐、降冰片烯、降冰片烯二羧酸、降冰片烯二羧酸酐、环己烯、丁基乙烯基醚、丁基烯丙基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、2-羟基乙基烯丙基醚、环己烷乙烯基醚、环己烷烯丙基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基丁基烯丙基醚、烯丙基缩水甘油基醚、乙烯基缩水甘油基醚、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-间乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-对乙烯基苄基缩水甘油基醚、2,3-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,4-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,5-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,6-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,4-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,5-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,6-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、3,4,5-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯或2,4,6-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯，但是为了提高固化膜的耐湿热性并且提高ITO等的金属的腐蚀耐性而优选苯乙烯。

作为具有烯属不饱和键的丙烯酸系树脂，优选将含羧基和/或酸酐基的(甲基)丙烯酸系化合物、(甲基)丙烯酸酯和/或其它的含不饱和双键的单体进行自由基聚合之后，使得具有烯属不饱和双键基团的环氧化合物进行加成反应而得到的具有烯属不饱和键的丙烯酸系树脂。作为加成反应中使用的催化剂，可列举出例如二甲基苯胺、2,4,6-三(二甲基氨基甲基)苯酚或二甲基苄基胺等氨基系催化剂，2-乙基己酸锡(II)或月桂酸二丁基锡等锡系催化剂，2-乙基己酸钛(IV)等钛系催化剂，三苯基膦等磷系催化剂，或者乙酰丙酮铬或氯化铬等铬系催化剂。

作为具有烯属不饱和双键基团的环氧化合物，可列举出例如(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-乙基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-正丙基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸α-正丁基缩水甘油基酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧丁基酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧庚基酯、(甲基)丙烯酸α-乙基-6,7-环氧庚基酯、丁基乙烯基醚、丁基烯丙基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、2-羟基乙基烯丙基醚、环己烷乙烯基醚、环己烷烯丙基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基丁基烯丙基醚、烯丙基缩水甘油基醚、乙烯基缩水甘油基醚、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-间乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基-对乙烯基苄基缩水甘油基醚、2,3-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,4-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,5-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,6-二缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,4-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,5-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、2,3,6-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯、3,4,5-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯或2,4,6-三缩水甘油基氧基甲基苯乙烯。

有机系薄膜(II)的形成中使用的丙烯酸系树脂的Mw，按照利用GPC测得的聚苯乙烯换算，优选为2000～200000。通过使得Mw处于上述范围，使得涂布特性和图案形成时的对显影液的溶解性变得良好。

作为有机系薄膜(II)的形成中使用的聚硅氧烷，从涂布液的保存稳定性观点考虑，优选具有苯基或萘基的聚硅氧烷，从耐化学品性的观点考虑，优选具有环氧基或氨基的聚硅氧烷，从固化性的观点考虑，优选具有(甲基)丙烯基或乙烯基的聚硅氧烷，从图案加工性的观点考虑，优选具有羧基或酚性羟基的聚硅氧烷。作为聚硅氧烷的合成方法，通常为将有机硅烷化合物水解缩合的方法。作为聚硅氧烷的合成中使用的有机硅烷化合物，可列举出例如甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、1-萘基三甲氧基硅烷、2-萘基三甲氧基硅烷、1-萘基三乙氧基硅烷、2-萘基三乙氧基硅烷、4-羟基苯基三甲氧基硅烷、4-羟基苯基三乙氧基硅烷、4-羟基苄基三甲氧基硅烷、4-羟基苄基三乙氧基硅烷、2-(4-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷、2-(4-羟基苯基)乙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-(N,N-二缩水甘油基)氨基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)- γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、β-氰基乙基三乙氧基硅烷、环氧丙氧基甲基三甲氧基硅烷、环氧丙氧基甲基三乙氧基硅烷、α-环氧丙氧基乙基三甲氧基硅烷、α-环氧丙氧基乙基三乙氧基硅烷、β-环氧丙氧基乙基三甲氧基硅烷、β-环氧丙氧基乙基三乙氧基硅烷、α-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、α-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、β-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、β-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、α-环氧丙氧基丁基三甲氧基硅烷、α-环氧丙氧基丁基三乙氧基硅烷、β-环氧丙氧基丁基三甲氧基硅烷、β-环氧丙氧基丁基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丁基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丁基三乙氧基硅烷、δ-环氧丙氧基丁基三甲氧基硅烷、δ-环氧丙氧基丁基三乙氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)甲基三甲氧基硅烷、(3,4-环氧环己基)甲基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三丙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三丁氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三苯氧基硅烷、3-(3,4-环氧环己基)丙基三甲氧基硅烷、3-(3,4-环氧环己基)丙基三乙氧基硅烷、4-(3,4-环氧环己基)丁基三甲氧基硅烷、4-(3,4-环氧环己基)丁基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、环氧丙氧基甲基二甲氧基硅烷、环氧丙氧基甲基甲基二乙氧基硅烷、α-环氧丙氧基乙基甲基二甲氧基硅烷、α-环氧丙氧基乙基甲基二乙氧基硅烷、β-环氧丙氧基乙基甲基二甲氧基硅烷、β-环氧丙氧基乙基甲基二乙氧基硅烷、α-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、α-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、β-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、β-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基乙基二甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二乙氧基硅烷、环己基甲基二甲氧基硅烷、十八烷基甲基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、硅酸甲酯、三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、3-三甲氧基甲硅烷基丙酸、3-三乙氧基甲硅烷基丙酸、3-二甲基甲氧基甲硅烷基丙酸、3-二甲基乙氧基甲硅烷基丙酸、4-三甲氧基甲硅烷基丁酸、4-三乙氧基甲硅烷基丁酸、4-二甲基甲氧基甲硅烷基丁酸、4-二甲基乙氧基甲硅烷基丁酸、5-三甲氧基甲硅烷基戊酸、5-三乙氧基甲硅烷基戊酸、5-二甲基甲氧基甲硅烷基戊酸、5-二甲基乙氧基甲硅烷基戊酸、3-三甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐、3-三乙氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐、3-二甲基甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐、3-二甲基乙氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐、3-三甲氧基甲硅烷基丙基环己基二羧酸酐、3-三乙氧基甲硅烷基丙基环己基二羧酸酐、3-二甲基甲氧基甲硅烷基丙基环己基二羧酸酐、3-二甲基乙氧基甲硅烷基丙基环己基二羧酸酐、3-三甲氧基甲硅烷基丙基邻苯二甲酸酐、3-三乙氧基甲硅烷基丙基邻苯二甲酸酐、3-二甲基甲氧基甲硅烷基丙基邻苯二甲酸酐、3-二甲基乙氧基甲硅烷基丙基邻苯二甲酸酐、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基甲基二甲氧基硅烷、烯丙基甲基二乙氧基硅烷、苯乙烯基三甲氧基硅烷、苯乙烯基三乙氧基硅烷、苯乙烯基甲基二甲氧基硅烷、苯乙烯基甲基二乙氧基硅烷、γ-丙烯酰基丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-丙烯酰基丙基甲基二甲氧基硅烷或γ-丙烯酰基丙基甲基二乙氧基硅烷。

有机硅烷化合物的水解反应条件适当设定即可，例如优选为在溶剂中，向有机硅烷化合物用1～180分钟添加酸催化剂和水之后，在室温～110℃下反应1～180分钟。通过在这样的条件下进行水解反应，可以抑制急剧的反应。反应温度优选为30～105℃。另外，水解反应优选在酸催化剂的存在下进行。作为酸催化剂，优选为含有甲酸、乙酸或磷酸的酸性水溶液。这些酸催化剂的含量，相对于水解反应时使用的全部有机硅烷化合物100重量份，优选为0.1～5重量份。通过使得酸催化剂的含量处于上述范围，可以容易地进行控制以必要并且充分地进行水解反应。作为缩合反应的条件，优选通过有机硅烷化合物的水解反应得到硅烷醇化合物之后，将反应液直接在50℃～溶剂的沸点加热1～100小时。另外，为了提高聚硅氧烷的聚合度，可以再加热或添加碱催化剂。另外，可以根据需要进行水解反应之后，通过加热和/或减压适量蒸馏去除所生成的醇等，然后添加任意溶剂。

有机系薄膜(II)的形成中使用的聚硅氧烷的Mw，按照利用GPC测得的聚苯乙烯换算，优选为1000～100000。通过使得Mw处于上述范围，使得涂布特性和图案形成时的对显影液的溶解性变得良好。

有机系薄膜(II)优选含有金属氧化物粒子。通过含有金属氧化物粒子，可以将有机系薄膜(II)的折射率调整到所希望的范围。金属氧化物粒子的数均粒径优选为1～200nm，为了得到透过率高的固化膜，更优选为1～70nm。在此，金属氧化物粒子的数均粒径可以通过透射型电子显微镜测定。作为金属氧化物粒子，优选为单独的折射率高的金属氧化物粒子，更具体而言，优选为氧化钛粒子、钛酸钡粒子等钛氧化物粒子或氧化锆粒子等锆氧化物粒子。

金属氧化物粒子，可以筹措适当的纳米粒子粉体，使用珠磨机等分散机进行粉碎或分散。作为市售品的纳米粒子粉体，可列举出例如T-BTO-020RF(钛酸钡、户田工业株式会社制)、UEP-100(氧化锆、第一稀元素化学工业株式会社制)或STR-100N(氧化钛、堺化学工业株式会社制)。另外，也可以以分散体形式筹措。作为氧化硅-氧化钛粒子，可列举出例如“オプトレイク”(注册商标)TR-502、“オプトレイク”TR-503、“オプトレイク”TR-504、“オプトレイク”TR-513、“オプトレイク”TR-520、“オプトレイク”TR-527、“オプトレイク”TR-528、“オプトレイク”TR-529、“オプトレイク”TR-544或“オプトレイク”TR-550(都为日挥触媒化成工业(株)制)。作为氧化锆粒子，可列举出例如バイラールZr-C20(平均粒径=20nm、多木化学(株)制)、ZSL-10A(平均粒径=60-100nm、第一稀元素株式会社制)、ナノユースOZ-30M(平均粒径=7nm、日产化学工业(株)制)、SZR-M(堺化学(株)制)或HXU-120JC(住友大阪セメント(株)制)。

金属氧化物粒子的含量在树脂组合物的固体成分中通常为1～75wt%程度。

有机系薄膜(II)的形成中使用的树脂组合物的固体成分浓度，从容易控制膜厚的观点考虑，优选为0.1～10wt%。

形成有机系薄膜(II)的树脂组合物可以为感光性树脂组合物，可以为正型或负型中的任意一种。

上述感光性树脂组合物为正型的情况下，作为赋予感光性的成分，优选为重氮醌化合物。重氮醌化合物和碱可溶性树脂的混合物通过曝光以及碱显影而形成正型。作为重氮醌化合物，优选为具有酚性羟基的化合物与重氮萘醌磺酸进行酯键合而成的化合物，使用在该化合物的酚性羟基的邻位和对位分别独立地具有氢或下述通式(7)所示的取代基的化合物。

R¹⁵～R¹⁷可以分别相同或不同、表示碳原子数为1～10的烷基、羧基、苯基或取代苯基中的任意一种，或者R¹⁵和R¹⁶、R¹⁵和R¹⁷可以通过R¹⁶和R¹⁷形成环。

通式(7)所示的取代基中，R¹⁵～R¹⁷可以分别相同或不同、表示碳原子数为1～10的取代或未取代烷基、羧基、苯基或取代苯基中的任意一种。作为烷基，可列举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正己基、环己基、正庚基、正辛基、三氟甲基或2-羧基乙基。作为取代苯基的氢的取代基，可列举出羟基。另外，作为R¹⁵和R¹⁶、R¹⁵和R¹⁷通过R¹⁶和R¹⁷形成的环，可列举出例如环戊烷环、环己烷环、金刚烷环或芴环。

酚性羟基的邻位和对位为氢或通式(7)所示的取代基以外的基团的情况下，由于热固化而产生氧化分解，形成以醌结构为代表的共轭系化合物，固化膜着色而无色透明性降低。要说明的是，重氮醌化合物可以通过具有酚性羟基的化合物与重氮萘醌磺酰氯的公知的酯化反应来合成。

作为具有酚性羟基的化合物，可列举出例如以下的化合物(本州化学工业(株)制)。

作为重氮萘醌磺酸，可列举出例如4-重氮萘醌磺酸或5-重氮萘醌磺酸。4-重氮萘醌磺酸酯化合物由于在i线(波长365nm)区域具有吸收，适于i线曝光。另外，5-重氮萘醌磺酸酯化合物由于在宽范围的波长区域存在吸收，适于宽范围的波长下的曝光。优选根据曝光波长，适当选择4-重氮萘醌磺酸酯化合物或5-重氮萘醌磺酸酯化合物。也可以将4-重氮萘醌磺酸酯化合物和5-重氮萘醌磺酸酯化合物混合来使用。

重氮萘醌化合物的分子量优选为300～1500，更优选为350～1200。若重氮萘醌化合物的分子量大于1500则有可能不能以4～10wt%的添加量形成图案。另一方面若重氮萘醌化合物的分子量小于300则无色透明性有可能降低。

感光性树脂组合物为负型的情况下，作为赋予感光性的成分，优选光聚合引发剂和多官能单体。

作为赋予感光性的成分的光聚合引发剂，优选为通过光(包括紫外线和电子射线)而分解和/或反应、产生自由基的光聚合引发剂。作为通过光而分解和/或反应、产生自由基的光聚合引发剂，可列举出例如2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代基丙烷-1-酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代基苯基)-丁酮-1,2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-(2,4,4-三甲基戊基)-氧化膦、1-苯基-1,2-丙烷二酮-2-(o-乙氧基羰基)肟、1,2-辛烷二酮、1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)]、1-苯基-1,2-丁二酮-2-(o-甲氧基羰基)肟、1,3-二苯基丙烷三酮-2-(o-乙氧基羰基)肟、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)、4,4-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、2-乙基己基-对二甲基氨基苯甲酸酯、对二乙基氨基苯甲酸乙酯、二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、安息香二乙醚（ベンジルジメチルケタール）、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基-苯基酮、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、羟基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基-二苯基硫醚、烷基化二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(过氧化叔丁基羰基)二苯甲酮、4-苯甲酰基-N,N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基氧基)乙基]苯溴化甲铵、(4-苯甲酰基苄基)三甲基氯化铵、2-羟基-3-(4-苯甲酰基苯氧基)-N,N,N-三甲基-1-丙烯氯化铵一水合物、2-异丙基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮、2-羟基-3-(3,4-二甲基-9-氧代-9H-噻吨-2-基氧基)-N,N,N-三甲基-1-氯化丙铵、2,2’-双(o-氯苯基)-4,5,4’,5’-四苯基-1,2-联咪唑、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、联苯酰、9,10-菲醌、樟脑醌、苯甲酰甲酸甲酯、η5-环戊二烯基-η6-异丙苯基-铁(1＋)-六氟磷酸盐(1-)、二苯基硫衍生物、双(η5-2,4-环戊二烯-1-基)-双(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)钛、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、4-苯甲酰基-4-甲基苯基酮、二苄基酮、芴酮、2,3-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、苄基甲氧基乙基缩醛（ベンジルメトキシエチルアセタール）、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并环庚酮、亚甲基蒽酮、4-叠氮基亚苄基苯乙酮、2,6-双(对叠氮基亚苄基)环己烷、2,6-双(对叠氮基亚苄基)-4-甲基环己酮、萘磺酰氯、喹啉磺酰氯、N-苯基硫代吖啶酮、苯并噻唑二硫化物、三苯基膦、四溴化碳、三溴苯基砜、过氧化苯甲酰、或者曙红或亚甲蓝等光还原性色素与抗坏血酸或三乙醇胺等还原剂的组合。另外，它们可以含有两种以上。为了进一步提高固化膜的硬度，优选为α-氨基苯烷基酮（α-aminoalkylphenone）化合物、酰基氧化膦化合物、肟酯化合物、具有氨基的二苯甲酮化合物或具有氨基的苯甲酸酯化合物。

作为α-氨基苯烷基酮化合物，可列举出例如2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代基丙烷-1-酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁烷-1-酮或2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代基苯基)-丁酮-1。作为酰基氧化膦化合物，可列举出例如2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦或双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-(2,4,4-三甲基戊基)-氧化膦。作为肟酯化合物，可列举出例如1-苯基-1,2-丙烷二酮-2-(o-乙氧基羰基)肟、1,2-辛烷二酮,1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)]、1-苯基-1,2-丁二酮-2-(o-甲氧基羰基)肟、1,3-二苯基丙烷三酮-2-(o-乙氧基羰基)肟或乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)。作为具有氨基的二苯甲酮化合物，可列举出例如4,4-双(二甲基氨基)二苯甲酮或4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮。作为具有氨基的苯甲酸酯化合物，可列举出例如对二甲基氨基苯甲酸乙酯、2-乙基己基-对二甲基氨基苯甲酸酯或对-二乙基氨基苯甲酸乙酯。

作为赋予感光性的成分的多官能单体，可列举出例如二甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、二甘醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯、1,10-癸二醇二甲基丙烯酸酯、二羟甲基-三环癸烷二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四醇七丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯、四季戊四醇九丙烯酸酯、四季戊四醇十丙烯酸酯、五季戊四醇十一丙烯酸酯、五季戊四醇十二丙烯酸酯、三季戊四醇七甲基丙烯酸酯、三季戊四醇八甲基丙烯酸酯、四季戊四醇九甲基丙烯酸酯、四季戊四醇十甲基丙烯酸酯、五季戊四醇十一甲基丙烯酸酯、五季戊四醇十二甲基丙烯酸酯、二羟甲基-三环癸烷二丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二丙烯酸酯、9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、9,9-双[4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、9,9-双[4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)-3-甲基苯基]芴、(2-丙烯酰氧基丙氧基)-3-甲基苯基]芴、9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)-3,5-二甲基苯基]芴或9,9-双[4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)-3,5-二甲基苯基]芴，从提高灵敏度的观点考虑，优选为季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四醇七丙烯酸酯或三季戊四醇八丙烯酸酯，从提高疏水性的观点考虑，优选为二羟甲基-三环癸烷二丙烯酸酯、二羟甲基-三环癸烷二甲基丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二丙烯酸酯或9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴。

作为其它的多官能单体，可列举出例如多官能环氧化合物与(甲基)丙烯酸反应而得到的环氧(甲基)丙烯酸酯。作为多官能环氧化合物，可列举出例如以下的化合物。

作为本发明的氧化硅薄膜(III)的形成方法，可列举出例如溅射法、真空蒸镀法(电子束法)、离子镀法(IP法)或CVD(化学气相沉积(chemical Vapor Deposition))法等干式工艺法，或者SOG((Spin on Glass))等湿式工艺法。其中，CVD法由于可以在比较低的温度下形成缺陷少的薄膜而优选。

本发明的基板优选在氧化硅薄膜(III)的上表面层叠折射率为1.46～1.52的透明粘合薄膜(IV)(图3)。

因此，本发明的基板优选为具有在氧化硅薄膜(III)的上表面层叠有折射率为1.46～1.52的透明粘合薄膜(IV)的部位的基板。通过透明粘合薄膜(IV)的折射率为1.46～1.52，可以控制氧化硅薄膜(III)的上表面的光的反射，可以进一步降低ITO的图案视认性。通过透明粘合薄膜(IV)，基板不易破裂的同时能够与其它基板贴合。

透明粘合薄膜(IV)指的是通过透明粘合剂形成的薄膜。在此，透明粘合剂指的是透过光并且具有粘合性的材料。

透明粘合薄膜(IV)的膜厚，从粘合性和透明性的观点考虑，优选为1～200μm。

透明粘合剂的粘合力(为根据JIS Z0237(2000年)测定的粘合力，该粘合力通过将厚度0.05mm、宽度25mm的试样压接于玻璃板，在90°方向、200mm/分钟的条件下测定)优选为3～100N/25mm。另外，透明粘合剂的透过率从触摸面板的外观的观点考虑，按照每1μm厚度的全光线透过率(根据JIS K7361-1)计，优选为90%以上。

作为透明粘合剂，可列举出例如热固化型粘合剂或UV固化型粘合剂。作为折射率为1.46～1.52的热固化型透明粘合剂，可列举出例如含有将碳原子数为1～20的烷基(甲基)丙烯酸酯、具有羟基的(甲基)丙烯酸酯和/或具有羧基的(甲基)丙烯酸衍生物作为构成单体的共聚物，或者多官能异氰酸酯化合物和/或多官能环氧化合物的热固化型粘合剂。作为折射率为1.46～1.52的UV固化型透明粘合剂，可列举出例如将单官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯单体和/或低聚物、和光聚合引发剂作为主要成分的UV固化型粘合剂。

作为这种透明粘合剂，可以使用为了贴合各种基板而使用的OCA(Optical Claer Adhesive)材料(热固化型粘合剂的通称)或OCR(Optical Claer Adhesive Resin)材料(UV固化型粘合剂的通称)。另外，作为由上述透明粘合剂形成的透明粘合薄膜(IV)，可以使用飞散防止膜等市售的多功能膜所具备的粘合剂。

作为能够形成透明粘合薄膜(IV)的市售的OCA材料，可列举出例如8171CL、8172CL、8146-1或8146-2(都为住友スリーエム(株)制)，CS9622T、CS9621T或CS9070(都为日东电工(株)制)，TE-9000、TE-7000、TE-8500或DA-5000H(以上日立化成(株)制)，或者MO-3010或MO-T010(都为リンテック(株)制)。作为能够形成透明粘合薄膜(IV)的市售的OCR材料，可列举出例如XV-SV-B1或XV-7811(都为パナソニック(株)制)，或者UVP-1003、UVP-1100、UVP-7100或UVP-7000(都为东亚合成(株)制)。作为能够形成透明粘合薄膜(IV)的市售的带透明粘合剂的多功能膜，可列举出例如作为飞散防止膜而广泛使用的HA-110、HA-115、HA-116或HA-203(都为リンテック(株)制)，或者HC1100F-BP或HC2120F-BP(都为DIC(株)制)。

要说明的是，本发明中，具有由透明底基板的上表面起以ITO薄膜(I)、有机系薄膜(II)和氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有薄膜的部位的基板指的是在基板的截面，存在以ITO薄膜(I)、有机系薄膜(II)和氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有这些薄膜的区域的基板。也就是说，这种区域存在于基板(的截面)的一部分即可。

同样地，具有在氧化硅薄膜(III)的上表面层叠有折射率为1.46～1.52的透明粘合薄膜(IV)的部位的基板指的是在基板的截面，存在以ITO薄膜(I)、有机系薄膜(II)、氧化硅薄膜(III)和透明粘合薄膜(IV)的顺序层叠有这些薄膜的区域。于是，这种区域存在于基板(的截面)的一部分即可。

另外，本发明的基板，除了以ITO薄膜(I)、有机系薄膜(II)、氧化硅薄膜(III)的顺序层叠的部位之外，还可以具有形成有透明绝缘膜、布线的部位。具体而言，可以如图2所示具有在ITO薄膜(I)与有机系薄膜(II)之间形成有透明绝缘膜和/或布线的部位。图2的结构的基板可以作为静电容量式触摸面板发挥功能。

作为本发明基板的用途，可列举出例如电阻膜式触摸面板和静电容量式触摸面板等触摸面板以及TFT基板，但是优选静电容量式触摸面板使用本发明的基板，更优选用于盖板玻璃一体型静电容量式触摸面板。通过本发明基板制作的触摸面板，由于ITO图案的视认性低而可以提高终端的外观。

实施例

以下列举出本发明的实施例和比较例对本发明进行详细说明，但是本发明的方式不被它们所限定。

(合成例1)含羟基的二胺化合物的合成

将18.3g(0.05mol)的2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷(セントラル硝子(株)制；以下称为“BAHF”)溶解于100mL的丙酮和17.4g(0.3mol)氧化丙烯(东京化成(株)制)，并且冷却到-15℃。向其中滴加20.4g(0.11mol)的3-硝基苯甲酰氯(东京化成(株)制)溶解于100mL的丙酮而成的溶液。滴加结束之后，-15℃下搅拌4小时，然后返回到室温。过滤所析出的白色固体，50℃下进行真空干燥。

将所得到的白色固体30g装入到300mL的不锈钢高压釜，分散于250mL甲基溶纤剂，加入2g的5%钯-碳(和光纯药工业(株)制)。向其中用气球导入氢，室温下进行还原反应。约2小时之后，确认气球不再瘪，结束反应。反应结束之后，过滤去除作为催化剂的钯化合物，用旋转蒸发器浓缩，得到下式所示的含羟基的二胺化合物。

(合成例2)聚酰亚胺(P1)的合成

在干燥氮气流下，将16.5g(0.045mol)的BAHF溶解于250g的N-甲基-2-吡咯烷酮(以下称为“NMP”)。向其中加入50g的NMP的同时加入15.5g(0.05mol)的3,3’,4,4’-二苯基醚四甲酸二酐(マナック(株)制；以下称为“ODPA”)，30℃下搅拌2小时。然后，加入3-氨基苯酚(东京化成(株)制)1.09g(0.01mol)，40℃下继续搅拌2小时。进而将吡啶(东京化成(株)制)2.5g稀释于甲苯(东京化成(株)制)15g，加入到溶液中，装上冷凝管，通过共沸将水与甲苯一起去除到系统外的同时，使得溶液的温度为120℃反应2小时，进而在180℃下反应2小时。将该溶液的温度降低至室温，向水2L投入溶液，通过过滤而收集聚合物固体的沉淀。进而用水2L进行3次洗涤，用50℃的真空干燥机将所收集的聚合物固体干燥72小时，得到聚酰亚胺(P1)。

(合成例3)聚酰亚胺前体(P2)的合成

在干燥氮气流下，将25.7g(0.043mol)的合成例1中得到的含羟基的二胺化合物、0.62g(0.0025mol)的1,3-双(3-氨基丙基)四甲基二硅氧烷(以下称为“SiDA”)溶解于200g的NMP。向其中加入50g的NMP的同时加入15.5g(0.05mol)的ODPA，40℃下搅拌2小时。然后，加入1.09g(0.01mol)的3-氨基苯酚(东京化成(株)制)，40℃下搅拌2小时。进而，用10分钟滴加将3.57g(0.03mol)的二甲基甲酰胺二甲基缩醛（ジメチルホルアミドジメチルアセタール）(三菱レーヨン(株)制；以下称为“DFA”)用5g的NMP稀释而成的溶液，滴加之后，40℃下继续搅拌2小时。搅拌结束之后，将溶液投入到2L的水中，通过过滤而收集聚合物固体的沉淀。进而用2L水进行3次洗涤，用50℃的真空干燥机将所收集的聚合物固体干燥72小时，得到聚酰亚胺前体(P2)。聚酰亚胺前体(P2)的Mw为30000。

(合成例4)聚苯并噁唑前体(P3)的合成

在干燥氮气流下，将16.5g(0.045mol)的BAHF溶解于50g的NMP和26.4g的缩水甘油基甲基醚，将溶液的温度冷却至-15℃。向其中，使得内部的温度不超过0℃来滴加7.4g(0.025mol)的二苯基醚二甲酰氯(日本农药(株)制)和5.1g(0.025mol)的间苯二甲酰氯(东京化成(株)制)溶解于25g的GBL而成的溶液。滴加结束之后，-15℃下继续搅拌6小时。反应结束之后，向含有甲醇10wt%的2L的水投入溶液，通过过滤而收集聚合物固体的沉淀。进而用2L的水洗涤3次，用50℃的真空干燥机将所收集的聚合物固体干燥72小时，得到聚羟基酰胺树脂。

将20g的所得到的聚羟基酰胺树脂溶解于80g的NMP，加入0.58g(0.0035mol)的2-氨基-4-叔丁基苯酚，室温下搅拌2小时。搅拌结束之后，将溶液投入到2L的水中，通过过滤而收集聚合物固体的沉淀。进而用2L的水进行3次洗涤，用50℃的真空干燥机将所收集的聚合物固体干燥72小时，得到聚苯并噁唑前体(P3)。

(合成例5)聚酰胺酰亚胺前体(P4)的合成

在氮气置换气氛下，将19.22g(96.0mmol)的4,4’-二氨基二苯基醚(和歌山精化工业(株)制)、0.99g(4.0mmol)的SiDA和10.1g(100.0mmol)的三乙胺(东京化成(株)制)溶解于200g的NMP，向其中滴加溶解于80g的NMP中的20.63g(98.0mmol)的偏苯三酸酐酰氯。滴加结束之后，将液温调节到30℃，搅拌4小时进行反应。将所得到的聚合溶液投入到2L的离子交换水中，过滤分离，再次用纯水洗涤，得到聚酰胺酰亚胺酸前体(P4)的粉末。

(合成例6)丙烯酸系树脂溶液(P5)的合成

向500mL的烧瓶加入1g的2,2’-偶氮双(异丁腈)和50g的丙二醇甲基醚乙酸酯(以下称为“PGMEA”)。此后，加入26.5g甲基丙烯酸、21.3g的苯乙烯和37.7g的甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯，室温下搅拌一会之后，通过鼓泡将烧瓶内充分进行氮置换之后，70℃下加热搅拌5小时。接着，向所得到的溶液中添加14.6g的甲基丙烯酸缩水甘油基酯、1g的二甲基苄基胺、0.2g的对甲氧基苯酚和100g的PGMEA，90℃下加热搅拌4小时。反应结束之后，为了去除加成催化剂，用1N甲酸水溶液对反应溶液进行分液萃取处理，用硫酸镁干燥之后，加入PGMEA使得固体成分浓度为40wt%，得到丙烯酸系树脂溶液(P5)。丙烯酸系树脂(P5)的Mw为30000。

(合成例7)聚硅氧烷溶液(P6)的合成

向500mL的烧瓶加入47.67g(0.35mol)的甲基三甲氧基甲硅烷基、39.66g(0.20mol)的苯基三甲氧基硅烷、82.04g(0.35mol)的γ-丙烯酰基丙基三甲氧基硅烷、26.23(0.1mol)的3-三甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐和195.6g的双丙酮醇(以下称为“DAA”)，浸渍于40℃的油浴进行搅拌的同时，利用滴液漏斗用10分钟添加55.8g的水(水解所需要的理论量)中溶解有0.39g的磷酸(相对于所加入的单体为0.2重量份)的磷酸水溶液。40℃下搅拌1小时之后，将油浴温度设定于70℃，搅拌1小时，进而用30分钟将油浴升温至115℃。升温开始1小时之后，溶液的内温达到100℃，由此加热搅拌2小时(内温为100～110℃)。反应中蒸馏去除作为副产物的甲醇、水总计127g。向所得到的聚硅氧烷的DAA溶液中加入DAA，使聚合物浓度为40wt%，得到聚硅氧烷溶液(P6)。需要说明的是，所得到的聚合物的Mw通过GPC测定，结果为4500(聚苯乙烯换算)。

(合成例8)聚酯树脂溶液(P7)的合成

加入148g的1,1-双(4-(2,3-环氧丙氧基)苯基)-3-苯基茚满、47g的丙烯酸、1g的四丁基乙酸铵(以下称为“TBAA”)、2.0g的叔丁基邻苯二酚和244g的PGMEA，120℃下搅拌5小时。冷却至室温之后，加入71g的联苯四甲酸二酐和1g的TBAA，在110℃下搅拌3小时。冷却至室温之后，加入9g的四氢邻苯二甲酸酐，在120℃下搅拌5小时。反应结束之后，加入500g的PGMEA，为了去除加成催化剂，用1N甲酸水溶液对反应溶液进行分液萃取处理，用硫酸镁干燥之后，用旋转蒸发器浓缩以使固体成分浓度为40wt%，得到聚酯树脂P7(Mw=5000)。

(制造例1)树脂组合物(H1)的制造

黄色灯下，加入1.364g的氧化锆分散体[1](二季戊四醇六丙烯酸酯/氧化锆=3/7(重量比)的PGMEA分散液；氧化锆含量=35wt%)、0.0382g的イルガキュアOXE-02(BASF制；乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟))和0.0048g的对苯二酚甲基醚(以下称为“HQME”)，溶解于9.50g的四氢糠醇(以下称为“THFA”)和8.23g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入“カヤラッド(注册商标)”DPHA(新日本化药制；二季戊四醇六丙烯酸酯)的50wt%PGMEA溶液0.068g、丙烯酸系树脂溶液(P5)0.597g、作为硅氧烷系表面活性剂的“BYK-333”(ビックケミージャパン(株)制；硅氧烷系表面活性剂)的PGMEA 1wt%溶液0.2000g(相当于浓度100ppm)，并且进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H1)。

(制造例2)树脂组合物(H2)的制造

黄色灯下加入1.364g的氧化锆分散体[1]、0.0382g的イルガキュアOXE-02和0.0048g的HQME，溶解于9.50g的THFA和8.347g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入DPHA的50wt%PGMEA溶液0.0682g、CR-TR5(大阪ガスケミカル制；碱可溶性cardo树脂的50wt%PGMEA溶液)0.478g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，并进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H2)。

(制造例3)树脂组合物(H3)的制造

使用聚酯树脂(P7)来替代CR-TR5，除此之外进行与制造例2同样的操作，得到负型感光性的树脂组合物(H3)。

(制造例4)树脂组合物(H4)的制造

黄色灯下，加入1.364g的氧化锆分散体[2](乙烯基三甲氧基硅烷/2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯/氧化锆=1/1/10(重量比)的甲乙酮(以下称为“MEK”)分散液；氧化锆含量=30wt%)、0.0382g的イルガキュアOXE-02和0.0048g的HQME，溶解于9.50g的THFA和8.347g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入DPHA的50wt%PGMEA溶液0.0682g、CR-TR5 0.478g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，并进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H4)。

(制造例5)树脂组合物(H5)的制造

使用聚酯树脂(P7)来替代CR-TR5，除此之外进行与制造例4同样的操作，得到负型感光性的树脂组合物(H5)。

(制造例6)树脂组合物(H6)的制造

使用“SZR-K”(堺化学(株)制、氧化锆MEK分散液；氧化锆含量=30wt%)来替代氧化锆分散体[2]，除此以外进行与制造例4同样的操作，得到负型感光性的树脂组合物(H6)。

(制造例7)树脂组合物(H7)的制造

使用“SZR-K”来替代氧化锆分散体[2]，除此之外进行与制造例5同样的操作，得到负型感光性的树脂组合物(H7)。

(制造例8)树脂组合物(H8)的制造

黄色灯下，加入1.592g的TR-513(日挥触媒化成制；二氧化钛γ-丁内酯分散液；固体成分浓度=30wt%)、0.0382g的イルガキュアOXE-02和0.0048g的HQME，溶解于9.14g的DAA和7.95g的γ-丁内酯(以下称为“GBL”)，进行搅拌。向其中分别加入DPHA的50wt%PGMEA溶液0.478g、硅氧烷溶液(P6) 0.597g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H8)。

(制造例9)树脂组合物(H9)的制造

黄色灯下，加入1.663g的TR-513、5.70的乳酸乙酯(以下称为“EL”)和11.94g的GBL，进行搅拌。向其中分别加入TP5-280M(东洋合成制；TrisP-PA(本州化学制)的5-重氮萘醌磺酸酯化合物)0.150g、聚酰亚胺前体(P2) 0.349g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，搅拌直至溶解。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到正型感光性的树脂组合物(H9)。

(制造例10)树脂组合物(H10)的制造

黄色灯下，加入1.996g的TR-513、5.70g的EL和11.70g的GBL，进行搅拌。向其中分别加入TP5-280M 0.150g、聚酰亚胺前体(P2) 0.250g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，搅拌直至溶解。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到正型感光性的树脂组合物(H10)。

(制造例11)树脂组合物(H11)的制造

黄色灯下，加入0.0382g的イルガキュアOXE-02和0.0048g的HQME，溶解于9.50g的THFA和8.35g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入EA-0250P(大阪ガスケミカル制；9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴的50wt%PGMEA溶液；固体成分浓度=50wt%)0.287g、DPHA的50wt%PGMEA溶液0.669g、CR-TR5 0.995g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H11)。

(制造例12)树脂组合物(H12)的制造

黄色灯下，加入0.0382g的イルガキュアOXE-02、0.0048g的HQME和0.478g的聚酰亚胺(P1)，溶解于9.50g的GBL和8.35g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入EA-0250P 0.287g、DPHA的50wt%PGMEA溶液0.669g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液 0.2000g，进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H12)。

(制造例13)树脂组合物(H13)的制造

黄色灯下，分别加入TP5-280M 0.150g、聚酰亚胺(P1)0.843g、EL 5.70g、GBL 13.10g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，搅拌直至溶解。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到正型感光性的树脂组合物(H13)。

(制造例14)树脂组合物(H14)的制造

使用聚酰亚胺前体(P2)来替代聚酰亚胺(P1)，除此之外进行与制造例13同样的操作，得到正型感光性的树脂组合物(H14)。

(制造例15)树脂组合物(H15)的制造

使用聚苯并噁唑前体(P3)来替代聚酰亚胺(P1)，除此之外进行与制造例13同样的操作，得到正型感光性的树脂组合物(H15)。

(制造例16)树脂组合物(H16)的制造

使用聚酰胺酰亚胺前体(P4)来替代聚酰亚胺(P1)，除此之外进行与制造例13相同的操作，得到正型感光性的树脂组合物(H16)。

(制造例17)树脂组合物(H17)的制造

使用CR-TR5来替代聚酰亚胺(P1)，除此之外进行与制造例13同样的操作，得到正型感光性的树脂组合物(H17)。

(制造例18)树脂组合物(H18)的制造

使用聚酯树脂(P7)来替代聚酰亚胺(P1)，除此之外进行与制造例13相同的操作，得到正型感光性的树脂组合物(H18)。

(制造例19)树脂组合物(H19)的制造

分别加入聚酰亚胺前体(P2)0.998g、EL 5.70g、GBL 13.10g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，搅拌直至溶解。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到非感光性的树脂组合物(H19)。

(制造例20)树脂组合物(H20)的制造

使用聚苯并噁唑前体(P3)来替代聚酰亚胺前体(P2)，除此之外进行与制造例18同样的操作，得到非感光性的树脂组合物(H20)。

(制造例21)树脂组合物(H21)的制造

使用聚酰胺酰亚胺前体(P4)来替代聚酰亚胺前体(P2)，除此之外进行与制造例18同样的操作，得到非感光性的树脂组合物(H21)。

(制造例22)树脂组合物(H22)的制造

使用聚酯树脂(P7)来替代聚酰亚胺前体(P2)，除此之外进行与制造例18同样的操作，得到非感光性的树脂组合物(H22)。

(制造例23)树脂组合物(H23)的制造

使用聚醚砜“スミカエクセル3600P”(住友化学(株)制)来替代聚酰亚胺前体(P2)，除此之外进行与制造例19同样的操作，得到非感光性的树脂组合物(H23)。

(制造例24)树脂组合物(H24)的制造

使用酚醛树脂“レヂトップPSF-2808”(群荣化学工业(株)制)替代聚酰亚胺前体(P2)，除此之外进行与制造例19同样的操作，得到非感光性的树脂组合物(H24)。

(制造例25)树脂组合物(H25)的制造

将0.5g的聚苯乙烯(和光纯药制；Mn=125000～200000)溶解于9.300g的甲苯，加入BYK-333的1wt%甲苯溶液0.200g，进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到树脂组合物(H25)。

(制造例26)树脂组合物(H26)的制造

将0.5g的9,9-双[4-(2-缩水甘油基氧基乙氧基)苯基]芴(大阪ガスケミカル制；EG-200)溶解于9.300g的PGMEA，分别加入0.02g的SI-200(三新化学(株)制；热产酸剂)、BYK-333的1wt%PGMEA溶液0.200g，进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到树脂组合物(H26)。

(制造例27)树脂组合物(H27)的制造

黄色灯下加入8.200g的氧化锆分散体[1]、0.2296g的イルガキュアOXE-02和0.0048g的HQME，溶解于7.00g的THFA和1.062g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入DPHA的50wt%PGMEA溶液0.4100g、CR-TR5 2.870g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，并进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(H27)。

(制造例28)树脂组合物(H28)的制造

黄色灯下加入2.162g的TR-513、5.70g的EL和11.59g的GBL，进行搅拌。向其中分别加入TP5-280M 0.099g、聚酰亚胺前体(P2)0.249g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，搅拌直至溶解。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到正型感光性的树脂组合物(H28)。

(制造例29)树脂组合物(M1)的制造

黄色灯下加入0.0382g的イルガキュアOXE-02和0.0048g的HQME，溶解于9.50g的GBL和8.10g的PGMEA，进行搅拌。向其中分别加入DPHA的50wt%PGMEA溶液0.955g、丙烯酸系树脂溶液(P5)1.194g、BYK-333的PGMEA 1wt%溶液0.2000g，并进行搅拌。接着用0.45μm的过滤器进行过滤，得到负型感光性的树脂组合物(M1)。

制造例1～29中得到的树脂组合物的组成汇总示于表1。

需要说明的是，表1中，()内的数值表示添加量(重量份)。但是，利用溶剂等稀释的情况下，为固体成分的值[重量份]。

另外，表1中的“固体成分浓度”是以重量浓度(wt%)表示“各制造例中添加的全部原料中的固体成分(也就是说不含有溶剂)的总重量”相对于“各制造例中得到的树脂组合物(含有溶剂)的重量”的比率。

各实施例和比较例中的评价方法如以下所示。另外，实施例1～41和比较例1～5的结构和结果如表2所示。

[表2-1]

[表2-2]

(实施例1)

(1)ITO图案的制作

在厚度1.1mm的化学钢化玻璃基板溅射膜厚50nm的ITO之后，使用旋涂机(1H-360S；ミカサ(株)制)旋涂正型光致抗蚀剂(OFPR-800；东京应化工业(株)制)之后，使用加热板(SCW-636；大日本スクリーン制造(株)制)在100℃下预烘2分钟。对于所得到的预烘膜，使用PLA(Parallel Light Aligner)将超高压汞灯作为光源，隔着掩模以100μm的间隙进行1000J/m²曝光。然后，使用自动显影装置(AD-2000；滝泽产业(株)制)，用2.38wt%四甲基氢氧化铵(以下称为“TMAH”)水溶液喷淋显影90秒，接着用水冲洗30秒，实施图案加工。然后，用HCl-HNO₃系的蚀刻液蚀刻ITO，用剥离液去除光致抗蚀剂，制作具有第一电极和与其正交的第二电极的一部分被实施了图案加工的ITO(图1～图3的附图标记2)的玻璃基板(相当于图1的a)。

(2)透明绝缘膜的制作

在(1)中得到的玻璃基板上旋涂负型感光性树脂组合物NS-E2000(东レ(株)制)之后，使用加热板在90℃下预烘2分钟。对于所得到的预烘膜，隔着掩模以100μm的间隙进行2000J/m²曝光。然后，用0.4wt%TMAH水溶液喷淋显影90秒，接着用水冲洗30秒。接着在空气中在230℃下固化1小时，制作膜厚1.5μm的透明绝缘膜(图1～图3的附图标记3)(相当于图1的b)。

(3)钼/铝/钼(以下称为“MAM”)布线的制作

在(2)中得到的玻璃基板上，使用钼和铝作为靶，作为蚀刻液，使用H₃PO₄/HNO₃/CH₃COOH/H₂O=65/3/5/27(重量比)混合溶液，除此之外通过与上述(1)相同的顺序制作MAM布线(图1和图2的附图标记4)(相当于图1的c)。另外，MAM的膜厚调整为250nm。

(4)有机系薄膜(II)的形成

在(3)中得到的玻璃基板上旋涂制造例1中得到的树脂组合物(H1)之后，使用加热板在90℃下预烘2分钟。对于所得到的预烘膜，隔着掩模以100μm的间隙进行2000J/m²曝光。然后，用0.4wt%TMAH水溶液喷淋显影90秒，接着用水冲洗30秒。接着在空气中在230℃下固化1小时，制作相当于有机系薄膜(II)的膜厚0.10μm的固化膜(图2和图3的附图标记5)。

(5)氧化硅薄膜(III)的形成

使用高速等离子体CVD成膜装置(PD-270STL；サムコ(株)制)，将四乙氧基硅烷作为原料形成氧化硅薄膜(III)(图2和图3的附图标记6)。此时，以氧化硅薄膜(III)与有机系薄膜(II)的图案重叠的方式实施掩模成膜。氧化硅薄膜(III)的膜厚为0.5μm。

(6)带透明粘合薄膜(IV)的膜的贴合

在(5)中得到的玻璃基板上的一部分，使用高压釜(70℃、0.6MPa、30分钟)，以不进入空气的方式贴合透明粘合薄膜(IV)和在其相反面具备硬涂层的聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下称为“PET”)的膜“HA-116”(リンテック(株)制、粘合剂折射率=1.47、透明粘合薄膜(IV)膜厚=50μm、层结构：透明粘合薄膜/PET膜/硬涂层)。

(7)ITO图案视认性的评价

对于由(6)中得到的玻璃基板的背面侧观察时的ITO的图案视认性，以下述10个等级进行评价。将6以上作为合格。

另外，ITO的图案视认性的评价，分别对于层叠有透明粘合薄膜(IV)的区域、和没有层叠透明粘合薄膜(IV)的区域进行。

10：在白色荧光灯5cm下凝视时完全看不到图案。

9：在白色荧光灯5cm下凝视时稍微看到图案。

8：在白色荧光灯5cm下凝视时看到少许图案。

7：在白色荧光灯5cm下凝视时清楚地看到图案。

6：在白色荧光灯5cm下通常肉眼观察时稍微看到图案。

5：在白色荧光灯5cm下通常肉眼观察时看到少许图案。

4：在白色荧光灯5cm下通常肉眼观察时清楚地看到图案。

3：在室内灯下通常肉眼观察时稍微看到图案。

2：在室内灯下通常肉眼观察时看到少许图案。

1：在室内灯下通常肉眼观察时清楚地看到图案。

(8)利用PCT(高压锅试验(Pressure Cooker Test))的底层金属腐蚀性评价

在整面具备MAM作为底层金属的玻璃上，通过上述(4)和(5)记载的方法制作两层固化膜之后，进行在温度121℃、湿度100%、气压=2atm的烘箱(HAST CHAMBERE EHS-221MD；エスペック株式会社制)内放置20小时的试验之后，对于固化膜下的MAM由于腐蚀而变色的缺点的占有面积比率，通过肉眼观察按照下述11个等级进行评价。将7以上作为合格。

10：固化膜下的MAM的变色面积比率为0%。没有固化膜自身的外观变化。

9：固化膜下的MAM的变色面积比率为1～3%。没有固化膜自身的外观变化。

8：固化膜下的MAM的变色面积比率为4～6%。没有固化膜自身的外观变化。

7：固化膜下的MAM的变色面积比率为7～9%。没有固化膜自身的外观变化。

6：固化膜下的MAM的变色面积比率为10～15%。没有固化膜自身的外观变化。

5：固化膜下的MAM的变色面积比率为16～20%。没有固化膜自身的外观变化。

4：固化膜下的MAM的变色面积比率为21～30%。没有固化膜自身的外观变化。

3：固化膜下的MAM的变色面积比率为31～50%。没有固化膜自身的外观变化。

2：固化膜下的MAM的变色面积比率为51～70%。没有固化膜自身的外观变化。

1：固化膜下的MAM的变色面积比率为71～100%。没有固化膜自身的外观变化。

0：固化膜下的MAM的变色面积比率为100%。并且固化膜自身产生变色、裂纹等。

(实施例2～18和实施例27～44)

以表2所示的结构，通过与实施例1相同的手法制作基板，进行评价。但是，在形成有机系薄膜(II)的步骤中，实施例9、10和实施例12 ～16中，作为显影液，使用2.38wt%TMAH水溶液。

(实施例19～26)

采用表2所示的结构以及有机系薄膜(II)的形成按照以下的顺序实施，除此之外通过与实施例1相同的手法制作基板，进行评价。

在(3)中得到的玻璃基板端部的有机系薄膜(II)未形成部分预先粘贴透明胶带，然后旋涂制造例19～26中得到的树脂组合物(H19)～(H26)之后，使用加热板在90℃下预烘2分钟。然后，剥离透明胶带。接着在空气中在230℃下固化1小时，制作相当于有机系薄膜(II)的膜厚0.10μm的固化膜(图2的附图标记5)。

(实施例27和28)

(1)ITO图案的制作

在厚度0.2mm的PET基板上，通过与实施例1相同的手法制作ITO图案。但是，光致抗蚀剂的涂布使用棒涂机（bar coator），预烘使用烘箱，蚀刻剂使用5wt%的草酸水溶液。

(2)有机系薄膜(II)的形成

在(1)中得到的PET基板上，为了形成表2所示的结构，使用棒涂机涂布制造例2或7中得到的树脂组合物(H2)或(H7)，使用烘箱在90℃下预烘10分钟。对于所得到的预烘膜，隔着掩模以100μm的间隙进行2000J/m²曝光。然后，用0.4wt%TMAH水溶液喷淋显影90秒，接着用水冲洗30秒。接着在空气中在130℃下固化1小时，制作相当于(II)层的膜厚0.10μm的固化膜。

(3)氧化硅薄膜(III)的形成

使用高速等离子体CVD成膜装置，将四乙氧基硅烷作为原料形成氧化硅薄膜(III)。氧化硅薄膜(III)的膜厚为0.5μm。

(4)带透明粘合膜(IV)的薄膜的贴合

在(3)中得到的PET基板上的一部分，使用高压釜(70℃、0.6MPa、30分钟)，以不进入空气的方式贴合透明粘合薄膜(IV)和在其相反面具备硬涂层的PET膜(HA-116；リンテック(株)制)。

(5)ITO图案视认性的评价

对于由(4)中得到的PET基板的背面侧的图案视认性，与实施例1同样地进行评价。

(实施例45和46)

在(6)带透明粘合薄膜(IV)的膜的贴合的步骤中，使用“HA-110”(リンテック(株)制、粘合剂折射率=1.50、透明粘合薄膜(IV)膜厚=30μm)来替代“HA-116”，除此之外与实施例2同样地制作基板，进行评价。

(比较例1)

在形成有机系薄膜(II)的步骤中，使用树脂组合物(H2)，不进行形成氧化硅薄膜(III)的步骤，除此之外与实施例1同样地进行评价。

(比较例2)

不进行形成有机系薄膜(II)的步骤，除此之外与实施例1同样地进行评价。

(比较例3～5)

以表2所示的结构，通过与实施例1相同的手法制作基板，进行评价。

附图标记说明

1：透明底基板

2：ITO薄膜(I)

3：绝缘膜

4：MAM布线

5：有机系薄膜(II)

6：氧化硅薄膜(III)

7：透明粘合薄膜(IV)

8：层叠有ITO薄膜(I)、有机系薄膜(II)、氧化硅薄膜(III)的充分宽的区域。

产业上的可利用性

本发明的基板可以用于电阻膜式触摸面板、静电容量式触摸面板或TFT基板等。

Claims

1.基板，其具有由透明底基板的上表面起以ITO薄膜(I)，膜厚为0.01～0.4μm、折射率为1.58～1.85的有机系薄膜(II)，膜厚为0.01～10μm的氧化硅薄膜(III)的顺序层叠有薄膜的部位。

2.根据权利要求1所述的基板，其具有在所述氧化硅薄膜(III)的上表面层叠有折射率为1.46～1.52的透明粘合薄膜(IV)的部位。

3.根据权利要求1或2所述的基板，其中，所述有机系薄膜(II)含有金属氧化物粒子。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板，其中，所述有机系薄膜(II)含有选自聚酰亚胺、cardo树脂、丙烯酸系树脂、聚硅氧烷、聚苯并噁唑、酚醛树脂、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜、聚氨酯和聚酯中的树脂。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板，其中，所述有机系薄膜(II)具有羧基和/或酚性羟基。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板，其中，所述有机系薄膜(II)使用树脂组合物形成，所述树脂组合物含有选自聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体和聚苯并噁唑前体中的前体。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板，其中，所述透明底基板为钢化玻璃基板。

8.触摸面板构件，其使用权利要求1～7中任一项所述的基板。