TW202003651A - 光學膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種能夠抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降之光學膜。 本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且耐衝擊性試驗中之凹陷量為15 μm以下。

Description

光學膜
本發明係關於一種被用作圖像顯示裝置之前面板等之光學膜、及具備該光學膜之軟性圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置等圖像顯示裝置被廣泛地活用於行動電話或智慧型手錶等各種用途。一直以來使用玻璃作為此種圖像顯示裝置之前面板，但由於玻璃非常剛直，容易破裂，故而難以用作例如軟性顯示器等之前面板材料。作為代替玻璃之材料之一，有聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂，研究有使用該等樹脂之光學膜(例如專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特表2015-521687號公報
[發明所欲解決之問題]
但是，根據本發明者之研究，已知由於被用作此種圖像顯示裝置之前面板材料之光學膜會由使用者直接接觸或與周圍之物體碰撞，故而若反覆進行該接觸或碰撞，則存在表面產生凹陷等損傷而光學特性下降之情形。
因此，本發明之目的在於提供一種能夠抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降之光學膜、及具備該光學膜之軟性圖像顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明者為了解決上述問題進行了銳意研究，結果發現若於包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂之光學膜中，耐衝擊性試驗中之凹陷量為15 μm以下，則能達成上述目的，從而完成了本發明。即，本發明中包含以下態樣。
[1]一種光學膜，其包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且耐衝擊性試驗中之凹陷量為15 μm以下。 [2]如[1]所記載之光學膜，其霧度為1%以下。 [3]如[1]或[2]所記載之光學膜，其黃色度為5以下。 [4]如[1]至[3]中任一項所記載之光學膜，其包含一次粒徑為25 nm以下之填料。 [5]如[1]至[4]中任一項所記載之光學膜，其膜厚為25～100 μm。 [6]一種軟性圖像顯示裝置，其具備如[1]至[5]中任一項所記載之光學膜。 [7]如[6]所記載之軟性圖像顯示裝置，其進而含有偏光板。 [8]如[6]或[7]所記載之軟性圖像顯示裝置，其進而含有觸控感測器。 [發明之效果]
本發明之光學膜由於能夠抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降，故而可用作圖像顯示裝置之前面板材料。
以下，對本發明之實施形態詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於此處所說明之實施形態，可於不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
[光學膜] 本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且耐衝擊性試驗中之凹陷量為15 μm以下。
耐衝擊性試驗中之凹陷量表示進行5次耐衝擊性試驗時之凹陷深度之平均值。耐衝擊性試驗中之凹陷深度表示於製作依序積層玻璃、黏著劑層及光學膜而成之積層體，並使重錘(質量4.6 g，碰撞部位為直徑0.75 mm之球狀，不鏽鋼製)自10 cm之高度掉落至積層體之光學膜面上時，使用光干涉膜厚計觀察所得之凹陷最大之點之深度(自試驗前之未凹陷之狀態之膜表面至凹陷最大之點為止之最短距離)。耐衝擊性試驗中之凹陷量例如可藉由實施例之＜耐衝擊性試驗＞之項所記載之方法進行測定。再者，耐衝擊性試驗亦可使用掉落試驗機等進行。
如上所述，耐衝擊性試驗中之凹陷量表示使特定之重錘碰撞膜表面時產生凹陷之程度，該凹陷量越小，則耐衝擊性越大、亦即物體碰撞光學膜表面時更容易抑制凹陷之產生或膜表面之形狀變化。本發明之光學膜係由於耐衝擊性試驗中之凹陷量小至15 μm以下，耐衝擊性優異，故而能夠抑制因物體反覆碰撞膜表面所引起之光學特性下降。又，若該凹陷量超過15 μm，則處於因物體之反覆碰撞所引起之膜表面之形狀變化相對變大，而光學特性大幅度下降之傾向。
耐衝擊性試驗中之凹陷量較佳為10 μm以下，更佳為5 μm以下。若該凹陷量為上述上限以下，則能有效地抑制因物體之反覆碰撞所引起之膜表面之形狀變化，能夠有效地抑制光學特性下降。
本發明之光學膜亦具有優異之光學特性。再者，於本說明書中，所謂光學特性，例如表示反射a﹡及反射b﹡、全光線透過率、黃色度(YI值)以及霧度等，所謂光學特性優異表示反射a﹡及反射b﹡接近0、霧度(Haze)及黃色度(YI值)較低、以及全光線透過率較高。又，由於本發明之光學膜表現出優異之光學特性、尤其是表現出較高之全光線透過率，故而例如於在軟性器件中，於獲得相同之亮度之情形時，可降低背光等之發光強度，因此可有助於節能。
本發明之光學膜之表面反射特性優異。此處，作為表示表面反射特性之參數，例如有反射a﹡(SCE)及反射b﹡(SCE)等表示反射色相之參數，且該反射a﹡越接近0，則光學膜之綠色或紅色等色調越少，該反射b﹡越接近0，則光學膜之藍色或黃色等色調越少而表示透明性良好。光學膜之反射a﹡(SCE)及反射b﹡(SCE)分別為藉由(Specular Component Excluded：去除正反射光)方式所求出之經光學膜反射之光之L﹡a﹡b﹡表色系(color system)中之a﹡及b﹡，於本說明書中，指對於自相對於與光學膜平面垂直之方向傾斜特定角度之方向入射之波長380～780 nm之範圍之入射光的反射光之中、除正反射光以外之擴散反射光之CIE1976L﹡a﹡b﹡表色系之a﹡值及b﹡值。本發明之光學膜之反射a﹡(SCE)較佳為-1～1，更佳為-0.5～0.5，進而較佳為-0.3～0.3，反射b﹡(SCE)較佳為-5～5，更佳為-3～3，進而較佳為-2～3，尤佳為-2～2。若光學膜之反射a﹡(SCE)及反射b﹡(SCE)為上述範圍，則透明性良好，於用於圖像顯示裝置之前面板之情形時，能夠表現出較高之視認性。再者，光學膜之反射a﹡(SCE)及反射b﹡(SCE)可使用分光測色計進行測定，例如可藉由實施例所記載之方法進行測定。
本發明之光學膜能夠抑制因物體碰撞所引起之膜表面之形狀變化，因此能夠有效地抑制因反覆碰撞所引起之光學特性下降，例如膜表面之反射色相之變化、例如反射a﹡及反射b﹡(SCE)之兩者之變化。此種膜特性可反覆進行20次自高度10 cm之位置使重錘(質量4.6 g，碰撞部位為直徑0.75 mm之球狀，不鏽鋼製)掉落至膜面上之直徑8 mm之範圍內之操作，並使用分光測色計，測定該操作前後之反射色相(反射a﹡及b﹡)而進行評估，例如可藉由實施例之＜衝擊疲勞試驗＞之項所記載之方法進行測定評估。於本發明之光學膜中，衝擊疲勞試驗前後之反射a﹡(SCE)之變化量(絕對值)較佳為0.16以下，更佳為0.10以下，進而較佳為0.05以下，進而更佳為0.03以下，尤佳為0.01以下，反射b﹡(SCE)之變化量(絕對值)較佳為0.35以下，更佳為0.30以下，進而較佳為0.25以下，尤佳為0.20以下。再者，衝擊疲勞試驗亦可使用掉落試驗機等進行。
於本發明之光學膜中，厚度50 μm時之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。若全光線透過率為上述下限以上，則透明性良好，於用於圖像顯示裝置之前面板之情形時，可有助於較高之視認性。又，全光線透過率之上限通常為100%以下。再者，全光線透過率可依據JIS K 7361-1：1997使用霧度計進行測定，例如可藉由實施例所記載之方法進行測定。
本發明之光學膜之黃色度(YI值)較佳為5以下，更佳為3以下，進而較佳為2.5以下。若光學膜之黃色度為上述上限以下，則透明性良好，於用於圖像顯示裝置之前面板之情形時，可有助於較高之視認性。又，黃色度通常為-5以上，較佳為-2以上。再者，黃色度(YI值)可使用紫外可見近紅外分光光度計進行對於300～800 nm之光之透過率測定，求出三刺激值(X、Y、Z)，並基於YI＝100×(1.2769X－1.0592Z)/Y之式而算出。黃色度例如可藉由實施例所記載之方法進行測定。
本發明之光學膜之霧度較佳為1%以下，更佳為0.5%以下，進而較佳為0.2%以下。若光學膜之霧度為上述上限以下，則透明性良好，於用於圖像顯示裝置之前面板之情形時，可有助於較高之視認性。又，霧度之下限值通常為0.01%以上。再者，霧度可依據JIS K 7136：2000使用霧度計進行測定，例如可藉由實施例所記載之方法進行測定。
本發明之光學膜之膜厚較佳為25 μm以上，更佳為30 μm以上，且較佳為100 μm以下，更佳為80 μm以下，進而較佳為60 μm以下，可為該等上限與下限之組合。若光學膜之厚度為上述範圍，則容易抑制物體之反覆碰撞後之光學特性下降。再者，光學膜之膜厚可使用測微計進行測定，例如可藉由實施例所記載之方法進行測定。
＜樹脂＞ 本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂。
所謂聚醯亞胺系樹脂，表示選自由含有含亞胺基之重複結構單元之聚合物及含有含亞胺基及醯胺基之兩者之重複結構單元之聚合物(有時稱為聚醯胺醯亞胺)所組成之群中之至少1種聚合物。又，所謂聚醯胺系樹脂，表示含有含醯胺基之重複結構單元之聚合物。再者，於本說明書中，有時將重複結構單元稱為結構單元。
聚醯亞胺系樹脂較佳為具有式(10)所示之重複結構單元。此處，G為四價有機基，A為二價有機基。聚醯亞胺系樹脂亦可包含G及/或A不同之2種以上之式(10)所示之重複結構單元。 [化1]
Figure 02_image001
聚醯亞胺系樹脂亦可於不損害光學膜之各種物性之範圍內包含選自由式(11)、式(12)及式(13)所示之重複結構單元所組成之群中之1種以上。
[化2]
Figure 02_image003
式(10)及式(11)中，G及G1 分別獨立地為四價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G及G1 ，例示有式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所示之基以及四價之碳數6以下之鏈式烴基。就容易抑制光學膜之黃色度(YI值)之方面而言，其中較佳為式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)或式(27)所示之基。
[化3]
Figure 02_image005
式(20)～式(29)中， ﹡表示鍵結鍵， Z表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-。Ar表示可經氟原子取代之碳數6～20之伸芳基，作為具體例，可列舉伸苯基。
式(12)中，G2 為三價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G2 ，例示有式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所示之基之鍵結鍵中之任一個經氫原子取代之基及三價之碳數6以下之鏈式烴基。
式(13)中，G3 為二價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G3 ，例示有式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所示之基之鍵結鍵中之不相鄰之2個經氫原子取代之基及碳數6以下之鏈式烴基。
式(10)～式(13)中，A、A1 、A2 及A3 分別獨立地為二價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為A、A1 、A2 及A3 ，例示有式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)或式(38)所示之基；其等經甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代之基；及碳數6以下之鏈式烴基。
[化4]
Figure 02_image007
式(30)～式(38)中， ﹡表示鍵結鍵， Z1 、Z2 及Z3 分別獨立地表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或-CO-。 一例係Z1 及Z3 為-O-，且Z2 為-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -或-SO2 -。Z1 與Z2 於各環上之鍵結位置、及Z2 與Z3 於各環上之鍵結位置分別較佳為各環上之間位或對位。
於本發明之一實施態樣中，聚醯亞胺系樹脂係就易於提高耐衝擊性之觀點而言，較佳為至少具有式(10)所示之重複結構單元及式(13)所示之重複結構單元之聚醯胺醯亞胺。又，聚醯胺系樹脂較佳為至少具有式(13)所示之重複結構單元。
於本發明之一實施態樣中，樹脂可包含複數種G3 ，複數種G3 相互可相同，亦可不同。尤其是，就提高所獲得之光學膜之表面硬度、耐衝擊性及耐撓曲性之觀點而言，G3 中之至少一部分較佳為式(3) [化5]
Figure 02_image009
[式(3)中，R1 ～R8 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，R1 ～R8 所包含之氫原子可分別獨立地被取代為鹵素原子。 B表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-，R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之烴基。 n為0～4之整數， ﹡表示鍵結鍵] 所示之結構單元。
式(3)中，B分別獨立地表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-，就提高光學膜之耐衝擊性及耐撓曲性之觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為表示-O-。R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基等。又，作為碳數6～12之芳基，例如可列舉：苯基、家苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。就光學膜之表面硬度、耐衝擊性及柔軟性之觀點而言，R1 ～R8 較佳為分別獨立地表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，進而較佳為表示氫原子。此處，R1 ～R8 所包含之氫原子可分別獨立地被取代為鹵素原子。 R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之烴基。作為碳數1～12之一價烴基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，其等可經鹵素原子取代。作為上述鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
式(3)中，n為0～4之範圍之整數，若n為該範圍內，則光學膜之耐衝擊性、耐撓曲性及彈性模數良好。又，式(3)中，n較佳為0～3之範圍之整數，更佳為0～2之範圍之整數，進而較佳為0或1，若n為該範圍內，則光學膜之耐衝擊性、耐撓曲性及彈性模數良好，同時原料之獲得性相對良好。又，G3 可包含1種或2種以上之式(3)所示之結構單元，就提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐撓曲性以及降低黃色度(YI值)之觀點而言，尤其是可包含n之值不同之2種以上之結構單元、較佳為n之值不同之2種結構單元。於該情形時，就光學膜容易表現出較高之彈性模數、耐衝擊性、耐撓曲性及較低之黃色度(YI值)之觀點而言，較佳為包含n為0及1之結構單元兩者。
於本發明之較佳實施態樣中，式(3)係n＝0且R1 ～R8 為氫原子之結構單元或式(3')： [化6]
Figure 02_image011
所示之結構單元，亦可併用其等。於該情形時，光學膜能夠發揮較高之表面硬度及耐衝擊性，同時具有較高之耐撓曲性，能夠降低黃色度。
於本發明之較佳實施態樣中，相對於聚醯亞胺系樹脂之式(10)所示之結構單元及式(13)所示之結構單元之合計，n為0～4之情形時之式(3)所示之結構單元較佳為20莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，進而較佳為40莫耳%以上，尤佳為50莫耳%以上，最佳為60莫耳%以上，且較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而較佳為80莫耳%以下。若相對於聚醯亞胺系樹脂中之式(10)所示之結構單元及式(13)所示之結構單元之合計，n為0～4之情形時之式(3)所示之結構單元為上述下限以上，則光學膜能夠表現出較高之表面硬度及耐衝擊性，並且能夠使耐撓曲性或彈性模數優異。若相對於聚醯亞胺系樹脂中之式(10)所示之結構單元及式(13)所示之結構單元之合計，n為0～4之情形時之式(3)所示之結構單元為上述上限以下，則可藉由抑制來自式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所造成之增黏，而抑制聚醯亞胺系樹脂清漆之黏度，能夠使光學膜之加工變得容易。
於本發明之較佳實施態樣中，相對於聚醯亞胺系樹脂之式(10)所示之結構單元及式(13)所示之結構單元之合計，式(3)之n由1～4表示之結構單元較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為7莫耳%以上，尤佳為9莫耳%以上，且較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，尤佳為30莫耳%以下。若相對於聚醯亞胺系樹脂中之式(10)所示之結構單元及式(13)所示之結構單元之合計，式(3)之n由1～4表示之結構單元為上述下限以上，則光學膜能夠表現出較高之表面硬度及耐衝擊性，並且能夠進一步提高耐撓曲性。若相對於聚醯亞胺系樹脂中之式(10)所示之結構單元及式(13)所示之結構單元之合計，式(3)之n由1～4表示之結構單元為上述上限以下，則可藉由抑制來自式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所造成之增黏，而抑制聚醯亞胺系樹脂清漆之黏度，能夠使光學膜之加工變得容易。再者，式(3)所示之結構單元之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之饋入比而算出。
於本發明之較佳實施態樣中，上述聚醯亞胺系樹脂之G3 之較佳為5莫耳%以上、更佳為8莫耳%以上、進而較佳為10莫耳%以上、尤佳為12莫耳%以上由n為1～4之情形時之式(3)表示。若聚醯亞胺系樹脂之G3 之上述下限以上由n為1～4之情形時之式(3)表示，則光學膜能夠表現出較高之表面硬度及耐衝擊性，同時具有較高之耐撓曲性。又，較佳為聚醯亞胺系樹脂中之G3 之較佳為90莫耳%以下、更佳為70莫耳%以下、進而較佳為50莫耳%以下、尤佳為30莫耳%以下由n為1～4之情形時之式(3)表示。若聚醯亞胺系樹脂之G3 之上述上限以下由n為1～4之情形時之式(3)表示，則可藉由抑制來自式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所造成之增黏，而抑制樹脂清漆之黏度，能夠使光學膜之加工變得容易。
於本發明之較佳實施態樣中，上述聚醯亞胺系樹脂中之G3 之較佳為30莫耳%以上、更佳為50莫耳%以上、尤佳為70莫耳%以上由n為0～4之情形時之式(3)表示。若聚醯亞胺系樹脂之G3 之上述下限值以上由n為0～4之情形時之式(3)表示，則光學膜能夠表現出較高之表面硬度及耐衝擊性，同時具有較高之耐撓曲性。又，較佳為聚醯亞胺系樹脂中之G3 之較佳為100莫耳%以下由n為0～4之情形時之式(3)表示。若聚醯亞胺系樹脂之G3 之上述上限值以下由n為0～4之情形時之式(3)表示，則可藉由抑制來自式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所造成之增黏，而抑制樹脂清漆之黏度，能夠使光學膜之加工變得容易。再者，聚醯亞胺系樹脂中之式(3)所示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之饋入比而算出。
於本發明之較佳實施態樣中，式(10)及式(13)中之複數個A及A3 中之至少一部分係式(4)： [化7]
Figure 02_image013
[式(4)中，R10 ～R17 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，R10 ～R17 所包含之氫原子可分別獨立地被取代為鹵素原子，﹡表示鍵結鍵] 所示之結構單元。若式(10)及(13)中之複數個A及A3 中之至少一部分為式(4)所示之基，則光學膜能夠表現出較高之表面硬度及耐衝擊性，同時能夠具有較高之透明性。
式(4)中，R10 、R11 、R12 、R13 、R14 、R15 、R16 及R17 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，可列舉式(3)中之作為碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基所例示者。R10 ～R17 較佳為分別獨立地表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R10 ～R17 所包含之氫原子可分別獨立地被取代為鹵素原子。作為鹵素原子，例如可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。R10 ～R17 就光學膜之表面硬度、耐衝擊性、透明性及耐撓曲性之觀點而言，進而較佳為分別獨立地為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R10 、R12 、R13 、R14 、R15 及R16 為氫原子，R11 及R17 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，R11 及R17 尤佳為甲基或三氟甲基。
於本發明之較佳實施態樣中，式(4)所示之結構單元係式(4')： [化8]
Figure 02_image015
所示之結構單元，即，複數個A及A3 中之至少一部分為式(4')所示之結構單元。於該情形時，光學膜表現出較高之透明性，同時藉由含有氟元素之骨架提高該樹脂於溶劑中之溶解性，能夠將樹脂清漆之黏度抑制為較低，能夠使光學膜之加工變得容易。
於本發明之較佳實施態樣中，上述樹脂中之A及A3 之較佳為30莫耳%以上、更佳為50莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(4)、尤其是式(4')表示。若上述樹脂中之上述範圍內之A及A3 由式(4)、尤其是式(4')表示，則光學膜表現出較高之透明性，同時藉由含有氟元素之骨架提高該樹脂於溶劑中之溶解性，能夠將樹脂清漆之黏度抑制為較低，且能夠使光學膜之加工變得容易。再者，較佳為上述樹脂中之A及A3 之100莫耳%以下由式(4)、尤其是式(4')表示。上述樹脂中之A及A3 可為式(4)，尤其是式(4')。上述樹脂中之A及A3 之式(4)所示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之饋入比而算出。
於本發明之較佳實施態樣中，式(10)中之複數個G中之至少一部分係式(5)： [化9]
Figure 02_image017
[式(5)中，R18 ～R25 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，R18 ～R25 所包含之氫原子可分別獨立地被取代為鹵素原子，﹡表示鍵結鍵] 所示之結構單元。若式(10)中之複數個G中之至少一部分為式(5)所示之基，則光學膜表現出較高之透明性，同時提高聚醯亞胺系樹脂於溶劑中之溶解性，能夠將樹脂清漆之黏度抑制為較低，且能夠使光學膜之加工變得容易。
式(5)中，R18 、R19 、R20 、R21 、R22 、R23 、R24 及R25 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，可列舉式(3)中之作為碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基所例示者。R18 ～R25 較佳為分別獨立地表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R18 ～R25 所包含之氫原子可分別獨立地被取代為鹵素原子。作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。R18 ～R25 就易於提高光學膜之表面硬度、耐撓曲性及透明性之觀點而言，進而較佳為分別獨立地為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，進而更佳為R18 、R19 、R20 、R23 、R24 及R25 為氫原子，R21 及R22 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，R21 及R22 尤佳為甲基或三氟甲基。
於本發明之較佳實施態樣中，式(5)所示之結構單元係式(5')： [化10]
Figure 02_image019
所示之結構單元，即，複數個G中之至少一部分為式(5')所示之結構單元。於該情形時，光學膜可具有較高之透明性。
於本發明之較佳實施態樣中，上述聚醯亞胺系樹脂中之G之較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上由式(5)、尤其是式(5')表示。若上述聚醯亞胺系樹脂中之上述範圍內之G由式(5)、尤其是式(5')表示，則光學膜能夠具有較高之透明性，進而藉由含有氟元素之骨架提高該聚醯亞胺系樹脂於溶劑中之溶解性，能夠將樹脂清漆之黏度抑制為較低，且光學膜之製造較為容易。再者，較佳為上述聚醯亞胺系樹脂中之G之100莫耳%以下由式(5)、尤其是式(5')表示。上述聚醯亞胺系樹脂中之G可為式(5)、尤其是式(5')。上述聚醯亞胺系樹脂中之G之式(5)所示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR進行測定，或者亦可根據原料之饋入比而算出。
於本發明之一實施態樣中，聚醯亞胺系樹脂係使二胺及四羧酸化合物(醯氯化合物、四羧酸二酐等四羧酸化合物類似物)、以及視需要之二羧酸化合物(醯氯化合物等二羧酸化合物類似物)、三羧酸化合物(醯氯化合物、三羧酸酐等三羧酸化合物類似物)等進行反應(縮聚)而獲得之縮合型高分子。式(10)或式(11)所示之重複結構單元通常由二胺及四羧酸化合物衍生而來。式(12)所示之重複結構單元通常由二胺及三羧酸化合物衍生而來。式(13)所示之重複結構單元通常由二胺及二羧酸化合物衍生而來。
於本發明之一實施態樣中，聚醯胺系樹脂係使二胺與二羧酸化合物進行反應(縮聚)而獲得之縮合型高分子。即，式(13)所示之重複結構單元通常由二胺及二羧酸化合物衍生而來。
作為四羧酸化合物，可列舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物。四羧酸化合物可單獨使用，亦可併用2種以上。四羧酸化合物係除二酐以外，亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物類似物。
作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐(有時亦記載為BPDA)、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)。其等可單獨或組合2種以上而使用。
作為脂肪族四羧酸二酐，可列舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。所謂環式脂肪族四羧酸二酐係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可列舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛烷-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基3,3'-4,4'-四羧酸二酐及其等之位置異構物。其等可單獨或組合2種以上而使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可列舉：1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，其等可單獨或組合2種以上而使用。又，亦可組合環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐而使用。
上述四羧酸二酐之中，就高透明性及低著色性之觀點而言，較佳為1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛烷-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及其等之混合物。又，作為四羧酸，亦可使用上述四羧酸化合物之酐之水加成物。
作為三羧酸化合物，可列舉：芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及其等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可併用2種以上。 作為具體例，可列舉：1,2,4-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸藉由單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結而成之化合物。
作為二羧酸化合物，可列舉：芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及其等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可將其等併用2種以上。作為其等之具體例，可列舉：對苯二甲醯二氯；間苯二甲醯二氯；萘二甲醯二氯；4,4'-聯苯二甲醯二氯；3,3'-聯苯二甲醯二氯；4,4'-氧雙(苯甲醯氯)(OBBC)；碳數8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及2個苯甲酸藉由單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結而成之化合物。該等二羧酸化合物之中，更佳為對苯二甲醯氯及4,4'-氧雙(苯甲醯氯)。該等二羧酸可單獨或組合2種以上而使用。
作為二胺，例如可列舉：脂肪族二胺、芳香族二胺或其等之混合物。再者，本實施形態中，所謂「芳香族二胺」，表示胺基直接鍵結於芳香環之二胺，於其結構之一部分可包含脂肪族基或其他取代基。芳香環可為單環，亦可為縮合環，例示有苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並非限定於其等。其等之中，芳香環較佳為苯環。又，所謂「脂肪族二胺」，表示胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，於其結構之一部分可包含芳香環或其他取代基。
作為脂肪族二胺，例如可列舉：己二胺等非環式脂肪族二胺及1,3-雙(胺甲基)環己烷、1,4-雙(胺甲基)環己烷、降𦯉烷二胺、4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。其等可單獨或組合2種以上而使用。
作為芳香族二胺，例如可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺；4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯基丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯碸、3,4'-二胺基二苯碸、3,3'-二胺基二苯碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、4,4'-二胺基二苯碸、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺(2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基二苯基(TFMB))、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯甲烷、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上之芳香環之芳香族二胺。其等可單獨或組合2種以上而使用。
上述二胺之中，就高透明性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群中之1種以上。進而較佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯醚所組成之群中之1種以上，進而更佳為使用2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺。
聚醯亞胺系樹脂係藉由將上述二胺、四羧酸化合物、三羧酸化合物、二羧酸化合物等各原料利用慣用之方法、例如攪拌等方法混合之後，將所獲得之中間物於醯亞胺化觸媒及視需要之脫水劑之存在下進行醯亞胺化而獲得。聚醯胺系樹脂係藉由將上述二胺、二羧酸化合物等各原料利用慣用之方法、例如攪拌等方法混合而獲得。
作為醯亞胺化步驟中所使用之醯亞胺化觸媒，並無特別限定，例如可列舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等芳香族胺。
作為醯亞胺化步驟中所使用之脫水劑，並無特別限定，例如可列舉：乙酸酐、丙酸酐、異丁酸酐、三甲基乙酸酐、丁酸酐、異戊酸酐等。
於各原料之混合及醯亞胺化步驟中，反應溫度並無特別限定，例如為15～350℃，較佳為20～100℃。反應時間亦無特別限定，例如為10分鐘～10小時左右。視需要，可於惰性氣氛或減壓之條件下進行反應。又，反應可於溶劑中進行，作為溶劑，例如可列舉作為清漆之製備所使用之溶劑所例示者。於反應後，精製聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂。作為精製方法，例如可列舉如下方法等，即：於反應液中添加不良溶劑並藉由再沈澱法使樹脂析出，進行乾燥並取出沈澱物，視需要利用甲醇等溶劑將沈澱物洗淨並使其乾燥。 再者，聚醯亞胺系樹脂之製造例如亦可參照日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報所記載之製造方法。又，聚醯亞胺系樹脂亦可使用市售品，作為其具體例，可列舉：三菱瓦斯化學(股)製造之Neopulim(註冊商標)、河村產業(股)製造之KPI-MX300F等。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為100,000以上，更佳為150,000以上，進而較佳為200,000以上，進而更佳為250,000以上，尤佳為300,000以上，且較佳為600,000以下，更佳為500,000以下。有聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量越大，則膜化時越容易表現出較高之耐衝擊性及耐撓曲性之傾向。因此，就容易提高光學膜之耐衝擊性及耐撓曲性之觀點而言，重量平均分子量較佳為上述下限以上。另一方面，有聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量越小，則越容易降低清漆之黏度，越容易提高加工性之傾向。又，有容易提高聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之延伸性之傾向。因此，就加工性及延伸性之觀點而言，重量平均分子量較佳為上述上限以下。再者，於本案中，重量平均分子量可進行凝膠滲透層析法(GPC)測定，並藉由標準聚苯乙烯換算而求出，例如可藉由實施例中記載之方法而算出。
聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率較佳為95～100%，更佳為97～100%，進而較佳為98～100%，尤佳為100%。就清漆之穩定性、獲得之光學膜之機械物性之觀點而言，醯亞胺化率較佳為上述下限以上。再者，醯亞胺化率可藉由IR(infrared，紅外線)法、NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)法等而求出。就上述觀點而言，清漆中所包含之聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率較佳為上述範圍內。
於本發明之較佳之一實施形態中，本發明之光學膜所包含之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂例如可包含可藉由上述含氟取代基等而導入之氟原子等鹵素原子。於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂包含鹵素原子之情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性及彈性模數並且降低黃色度(YI值)。若光學膜之耐衝擊性及彈性模數較高，則容易抑制該膜中之損傷及皺褶等之產生，又，若光學膜之黃色度較低，則容易提高該膜之透明性。鹵素原子較佳為氟原子。作為為了使聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂含有氟原子而較佳之含氟取代基，例如可列舉氟基及三氟甲基。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之鹵素原子之含量係以聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之質量為基準，較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而更佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量為1質量%以上，則容易進一步提高膜化時之耐衝擊性及彈性模數，降低吸水率，進一步降低黃色度(YI值)，進一步提高透明性。若鹵素原子之含量超過40質量%，則存在難以合成之情形。
於聚醯亞胺系樹脂為聚醯胺醯亞胺之情形時，式(13)所示之結構單元之含量係相對於式(10)所示之結構單元1莫耳，較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，進而較佳為1.0莫耳以上，尤佳為1.5莫耳以上，且較佳為6.0莫耳以下，更佳為5.0莫耳以下，進而較佳為4.5莫耳以下。若式(13)所示之結構單元之含量為上述下限值以上，則光學膜容易表現出較高之表面硬度、耐衝擊性及耐撓曲性。又，若式(13)所示之結構單元之含量為上述上限值以下，則能夠抑制式(13)中之醯胺鍵間之氫鍵所造成之增黏，而降低樹脂清漆之黏度，從而光學膜之製造較為容易。
於本發明之一實施形態中，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量係以光學膜之總質量為基準，較佳為40質量%以上，更佳為50質量%以上，進而較佳為70質量%以上。聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量為上述下限以上係就易於提高耐衝擊性及耐撓曲性等之觀點而言較佳。再者，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量係以光學膜之總質量為基準，通常為100質量%以下。
＜填料＞ 本發明之光學膜可包含填料。作為填料，例如可列舉：有機粒子、無機粒子等，尤其是，較佳為無機粒子。作為無機粒子，可列舉：二氧化矽、氧化鋯、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物粒子、氟化鎂、氟化鈉等金屬氟化物粒子等，其等之中，就容易抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降之觀點而言，較佳為二氧化矽粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子，尤佳為二氧化矽粒子。該等填料可單獨或組合2種以上而使用。
填料、較佳為二氧化矽粒子之一次粒徑較佳為1 nm以上，更佳為3 nm以上，進而較佳為5 nm以上，尤佳為7 nm以上，且較佳為25 nm以下，更佳為20 nm以下，進而較佳為15 nm，進而更佳為12 nm以下，尤佳為未達12 nm，可為該等上限與下限之組合。若二氧化矽粒子之一次粒徑為上述下限以上，則容易抑制二氧化矽粒子之凝聚，提高光學膜之光學特性，若為上述上限以下，則容易抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降。填料之一次粒徑可藉由BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法進行測定。再者，亦可藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描式電子顯微鏡(SEM)之圖像解析，測定填料之一次粒徑(平均一次粒徑)。
於本發明之較佳實施態樣中，光學膜包含聚醯胺系樹脂及一次粒徑為1～25 nm之填料。又，於本發明之較佳態樣中，光學膜包含聚醯亞胺系樹脂及一次粒徑為5～20 nm之填料。該等較佳實施態樣中之光學膜能夠有效地抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降。
填料、較佳為二氧化矽粒子之含量係相對於光學膜之質量，較佳為1質量%以上，更佳為5質量%以上，進而較佳為10質量%以上，尤佳為20質量%以上，且較佳為60質量%以下，更佳為50質量%以下，進而較佳為45質量%以下，尤佳為40質量%以下，可為該等上限與下限之組合。若填料之含量為上述下限以上，則易於提高光學膜之耐衝擊性，若為上述上限以下，則易於提高光學膜之光學特性。再者，可藉由調整光學膜之組成、例如光學膜所包含之樹脂之重複結構之種類或構成比、及光學膜所包含之填料等之種類、一次粒徑及含量等，而將耐衝擊試驗中之凹陷量調整為15 μm以下。
本發明之光學膜可包含除上述樹脂及上述填料以外之其他添加劑。作為其他添加劑，例如可列舉：調平劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、上藍劑、塑化劑、界面活性劑等。該等其他添加劑可單獨或組合2種以上而使用。於光學膜包含其他添加劑之情形時，其他添加劑之含量可相對於光學膜之質量，例如為0.01～20質量份，較佳為0.1～10質量份左右。
[光學膜之製造方法] 本發明之光學膜並無特別限定，例如可藉由包含以下步驟之方法而製造，即： (a)製備包含上述樹脂及視需要之上述填料及上述其他添加劑之液體(有時稱為清漆)之步驟(清漆製備步驟)、 (b)將清漆塗佈於基材而形成塗膜之步驟(塗佈步驟)、及 (c)使所塗佈之液體(塗膜)乾燥而形成光學膜之步驟(光學膜形成步驟)。
於清漆製備步驟中，藉由將上述樹脂溶解於溶劑，添加上述填料及視需要之其他添加劑，並進行攪拌混合，而製備清漆。再者，於使用二氧化矽粒子作為填料之情形時，亦可將利用能夠使上述樹脂溶解之溶劑、例如下述清漆之製備所使用之溶劑置換包含二氧化矽粒子之矽溶膠之分散液所得之矽溶膠添加至樹脂。
清漆之製備所使用之溶劑只要能夠使上述樹脂溶解，則並無特別限定。作為該溶劑，例如可列舉：N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；γ-丁內酯、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及其等之組合。其等之中，較佳為醯胺系溶劑或內酯系溶劑。該等溶劑可單獨或組合兩種以上而使用。又，清漆中亦可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～15質量%。
於塗佈步驟中，藉由公知之塗佈方法，於基材上塗佈清漆而形成塗膜。作為公知之塗佈方法，例如可列舉：線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥式塗佈法、狹縫塗佈法、缺角輪塗佈法、唇模塗佈(lipcoat)法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流涎成形法等。
於光學膜形成步驟中，藉由使塗膜乾燥，並將其自基材剝離，可形成光學膜。亦可於剝離後進一步進行使光學膜乾燥之乾燥步驟。塗膜之乾燥通常可以50～350℃之溫度進行。視需要，可於惰性氣氛或減壓之條件下進行塗膜之乾燥。
作為基材之例，可列舉：PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜、PEN(聚2,6萘二甲酸乙二酯)膜、其他聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂膜等。其中，就耐熱性優異之觀點而言，較佳為PET膜、PEN膜等，進而就與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳為PET膜。
本發明之光學膜之用途並無特別限定，可用於各種用途。本發明之光學膜可如上所述般為單層，亦可為積層體，亦可直接使用本發明之光學膜，進而還可以與其他膜之積層體之形式使用。再者，於光學膜為積層體之情形時，包含積層於光學膜之單面或兩面之所有層在內稱為光學膜。
於本發明之光學膜為積層體之情形時，較佳為於光學膜之至少一面具有1個以上之功能層。作為功能層，例如可列舉：紫外線吸收層、底塗層、阻氣層、黏著層、色相調整層、折射率調整層、硬塗層等。功能層可單獨或組合兩種以上而使用。
紫外線吸收層係具有紫外線吸收之功能之層，例如包含選自紫外線硬化型透明樹脂、電子束硬化型透明樹脂及熱硬化型透明樹脂之主材、及分散於該主材之紫外線吸收劑。
黏著層係具有黏著性之功能之層，具有使光學膜接著於其他構件之功能。作為黏著層之形成材料，可使用通常已知者。例如，可使用熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物。於該情形時，可藉由事後供給能量而將熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物高分子化並使其硬化。
黏著層亦可為被稱為感壓型接著劑(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)之藉由按壓而貼合於對象物之層。感壓型接著劑可為作為「於常溫下具有黏著性，藉由較輕之壓力而接著於被接著材之物質」(JIS K 6800)之黏著劑，亦可為作為「將特定成分內容於保護被膜(微膠囊)，且於藉由適當之方法(壓力、熱等)破壞被膜之前能夠保持穩定性之接著劑」(JIS K 6800)之膠囊型接著劑。
色相調整層係具有色相調整之功能之層，且為能夠將光學膜調整為目標色相之層。色相調整層例如為含有樹脂及著色劑之層。作為該著色劑，例如可列舉：氧化鈦、氧化鋅、紅丹、氧鈦系燒成顏料、群青、鋁酸鈷及碳黑等無機顏料；偶氮系化合物、喹吖酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、異吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、蒽系化合物及吡咯并吡咯二酮系化合物等有機顏料；硫酸鋇及碳酸鈣等體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料及媒染染料等染料。
折射率調整層係具有折射率調整之功能之層，例如為具有與單層之光學膜不同之折射率，且能夠對光學膜賦予特定之折射率之層。折射率調整層例如可為含有適當選擇之樹脂、及視情形進而含有顏料之樹脂層，亦可為金屬薄膜。作為調整折射率之顏料，例如可列舉：氧化矽、氧化鋁、氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鋯及氧化鉭。該顏料之平均一次粒徑可為0.1 μm以下。藉由將顏料之平均一次粒徑設為0.1 μm以下，能夠防止透過折射率調整層之光之漫反射，防止透明度下降。作為折射率調整層中所使用之金屬，例如可列舉：氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化矽、氧化銦、氮氧化鈦、氮化鈦、氮氧化矽、氮化矽等金屬氧化物或金屬氮化物。
硬塗層可使包含能夠藉由活性能量線照射或熱能量賦予而形成交聯結構之反應性材料之硬塗組合物硬化而形成，較佳為利用活性能量線照射者。活性能量線被定義為能夠使可產生活性種之化合物分解而產生活性種之能量線，可列舉：可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等，可較佳地列舉紫外線。上述硬塗組合物含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少1種聚合物。
上述自由基聚合性化合物為具有自由基聚合性基之化合物。作為上述自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基，只要為能夠發生自由基聚合反應之官能基即可，可列舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可列舉：乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。再者，於上述自由基聚合性化合物具有2個以上之自由基聚合性基之情形時，該等自由基聚合性基之各者可相同，亦可不同。上述自由基聚合性化合物於1分子中具有之自由基聚合性基之個數係就提高硬塗層之硬度之方面而言，較佳為2個以上。作為上述自由基聚合性化合物，就高反應性之方面而言，可較佳地列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言可列舉：於1分子中具有2～6個(甲基)丙烯醯基之被稱為多官能丙烯酸酯單體之化合物、或被稱為環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯之於分子內具有數個(甲基)丙烯醯基之分子量為數百至數千之低聚物，可較佳地列舉選自環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯之1種以上。
上述陽離子聚合性化合物係具有環氧基、氧雜環丁基、乙烯醚基等陽離子聚合性基之化合物。上述陽離子聚合性化合物於1分子中具有之陽離子聚合性基之個數係就提高硬塗層之硬度之方面而言，較佳為2個以上，更佳為3個以上。 又，作為上述陽離子聚合性化合物，其中，較佳為具有環氧基及氧雜環丁基中之至少1種作為陽離子聚合性基之化合物。環氧基、氧雜環丁基等環狀醚基係就伴隨聚合反應之收縮較小之方面而言較佳。又，具有環狀醚基中之環氧基之化合物有容易獲得多種結構之化合物，不會對所獲得之硬塗層之耐久性造成不良影響，與自由基聚合性化合物之相溶性亦容易控制之優點。又，環狀醚基中之氧雜環丁基係與環氧基相比具有如下等優點：聚合度容易變高，毒性低，使自所獲得之硬塗層之陽離子聚合性化合物獲得之網狀結構形成速度加快，於與自由基聚合性化合物混合存在之區域中亦使未反應之單體不殘留於膜中而是形成獨立之網狀結構。 作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，例如可列舉：藉由將具有脂環族環之多元醇之聚縮水甘油醚、或含有環己烯環、環戊烯環之化合物利用過氧化氫、過酸等適當之氧化劑進行環氧化而獲得之脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂；藉由雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等雙酚類、或其等之環氧烷加成物、己內酯加成物等衍生物與表氯醇之反應所製造之縮水甘油醚、及酚醛環氧樹脂等，且為由雙酚類衍生而來之縮水甘油醚型環氧樹脂等。
上述硬塗組合物可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可列舉：自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱中之至少一者而分解，產生自由基或陽離子而使自由基聚合及陽離子聚合進行。 自由基聚合起始劑只要能夠藉由活性能量線照射及加熱中之至少一者而釋出使自由基聚合開始之物質即可。例如，作為熱自由基聚合起始劑，可列舉：過氧化氫、過苯甲酸等有機過氧化物、偶氮雙丁腈等偶氮化合物等。 作為活性能量線自由基聚合起始劑，有藉由分子之分解而生成自由基之Type1型自由基聚合起始劑、及與三級胺共存並藉由奪氫型反應而生成自由基之Type2型自由基聚合起始劑，其等可單獨或併用而使用。 陽離子聚合起始劑只要能夠藉由活性能量線照射及加熱中之至少任一者而釋出使陽離子聚合開始之物質即可。作為陽離子聚合起始劑，可使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。其等係根據結構之差異而可藉由活性能量線照射或加熱中之任一者或兩者開始陽離子聚合。
上述聚合起始劑之含量係相對於上述硬塗組合物全體100質量%而較佳為0.1～10質量%。若上述聚合起始劑之含量處於上述範圍，則可使硬化充分地進行，可將最終獲得之塗膜之機械物性或密接力設為良好之範圍，又，有變得不易產生因硬化收縮所導致之接著力不良或破裂現象及捲縮現象之傾向。
上述硬塗組合物可進而包含選自進而由溶劑、添加劑所組成之群中之一種以上。 上述溶劑係可使上述聚合性化合物及聚合起始劑溶解或分散者，只要為作為本技術領域之硬塗組合物之溶劑而已知之溶劑，則可於不損害本發明之效果之範圍內使用。 上述添加劑可進而包含：無機粒子、調平劑、穩定劑、界面活性劑、抗靜電劑、潤滑劑、防污劑等。
硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為2～100 μm。若上述硬塗層之厚度處於上述範圍內，則能夠確保充分之耐擦傷性，且有耐撓曲性不易下降，不易產生因硬化收縮所導致之捲縮產生之問題的傾向。
光學膜可進而包含保護膜。保護膜可積層於光學膜之單面或兩面。於在光學膜之單面具有功能層之情形時，保護膜可積層於光學膜側之表面或功能層側之表面，亦可積層於光學膜側及功能層側之兩者。於在光學膜之兩面具有功能層之情形時，保護膜可積層於單側之功能層側之表面，亦可積層於兩側之功能層側之表面。保護膜係用以暫時性地保護光學膜或功能層之表面之膜，只要為能夠保護光學膜或功能層之表面且能夠剝離之膜，則並無特別限定。作為保護膜，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯膜等聚烯烴系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜等，較佳為選自由聚烯烴系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜及丙烯酸系樹脂膜所組成之群。於光學膜具有2個保護膜之情形時，各保護膜可相同或不同。
保護膜之厚度並非特別限定者，通常為10～100 μm，較佳為10～80 μm，更佳為10～50 μm。於光學膜具有2個保護膜之情形時，各保護膜之厚度可相同，亦可不同。
本發明之光學膜係由於即便物體碰撞表面，亦能維持優異之光學特性，故而可較佳地用作圖像顯示裝置等中之光學膜。本發明之光學膜可較佳地用作圖像顯示裝置之前面板，尤其是作為軟性圖像顯示裝置(軟性顯示器)之前面板(視窗膜)有用。軟性顯示器例如具有軟性功能層、及重疊於軟性功能層且作為前面板發揮功能之光學膜。即，軟性顯示器之前面板配置於軟性功能層之上之視認側。該前面板具有保護軟性功能層之功能。
作為圖像顯示裝置，可列舉：電視、智慧型手機、行動電話、汽車導航、平板PC(Personal Computer，個人電腦)、攜帶型遊戲機、電子紙、指示器、公告板、時鐘、及智慧型手錶等可穿戴器件等。作為軟性顯示器，為所有具有可撓性特性之圖像顯示裝置。
[軟性圖像顯示裝置] 本發明包含具備本發明之光學膜之軟性圖像顯示裝置。本發明之光學膜係如上所述般，較佳為於軟性圖像顯示裝置中用作前面板，該前面板有時被稱為視窗膜。軟性圖像顯示裝置包含軟性圖像顯示裝置用積層體及有機EL顯示面板，相對於有機EL顯示面板，於視認側配置軟性圖像顯示裝置用積層體，且構成為能夠彎折。作為軟性圖像顯示裝置用積層體，可含有視窗膜、偏光板及觸控感測器，其等之積層順序為任意，但較佳為自視認側起依序積層有視窗膜、偏光板及觸控感測器，或依序積層有視窗膜、觸控感測器及偏光板。若於觸控感測器之視認側存在偏光板，則觸控感測器之圖案變得不易被視認，而顯示圖像之視認性變得良好，故而較佳。各個構件可使用接著劑、黏著劑等進行積層。又，可具備形成於上述視窗膜、偏光板、觸控感測器中之任一層之至少一面之遮光圖案。
[偏光板] 本發明之軟性圖像顯示裝置如上所述般含有偏光板，較佳為含有圓偏光板。圓偏光板係具有藉由在直線偏光板積層λ/4相位差板而僅使右或左旋圓偏振光分量透過之功能之功能層。例如用以藉由對將外界光轉換成右旋圓偏振光並利用有機EL面板進行反射而變為左旋圓偏振光之外界光進行遮斷，僅使有機EL之發光分量透過，而抑制反射光之影響，從而變得易於觀察圖像。為了達成圓偏振光功能，直線偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之遲相軸理論上必須為45°，但實用上為45±10°。直線偏光板與λ/4相位差板並非必須鄰接地積層，吸收軸與遲相軸之關係只要滿足上述範圍即可。較佳為於全波長下達成完全之圓偏振光，但由於實用上未必需要如此，故而本發明中之圓偏光板亦包含橢圓偏光板。亦較佳為，藉由在直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜而將出射光設為圓偏振光，從而使戴著偏光太陽眼鏡之狀態下之視認性提高。
直線偏光板係具有使在透過軸方向上振動之光通過，但將與其垂直之振動分量之偏光遮斷之功能之功能層。上述直線偏光板亦可為僅具備直線偏光元件或具備直線偏光元件及貼附於其至少一面之保護膜之構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則有柔軟性不易下降之傾向。 上述直線偏光元件亦可為藉由將聚乙烯醇(PVA)系膜染色並延伸而製造之膜型偏光元件。於藉由延伸而配向之PVA系膜上吸附碘等二色性色素、或於吸附於PVA之狀態下延伸，藉此二色性色素配向，而發揮偏光性能。於上述膜型偏光元件之製造中，另外亦可具有膨潤、利用硼酸進行之交聯、利用水溶液進行之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可僅針對PVA系膜進行，亦可於其與聚對苯二甲酸乙二酯之類之其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，延伸倍率較佳為2～10倍。 進而，作為上述偏光元件之另一例，亦可為塗佈液晶偏光組合物而形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏光組合物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有呈現液晶狀態之性質即可，尤其是若具有層列型相等之高次配向狀態，則能夠發揮較高之偏光性能，故而較佳。又，液晶性化合物亦較佳為具有聚合性官能基。
上述二色性色素係與上述液晶化合物一起配向而呈現二色性之色素，既可為二色性色素自身具有液晶性，亦可具有聚合性官能基。液晶偏光組合物中之任一化合物具有聚合性官能基。 上述液晶偏光組合物可進而包含：起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。 上述液晶偏光層係藉由在配向膜上塗佈液晶偏光組合物而形成液晶偏光層從而製造。 液晶偏光層可與膜型偏光元件相比使厚度較薄地形成。上述液晶偏光層之厚度可較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。 上述配向膜例如可藉由在基材上塗佈配向膜形成組合物，並利用磨擦、偏光照射等賦予配向性而製造。上述配向膜形成組合物可除了配向劑以外，還包含溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可使用聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於應用光配向之情形時，較佳為使用包含肉桂酸酯基之配向劑。作為上述配向劑而使用之高分子之重量平均分子量可為10,000～1,000,000左右。上述配向膜之厚度係就配向限制力之觀點而言，較佳為5～10,000 nm，更佳為10～500 nm。上述液晶偏光層可自基材剝離後進行轉印而積層，亦可直接積層上述基材。上述基材亦較佳為擔負作為保護膜、相位差板或視窗之透明基材之作用。
作為上述保護膜，只要為透明之高分子膜即可，可使用上述透明基材中所使用之材料、添加劑。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。亦可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物並進行硬化而獲得之塗佈型保護膜。亦可視需要包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述保護膜之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若上述保護膜之厚度處於上述範圍內，則保護膜之柔軟性不易下降。保護膜亦可兼具視窗之透明基材之作用。
上述λ/4相位差板係於與入射光之行進方向直行之方向(膜之面內方向)上賦予λ/4之相位差之膜。上述λ/4相位差板可為藉由使纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜延伸而製造之延伸型相位差板。亦可視需要包含相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述延伸型相位差板之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則有膜之柔軟性不易下降之傾向。 進而，作為上述λ/4相位差板之另一例，亦可為塗佈液晶組合物而形成之液晶塗佈型相位差板。上述液晶組合物包含具有呈現向列型、膽固醇狀、層列型等液晶狀態之性質之液晶性化合物。液晶組合物中之包含液晶性化合物在內之任一化合物具有聚合性官能基。上述液晶塗佈型相位差板可進而包含：起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。上述液晶塗佈型相位差板可藉由與針對上述液晶偏光層之記載同樣地於配向膜上塗佈液晶組合物並進行硬化而形成液晶相位差層從而製造。液晶塗佈型相位差板可與延伸型相位差板相比使厚度較薄地形成。上述液晶偏光層之厚度可通常為0.5～10 μm，較佳為1～5 μm。上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離後進行轉印而積層，亦可直接積層上述基材。上述基材亦較佳為擔負作為保護膜、相位差板或視窗之透明基材之作用。
一般而言，多為波長越短則表現出越大之雙折射且波長越長則表現出越小之雙折射之材料。於該情形時，由於無法於全可見光區域內達成λ/4之相位差，故而多數情況下以成為如相對於視感度較高之560 nm附近變為λ/4般之面內相位差100～180 nm、較佳為130～150 nm之方式設計。利用使用具有與通常相反之雙折射率波長分散特性之材料的逆分散性λ/4相位差板能夠使視認性變得良好，故而較佳。作為此種材料，亦較佳為於為延伸型相位差板之情形時，使用日本專利特開2007-232873號公報等所記載者，於為液晶塗佈型相位差板之情形時，使用日本專利特開2010-30979號公報所記載者。 又，作為其他方法，亦已知有藉由與λ/2相位差板組合而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(日本專利特開平10-90521號公報)。λ/2相位差板亦藉由與λ/4相位差板相同之材料方法製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板之組合為任意，不管哪一種組合均由於使用液晶塗佈型相位差板能夠使厚度變薄，故而較佳。 亦已知有為了提高斜方向之視認性而於上述圓偏光板中積層正C板之方法(日本專利特開2014-224837號公報)。正C板可為液晶塗佈型相位差板，亦可為延伸型相位差板。厚度方向之相位差為-200～-20 nm，較佳為-140～-40 nm。
[觸控感測器] 本發明之軟性圖像顯示裝置如上所述含有觸控感測器。觸控感測器被用作輸入機構。作為觸控感測器，提出有電阻膜方式、表面聲波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種方式，可為任一方式。其中，較佳為靜電電容方式。靜電電容方式觸控感測器被劃分為活性區域及位於上述活性區域之外廓部之非活性區域。活性區域係與顯示面板中顯示畫面之區域(顯示部)對應之區域，且為感知使用者之觸摸之區域，非活性區域係與顯示裝置中不顯示畫面之區域(非顯示部)對應之區域。觸控感測器可包含：基板，其具有可撓特性；感知圖案，其形成於上述基板之活性區域；及各感測線，其等形成於上述基板之非活性區域，且用以經由焊墊部將上述感知圖案與外部之驅動電路連接。作為具有可撓特性之基板，可使用與上述視窗之透明基板相同之材料。關於觸控感測器之基板，其韌性為2,000 MPa%以上者就觸控感測器之龜裂抑制之方面而言較佳。可更佳為韌性為2,000～30,000 MPa%。此處，韌性被定義為通過高分子材料之拉伸試驗所獲得之應力(MPa)-應變(%)曲線(Stress-strain curve)中至破壞點為止之曲線之下部面積。
上述感知圖案可具備於第1方向上形成之第1圖案及於第2方向上形成之第2圖案。第1圖案與第2圖案配置於互不相同之方向。第1圖案及第2圖案形成於同一層，為了感知被觸摸之部位，必須將各個圖案電性連接。第1圖案係各單元圖案經由接頭而相互連接之形態，但第2圖案為各單元圖案相互分離為島嶼形態之結構，故而為了將第2圖案電性連接需要另外之橋接電極。感知圖案可應用眾所周知之透明電極素材。例如可列舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅氧化物(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-伸乙二氧基噻吩))、奈米碳管(CNT)、石墨烯、金屬線等，其等可單獨或混合2種以上而使用。可較佳地使用ITO。金屬線所使用之金屬並無特別限定，例如可列舉：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、碲、鉻等。其等可單獨或混合2種以上而使用。
橋接電極可於感知圖案上部介隔絕緣層而形成於上述絕緣層上部，可於基板上形成有橋接電極，且於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極可藉由與感知圖案相同之素材形成，亦可藉由鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或其等中之2種以上之合金等金屬形成。由於第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，故而於感知圖案與橋接電極之間形成有絕緣層。絕緣層可僅形成於第1圖案之接頭與橋接電極之間，亦可形成為覆蓋感知圖案之層之結構。於後者之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔而連接第2圖案。上述觸控感測器可於基板與電極之間進而包含光學調節層以作為對因形成有圖案之圖案區域與未形成圖案之非圖案區域間之透過率之差、具體而言該等區域中之折射率之差所誘發之光透過率之差適當地進行補償之機構，上述光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可將包含光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物塗佈於基板上而形成。上述光硬化組合物可進而包含無機粒子。藉由上述無機粒子可使光學調節層之折射率上升。 上述光硬化性有機黏合劑例如可包含丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如亦可為包含含環氧基之重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等互相不同之各重複單元之共聚物。 上述無機粒子例如可包含氧化鋯粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。上述光硬化組合物亦可進而包含光聚合起始劑、聚合性單體、硬化輔助劑等各添加劑。
[接著層] 形成上述軟性圖像顯示裝置用積層體之各層(視窗、圓偏光板、觸控感測器)及構成各層之膜構件(直線偏光板、λ/4相位差板等)可藉由接著劑而形成。作為接著劑，可使用：水系接著劑、有機溶劑系、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑(黏著劑)、再濕型接著劑等通用地使用者。其中，經常使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著劑層之厚度可根據所要求之接著力等而適當調節，為0.01～500 μm，較佳為0.1～300 μm，於上述軟性圖像顯示裝置用積層體中存在複數個接著劑層，且各接著劑層之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同，亦可不同。
作為上述水系水系溶劑揮散型接著劑，可使用聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、苯乙烯-丁二烯系乳液等水分散狀態之聚合物作為主劑聚合物。除了水及上述主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於藉由上述水系水系溶劑揮散型接著劑而接著之情形時，藉由將上述水系水系溶劑揮散型接著劑注入至被接著層間而將被接著層貼合之後，使其乾燥，而能夠賦予接著性。使用上述水系水系溶劑揮散型接著劑之情形時之接著層之厚度可為0.01～10 μm，較佳為0.1～1 μm。於將前期水系溶劑揮散型接著劑用於複數層之形成之情形時，各個層之厚度及上述接著劑之種類可相同，亦可不同。
上述活性能量線硬化型接著劑可藉由包含照射活性能量線而形成接著劑層之反應性材料之活性能量線硬化組合物的硬化而形成。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物相同之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少1種聚合物。上述自由基聚合性化合物係與硬塗組合物相同，可使用種類與硬塗組合物相同者。作為用於接著層之自由基聚合性化合物，較佳為具有丙烯醯基之化合物。為了降低作為接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物。
上述陽離子聚合性化合物係與硬塗組合物相同，可使用種類與硬塗組合物相同者。作為活性能量線硬化組合物中所使用之陽離子聚合性化合物，尤佳為環氧化合物。為了降低作為接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物作為反應性稀釋劑。 活性能量線組合物中可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，為自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱中之至少一種而分解，而產生自由基或陽離子從而使自由基聚合及陽離子聚合進行者。可使用硬塗組合物之記載中之可藉由活性能量線照射而使自由基聚合或陽離子聚合中之至少任一者開始的起始劑。
上述活性能量線硬化組合物可進而包含：離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑及溶劑。於藉由上述活性能量線硬化型接著劑進行接著之情形時，可藉由將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層中之任一者或兩者之後進行貼合，並通過任一被接著層或兩個被接著層照射活性能量線而使其硬化，從而進行接著。使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時之接著層之厚度可為0.01～20 μm，較佳為0.1～10 μm。於將前期活性能量線硬化型接著劑用於複數層之形成之情形時，各個層之厚度及所使用之接著劑之種類可相同，亦可不同。
作為上述黏著劑，可根據主劑聚合物而分類為丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等並使用任一種。於黏著劑中，除了主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。藉由將構成上述黏著劑之各成分溶解、分散於溶劑而獲得黏著劑組合物，並將該黏著劑組合物塗佈於基材上之後使其乾燥，而形成黏著劑層接著層。黏著層可直接形成，亦可轉印形成於另一基材者。為了覆蓋接著前之黏著面，亦較佳為使用離型膜。使用上述黏著劑之情形時之接著層之厚度可為1～500 μm，較佳為2～300 μm。於將前期黏著劑用於複數層之形成之情形時，各個層之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同，亦可不同。
[遮光圖案] 上述遮光圖案可用作前期軟性圖像顯示裝置之邊框或殼體之至少一部分。藉由利用遮光圖案使配置於上述軟性圖像顯示裝置之邊緣部之配線隱藏而不易被視認，從而圖像之視認性提高。上述遮光圖案可為單層或複層之形態。遮光圖案之色彩並無特別限制，可具有黑色、白色、金屬色等多種色彩。遮光圖案可藉由用以將色彩具體化之顏料、及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等高分子形成。亦可以其等之單獨或2種以上之混合物之形式使用。上述遮光圖案可藉由印刷、微影、噴墨等各種方法形成。遮光圖案之厚度通常為1～100 μm，較佳為2～50 μm。又，亦較佳為於光圖案之厚度方向上賦予傾斜等形狀。 [實施例]
以下，基於實施例及比較例，對本發明更具體地進行說明，但本發明並非受以下實施例限定。例中之「%」及「份」只要無特別說明，則意指質量%及質量份。首先，對測定及評估方法進行說明。
＜二氧化矽粒子之粒徑＞ 實施例及比較例中之二氧化矽粒子之一次粒徑係藉由BET法而進行測定評估。
＜霧度(Haze)＞ 依據JIS K 7136：2000，將實施例及比較例中所獲得之光學膜切割為30 mm×30 mm之大小，使用霧度計(Suga Test Instruments(股)製造之「HGM-2DP」)測定霧度(%)。
＜黃色度(YI值)＞ 使用日本分光(股)製造之紫外可見近紅外分光光度計「V-670」測定實施例及比較例中所獲得之光學膜之黃色度(Yellow Index：YI值)。於無樣品之狀態下進行背景測定之後，將光學膜安放於樣品固持器，進行對於300～800 nm之光之透過率測定，求出三刺激值(X、Y、Z)，並基於下述式算出YI值。 YI＝100×(1.2769X－1.0592Z)/Y
＜全光線透過率(Tt)＞ 基於JIS K 7361-1：1997，將實施例及比較例中所獲得之光學膜切割為30 mm×30 mm之大小，使用霧度計(Suga Test Instruments(股)製造之「HGM-2DP」)，測定光學膜之厚度50 μm時之全光線透過率(%)。
＜耐衝擊性試驗＞ ·耐衝擊性評估用樣品之製作 於具備攪拌機、溫度計、回流冷卻器、滴液裝置及氮氣導入管之反應容器中，饋入丙烯酸正丁酯97.0質量份、丙烯酸1.0質量份、丙烯酸2-羥基乙酯0.5質量份、乙酸乙酯200質量份、及2,2'-偶氮二異丁腈0.08質量份，並利用氮氣置換上述反應容器內之空氣。一面於氮氣氛圍下進行攪拌，一面將反應溶液升溫至60℃，於進行反應6小時之後，冷卻至室溫。測定所獲得之溶液之一部分之重量平均分子量，結果確認出1,800,000之(甲基)丙烯酸酯聚合物之生成。
藉由將上述步驟中所獲得之(甲基)丙烯酸酯聚合物100質量份(固形物成分換算值；以下相同)、作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷改性甲苯二異氰酸酯(東梭(股)製造之商品名「Coronate(註冊商標)L」)0.30質量份、作為矽烷偶合劑之3-甘油氧丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股)製造之商品名「KBM403」)0.30質量份混合，充分地進行攪拌，並利用乙酸乙酯進行稀釋，而獲得黏著劑組合物之塗佈溶液。 於隔片(LINTEC(股)製造：SP-PLR382190)之離型處理面(剝離層面)利用敷料器以乾燥後之厚度成為25 μm之方式塗佈上述塗佈溶液之後，於100℃下乾燥1分鐘，於黏著劑層之與貼合有隔片之面相反之面貼合另一片隔片(LINTEC(股)製造：SP-PLR381031)，而獲得兩面附有隔片之黏著劑層。
藉由自兩面附有隔片之黏著劑層將黏著劑層移著至玻璃而形成黏著劑層，於該黏著劑層上貼合實施例及比較例中所獲得之光學膜，而獲得依序積層有玻璃、黏著劑層及光學膜之積層體(耐衝擊性評估用樣品)。
·耐衝擊性評估 對耐衝擊性進行評估。具體而言，自10 cm之高度使重錘掉落至上述積層體(耐衝擊性評估用樣品)之光學膜面上而製作凹陷。重錘係質量4.6 g且碰撞該光學膜面之部位為直徑0.75 mm之球狀，且為不鏽鋼製。繼而，光干涉膜厚計(MITSUBISHI CHEMICAL SYSTEMS公司(股)製造之「Micromap(MM557N-M100型)」)進行光學膜表面之上述凹陷之形狀之觀察，以試驗前之未凹陷之狀態之膜表面為基準，計測凹陷最大之點之深度(自試驗前之未凹陷狀態之膜表面至凹陷最大之點為止之最短距離)。測定係反覆進行5次，將凹陷深度之平均值設為耐衝擊性試驗中之凹陷量。
＜衝擊疲勞試驗＞ 進行衝擊疲勞試驗。具體而言，將實施例及比較例中所獲得之光學膜設置於玻璃基板上，於該膜面上之直徑8 mm之範圍內，反覆實施20次自高度10 cm之位置使重錘掉落之操作。重錘係質量4.6 g，碰撞該光學膜面之部位為直徑0.75 mm之球狀，且為不鏽鋼製。
對該試驗前後之光學膜之反射色相(反射a﹡及b﹡)使用KONICA MINOLTA(股)製造之分光測色計(CM3700A)按下述條件進行評估。 ·光源：D光源 ·入射光：與法線方向成角度2°地照射至光學膜 ·檢測模式：反射SCE ·靶遮罩：LAV遮罩(測定範圍：直徑8 mm) ·樣品測定條件：將光學膜設置於反射測定位置，利用暗箱遮蔽而測定。
＜重量平均分子量(Mw)＞ 凝膠滲透層析法(GPC)測定 ·預處理方法 於實施例中所獲得之聚醯胺醯亞胺中以濃度成為2 mg/mL之方式添加DMF(二甲基甲醯胺)溶析液(10 mM之溴化鋰溶液)，並一面於80℃下攪拌30分鐘，一面進行加熱，冷卻後，利用0.45 μm之膜濾器進行過濾，將所得者設為測定溶液。 ·測定條件 管柱：TSKgel SuperAWM-H×2＋SuperAW2500×1(6.0 mm I.D.×150 mm×3根) 溶析液：DMF(添加10 mM之溴化鋰) 流量：1.0 mL/min. 檢測器：RI(refractive index，折射率)檢測器 管柱溫度：40℃ 注入量：100 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯
＜光學膜之膜厚＞ 實施例及比較例中所獲得之光學膜之膜厚係使用Mitutoyo(股)製造之測微計進行測定。
[實施例1] (矽溶膠之製備) 於1,000 mL之燒瓶中添加甲醇分散矽溶膠(一次粒徑11 nm，二氧化矽粒子固形物成分21.0%)523.8 g及γ-丁內酯(GBL)440.0 g，利用真空蒸發器於45℃之熱水浴下，於400 hPa下使甲醇蒸發1小時，並於250 hPa下使甲醇蒸發1小時。進一步於250 hPa下升溫至70℃並加熱30分鐘，而獲得γ-丁內酯分散矽溶膠1(GBL分散矽溶膠1)。所獲得之GBL分散矽溶膠1之固形物成分濃度為19.3%。
(聚醯胺醯亞胺之製備) 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之1 L可分離式燒瓶中，添加2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基二苯基(TFMB)45 g(140.52 mmol)及N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)768.55 g，一面於室溫下進行攪拌，一面使TFMB溶解於DMAc。其次，於燒瓶中添加4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)18.92 g(42.58 mmol)，並於室溫下攪拌3小時。其後，將4,4'-氧雙(苯甲醯氯)(OBBC)4.19 g(14.19 mmol)、繼而將對苯二甲醯氯(TPC)17.29 g(85.16 mmol)添加至燒瓶中，並於室溫下攪拌1小時。繼而，於燒瓶中添加4-甲基吡啶4.63 g(49.68 mmol)及乙酸酐13.04 g(127.75 mmol)，並於室溫下攪拌30分鐘之後，使用油浴升溫至70℃，進一步攪拌3小時，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，呈線狀地投入至大量之甲醇中，將所析出之沈澱物取出，於甲醇中浸漬6小時之後，利用甲醇進行洗淨。其次，於100℃下進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺1。所獲得之聚醯胺醯亞胺1之重量平均分子量為400,000。
(光學膜之製造) 藉由將聚醯胺醯亞胺1溶解於GBL，添加上述GBL分散矽溶膠1並充分地進行混合，而獲得聚醯胺醯亞胺1/二氧化矽粒子混合清漆。聚醯胺醯亞胺與二氧化矽粒子之比率為70：30。又，以聚醯胺醯亞胺1/二氧化矽粒子濃度(樹脂及二氧化矽粒子相對於清漆之質量之總質量)成為10質量%之方式進行製備。 將所獲得之混合清漆利用網眼10微米之過濾器進行過濾之後，以豎立膜之膜厚成為55 μm之方式使用敷料器塗佈於聚酯基材(東洋紡(股)製造之商品名「A4100」)之平滑面上，並於50℃下乾燥30分鐘，繼而於140℃下乾燥15分鐘，將聚酯基材剝離，藉此獲得豎立膜。將豎立膜固定於金框並以200℃進行乾燥，而獲得膜厚50 μm之光學膜1。
[實施例2] (矽溶膠之製備) 於1,000 mL之燒瓶中添加甲醇分散矽溶膠(一次粒徑12 nm，二氧化矽固形物成分31.1%)398.5 g及γ-丁內酯(GBL)272.2 g，利用真空蒸發器於45℃之熱水浴下，於400 hPa下使甲醇蒸發1小時，並於250 hPa下使甲醇蒸發1小時。進一步於250 hPa下升溫至70℃並加熱30分鐘，而獲得γ-丁內酯分散矽溶膠2(GBL分散矽溶膠2)。所獲得之GBL分散矽溶膠2之固形物成分濃度為30.9%。
(聚醯胺醯亞胺之製備及光學膜之製造) 除了使用GBL分散矽溶膠2作為GBL分散矽溶膠以外，與實施例1同樣地獲得光學膜。
[實施例3] (矽溶膠之製備) 於1,000 mL之燒瓶中添加甲醇分散矽溶膠(一次粒徑21 nm，二氧化矽固形物成分30.9%)398.1 g及GBL269.9 g，利用真空蒸發器於45℃之熱水浴下，於400 hPa下使甲醇蒸發1小時，並於250 hPa下使甲醇蒸發1小時。進一步於250 hPa下升溫至70℃並加熱30分鐘，而獲得γ-丁內酯分散矽溶膠3(GBL分散矽溶膠3)。所獲得之GBL分散矽溶膠3之固形物成分濃度為30.3%。
(聚醯胺醯亞胺之製備及光學膜之製造) 除了使用GBL分散矽溶膠3作為GBL分散矽溶膠以外，與實施例1同樣地獲得光學膜。
[實施例4] (聚醯胺醯亞胺之製備) 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之1 L可分離式燒瓶中，添加TFMB53.05 g(165.66 mmol)及DMAc670.91 g，一面於室溫下進行攪拌，一面使TFMB溶解於DMAc。其次，於燒瓶中，添加6FDA22.11 g(49.77 mmol)、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐(BPDA)4.88 g(16.59 mmol)，繼而添加TPC20.21 g(99.54 mmol)，並於室溫下攪拌1小時。繼而，於燒瓶中添加吡啶10.53 g(133.08 mmol)及乙酸酐13.77 g(134.83 mmol)，於室溫下攪拌30分鐘之後，使用油浴升溫至70℃，進一步攪拌3小時，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，呈線狀地投入至大量之甲醇中，將所析出之沈澱物取出，於甲醇中浸漬6小時之後，利用甲醇進行洗淨。其次，於100℃下進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺2。所獲得之聚醯胺醯亞胺2之重量平均分子量為190,000。
(光學膜之製造) 除了使用聚醯胺醯亞胺2作為聚醯胺醯亞胺以外，與實施例1同樣地獲得光學膜。
[比較例1] (矽溶膠之製備) 於1000 mL之燒瓶中添加甲醇分散矽溶膠(一次粒徑27 nm，二氧化矽粒子固形物成分30.5%)442.6 g及GBL301.6 g，利用真空蒸發器於45℃之熱水浴下，於400 hPa下使甲醇蒸發1小時，並於250 hPa下使甲醇蒸發1小時。進一步於250 hPa下升溫至70℃並加熱30分鐘，而獲得γ-丁內酯分散矽溶膠4。所獲得之γ-丁內酯分散矽溶膠4之固形物成分濃度為28.9%。
(聚醯胺醯亞胺之製備及光學膜之製造) 除了使用二氧化矽粒子之一次粒徑為27 nm之上述GBL分散矽溶膠4作為GBL分散矽溶膠以外，與實施例1同樣地獲得光學膜。
[比較例2] 除了不使用甲醇分散二氧化矽，而是以聚醯胺醯亞胺濃度(聚醯胺醯亞胺相對於清漆之質量的質量)成為6質量%之方式製備清漆以外，與實施例1同樣地獲得光學膜。
[比較例3] (矽溶膠之製備) 於1000 mL之燒瓶中添加甲醇分散矽溶膠(一次粒徑12 nm，二氧化矽粒子固形物成分20.7%)502.5 g及GBL403.5 g，利用真空蒸發器於45℃之熱水浴下，於400 hPa下使甲醇蒸發1小時，並於250 hPa下使甲醇蒸發1小時。進一步於250 hPa下升溫至70℃並加熱30分鐘，而獲得γ-丁內酯分散矽溶膠5。所獲得之γ-丁內酯分散矽溶膠5之固形物成分濃度為20.2%。
(光學膜之製造) 藉由將聚醯亞胺系高分子(河村產業(股)製造之「KPI-MX300F(100)」溶解於GBL，添加上述GBL分散矽溶膠5並充分地進行混合，而獲得聚醯亞胺/二氧化矽粒子混合清漆。聚醯亞胺與二氧化矽粒子之比率為70：30。又，以聚醯亞胺/二氧化矽粒子濃度(樹脂及二氧化矽粒子相對於清漆之質量之總質量)成為16質量%之方式進行製備。除此以外，與實施例1同樣地獲得光學膜。
於實施例1～4及比較例1～3中所獲得之光學膜中，將樹脂之種類、二氧化矽含量、二氧化矽之一次粒徑、耐衝擊性試驗中之凹陷量、全光線透過率、黃色度、霧度以及衝擊疲勞試驗前後之反射a﹡、反射b﹡及其等之變化量示於表1。表1中，PAI(1)表示聚醯胺醯亞胺1，PAI(2)表示聚醯胺醯亞胺2，PI表示聚醯亞胺，二氧化矽含量(質量%)表示二氧化矽粒子相對於光學膜之質量(樹脂及二氧化矽粒子之總質量)的質量。
[表1]
Figure 108114070-A0304-0001
如表1所示，已確認實施例1～4之光學膜係與比較例1～3之光學膜相比，衝擊疲勞試驗前後之反射a﹡及反射b﹡之兩者之變化量較少、即反射色相之變化明顯較小。即，已確認實施例1～4之光學膜能夠抑制因物體之反覆碰撞所引起之光學特性下降。

Claims (10)

  1. 一種光學膜，其包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且耐衝擊性試驗中之凹陷量為15 μm以下。
  2. 如請求項1之光學膜，其霧度為1%以下。
  3. 如請求項1之光學膜，其黃色度為5以下。
  4. 如請求項2之光學膜，其黃色度為5以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學膜，其包含一次粒徑為25 nm以下之填料。
  6. 如請求項1至4中任一項之光學膜，其膜厚為25～100 μm。
  7. 如請求項5之光學膜，其膜厚為25～100 μm。
  8. 一種軟性圖像顯示裝置，其具備如請求項1至7中任一項之光學膜。
  9. 如請求項8之軟性圖像顯示裝置，其進而含有偏光板。
  10. 如請求項8或9之軟性圖像顯示裝置，其進而含有觸控感測器。
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