JP5213694B2 - 透明なパネル体及びタッチパネル - Google Patents
透明なパネル体及びタッチパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP5213694B2 JP5213694B2 JP2008332511A JP2008332511A JP5213694B2 JP 5213694 B2 JP5213694 B2 JP 5213694B2 JP 2008332511 A JP2008332511 A JP 2008332511A JP 2008332511 A JP2008332511 A JP 2008332511A JP 5213694 B2 JP5213694 B2 JP 5213694B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- pattern portion
- film
- pattern
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
このタッチパネルとして、近年は携帯電話機等の表示パネルでは指で触れた位置の静電容量変化を検出する静電容量式タッチパネルが普及しつつある。
この従来の静電容量式タッチパネルでは、透明基板上にマトリックス状の透明導電膜からなる第1電極パターンと第2電極パターンを設けているが、操作面側から見て透明導電膜を設けている範囲と設けていない範囲が存在することになる。
このため、透明導電膜を設けた範囲と透明導電膜を設けていない範囲では、透明導電膜からの透過光と、電極パターン部以外の透明基板からの透過光に差が生じてしまうことになり、透明導電膜形状が視認される問題があった。
特徴文献1には基板と透明導電膜の間に、屈折率の異なる2層を介在させ、パターン部と非パターン部の反射率の差を調整するタッチパネルを開示する。
しかしながら、上記のタッチパネルでは、パターン部と非パターン部の反射率の差は小さくなりパターンが視認されにくくなるものの、可視光波長域での平坦な透過特性を保証するものではなく、透過率が必ずしも高いものではない。
これにより、ガラスに近い透明性を有し、且つ透明電極パターンが視認されにくい透明なパネル体とすることができる。
本発明においては、パターン部と前記非パターン部の透過率の差が波長400〜700nmの可視光領域において2%以内であるのが好ましい。
ここでITO膜とはインジウム錫酸化物の膜をいう。
上記材料はいずれも、種々の方法による薄膜の形成が容易であり、また高屈折率と低屈折率との差を広く取れる組み合わせであることから、最適な膜厚を求める場合の設計の自由度が増すという効果を有する。
これにより、透明導電膜の抵抗値がタッチパネル等の用途に関しての実用的な範囲にあり、可視光の全領域に渡って光透過率が88%以上のパネル体とすることができる。
屈折率に高低差を有する2層からなる下地層の上に電極パターンを形成した場合に、下地層に直接接しているパターン部は本発明に係る下地層の効果で電極パターンが目立たなくなる。
そして、行方向に配列した第1電極と列方向に配列した第2電極がともに同じ下地層の同一面上に形成してあると両方とも目立たなく、且つ全体の透過率が高く透明度が高い。
本発明のパネル体を用いたタッチパネルは、LCD等の表示画面上に配置した場合、表示画像のコントラストが透明導電膜の縁部付近において不連続になることを防止して、表示面に透明導電膜形状が現れることを防止出来る。
なお、本発明はパターン部を有する各種パネルに適用できる。
図1(a)は操作面側から見たタッチパネル10の説明図を示し、図1(b)は拡大斜視図を示す。
図3にパターン部の製作手順例を示し、図2に図3(c)のA−A線断面図及びB−B線断面図を示す。
また、図4はタッチパネル10の外観図を示す。
図はいずれも、分かりやすくするために模式的に表してあり、実際よりも部分的に拡大や縮小をしてある。
タッチパネル10は、ガラス基板等の透明基板11の一方の片面上(上面)に、可視光の透過率を調整するための下地層20を形成し、この下地層20の上にセンサ部Sを形成してある。
センサ部Sは下地層20の上に、同層の透明導電膜よりなる第1電極(X電極)12と第2電極(Y電極)14及び第1導通部(X導通部)13とを有し、第1導通部13を横切るように第2導通部15を有し、第1導通部13と第2導通部15の間には、有機物層からなる中間絶縁層16を有している。
第1電極12は、パネル水平方向(X方向)に隣接する第1電極12同士を第1導通部13で接続してある。
第1電極12及び第1導通部13はITO膜(インジウム錫酸化物)等の透明導電膜である。
これにより、第1電極12と第1導通部13とで行を形成し、必要に応じて、複数の行を形成し、第1電極パターンになる。
第2電極14は、パネル垂直方向(Y方向)に隣接する第2電極14同士を第2導通部15で接続してある。
第2電極14及び第2導通部15はITO膜等の透明導電膜である。
これにより、第Y電極14と第2導通部15とで列を形成し、必要に応じて、複数の列を形成し、第2電極パターンになる。
第1電極12と第2電極14は、パネルの相互に直交する方向に交互配置したマトリクス状になっている。
また、第1電極12と第2電極14との間に、所定の容量の電荷が蓄えられるように、所定の隙間部dを設けて配置してある。
この隙間部dを本明細書では非パターン部と称する。
第1導通部13と第2導通部15は、中間絶縁層16を間に挟んで交差している。
中間絶縁層16はおおむね第1電極12及び第2電極14に重ならない大きさである。
第1電極パターンと第2電極パターンを本明細書ではパターン部と称する。
先ず、図3(a)に示すように、下地層20上に第1導通部13を形成する。
次いで図3(b)に示すように、この第1導通部13において第2導通部15と交差する所定範囲を覆う中間絶縁層16をフォトレジスト等で形成する。
そして、図3(c)に示すように、第1電極12と第2電極14及び第2導通部15とを一括で形成する。
下地層20は図2に示すように、透明基板11に接する高屈折率層20bと、センサ部Sを構成する透明導電膜からなる電極パターン部に接する低屈折率層20aとの2層構造になっている。
ここで低屈折率層20a,高屈折率層20bは、相対的に屈折率差があることを意味し、低屈折率層は多くの場合、屈折率1.35〜1.50の範囲となるように設定され、高屈折率層は屈折率1.7〜2.5の範囲となるように設定され、それぞれの屈折率設定値の実現に適した材料が用いられる。
低屈折率層は酸化ケイ素、フッ化マグネシウムの薄膜を採用することができ、高屈折率層としてはチタン、タンタル、ニオブ、インジウム、スズの酸化物又は窒化物を主材料とする薄膜を採用できる。
低屈折率層の薄膜と高屈折率層の薄膜からなる2層構造の下地層20を形成したことにより次のような効果がある。
透明基板11の下面側に位置する表示画像から入射された可視光は図1にて説明すると、第1電極12,第2電極14等から形成されたパターン部を透過してくる光線とそれ以外の部分である非パターン部を透過してくる光線とが存在する。
従来のように下地層がない場合には、パターン部を形成する透明導電膜の屈折率と透明基板の屈折率が異なるためにパターン部が目立ちやすくなる問題があったが、本発明においては、2層構造の下地層20にてパターン部と非パターン部の透過率が近似するように作用し、且つ、透過率が高く透明性に優れる。
なお、比較のために下地層が無い場合のパターン部の透過率曲線も示した。
この結果、本発明にかかる下地層を形成した場合に、パターン部と非パターン部とで可視光領域の全域にてほぼ均一に透過率89%以上を有し、パターン部が目立ちにくく、全体として透明度が高いことが明らかになった。
11 透明基板
12 第1電極(X電極)
13 第1導通部
14 第2電極(Y電極)
15 第2導通部
16 中間絶縁層
17 交差部
20 下地層
20a 低屈折率層
20b 高屈折率層
d 隙間部(非パターン部)
S センサ部
Claims (5)
- 可視光領域の光に対する平均透過率が90%以上の透明基板の上面に下地層と、当該下地層の上にITO膜の透明導電膜からなるパターン部を形成し、前記下地層は透明基板の下面側から光を入射した際に、パターン部と、それ以外の非パターン部との透過率の差が小さくなるように調整したものであって、
前記下地層は屈折率に高低差を有する2層からなるとともに、前記パターン部及び非パターン部の全面にわたって形成し、前記透明基板側が相対的に高い屈折率1.7〜2.5の高屈折率層で前記透明導電膜に接する側が相対的に低い屈折率1.35〜1.50の低屈折率層になっていて、
可視光の全領域において、前記パターン部と前記非パターン部の透過率がともに88%以上の概ね均一になっていることを特徴とするパネル体。 - 前記パターン部と前記非パターン部の透過率の差が波長400〜700nmの可視光領域において2%以内であることを特徴とする請求項1記載のパネル体。
- 前記透明基板は、ガラス基板であり、前記高屈折率層は、チタン、タンタル、ニオブ、インジウム、スズのいずれかの酸化物あるいは窒化物を主材料とするものであり、
前記低屈折率層は酸化ケイ素膜又はフッ化マグネシウム膜のいずれかであることを特徴とする請求項2記載のパネル体。 - 前記ITO膜の膜厚は15nm〜25nmの範囲にあり、
前記高屈折率層は膜厚が5.0nm〜7.0nmのニオブ酸化膜であり、
前記低屈折率層は膜厚が40nm〜70nmの酸化ケイ素膜であることを特徴とする請求項3記載のパネル体。 - 前記パターン部は、複数の第1電極と第2電極とを、行と列の交差部を有するマトリックス状で且つ下地層の同一面上に形成してあり、行方向に配列した複数の第1電極は第1導通部で行方向に連結してあり、
列方向に配列した複数の第2電極は第2導通部で列方向に連結してあり、
第1導通部と第2導通部との前記交差部の間には中間絶縁層を介してあることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のパネル体を用いた静電容量式タッチパネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008332511A JP5213694B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 透明なパネル体及びタッチパネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008332511A JP5213694B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 透明なパネル体及びタッチパネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010152809A JP2010152809A (ja) | 2010-07-08 |
JP5213694B2 true JP5213694B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=42571791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008332511A Expired - Fee Related JP5213694B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 透明なパネル体及びタッチパネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5213694B2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5763417B2 (ja) * | 2011-05-24 | 2015-08-12 | ジオマテック株式会社 | 静電容量型入力装置用電極基板及び静電容量型入力装置 |
US20150125680A1 (en) | 2012-05-21 | 2015-05-07 | Toray Industries, Inc. | Substrate and touch panel member using same |
US9632640B2 (en) | 2012-07-03 | 2017-04-25 | Fujifilm Corporation | Transparent laminate, capacitance type input device, and image display device |
JP5901451B2 (ja) | 2012-07-03 | 2016-04-13 | 富士フイルム株式会社 | 透明積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置 |
JP5922008B2 (ja) | 2012-11-30 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 |
JP6030966B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2016-11-24 | 富士フイルム株式会社 | 透明積層体およびその製造方法 |
CN104903091B (zh) | 2013-01-29 | 2016-08-17 | 东丽株式会社 | 基板及使用其的触摸面板构件 |
JP6003979B2 (ja) | 2013-01-29 | 2016-10-05 | 東レ株式会社 | 基板及びそれを用いたタッチパネル部材 |
JP6206637B2 (ja) * | 2013-02-12 | 2017-10-04 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネル基板、及び表示装置 |
WO2015125853A1 (ja) | 2014-02-19 | 2015-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、転写フィルムの製造方法、透明積層体、透明積層体の製造方法、静電容量型入力装置および画像表示装置 |
WO2016009980A1 (ja) | 2014-07-15 | 2016-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 積層材料の製造方法、積層材料、透明積層体の製造方法、透明積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置 |
JP6373817B2 (ja) | 2014-10-24 | 2018-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム及びその製造方法、積層体の製造方法、静電容量型入力装置の製造方法、並びに、画像表示装置の製造方法 |
JP6554165B2 (ja) | 2015-03-12 | 2019-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、透明積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置 |
JP6527052B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2019-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体、積層体の製造方法および静電容量型入力装置 |
JP6327366B2 (ja) | 2015-11-26 | 2018-05-23 | 東レ株式会社 | ポリメタロキサン、その製造方法、その組成物、硬化膜およびその製造方法ならびにそれを備えた部材および電子部品 |
JP6584357B2 (ja) | 2016-03-30 | 2019-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置 |
JP6433566B2 (ja) * | 2017-10-19 | 2018-12-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
CN110716672B (zh) * | 2018-07-11 | 2022-11-04 | 上海和辉光电股份有限公司 | 一种触控面板 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4449616B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2010-04-14 | パナソニック株式会社 | タッチパネル |
US8264466B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern |
JP2007299534A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-15 | Sony Corp | 透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル |
JP4871846B2 (ja) * | 2006-11-24 | 2012-02-08 | グンゼ株式会社 | タッチパネル用透明導電膜付フィルムとこれを用いたタッチパネル |
JP4998919B2 (ja) * | 2007-06-14 | 2012-08-15 | ソニーモバイルディスプレイ株式会社 | 静電容量型入力装置 |
-
2008
- 2008-12-26 JP JP2008332511A patent/JP5213694B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010152809A (ja) | 2010-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5213694B2 (ja) | 透明なパネル体及びタッチパネル | |
JP5262666B2 (ja) | 静電容量式タッチパネル | |
TWI564638B (zh) | 顯示面板之畫素結構 | |
US9164306B2 (en) | In-cell touch display panel system using metal wires to connect with sensing electrodes | |
KR101101053B1 (ko) | 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 | |
US20130314371A1 (en) | In-Cell Touch Display Panel Structure with Metal Layer for Sensing | |
KR200479143Y1 (ko) | 감지용 하부기판 상에 금속층을 가지는 인-셀 터치 디스플레이 패널 구조 | |
US11536876B2 (en) | Composite membrane, touchpad and display device | |
CN105278710A (zh) | 触控显示器 | |
US10386946B2 (en) | Touch sensor panel and method for fabricating the same | |
CN106406591B (zh) | Oled触控基板、其制造方法及控制方法 | |
KR20140081108A (ko) | 터치패널 및 이를 이용한 표시장치 | |
JP4997607B2 (ja) | 静電容量式タッチパネル | |
KR20150099111A (ko) | 모아레 감소를 위한 오버코트층을 구비한 터치 패널, 터치 패널을 구비한 액정표시장치 및 터치 패널 형성 방법 | |
JP5939766B2 (ja) | タッチパネル | |
KR102007662B1 (ko) | 베젤이 최소화된 표시소자 | |
CN106681577B (zh) | 一种触控电极结构、触控面板、显示设备及制备方法 | |
CN111625126A (zh) | 显示装置、触控基板及触控电极层 | |
CN104331203A (zh) | 一种两侧无边框的电容式液晶触摸屏幕 | |
JP6615975B2 (ja) | タッチパネル | |
KR20140142533A (ko) | 터치 패널 및 이의 제조방법 | |
JP6074533B2 (ja) | 表示装置 | |
JP6433566B2 (ja) | 表示装置 | |
JP6231705B2 (ja) | タッチパネル | |
CN204904229U (zh) | 立体显示触摸模组 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110914 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20120515 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20120620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120625 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120627 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5213694 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |