TW202126730A - 聚醯胺醯亞胺樹脂、光學膜及可撓性顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種光學特性及機械特性之經時性降低得到抑制之品質穩定性優異之光學膜、以及供形成該光學膜之聚醯胺醯亞胺樹脂。 本發明係一種聚醯胺醯亞胺樹脂，其中於以聚醯胺醯亞胺樹脂之氘化二甲基亞碸溶液作為測定試樣而獲得之¹ H-¹³ C HSQC圖譜中，區域(A)中所存在之波峰之積分值(int_A )與區域(B)中所存在之波峰之積分值(int_B )的比率(int_A /int_B )為1.5%以下，上述區域(A)係質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域，上述區域(B)係質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域。

Description

聚醯胺醯亞胺樹脂、光學膜及可撓性顯示裝置

本發明係關於一種聚醯胺醯亞胺樹脂、包含聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜、以及具備該光學膜之可撓性顯示裝置。

目前，液晶顯示裝置或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置等顯示裝置不僅被應用於電視，還被廣泛應用於行動電話或智慧型手錶等各種用途中。先前，作為此種顯示裝置之前面板，使用玻璃。然而，玻璃其透明度較高，根據種類不同能夠表現出高硬度，另一方面，非常剛直，容易破裂，因此難以用作可撓性顯示裝置之前面板材料。

因此，正研究應用高分子材料作為代替玻璃之材料。包含高分子材料之前面板由於容易表現出可撓性特性，故而被期待用於各種用途中。作為具有柔軟性之高分子材料之一，例如正研究使用聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜(專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特表2015-521686號公報

[發明所欲解決之問題]

於將包含聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜例如用於可撓性顯示裝置中之情形時，要求滿足光學特性、機械特性等各種特性。然而，明瞭：於長時間使用具備該光學膜之可撓性顯示裝置之情形時，根據可撓性顯示裝置所放置之環境不同，存在光學膜劣化、光學特性及機械特性經時性地降低之情況。

因此，本發明之課題在於提供一種光學特性及機械特性之經時性降低得到抑制之品質穩定性優異之光學膜、以及供形成該光學膜之聚醯胺醯亞胺樹脂。 [解決問題之技術手段]

本發明者等人為了解決上述課題進行了努力研究，結果發現，於聚醯胺醯亞胺樹脂之¹ H-¹³ C HSQC圖譜中之特定波峰之波峰體積滿足特定關係之情形時，能夠提昇包含該聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜之品質穩定性，從而完成本發明。

即，本發明包含以下較佳之態樣。 [1]一種聚醯胺醯亞胺樹脂，其中於以聚醯胺醯亞胺樹脂之氘化二甲基亞碸溶液作為測定試樣而獲得之¹ H-¹³ C HSQC圖譜中，區域(A)中所存在之波峰之積分值(int_A )與區域(B)中所存在之波峰之積分值(int_B )的比率(int_A /int_B )為1.5%以下，上述區域(A)係質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域，上述區域(B)係質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域。 [2]如上述[1]中記載之聚醯胺醯亞胺樹脂，其至少具有式(1)所表示之結構單元、及式(2)所表示之結構單元： [化1]

[式(1)中，Y表示4價有機基， X表示2價有機基， *表示鍵結鍵] [化2]

[式(2)中，Z及X相互獨立，表示2價有機基， *表示鍵結鍵]。 [3]如上述[1]或[2]中記載之聚醯胺醯亞胺樹脂，其具有200,000以上1,000,000以下之重量平均分子量。 [4]如上述[1]至[3]中任一項記載之聚醯胺醯亞胺樹脂，其中作為式(1)中之X或式(2)中之X，至少具有式(4)所表示之結構： [化3]

[式(4)中，H^4a 及H^4b 表示氫原子， R^4a ～R^4d 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R^4a ～R^4d 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， *表示鍵結鍵]。 [5]如上述[1]至[4]中任一項記載之聚醯胺醯亞胺樹脂，其中作為式(2)中之Z，至少具有式(3)所表示之結構： [化4]

[式(3)中，R^3a 及R^3b 相互獨立，表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R^3a 及R^3b 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， W相互獨立，表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，R⁹ 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， s為0～4之整數， t為0～4之整數， u為0～4之整數， *表示鍵結鍵]。 [6]一種光學膜，其包含如上述[1]至[5]中任一項記載之聚醯胺醯亞胺樹脂。 [7]一種光學膜，其係包含聚醯胺醯亞胺樹脂者，且該光學膜於保管試驗前後之重量平均分子量之變化率為26%以下，上述保管試驗係將該光學膜於溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週。 [8]如上述[7]中記載之光學膜，其於上述保管試驗前後之重量平均分子量之變化率為25%以下。 [9]一種可撓性顯示裝置之前面板，其具有如上述[6]至[8]中任一項記載之光學膜。 [10]一種可撓性顯示裝置，其具備如上述[9]中記載之前面板。 [11]如上述[10]中記載之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。 [12]如上述[10]或[11]中記載之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。 [13]一種如上述[1]至[5]中任一項記載之聚醯胺醯亞胺樹脂之製造方法，該方法係使二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物發生反應，且該二胺化合物相對於該四羧酸化合物與該二羧酸化合物之合計莫耳數之莫耳數之比率超過1.000。 [發明之效果]

根據本發明，能夠提供一種光學特性及機械特性之經時性降低得到抑制之品質穩定性優異之光學膜、以及供形成該光學膜之聚醯胺醯亞胺樹脂。

以下，針對本發明之實施方式詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不受此處所說明之實施方式所限定，可於不偏離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。

[聚醯胺醯亞胺樹脂] 關於本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂，於以聚醯胺醯亞胺樹脂之氘化二甲基亞碸溶液作為測定試樣而獲得之¹ H-¹³ C HSQC圖譜中，區域(A)中所存在之波峰之積分值(int_A )與區域(B)中所存在之波峰之積分值(int_B )的比率(int_A /int_B )為1.5%以下，上述區域(A)係質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域，上述區域(B)係質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域。

¹ H-¹³ C HSQC(Heteronuclear Single Quantum Correlation，異核單量子相關)圖譜係表示質子與碳之間之異種核間偶合之NMR(Nuclear Magnetic Resonance，核磁共振)圖譜，通常，於該圖譜中，縱軸表示碳之化學位移，橫軸表示質子之化學位移。本發明者發現，藉由使用區域(A)中所存在之波峰之積分值(int_A )與區域(B)中所存在之波峰之積分值(int_B )的比率(int_A /int_B )為1.5%以下之聚醯胺醯亞胺樹脂，能夠提供光學特性及機械特性之經時性降低得到抑制之品質穩定性優異之光學膜，上述區域(A)係質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域，上述區域(B)係質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域。於比率(int_A /int_B )超過1.5%之情形時，包含該樹脂之光學膜容易產生光學特性及機械特性之經時性降低。關於比率(int_A /int_B )，就容易進一步提昇抑制光學特性及機械特性降低之效果之觀點而言，較佳為1.2%以下，更佳為1.0%以下，進而較佳為0.8%以下，尤佳為0.6%以下。比率(int_A /int_B )越小越佳，其下限並無特別限定，通常為0以上，例如為0.01%以上。

關於比率(int_A /int_B )為1.5%以下之情形時能夠抑制所獲得之光學膜之光學特性及機械特性之經時性降低的原因，並不明確，但認為係由下文所述之原因所引起。聚醯胺醯亞胺樹脂通常是藉由以單體之形式使用四羧酸化合物、二羧酸化合物、及二胺化合物使其等進行聚合而獲得。並且，根據所聚合之單體之比率、聚合物之聚合條件不同，存在於所獲得之聚合物之末端殘存源自二羧酸之羧酸部分之情況。此處，認為：於¹ H-¹³ C HSQC圖譜中之質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域(A)中，存在與源自二羧酸並且於聚醯胺醯亞胺樹脂之末端所存在之羧酸部分之量對應之質子之波峰。因此，認為：相對地表示末端之源自二羧酸之羧酸部分之存在量的區域(A)中所存在之波峰之積分值(波峰之體積)相對於相當於聚醯胺醯亞胺樹脂之其他部分之質子的區域(B)中所存在之波峰之積分值為特定值以下之情形時，表示於聚醯胺醯亞胺樹脂之末端所存在之羧酸部分之量非常少，能夠抑制所獲得之光學膜之光學特性及機械特性之經時性降低。認為：若長時間使用光學膜，則特別是會自光學膜之表面產生因外在環境等引起之侵蝕，因此光學特性及機械特性可能會經時性地降低。於光學膜中所包含之聚醯胺醯亞胺樹脂之末端所存在之羧酸部分之量較少之情形時，能夠減少例如高溫多濕條件下對光學膜之表面之侵蝕，並且認為此種侵蝕之減少係抑制光學特性及機械特性之經時性降低之原因之一。又，由於相同之原因，由比率(int_A /int_B )為1.5%以下之樹脂所獲得之光學膜亦能夠抑制重量平均分子量之經時性降低。

如上所述，若聚醯胺醯亞胺樹脂之末端所存在之二羧酸之末端羧酸部分之量變多，則比率(int_A /int_B )中之int_A 會變大。因此，藉由以儘可能地減少源自二羧酸之末端之羧酸部分之方式合成聚醯胺醯亞胺樹脂，可將上述比率調整至1.5%以下之範圍。作為以儘可能地減少末端之羧酸部分之方式合成聚醯胺醯亞胺樹脂之方法的一例，想到如下方法：於合成聚醯胺醯亞胺樹脂時最先加入二羧酸化合物中反應性較低且容易成為末端羧酸之化合物、或使二胺單體之莫耳量高於二羧酸與四羧酸之合計莫耳量。具體而言，例如於使四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物進行共聚以獲得聚醯胺醯亞胺樹脂時，以使將四羧酸化合物與二羧酸化合物之合計莫耳量設為1時之二胺化合物之莫耳量之比率(二胺化合物之莫耳量/(四羧酸化合物及二羧酸化合物之合計莫耳量)，以下亦將該比率稱為「胺比」)成為較佳為1.000以上、更佳為1.003以上、進而較佳為1.005以上、進而更佳為1.008以上、尤佳為1.01以上之方式進行調整之情形時，容易將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。關於該胺比之上限，就容易提高聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量之觀點而言，較佳為1.05以下，更佳為1.03以下，進而較佳為1.02以下。

進而，藉由調整合成聚醯胺醯亞胺樹脂時所使用之溶劑中之水分量，亦能夠將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。具體而言，於溶劑中存在固定量之水分量之情形時，合成溶劑中之二羧酸化合物之一部分會失活，而變得不易導入至聚醯胺醯亞胺樹脂中。其結果，認為：於溶劑中存在固定量之水分量之情形時，能夠減小聚醯胺醯亞胺樹脂之末端所存在之源自二羧酸之羧酸部分之存在量，而容易將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。就容易將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍之觀點而言，於合成聚醯胺醯亞胺樹脂時所使用之溶劑中之水分量較佳為400 ppm以上，更佳為500 ppm以上，就抑制聚醯胺醯亞胺樹脂之分解之觀點而言，較佳為1,000 ppm以下，更佳為800 ppm以下。

又，藉由調整醯亞胺化升溫速度，亦能夠將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。具體而言，於合成聚醯胺醯亞胺樹脂時醯亞胺化升溫速度過快之情形時，醯亞胺化觸媒未充分地將合成溶劑中之鹽酸完全截留，由於該鹽酸會使聚醯胺醯亞胺樹脂分解，故於聚醯胺醯亞胺樹脂之末端容易存在源自二羧酸化合物之羧酸部分。因此，藉由調整醯亞胺化時之升溫速度來抑制聚醯胺醯亞胺樹脂之分解，能夠將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。就容易將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍之觀點而言，較佳為降低醯亞胺化時之升溫速度，更佳為歷時30分鐘以上自10℃升溫至50℃。

又，藉由調整反應時之加熱條件，亦能夠將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。具體而言，可知於合成聚醯胺醯亞胺樹脂時，相較於為了達成相同之升溫速度而對反應容器整體進行加熱之情形，藉由對反應容器局部進行加熱，容易抑制聚醯胺醯亞胺樹脂之主鏈之分解並且使末端之羧酸水解容易進行。由於末端之羧酸脫離，取而代之的是，使胺末端露出，故能夠將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。認為其原因在於：於合成聚醯胺醯亞胺樹脂時，若用熱媒對反應容器整體進行加熱，則被過度加熱之反應溶液之量變多，不僅樹脂末端之羧酸會水解，主鏈亦會進行分解。其結果，難以將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍，並且亦容易使分子量降低。認為於對反應容器局部進行加熱之情形時，會減少聚醯胺醯亞胺樹脂之主鏈之分解，並且會使反應性高於主鏈分解之羧酸末端之水解優先產生，從而容易將比率(int_A /int_B )調整至上述範圍。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂至少具有式(1)所表示之結構單元、及式(2)所表示之結構單元： [化5]

[式(1)中，Y表示4價有機基， X表示2價有機基， *表示鍵結鍵] [化6]

[式(2)中，Z及X相互獨立， 表示2價有機基， *表示鍵結鍵]。

式(1)所表示之結構單元係四羧酸化合物與二胺化合物進行反應而形成之結構單元，式(2)所表示之結構單元係二羧酸化合物與二胺化合物進行反應而形成之結構單元。於聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之情形時，通常聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(1)所表示之複數個結構單元、及式(2)所表示之複數個結構單元。式(1)所表示之複數個結構單元可為1種結構單元，亦可為2種以上之結構單元。又，式(2)所表示之複數個結構單元也可為1種結構單元，亦可為2種類以上之結構單元。進而，聚醯胺醯亞胺樹脂亦可進一步具有與式(1)及式(2)不同之結構單元。

於上述式(2)中，Z為2價有機基，較佳為可經碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可經鹵素原子、較佳為氟原子取代)取代之碳數4～40之2價有機基，更佳為表示可經碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子可經鹵素原子、較佳為氟原子取代)取代之具有環狀結構之碳數4～40之2價有機基。再者，作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基之例，與下文所述之式(3)中之R^3a 及R^3b 相關之例示同樣適用。作為環狀結構，可例舉脂環、芳香環、雜環結構。作為有機基Z，可例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)： [化7]

[式(20)～式(29)中，W¹ 表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-Ar-、-SO₂ -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH₂ -Ar-、-Ar-C(CH₃ )₂ -Ar-或-Ar-SO₂ -Ar-，此處，Ar相互獨立，表示氫原子可被氟原子取代之碳數6～20之伸芳基，例如伸苯基，*表示鍵結鍵] 所表示之基之鍵結鍵中不相鄰之2個鍵結鍵被取代為氫原子而成之基及碳數6以下之2價鏈式烴基，作為Z之雜環結構，可例示具有噻吩環骨架之基。作為Z，就容易減小光學膜之黃度(以下，有時簡寫為YI值)之觀點而言，較佳為式(20)～式(29)所表示之基、及具有噻吩環骨架之基。

作為有機基Z，更佳為式(20')、式(21')、式(22')、式(23')、式(24')、式(25')、式(26')、式(27')、式(28')及式(29')： [化8]

[式(20')～式(29')中，W¹ 及*如式(20)～式(29)中所定義] 所表示之2價有機基。再者，式(20)～式(29)及式(20')～式(29')之環上之氫原子可經碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基(該等基中之氫原子亦可經鹵素原子、較佳為氟原子取代)取代。

於聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z以上述式(20')～式(29')之任一者所表示之結構單元之情形時，尤其是具有式(2)中之Z以下文所述之式(3')所表示之結構單元之情形時，就容易提高包含該樹脂之清漆之成膜性、容易提高所獲得之光學膜之均勻性之觀點，聚醯胺醯亞胺樹脂較佳為除該結構單元以外進而具有如下式(d1)： [化9]

[式(d1)中，R²⁴ 表示就下文所述之式(3)中之R^3a 所定義之基或氫原子， R²⁵ 表示R²⁴ 或-C(=O)-*， *表示鍵結鍵] 所表示之源自羧酸之結構單元。作為結構單元(d1)，具體而言，可例舉：R²⁴ 及R²⁵ 均為氫原子之結構單元，即源自二羧酸化合物之結構單元；R²⁴ 均為氫原子且R²⁵ 表示-C(=O)-*之結構單元，即源自三羧酸化合物之結構單元等。

本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Z作為式(2)中之Z，複數種Z可相互相同，亦可不同。其中，就容易提高使用本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂所獲得之光學膜之耐衝擊性且容易提高光學特性之觀點而言，較佳為式(2)中之Z至少具有較佳為式(3)所表示之結構單元： [化10]

[式(3)中，R^3a 及R^3b 相互獨立，表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R^3a 及R^3b 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， W相互獨立，表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，R⁹ 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， s為0～4之整數， t為0～4之整數， u為0～4之整數， *表示鍵結鍵]； 更佳為式(3')所表示之結構單元： [化11]

[式(3')中，R^3a 、R^3b 、s、t、u、W及*如式(3)中所定義]。 再者，於本說明書中，聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z以式(3)所表示之結構單元與聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(3)所表示之結構作為式(2)中之Z具有相同之含義，意指聚醯胺醯亞胺樹脂中所包含之複數個式(2)所表示之結構單元中至少一部分結構單元中之Z以式(3)表示。該記載亦適用於其他相同之記載。

於式(3)及式(3')中，W相互獨立，表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，就光學膜之耐彎曲性之觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為-O-。 R^3a 及R^3b 相互獨立，表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基等。作為碳數1～6之烷氧基，例如可例舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基、環己氧基等。作為碳數6～12之芳基，例如可例舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。就光學膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，R^3a 及R^3b 相互獨立，較佳為表示碳數1～6之烷基，更佳為碳數1～3之烷基。此處，R^3a 及R^3b 所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代。 R⁹ 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基。作為碳數1～12之1價烴基，例如可例舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，該等可經鹵素原子取代。作為上述鹵素原子，可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。

式(3)及式(3')中之t及u相互獨立，為0～4之整數，較佳為0～2之整數，更佳為0或1，進而更佳為0。

式(3)及式(3')中之s為0～4之範圍之整數，若s為該範圍內，則容易提昇使用本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂而獲得之光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。關於式(3)及式(3')中之s，就容易進一步提昇所獲得之光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，較佳為0～3之範圍之整數，更佳為0～2之範圍之整數，進而較佳為0或1，尤佳為0。包含s為0之式(3)或式(3')所表示之結構作為式(2)中之Z之結構單元例如為源自對苯二甲酸或間苯二甲酸之結構單元，該結構單元特佳為包含式(3)或式(3')中之s為0及u為0之結構之結構單元。就容易提昇光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，聚醯胺醯亞胺樹脂較佳為包含源自對苯二甲酸之結構單元。聚醯胺醯亞胺樹脂可包含1種或2種以上Z為式(3)或式(3')所表示之結構單元。就光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之提昇、YI值減小之觀點而言，聚醯胺醯亞胺樹脂較佳為包含式(3)或式(3')中之s之值不同之2種以上之結構作為式(2)中之Z，更佳為包含式(3)或式(3')中之s之值不同之2種或3種結構。於此情形時，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點、以及容易減小光學膜之YI值之觀點而言，尤佳為聚醯胺醯亞胺樹脂含有s為0之式(3)所表示之結構作為式(2)所表示之結構單元中之Z，且除包含該結構之結構單元以外進而含有包含s為1之式(3)所表示之結構之結構單元。又，亦較佳為除具有s為0之式(3)所表示之Z之式(2)所表示之結構單元以外，進而具有上述式(d1)所表示之結構單元。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂具有s＝0且u＝0之結構作為式(3)或式(3')所表示之結構(2價基)。於本發明之更佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂具有s＝0且u＝0之結構、及式(3'')： [化12]

所表示之結構作為式(3)或式(3')所表示之結構。於此情形時，容易提昇使用該聚醯胺醯亞胺樹脂所獲得之光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易減小YI值。

於本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z以式(3)或式(3')所表示之結構單元之情形時，關於其比率，於將聚醯胺醯亞胺樹脂之式(1)所表示之結構單元與式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，較佳為20莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，進而較佳為40莫耳%以上，進而更佳為50莫耳%以上，尤佳為60莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而較佳為80莫耳%以下。若式(2)中之Z以式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。若式(2)中之Z以式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則容易抑制由源自式(3)之醯胺鍵間氫鍵引起之含有樹脂之清漆之黏度上升，從而提昇膜之加工性。

又，於聚醯胺醯亞胺樹脂具有s＝1～4之式(3)或式(3')所表示之結構作為式(2)中之Z之情形時，關於具有s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z之式(2)所表示之結構單元之比率，於將聚醯胺醯亞胺樹脂之式(1)所表示之結構單元與式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為7莫耳%以上，尤佳為9莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，尤佳為30莫耳%以下。若具有s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z之式(2)所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。若具有s為1～4之式(3)或式(3')所表示之Z之式(2)所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則容易抑制由源自式(3)或式(3')所表示之結構之醯胺鍵間氫鍵引起之含有樹脂之清漆之黏度上升，從而提昇膜之加工性。再者，式(1)、式(2)、式(2)中之Z以式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z之較佳為30莫耳%以上、更佳為40莫耳%以上、進而較佳為45莫耳%以上、尤佳為50莫耳%以上以s為0～4之式(3)或式(3')表示。若Z之上述下限以上以s為0～4之式(3)或式(3')表示，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。又，只要聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z之100莫耳%以下以s為0～4之式(3)或式(3')表示即可。再者，樹脂中之具有s為0～4之式(3)或式(3')所表示之Z之式(2)所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z之較佳為5莫耳%以上、更佳為8莫耳%以上、進而較佳為10莫耳%以上、尤佳為12莫耳%以上以s為1～4之式(3)或式(3')表示。於聚醯胺醯亞胺樹脂之Z之上述下限以上以s為1～4之式(3)或式(3')表示之情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。又，Z之較佳為90莫耳%以下、更佳為70莫耳%以下、進而較佳為50莫耳%以下、尤佳為30莫耳%以下以s為1～4之式(3)或式(3')表示。於Z之上述上限以下以s為1～4之式(3)表示之情形時，容易抑制由源自s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之醯胺鍵間氫鍵引起之含有樹脂之清漆之黏度上升，從而提昇膜之加工性。再者，樹脂中之s為1～4之式(3)或式(3')所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

作為本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂中之源自二羧酸化合物之羧酸末端部分之結構，例如可例舉式(32)： [化13]

[式(32)中，R^32a 及R^32b 相互獨立，表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R^32a 及R^32b 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， R^32c 表示氫原子(於此情形時，-OR^32c 為-OH)、鹼金屬原子、鹵素原子、或碳數1～3之烷基， p為0～4之整數， r為0～4之整數，較佳為0～2之整數，更佳為0， A相互獨立，表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，R⁹ 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， q為0～4之整數， *表示鍵結鍵] 所表示之結構。於羧酸末端部分之結構以式(32)表示之情形(較佳為r＝0，q＝0，羧酸基之取代位置相對於醯胺基為對位)時，認為歸屬於與具有羧酸基(-C(=O)OR^32c )之苯環上之碳原子鍵結之氫原子之波峰會於區域(A)中被檢測到。式(32)所表示之羧酸末端部分之結構係會形成式(2)中之Z以上述式(3)所表示之結構單元之二羧酸及二胺中的源自該二羧酸及二胺之一部分之結構。因此，於聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(2)中之Z以上述式(3)表示之結構單元之情形時，式(32)所表示之末端結構可包含於聚醯胺醯亞胺樹脂中。因此，式(3)中之R^3a 、R^3b 、W、s、t及u可分別與式(32)中之R^32a 、R^32b 、A、p、q及r對應。

於式(1)及式(2)中，X相互獨立，表示2價有機基，較佳為表示碳數4～40之2價有機基，更佳為具有環狀結構之碳數4～40之2價有機基。作為環狀結構，可例舉：脂環、芳香環、雜環結構。關於上述有機基，有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代，於此情形時，烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施方式中，本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種X，且複數種X可相互相同，亦可不同。作為X，可例示：式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子經甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。

[化14]

式(10)～式(18)中，*表示鍵結鍵， V¹ 、V² 及V³ 相互獨立，表示單鍵、-O-、-S-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-CO-或-N(Q)-。此處，Q表示可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基。作為碳數1～12之1價烴基，可例舉針對R⁹ 於上述所述之基。 作為一例，V¹ 及V³ 為單鍵、-O-或-S-，且V² 為-CH₂ -、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -或-SO₂ -。V¹ 與V² 相對於各環之鍵結位置、及V² 與V³ 相對於各環之鍵結位置相互獨立，相對於各環，較佳為間位或對位，更佳為對位。

式(10)～式(18)所表示之基之中，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，較佳為式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及式(17)所表示之基，更佳為式(14)、式(15)及式(16)所表示之基。又，關於V¹ 、V² 及V³ ，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及柔軟性之觀點而言，相互獨立，較佳為單鍵、-O-或-S-，更佳為單鍵或-O-。

於本發明之較佳之一實施方式中，本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(4)所表示之結構作為式(1)中之X或式(2)中之X： [化15]

[式(4)中，H^4a 及H^4b 表示氫原子，R^4a ～R^4d 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R^4a ～R^4d 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， *表示鍵結鍵]。 認為：於聚醯胺醯亞胺樹脂具有式(4)所表示之結構作為式(1)中之X或式(2)中之X之情形時，歸屬於式(4)中之H^4a 及H^4b 之波峰會於區域(B)中被檢測到。再者，式(1)所表示之結構單元、及式(2)所表示之結構單元於聚醯胺醯亞胺樹脂中存在複數個。於該等結構單元之至少一部分中，式(1)及式(2)中之X以式(4)表示之情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及透明性。

於本發明之較佳之一實施方式中，式(4)所表示之結構單元為式(4')： [化16]

所表示之結構單元，即，式(1)及式(2)所表示之複數個結構單元中之複數個X之至少一部分為式(4')所表示之結構單元。於此情形時，由於含有氟元素之骨架，容易提高聚醯胺醯亞胺樹脂於溶劑中之溶解性，從而提昇含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易減小該清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，由於含有氟元素之骨架，容易提昇光學膜之光學特性。認為：於聚醯胺醯亞胺樹脂包含式(4)或式(4')所表示之結構作為式(1)或式(2)中之X之情形時，歸屬於式(4)中之H^4a 及H^4b 所表示之氫原子、或式(4')中之相同之位置之氫原子之波峰會於區域(B)中被檢測到。

於本發明之較佳之一實施方式中，上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之X之較佳為30莫耳%以上、更佳為50莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上以式(4)、尤其是式(4')表示。於聚醯胺醯亞胺樹脂中之上述範圍內之X以式(4)、尤其是式(4')表示之情形時，所獲得之光學膜因含有氟元素之骨架而容易提高樹脂於溶劑中之溶解性，從而提昇含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易減小該清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，由於含有氟元素之骨架，光學膜之光學特性亦容易提昇。再者，較佳為上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之X之100莫耳%以下以式(4)、尤其是(4')表示。上述樹脂中之X亦可為式(4)，尤其是式(4')。上述樹脂中之X之式(4)所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

作為除式(1)或式(2)中之X以式(4)或式(4')表示之結構單元以外還含有之或代替該結構單元而含有之式(1)或式(2)中之X以其他結構式所表示之結構單元，例如可例舉式(1)或式(2)中之X以式(6)： [化17]

[式(6)中，R¹⁰ ～R¹⁷ 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R¹⁰ ～R¹⁷ 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代，但是，R¹¹ 與R¹² 之任一者、及R¹⁴ 與R¹⁷ 之任一者為三氟甲基之情形除外， *表示鍵結鍵] 表示之結構單元。於式(1)及式(2)中之複數個X之至少一部分為式(6)所表示之基之情形時，亦容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及透明性。

式(4)中之R^4a 、R^4b 、R^4c 及R^4d 、以及式(6)中之R¹⁰ 、R¹¹ 、R¹² 、R¹³ 、R¹⁴ 、R¹⁵ 、R¹⁶ 及R¹⁷ 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，可例舉作為式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基所例示之基。R^4a ～R^4d 及R¹⁰ ～R¹⁷ 相互獨立，較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R^4a ～R^4d 及R¹⁰ ～R¹⁷ 所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代。作為鹵素原子，例如可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。R^4a ～R^4d 及R¹⁰ ～R¹⁷ 相互獨立，就光學膜之耐衝擊性、彈性模數、透明性及耐彎曲性之觀點而言，進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R^4a ～R^4d 為氫原子，R¹⁰ 、R¹² 、R¹³ 、R¹⁴ 、R¹⁵ 及R¹⁶ 為氫原子，R¹¹ 及R¹⁷ 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基。但是，於式(6)中R¹¹ 與R¹² 之任一者、及R¹⁴ 與R¹⁷ 之任一者為三氟甲基之情形除外。

於式(1)中，Y表示4價有機基，較佳為表示碳數4～40之4價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之4價有機基。作為環狀結構，可例舉脂環、芳香環、雜環結構，就容易提高耐衝擊性及彈性模數之觀點而言，較佳為可例舉芳香環。上述有機基為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基，於此情形時，經烴基及經氟取代之烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Y，複數種Y可相互相同，亦可不同。作為Y，可例示：以下式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子經甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代之基；以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。

[化18]

式(20)～式(29)中，*表示鍵結鍵，W¹ 表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-Ar-、-SO₂ -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH₂ -Ar-、-Ar-C(CH₃ )₂ -Ar-或-Ar-SO₂ -Ar-。Ar表示氫原子可經氟原子取代之碳數6～20之伸芳基，作為具體例，可例舉伸苯基。

式(20)～式(29)所表示之基之中，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，較佳為式(26)、式(28)或式(29)所表示之基，更佳為式(26)所表示之基。又，關於W¹ ，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性並且容易減小光學膜之YI值之觀點而言，相互獨立，較佳為單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -，更佳為單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -，進而較佳為單鍵、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -，尤佳為單鍵或-C(CF₃ )₂ -。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上以式(26)表示。若聚醯胺醯亞胺樹脂中之上述範圍內之Y以式(26)表示，較佳為以W¹ 為單鍵、-C(CH₃ )₂ -或-C(CF₃ )₂ -之式(26)表示，更佳為以W¹ 為單鍵或-C(CF₃ )₂ -之式(26)表示，則容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性，並且容易減小光學膜之YI值。聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y以式(26)表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，複數個式(1)中之Y之至少一部分以式(5)及/或式(9)表示： [化19]

[式(5)中，R¹⁸ ～R²⁵ 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R¹⁸ ～R²⁵ 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， *表示鍵結鍵] [化20]

[式(9)中，R³⁵ ～R⁴⁰ 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基或碳數6～12之芳基，R³⁵ ～R⁴⁰ 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代，*表示鍵結鍵]。 若複數個式(1)中之Y之至少一部分以式(5)表示、及/或以式(9)表示，則容易提昇光學膜之耐衝擊性、彈性模數及光學特性。

於式(5)中，R¹⁸ 、R¹⁹ 、R²⁰ 、R²¹ 、R²² 、R²³ 、R²⁴ 及R²⁵ 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，可例舉作為式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基於上述所例示者。R¹⁸ ～R²⁵ 相互獨立，較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R¹⁸ ～R²⁵ 所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代。作為該鹵素原子，可例舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。R¹⁸ ～R²⁵ 相互獨立，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點、以及容易提高透明性並且容易維持該透明性之觀點而言，進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，進而更佳為R¹⁸ 、R¹⁹ 、R²⁰ 、R²³ 、R²⁴ 及R²⁵ 為氫原子，R²¹ 及R²² 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R²¹ 及R²² 為甲基或三氟甲基。

於式(9)中，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點、以及容易提高透明性並且容易維持該透明性之觀點而言，R³⁵ ～R⁴⁰ 較佳為氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為氫原子或碳數1～3之烷基，進而較佳為氫原子。此處，R³⁵ ～R⁴⁰ 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代，作為該鹵素原子，例如可例舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。作為R³⁵ ～R⁴⁰ 中之碳數1～6之烷基及碳數6～12之芳基，分別可例舉於上述所例示者。

於本發明之較佳之一實施方式中，式(5)以式(5')表示，式(9)以式(9')表示： [化21]

即，複數個Y之至少一部分以式(5')及/或式(9')表示。於此情形時，容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性。進而，於式(5)以式(5')表示之情形時，藉由含有氟元素之骨架容易提高聚醯胺醯亞胺樹脂於溶劑中之溶解性，從而提昇含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且容易減小該清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提昇光學膜之光學特性。

於本發明之較佳之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上以式(5)尤其是式(5')表示。若聚醯胺醯亞胺樹脂中之上述範圍內之Y以式(5)尤其是式(5')表示，則藉由含有氟元素之骨架容易提高聚醯胺醯亞胺樹脂於溶劑中之溶解性，從而減小含有該樹脂之清漆之黏度，容易提昇光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，容易提昇光學膜之光學特性。再者，較佳為上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之100莫耳%以下以式(5)、尤其是式(5')表示。聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y亦可為式(5)，尤其是式(5')。聚醯胺醯亞胺樹脂中之Y之式(5)所表示之結構單元之比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

於本發明之較佳之一實施方式中，式(1)所表示之複數個結構單元較佳為除Y以式(5)表示之結構單元以外，進而包含Y以式(9)表示之結構單元。於進而包含Y以式(9)表示之結構單元之情形時，容易進一步提昇光學膜之耐衝擊性及彈性模數。

聚醯胺醯亞胺樹脂可為包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元者，又，亦可為除式(1)及視情況存在之式(2)所表示之結構單元以外包含式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元者。 [化22]

於式(30)中，Y¹ 為4價有機基，較佳為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為Y¹ ，可例示：式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子經甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代之基；以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Y¹ ，複數種Y¹ 可相互相同，亦可不同。

於式(31)中，Y² 為3價有機基，較佳為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為Y² ，可例示：上述式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵之任一者被取代為氫原子而成之基；及3價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂可包含複數種Y² ，複數種Y² 可相互相同，亦可不同。

於式(30)及式(31)中，X¹ 及X² 相互獨立，為2價有機基，較佳為有機基中之氫原子可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為X¹ 及X² ，可例示：上述式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子經甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代而成之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。

於本發明之一實施方式中，聚醯胺醯亞胺樹脂包含式(1)及式(2)所表示之結構單元、以及視情況存在之式(30)及/或式(31)所表示之結構單元。又，就容易提高光學膜之光學特性、耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，於上述聚醯胺醯亞胺樹脂中，式(1)及式(2)所表示之結構單元之比率基於式(1)及式(2)、以及視情況存在之式(30)及式(31)所表示之總結構單元較佳為80莫耳%以上，更佳為90莫耳%以上，進而較佳為95莫耳%以上。再者，於聚醯胺醯亞胺樹脂中，式(1)及式(2)所表示之結構單元之比率基於式(1)及式(2)、以及視情況存在之式(30)及/或式(31)所表示之總結構單元通常為100%以下。再者，上述比率例如可使用¹ H-NMR進行測定，或亦可根據原料之添加比來算出。

於聚醯胺醯亞胺樹脂中，式(2)所表示之結構單元之含量相對於式(1)所表示之結構單元1莫耳較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，進而較佳為1.0莫耳以上，尤佳為1.5莫耳以上，較佳為6.0莫耳以下，更佳為5.0莫耳以下，進而較佳為4.5莫耳以下。若式(2)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則容易提高光學膜之耐衝擊性及彈性模數。又，若式(2)所表示之結構單元之含量為上述上限以下，則容易抑制由式(2)中之醯胺鍵間之氫鍵引起之增黏，從而提昇光學膜之加工性。

於本發明之較佳之一實施方式中，本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂例如可包含可藉由上述含氟取代基等導入之氟原子等鹵素原子。於聚醯胺醯亞胺樹脂包含鹵素原子之情形時，容易提昇光學膜之彈性模數且減小YI值。若光學膜之彈性模數較高，則容易抑制損傷及皺褶等之產生。又，若光學膜之YI值較低，則容易提昇該膜之透明性及視認性。鹵素原子較佳為氟原子。作為用以使聚醯胺醯亞胺樹脂中含有氟原子較佳之含氟取代基，例如可例舉氟基及三氟甲基。

關於聚醯胺醯亞胺樹脂中之鹵素原子之含量，分別以聚醯胺醯亞胺樹脂之質量為基準計，較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而較佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量為上述下限以上，則容易進一步提昇光學膜之彈性模數，降低吸水率，進一步減小YI值，進一步提昇透明性及視認性。若鹵素原子之含量為上述上限以下，則容易進行合成。

聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率較佳為90%以上，更佳為93%以上，進而較佳為96%以上，通常為100%以下。就容易提高光學膜之光學特性之觀點而言，較佳為醯亞胺化率為上述下限以上。醯亞胺化率係表示聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯胺醯亞胺樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值的比率。再者，於聚醯胺醯亞胺樹脂包含三羧酸化合物之情形時，係指聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯胺醯亞胺樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值與源自三羧酸化合物之結構單元之莫耳量之合計的比率。又，醯亞胺化率可藉由IR(Infrared Radiation，紅外線)法、NMR法等而求出。

關於聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量，就容易提高光學膜之耐衝擊性、彈性模數及耐彎曲性之觀點而言，以標準聚苯乙烯換算計，較佳為200,000以上，更佳為230,000以上，進而較佳為250,000以上，進而更佳為270,000以上，尤佳為280,000以上。又，關於聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量，就容易提昇對該樹脂之溶劑之溶解性並且容易提昇光學膜之延伸性及加工性之觀點而言，較佳為1,000,000以下，更佳為800,000以下，進而較佳為700,000以下，尤佳為500,000以下。重量平均分子量例如可進行GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析術)測定並藉由標準聚苯乙烯換算而求出，例如可藉由實施例中記載之方法來算出。

[聚醯胺醯亞胺樹脂之製造方法] 聚醯胺醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺前驅物樹脂例如可將四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物作為主要原料來製造。

作為樹脂之製造所使用之二胺化合物，例如可例舉脂肪族二胺、芳香族二胺及該等之混合物。再者，於本實施方式中，「芳香族二胺」係表示胺基直接鍵結於芳香環之二胺，於其結構之一部分可包含脂肪族基或其他取代基。該芳香環為單環或縮合環均可，可例示苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於該等。該等之中，較佳為苯環。又，「脂肪族二胺」係表示胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，於其結構之一部分可包含芳香環或其他取代基。

作為脂肪族二胺，例如可例舉：六亞甲基二胺等非環式脂肪族二胺、以及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降𦯉烷二胺及4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。

作為芳香族二胺，例如可例舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺；4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(以下，有時記載為TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上芳香環之芳香族二胺。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。

芳香族二胺較佳為4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、TFMB、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯，更佳為4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、TFMB、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。

上述二胺化合物之中，就光學膜之高彈性模數、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群之1種以上。更佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯醚所組成之群之1種以上，進而更佳為使用TFMB。

作為製造樹脂所使用之四羧酸化合物，可例舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物等。四羧酸化合物可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。四羧酸化合物除二酐以外，亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物相關物。

作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可例舉：非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐、單環式之芳香族四羧酸二酐及縮合多環式之芳香族四羧酸二酐。作為非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可例舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(以下，有時記載為6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐、4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。又，作為單環式之芳香族四羧酸二酐，例如可例舉1,2,4,5-苯四羧酸二酐，作為縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可例舉2,3,6,7-萘四羧酸二酐。

該等之中，較佳為可例舉4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、6FDA、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐，更佳為可例舉4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、6FDA、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。

作為脂肪族四羧酸二酐，可例舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。環式脂肪族四羧酸二酐係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可例舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及該等之位置異構物。該等可單獨使用或將2種以上組合使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可例舉1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，該等可單獨使用或將2種以上組合使用。又，亦可將環式脂肪族四羧酸二酐與非環式脂肪族四羧酸二酐組合使用。

上述四羧酸二酐之中，就光學膜之高耐衝擊性、高彈性模數、高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高彎曲耐性、及低著色性之觀點而言，較佳為4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、6FDA、以及該等之混合物，更佳為3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐及6FDA、以及該等之混合物，進而較佳為6FDA及3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐。

作為製造樹脂所使用之二羧酸化合物，較佳為使用對苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或該等之醯氯化合物。除對苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或該等之醯氯化合物以外，亦可使用其他二羧酸化合物。作為其他二羧酸化合物，可例舉芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及該等相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可將2種以上組合使用。作為具體例，可例舉：間苯二甲酸；萘二甲酸；4,4'-聯苯二羧酸；3,3'-聯苯二羧酸；碳數為8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及2個苯甲酸用單鍵、-CH₂ -、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -或伸苯基連結而成之化合物以及該等之醯氯化合物。作為具體例，較佳為4,4'-氧二(苯甲醯氯)(以下，有時稱為OBBC)、對苯二甲醯氯(以下，亦時稱為TPC)或異酞醯氯，進而較佳為將OBBC與TPC組合使用。

再者，上述聚醯胺醯亞胺樹脂亦可為於無損光學膜之各種物性之範圍內除上述四羧酸化合物以外進而使四羧酸及三羧酸以及該等之酐及衍生物反應而成者。

作為四羧酸，可例舉上述四羧酸化合物之酐之水加成物。

作為三羧酸化合物，可例舉芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，亦可將2種以上組合使用。作為具體例，可例舉：1,2,4-苯三羧酸之酐、1,3,5-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸用單鍵、-O-、-CH₂ -、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -或伸苯基連結而成之化合物。

於製造樹脂時，二胺化合物、四羧酸化合物及/或二羧酸化合物之使用量可視所需聚醯胺醯亞胺樹脂之各結構單元之比率適當選擇，如上所述，可藉由以儘可能地減少聚醯胺醯亞胺樹脂之末端所存在之二羧酸之方式合成聚醯胺醯亞胺樹脂來將比率(int_A /int_B )調整至所需範圍。因此，如上所述，使四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物共聚時之胺比(二胺化合物之莫耳量/(四羧酸化合物與二羧酸化合物之合計莫耳量))較佳為以成為較佳為超過1.000、更佳為1.003以上、進而較佳為1.005以上、進而更佳為1.008以上、尤佳為1.01以上之方式調整各單體之使用量。

再者，本發明亦提供一種聚醯胺醯亞胺樹脂之製造方法，該方法係使二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物反應者，且該二胺化合物之莫耳數相對於該四羧酸化合物與該二羧酸化合物之合計莫耳數之比率(胺比)超過1.000。

於製造樹脂時，二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物之反應溫度並無特別限定，例如為5～350℃，較佳為20～200℃，更佳為25～100℃。就容易將比率(int_A /int_B )調整至所需範圍之觀點而言，可對反應容器進行加熱(根據情況局部加熱)以調整至成為上述反應溫度來進行製造，亦可局部地進行加熱，與此同時調整下述醯亞胺化觸媒之量以及乙酸酐等酸酐之量。反應時間亦並無特別限定，例如30分鐘～10小時左右。亦可視需要於惰性氛圍或減壓之條件下進行反應。較佳之態樣中，反應係於常壓及/或惰性氣體氛圍下一面攪拌一面進行。又，反應較佳為於對反應惰性之溶劑中進行。作為溶劑，只要不對反應產生影響，則並無特別限定，例如可例舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇、丙二醇單甲醚等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯(以下，有時稱為GBL)、γ-戊內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、甲基異丁基酮等酮系溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；N,N-二甲基乙醯胺(以下，有時稱為DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺(以下，有時稱為DMF)等醯胺系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合等。該等之中，就溶解性之觀點而言，可良好地使用醯胺系溶劑。就容易將比率(int_A /int_B )調整至所需範圍之觀點而言，以使用之溶劑中之水分量較佳為成為400 ppm以上、更佳為成為500 ppm以上之方式進行調整。再者，就抑制聚醯胺醯亞胺樹脂之分解之觀點而言，該溶劑中之水分量較佳為1,000 ppm以下，更佳為800 ppm以下。

聚醯胺醯亞胺樹脂之製造中之醯亞胺化步驟中，可於醯亞胺化觸媒之存在下進行醯亞胺化。作為醯亞胺化觸媒，例如可例舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及吡啶、2-甲基吡啶(2-甲吡啶)、3-甲基吡啶(3-甲吡啶)、4-甲基吡啶(4-甲吡啶)、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊酮吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等芳香族胺。又，就容易促進醯亞胺化反應之觀點而言，較佳為與醯亞胺化觸媒一併使用酸酐。關於酸酐，可例舉醯亞胺化反應中所使用之慣用之酸酐等，作為其具體例，可例舉：乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等脂肪族酸酐，鄰苯二甲酸等芳香族酸之酐等。就容易將比率(int_A /int_B )調整至所需範圍之觀點而言，較佳為降低醯亞胺化步驟之升溫速度，更佳為於歷時30分鐘以上自10℃升溫至50℃。

聚醯胺醯亞胺樹脂可藉由慣用之方法，例如過濾、濃縮、萃取、晶析、再結晶、管柱層析法等分離方法、或將該等組合之分離方法來分離精製以進行單離，較佳之態樣中，可藉由於包含透明聚醯胺醯亞胺樹脂之反應液中加入大量甲醇等醇，使樹脂析出，並進行濃縮、過濾、乾燥等來進行單離。

[光學膜] 本發明亦提供一種光學膜，其包含上述所述之本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂。於本發明之一實施方式中，關於本發明之光學膜中之本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂之含量，相對於光學膜100質量份，較佳為10質量份以上，更佳為30質量份以上，進而較佳為50質量份以上，較佳為99.5質量份以下，更佳為95質量份以下。若聚醯胺醯亞胺樹脂之含量為上述範圍內，則容易使光學膜之光學特性、耐衝擊性及彈性模數提昇，並且容易抑制光學膜之光學特性及機械特性之經時性降低，從而容易提昇光學膜之品質穩定性。

本發明之光學膜可除本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂以外包含至少1種填料。作為填料，例如可例舉有機粒子、無機粒子等，較佳為可例舉無機粒子。作為無機粒子，可例舉：二氧化矽、氧化鋯、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物粒子、氟化鎂、氟化鈉等金屬氟化物粒子等，該等之中，就提高光學膜之彈性模數及/或撕裂強度、提昇容易耐衝擊性之觀點而言，較佳為可例舉二氧化矽粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子，更佳為可例舉二氧化矽粒子。該等填料可單獨使用或將2種以上組合使用。

填料、較佳為二氧化矽粒子之平均一次粒徑通常為1 nm以上，較佳為5 nm以上，更佳為10 nm以上，進而較佳為11 nm以上，尤佳為13 nm以上，較佳為100 nm以下，更佳為90 nm以下，進而較佳為80 nm以下，進而更佳為70 nm以下，尤佳為60 nm以下，尤其更佳為50 nm以下，尤其進而較佳為40 nm以下。若填料、較佳為二氧化矽粒子之平均一次粒徑為上述範圍內，則會抑制填料、較佳為二氧化矽粒子之凝集，從而容易提昇所獲得之光學膜之光學特性。填料之平均一次粒徑可藉由BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法進行測定。再者，亦可藉由穿透式電子顯微鏡TEM(Transmission Electron Microscopy，穿透式電子顯微鏡)或掃描型電子顯微鏡SEM(Scanning Electron Microscope，掃描式電子顯微鏡)之圖像解析而測定平均一次粒徑。

於本發明之光學膜含有填料、較佳為二氧化矽粒子之情形時，填料之含量相對於光學膜100質量份通常為0.1質量份以上，較佳為1質量份以上，更佳為5質量份以上，進而較佳為10質量份以上，進而更佳為20質量份以上，尤佳為30質量份以上，較佳為60質量份以下。若填料之含量為上述下限以上，則容易提昇所獲得之光學膜之彈性模數。又，若填料之含量為上述上限以下，則容易提昇光學膜之光學特性。

本發明之光學膜亦可進而含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可自樹脂材料之領域中通常用作紫外線吸收劑者適當選擇。紫外線吸收劑亦可包含吸收400 nm以下之波長之光的化合物。作為紫外線吸收劑，例如可例舉選自由二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并三唑系化合物、及三𠯤系化合物所組成之群中之至少1種化合物。紫外線吸收劑可單獨使用或將兩種以上組合使用。藉由光學膜含有紫外線吸收劑，可抑制樹脂之劣化，因而於將所獲得之光學膜應用於圖像顯示裝置等之情形時，能夠提高視認性。於本說明書中，「系化合物」係指附有該「系化合物」之化合物之衍生物。例如，「二苯甲酮系化合物」係指具有作為母體骨架之二苯甲酮、及與二苯甲酮鍵結之取代基之化合物。

於光學膜含有紫外線吸收劑之情形時，紫外線吸收劑之含量相對於光學膜100質量份，較佳為1質量份以上，更佳為2質量份以上，進而較佳為3質量份以上，較佳為10質量份以下，更佳為8質量份以下，進而較佳為6質量份以下。較佳之含量因使用之紫外線吸收劑而不同，若以400 nm之透光率成為20～60%左右之方式調節紫外線吸收劑之含量，則可提高光學膜之耐光性，並且容易提高透明性。

本發明之光學膜亦可進而含有除填料、紫外線吸收劑以外之其他添加劑。作為其他添加劑，例如可例舉：抗氧化劑、脫模劑、穩定劑、上藍劑、阻燃劑、pH值調整劑、二氧化矽分散劑、潤滑劑、增黏劑、及調平劑等。於含有其他添加劑之情形時，其含量可相對於光學膜100質量份較佳為0.001～20質量份，更佳為0.01～15質量份，進而較佳為0.1～10質量份。

於本發明之較佳之一態樣中，上述包含本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂之本發明之光學膜就容易抑制光學特性及機械特性之經時性降低、容易提高品質穩定性之觀點而言，較佳為於溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週之保管試驗前後之重量平均分子量之變化率為26%以下。又，於本發明之更佳之一態樣中，上述包含本發明之聚醯胺醯亞胺樹脂之本發明之光學膜就容易抑制光學特性及機械特性之經時性降低、容易提高品質穩定性之觀點而言，較佳為於溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週之保管試驗前後之重量平均分子量之變化率為25%以下。認為：於在上述條件下之重量平均分子量之變化率超過26%或25%之情形時，根據光學膜中之保管條件、組入光學膜之顯示裝置之保管條件不同，存在如下情況：於光學膜中所包含之聚醯胺樹脂中會產生某種反應，容易導致光學特性及/或機械特性之經時性降低。重量平均分子量之變化率更佳為25%以下，進而較佳為23%以下，進而更佳為22%以下。本發明亦提供一種不易產生光學特性及/或機械特性之經時性降低並且於以溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週之保管試驗前後之重量平均分子量之變化率較佳為26%以下、更佳為25%以下的含有聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜。上述保管試驗前後之重量平均分子量之變化率較佳為26%以下，更佳為25%以下，進而較佳為23%以下，進而更佳為22%以下。再者，重量平均分子量之變化率例如可藉由實施例中記載之方法算出。關於上述保管試驗前後之重量平均分子量之變化率較佳為26%以下、更佳為25%以下的上述含有聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜，將重量平均分子量之變化率設為上述上限以下之方法並無特別限定，例如，於以該光學膜所包含之聚醯胺醯亞胺樹脂之氘化二甲基亞碸溶液作為測定試樣而獲得之¹ H-¹³ C HSQC圖譜中，於將質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域(A)中所存在之波峰的積分值(int_A )與質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域(B)中所存在之波峰的積分值(int_B )之比率(int_A /int_B )設為1.5%以下之情形時，容易將重量平均分子量之變化率調整至上述上限以下。再者，藉由使比率(int_A /int_B )為特定範圍以下，容易將重量平均分子量之變化率調整至特定範圍，但就抑制光學特性及機械特性之經時性降低之觀點而言，並非必須使重量平均分子量之變化率為特定範圍，重要的是使比率(int_A /int_B )為特定範圍以下。

關於本發明之光學膜之彈性模數，就容易防止光學膜之皺褶或損傷等之觀點而言，較佳為4.5 GPa以上，更佳為4.8 GPa以上，進而較佳為5.0 GPa以上，進而更佳為5.1 GPa以上，尤佳為5.2 GPa以上，通常100 GPa以下。再者，彈性模數可使用拉伸試驗機(夾頭間距離50 mm，拉伸速度10 mm/min)進行測定，例如可藉由實施例中記載之方法進行測定。

本發明之光學膜之全光線透過率(以下，有時簡稱為Tt)較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為88%以上，進而更佳為89%以上，尤佳為90%以上，通常為100%以下。若全光線透過率為上述下限以上，則於將光學膜作為前面板組入顯示裝置時，容易提高視認性。本發明之光學膜由於通常表現出較高之全光線透過率，故而例如與使用透過率較低之膜之情形相比，能夠抑制為了獲得固定之亮度所需要之顯示元件等之發光強度。因此，能夠削減消耗電力。例如，於將本發明之光學膜組入顯示裝置之情形時，存在即便減小背光源之光量亦可獲昨明亮之顯示之傾向，能夠對節能作出貢獻。再者，全光線透過率例如可依據JIS K 7361-1:1997使用霧度計算機(Haze Computer)進行測定。全光線透過率可為下文所述之光學膜之厚度之範圍中之全光線透過率。再者，於本說明書中，光學膜之光學特性優異意指全光線透過率較高及/或霧度較低、及/或YI較低。

本發明之光學膜之霧度較佳為5%以下，更佳為4%以下，進而較佳為3%以下，進而更佳為2.5%以下，尤佳為2%以下，尤其更佳為1%以下，尤其進而較佳為0.5%以下，通常為0.01%以上。若光學膜之霧度為上述上限以下，則於將光學膜作為前面板組入顯示裝置時，容易提高視認性。再者，霧度可依據JIS K 7136:2000使用霧度計算機進行測定。

本發明之光學膜之YI值較佳為3.0以下，更佳為2.0以下，進而較佳為1.9以下，尤佳為1.8以下，通常為-5以上，較佳為-2以上。若光學膜之YI值為上述上限以下，則透明性變得良好，於使用於顯示裝置之前面板之情形時，能夠有助於較高之視認性。再者，就提高品質穩定性之觀點而言，YI值較佳為於溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週後亦為上述範圍內。該YI值可使用紫外可見近紅外分光光度計測定對300～800 nm之光之透過率，求出三刺激值(X、Y、Z)，並基於YI＝100×(1.2769X－1.0592Z)/Y之式而算出。再者，光學膜較佳為於在溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週之保管試驗後亦具有上述範圍之YI值。

本發明之光學膜之厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為25 μm以上，尤佳為30 μm以上，較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而較佳為80 μm以下，尤佳為60 μm以下，厚度之範圍可為該等上限與下限之組合。若光學膜之厚度為上述範圍內，則更容易提高光學膜之彈性模數。再者，光學膜之厚度可使用測微計進行測定，例如可藉由實施例中記載之方法進行測定。

本發明之光學膜之至少一面之鉛筆硬度較佳為HB以上，更佳為F以上。於光學膜之至少一面之鉛筆硬度為上述硬度以上之情形時，容易防止光學膜之該表面之損傷等。再者，鉛筆硬度可依據JIS K 5600-5-4:1999進行測定。

本發明之光學膜具有優異之耐彎曲性。本發明之光學膜之依據ASTM(American Society for Testing Materials，美國材料試驗協會)標準D2176-16之MIT耐折疲勞試驗中之耐彎曲次數較佳為50,000次以上，更佳為60,000次以上，進而較佳為70,000次以上。若耐彎曲次數為上述下限以上，則能夠防止用作可撓性顯示器等之前面板材料時因彎曲引起之損傷等。再者，MIT耐折疲勞試驗可使用MIT耐折疲勞試驗機進行測定，例如可藉由實施例中記載之方法進行測定。再者，光學膜較佳為於在溫度85℃、濕度85%之條件下保管1週之保管試驗後亦滿足較佳為35,000次以上、更佳為40,000次以上、進而較佳為50,000次以上之上述耐彎曲次數。

本發明之光學膜係光學特性及機械特性之經時性降低得到抑制之品質穩定性優異之光學膜。具體而言，將光學膜於溫度85℃、相對濕度85%之環境下保管1週，於溫度25℃濕度50%下靜置24小時以上後，使用MIT耐折疲勞試驗機例如以實施例中記載之條件分別對保管試驗前之光學膜之耐彎曲次數(N1)、及保管試驗後之光學膜之耐彎曲次數(N2)進行測定。根據所獲得之耐彎曲次數並藉由如下式： 耐彎曲次數之變化率(%)＝{(N1-N2)/N1}×100 所算出之耐彎曲次數之變化率(%)越小越好，較佳為40%以下，更佳為35%以下，進而較佳為30%以下，進而更佳為25%以下，尤佳為20%以下。

又，使用紫外可見近紅外分光光度計，例如以實施例中記載之方法算出上述保管試驗前之光學膜之YI值(Y1)、及保管試驗後之光學膜之YI值(Y2)。根據所獲得之YI值並依照如下式： YI值之變化率(%)＝{(Y2-Y1)/Y1}×100 所算出之YI值之變化率(%)越小越好，較佳為25%以下，更佳為20%以下，進而較佳為15%以下。

[光學膜之製造方法] 本發明之光學膜之製造方法並無特別限定，例如可為至少包含以下步驟之製造方法： (a)製備至少包含上述聚醯胺醯亞胺樹脂及溶劑之樹脂組合物(於以下中，亦稱為「清漆」)的步驟(清漆製備步驟)； (b)將清漆塗佈於支持材以形成塗膜之步驟(塗佈步驟)；及 (c)使上述塗膜乾燥以形成光學膜之步驟(光學膜形成步驟)。

於清漆製備步驟中，使聚醯胺醯亞胺樹脂溶解於溶劑中，視需要添加上述填料、紫外線吸收劑等添加劑並進行攪拌混合，藉此製備清漆。再者，於使用二氧化矽粒子作為填料之情形時，亦可將包含二氧化矽粒子之矽溶膠之分散液用可溶解上述樹脂之溶劑、例如下述清漆之製備中所使用之溶劑進行置換，將所得之矽溶膠添加於樹脂中。

清漆之製備所使用之溶劑只要能夠溶解上述樹脂，則無特別限定。作為該溶劑，例如可例舉：DMAc、DMF等醯胺系溶劑；GBL、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合。該等之中，較佳為醯胺系溶劑或內酯系溶劑。該等溶劑可單獨使用或將兩種以上組合使用。又，於清漆中亦可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%，進而較佳為5～15質量%。

於塗佈步驟中，藉由公知之塗佈方法將清漆塗佈於支持材上以形成塗膜。作為公知之塗佈方法，例如可例舉：線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗法、模嘴塗佈法、卡馬(comma)塗佈法、唇板塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流涎成形法等。

於膜形成步驟中，可藉由使塗膜乾燥，並自支持材剝離，而形成光學膜。亦可於剝離後進而設置使光學膜乾燥之步驟。塗膜之乾燥通常可於50～350℃之溫度下進行。可視需要於惰性氛圍或減壓之條件下進行塗膜之乾燥。

作為支持材之例，若為金屬系，則可例舉SUS(Steel Use Stainless，日本不鏽鋼標準)板，若為樹脂系，則可例舉PET(polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜、PEN(polyethylene naphthelate，聚萘二甲酸乙二醇酯)膜、聚醯胺系樹脂膜、其他聚醯亞胺系樹脂膜、環烯烴系聚合物膜、丙烯酸系膜等。其中，就平滑性、耐熱性優異之觀點而言，較佳為PET膜、環烯烴系聚合物膜等，進而就與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳為PET膜。

本發明之光學膜之用途並無特別限定，可使用各種用途。本發明之光學膜可為單層，亦可為積層體，可將本發明之光學膜直接使用，亦可進而以與其他膜之積層體之形式使用。再者，於光學膜為積層體之情形時，包括積層於光學膜之單面或兩面之所有層在內稱為光學膜。

(功能層) 於本發明之光學膜之至少一面可積層1層以上功能層。作為功能層，例如可例舉：紫外線吸收層、硬塗層、底塗層、氣體阻隔層、黏著層、色相調整層、折射率調整層等。功能層可單獨使用或將兩種以上組合使用。

於本發明之光學膜之至少一面可設置硬塗層。硬塗層之厚度並無特別限定，例如可為2～100 μm。若上述硬塗層之厚度處於上述範圍，則存在如下傾向：能夠進一步提高耐衝擊性，並且耐彎曲性不易降低，不易產生因硬化收縮而引起產生捲縮之問題。硬塗層可使包含藉由活性能量線照射、或熱能賦予可形成交聯結構之反應性材料之硬塗組合物硬化而形成，較佳為藉由活性能量線照射者。活性能量線被定義為能夠使產生活性種之化合物分解而產生活性種之能量線，可例舉可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等，較佳為可例舉紫外線。上述硬塗組合物含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。

上述自由基聚合性化合物係具有自由基聚合性基之化合物。作為上述自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基，只要為可產生自由基聚合反應之官能基即可，可例舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可例舉乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。再者，於上述自由基聚合性化合物具有2個以上自由基聚合性基之情形時，該等自由基聚合性基可分別相同亦可不同。關於上述自由基聚合性化合物於1分子中具有之自由基聚合性基之數量，就提昇硬塗層之硬度之方面而言，較佳為2以上。作為上述自由基聚合性化合物，就反應性之提高之方面而言，較佳可例舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言，可例舉1分子中具有2～6個(甲基)丙烯醯基之被稱為多官能丙烯酸酯單體之化合物或環氧(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、被稱為(甲基)丙烯酸酯之分子內具有數個(甲基)丙烯醯基之分子量為數百至數千之低聚物，較佳為可例舉選自環氧(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯之1種以上。

上述陽離子聚合性化合物係具有環氧基、氧雜環丁基、乙烯醚基等陽離子聚合性基之化合物。關於上述陽離子聚合性化合物於1分子中具有之陽離子聚合性基之數量，就提昇硬塗層之硬度之方面而言，較佳為2以上，更佳為3以上。 又，作為上述陽離子聚合性化合物，其中尤佳為具有環氧基及氧雜環丁基之至少1種作為陽離子聚合性基之化合物。環氧基、氧雜環丁基等環狀醚基就伴隨聚合反應之收縮較小之方面而言較佳。又，具有環狀醚基中之環氧基之化合物具有如下優勢：容易購入各種各樣之結構之化合物，不會對所獲得之硬塗層之耐久性產生不良影響，與自由基聚合性化合物之相溶性亦容易控制。又，環狀醚基中之氧雜環丁基具有如下優勢：與環氧基相比，聚合度容易變高，為低毒性，會加快由所獲得之硬塗層之陽離子聚合性化合物而獲得之網狀結構形成速度，即便於與自由基聚合性化合物混合存在之區域，未反應之單體亦不會殘留於膜中，而是形成獨立之網狀結構等。 作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，例如可例舉：藉由將具有脂環族環之多元醇之聚縮水甘油醚、或含有環己烯環、環戊烯環之化合物用過氧化氫、過酸等適當之氧化劑進行環氧化所獲得的脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚、脂肪族長鏈多元酸之聚縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯之均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂；藉由雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等雙酚類、或該等之環氧烷加成物、己內酯加成物等衍生物與表氯醇之反應而製造之縮水甘油醚、及酚醛清漆環氧樹脂等由雙酚類衍生之縮水甘油醚型環氧樹脂等。

上述硬塗組合物可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可例舉自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，可適當選擇使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱之至少一種進行分解而產生自由基或陽離子從而使自由基聚合及陽離子聚合進行者。 自由基聚合起始劑只要藉由活性能量線照射及加熱之至少任一者能夠釋出使自由基聚合開始之物質即可。例如，作為熱自由基聚合起始劑，可例舉：過氧化氫、過苯甲酸等有機過氧化物、偶氮雙丁腈等偶氮化合物等。 作為活性能量線自由基聚合起始劑，係藉由分子之分解而生成自由基之Type1型自由基聚合起始劑、及與三級胺共存藉由奪氫型反應而生成自由基之Type2型自由基聚合起始劑，該等可單獨使用或併用使用。 陽離子聚合起始劑只要藉由活性能量線照射及加熱之至少其中一者能夠釋出使陽離子聚合開始之物質即可。作為陽離子聚合起始劑，可使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。該等根據結構之不同，藉由活性能量線照射或加熱之其中一者能夠使陽離子聚合開始或者藉由任一者均能夠使陽離子聚合開始。

上述聚合起始劑可相對於上述硬塗組合物整體100質量%包含較佳為0.1～10質量%。若上述聚合起始劑之含量處於上述範圍，則具有如下傾向：能夠使硬化充分地進行，能夠使最終所獲得之塗膜之機械物性或密接力為良好之範圍，又，不易產生因硬化收縮引起之接著力不良或破裂現象及捲縮現象。

上述硬塗組合物可進而包含選自由溶劑及添加劑所組成之群之一者以上。 上述溶劑係能夠使上述聚合性化合物及聚合起始劑溶解或分散者，只要為作為本技術領域之硬塗組合物之溶劑所知之溶劑，則可於不阻礙本發明之效果之範圍內使用。 上述添加劑可進而包含無機粒子、調平劑、穩定劑、界面活性劑、抗靜電劑、潤滑劑、防污劑等。

紫外線吸收層係具有紫外線吸收之功能之層，例如由選自紫外線硬化型之透明樹脂、電子束硬化型之透明樹脂、及熱硬化型之透明樹脂之主材、及分散於該主材中之紫外線吸收劑而構成。

黏著層係具有黏著性之功能之層，具有使光學膜與其他構件接著之功能。作為黏著層之形成材料，可使用通常所知者。例如，可使用熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物。於此情形時，藉由事後供給能量能夠使樹脂組合物高分子化並使其硬化。

黏著層亦可為被稱為感壓型接著劑(Pressure Sensitive Adhesive，有時被稱為PSA)之藉由按壓而貼合於對象物之層。感壓型接著劑可以是作為「常溫下具有黏著性、以較輕之壓力接著於被接著材之物質」(JIS K 6800)之黏著劑，亦可以是作為「使保護覆膜(微膠囊)包含特定成分中，直至藉由壓力或熱等適當之手段破壞覆膜為止能夠保持穩定性之接著劑」(於JIS K 6800中規定)之膠囊型接著劑。

色相調整層係具有色相調整之功能之層，係可將包含光學膜之積層體調整至目標色相之層。色相調整層例如為含有樹脂及著色劑之層。作為該著色劑，例如可例舉：氧化鈦、氧化鋅、紅丹、氧鈦系燒成顏料、群青、鋁酸鈷、及碳黑等無機顏料；偶氮系化合物、喹吖酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、異吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、蒽系化合物、及吡咯并吡咯二酮系化合物等有機顏料；硫酸鋇、及碳酸鈣等體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料、及媒染染料等染料。

折射率調整層係具有折射率調整之功能之層，例如為具有與光學膜不同之折射率、能夠對光學積層體賦予特定折射率之層。折射率調整層例如可為含有適當選擇之樹脂、及視情況進而含有顏料之樹脂層，亦可為金屬之薄膜。作為調整折射率之顏料，例如可例舉：氧化矽、氧化鋁、氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化鋯及氧化鉭。該顏料之平均一次粒徑亦可為0.1 μm以下。藉由使顏料之平均一次粒徑為0.1 μm以下，能夠防止透過折射率調整層之光之漫反射，能夠防止透明度之降低。作為折射率調整層所使用之金屬，例如可例舉：氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化矽、氧化銦、氮氧化鈦、氮化鈦、氮氧化矽、氮化矽等金屬氧化物或金屬氮化物。

本發明之光學膜可為單層，亦可為積層體，例如可直接使用以上述方式所製造之光學膜，亦可進而以與其他膜之積層體之形式來使用。

於本發明之較佳之一實施方式中，本發明之光學膜作為圖像顯示裝置之前面板、尤其是作為可撓性顯示裝置之前面板(以下，有時稱為視窗膜)、捲軸顯示器或可摺疊顯示器之前面板非常有用。可撓性顯示裝置例如具有可撓性功能層、及重疊於可撓性功能層上而作為前面板發揮功能之光學膜。即，可撓性顯示裝置之前面板配置於可撓性功能層之上之視認側。該前面板具有保護可撓性功能層，例如可撓性顯示器內之圖像顯示元件之功能。再者，可撓性顯示裝置係伴隨著將圖像顯示裝置反覆彎折、反覆捲起等操作來使用之顯示裝置。此種伴隨反覆彎折操作等來使用之可撓性顯示裝置之前面板要求較高之耐彎曲性。又，前面板亦要求較高之視認性。與圖像顯示裝置之內部所使用之圖像顯示裝置之基板用膜相比，圖像顯示裝置之前面板、尤其是可撓性顯示裝置之前面板用膜要求較高之視認性，並且要求較高之耐彎曲性。例如，關於本發明之膜，就容易提高用於可撓性顯示裝置之前面板之情形時之視認性的觀點而言，較佳為具有如上述中所記載之全光線透過率、霧度及/或YI值，又，就容易提高用作可撓性顯示裝置之前面板之情形時之耐彎曲性的觀點而言，較佳為滿足如上述中所記載之MIT耐折疲勞試驗之耐彎曲次數。

作為圖像顯示裝置，可例舉：電視、智慧型手機、行動電話、汽車導航、平板PC(Personal Computer，個人電腦)、攜帶型遊戲機、電子紙、指示器、佈告欄、鐘錶、及智慧型手錶等可穿戴器件等。作為可撓性顯示裝置，可例舉具有可撓性特性之所有圖像顯示裝置，例如可例舉如上所述之捲軸顯示器或可摺疊顯示器。捲軸顯示器係如下圖像顯示裝置，即，將包含前面板之圖像顯示部分捲取成輥狀，拉出該圖像顯示部分，於平面或曲面狀態下使用，且該圖像顯示裝置在每次使用時均進行輥狀地捲取等操作。又，可摺疊顯示器係如下圖像顯示裝置，即，彎曲包含前面板之圖像顯示部分，打開該圖像顯示部分，於平面或曲面狀態下使用，且該可摺疊顯示器於每次使用時均進行彎曲等操作。將此種反覆進行捲取、彎折等操作之圖像顯示裝置稱為可撓性圖像顯示裝置。

[可撓性顯示裝置] 本發明亦提供一種具備本發明之光學膜之可撓性顯示裝置。本發明之光學膜較佳為於可撓性顯示裝置中用作前面板。可撓性顯示裝置包含可撓性顯示裝置用積層體、及有機EL顯示面板，於相對於有機EL顯示面板為視認側配置有可撓性顯示裝置用積層體，且構成為能夠彎曲。可撓性顯示裝置用積層體可包含作為本發明之光學膜之視窗膜、偏光板、觸控感測器，其等之積層順序為任意，較佳為自視認側起依序積層視窗膜、偏光板、觸控感測器或視窗膜、觸控感測器、偏光板。若於觸控感測器之視認側存在偏光板，則觸控感測器之圖案不易被視認，顯示圖像之視認性變得良好，故而較佳。各構件可使用接著劑、黏著劑等進行積層。又，可具備形成於視窗膜、偏光板、觸控感測器之任一層之至少一面之遮光圖案。

[偏光板] 本發明之可撓性顯示裝置可進而具備偏光板、較佳為圓偏光板。圓偏光板係具有藉由於直線偏光板積層λ/4相位差板而僅使右旋圓偏光成分或左旋圓偏光成分透過之功能的功能層。例如可用於：遮斷將外界光轉換為右旋圓偏光後於有機EL面板反射而成為左旋圓偏光之外界光，僅使有機EL之發光成分透過，藉此抑制反射光之影響而使圖像容易看見。為了達成圓偏光功能，直線偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之遲相軸理論上需要為45°，但實用上為45±10°。直線偏光板與λ/4相位差板未必必須相鄰地積層，只要吸收軸與遲相軸之關係滿足上述範圍即可。較佳為於全波長下達成完全圓偏光，但實用上未必必須如此，因此本發明之圓偏光板亦包含橢圓偏光板。亦較佳為於直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜，使出射光成為圓偏光，藉此提昇配戴偏光太陽眼鏡之狀態下之視認性。

直線偏光板係具有使在透射軸方向上振動之光通過，但遮斷與之垂直之振動成分之偏光之功能的功能層。上述直線偏光板可為單獨具備直線偏光元件之構成或具備直線偏光元件及貼附於其至少一面之保護膜之構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若厚度處於上述範圍，則存在柔軟性不易降低之傾向。 上述直線偏光元件可為藉由對聚乙烯醇(以下，有時簡稱為PVA)系膜進行染色、延伸而製造之膜型偏光元件。使碘等二色性色素吸附於藉由延伸而配向之PVA系膜或者於吸附於PVA之狀態下延伸，藉此使二色性色素配向而發揮偏光性能。於上述膜型偏光元件之製造中，除上述以外還可具有膨潤、利用硼酸之交聯、利用水溶液之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可單獨於PVA系膜中進行，亦可於PVA系膜與聚對苯二甲酸乙二酯之類之其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，延伸倍率較佳為2～10倍。 進而，作為上述偏光元件之其他一例，亦可為塗佈液晶偏光組合物所形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏光組合物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有呈液晶狀態之性質即可，若具有層列相等高次之配向狀態，則能夠發揮較高之偏光性能，故而較佳。又，液晶性化合物亦較佳為具有聚合性官能基。

上述二色性色素係與上述液晶化合物一起配向而顯示二色性之色素，二色性色素本身可具有液晶性，亦可具有聚合性官能基。液晶偏光組合物中之任一化合物具有聚合性官能基。 上述液晶偏光組合物可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。 上述液晶偏光層可藉由於配向膜上塗佈液晶偏光組合物以形成液晶偏光層而製造。 液晶偏光層可較膜型偏光元件減薄厚度地形成。上述液晶偏光層之厚度可較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。

上述配向膜例如可藉由於基材上塗佈配向膜形成組合物，並藉由摩擦、偏光照射等賦予配向性而製造。上述配向膜形成組合物亦可除配向劑以外包含溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可使用聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於應用光配向之情形時，較佳為使用包含肉桂酸酯基之配向劑。用作上述配向劑之高分子之重量平均分子量可為10,000～1,000,000左右。上述配向膜之厚度就配向限制力之觀點而言，較佳為5～10,000 nm，更佳為10～500 nm。上述液晶偏光層可自基材剝離並轉印進行積層，亦可將上述基材直接進行積層。亦較佳為上述基材承擔作為保護膜或相位差板、視窗膜之透明基材之作用。

作為上述保護膜，只要為透明之高分子膜即可，具體而言，作為所使用之高分子膜，可例舉：具有包含聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、降𦯉烯或環烯烴之單體之單元的環烯烴系衍生物等聚烯烴類、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素、丙醯基纖維素等(改性)纖維素類、甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物等丙烯酸類、苯乙烯(共)聚合物等聚苯乙烯類、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物類、丙烯腈-苯乙烯共聚物類、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物類、聚氯乙烯類、聚偏二氯乙烯類、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等聚酯類、尼龍等聚醯胺類、聚醯亞胺類、聚醯胺醯亞胺類、聚醚醯亞胺類、聚醚碸類、聚碸類、聚乙烯醇類、聚乙烯醇縮醛類、聚胺基甲酸酯類、環氧樹脂類等之膜，就透明性及耐熱性優異之方面而言，較佳為可例舉聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺、聚酯、烯烴、丙烯酸或纖維素系之膜。該等高分子可分別單獨使用或將2種以上混合使用。該等膜可於未延伸之狀態下直接使用、或者以經單軸或雙軸延伸之膜之形式而使用。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜。亦可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物進行硬化所獲得之塗佈型之保護膜。亦可視需要包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述保護膜之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若上述保護膜之厚度處於上述範圍，則保護膜之柔軟性不易降低。

上述λ/4相位差板係於與入射光之行進方向正交之方向，換言之，於膜之面內方向上賦予λ/4之相位差之膜。上述λ/4相位差板亦可為藉由將纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜進行延伸而製造之延伸型相位差板。亦可視需要包含相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之類之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。上述延伸型相位差板之厚度可為200 μm以下，較佳為1～100 μm。若厚度處於上述範圍，則存在膜之柔軟性不易降低之傾向。 進而，作為上述λ/4相位差板之又一例，亦可為塗佈液晶組合物而形成之液晶塗佈型相位差板。上述液晶組合物包含具有呈向列、膽固醇、層列等液晶狀態之性質之液晶性化合物。液晶組合物中之包含液晶性化合物之任一化合物具有聚合性官能基。上述液晶塗佈型相位差板可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。上述液晶塗佈型相位差板可藉由如下方式而製造：與上述液晶偏光層中之記載相同，於配向膜上塗佈液晶組合物並進行硬化，形成液晶相位差層。液晶塗佈型相位差板可較延伸型相位差板減薄厚度地形成。上述液晶偏光層之厚度通常可為0.5～10 μm，較佳為1～5 μm。上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離並轉印進行積層，亦可將上述基材直接進行積層。亦較佳為上述基材承擔作為保護膜或相位差板、視窗膜之透明基材之作用。

一般而言，材料大多顯示出波長越短則雙折射越大，波長越長則雙折射越小之傾向。於此情形時，無法於全可見光區域達成λ/4之相位差，因此，面內相位差係以成為較佳為100～180 nm、更佳為130～150 nm之方式設計以使得相對於視感度較高之560 nm附近成為λ/4。使用具有與通常相反之雙折射率波長分散特性之材料的逆分散λ/4相位差板就視認性良好之方面而言較佳。作為此種材料，於延伸型相位差板之情形時，較佳為使用日本專利特開2007-232873號公報等中所記載者，於液晶塗佈型相位差板之情形時，較佳為使用日本專利特開2010-30979號公報中所記載者。 又，作為其他方法，亦已知有藉由與λ/2相位差板進行組合而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(例如，日本專利特開平10-90521號公報)。λ/2相位差板亦可藉由與λ/4相位差板相同之材料及方法來製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板之組合為任意，均可藉由使用液晶塗佈型相位差板而使厚度變薄。 已知有於上述圓偏光板積層正C板以提高斜方向視認性之方法(例如，日本專利特開2014-224837號公報)。正C板可為液晶塗佈型相位差板，亦可為延伸型相位差板。厚度方向之相位差通常為-200～-20 nm，較佳為-140～-40 nm。

[觸控感測器] 本發明之可撓性顯示裝置亦可進而具備觸控感測器。觸控感測器可用作輸入機構。作為觸控感測器，提出有電阻膜方式、表面聲波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種各樣之類型，任一方式均可。其中尤佳為靜電電容方式。靜電電容方式觸控感測器分為活性區域、及位於上述活性區域之外廓部之非活性區域。活性區域係顯示面板中顯示畫面之區域，即與顯示部對應之區域，且該活性區域會感知使用者之碰觸，非活性區域係顯示裝置中不顯示畫面之區域，即與非顯示部對應之區域。觸控感測器可包含：具有可撓性特性之基板；形成於上述基板之活性區域之感知圖案；及形成於上述基板之非活性區域，用於經由上述感知圖案及焊墊部與外部之驅動電路連接之各感測線。關於具有可撓性特性之基板，可使用與上述高分子膜相同之材料。就抑制觸控感測器之龜裂之方面而言，觸控感測器之基板較佳為其韌性為2,000 MPa%以上者。更佳為韌性亦可為2,000～30,000 MPa%。此處，韌性被定義為通過高分子材料之拉伸實驗所獲得之應力(MPa)-應變(%)曲線(Stress-strain curve)中直至破壞點為止之曲線之下部面積。

上述感知圖案可具備形成於第1方向之第1圖案、及形成於第2方向之第2圖案。第1圖案與第2圖案配置於互不相同之方向。第1圖案及第2圖案形成於同一層，為了感知碰觸部位，各圖案必須電性連接。第1圖案為各單元圖案經由接頭相互連接之形態，但第2圖案為各單元圖案相互分離成島嶼形態之構造，因此為了電性連接第2圖案，需要另外之橋接電極。感知圖案可應用周知之透明電極素材。例如可例舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅氧化物(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-伸乙二氧基噻吩))、奈米碳管(CNT)、石墨烯、金屬線等，其等可單獨使用或將2種以上混合使用。較佳為可使用ITO。金屬線所使用之金屬並無特別限定，例如可例舉：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、硒、鉻等。該等可單獨使用或將2種以上混合使用。

橋接電極可於感知圖案上部經由絕緣層形成於上述絕緣層上部，可於基板上形成橋接電極，並於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極亦可利用與感知圖案相同之素材而形成，亦可利用鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或該等中之2種以上之合金等金屬而形成。由於第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，故而於感知圖案與橋接電極之間形成絕緣層。絕緣層可僅於第1圖案之接頭與橋接電極之間形成，亦可於覆蓋感知圖案之層之結構中形成。於後者之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔連接第2圖案。上述觸控感測器可於基板與電極之間進而包含光學調節層作為用以適當地補償形成有圖案之圖案區域與未形成圖案之非圖案區域間之透過率之差(具體而言，由該等區域中之折射率之差而誘發之透光率之差)之機構，上述光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可將包含光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物塗佈於基板上而形成。上述光硬化組合物可進而包含無機粒子。藉由上述無機粒子能夠使光學調節層之折射率上升。 上述光硬化性有機黏合劑例如可包含丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如亦可為包含含有環氧基之重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等互不相同之各重複單元之共聚物。 上述無機粒子例如可包含氧化鋯粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。上述光硬化組合物亦可進而包含光聚合起始劑、聚合性單體、硬化輔助劑等各添加劑。

[接著層] 上述形成可撓性顯示裝置用積層體之視窗膜、偏光板、觸控感測器等各層以及構成各層之直線偏光板、λ/4相位差板等膜構件可藉由接著劑進行接著。作為接著劑，可使用水系接著劑、有機溶劑系接著劑、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型接著劑、水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑、感壓型黏著劑、再濕型接著劑等被通用地使用者。其中可良好地使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著層之厚度可視所要求之接著力等適當調節，例如為0.01～500 μm，較佳為0.1～300 μm。接著層於上述可撓性圖像顯示裝置用積層體中可存在複數層，各層之厚度及所使用之接著劑之種類可相同亦可不同。

作為上述水系溶劑揮散型接著劑，可使用聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳膠、苯乙烯-丁二烯系乳膠等水分散狀態之聚合物作為主劑聚合物。除水、上述主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於藉由上述水系溶劑揮散型接著劑進行接著之情形時，可藉由如下方式賦予接著性：將上述水系溶劑揮散型接著劑注入至被接著層間使被接著層貼合，其後使其乾燥。使用上述水系溶劑揮散型接著劑之情形時之接著層之厚度可為0.01～10 μm，較佳為0.1～1 μm。於將上述水系溶劑揮散型接著劑用於複數層之形成之情形時，各層之厚度及上述接著劑之種類可相同亦可不同。

上述活性能量線硬化型接著劑可藉由使活性能量線硬化組合物硬化而形成，該活性能量線硬化組合物包含照射活性能量線會形成接著劑層之反應性材料。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物相同之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。上述自由基聚合性化合物與硬塗組合物相同，可使用與硬塗組合物相同之種類者。作為接著層所使用之自由基聚合性化合物，較佳為具有丙烯醯基之化合物。為了降低作為接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物。

上述陽離子聚合性化合物與硬塗組合物相同，可使用與硬塗組合物相同之種類者。作為活性能量線硬化組合物所使用之陽離子聚合性化合物，較佳為環氧化合物。為了降低接著劑組合物之黏度，亦較佳為包含單官能之化合物作為反應性稀釋劑。 活性能量線組合物中可進而包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，為自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基或陽離子聚合起始劑等，可適當選擇而使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱之至少一種進行分解而產生自由基或陽離子從而使自由基聚合及陽離子聚合進行者。可使用硬塗組合物之記載中藉由活性能量線照射能夠使自由基聚合或陽離子聚合中之至少任一者開始之起始劑。

上述活性能量線硬化組合物可進而包含離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑、溶劑。於藉由上述活性能量線硬化型接著劑進行接著之情形時，可藉由如下方式進行接著：將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層之任一者或兩者，其後進行貼合，通過任一被接著層或兩個被接著層照射活性能量線使之硬化。使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時之接著層之厚度通常可為0.01～20 μm，較佳為0.1～10 μm。於將上述活性能量線硬化型接著劑用於複數層之形成之情形時，各層之厚度及所使用之接著劑之種類可相同亦可不同。

作為上述黏著劑，亦可視主劑聚合物而使用被分類為丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等之任一者。黏著劑中除主劑聚合物以外亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。將構成上述黏著劑之各成分溶解於溶劑中並使之分散而獲得黏著劑組合物，將該黏著劑組合物塗佈於基材上，其後使之乾燥，藉此而形成黏著層或接著層。黏著層可直接形成，亦可轉印另行形成於基材者。為了保護接著前之黏著面，亦較佳為使用離型膜。使用上述黏著劑之情形時之接著層之厚度通常可為1～500 μm，較佳為2～300 μm。於將上述黏著劑用於複數層之形成之情形時，各層之厚度及所使用之黏著劑之種類可相同亦可不同。

[遮光圖案] 上述遮光圖案可作為上述可撓性圖像顯示裝置之邊框或外殼(housing)之至少一部分來應用。藉由遮光圖案，配置於上述可撓性圖像顯示裝置之邊緣部之配線被隱藏，不易被視認，藉此圖像之視認性提昇。上述遮光圖案可為單層或複數層之形態。遮光圖案之顏色並無特別限制，可具有黑色、白色、金屬色等各種各樣之顏色。遮光圖案可由用以體現顏色之顏料、及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等高分子而形成。亦可將該等單獨使用或以2種以上之混合物之形式而使用。上述遮光圖案可利用印刷、微影術、噴墨等各種方法而形成。遮光圖案之厚度通常為1～100 μm，較佳為2～50 μm。又，亦較佳為於遮光圖案之厚度方向上賦予傾斜等形狀。 [實施例]

以下，藉由實施例進一步詳細地說明本發明。關於例中之「%」及「份」，只要未特別記載，則意指質量%及質量份。首先，針對評價方法進行說明。

＜基於HSQC-NMR之(int_A /int_B )之測定＞ 基於HSQC-NMR之(int_A /int_B )係以如下方式而求出。 (1)測定試樣之製備方法 使聚醯胺醯亞胺樹脂溶解於氘化二甲基亞碸(DMSO-d₆ )中而製成2質量%溶液，將其作為測定溶液。 (2)測定條件 測定裝置：Bruker製造之600 MHzNMR裝置AVANCE600 試樣溫度：303 K 測定方法：HSQC 化學位移基準：DMSO(質子2.49 ppm、碳40.44 ppm) (3)分析方法 於所獲得之HSQC-NMR圖譜中，將質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域A中所存在之波峰之體積藉由積分而獲得積分值(int_A )。進而，將質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域B中所存在之波峰之體積藉由積分而獲得積分值(int_B )。算出積分值(int_A )相對於積分值(int_B )之比率，藉此獲得比率(int_A /int_B )[%]。

＜聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量(聚苯乙烯換算重量平均分子量)之測定＞ 凝膠滲透層析法(GPC)測定 (1)預處理方法 於聚醯胺醯亞胺膜中以成為濃度2 mg/mL之方式加入DMF溶離液(添加10 mmol/L溴化鋰之溶液)，以80℃一面攪拌一面加熱30分鐘，冷卻後，用0.45 μm薄膜過濾器進行過濾，將所得者作為測定溶液。 (2)測定條件 管柱：Tosoh(股)製造之TSKgel α-2500((7)7.8 mm直徑×300 mm)×1根，α-M((13)7.8 mm直徑×300 mm)×2根 溶離液：DMF(添加10 mmol/L之溴化鋰) 流量：1.0 mL/min 檢測器：RI檢測器 管柱溫度：40℃ 注入量：100 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯

＜重量平均分子量之變化率＞ 將實施例及比較例中所獲得之光學膜於溫度85℃、相對濕度85%之環境下保管1週。繼而，依照上述方法測定保管試驗前之光學膜所包含之聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量(Mw1)、及上述保管試驗後之光學膜所包含之聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量(Mw2)。根據所獲得之重量平均分子量，依照如下式算出重量平均分子量之變化率(%)。 重量平均分子量之變化率(%)＝{(Mw1－Mw2)/Mw1}×100

＜厚度＞ 實施例及比較例中所獲得之光學膜之厚度係使用ABS數位式量表(Mitutoyo(股)製造，「ID-C112BS」)進行測定。

＜彈性模數＞ 使用島津製作所(股)製造之「Autograph AG-IS」對實施例及比較例中所獲得之光學膜於溫度25℃、相對濕度50%下之彈性模數進行測定。更詳細而言，製作縱橫10 mm寬之膜，以夾頭間距離50 mm、拉伸速度20 mm/min之條件測定應力-應變曲線(S-S曲線)，根據其斜率算出彈性模數。

＜全光線透過率(Tt)＞ 依據JIS K 7105:1981，藉由全自動直讀式霧度計算機(Suga Test Instruments(股)製造之HGM-2DP)對實施例及比較例中所獲得之光學膜之全光線透過率進行測定。

＜霧度＞ 依據JIS K 7136:2000，將實施例及比較例中所獲得之光學膜切割成30 mm×30 mm之大小，使用全自動直讀式霧度計算機(Suga Test Instruments(股)製造之HGM-2DP)對霧度(%)進行測定。

＜YI值＞ 使用紫外可見近紅外分光光度計(日本分光(股)製造之V-670)求出三刺激值(X，Y，Z)，並代入下述計算式中，藉此算出YI值。 YI＝100×(1.2769X－1.0592Z)/Y

＜YI值之變化率＞ 對實施例及比較例中所獲得之光學膜實施於溫度85℃、相對濕度85%之環境下保管1週之保管試驗。依照上述方法測定該保管試驗前之光學膜之YI值(Y1)、及保管試驗後之光學膜之YI值(Y2)。根據所獲得之各YI值，依照如下式算出YI值之變化率(%)。 YI值之變化率(%)＝{(Y2－Y1)/Y1}×100

＜MIT試驗中之耐彎曲次數＞ 將實施例及比較例中所獲得之光學膜分別使用啞鈴切割機切割成10 mm×100 mm之大小。將所切割之膜於溫度25℃濕度50%下靜置24小時以上，設置於MIT耐折疲勞試驗機(東洋精機製作所(股)製造之「MIT-DA」 型號：0530)，以試驗速度175 cpm、彎折角度135°、荷重750 g、彎折夾之R 1.0 mm之條件實施向背面正面兩個方向之彎折試驗，測定各膜之耐彎曲次數，即於不斷裂之情況下能夠彎折之次數。

＜耐彎曲次數之變化率＞ 將實施例及比較例中所獲得之光學膜於溫度85℃、相對濕度85%之環境下保管1週。繼而，分別於溫度25℃濕度50%靜置24小時以上後，對上述保管試驗前之光學膜之耐彎曲次數(N1)、及上述保管試驗後之光學膜之耐彎曲次數(N2)依照上述方法進行測定。根據所獲得之耐彎曲次數，依照如下式算出耐彎曲次數之變化率(%)。 耐彎曲次數之變化率(%)＝{(N1－N2)/N1}×100

＜胺比＞ 將聚醯胺醯亞胺樹脂之合成所使用之二胺化合物之莫耳量設為M_A 莫耳，將二羧酸化合物之莫耳量設為M_B 莫耳，將四羧酸化合物之莫耳量設為M_C 莫耳，藉由如下式算出樹脂之合成中之胺比。 胺比＝M_A /(M_B ＋M_C )

＜實施例1＞ 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之1 L可分離式燒瓶中加入DMAc 313.57 g，並以水分量成為700 ppm之方式投入必需量之離子交換水。繼而，加入TFMB 18.53 g(57.86 mmol)，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於燒瓶中添加6FDA 7.64 g(17.19 mmol)，冷卻至10℃並攪拌16小時。其後，將OBBC 1.69 g(5.73 mmol)加入至燒瓶中，繼而，將TPC 6.28 g(30.93 mmol)加入至燒瓶中，並以10℃攪拌30分鐘。繼而，加入已將水分量調整至700 ppm之DMAc 313.57 g攪拌10分鐘，其後進而將TPC 0.70 g(3.45 mmоl)加入至燒瓶中，以10℃攪拌30分鐘，其後進而加入TFMB 0.0367 g(0.115 mmоl)攪拌2小時。繼而，於燒瓶中加入二異丙基乙基胺5.18 g(40.11)及4-甲基吡啶3.74 g(40.11 mmol)、乙酸酐12.29 g(120.30 mmol)，以10℃攪拌30分鐘。其後，使用油浴分別以自10℃直至50℃歷時30分鐘、自50℃直至60℃歷時10分鐘、自60℃直至65℃歷時10分鐘之方式進行升溫，其後，分別以自65℃直至70℃歷時10分鐘、自70℃直至75℃歷時10分鐘之方式階段性地進行升溫，以進而70℃一面進行3小時保溫一面攪拌，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，絲狀地投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，用甲醇浸漬6小時，其後用甲醇洗淨。繼而，以60℃進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(1)。

將上述聚醯胺醯亞胺樹脂(1)溶解於DMAc中製成10質量%溶液，並將所獲得之聚醯胺醯亞胺清漆用網眼10 μm之過濾器進行過濾，其後於聚酯基材(TOYOBO(股)製造，商品名「A4100」)之平滑面上以豎立膜之厚度成為55 μm之方式使用敷料器進行塗佈，以50℃乾燥30分鐘，繼而，以140℃乾燥15分鐘，其後將所獲得之塗膜自聚酯基材剝離，而獲得豎立膜。將豎立膜固定於金框，進而於大氣下以200℃乾燥40分鐘，而獲得厚度50 μm之光學膜1。

＜比較例1＞ 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之1 L可分離式燒瓶中加入DMAc 313.57 g，並以水分量成為700 ppm之方式投入必需量之離子交換水。繼而，加入TFMB 18.27 g(57.05 mmol)，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於燒瓶中添加6FDA 7.76 g(17.47 mmol)，冷卻至10℃並攪拌16小時。其後，將OBBC 1.72 g(5.85 mmol)加入至燒瓶中，繼而，將TPC 6.38 g(31.43 mmol)加入至燒瓶中，並以10℃攪拌30分鐘。繼而，加入已將水分量調整至700 ppm之DMAc 313.57 g攪拌10分鐘，其後進而將TPC 0.71 g(3.50 mmоl)加入至燒瓶中，以10℃攪拌30分鐘，其後進而加入TFMB 0.186 g(0.581 mmоl)攪拌30分鐘，其後，進而加入TFMB 0.0932 g(0.291 mmоl)攪拌2小時。繼而，於燒瓶中加入二異丙基乙基胺5.27 g(40.76)、及4-甲基吡啶3.80 g(40.76 mmol)、乙酸酐12.48 g(122.27 mmol)，以10℃攪拌30分鐘。其後，使用油浴分別以自10℃直至50℃歷時20分鐘、自50℃直至60℃歷時20分鐘、自60℃直至75℃歷時20分鐘之方式階段性地升溫，進而以75℃一面進行3小時保溫一面攪拌，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，絲狀地投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，用甲醇浸漬6小時，其後用甲醇洗淨。繼而，以60℃進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(2)。

使用上述聚醯胺醯亞胺樹脂(2)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得厚度50 μm之光學膜2。

＜比較例2＞ 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之1 L可分離式燒瓶中加入DMAc 313.57 g。此時，DMAc中之水分量為300 ppm。繼而，加入TFMB 18.36 g(57.33 mmol)，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於燒瓶中添加6FDA 7.72 g(17.38 mmol)，冷卻至10℃並攪拌16小時。其後，將OBBC 1.71 g(5.81 mmol)加入至燒瓶中，繼而，將TPC 6.35 g(31.28 mmol)加入至燒瓶中，以10℃攪拌30分鐘。繼而，加入水分量300 ppm之DMAc 313.57 g並攪拌10分鐘，其後，進而將TPC 0.71 g(3.48 mmоl)加入至燒瓶中並攪拌2小時。繼而，於燒瓶中加入二異丙基乙基胺5.24 g(40.54)及4-甲基吡啶7.55 g(81.08 mmol)、乙酸酐26.61 g(260.60 mmol)，以10℃攪拌30分鐘。其後，使用油浴分別以自10℃直至55℃歷時20分鐘、自55℃直至65℃歷時20分鐘、自65℃直至85℃歷時20分鐘之方式階段性地進行升溫，進而以85℃一面進行3小時保溫一面攪拌，而獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，絲狀地投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，用甲醇浸漬6小時，其後用甲醇洗淨。繼而，以60℃進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺醯亞胺樹脂(3)。

使用上述聚醯胺醯亞胺樹脂(3)，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得厚度50 μm之光學膜3。

＜實施例2＞ 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之3 m³ 之反應容器中以反應混合液中之TFMB之固形物成分濃度成為5.54質量%之方式加入23.66 kg之TFMB、及水分量調整至300 ppm之DMAc，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於反應容器中以相對於TFMB成為30.21 mol%之方式添加6FDA，並以25℃攪拌16小時。其後，以相對於TFMB分別成為60.42 mol%及10.07 mol%之方式加入TPC及OBBC，並攪拌60分鐘。繼而，以相對於TFMB分別成為35.25 mol%、105.74 mol%之方式加入4-甲基吡啶、及乙酸酐並攪拌30分鐘，其後，使反應混合液之壁面部與底部之平均溫度以自25℃直至50℃歷時30分鐘、自50℃直至60℃歷時10分鐘、自60℃直至65℃歷時10分鐘之方式分別進行升溫，其後以自65℃直至70℃歷時10分鐘之方式階段性地進行升溫。此時，對於反應容器之壁面，以自反應混合液之液面高度之上起7成左右得以加熱之方式設置加熱部，將剩下之底部設為非加熱部，藉此使反應容器之壁面與底部之間產生溫度差，如此進行設定來對反應容器之壁面進行加熱，而僅使反應混合液之壁面附近得到局部加熱。於該狀態下攪拌3小時，而獲得反應液。反應結束時，非加熱之底部為65℃，相對於此，經局部加熱之壁面部為81℃。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，一面攪拌一面投入相對於該反應液以重量比計為1.6倍之甲醇及0.55倍之水，取出所析出之沈澱物，並用甲醇洗淨。繼而，以60℃進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得聚醯胺系樹脂(4)。所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂(4)之重量平均分子量為429,000。

將上述聚醯胺醯亞胺樹脂(4)溶解於DMAc製成10質量%溶液，並將所獲得之聚醯胺醯亞胺清漆用網眼10 μm之過濾器進行過濾，其後，於聚酯基材(TOYOBO(股)製造，商品名「A4100」)之平滑面上以豎立膜之厚度成為55 μm之方式使用敷料器進行塗佈，並以50℃乾燥30分鐘，繼而，以140℃乾燥15分鐘，其後，將所獲得之塗膜自聚酯基材剝離，而獲得豎立膜。將豎立膜固定於金框，進而於大氣下以200℃乾燥40分鐘，而獲得厚度50 μm之光學膜4。

＜實施例3＞ 於氮氣氛圍下，於具備攪拌葉之3 m³ 之反應容器中以反應混合液之TFMB之固形物成分濃度成為5.54質量%之方式加入23.66 kg之TFMB、及水分量調整至300 ppm之DMAc，於室溫下一面攪拌一面使TFMB溶解於DMAc中。繼而，於反應容器中以相對於TFMB成為30.21 mol%之方式添加6FDA，並以25℃攪拌16小時。其後，以相對於TFMB分別成為60.42 mol%及10.07 mol%之方式加入TPC及OBBC，並攪拌60分鐘。繼而，以相對於TFMB分別成為35.25 mol%、105.74 mol%之方式加入4-甲基吡啶、及乙酸酐並攪拌30分鐘，其後，使反應混合液之壁面部與底部之平均溫度以自25℃直至50℃歷時30分鐘、自50℃直至60℃歷時10分鐘、自60℃直至65℃歷時10分鐘之方式分別進行升溫，其後以自65℃直至70℃歷時10分鐘之方式階段性地進行升溫。此時，對於反應容器之壁面，以自反應混合液之液面高度之上起7成左右得以加熱之方式設置加熱部，將剩下之底部設為非加熱部，藉此使反應容器之壁面與底部之間產生溫度差，如此進行設定來對反應容器之壁面進行加熱，而僅使反應混合液之壁面附近得到局部加熱。於該狀態下攪拌3小時，而獲得反應液。反應結束時，非加熱之底部為68℃，相對於此，經局部加熱之壁面部為78℃。 將所獲得之反應液冷卻至室溫，一面攪拌一面投入相對於該反應液以重量比計為1.6倍之甲醇及0.55倍之水，取出所析出之沈澱物，並用甲醇洗淨。繼而，以60℃進行沈澱物之減壓乾燥，而獲得(5)。所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂(5)之重量平均分子量為410,000。

將上述聚醯胺醯亞胺樹脂(5)溶解於DMAc中製成10質量%溶液，並將所獲得之聚醯胺醯亞胺清漆用網眼10 μm之過濾器進行過濾，其後於聚酯基材(TOYOBO(股)製造，商品名「A4100」)之平滑面上以豎立膜之厚度成為55 μm之方式使用敷料器進行塗佈，以50℃乾燥30分鐘，繼而，以140℃乾燥15分鐘，其後將所獲得之塗膜自聚酯基材剝離，而獲得豎立膜。將豎立膜固定於金框，進而於大氣下以200℃乾燥40分鐘，而獲得厚度50 μm之光學膜。

針對實施例及比較例，對聚醯胺醯亞胺樹脂之重量平均分子量、光學膜之彈性模數、全光線透過率(Tt)、霧度、YI值進行測定。又，使用在溫度85℃、相對濕度85%之環境下保管1週後之光學膜，同樣地對重量平均分子量、YI值及耐彎曲次數進行測定，並依照上述式算出該等之變化率。將所獲得之結果示於如下表1中。再者，關於比較例1之光學膜，由於YI值之變化率非常大，並非能夠用作光學膜者，因此未進行耐彎曲次數之評價。

[表1]

	實施例1	實施例2	實施例3	比較例1	比較例2
胺比	1.011	0.993	0.993	0.995	0.989
比率(intA /intB )[%]	0.4	0.3	0.6	1.8	1.7
重量平均分子量	保管試驗前	295,000	429,000	410,000	436,000	314,000
保管試驗後	233,000	316,000	306,000	314,000	176,000
變化率[%]	21	26	25	28	44
彈性模數 [GPa]	保管試驗前	5.2	5.0	4.9	5.4	5.1
Tt[%]	91.7	91.4	91.4	91.3	91.6
霧度[%]	0.1	0.1	0.1	0.2	0.2
YI值	保管試驗前	1.4	1.5	1.6	1.6	1.5
保管試驗後	1.6	1.5	1.7	3.2	2.0
變化率[%]	14	0	13	100	33
耐彎曲次數[次]	保管試驗前	71,360	105,043	105,687	-	74,636
保管試驗後	59,477	93,056	69,029	-	33,609
變化率[%]	17	11	35	-	55

Claims (15)

1. 一種聚醯胺醯亞胺樹脂，其中於以聚醯胺醯亞胺樹脂之氘化二甲基亞碸溶液作為測定試樣而獲得之¹ H-¹³ C HSQC圖譜中，區域(A)中所存在之波峰之積分值(int_A )與區域(B)中所存在之波峰之積分值(int_B )的比率(int_A /int_B )為1.5%以下，上述區域(A)係質子之化學位移為8.06～8.14 ppm且碳之化學位移為129.6～130.3 ppm之區域，上述區域(B)係質子之化學位移為7.26～7.85 ppm且碳之化學位移為132.4～134.0 ppm之區域。
2. 如請求項1之聚醯胺醯亞胺樹脂，其至少具有式(1)所表示之結構單元、及式(2)所表示之結構單元： [化23]

   

   [式(1)中，Y表示4價有機基， X表示2價有機基， *表示鍵結鍵] [化24]

   

   [式(2)中，Z及X相互獨立，表示2價有機基， *表示鍵結鍵]。
3. 如請求項1之聚醯胺醯亞胺樹脂，其具有200,000以上1,000,000以下之重量平均分子量。
4. 如請求項2之聚醯胺醯亞胺樹脂，其具有200,000以上1,000,000以下之重量平均分子量。
5. 如請求項1至4中任一項之聚醯胺醯亞胺樹脂，其中作為式(1)中之X或式(2)中之X，至少具有式(4)所表示之結構： [化25]

   

   [式(4)中，H^4a 及H^4b 表示氫原子， R^4a ～R^4d 相互獨立，表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R^4a ～R^4d 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， *表示鍵結鍵]。
6. 如請求項1至4中任一項之聚醯胺醯亞胺樹脂，其中作為式(2)中之Z，至少具有式(3)所表示之結構： [化26]

   

   [式(3)中，R^3a 及R^3b 相互獨立，表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R^3a 及R^3b 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， W相互獨立，表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，R⁹ 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， s為0～4之整數， t為0～4之整數， u為0～4之整數， *表示鍵結鍵]。
7. 如請求項5之聚醯胺醯亞胺樹脂，其中作為式(2)中之Z，至少具有式(3)所表示之結構： [化27]

   

   [式(3)中，R^3a 及R^3b 相互獨立，表示碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、或碳數6～12之芳基，R^3a 及R^3b 中所包含之氫原子相互獨立，可經鹵素原子取代， W相互獨立，表示單鍵、-O-、-CH₂ -、-CH₂ -CH₂ -、-CH(CH₃ )-、-C(CH₃ )₂ -、-C(CF₃ )₂ -、-SO₂ -、-S-、-CO-或-N(R⁹ )-，R⁹ 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， s為0～4之整數， t為0～4之整數， u為0～4之整數， *表示鍵結鍵]。
8. 一種光學膜，其包含如請求項1至7中任一項之聚醯胺醯亞胺樹脂。
9. 一種光學膜，其係包含聚醯胺醯亞胺樹脂者，且該光學膜於保管試驗前後之重量平均分子量之變化率為26%以下，上述保管試驗係將該光學膜於溫度85℃、濕度85%之條件保管1週。
10. 如請求項9之光學膜，其於上述保管試驗前後之重量平均分子量之變化率為25%以下。
11. 一種可撓性顯示裝置之前面板，其具有如請求項8至10中任一項之光學膜。
12. 一種可撓性顯示裝置，其具備如請求項11之前面板。
13. 如請求項12之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
14. 如請求項12或13之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。
15. 一種如請求項1至7中任一項之聚醯胺醯亞胺樹脂之製造方法，該方法係使二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物發生反應，該二胺化合物之莫耳數相對於該四羧酸化合物與該二羧酸化合物之合計莫耳數之比率超過1.000。