CN106406591B - Oled触控基板、其制造方法及控制方法 - Google Patents

Oled触控基板、其制造方法及控制方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种OLED触控基板、其制造方法及控制方法,其中,所述OLED触控基板包括:玻璃基板;位于所述玻璃基板上的像素电路;位于所述像素电路上的OLED阳极和第一复用电极,所述第一复用电极为参考电压线与触控驱动电极的复用;以及位于所述OLED阳极之上的第二复用电极,所述第二复用电极为OLED阴极与触控感测电极的复用。在本发明提供的OLED触控基板、其制造方法及控制方法中,通过参考电压线与触控驱动电极复用,OLED阴极与触控感测电极复用,无需额外增加触控电路便可实现In‑Cell触控,通过简单的制造工艺得到了薄型化的OLED触控基板。

Description

OLED触控基板、其制造方法及控制方法
技术领域
本发明涉及平板显示技术领域,特别涉及一种OLED触控基板、其制造方法及控制方法。
背景技术
随着经济生活的发展,人们对显示器的要求越来越高,高精细化、色彩丰富、响应快的显示器逐渐成为主流。相较传统的液晶显示器,有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode,OLED)显示器具有反应速度更快、对比度更高、视角更广等特点,因此OLED得到了越来越多人的关注。
显示器的薄型化是一个趋势,OLED显示器因为其相对LCD(Liquid CrystalDisplay,液晶显示器)具有更薄的厚度,从而具有更强的竞争力。而在显示屏与触控屏相结合的显示器中,In-Cell(盒内)触控的显示器相较于On-Cell(盒内)的显示器具有更薄的厚度,从而收到越来越多的关注。
现有的In-Cell触控显示器一般采用在显示电路成膜的过程中增加触控电路,形成In-Cell触控,但这种方法一般需要增加几道制程,生产节拍较长。
因此,如何提供一种制造工艺简单、薄型化的OLED触控基板成了本领域技术人员需要解决的一个难题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种OLED触控基板、其制造方法及控制方法,以解决现有In-Cell触控显示器采用在显示电路成膜的过程中增加触控电路,从而需要增加几道制程,生产节拍较长的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种OLED触控基板,所述OLED触控基板包括:玻璃基板;位于所述玻璃基板上的像素电路;位于所述像素电路上的OLED阳极和第一复用电极,所述第一复用电极为参考电压线与触控驱动电极的复用;以及位于所述OLED阳极之上的第二复用电极,所述第二复用电极为OLED阴极与触控感测电极的复用。
可选的,在所述的OLED触控基板中,所述第一复用电极包括多行第一复用子电极,每行第一复用子电极为参考电压线与触控驱动电极的复用,所述多行第一复用子电极相互绝缘。
可选的,在所述的OLED触控基板中,每个第一复用子电极包括多个第一电极块,所述多个第一电极块相互导通。
可选的,在所述的OLED触控基板中,所述第二复用电极包括多列第二复用子电极,每列第二复用子电极为OLED阴极与触控感测电极的复用,所述多列第二复用子电极相互绝缘。
可选的,在所述的OLED触控基板中,每个第二复用子电极包括多个第二电极块,所述多个第二电极块相互导通。
可选的,在所述的OLED触控基板中,所述OLED阳极和第一复用电极均由透明导电材料形成;所述第二复用电极由金属形成。
可选的,在所述的OLED触控基板中,还包括位于OLED阳极和第二复用电极之间的有机层。
本发明还提供一种OLED触控基板的制造方法,所述OLED触控基板的制造方法包括:
提供玻璃基板;
在所述玻璃基板上形成像素电路;
在所述像素电路上形成OLED阳极和第一复用电极,所述第一复用电极为参考电压线与触控驱动电极的复用;
在所述OLED阳极之上形成第二复用电极,所述第二复用电极为OLED阴极与触控感测电极的复用。
可选的,在所述的OLED触控基板的制造方法中,所述OLED阳极和第一复用电极通过同一步刻蚀工艺形成。
本发明还提供一种OLED触控基板的控制方法,所述OLED触控基板的控制方法包括:
当OLED触控基板处于非显示阶段:
第一复用电极作为触控驱动电极,输入触控驱动信号;
第二复用电极作为触控感测电极,输入触控感测信号;
当OLED触控基板处于显示阶段:
第一复用电极作为参考电压线,输入参考电压信号;
第二复用电极作为OLED阴极,输入图像信息。
在本发明提供的OLED触控基板、其制造方法及控制方法中,通过参考电压线与触控驱动电极复用,OLED阴极与触控感测电极复用,无需额外增加触控电路便可实现In-Cell触控,通过简单的制造工艺得到了薄型化的OLED触控基板。
附图说明
图1是本发明实施例的OLED触控基板的一剖面局部结构示意图;
图2a是本发明实施例的OLED触控基板的一平面局部结构示意图;
图2b是本发明实施例的OLED触控基板的另一平面局部结构示意图;
图3是本发明实施例的OLED触控基板的一平面整体结构示意图;
图4是本发明实施例的OLED触控基板的制造方法的流程示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的OLED触控基板、其制造方法及控制方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
请参考图1、图2a、图2b和图3,其中,图1是本发明实施例的OLED触控基板的一剖面局部结构示意图;图2a是本发明实施例的OLED触控基板的一平面局部结构示意图;图2b是本发明实施例的OLED触控基板的另一平面局部结构示意图;图3是本发明实施例的OLED触控基板的一平面整体结构示意图。需说明的是,在本申请实施例中,为了图示的清晰与方便,图1、图2a、图2b和图3之间并未按照统一的比例制作。
如图1所示,在本申请实施例中,所述OLED触控基板1包括:玻璃基板10;位于所述玻璃基板10上的像素电路11;位于所述像素电路11上的OLED阳极12和第一复用电极13,所述第一复用电极13为参考电压线与触控驱动电极的复用;以及位于所述OLED阳极12之上的第二复用电极14,所述第二复用电极14为OLED阴极与触控感测电极的复用。
在本申请实施例中,用语“上”指上下两结构之间有直接接触,并且位于上方的结构至少有部分垂直于下方的结构上;用语“之上”指上下两结构之间无直接接触,并且位于上方的结构至少有部分垂直于下方的结构上。
在本申请实施例中,所述像素电路11可以为现有的任意一种驱动OLED像素的电路,例如熟知的6T(薄膜晶体管)1C(电容)像素电路或者7T1C像素电路等。
进一步的,所述OLED阳极12与所述第二复用电极14之间绝缘。具体的,所述OLED阳极12与所述第二复用电极14之间还形成有有机层15。在本申请实施例中,所述像素电路11上还形成有像素介电层16,通过所述像素介电层16隔离OLED阳极12,并对所形成的OLED触控基板1起支撑作用。
请参考图3,在本申请实施例中,所述第一复用电极13包括多行第一复用子电极130,每行第一复用子电极130为参考电压线与触控驱动电极的复用,所述多行第一复用子电极130相互绝缘。即在本申请实施例中,为了所形成的OLED触控基板1的触控效果,将所述第一复用电极13分割成多行。
进一步的,请参考图2a和图2b,在本申请实施例中,每个第一复用子电极130(也即第一复用电极13)包括多个第一电极块131,所述多个第一电极块131相互导通。为了所形成的OLED触控基板1的触控与显示效果,多个第一电极块131呈阵列排布。进一步的,所述OLED阳极12包括多个OLED阳极块121,每个第一电极块131位于相邻的两个OLED阳极块121之间。
请继续参考图3,在本申请实施例中,所述第二复用电极14包括多列第二复用子电极140,每列第二复用子电极140为OLED阴极与触控感测电极的复用,所述多列第二复用子电极140相互绝缘。即在本申请实施例中,为了所形成的OLED触控基板1的触控效果,将所述第二复用电极14分割成多列。
进一步的,请继续参考图2a和图2b,在本申请实施例中,每个第二复用子电极140(也即第二复用电极14)包括多个第二电极块141,所述多个第二电极块141相互导通。结合图1和图2b可见,第二电极块141位于相应的OLED阴极块121之上。进一步的,由图2b可见,所述第二电极块141与第一电极块131相邻,当然,在图2b中,所述第二电极块141与第一电极块131相邻位于不同的结构层,更具体的,所述第二电极块141位于所述第一电极块131的上层结构层。
进一步的,所述OLED阳极12和第一复用电极13均由透明导电材料形成,例如可以是有ITO(氧化铟锡)所形成;所述第二复用电极14由金属形成,例如可以是由镁银合金层所形成,对此本申请并不做限定。
在本申请实施例中,接下去将描述上述OLED触控基板1的制造方法。具体的,请参考图4,其为本发明实施例的OLED触控基板的制造方法的流程示意图。如图4所示,所述OLED触控基板1的制造方法包括:
S10:提供玻璃基板;
S11:在所述玻璃基板上形成像素电路;
S12:在所述像素电路上形成OLED阳极和第一复用电极,所述第一复用电极为参考电压线与触控驱动电极的复用;
S13:在所述OLED阳极之上形成第二复用电极,所述第二复用电极为OLED阴极与触控感测电极的复用。
进一步的,所述OLED阳极和第一复用电极通过同一步刻蚀工艺形成。
相对于现有技术,本申请实施例提供的OLED触控基板1的制造方法不仅能够制得OLED触控基板1,即得到薄型化的触控基板;而且其制造工艺简单,相对于现有的OLED基板的制造方法,其(最少)仅多了一步刻蚀工艺,该增加的刻蚀工艺用于刻蚀(镁银合金层)形成第二复用电极。
进一步的,本申请实施例还提供一种OLED触控基板的控制方法,所述OLED触控基板的控制方法包括:
当OLED触控基板处于非显示阶段:
第一复用电极作为触控驱动电极,输入触控驱动信号;
第二复用电极作为触控感测电极,输入触控感测信号;
当OLED触控基板处于显示阶段:
第一复用电极作为参考电压线,输入参考电压信号;
第二复用电极作为OLED阴极,输入图像信息。
在本申请实施例中,所述“非显示阶段”主要指每帧图像之间的切换时间段,即图像扫描时间段。
具体的,在图像扫描时间段,通过驱动电路的控制,使得第一复用电极接收的信号为触控驱动信号;第二复用电极接收的信号为触控感测信号,从而实现触控。在图像显示时间段,通过驱动电路的控制,使得第一复用电极接收的信号为参考电压信号(Vref);第二复用电极(与OLED阳极)接收的信号为图像信息,从而实现图像显示。其中,触控与图像显示的实现方式为现有技术,本申请不再赘述。本实施例提供的OLED触控基板的控制方法与现有的OLED触控基板的控制方法的差别在于,同一结构(第一复用电极和第二复用电极)接收了两种信号,从而存在控制第一复用电极和第二复用电极所接收的信号类型的步骤,即本申请实施例所示的,当OLED触控基板处于非显示阶段:第一复用电极作为触控驱动电极,输入触控驱动信号;第二复用电极作为触控感测电极,输入触控感测信号;当OLED触控基板处于显示阶段:第一复用电极作为参考电压线,输入参考电压信号;第二复用电极作为OLED阴极,输入图像信息。
综上可见,在本发明实施例提供的OLED触控基板、其制造方法及控制方法中,通过参考电压线与触控驱动电极复用,OLED阴极与触控感测电极复用,无需额外增加触控电路便可实现In-Cell触控,通过简单的制造工艺得到了薄型化的OLED触控基板。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述,并非对本发明范围的任何限定,本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰,均属于权利要求书的保护范围。

Claims (8)

1.一种OLED触控基板,其特征在于,包括:玻璃基板;位于所述玻璃基板上的像素电路;位于所述像素电路上的OLED阳极和第一复用电极,所述第一复用电极为参考电压线与触控驱动电极的复用;以及位于所述OLED阳极之上的第二复用电极,所述第二复用电极为OLED阴极与触控感测电极的复用;所述第一复用电极包括多行第一复用子电极,每行第一复用子电极为参考电压线与触控驱动电极的复用,所述多行第一复用子电极相互绝缘,每个第一复用子电极包括多个第一电极块,所述多个第一电极块相互导通,所述多个第一电极块呈阵列排布,所述OLED阳极包括多个OLED阳极块,每个所述第一电极块位于相邻的两个所述OLED阳极块之间。
2.如权利要求1所述的OLED触控基板,其特征在于,所述第二复用电极包括多列第二复用子电极,每列第二复用子电极为OLED阴极与触控感测电极的复用,所述多列第二复用子电极相互绝缘。
3.如权利要求2所述的OLED触控基板,其特征在于,每个第二复用子电极包括多个第二电极块,所述多个第二电极块相互导通。
4.如权利要求1~3中任一项所述的OLED触控基板,其特征在于,所述OLED阳极和第一复用电极均由透明导电材料形成;所述第二复用电极由金属形成。
5.如权利要求1~3中任一项所述的OLED触控基板,其特征在于,还包括位于OLED阳极和第二复用电极之间的有机层。
6.一种OLED触控基板的制造方法,其特征在于,包括:
提供玻璃基板;
在所述玻璃基板上形成像素电路;
在所述像素电路上形成OLED阳极和第一复用电极,所述第一复用电极为参考电压线与触控驱动电极的复用,所述第一复用电极包括多行第一复用子电极,每行第一复用子电极为参考电压线与触控驱动电极的复用,所述多行第一复用子电极相互绝缘,每个第一复用子电极包括多个第一电极块,所述多个第一电极块相互导通,所述多个第一电极块呈阵列排布,所述OLED阳极包括多个OLED阳极块,每个所述第一电极块位于相邻的两个所述OLED阳极块之间;
在所述OLED阳极之上形成第二复用电极,所述第二复用电极为OLED阴极与触控感测电极的复用。
7.如权利要求6所述的OLED触控基板的制造方法,其特征在于,所述OLED阳极和第一复用电极通过同一步刻蚀工艺形成。
8.一种如权利要求1~5中任一项所述的OLED触控基板的控制方法,其特征在于,包括:
当OLED触控基板处于非显示阶段:
第一复用电极作为触控驱动电极,输入触控驱动信号;
第二复用电极作为触控感测电极,输入触控感测信号;
当OLED触控基板处于显示阶段:
第一复用电极作为参考电压线,输入参考电压信号;
第二复用电极作为OLED阴极,输入图像信息。
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Assignee: Yungu (Gu'an) Technology Co., Ltd.|Bazhou Yungu Electronic Technology Co., Ltd.|Kunshan Institute of technology new flat panel display technology center Co., Ltd

Assignor: Kunshan Guo Xian Photoelectric Co., Ltd.

Contract record no.: X2019990000157

Denomination of invention: OLED touch substrate, and manufacturing method and control method thereof

License type: Common License

Record date: 20191031

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TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20191209

Address after: No. 2 Xiangshan Avenue, Yongning Street, Zengcheng District, Guangzhou, Guangdong province (the core of Zengcheng economic and Technological Development Zone)

Patentee after: Guangzhou Guoxian Technology Co., Ltd

Address before: 215300, No. 1, Longteng Road, Kunshan Development Zone, Jiangsu, Suzhou, 4

Patentee before: Kunshan Guo Xian Photoelectric Co., Ltd.