TW202035527A - 光學膜、可撓性顯示裝置及聚醯胺醯亞胺系樹脂 - Google Patents

光學膜、可撓性顯示裝置及聚醯胺醯亞胺系樹脂 Download PDF

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宮本皓史
望月勝紀
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Abstract

本發明提供一種具有較高之彈性模數及表面硬度之光學膜。 本發明之光學膜包含如下聚醯胺醯亞胺系樹脂，其具有式(1)所表示之結構單元：
Figure 108147368-A0101-11-0001-1
[式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羰基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基、碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元：

Description

光學膜、可撓性顯示裝置及聚醯胺醯亞胺系樹脂
本發明係關於一種包含聚醯胺醯亞胺系樹脂之光學膜、具備該光學膜之可撓性顯示裝置及聚醯胺醯亞胺系樹脂。
目前，液晶顯示裝置或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置等顯示裝置不僅用於電視，且廣泛地用於行動電話或智慧型手錶等各種用途。先前，業界一直使用玻璃作為此種顯示裝置之前面板。然而，玻璃之透明度較高，根據種類可表現出高硬度，另一方面，非常剛硬，容易破裂，故而難以用作可撓性顯示裝置之前面板材料。
因此，業界不斷研究活用高分子材料作為代替玻璃之材料。由於包含高分子材料之前面板容易表現出可撓性特性，故而期待用於各種用途。作為具有柔軟性之高分子材料之一種，業界正研究例如使用聚醯胺醯亞胺系樹脂之光學膜(專利文獻1及2)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特表2015-521686號公報 [專利文獻2]日本專利特開2018-119132號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，於在可撓性顯示裝置等中使用利用聚醯胺醯亞胺系樹脂之光學膜之情形時，因彎曲或與外部因素之接觸，存在於光學膜上產生傷痕、皺褶等缺陷之情形。本發明者對改善上述之方法進行各種研究，發現藉由提高光學膜之彈性模數及表面硬度，可有效地防止於光學膜上產生傷痕等缺陷。
因此，本發明之課題在於提供一種具有較高之彈性模數及表面硬度之光學膜。 [解決問題之技術手段]
本發明者等人為了解決上述課題，著眼於構成光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂之單體之結構，進行了努力研究。其結果為，發現包含至少具有特定之結構單元之聚醯胺醯亞胺系樹脂的光學膜兼具較高之彈性模數及表面硬度，從而完成本發明。
即，本發明包含以下之適宜之態樣。 [1]一種光學膜，其包含如下聚醯胺醯亞胺系樹脂，該聚醯胺醯亞胺系樹脂具有式(1)所表示之結構單元： [化1]
Figure 02_image005
[式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羰基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基、碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元： [化2]
Figure 02_image007
[式(2)中，X表示二價有機基，Y表示四價有機基]。 [2]如上述[1]中所記載之光學膜，其中式(1)中之R1 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基或鹵基，R1 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。 [3]如上述[1]或[2]中所記載之光學膜，其中式(1)中之V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代。 [4]如上述[1]至[3]中任一項所記載之光學膜，其中聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(4)所表示之結構單元作為式(1)所表示之結構單元， [化3]
Figure 02_image009
[式(4)中，R1 及V相互獨立地為如對式(1)中之R1 及V所定義，R19 及R20 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基]。 [5]如上述[4]中所記載之光學膜，其中式(4)中之R1 為碳數1～12之氟烷基。 [6]如上述[1]至[5]中任一項所記載之光學膜，其厚度為10～200 μm。 [7]一種可撓性顯示裝置，其具備如上述[1]至[6]中任一項所記載之光學膜。 [8]如上述[7]中所記載之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。 [9]如上述[7]或[8]中所記載之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。 [10]一種聚醯胺醯亞胺系樹脂，其具有式(1)所表示之結構單元： [化4]
Figure 02_image011
[式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羰基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元： [化5]
Figure 02_image013
[式(2)中，X表示二價有機基，Y表示四價有機基]。 [發明之效果]
本發明之光學膜具有較高之彈性模數及表面硬度。
以下，對本發明之實施形態詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於此處所說明之實施形態，可於不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
本發明之光學膜包含如下聚醯胺醯亞胺系樹脂，其具有式(1)所表示之結構單元： [化6]
Figure 02_image015
[式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羰基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基、碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元： [化7]
Figure 02_image017
[式(2)中，X表示二價有機基，Y表示四價有機基]。 式(1)所表示之結構單元係二羧酸化合物與二胺化合物進行反應而形成之結構單元，式(2)所表示之結構單元係四羧酸化合物與二胺化合物進行反應而形成之結構單元。本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂可具有式(1)所表示之1種結構單元，亦可具有式(1)所表示之2種以上之結構單元。同樣地，該聚醯胺醯亞胺系樹脂可具有式(2)所表示之1種結構單元，亦可具有式(2)所表示之2種以上之結構單元。再者，該聚醯胺醯亞胺系樹脂亦可包含不符合式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元的進一步之結構單元。於本說明書中，將式(1)所表示之結構單元稱為「結構單元(1)」，亦將式(2)所表示之結構單元稱為「結構單元(2)」。再者，式(1)及式(2)中，虛線所表示之鍵表示與鄰接之結構單元鍵結之鍵結鍵。於本說明書中，其他化學結構式中之虛線所表示之鍵亦同樣地表示與鄰接之結構單元或基鍵結之鍵結鍵。
於如上所述之包含具有結構單元(1)及結構單元(2)之聚醯胺醯亞胺系樹脂的本發明之光學膜中，彈性模數及表面硬度提高之原因並不明確，但於聚醯胺醯亞胺系樹脂具有結構單元(1)及結構單元(2)之情形時，其骨架適度地具有剛硬性，且於側鏈具有適度之運動性。其結果為，令人驚訝的是，認為包含該聚醯胺醯亞胺系樹脂之光學膜之彈性模數及表面硬度均提高。
本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂具有結構單元(1)及結構單元(2)。就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1)及結構單元(2)之合計設為100莫耳%時，結構單元(1)之比率較佳為20～99莫耳%，更佳為40～98莫耳%，進而較佳為50～95莫耳%，尤佳為60～93莫耳%。於結構單元(1)之比率為上述下限以上之情形時，容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度。又，於結構單元(1)之比率為上述上限以下之情形時，容易確保向溶劑中之溶解性。再者，結構單元(1)及結構單元(2)之含量例如可使用1 H-NMR(Nuclear Magnetic Resonance，核磁共振)進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於聚醯胺醯亞胺系樹脂中，相對於式(2)所表示之結構單元1莫耳，式(1)所表示之結構單元之含量較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，進而較佳為1.0莫耳以上，尤佳為1.5莫耳以上，且較佳為15莫耳以下，更佳為12莫耳以下，進而較佳為10莫耳以下。若式(1)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度。又，若式(1)所表示之結構單元之含量為上述上限以下，則抑制由式(1)中之醯胺鍵間之氫鍵所引起之增黏，容易提高光學膜之加工性。
式(1)中之R1 及R2 相互獨立地表示(i)碳數1～12之烷基、(ii)碳數1～12之烷氧基、(iii)碳數6～12之芳基、(iv)碳數6～12之芳氧基、(v)碳數1～12之羰基、(vi)碳數1～12之氧基羰基、或(vii)鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。結構單元(1)具有至少1種R1 。結構單元(1)可具有1種R1 ，亦可具有2種以上之R1 。又，結構單元(1)可具有1種R2 ，可具有2種以上之R2 ，亦可不具有R2 。
作為(i)碳數1～12之烷基，可列舉：碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基。作為碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、2-乙基丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基、環戊基、環己基等。碳數1～12之烷基可為直鏈狀之烷基、支鏈狀之烷基、或包含脂環式烴結構之脂環式之烷基。碳數1～12之烷基之碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而較佳為1或2。上述碳數1～12之烷基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代之基。作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。此處，於碳數1～12之烷基經包含碳原子之取代基(例如碳數1～4之烷基)取代之情形時，該取代基中所含之碳原子數不含於碳數1～12之烷基之碳數中。例如上述碳數1～12之烷基經碳數1～4之烷基取代之基係以碳數1～12之烷基為主鏈，且該烷基之至少1個氫原子經碳數1～4之烷基取代之基。若成為主鏈之烷基部分之碳數為1～12，則以整個烷基計之碳數可超過12。再者，於以整個烷基計之碳原子數不超過12之基之情形時，碳數1～12之烷基經碳數1～4之烷基取代之基係亦包含於碳數1～12之支鏈狀之烷基之定義的基。
作為(ii)碳數1～12之烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基、環己氧基、庚氧基、辛氧基、壬氧基及癸氧基等。碳數1～12之烷氧基中之烷基部分及/或伸烷基部分可為直鏈狀、支鏈狀、或脂環式中之任一種。碳數1～12之烷氧基之碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而較佳為1或2。上述碳數1～12之烷氧基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代之基。作為鹵素原子，可列舉上述中所記載之原子。此處，於碳數1～12之烷氧基經包含碳原子之取代基取代之情形時，該取代基中所含之碳原子數不含於碳數1～12之烷氧基之碳數中。
作為(iii)碳數6～12之芳基，例如可列舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。碳數6～12之芳基之碳數較佳為6或10或12，更佳為6。上述碳數6～12之芳基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代之基。作為鹵素原子，可列舉上述中所記載之原子。此處，於碳數6～12之芳基經包含碳原子之取代基取代之情形時，該取代基中所含之碳原子數不含於碳數6～12之芳基之碳數中。
作為(iv)碳數6～12之芳氧基，可列舉：苯氧基、甲苯氧基、二甲苯氧基、萘氧基、聯苯氧基等。碳數6～12之芳氧基之碳數較佳為6或10或12，更佳為6。上述碳數6～12之芳氧基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代之基。作為鹵素原子，可列舉上述中所記載之原子。此處，於碳數6～12之芳氧基經包含碳原子之取代基取代之情形時，該取代基中所含之碳原子數不含於碳數6～12之芳氧基之碳數中。
(v)碳數1～12之羰基為由*-CO-Ra 或*-Rb -CO-Ra 表示之基。作為Ra ，可列舉對(i)碳數1～12之烷基所記載之基，作為Rb ，可列舉對(i)碳數1～12之烷基所記載之基之至少1個氫原子被取代為鍵結鍵的碳數1～12之二價伸烷基。上述碳數1～12之羰基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代之基。作為鹵素原子，可列舉上述中所記載之原子。此處，於碳數1～12之羰基經包含碳原子之取代基取代之情形時，該取代基中所含之碳原子數不含於碳數1～12之羰基之碳數中。
(vi)碳數1～12之氧基羰基為由*-CO-O-Ra 、*-Rb -CO-O-Ra 、*-O-CO-Ra 、或-Rb -O-CO-Ra 表示之基。作為Ra ，可列舉對(i)碳數1～12之烷基所記載之基，作為Rb ，可列舉對(i)碳數1～12之烷基所記載之基的至少1個氫原子被取代為鍵結鍵的碳數1～12之二價伸烷基。上述碳數1～12之氧基羰基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代之基。作為鹵素原子，可列舉上述中所記載之原子。此處，於碳數1～12之氧基羰基經包含碳原子之取代基取代之情形時，該取代基中所含之碳原子數不含於碳數1～12之氧基羰基之碳數中。
作為(vii)鹵基，可列舉：氟基、氯基、溴基或碘基。
於本發明之較佳之一態樣中，式(1)中之R1 及R2 相互獨立地表示(i)碳數1～12之烷基、(ii)碳數1～12之烷氧基、或(vii)鹵基，此處，R1 及R2 之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。
式(1)中之R1 及R2 更佳為表示(i)碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基、該烷基之至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基(較佳為鹵素原子)取代之基、或(vii)鹵基，進而較佳為表示碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之至少1個氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為氟烷基)，尤佳為表示碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之所有氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為全氟烷基)。該等基之碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而較佳為1或2。
式(1)中之V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基。作為碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基，可列舉於對式(1)中之R1 之(i)碳數1～12之烷基所記載之基中，至少1個氫原子被取代為鍵結鍵的碳數1～12之二價伸烷基。
式(1)中之V較佳為表示單鍵、碳數1～12之二價烴基、或碳數1～12之二價烴基中所含之氫原子經鹵素原子取代之基，更佳為表示單鍵或碳數1～12之二價烴基中所含之氫原子經鹵素原子取代之基。
於V表示碳數1～12之二價烴基、或碳數1～12之二價烴基中所含之氫原子經鹵素原子取代之基情形時，作為碳數1～12之二價烴基，可列舉碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之至少1個氫原子被取代為鍵結鍵之基。再者，作為該碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、2-乙基丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基、環戊基、環己基等。碳數1～12之二價烴基可為直鏈狀之伸烷基、支鏈狀之伸烷基、或包含脂環式烴結構之脂環式之伸烷基。碳數1～12之二價烴基之碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而較佳為1～3。上述碳數1～12之二價烴基可為至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子取代之基。作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
於本發明之較佳之一態樣中，式(1)中之V較佳為單鍵、或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之伸烷基之至少1個氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為氟伸烷基)，更佳為單鍵、或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之伸烷基之所有氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為全氟伸烷基，進而較佳為二-三氟甲基亞甲基)。
式(1)中之m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數。式(1)中之m較佳為0或1，更佳為0。式(1)中之n較佳為1或2，更佳為1。式(1)中之p較佳為0～2之整數，更佳為0或1。式(1)中之q較佳為0～2之整數，更佳為0或1。
於本發明之較佳之一態樣中，關於式(1)中之V及q，V表示單鍵，且q為1或2(較佳為1)，或V表示碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之伸烷基(更佳為氟伸烷基，進而較佳為全氟伸烷基，尤佳為二氟甲基亞甲基)，且q為0或1(較佳為0)。
於本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1a)所表示之結構單元作為式(1)所表示之結構單元， [化8]
Figure 02_image019
[式(1a)中， R3 ～R10 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R1 所記載之基，其中，R3 ～R10 之至少1個為對式(1)中之R1 所記載之基， R2 、q及V分別如對式(1)中之R2 、q及V所定義]。 以下，亦將式(1a)所表示之結構單元稱為「結構單元(1a)」。
於聚醯胺醯亞胺系樹脂包含結構單元(1a)作為結構單元(1)之情形時，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為結構單元(1)，可包含式(1a)所表示之1種結構單元，可包含式(1a)所表示之2種以上之結構單元，除式(1a)所表示之結構單元以外，亦可進而包含符合式(1)但不符合式(1a)之結構單元。
本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂如上所述般至少具有結構單元(1)及結構單元(2)，該樹脂通常具有複數個結構單元(1)、複數個結構單元(2)及視情形之其他結構單元。於本說明書中，所謂聚醯胺醯亞胺樹脂包含式(1a)所表示之結構單元作為結構單元(1)，係指於聚醯胺醯亞胺系樹脂所具有之複數個結構單元(1)中，至少一部分結構單元(1)為式(1a)所表示之結構單元。上述記載亦符合本說明書中之同樣之其他記載。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1a)所表示之結構單元作為結構單元(1)的本發明之較佳之一態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，式(1a)所表示之結構單元之比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1)之全部均可為式(1a)所表示之結構單元。再者，結構單元(1)及結構單元(1a)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為式(1a)所表示之結構單元，包含式(1aa)所表示之結構單元： [化9]
Figure 02_image021
[式(1aa)中， R3 ～R10 相互獨立地為如對式(1a)中之R3 ～R10 所定義， R11 ～R18 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基，其中，R11 ～R18 之至少1個為對式(1)中之R2 所記載之基]、 及/或式(1ab)所表示之結構單元： [化10]
Figure 02_image023
[式(1ab)中， R3 ～R10 相互獨立地為如對式(1a)中之R3 ～R10 所定義，V為如對式(1)中之V所定義]。 以下，將式(1aa)所表示之結構單元稱為「結構單元(1aa)」，亦將式(1ab)所表示之結構單元稱為「結構單元(1ab)」。
於聚醯胺醯亞胺系樹脂包含結構單元(1aa)及/或結構單元(1ab)作為結構單元(1a)之情形時，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為結構單元(1a)，可包含式(1aa)所表示之1種結構單元，亦可包含式(1aa)所表示之2種以上之結構單元，可包含式(1ab)所表示之1種結構單元，亦可包含式(1ab)所表示之2種以上之結構單元，亦可包含1種以上之結構單元(1aa)及1種以上之結構單元(1ab)之兩者。再者，於該態樣中，聚醯胺醯亞胺系樹脂除結構單元(1aa)或結構單元(1ab)以外，亦可進而包含符合式(1a)但不符合式(1aa)及式(1ab)之結構單元。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1aa)所表示之結構單元作為結構單元(1a)的本發明之較佳之一態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1a)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數、表面硬度及耐彎曲性之觀點而言，式(1aa)所表示之結構單元之比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1a)之全部均可為式(1aa)所表示之結構單元。再者，結構單元(1a)及結構單元(1aa)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂可包含式(1ab)所表示之結構單元作為結構單元(1a)。於該態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1a)設為100莫耳%時，就耐彎曲性與向溶劑中之溶解性之觀點而言，式(1ab)所表示之結構單元之比率較佳為0～100莫耳%，更佳為0～50莫耳%，進而較佳為0～30莫耳%。於式(1ab)所表示之結構單元之比率為上述上限以下之情形時，更容易提高光學膜之彈性模數及耐彎曲性。結構單元(1a)及結構單元(1ab)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於本發明之一態樣中，光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂可包含式(1aa)所表示之結構單元及式(1ab)所表示之結構單元之兩者作為結構單元(1a)。於該態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1a)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，結構單元(1aa)及結構單元(1ab)之合計比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1a)之全部均可為結構單元(1aa)及結構單元(1ab)。於該情形時，相對於結構單元(1ab)1莫耳，結構單元(1aa)之含量較佳為1莫耳以上，更佳為4莫耳以上，進而較佳為6莫耳以上，尤佳為8莫耳以上。若式(1aa)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐彎曲性、彈性模數及表面硬度。
式(1a)、式(1aa)及式(1ab)中之R3 ～R10 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R1 所記載之基，其中，R3 ～R10 之至少1個為對式(1)中之R1 所記載之基，較佳為R3 ～R10 之至少2個為對式(1)中之R1 所記載之基。與對式(1)中之R1 所記載之基相關的較佳之態樣亦同樣地符合式(1a)、式(1aa)及式(1ab)中之R3 ～R10 。就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，較佳為式(1a)中之至少R5 及R7 為對式(1)中之R1 所記載之基，更佳為式(1a)中之R5 及R7 為對式(1)中之R1 所記載之基，且R3 、R4 及R6 、R8 ～R10 為氫原子。
作為式(1a)、式(1aa)及式(1ab)中之R3 ～R10 可表示之對式(1)中之R1 所記載之基，較佳為(i)碳數1～12之烷基、(ii)碳數1～12之烷氧基、或(vii)鹵基，此處，R1 及R2 之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。作為對式(1)中之R1 所記載之基，更佳為可列舉：(i)碳數1～12之烷基、該烷基之至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基(較佳為鹵素原子)取代之基、或(vii)鹵基，進而較佳為可列舉碳數1～12之烷基之至少1個氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之氟烷基)，尤佳為可列舉碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之所有氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之全氟烷基)。
於本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1b)所表示之結構單元作為式(1)所表示之結構單元， [化11]
Figure 02_image025
[式(1b)中，R1 、R2 、q及V分別如對式(1)中之R1 、R2 、q及V所定義]。 以下，亦將式(1b)所表示之結構單元稱為「結構單元(1b)」。再者，式(1b)相當於式(1a)中之R5 及R7 為對式(1)中之R1 所記載之基，且R3 、R4 、R6 及R8 ～R10 為氫原子之結構單元。
於聚醯胺醯亞胺系樹脂包含結構單元(1b)作為結構單元(1)之情形時，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為結構單元(1)，可包含式(1b)所表示之1種結構單元，可包含式(1b)所表示之2種以上之結構單元，除式(1b)所表示之結構單元以外，亦可進而包含符合式(1)但不符合式(1b)之結構單元。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1b)所表示之結構單元作為結構單元(1)的本發明之較佳之一態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，式(1b)所表示之結構單元之比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1)之全部均可為式(1b)所表示之結構單元。再者，結構單元(1)及結構單元(1b)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為式(1b)所表示之結構單元，包含式(1ba)所表示之結構單元： [化12]
Figure 02_image027
[式(1ba)中， R1 相互獨立地為如對式(1)中之R1 所定義， R11 ～R18 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基，其中，R11 ～R18 之至少1個為對式(1)中之R2 對所記載之基]、 及/或式(1bb)所表示之結構單元： [化13]
Figure 02_image029
[式(1bb)中， R1 相互獨立地為如對式(1)中之R1 所定義， V為如對式(1)中之V所定義]。 以下，將式(1ba)所表示之結構單元稱為「結構單元(1ba)」，亦將式(1bb)所表示之結構單元稱為「結構單元(1bb)」。
於聚醯胺醯亞胺系樹脂包含結構單元(1ba)及/或結構單元(1bb)作為結構單元(1b)之情形時，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為結構單元(1b)，可包含式(1ba)所表示之1種結構單元，可包含式(1ba)所表示之2種以上之結構單元，作為結構單元(1b)，可包含式(1bb)所表示之1種結構單元，可包含式(1bb)所表示之2種以上之結構單元，亦可包含1種以上之結構單元(1ba)及1種以上之結構單元(1bb)之兩者。再者，於該態樣中，聚醯胺醯亞胺系樹脂除結構單元(1ba)或結構單元(1bb)以外，亦可進而包含符合式(1b)但不符合式(1ba)及式(1bb)之結構單元。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1ba)所表示之結構單元作為結構單元(1b)的本發明之較佳之一態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1b)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數、表面硬度及耐彎曲性之觀點而言，式(1ba)所表示之結構單元之比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1b)之全部均可為式(1ba)所表示之結構單元。再者，結構單元(1b)及結構單元(1ba)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂可包含式(1bb)所表示之結構單元作為結構單元(1b)。於該態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1a)設為100莫耳%時，就耐彎曲性與向溶劑中之溶解性之觀點而言，式(1bb)所表示之結構單元之比率較佳為0～100莫耳%，更佳為0～50莫耳%，進而較佳為0～30莫耳%。於式(1bb)所表示之結構單元之比率為上述上限以下之情形時，更容易提高光學膜之彈性模數及耐彎曲性。結構單元(1b)及結構單元(1bb)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於本發明之一態樣中，光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂可包含式(1ba)所表示之結構單元及式(1bb)所表示之結構單元之兩者作為結構單元(1b)。於該態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1b)設為100莫耳%時，結構單元(1ba)及結構單元(1bb)之合計比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1b)之全部均可為結構單元(1ba)或結構單元(1bb)中之任一種。於該情形時，結構單元(1ba)之含量相對於結構單元(1bb)1莫耳，較佳為1莫耳以上，更佳為4莫耳以上，進而較佳為6莫耳以上，尤佳為8莫耳以上。若式(1ba)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度。
式(1b)、式(1ba)及式(1bb)中之R1 為對式(1)中之R1 所記載之基，與式(1)中之R1 相關之較佳之記載同樣地符合。即，式(1b)、式(1ba)及式(1bb)中之R1 較佳為(i)碳數1～12之烷基、(ii)碳數1～12之烷氧基、或(vii)鹵基，此處，R1 及R2 之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。作為該基，更佳為可列舉：(i)碳數1～12之烷基、該烷基之至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基(較佳為鹵素原子)取代之基、或(vii)鹵基，進而較佳為可列舉碳數1～12之烷基之至少1個氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之氟烷基)，尤佳為可列舉碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之所有氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之全氟烷基)。
式(1a)及(1b)中之R2 、V及q相互獨立地為如對式(1)中之R2 、V及q所定義，與該等相關之較佳之記載同樣地符合。例如，較佳為V表示單鍵，且q為1或2(較佳為1)，或V表示碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之伸烷基(更佳為氟伸烷基，進而較佳為全氟伸烷基，尤佳為二氟甲基亞甲基)，且q為0或1(較佳為0)。
式(1ab)及(1bb)中之V為如對式(1)中之V所定義，較佳為碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之伸烷基，更佳為氟伸烷基，進而較佳為全氟伸烷基，尤佳為二氟甲基亞甲基。
式(1aa)及(1ba)中之R11 ～R18 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基，其中，R11 ～R18 之至少1個為對式(1)中之R2 所記載之基，較佳為R11 ～R18 之至少2個為對式(1)中之R2 所記載之基。與對式(1)中之R2 所記載之基相關的較佳之態樣亦同樣地符合式(1aa)及式(1ba)中之R11 ～R18 。就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，較佳為式(1a)及式(1ba)中之至少R12 及R18 為對式(1)中之R2 所記載之基，更佳為式(1aa)及式(1ba)中之R12 及R18 為對式(1)中之R2 所記載之基，且R11 及R13 ～R17 為氫原子。
作為式(1aa)及(1ba)中之R11 ～R18 可表示之對式(1)中之R2 所記載之基，較佳為(i)碳數1～12之烷基、(ii)碳數1～12之烷氧基、或(vii)鹵基，此處，R1 及R2 之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。作為對式(1)中之R2 所記載之基，更佳為可列舉：(i)碳數1～12之烷基、該烷基之至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基(較佳為鹵素原子)取代之基、或(vii)鹵基，進而較佳為可列舉碳數1～12之烷基之至少1個氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之氟烷基)，尤佳為可列舉碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之所有氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之全氟烷基，更佳為碳數1～4之全氟烷基)。
於本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(4)所表示之結構單元作為式(1)所表示之結構單元， [化14]
Figure 02_image031
[式(4)中，R1 及V相互獨立地為如對式(1)中之R1 及V所定義，R19 及R20 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基]。 以下，亦將式(4)所表示之結構單元稱為「結構單元(4)」。
於聚醯胺醯亞胺系樹脂包含結構單元(4)作為結構單元(1)之情形時，聚醯胺醯亞胺系樹脂中，作為結構單元(1)，可包含式(4)所表示之1種結構單元，可包含式(4)所表示之2種以上之結構單元，除式(4)所表示之結構單元以外，亦可進而包含符合式(1)但不符合式(4)之結構單元。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(4)所表示之結構單元作為結構單元(1)的本發明之較佳之一態樣中，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，式(4)所表示之結構單元之比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，結構單元(1)之全部均可為式(4)所表示之結構單元。再者，結構單元(1)及結構單元(4)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
式(4)中之R1 相互獨立地為如對式(1)中之R1 所定義，與式(1)中之R1 相關之較佳之記載同樣地符合式(4)中之R1 。即，式(4)中之R1 較佳為(i)碳數1～12之烷基、(ii)碳數1～12之烷氧基、或(vii)鹵基，此處，R1 及R2 之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。作為該基，更佳為可列舉：(i)碳數1～12之烷基、該烷基之至少1個氫原子相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基(較佳為鹵素原子)取代之基、或(vii)鹵基，進而較佳為可列舉碳數1～12之烷基之至少1個氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之氟烷基)，尤佳為可列舉碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之烷基之所有氫原子經鹵素原子(較佳為氟原子)取代之基(較佳為碳數1～12之全氟烷基)。
式(4)中之V為如對式(1)中之V所定義，與式(1)中之V相關之較佳之記載同樣地符合式(4)中之V。
式(4)中之R19 及R20 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基。於式(4)中之R19 及R20 之至少1個表示對式(1)中之R2 所記載之基之情形時，與式(1)中之R2 相關之較佳之記載同樣地符合該R19 及R20 中之至少1個基。
關於式(4)中之R19 、R20 及V，於較佳之一態樣中，V表示單鍵，且R19 及R20 之至少1個表示對式(1)中之R2 所記載之基，或V表示碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之伸烷基(更佳為碳數1～12之氟伸烷基，進而較佳為碳數1～12之全氟伸烷基，尤佳為二氟甲基亞甲基)，且R19 及R20 表示氫原子。
結構單元(2)中之X表示二價有機基，較佳為表示碳數4～40之二價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之二價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。關於上述有機基，有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代，於該情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施形態中，聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(2)中，作為X，可包含1種有機基，亦可包含2種以上之有機基。
於本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，式(2)所表示之結構單元包含式(1X)所表示之二價有機基作為X， [化15]
Figure 02_image033
[式(1X)中，R2 、q及V分別如對式(1)中之R2 、q及V所定義，*表示鍵結鍵]。 於結構單元(2)包含式(1X)所表示之二價有機基作為X之情形時，結構單元(2)中，作為X，可包含式(1X)所表示之1種或2種以上之二價有機基。結構單元(2)中，作為X，除式(1X)所表示之二價有機基以外，亦可包含不符合式(1X)之二價有機基。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂中，於結構單元(2)包含式(1X)所表示之二價有機基作為X之情形時，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(2)設為100莫耳%時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，式(2)中之X為式(1X)所表示之二價有機基之結構單元的比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，於結構單元(2)之全部結構單元中，X可為式(1X)所表示之二價有機基。再者，結構單元(2)、及X由式(1X)表示之結構單元(2)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
式(1X)中之R2 、q及V相互獨立地為如對式(1)中之R2 、q及V所定義，與式(1)中之R2 、q及V相關之較佳之記載同樣地符合式(1X)中之R2 、q及V。
式(2)所表示之結構單元中之Y表示四價有機基，較佳為表示碳數4～40之四價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之四價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。上述有機基係有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代者，於該情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施形態中，結構單元(2)中，作為Y，可具有1種四價有機基，亦可具有2種以上之四價有機基。作為Y，可例示：式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子經甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代之基；以及四價之碳數6以下之鏈式烴基。
[化16]
Figure 02_image035
式(20)～式(29)中， *表示鍵結鍵， W1 表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-。Ar表示氫原子可經氟原子取代之碳數6～20之伸芳基，作為具體例，可列舉伸苯基。於存在複數個Ar之情形時，Ar相互可相同亦可不同。
式(20)～式(29)所表示之基之中，就光學膜之彈性模數、表面硬度及耐彎曲性之觀點而言，較佳為式(26)、式(28)或式(29)所表示之基，更佳為式(26)所表示之基。又，就容易提高光學膜之彈性模數、表面硬度及耐彎曲性，容易降低黃度(以下，亦稱為YI值)之觀點而言，W1 相互獨立地較佳為單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，更佳為單鍵、-O-、-CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，進而較佳為單鍵、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -。
於本發明之較佳之一實施形態中，式(2)所表示之結構單元包含式(6)所表示之四價有機基作為Y， [化17]
Figure 02_image037
[式(6)中，R21 ～R28 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R21 ～R28 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代， *表示鍵結鍵]。 於結構單元(2)包含式(6)所表示之四價有機基作為Y之情形時，容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度。又，於該情形時，提高聚醯胺醯亞胺系樹脂向溶劑中之溶解性，容易降低含有該樹脂之清漆之黏度，容易提高光學膜之加工性。進而，容易提高光學膜之光學特性。
於式(6)中，R21 、R22 、R23 、R24 、R25 、R26 、R27 及R28 相互獨立地表示氫原子、碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基及碳數6～12之芳基，可列舉作為式(1)中之R1 及R2 中之碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基或碳數6～12之芳基而於上述中所例示者。R21 ～R28 相互獨立地較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R21 ～R28 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代。作為該鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。就容易提高光學膜之彈性模數、表面硬度，又，容易提高表面硬度、耐彎曲性及透明性之觀點而言，R21 ～R28 相互獨立地進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，更佳為R21 、R22 、R23 、R26 、R27 及R28 為氫原子，且R24 及R25 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R24 及R25 為甲基或三氟甲基。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(2)包含式(6)所表示之四價有機基作為Y的本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(2)之合計設為100莫耳%時，式(2)中之Y為式(6)所表示之四價有機基之結構單元的比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，於結構單元(2)之全部結構單元中，Y可為式(6)所表示之四價有機基。
於本發明之較佳之一實施形態中，式(2)所表示之結構單元包含式(6a)所表示之四價有機基作為Y， [化18]
Figure 02_image039
。 再者，式(6a)所表示之四價有機基相當於式(6)中之R24 及R25 為三全氟甲基，且R21 、R22 、R23 、R26 、R27 及R28 為氫原子之基。於結構單元(2)包含式(6a)所表示之四價有機基作為Y之情形時，容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度。又，於該情形時，提高聚醯胺醯亞胺系樹脂向溶劑中之溶解性，容易降低含有該樹脂之清漆之黏度，容易提高光學膜之加工性。進而，容易提高光學膜之光學特性。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(2)包含式(6a)所表示之四價有機基作為Y的本發明之較佳之一態樣中，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(2)之合計設為100莫耳%時，式(2)中之Y為式(6a)所表示之四價有機基之結構單元的比率較佳為70～100莫耳%，更佳為80～100莫耳%，進而較佳為90～100莫耳%，於結構單元(2)之全部結構單元中，Y可為式(6a)所表示之四價有機基。
本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂除結構單元(1)及結構單元(2)以外，亦可包含不符合式(1)之式(3)所表示之結構單元， [化19]
Figure 02_image041
[式(3)中之Z為二價有機基，X'表示二價有機基]。 於聚醯胺醯亞胺系樹脂除結構單元(1)及結構單元(2)以外，亦包含式(3)所表示之結構單元之情形時，容易提高光學膜之耐彎曲性與表面硬度。
式(3)中之Z例如可列舉可經碳數1～8之烴基或經氟取代之碳數1～8之烴基取代之包含環狀結構(較佳為脂環結構、芳香環結構、雜環結構)的碳數4～40之二價有機基。作為包含環狀結構之碳數4～40之二價有機基，可列舉上述式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵之中，不鄰接之2個被取代為氫原子之基、及具有噻吩環結構之基。再者，式(3)所表示之結構單元於至少Z之部分中，與式(1)所表示之結構單元不同，係不符合式(1)所表示之結構單元之結構單元。
作為式(3)中之作為Z之包含環狀結構之碳數4～40之二價有機基，更佳為式(20')、式(21')、式(22')、式(23')、式(24')、式(25')、式(26')、式(27')、式(28')及式(29')所表示之二價有機基： [化20]
Figure 02_image043
[式(20')～式(29')中，W1 及*係如於式(20)～式(29)中所定義]。
聚醯胺醯亞胺系樹脂於除式(1)所表示之結構單元以外，及/或具有式(3)中之Z由上述式(20')～式(29')中之任一者表示之結構單元之情形時，其中於具有式(3)中之Z由下述式(7)表示之結構單元之情形時，就容易提高清漆之成膜性，容易獲得光學膜之均一性之觀點而言，較佳為除該結構單元以外，進而具有以下之式(d1)所表示之源自羧酸之結構單元， [化21]
Figure 02_image045
[式(d1)中，Re 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，Rf 表示Re 或-C(=O)-*，*表示鍵結鍵]。
於Re 中，作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基及碳數6～12之芳基，分別可列舉作為式(1)中之R1 及R2 中之碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基或碳數6～12之芳基而於上述中所例示者。作為結構單元(d1)，具體而言，可列舉：Re 及Rf 均為氫原子之結構單元(源自二羧酸化合物之結構單元)、Re 均為氫原子且Rf 表示-C(=O)-*之結構單元(源自三羧酸化合物之結構單元)等。
式(3)所表示之結構單元中，作為Z，較佳為包含式(7a)所表示之二價有機基， [化22]
Figure 02_image047
[式(7a)中，Rg 及Rh 相互獨立地表示鹵素原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，A、s及*與式(7)中之A、s及*相同，t及u相互獨立地為0～4之整數，其中，s為1～4之整數]， 更佳為包含式(7)所表示之二價有機基， [化23]
Figure 02_image049
[式(7)中，R31 ～R38 相互獨立地表示氫原子、碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、或碳數6～12之芳基， A相互獨立地表示-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R39 )-，R39 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， s為0～4之整數， *表示鍵結鍵]。
於式(7a)中，各苯環之鍵結鍵以-A-為基準，可鍵結於鄰位、間位或對位中之任一種，較佳為可鍵結於間位或對位。式(7a)中之Rg 及Rh 相互獨立地表示鹵素原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。式(7a)中之t及u較佳為0，於t及/或u為1以上之情形時，Rg 及Rh 較佳為表示碳數1～6之烷基，更佳為表示碳數1～3之烷基。於式(7a)中之Rg 及Rh 中，作為鹵素原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基及碳數6～12之芳基，分別可列舉作為式(7)中之鹵素原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基所例示者。
式(7a)中之t及u相互獨立地為0～4之整數，較佳為0～2之整數，更佳為0或1，進而更佳為0。
於式(7)及式(7a)中，A表示-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R39 )-，就光學膜之耐彎曲性之觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為表示-O-。 於式(7)中，R31 、R32 、R33 、R34 、R35 、R36 、R37 及R38 相互獨立地表示氫原子、碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基及碳數6～12之芳基，可列舉作為式(1)中之R1 及R2 中之碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基或碳數6～12之芳基而於上述中所例示者。就光學膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，R31 ～R38 相互獨立地較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，進而較佳為表示氫原子。 R39 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基。作為碳數1～12之烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、2-乙基丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，該等可經鹵素原子取代。作為上述鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。於聚醯胺醯亞胺系樹脂中，式(3)所表示之結構單元中，可包含式(7)或式(7a)所表示之1種二價有機基作為Z，亦可包含式(7)或式(7a)所表示之2種以上之有機基作為Z。
於式(7)及式(7a)中，s為0～4之範圍之整數，若s為該範圍內，則光學膜之耐彎曲性或彈性模數容易變得良好。又，於式(7)及式(7a)中，s較佳為0～3之範圍之整數，更佳為0～2，進而較佳為0或1，尤佳為0。若s為該範圍內，則容易提高光學膜之耐彎曲性或彈性模數。作為式(7)中之X'，可列舉對結構單元(2)中之X而於上述中所記載之基。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂中，式(3)所表示之結構單元可具有式(3')所表示之結構單元作為Z， [化24]
Figure 02_image051
。 於該情形時，容易提高光學膜之表面硬度及耐彎曲性，容易降低YI值。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂除結構單元(1)及結構單元(2)以外，亦包含式(3)所表示之結構單元(以下，亦稱為「結構單元(3)」)之情形時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1)、結構單元(2)及結構單元(3)之合計設為100莫耳%時，結構單元(1)及結構單元(2)之合計比率較佳為60莫耳%以上，更佳為70莫耳%以上，進而較佳為80莫耳%以上，進而更佳為85莫耳%以上，尤佳為90莫耳%以上。結構單元(1)及結構單元(2)之合計之上述比率的上限只要未達100莫耳%即可。再者，結構單元(1)、結構單元(2)或結構單元(3)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂除結構單元(1)及結構單元(2)以外，亦包含式(3)所表示之結構單元(以下，亦稱為「結構單元(3)」)之情形時，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，於將聚醯胺醯亞胺系樹脂中所含之結構單元(1)及結構單元(3)之合計設為100莫耳%時，結構單元(1)之比率較佳為60莫耳%以上，更佳為70莫耳%以上，進而較佳為80莫耳%以上。結構單元(1)之上述比率之上限只要未達100莫耳%即可。結構單元(1)、結構單元(2)或結構單元(3)之含量例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
聚醯胺醯亞胺系樹脂除式(1)及式(2)所表示之結構單元以外，亦可包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元。 [化25]
Figure 02_image053
於式(30)中，Y1 為四價有機基，較佳為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為Y1 ，可列舉作為式(2)中之Y所記載之基。於本發明之一實施形態中，聚醯胺醯亞胺系樹脂可包含複數種Y1 ，複數種Y1 相互可相同亦可不同。
於式(31)中，Y2 為三價有機基，較佳為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為Y2 ，可例示作為式(2)中之Y所記載之基之鍵結鍵中的任一者被取代為氫原子之基、及三價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施形態中，聚醯胺醯亞胺系樹脂可包含複數種Y2 ，複數種Y2 相互可相同亦可不同。
於式(30)及式(31)中，X1 及X2 相互獨立地為二價有機基，較佳為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為X1 及X2 ，可例示作為式(2)中之X所記載之基。
於本發明之一實施形態中，聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(1)所表示之結構單元、式(2)所表示之結構單元、以及視情形之式(3)所表示之結構單元、式(30)所表示之結構單元、及/或式(31)所表示之結構單元。就容易提高光學膜之彈性模數、光學特性、表面硬度及耐彎曲性之觀點而言，於上述聚醯胺醯亞胺系樹脂中，式(1)及式(2)所表示之結構單元基於式(1)及式(2)、以及視情形之式(3)、式(30)及式(31)所表示之全部結構單元，較佳為80莫耳%以上，更佳為90莫耳%以上，進而較佳為95莫耳%以上。再者，於聚醯胺醯亞胺系樹脂中，式(1)及式(2)所表示之結構單元基於式(1)及式(2)、以及視情形之式(3)、式(30)及/或式(31)所表示之全部結構單元，通常為100%以下。再者，上述比率例如可使用1 H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比而算出。
於本發明之一實施形態中，相對於光學膜100質量份，光學膜中之聚醯胺醯亞胺系樹脂之含量較佳為10質量份以上，更佳為30質量份以上，進而較佳為50質量份以上，且較佳為99.5質量份以下，更佳為95質量份以下。若聚醯胺醯亞胺系樹脂之含量為上述範圍內，則容易提高光學膜之光學特性、彈性模數及表面硬度。
關於聚醯胺醯亞胺系樹脂之重量平均分子量(Mw)，就容易提高光學膜之彈性模數、表面硬度及耐彎曲性之觀點而言，以標準聚苯乙烯換算計較佳為200,000以上，更佳為250,000以上，進而較佳為270,000以上，尤佳為300,000以上。又，就容易提高聚醯胺醯亞胺系樹脂對於溶劑之溶解性，並且容易提高光學膜之延伸性及加工性之觀點而言，該樹脂之重量平均分子量較佳為1,000,000以下，更佳為800,000以下，進而較佳為700,000以下，尤佳為600,000以下。重量平均分子量例如可進行GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)測定，藉由標準聚苯乙烯換算而求出，例如可藉由實施例中所記載之方法而算出。
就容易防止光學膜之受損等之觀點而言，本發明之光學膜之彈性模數較佳為4.5 GPa以上，更佳為4.8 GPa以上，進而較佳為5.0 GPa以上，且通常為100 GPa以下。再者，彈性模數可使用拉伸試驗機(夾頭間距離50 mm、拉伸速度10 mm/min)進行測定，例如可藉由實施例中所記載之方法而進行測定。
本發明之光學膜之全光線透過率(及/或對於300～800 nm之光之光線透過率)較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為88%以上，進而更佳為89%以上，尤佳為90%以上，尤其更佳為91%以上。若全光線透過率為上述下限以上，則於尤其將光學膜設為前面板而組入至顯示裝置中之時容易提高視認性。本發明之光學膜通常顯示出較高之全光線透過率，故而例如與使用透過率較低之膜之情形相比，可抑制用於獲得一定之亮度所需之顯示元件等之發光強度。因此，可削減消耗電力。例如，於將本發明之光學膜組入至顯示裝置中之情形時，有即便減少背光源之光量亦可獲得明亮之顯示之傾向，可有助於能源之節約。全光線透過率之上限通常為100%以下。先前，為了提高光學膜之彈性模數，例如於製造光學膜時，存在進行如超過200℃之高溫下之加熱之情形，於該情形時，光學膜之光線透過率降低，視認性容易變差。本發明之光學膜即便於如超過200℃之高溫下不進行加熱亦具有較高之彈性模數，故而可抑制全光線透過率之降低。再者，全光線透過率例如可依據JIS K 7361-1：1997，使用霧度計而加以測定。全光線透過率可為下述光學膜之厚度之範圍中的全光線透過率。
本發明之光學膜之霧度較佳為5%以下，更佳為4%以下，進而較佳為3%以下，進而更佳為2.5%以下，尤佳為2%以下，尤其更佳為1%以下，尤其進而較佳為0.5%以下，尤佳為0.2%以下，通常為0.01%以上。若光學膜之霧度為上述上限以下，則於尤其將光學膜設為前面板而組入至顯示裝置中之時，容易提高視認性。再者，霧度可依據JIS K 7136：2000，使用霧度計而加以測定。
本發明之光學膜之YI值較佳為3.5以下，更佳為3.0以下，進而較佳為2.5以下。若光學膜之YI值為上述上限以下，則透明性變得良好，於用於顯示裝置之前面板之情形時，可有助於較高之視認性。又，YI值通常為-5以上，且較佳為-2以上。再者，YI值可使用紫外可見近紅外分光光度計，對300～800 nm之光進行透過率測定，求出3刺激值(X、Y、Z)，並基於YI＝100×(1.2769X－1.0592Z)/Y之式而算出。再者，於本說明書中，所謂光學膜之光學特性優異係指光線透過率較高。
本發明之光學膜之厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為25 μm以上，尤佳為30 μm以上，且較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而更佳為80 μm以下，尤佳為60 μm以下，且可為該等上限與下限之組合。若光學膜之厚度為上述範圍內，則更容易提高光學膜之彈性模數。再者，光學膜之厚度可使用測微計進行測定，例如可藉由實施例中所記載之方法而進行測定。
本發明之光學膜之耐彎曲性試驗中之彎曲次數(彎曲半徑R＝1 mm)較佳為90,000次以上，更佳為120,000次以上，進而較佳為150,000次以上，尤佳為180,000次以上。若彎曲次數為上述下限以上，則作為可撓性顯示裝置等之前面板材料，具有充分之耐彎曲性。再者，耐彎曲性試驗中之彎曲次數表示使用彎曲試驗機，於彎曲半徑(曲率半徑)R為1 mm之條件下，進行光學膜之反覆彎曲，至於該膜上產生破裂之時點為止之往返之彎曲次數(將往返一次設為1次)。
本發明之光學膜之至少一面之鉛筆硬度較佳為H以上，更佳為2 H以上。於光學膜之至少一面之鉛筆硬度為上述硬度以上之情形時，容易防止於光學膜之該表面之傷痕等。再者，鉛筆硬度可依據JIS K 5600-5-4：1999而進行測定，例如可藉由實施例中所記載之方法而進行測定。
聚醯胺醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率較佳為90%以上，更佳為93%以上，進而較佳為96%以上，且通常為100%以下。就容易提高光學膜之光學特性之觀點而言，醯亞胺化率較佳為上述下限以上。醯亞胺化率表示聚醯胺醯亞胺系樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯胺醯亞胺系樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值的比率。再者，於聚醯胺醯亞胺系樹脂包含三羧酸化合物之情形時，表示聚醯胺醯亞胺系樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯胺醯亞胺系樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍的值、與源自三羧酸化合物之結構單元之莫耳量之合計的比率。又，醯亞胺化率可藉由IR(Infrared Radiation，紅外線輻射)法、NMR法等而求出。
本發明除上述包含聚醯胺醯亞胺系樹脂之光學膜以外，亦提供一種適於製造該光學膜之上述聚醯胺醯亞胺系樹脂。該聚醯胺醯亞胺系樹脂例如可為如下聚醯胺醯亞胺系樹脂，其具有式(1)所表示之結構單元： [化26]
Figure 02_image055
[式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羧基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元： [化27]
Figure 02_image057
[式(2)中，X表示二價有機基，Y表示四價有機基]。 關於該聚醯胺醯亞胺系樹脂中之各符號之種類及結構單元之比率的例示及較佳之態樣等，與本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂相關之上述記載同樣地符合。
聚醯胺醯亞胺系樹脂中之鹵素原子之含量以聚醯胺醯亞胺系樹脂之質量為基準，較佳為1～60質量%，更佳為5～55質量%，進而較佳為10～50質量%。若鹵素原子之含量為上述下限以上，則更容易提高光學膜之彈性模數、表面硬度、透明性及視認性。若鹵素原子之含量為上述上限以下，則容易合成樹脂。
＜樹脂之製造方法＞ 聚醯胺醯亞胺系樹脂例如能夠以四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物為主要原料而製造。此處，上述式(1)所表示之結構單元係二羧酸化合物與二胺化合物進行反應而形成之結構單元，上述式(2)所表示之結構單元係四羧酸化合物與二胺化合物進行反應而形成之結構單元。因此，可使用如成為上述式(1)及式(2)所表示之結構單元之二羧酸化合物、四羧酸化合物及二胺化合物，而製造聚醯胺醯亞胺系樹脂。就該觀點而言，二羧酸化合物較佳為至少包含式(8)所表示之化合物。 [化28]
Figure 02_image059
[式(8)中，R1 、m、n及p分別如對式(1)中之R1 、m、n及p所定義Rc 及Rd 相互獨立地表示羥基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基或氯原子]
於本發明之較佳之一實施形態中，二羧酸化合物係Rc 、Rd 為氯原子之式(8)所表示之化合物。又，亦可使用二異氰酸酯化合物代替二胺化合物。
作為樹脂之製造中所使用之二羧酸化合物，較佳為使用具有式(8)所表示之結構之芳香族二羧酸或該等之醯氯化合物例如聯苯二羧酸或該等之醯氯化合物。除具有式(8)所表示之結構之芳香族二羧酸或該等之醯氯化合物以外，亦可使用其他二羧酸化合物。作為其他二羧酸化合物，可列舉：其他芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可組合兩種以上而使用。作為具有式(8)所表示之結構之芳香族二羧酸之具體例，較佳為2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-聯苯二甲醯氯。
作為二羧酸化合物，可使用式(8)所表示之化合物與其他二羧酸化合物。作為其他二羧酸化合物，可列舉式(7')所表示之二羧酸化合物： [化29]
Figure 02_image061
[式(7')中，R31 ～R38 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R31 ～R38 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代， A表示-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R39 )-， R39 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之一價烴基， s為0～4之整數， Rc 及Rd 為如對式(8)中之Rc 及Rd 所定義]。
於本發明之一實施形態中，其他二羧酸化合物可為s為1～4，且A為氧原子之式(7')所表示之化合物。
作為樹脂之製造中所使用之二胺化合物，例如可列舉：脂肪族二胺、芳香族二胺及該等之混合物。再者，於本實施形態中，所謂「芳香族二胺」表示胺基直接鍵結於芳香環之二胺，於其結構之一部分中可包含脂肪族基或其他取代基。該芳香環可為單環亦可為縮合環，可例示：苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於該等。該等之中，較佳為苯環。又，所謂「脂肪族二胺」表示胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，於其結構之一部分中可包含芳香環或其他取代基。
作為脂肪族二胺，例如可列舉：六亞甲基二胺等非環式脂肪族二胺、以及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降𦯉烷二胺及4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。該等可單獨使用或組合兩種以上而使用。
作為芳香族二胺，例如可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺、4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基聯苯丙烷、4,4'-二胺基聯苯醚、3,4'-二胺基聯苯醚、3,3'-二胺基聯苯醚、4,4'-二胺基聯苯碸、3,4'-二胺基聯苯碸、3,3'-二胺基聯苯碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(有時記載為TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上芳香環之芳香族二胺。該等可單獨使用或組合兩種以上而使用。
芳香族二胺較佳為4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基聯苯丙烷、4,4'-二胺基聯苯醚、3,3'-二胺基聯苯醚、4,4'-二胺基聯苯碸、3,3'-二胺基聯苯碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4'-(六氟亞丙基)二苯胺(6FDAM)，更佳為4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基聯苯丙烷、4,4'-二胺基聯苯醚、4,4'-二胺基聯苯碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4'-(六氟亞丙基)二苯胺(6FDAM)。該等可單獨使用或組合兩種以上而使用。
上述二胺化合物之中，就光學膜之高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高耐彎曲性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群中之1種以上。更佳為選自由使用2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基聯苯醚、4,4'-(六氟亞丙基)二苯胺所組成之群中之1種以上，更進而較佳為使用2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)及/或4,4'-(六氟亞丙基)二苯胺(6FDAM)。
作為樹脂之製造中所使用之四羧酸化合物，可列舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物等。四羧酸化合物可單獨使用，亦可組合兩種以上而使用。四羧酸化合物除二酸酐以外，亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物類似物。
作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可列舉：非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐、單環式之芳香族四羧酸二酐及縮合多環式之芳香族四羧酸二酐。作為非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(有時記載為6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對伸苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐、4,4'-(間伸苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。又，作為單環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉1,2,4,5-苯四羧酸二酐，作為縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉2,3,6,7-萘四羧酸二酐。
該等之中，較佳為可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對伸苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間伸苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐，更佳為可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對伸苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。該等可單獨使用或組合兩種以上而使用。
作為脂肪族四羧酸二酐，可列舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。所謂環式脂肪族四羧酸二酐係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可列舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及該等之位置異構物。該等可單獨使用或組合兩種以上而使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可列舉1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，該等可單獨使用或組合兩種以上而使用。又，亦可組合環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐而使用。
上述四羧酸二酐之中，就光學膜之高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高耐彎曲性、及低著色性之觀點而言，較佳為4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及該等之混合物，更佳為3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及該等之混合物，進而較佳為4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)。
再者，上述聚醯胺醯亞胺系樹脂於不損及光學積層體之各種物性之範圍內，除上述四羧酸化合物以外，亦可進而使四羧酸及三羧酸以及該等之酐及衍生物進行反應。
作為四羧酸，可列舉上述四羧酸化合物之酐之水加成物。
作為三羧酸化合物，可列舉：芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可組合兩種以上而使用。作為具體例，可列舉：1,2,4-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸以單鍵、-O-、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結而成之化合物。
於樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及/或二羧酸化合物之使用量可根據所需之聚醯胺醯亞胺系樹脂之各結構單元的比率而適當選擇。
上述至少具有結構單元(1)及結構單元(2)之聚醯胺醯亞胺系樹脂之製造方法只要可獲得上述聚醯胺醯亞胺系樹脂，則並無特別限定，就容易提高光學膜之彈性模數及表面硬度之觀點而言，較佳為藉由使二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物反應，且分批添加二羧酸化合物之製造方法而製造聚醯胺醯亞胺系樹脂，更佳為藉由包括使二胺化合物與四羧酸化合物反應而生成中間物(A)之步驟(I)、及使該中間物(A)與二羧酸化合物(較佳為式(8)所表示之化合物)反應之步驟(II)，且於該步驟(II)中，分批添加該二羧酸化合物之方法而製造聚醯胺醯亞胺系樹脂。於使用分批添加二羧酸化合物之方法之情形時，原因並不明確，但認為可獲得最適於提高光學膜之彈性模數及表面硬度之樹脂。又，容易將聚醯胺醯亞胺系樹脂之重量平均分子量調整為上述範圍內。
因此，本發明之光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂、及本發明之聚醯胺醯亞胺系樹脂較佳為藉由使二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物反應，且分批添加二羧酸化合物之製造方法而製造之樹脂，更佳為藉由包括使二胺化合物與四羧酸化合物反應而生成中間物(A)之步驟(I)、及使該中間物(A)與二羧酸化合物(較佳為式(8)所表示之化合物)反應之步驟(II)，且於該步驟(II)中，分批添加該二羧酸化合物之製造方法而製造之樹脂。
於藉由包括上述步驟(I)及步驟(II)之製造方法而製造聚醯胺醯亞胺系樹脂之情形時，使二胺化合物與四羧酸化合物反應而生成中間物(A)之步驟(I)之反應溫度並無特別限定，例如可為5～200℃，較佳可為5～100℃，更佳可為5～50℃，進而較佳可為5℃～室溫(25℃左右)。反應時間例如可為1分鐘～72小時，較佳可為10分鐘～24小時。又，反應可於空氣中或惰性氣體氛圍(例如氮、氬等)中一面攪拌一面進行，亦可於常壓下、加壓下或減壓下進行。於較佳之實施態樣中，於常壓及/或惰性氣體氛圍下，一面攪拌一面進行。
於步驟(I)中，二胺化合物與四羧酸化合物進行反應而生成中間物(A)、即，聚醯胺酸。因此，中間物(A)至少具有源自二胺化合物之結構單元與源自四羧酸化合物之結構單元。
其次，於步驟(II)中，使中間物(A)與二羧酸化合物反應，此處，較佳為分批添加該二羧酸化合物。向步驟(I)中所獲得之反應液中分批添加二羧酸化合物，使中間物(A)與二羧酸化合物反應。藉由分批添加而不一次添加二羧酸化合物，容易將聚醯胺醯亞胺系樹脂之重量平均分子量調整為上述較佳之範圍。再者，於本說明書中，所謂分批添加係指將所添加之二羧酸化合物分成幾次而添加，更詳細而言，將所添加之二羧酸分成特定量，隔開特定間隔(特定時間)而分別添加。該特定間隔(特定時間)亦包含非常短之間隔(或時間)，故而分批添加亦包含連續添加(或連續進料)。
於步驟(II)中，分批添加二羧酸化合物時之分割次數可根據反應規模或原料之種類等而適當選擇，較佳為2～20次，更佳為3～10次，進而較佳為3～6次。
二羧酸化合物可分割成均等之量而添加，亦可分割成不均等之量而添加。各添加之間之時間(存在稱為添加間隔之情形)可均相同亦可不同。又，於添加兩種以上二羧酸化合物之情形時，用語「分批添加」係指對所有二羧酸化合物之合計量進行分割而添加，各二羧酸化合物之分割方法並無特別限定，例如可分別一次或分批添加各二羧酸化合物，可一同分批添加各二羧酸化合物，亦可為該等之組合。
於步驟(II)中，較佳為於聚醯胺系樹脂之重量平均分子量相對於所獲得之聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為達到10%以上、更佳為達到15%以上之時點，相對於所添加之二羧酸化合物之總莫耳量添加較佳為1～40莫耳%、更佳為～25莫耳%之二羧酸化合物。
步驟(II)之反應溫度並無特別限定，例如可為5～200℃，較佳可為5～100℃，更佳可為5～50℃，進而較佳可為5℃～室溫(25℃左右)。又，反應可於空氣中或惰性氣體氛圍(例如氮、氬等)中一面攪拌一面進行，亦可於常壓下、加壓下或減壓下進行。於較佳之態樣中，於常壓及/或惰性氣體氛圍下，一面攪拌一面進行步驟(II)。
於步驟(II)中，藉由在分批添加二羧酸化合物後，攪拌特定時間等而使之反應，可獲得聚醯胺醯亞胺前驅物。再者，聚醯胺醯亞胺前驅物例如可藉由向包含聚醯胺醯亞胺前驅物之反應液中添加大量水等，使聚醯胺醯亞胺前驅物析出，並進行過濾、濃縮、乾燥等而進行單離。
於步驟(II)中，中間物(A)與二羧酸化合物進行反應而獲得聚醯胺醯亞胺前驅物。因此，聚醯胺醯亞胺前驅物表示至少具有源自二胺化合物之結構單元、源自四羧酸之結構單元、及源自二羧酸化合物之結構單元之醯亞胺化前(閉環前)之聚醯胺醯亞胺。
於樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物之反應溫度並無特別限定，例如為5～350℃，較佳為5～200℃，更佳為5～100℃。反應時間亦並無特別限定，例如30分鐘～10小時左右。視需要可於惰性氛圍或減壓之條件下進行反應。於較佳之態樣中，反應係於常壓及/或惰性氣體氛圍下，一面攪拌一面進行。又，反應較佳為於對反應惰性之溶劑中進行。作為溶劑，只要不會對反應帶來影響，則並無特別限定，例如可列舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇、丙二醇單甲醚等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、γ-戊內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、甲基異丁基酮等酮系溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合(混合溶劑)等。該等之中，就溶解性之觀點而言，可適宜地使用醯胺系溶劑。
聚醯胺醯亞胺系樹脂之製造方法可進而包括於醯亞胺化觸媒之存在下，使聚醯胺醯亞胺前驅物醯亞胺化之步驟(III)。藉由將步驟(II)中所獲得之聚醯胺醯亞胺前驅物供於步驟(III)，聚醯胺醯亞胺前驅物之結構單元之中，具有聚醯胺酸結構之結構單元部分經醯亞胺化(經閉環)，而可獲得包含式(1)所表示之結構單元與式(2)所表示之結構單元之聚醯胺醯亞胺系樹脂。作為醯亞胺化觸媒，例如可列舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及吡啶、2-甲基吡啶(2-picoline)、3-甲基吡啶(3-picoline)、4-甲基吡啶(4-picoline)、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等芳香族胺。又，就容易促進醯亞胺化反應之觀點而言，較佳為使用醯亞胺化觸媒及酸酐。酸酐可列舉於醯亞胺化反應中所使用之慣用之酸酐等，作為其具體例，可列舉：乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等脂肪族酸酐、鄰苯二甲酸等芳香族酸酐等。
聚醯胺醯亞胺系樹脂可藉由慣用之方法例如過濾、濃縮、萃取、晶析、再結晶、管柱層析法等分離方法、或組合該等之分離方法而進行單離(分離精製)，於較佳之態樣中，可藉由向包含聚醯胺醯亞胺系樹脂之反應液中，添加大量甲醇等醇，使樹脂析出，並進行濃縮、過濾、乾燥等而進行單離。
＜填料＞ 本發明之光學膜可包含至少1種填料。作為填料，例如可列舉有機粒子、無機粒子等，較佳為可列舉無機粒子。作為無機粒子，可列舉：二氧化矽、氧化鋯、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物粒子；氟化鎂、氟化鈉等金屬氟化物粒子等，該等之中，就提高光學膜之彈性模數及/或撕裂強度，容易提高耐衝擊性之觀點而言，較佳為可列舉：二氧化矽粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子，更佳為可列舉二氧化矽粒子。該等填料可單獨使用或組合兩種以上而使用。
填料、較佳為二氧化矽粒子之平均一次粒徑通常為1 nm以上，較佳為5 nm以上，更佳為10 nm以上，進而較佳為15 nm以上，尤佳為20 nm以上，且較佳為100 nm以下，更佳為90 nm以下，進而較佳為80 nm以下，進而更佳為70 nm以下，尤佳為60 nm以下，尤其更佳為50 nm以下，尤其進而較佳為40 nm以下。若二氧化矽粒子之平均一次粒徑為上述範圍內，則抑制二氧化矽粒子之凝聚，容易提高所獲得之光學膜之光學特性。填料之平均一次粒徑可藉由BET法而進行測定。再者，可利用穿透式電子顯微鏡或掃描式電子顯微鏡之圖像分析，測定平均一次粒徑。
於本發明之光學膜含有填料、較佳為二氧化矽粒子之情形時，關於填料之含量，相對於光學膜100質量份，通常為0.1質量份以上，較佳為1質量份以上，更佳為5質量份以上，進而較佳為10質量份以上，進而更佳為20質量份以上，尤佳為30質量份以上，且較佳為60質量份以下。若填料之含量為上述下限以上，則容易提高所獲得之光學膜之彈性模數。又，若填料之含量為上述上限以下，則容易提高光學膜之光學特性。
＜紫外線吸收劑＞ 本發明之光學膜可包含至少1種紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可自於樹脂材料之領域中通常用作紫外線吸收劑者中適當選擇。紫外線吸收劑亦可包含吸收400 nm以下之波長之光之化合物。作為紫外線吸收劑，例如可列舉選自由二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并三唑系化合物、及三𠯤系化合物所組成之群中之至少1種化合物。紫外線吸收劑可單獨使用或組合兩種以上而使用。藉由光學膜含有紫外線吸收劑，抑制樹脂之劣化，故而於將本發明之光學膜應用於顯示裝置等之情形時可提高視認性。於本說明書中，所謂「系化合物」係指附有該「系化合物」之化合物之衍生物。例如，所謂「二苯甲酮系化合物」係指具有作為母體骨架之二苯甲酮與鍵結於二苯甲酮之取代基之化合物。
於本發明之光學膜含有紫外線吸收劑之情形時，相對於光學膜中所含之聚醯胺醯亞胺系樹脂之質量，紫外線吸收劑之含量較佳為0.01～10質量%，更佳為1～8質量%，進而較佳為2～7質量%。若紫外線吸收劑之含量為上述下限以上，則容易提高紫外線吸收性。若紫外線吸收劑之含量為上述上限以下，則可抑制由基材製造時之熱所引起之紫外線吸收劑之分解，容易提高光學特性，例如容易降低霧度。
＜其他添加劑＞ 本發明之光學膜可進而含有填料、紫外線吸收劑以外之其他添加劑。作為其他添加劑，例如可列舉：抗氧化劑、脫模劑、穩定劑、上藍劑等著色劑、阻燃劑、pH值調整劑、二氧化矽分散劑、潤滑劑、增黏劑、及調平劑等。於含有其他添加劑之情形時，相對於光學膜之質量，其含量較佳可為0.001～20質量%，更佳可為0.01～15質量%，進而較佳可為0.1～10質量%。
(光學膜之製造方法) 本發明之光學膜之製造方法並無特別限定，例如可為包括以下之步驟之製造方法： (a)製備至少包含上述聚醯胺醯亞胺系樹脂及溶劑之聚醯胺醯亞胺系樹脂組合物(以下，亦稱為「清漆」)之步驟(清漆製備步驟)、 (b)將清漆塗佈於支持材而形成塗膜之步驟(塗佈步驟)、及 (c)使所塗佈之液體(塗膜)乾燥而形成光學膜之步驟(光學膜形成步驟)。
於清漆製備步驟中，藉由使聚醯胺醯亞胺系樹脂溶解於溶劑中，視需要添加上述填料、紫外線吸收劑等添加劑並進行攪拌混合而製備清漆。再者，於使用二氧化矽粒子作為填料之情形時，可將二氧化矽溶膠添加至樹脂中，該二氧化矽溶膠係利用上述樹脂可溶解之溶劑例如下述清漆之製備中所使用之溶劑對包含二氧化矽粒子之二氧化矽溶膠的分散液進行置換而成。
清漆之製備中所使用之溶劑只要可溶解上述樹脂，則並無特別限定。作為該溶劑，例如可列舉：N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；γ-丁內酯(GBL)、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合(混合溶劑)。該等之中，較佳為醯胺系溶劑或內酯系溶劑。該等溶劑可單獨使用或組合兩種以上而使用。又，於清漆中亦可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%，進而較佳為5～15質量%。
於塗佈步驟中，藉由公知之塗佈方法，向支持材上塗佈清漆而形成塗膜。作為公知之塗佈方法，例如可列舉：線棒塗佈法、反向塗佈法、凹版塗佈法等輥塗法、模嘴塗佈法、卡馬塗佈法、模唇塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流延成形法等。
於膜形成步驟中，藉由使塗膜乾燥，並自支持材剝離，可形成光學膜。剝離後進而可設置使光學膜乾燥之步驟。塗膜之乾燥通常可於50～350℃之溫度下進行。視需要可於惰性氛圍或減壓之條件進行塗膜之乾燥。
作為支持材之例，若為金屬系則可列舉SUS板，若為樹脂系則可列舉：PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜、PEN(Polyethylene Naphthalate，聚萘二甲酸乙二酯)膜、聚醯胺系樹脂膜、聚醯亞胺系樹脂膜、環烯烴系聚合物(COP)膜、丙烯酸系膜等。其中，就平滑性、耐熱性優異之觀點而言，較佳為PET膜、COP膜等，進而就與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳為PET膜。
本發明之光學膜之用途並無特別限定，可用於各種用途。本發明之光學膜如上述中所說明般，可為單層亦可為積層體，可直接使用本發明之光學膜，亦可進而用作與其他膜之積層體。再者，於光學膜為積層體之情形時，包含積層於光學膜之單面或雙面之所有層在內而稱為光學膜。
(功能層) 可於本發明之光學膜之至少一面積層1層以上之功能層。作為功能層，例如可列舉：紫外線吸收層、硬塗層、底塗層、阻氣層、黏著層、色相調整層、折射率調整層等。功能層可單獨使用或組合兩種以上而使用。
紫外線吸收層係具有紫外線吸收功能之層，例如由選自紫外線硬化型之透明樹脂、電子束硬化型之透明樹脂、及熱硬化型之透明樹脂中之主材料、及分散於該主材料中之紫外線吸收劑所構成。
可於本發明之光學膜之至少一面設置硬塗層。硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為2～100 μm。若上述硬塗層之厚度處於上述範圍內，則可確保充分之耐擦傷性，且存在耐彎曲性不易降低，不易產生由硬化收縮所引起之捲曲產生之問題的傾向。 上述硬塗層可使包含可藉由活性能量線照射、或熱能賦予而形成交聯結構之反應性材料之硬塗組合物硬化而形成，較佳為利用活性能量線照射進行者。活性能量線係定義為可使產生活性種之化合物分解而產生活性種之能量線，可列舉：可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等，較佳為可列舉紫外線。上述硬塗組合物含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。
上述自由基聚合性化合物係具有自由基聚合性基之化合物。作為上述自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基，只要為可產生自由基聚合反應之官能基即可，可列舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言可列舉乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。再者，於上述自由基聚合性化合物具有2個以上之自由基聚合性基之情形時，該等自由基聚合性基相互可相同亦可不同。就提高硬塗層之硬度之方面而言，上述自由基聚合性化合物於1分子中具有之自由基聚合性基數較佳為2以上。作為上述自由基聚合性化合物，就反應性高之方面而言，較佳為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言，可列舉：1分子中具有2～6個(甲基)丙烯醯基之被稱為多官能丙烯酸酯單體之化合物或被稱為環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯之分子內具有數個(甲基)丙烯醯基之分子量為數百至數千之低聚物，較佳為可列舉選自環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯中之1種以上。
上述陽離子聚合性化合物係具有環氧基、氧雜環丁基、乙烯醚基等陽離子聚合性基之化合物。就提高硬塗層之硬度之方面而言，上述陽離子聚合性化合物於1分子中具有之陽離子聚合性基數較佳為2以上，更佳為3以上。 又，作為上述陽離子聚合性化合物，其中，較佳為具有環氧基及氧雜環丁基之至少1種作為陽離子聚合性基之化合物。環氧基、氧雜環丁基等環狀醚基就伴隨聚合反應之收縮較小之方面而言較佳。又，具有環狀醚基中之環氧基之化合物具有容易獲取多樣化之結構之化合物、不會對所獲得之硬塗層之耐久性帶來不良影響、亦容易控制與自由基聚合性化合物之相溶性之優點。又，環狀醚基中之氧雜環丁基與環氧基相比，具有聚合度容易變高、加快由所獲得之硬塗層之陽離子聚合性化合物獲得之網狀結構形成速度、於與自由基聚合性化合物混合存在之區域中亦不會使未反應之單體殘留於膜中而形成獨立之網狀結構等優點。 作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，例如可列舉：藉由利用過氧化氫、過酸等適當之氧化劑，對具有脂環族環之多元醇之聚縮水甘油醚或含環己烯環、環戊烯環之化合物進行環氧化而獲得之脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂；藉由雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等雙酚類、或該等之環氧烷加成物、己內酯加成物等衍生物與表氯醇之反應而製造之縮水甘油醚、及為酚醛清漆環氧樹脂等且由雙酚類衍生之縮水甘油醚型環氧樹脂等。
上述硬塗組合物可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可列舉：自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。該等聚合起始劑係利用活性能量線照射及加熱之至少一種進行分解，產生自由基或陽離子而進行自由基聚合與陽離子聚合者。 自由基聚合起始劑只要可釋出利用活性能量線照射及加熱之至少任一者而開始自由基聚合之物質即可。例如，作為熱自由基聚合起始劑，可列舉：過氧化氫、過苯甲酸等有機過氧化物、偶氮二丁腈等偶氮化合物等。 作為活性能量線自由基聚合起始劑，存在藉由分子之分解而生成自由基之1型自由基聚合起始劑、及與三級胺共存而藉由奪氫型反應生成自由基之2型自由基聚合起始劑，該等係單獨使用或併用而使用。 陽離子聚合起始劑只要可釋出利用活性能量線照射及加熱之至少任一者而開始陽離子聚合之物質即可。作為陽離子聚合起始劑，可使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。該等可根據結構之不同利用活性能量線照射或加熱中之任一者或全部而開始陽離子聚合。
上述聚合起始劑相對於上述全部硬塗組合物100質量%較佳為可包含0.1～10質量%。若上述聚合起始劑之含量處於上述範圍內，則有可充分地進行硬化，可將最終所獲得之塗膜之機械物性或密接力設為良好之範圍，又，不易產生由硬化收縮所引起之接著力不良或破裂現象及捲曲現象之傾向。
上述硬塗組合物可進而包含選自由溶劑及添加劑所組成之群中之一種以上。 上述溶劑係可使上述聚合性化合物及聚合起始劑溶解或分散者，只要為作為本技術領域之硬塗組合物之溶劑而已知之溶劑，則可於不阻礙本發明之效果之範圍內使用。 上述添加劑可進而包含無機粒子、調平劑、穩定劑、界面活性劑、防靜電劑、潤滑劑、防污劑等。
黏著層係具有黏著性之功能之層，具有將光學膜接著於其他構件之功能。作為黏著層之形成材料，可使用通常已知者。例如可使用熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物。於該情形時，藉由於事後供給能量，可將樹脂組合物高分子化並使之硬化。
黏著層可為被稱為感壓型接著劑(PSA，Pressure Sensitive Adhesive)之藉由推壓而貼合於對象物之層。感壓型接著劑可為作為「於常溫下具有黏著性，且以較輕之壓力接著於被接著材之物質」(JIS K 6800)之黏著劑，亦可為作為「將特定成分內包於保護覆膜(微膠囊)，並至藉由適當之方法(壓力、熱等)破壞覆膜為止可保持穩定性之接著劑」(JIS K6800)之膠囊型接著劑。
色相調整層係具有色相調整功能之層，且係可將包含光學膜之積層體調整為目標之色相之層。色相調整層例如係含有樹脂及著色劑之層。作為該著色劑，例如可列舉：氧化鈦、氧化鋅、紅丹、氧鈦系煅燒顏料、群青、鋁酸鈷、及碳黑等無機顏料；偶氮系化合物、喹吖酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、異吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、蒽系化合物、及二酮基吡咯并吡咯系化合物等有機顏料；硫酸鋇、及碳酸鈣等體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料、及媒染染料等染料。
折射率調整層係具有折射率調整之功能之層，例如具有不同於光學膜之折射率，係可對光學積層體賦予特定之折射率之層。折射率調整層例如可為含有適當選擇之樹脂、及視情形進而含有顏料之樹脂層，亦可為金屬之薄膜。作為調整折射率之顏料，例如可列舉：氧化矽、氧化鋁、氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鋯及氧化鉭。該顏料之平均一次粒徑可為0.1 μm以下。藉由將顏料之平均一次粒徑設為0.1 μm以下，可防止透過折射率調整層之光之漫反射，防止透明度之降低。作為折射率調整層中所使用之金屬，例如可列舉：氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化矽、氧化銦、氮氧化鈦、氮化鈦、氮氧化矽、氮化矽等金屬氧化物或金屬氮化物。
本發明之光學膜可為單層，亦可為積層體，例如可直接使用以上述方法製造之光學膜，亦可進而用作與其他膜之積層體。
於本發明之一實施態樣中，光學膜可於至少一面(單面或雙面)具有保護膜。例如於在光學膜之單面具有功能層之情形時，保護膜可積層於光學膜側之表面或功能層側之表面，亦可積層於光學膜側與功能層側之兩者。於在光學膜之雙面具有功能層之情形時，保護膜可積層於一面之功能層側之表面，亦可積層於兩面之功能層側之表面。保護膜係用以暫時地保護光學膜或功能層之表面之膜，只要為可保護光學膜或功能層之表面之剝離之膜，則並無特別限定。作為保護膜，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯膜等聚烯烴系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜等，較佳為選自由聚烯烴系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜及丙烯酸系樹脂膜所組成之群。於光學膜具有2層保護膜之情形時，各保護膜相互可相同亦可不同。
保護膜之厚度並無特別限定，通常為10～120 μm，較佳為15～110 μm，更佳為20～100 μm。於光學膜具有2層保護膜之情形時，各保護膜之厚度可相同亦可不同。
於本發明之較佳之一實施形態中，本發明之光學膜作為顯示裝置之前面板、尤其是可撓性顯示裝置之前面板(以下，有時稱為視窗膜)而較有用。可撓性顯示裝置例如具有可撓性功能層、及重疊於可撓性功能層上作為前面板而發揮功能之光學膜。即，可撓性顯示裝置之前面板係配置於可撓性功能層上之視認側。該前面板具有保護可撓性功能層之功能。
作為顯示裝置，可列舉：電視、智慧型手機、行動電話、汽車導航系統、平板PC(Personal Computer，個人電腦)、攜帶型遊戲機、電子紙、指示器、公告板、時鐘、及智慧型手錶等可佩戴式裝置等。作為可撓性顯示裝置，可列舉具有可撓性特性之所有顯示裝置。
[可撓性顯示裝置] 本發明亦提供一種具備本發明之光學膜之可撓性顯示裝置。本發明之光學膜較佳為於可撓性顯示裝置中用作前面板，該前面板有時被稱為視窗膜。該可撓性顯示裝置包含可撓性顯示裝置用積層體與有機EL顯示面板，對有機EL顯示面板於視認側配置可撓性顯示裝置用積層體，且以可彎折之方式構成。可撓性顯示裝置用積層體可含有視窗膜、偏光板、觸控感測器，該等之積層順序為任意，較佳為自視認側起依序積層視窗膜、偏光板、觸控感測器或視窗膜、觸控感測器、偏光板。若於觸控感測器之視認側存在偏光板，則觸控感測器之圖案不易視認，顯示圖像之視認性變得良好，故而較佳。各構件可使用接著劑、黏著劑等進行積層。又，可具備形成於上述視窗膜、偏光板、觸控感測器中之任一層之至少一面之遮光圖案。
[偏光板] 可撓性顯示裝置可具備偏光板，其中較佳為具備圓偏光板。圓偏光板係藉由在直線偏光板上積層λ/4相位差板而具有僅使右旋圓偏光成分或左旋圓偏光成分透過之功能的功能層。例如用於遮斷將外界光轉換為右旋圓偏光，並經有機EL面板反射而成為左旋圓偏光之外界光，僅使有機EL之發光成分透過，藉此抑制反射光之影響而使圖像容易看到。為了達成圓偏光功能，直線偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之遲相軸理論上需要為45°，實用上為45±10°。直線偏光板與λ/4相位差板未必需要鄰接地積層，只要吸收軸與遲相軸之關係滿足上述範圍即可。較佳為於全波長下達成完全之圓偏光，但實用上未必需要如此，故而本發明中之圓偏光板亦包含橢圓偏光板。亦較佳為藉由在直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜，使出射光成為圓偏光，而提高於佩戴有偏光太陽眼鏡之狀態下之視認性。
直線偏光板係具有使於透射軸方向上振動之光通過，但遮斷與其垂直之振動成分之偏光之功能的功能層。上述直線偏光板可為單獨具備直線偏光元件之構成，或具備直線偏光元件及貼附於其至少一面之保護膜之構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則有柔軟性不易降低之傾向。 上述直線偏光元件可為藉由將聚乙烯醇(PVA)系膜染色、延伸所製造之膜型偏光元件。藉由使碘等二色性色素吸附於藉由延伸而配向之PVA系膜，或藉由在吸附於PVA之狀態下延伸，而使二色性色素進行配向，發揮偏光性能。於上述膜型偏光元件之製造中，此外還可具有膨潤、利用硼酸之交聯、利用水溶液之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可PVA系膜單獨地進行，亦可在與聚對苯二甲酸乙二酯之類之其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，延伸倍率較佳為2～10倍。 進而作為上述偏光元件之另一例，亦可為塗佈液晶偏光組合物而形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏光組合物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有顯示液晶狀態之性質即可，若具有層列相等高次之配向狀態，則可發揮出較高之偏光性能，故而較佳。又，液晶性化合物亦較佳為具有聚合性官能基。
上述二色性色素係與上述液晶化合物一併進行配向而顯示二色性之色素，二色性色素本身可具有液晶性，亦可具有聚合性官能基。液晶偏光組合物中之任一種化合物具有聚合性官能基。 上述液晶偏光組合物可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。 上述液晶偏光層係藉由向配向膜上塗佈液晶偏光組合物以形成液晶偏光層而製造。 液晶偏光層可形成薄於膜型偏光元件之厚度。上述液晶偏光層之厚度較佳可為0.5～10 μm，更佳可為1～5 μm。 上述配向膜例如可藉由向基材上塗佈配向膜形成組合物，利用摩擦、偏光照射等賦予配向性而製造。上述配向膜形成組合物除配向劑以外，亦可包含溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可使用聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於應用光配向之情形時，較佳為使用包含肉桂酸酯基之配向劑。用作上述配向劑之高分子之重量平均分子量可為10,000～1,000,000左右。關於上述配向膜之厚度，就配向限制力之觀點而言，較佳為5～10,000 nm，更佳為10～500 nm。上述液晶偏光層可自基材剝離，並進行轉印而積層，亦可直接積層上述基材。上述基材亦較佳為承擔作為保護膜或相位差板、視窗之透明基材之作用。
作為上述保護膜，只要為透明之高分子膜即可，可使用上述透明基材中所使用之材料、添加劑。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物並進行硬化而獲得之塗佈型之保護膜。視需要亦可包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、防靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述保護膜之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若上述保護膜之厚度處於上述範圍內，則保護膜之柔軟性不易降低。保護膜亦可兼作視窗之透明基材之作用。
上述λ/4相位差板係對正交於入射光之進行方向之方向(膜之面內方向)賦予λ/4之相位差的膜。上述λ/4相位差板可為藉由使纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜延伸所製造之延伸型相位差板。視需要亦可包含相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、防靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述延伸型相位差板之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若厚度處於上述範圍內，則有膜之柔軟性不易降低之傾向。 進而作為上述λ/4相位差板之另一例，可為塗佈液晶組合物而形成之液晶塗佈型相位差板。上述液晶組合物包含具有顯示向列型、膽固醇狀、層列型等液晶狀態之液晶性化合物。包含液晶組合物中之液晶性化合物之任一種化合物具有聚合性官能基。上述液晶塗佈型相位差板可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。上述液晶塗佈型相位差板可藉由與上述液晶偏光層中之記載同樣地向配向膜上塗佈液晶組合物並使之硬化形成液晶相位差層而製造。液晶塗佈型相位差板可形成薄於延伸型相位差板之厚度。上述液晶偏光層之厚度通常可為0.5～10 μm，較佳可為1～5 μm。上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離，進行轉印而積層，亦可直接積層上述基材。上述基材亦較佳為承擔作為保護膜或相位差板、視窗之透明基材之作用。
通常，越為短波長則雙折射越大，越成為長波長則顯示越小之雙折射之材料較多。於該情形時，無法於全部可見光區域內達成λ/4之相位差，故而多數情況下以相對於可見度較高之560 nm附近如成為λ/4之面內相位差成為100～180 nm，更佳為成為130～150 nm之方式進行設計。使用具有與通常相反之雙折射率波長色散特性之材料的逆色散λ/4相位差板可使視認性變得良好，故而較佳。亦較佳為作為此種材料，於延伸型相位差板之情形時使用於日本專利特開2007-232873號公報等中所記載者，於液晶塗佈型相位差板之情形時使用於日本專利特開2010-30979號公報中所記載者。 又，作為其他方法，亦已知有藉由與λ/2相位差板組合，而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(日本專利特開平10-90521號公報)。λ/2相位差板亦藉由與λ/4相位差板同樣之材料方法而製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板之組合為任意，任一者均使用液晶塗佈型相位差板可使厚度變薄，故而較佳。 於上述圓偏光板中，為了提高斜方向之視認性，亦已知有積層正C板積層之方法(日本專利特開2014-224837號公報)。正C板可為液晶塗佈型相位差板，亦可為延伸型相位差板。厚度方向之相位差為-200～-20 nm，較佳為-140～-40 nm。
[觸控感測器] 本發明之可撓性顯示裝置可進而具備觸控感測器。觸控感測器可用作輸入機構。作為觸控感測器，業界提出有電阻膜方式、表面彈性波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種方式，可為任一種方式。其中，較佳為靜電電容方式。靜電電容方式觸控感測器被劃分為活性區域及位於上述活性區域之輪廓部之非活性區域。活性區域係與作為於顯示面板上顯示畫面之顯示部的區域相對應，且感知使用者之觸控之區域，非活性區域係與作為於顯示裝置中不顯示畫面之非顯示部的區域相對應之區域。觸控感測器可包含：基板，其具有可撓性之特性；感知圖案，其形成於上述基板之活性區域；及各感測線，其形成於上述基板之非活性區域，用以經由焊墊部將上述感知圖案與外部之驅動電路連接。作為具有可撓性之特性之基板，可使用與上述視窗之透明基板同樣之材料。關於觸控感測器之基板，就抑制觸控感測器之龜裂之方面而言，較佳為其韌性為2,000 MPa%以上者。更佳為韌性可為2,000～30,000 MPa%。此處，韌性係利用通過高分子材料之拉伸實驗所獲得應力(MPa)-應變(%)曲線(Stress-strain curve)定義為至破壞點為止之曲線之下部面積。
上述感知圖案可具備形成於第1方向之第1圖案及形成於第2方向之第2圖案。第1圖案與第2圖案係配置於相互不同之方向上。第1圖案及第2圖案係形成於同一層，為了感知觸控之地點，各圖案必須電性連接。第1圖案為各單元圖案經由接頭而相互連接之形態，第2圖案成為各單元圖案相互分離成島嶼形態之構造，故而為了電性連接第2圖案，需要另外之橋接電極。感知圖案可應用周知之透明電極素材。例如可列舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、氧化鋅(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-亞乙二氧基噻吩))、奈米碳管(CNT)、石墨烯、金屬線等，該等可單獨使用或混合兩種以上而使用。較佳為可使用ITO。金屬線中所使用之金屬並無特別限定，例如可列舉：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、硒、鉻等。該等可單獨使用或混合兩種以上而使用。
橋接電極可於感知圖案上部介隔絕緣層而形成於上述絕緣層上部，可於基板上形成橋接電極，且於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極可由與感知圖案相同之素材所形成，亦可由鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或該等中之2種以上之合金等金屬形成。第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，故而於感知圖案與橋接電極之間形成絕緣層。絕緣層可僅形成於第1圖案之接頭與橋接電極之間，亦可形成為覆感知圖案之層之構造。於後者之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔而連接第2圖案。關於上述觸控感測器，作為用以適當地補償形成有圖案之圖案區域與未形成圖案之非圖案區域間之透過率的差、具體而言，由該等區域中之折射率之差誘發之透光率之差的方法，可於基板與電極之間進而包含光學調節層，上述光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可將包含光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物塗佈於基板上而形成。上述光硬化組合物可進而包含無機粒子。利用上述無機粒子，可提高光學調節層之折射率。 上述光硬化性有機黏合劑例如可包含丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如可為包含含環氧基之重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等相互不同之各重複單元之共聚物。 上述無機粒子例如可包含氧化鋯粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。上述光硬化組合物亦可進而包含光聚合起始劑、聚合性單體、硬化助劑等各添加劑。
[接著層] 形成上述可撓性顯示裝置用積層體之視窗膜、偏光板、觸控感測器等各層、以及構成各層之直線偏光板、λ/4相位差板等膜構件可利用接著劑進行接著。作為接著劑，可使用水系接著劑、有機溶劑系接著劑、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、水系溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑、感壓型黏著劑、再濕型接著劑等通用所使用者。其中可良好地使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著層之厚度可根據所要求之接著力等適當調節，例如為0.01～500 μm，較佳為0.1～300 μm。接著層可於上述可撓性顯示裝置用積層體中存在複數層，各厚度及所使用之接著劑之種類可相同亦可不同。
作為上述水系溶劑揮散型接著劑，可使用聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳膠、苯乙烯-丁二烯系乳膠等水分散狀態之聚合物作為主劑聚合物。除水、上述主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於利用上述水系溶劑揮散型接著劑進行接著之情形時，於將上述水系溶劑揮散型接著劑注入至被接著層間而貼合被接著層後，使之乾燥，藉此可賦予接著性。使用上述水系溶劑揮散型接著劑之情形時之接著層之厚度可為0.01～10 μm，較佳可為0.1～1 μm。於將上述水系溶劑揮散型接著劑用於複數層之形成中之情形時，各層之厚度及上述接著劑之種類可相同亦可不同。
上述活性能量線硬化型接著劑可藉由包含照射活性能量線而形成接著劑層之反應性材料之活性能量線硬化組合物之硬化而形成。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物同樣之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。上述所謂自由基聚合性化合物，與硬塗組合物同樣，可使用與硬塗組合物同樣之種類者。作為接著層中所使用之自由基聚合性化合物，較佳為具有丙烯醯基之化合物。為了降低作為接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物。
上述陽離子聚合性化合物與硬塗組合物同樣，可使用與硬塗組合物同樣之種類者。作為活性能量線硬化組合物中所使用之陽離子聚合性化合物，更佳為環氧化合物。為了降低接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物作為反應性稀釋劑。 於活性能量線組合物中可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，為自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。該等聚合起始劑係利用活性能量線照射及加熱之至少一種進行分解，產生自由基或陽離子而進行自由基聚合與陽離子聚合者。可使用硬塗組合物之記載中藉由活性能量線照射而可開始自由基聚合或陽離子聚合中之至少任一種之起始劑。
上述活性能量線硬化組合物可進而包含離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑、溶劑。於利用上述活性能量線硬化型接著劑進行接著之情形時，將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層中之任一者或兩者後進行貼合，通過任一者之被接著層或兩者之被接著層照射活性能量線而使之硬化，藉此可進行接著。使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時之接著層之厚度可為0.01～20 μm，較佳可為0.1～10 μm。於將上述活性能量線硬化型接著劑用於複數層之形成中之情形時，各層之厚度及所使用之接著劑之種類可相同亦可不同。
作為上述黏著劑，根據主劑聚合物，亦可分類為丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等而使用任一種。於黏著劑中，除主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。使構成上述黏著劑之各成分溶解、分散於溶劑中而獲得黏著劑組合物，於將該黏著劑組合物塗佈於基材上後使之乾燥，藉此形成黏著層(接著層)。黏著層可直接形成，亦可將另外形成於基材者轉印。為了覆蓋接著前之黏著面，亦較佳為使用脫模膜。使用上述黏著劑之情形時之接著層之厚度可為1～500 μm，較佳可為2～300 μm。於將上述黏著劑用於複數層之形成中之情形時，各層之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同亦可不同。
[遮光圖案] 上述遮光圖案可應用為上述可撓性顯示裝置之邊框或殼體之至少一部分。配置於上述可撓性顯示裝置之邊緣部之配線被遮光圖案遮蔽而不易視認，因此圖像之視認性提高。上述遮光圖案可為單層或複層之形態。遮光圖案之色彩並無特別限制，可具有黑色、白色、金屬色等多樣化之色彩。遮光圖案可利用用以實現色彩之顏料、及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等高分子而形成。亦可單獨使用該等或使用兩種以上之混合物。上述遮光圖案可藉由印刷、平版印刷、噴墨等各種方法而形成。遮光圖案之厚度通常為1～100 μm，較佳為2～50 μm。又，亦較佳為對遮光圖案之厚度方向賦予傾斜等形狀。 [實施例]
以下，藉由實施例更詳細地說明本發明。例中之「%」及「份」只要未特別記載，則係指質量%及質量份。首先，對評價方法進行說明。
＜彈性模數之測定＞ 使用島津製作所股份有限公司製造之「Autograph AG-IS」，對在實施例及比較例中所獲得之聚醯胺醯亞胺膜之彈性模數進行測定。製作縱橫10 mm寬之膜，於夾頭間距離50 mm、拉伸速度10 mm/min之條件下測定S-S曲線，並根據其斜率算出彈性模數。
＜表面硬度之測定＞ 作為在實施例及比較例中所獲得之聚醯胺醯亞胺膜之表面硬度，依據JIS K 5600-5-4：1999，採用膜表面之鉛筆硬度。荷重設為100 g，掃描速度設為60 mm/min，於4000勒克司之環境下，進行有無傷痕之評價，測定鉛筆硬度。
＜重量平均分子量之測定＞ 凝膠滲透層析法(GPC)測定 (1)預處理方法 向樣品中以成為濃度2 mg/mL之方式添加DMF(Dimethyl Formamide，二甲基甲醯胺)溶離液(10 mmol/L溴化鋰溶液)，一面於80℃下攪拌30分鐘一面加熱，冷卻後，進行0.45 μm膜濾器過濾，將所得者作為測定溶液。 (2)測定條件 管柱：Tosoh股份有限公司製造之TSKgel α-2500((7)7.8 mm直徑×300 mm)×1根、α-M((13)7.8 mm直徑×300 mm)×2根 溶離液：DMF(添加10 mmol/L之溴化鋰) 流量：1.0 mL/min 偵測器：RI偵測器 管柱溫度：40℃ 注入量：100 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯
＜膜之厚度之測定＞ 實施例及比較例中所獲得之聚醯胺醯亞胺膜之厚度係使用測微計(Mitutoyo股份有限公司製造之「ID-C112XBS」)而進行測定。
＜實施例1＞ [聚醯胺醯亞胺樹脂(1)之製備] 於氮氣氛圍下，向具備攪拌翼之可分離式燒瓶中，以TFMB之固形物成分成為2.36質量%之方式添加2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺(TFMB)及N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。其次，向燒瓶中以相對於TFMB成為30.30 mol%之方式添加4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)，並於室溫下攪拌3小時。其後，於冷卻至10℃後，以相對於TFMB成為5.05 mol%之方式添加4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)(OBBC)，以相對於TFMB成為27.28 mol%之方式添加2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-聯苯二甲醯氯(6FBPDOC)，並攪拌10分鐘，其後，進而以相對於TFMB成為5.05 mol%之方式添加OBBC，以相對於TFMB成為27.28 mol%之方式添加6FBPDOC，並攪拌30分鐘。其後，添加與初次添加之DMAc等量之DMAc，於攪拌10分鐘後，以相對於TFMB成為6.06 mol%之方式添加6FBPDOC，並攪拌2小時。繼而，向燒瓶中添加相對於TFMB分別為70.71 mol%之二異丙基乙基胺與4-甲基吡啶，相對於TFMB為212.12 mol%之乙酸酐，於攪拌30分鐘後，將內溫升溫至70℃，進而攪拌3小時，獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，以線狀投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，於甲醇中浸漬6小時後，利用甲醇進行洗淨。其次，於60℃下進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(1)。聚醯胺醯亞胺樹脂(1)之重量平均分子量為363,000。
[聚醯胺醯亞胺膜(1)之製造] 向所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂(1)中，以濃度成為10質量%之方式添加DMAc，而製作聚醯胺醯亞胺清漆(1)。於聚酯基材(Toyobo股份有限公司製造、商品名「A4100」)之平滑面上，以獨立膜之厚度成為50 μm之方式使用敷料器塗敷所獲得之聚醯胺醯亞胺清漆(1)，於50℃下乾燥30分鐘，繼而於140℃下乾燥15分鐘，從而獲得獨立膜。將獨立膜固定於金框，進而於200℃下乾燥60分鐘，而獲得厚度45 μm之聚醯胺醯亞胺膜(1)。
＜實施例2＞ [聚醯胺醯亞胺樹脂(2)之製備] 於氮氣氛圍下，向具備攪拌翼之可分離式燒瓶中，以TFMB之固形物成分成為4.20質量%之方式添加TFMB及DMAc，進而添加相對於TFMB為11.11 mol%之4,4'-(六氟亞丙基)二苯胺(6FDAM)，於室溫下一面攪拌一面使TFMB與6FDAM溶解於DMAc中。其次，向燒瓶中以相對於TFMB成為5.59 mol%之方式添加6FDA，並於室溫下攪拌3小時。其後，於冷卻至10℃後，以相對於TFMB成為10.17 mol%之方式添加OBBC，以相對於TFMB成為40.21 mol%之方式添加6FBPDOC，並攪拌10分鐘，其後，進而以相對於TFMB成為5.59 mol%之方式添加OBBC，以相對於TFMB成為40.21 mol%之方式添加6FBPDOC，並攪拌30分鐘。其後，添加與初次添加之DMAc等量之DMAc，於攪拌10分鐘後，以相對於TFMB成為8.93 mol%之方式添加6FBPDOC，並攪拌2小時。繼而，向燒瓶中添加相對於TFMB分別為100.50 mol%之二異丙基乙基胺與4-甲基吡啶，相對於TFMB為78.17 mol%之乙酸酐，於攪拌30分鐘後，將內溫升溫至70℃，進而攪拌3小時，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，以線狀投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，於甲醇中浸漬6小時後，利用甲醇進行洗淨。其次，於60℃下進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(2)。聚醯胺醯亞胺樹脂(2)之重量平均分子量為227,000。
[聚醯胺醯亞胺膜(2)之製造] 向所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂(2)中，以濃度成為10質量%之方式添加DMAc，而製作聚醯胺醯亞胺清漆(2)。於聚酯基材(Toyobo股份有限公司製造、商品名「A4100」)之平滑面上，以獨立膜之厚度成為55 μm之方式使用敷料器塗敷所獲得之聚醯胺醯亞胺清漆(2)，於50℃下乾燥30分鐘，繼而於140℃下乾燥15分鐘，從而獲得獨立膜。將獨立膜固定於金框，進而於200℃下乾燥60分鐘，而獲得厚度50 μm之聚醯胺醯亞胺膜(2)。
＜比較例1＞ [聚醯胺醯亞胺樹脂(3)之製備] 於氮氣氛圍下，向具備攪拌翼之可分離式燒瓶中，以TFMB之固形物成分成為5.35 wt%之方式添加TFMB及DMAc，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。其次，向燒瓶中以相對於TFMB成為41.24 mol%之方式添加6FDA，並於室溫下攪拌3小時。其後，於冷卻至10℃後，以相對於TFMB成為55.67 mol%之方式添加TPC，並攪拌30分鐘。其後，添加與初次添加之DMAc等量之DMAc，於攪拌10分鐘後，以相對於TFMB成為6.19 mol%之方式添加TPC，並攪拌2小時。繼而，向燒瓶中添加相對於TFMB分別為61.86 mol%之二異丙基乙基胺與4-甲基吡啶，相對於TFMB為288.66 mol%之乙酸酐，於攪拌30分鐘後，將內溫升溫至70℃，進而攪拌3小時，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，以線狀投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，於甲醇中浸漬6小時後，利用甲醇進行洗淨。其次，於60℃下進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(3)。聚醯胺醯亞胺樹脂(4)之重量平均分子量為174,000。
[聚醯胺醯亞胺膜(3)之製造] 向所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂(3)中，以濃度成為10質量%之方式添加DMAc，而製作聚醯胺醯亞胺清漆(3)。於聚酯基材(Toyobo股份有限公司製造、商品名「A4100」)之平滑面上，以獨立膜之厚度成為55 μm之方式使用敷料器塗敷所獲得之聚醯胺醯亞胺清漆(3)，於50℃下乾燥30分鐘，繼而於140℃下乾燥15分鐘，從而獲得獨立膜。將獨立膜固定於金框，進而於200℃下乾燥60分鐘，而獲得厚度50 μm之聚醯胺醯亞胺膜(3)。
依據上述方法對聚醯胺醯亞胺樹脂膜(1)～(3)之彈性模數及表面硬度(鉛筆硬度)進行測定。將所獲得之結果示於表1。
[表1]
   聚醯胺醯亞胺樹脂膜 彈性模數 [GPa] 鉛筆硬度
實施例 1 (1) 5.0 2 H
2 (2) 5.4 H
比較例 1 (3) 4.7 ＜6 B

Claims (10)

  1. 一種光學膜，其包含如下聚醯胺醯亞胺系樹脂，該聚醯胺醯亞胺系樹脂具有式(1)所表示之結構單元： [化30]
    Figure 03_image063
    [式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羰基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基、碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基、-SO2 -、-S-、-CO-、-PO-、-PO2 -、-N(R30 )-或-Si(R31 )2 -，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代，R30 及R31 相互獨立地表示氫原子、或可經鹵素原子取代之碳數1～12之烷基， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元： [化31]
    Figure 03_image065
    [式(2)中，X表示二價有機基，Y表示四價有機基]。
  2. 如請求項1之光學膜，其中式(1)中之R1 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基或鹵基，R1 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基、或羧基取代。
  3. 如請求項1或2之光學膜，其中式(1)中之V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學膜，其中聚醯胺醯亞胺系樹脂包含式(4)所表示之結構單元作為式(1)所表示之結構單元， [化32]
    Figure 03_image067
    [式(4)中，R1 及V相互獨立地為如對式(1)中之R1 及V所定義，R19 及R20 相互獨立地表示氫原子或對式(1)中之R2 所記載之基]。
  5. 如請求項4之光學膜，其中式(4)中之R1 為碳數1～12之氟烷基。
  6. 如請求項1至5中任一項之光學膜，其厚度為10～200 μm。
  7. 一種可撓性顯示裝置，其具備如請求項1至6中任一項之光學膜。
  8. 如請求項7之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
  9. 如請求項7或8之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。
  10. 一種聚醯胺醯亞胺系樹脂，其具有式(1)所表示之結構單元： [化33]
    Figure 03_image069
    [式(1)中， R1 及R2 相互獨立地表示碳數1～12之烷基、碳數1～12之烷氧基、碳數6～12之芳基、碳數6～12之芳氧基、碳數1～12之羰基、碳數1～12之氧基羰基或鹵基，此處，R1 及R2 中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、羥基或羧基取代， V表示單鍵、-O-、二苯基亞甲基或碳數1～12之直鏈狀、支鏈狀或脂環式之二價烴基，此處，該烴基中所含之氫原子可相互獨立地經鹵素原子取代， m表示0～2之整數，n表示1～4之整數，p表示0～4之整數，q表示0～4之整數]、 及式(2)所表示之結構單元： [化34]
    Figure 03_image071
    [式(2)中，X表示二價有機基，Y表示四價有機基]。
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