CN104819158A - 涡轮分子泵 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种涡轮分子泵,包括:冷却隔片(23b),配置在最下段的隔片与基座(20)之间,且具备供冷却液流通的隔片冷却管(45);加热器(42),使螺纹定子升温;温度传感器(43),检测螺纹定子的温度;以及基座冷却管(46),串联连接于隔片冷却管(45),使基座(20)冷却;且所述涡轮分子泵包括作为温度控制部的调温用控制器(51),所述调温用控制器(51)控制冷却液向串联连接的隔片冷却管(45)及基座冷却管(46)的流通与加热器(42)的通电,而将螺纹定子(24)的温度维持在规定温度。根据本发明,可同时实现大流量排气及防止产物堆积。
Description
技术领域
本发明涉及一种涡轮分子泵(turbo-molecular pump),其在半导体制造装置或分析装置等真空装置中以从中真空到超高真空的压力范围予以使用。
背景技术
以往,在半导体制造步骤中的干式刻蚀(dry etching)或化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)等制造过程(process)中,为了使制造过程高速进行而一面供给大量的气体(gas)一面进行处理。在进行这些制造过程的半导体制造装置中,对处理室(chamber)进行真空排气的真空泵通常使用包括涡轮(turbine)叶片部与螺纹槽泵部的涡轮分子泵。当在这些制造过程中使用涡轮分子泵时,根据处理气体(process gas)的种类的不同,有反应产物堆积在泵内的情况。尤其是因反应产物的压力与升华温度的关系,反应产物的堆积容易发生在压力相对较高的螺纹槽泵部。
因此,在专利文献1记载的涡轮分子泵中,通过在泵基座(pump base)设置加热器(heater)与水冷管,且控制加热器的通电及冷却水的供给,而监控螺纹定子(screw stator)等中的气体流路温度不成为设定温度以下。由此,防止反应产物的堆积。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2003-278692号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
另外,涡轮分子泵是通过转子(rotor)高速旋转而将气体排出,通常转子使用铝合金。铝产生蠕变(creep)现象的温度低于其他金属。因此,在转子高速旋转的涡轮分子泵中,须将转子温度抑制得比蠕变温度区域更低。
另一方面,若利用涡轮分子泵排出大量的气体,伴随气体的排出会产生热,而转子温度会上升。来自转子的散热主要从旋转叶片向固定叶片辐射或经由气体进行热传递。然而,当如上所述构成为控制加热器的通电与冷却水的供给而将螺纹定子等的温度维持在比设定温度更高的温度时,气体排出过程中的固定叶片的温度变得高于螺纹定子温度,因此,从旋转叶片向固定叶片的散热未能充分地进行,而转子温度容易变为高温。因而,有无法增大涡轮分子泵的排气流量的问题。
[解决问题的技术手段]
本发明的优选的实施方式的涡轮分子泵的特征在于包括:转子,形成有多段旋转叶片与圆筒部;多段固定叶片,相对于所述多段旋转叶片而交替地配置;多个隔片,通过积层而将所述多段固定叶片定位;定子,相对于所述圆筒部隔着间隙而配置;基座,固定所述定子;隔片冷却部,以与积层的所述隔片的最下段隔片接触的方式配置在所述最下段隔片与所述基座之间,且具有供冷却液流通的第一流路;加热器,使所述定子升温;温度传感器,检测所述定子的温度;基座冷却部,形成有与所述第一流路串联连接的第二流路,使所述基座冷却;以及温度控制部,控制冷却液向串联连接的所述第一流路及所述第二流路的流通与所述加热器的通电,而将所述定子的温度维持在规定温度。
更优选的实施方式的特征在于:所述第二流路的流出部连接于所述第一流路的流入部,以使冷却液按所述第二流路、所述第一流路的顺序流通。
更优选的实施方式的特征在于:所述第一流路的流出部连接于所述第二流路的流入部,以使冷却液按所述第一流路、所述第二流路的顺序流通。
更优选的实施方式的特征在于包括:旁通配管,相对于串联连接的所述第一流路及所述第二流路而并联连接;以及三通阀,选择性地切换为第一流通状态与第二流通状态,所述第一流通状态下冷却液流通到所述第一流路及所述第二流路,所述第二流通状态下冷却液流通到所述旁通配管;且所述温度控制部控制所述加热器的通电及利用所述三通阀在所述第一流通状态与所述第二流通状态之间的切换,而将所述定子的温度维持在规定温度。
[发明的效果]
根据本发明,可同时实现大流量排气及防止产物堆积。
附图说明
图1是表示本发明的涡轮分子泵的泵单元(pump unit)1的概略构成的剖面图。
图2是图1的设有冷却隔片23b的部分的放大图。
图3是从G方向观察图2的冷却隔片23b所得的俯视图。
图4是对调温系统与冷却隔片23b的关系进行说明的框图(blockdiagram)。
图5是表示氯化铝的蒸气压曲线的图。
图6是表示本实施方式中的调温控制的一例的流程图(flow chart)。
图7是表示不包括冷却隔片23b的构成的情况下的螺纹定子24及固定叶片22的温度与升华温度曲线L1的图。
图8是表示本实施方式中的螺纹定子24及固定叶片22的温度与升华温度曲线L1的图。
图9是对调温系统与冷却隔片23b的关系进行说明的框图。
图10是变形例中的螺纹定子24及固定叶片22的温度与升华温度曲线L1的图。
【符号说明】
1:泵单元 20:基座
20a:排气口 21:壳体
21a:吸气口 21b:上端卡止部
21c:法兰 22:固定叶片
23a:隔片 23b:冷却隔片
24:螺纹定子 25:排气端口
26a、26b:机械轴承 30:转子
30a:旋转叶片 30b:圆筒部
31:轴杆 35:转子盘
36:马达 36a:马达定子
36b:马达转子 37、38、39:磁轴承
40:螺栓 42:加热器
43:温度传感器 44:隔热用垫圈
45:隔片冷却管 45a:流入部
45b:排出部 46:基座冷却管
46a:流入部 46b:排出部
47、48:真空用密封件 49:螺栓
50:配管用接头 51:调温用控制器
52:三通阀 53:旁通配管
54:配管 55:冷却液供给用配管
56:冷却液返回用配管 230:贯通孔
231:隔片部 232:法兰部
234:槽 511:存储部
SP:螺纹槽泵部 TP:涡轮叶片部
G:方向 L1~L4:线
S110、S120、S130:步骤 (A):螺纹定子出口
(B):螺纹定子入口 (C):最下段的固定叶片22
(D):中间段的固定叶片22 (E):最上段的固定叶片22
具体实施方式
以下,参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。图1是对本发明的涡轮分子泵的实施方式进行说明的图,且是表示涡轮分子泵的泵单元1的概略构成的剖面图。涡轮分子泵包括图1所示的泵单元1、用于对泵单元1进行驱动控制的控制单元(control unit)(未图示)、以及后述的调温用控制器51(未图示,参照图4)。
另外,以下,以主动型磁轴承式涡轮分子泵为例进行说明,但本发明也可应用于如下涡轮分子泵中:采用利用永久磁铁的被动型磁轴承的涡轮分子泵、或使用机械轴承(mechanical bearing)的涡轮分子泵等。
在转子30中形成有多段旋转叶片30a、与设于比旋转叶片30a更靠排气下游侧的圆筒部30b。转子30紧固于作为旋转轴的轴杆(shaft)31。泵旋转体包括转子30与轴杆31。轴杆31由设于基座20的磁轴承37、磁轴承38、磁轴承39非接触地支撑。另外,轴方向的构成磁轴承39的电磁铁是以在轴方向上夹住设于轴杆31下端的转子盘(rotor disk)35的方式配置。
利用磁轴承37~磁轴承39而旋转自如地磁悬浮着的泵旋转体(转子30及轴杆31)由马达(motor)36高速旋转驱动。马达36使用例如3相无刷马达(brushless motor)。马达36的马达定子36a设于基座20,包括永久磁铁的马达转子36b设于轴杆31侧。当磁轴承不运转时,由紧急用的机械轴承26a、机械轴承26b支撑轴杆31。
在上下邻接的旋转叶片30a之间分别配置有固定叶片22。多段固定叶片22利用多个隔片23a及冷却隔片23b而定位在基座20上。多段固定叶片22的各个段被隔片23a夹持。冷却隔片23b配置在积层的多段隔片23a内的最下段的隔片23a与基座20之间。另外,配置有冷却隔片23b的部分的详细构成将在下文叙述。若利用螺栓(bolt)40将壳体(casing)21固定于基座20,则固定叶片22、隔片23a及冷却隔片23b的积层体被夹持在壳体21的上端卡止部21b与基座20之间。结果,多段固定叶片22在轴方向(图示的上下方向)上被定位。
图1所示的涡轮分子泵包括涡轮叶片部TP与螺纹槽泵部SP,该涡轮叶片部TP包括旋转叶片30a与固定叶片22,该螺纹槽泵部SP包括圆筒部30b与螺纹定子24。另外,此处是在螺纹定子24侧形成有螺纹槽,但也可在圆筒部30b侧形成螺纹槽。在基座20的排气口20a处设有排气端口(port)25,该排气端口25上连接有增压泵(back pump)。使转子30一面磁悬浮一面利用马达36进行高速旋转,借此,将吸气口21a侧的气体分子向排气端口25侧排出。
在基座20,设有用于控制螺纹定子24的温度的基座冷却管(pipe)46、加热器42及温度传感器(sensor)43。关于螺纹定子24的温度控制将在下文叙述。图1所示的例中,由带式加热器(band heater)构成的加热器42以卷绕的方式装设于基座20的侧面,也可为将护套式加热器(sheathheater)埋入基座20内的构成,又可将加热器设于螺纹定子24。设置温度传感器43是用于测量螺纹定子24的温度。图1所示的例中是将温度传感器43设于基座20而间接地求出螺纹定子温度,但也可通过将温度传感器43设于螺纹定子24而更准确地测量螺纹定子温度。温度传感器43使用例如热敏电阻器(thermistor)、热电偶(thermocouple)或铂温度传感器。
图2是图1的设有冷却隔片23b的部分的放大图。如上所述,多段固定叶片22与多个隔片23a交替地积层而成的积层体载置在冷却隔片23b上。冷却隔片23b包括法兰(flange)部232与隔片部231,该法兰部232设有隔片冷却管45,该隔片部231载置有最下段的隔片23a。
图3是从G方向观察图2的冷却隔片23b所得的俯视图。冷却隔片23b是与隔片23a相同的环状(ring)的构件。在法兰部232,形成有收容隔片冷却管45的圆形的槽234。在槽234的外周侧形成有多个贯通孔230,该贯通孔230供螺栓40(参照图1、图2)贯通。在隔片冷却管45与槽234的间隙内,填充有导热性润滑脂(grease)、导热性优良的树脂、焊料等。
隔片冷却管45被弯曲加工成大致圆形状,使隔片冷却管45的流入部45a及排出部45b向冷却隔片23b的侧方引出。在该流入部45a及排出部45b装设有配管用接头50。从流入部45a流入至隔片冷却管45内的冷却液(例如冷却水)沿隔片冷却管45呈圆形状流动,且从排出部45b排出。
返回图2,壳体21是以法兰21c与冷却隔片23b的法兰部232相向的方式装设,且利用螺栓40而固定于基座20。另外,在各螺栓40,分别设有作为隔热构件而发挥功能的隔热用垫圈44。隔热用垫圈44配置在基座20与冷却隔片23b之间,对基座20与冷却隔片23b进行隔热。作为隔热用垫圈44所使用的材料是使用导电率低于隔片23a或冷却隔片23b所使用的材料(例如铝)的材料。例如,就金属而言,理想的是不锈钢(stainless)等,就非金属而言,理想的是耐热温度为120℃以上的树脂(例如环氧树脂)。
在冷却隔片23b的法兰部232与基座20之间设有真空用密封件(seal)48,在法兰部232与法兰21c之间也设有真空用密封件47。基座20由加热器42而加热,且由流动有冷却液的基座冷却管46而冷却。螺纹定子24利用螺栓49而固定于基座20,且与基座20热接触。因此,螺纹定子24隔着基座20由基座冷却管46而冷却,且由加热器42而加热。温度传感器43配置在基座20的、固定有螺纹定子24的部分的附近。
冷却隔片23b是由在隔片冷却管45内流动的冷却液而冷却。因此,固定叶片22的热如虚线箭头所示按隔片23a、冷却隔片23b的顺序传递,且向隔片冷却管45内的冷却液散热。而且,详细情况将在下文叙述,但当将反应产物容易堆积的气体排出时,控制加热器42的加热及基座冷却管46的冷却,而使螺纹定子24的温度为反应产物不会堆积的温度以上。此处,作为反应产物不会堆积的温度是采用反应产物的升华温度以上的温度。
因此,在冷却隔片23b与基座20之间配置有隔热用垫圈44,以使热不会从高温状态的基座20流入至固定叶片22侧。而且,根据图2也可知,冷却隔片23b与法兰21c之间因隔着真空用密封件47而形成有间隙,因此,壳体21与冷却隔片23b之间的热移动得以减少。
图4是对调温系统与冷却隔片23b的关系进行说明的框图。调温系统包括基座冷却管46、加热器42、温度传感器43、调温用控制器51、三通阀52及旁通配管(bypass pipe)53。冷却隔片23b的隔片冷却管45利用配管54而串联连接于基座冷却管46。即,配管54将基座冷却管46的排出部46b与隔片冷却管45的流入部45a连接。
在冷却液供给用配管55设有三通阀52,该冷却液供给用配管55连接于基座冷却管46的流入部46a。三通阀52的其中一排出端口上连接有流入部46a,另一排出端口上连接有旁通配管53。旁通配管53的另一端连接于冷却液返回用配管56,该冷却液返回用配管56连接于隔片冷却管45的排出部45b。即,旁通配管53相对于串联连接的隔片冷却管45及基座冷却管46而并联连接。
通过切换三通阀52,而向串联连接的隔片冷却管45及基座冷却管46的路径、或旁通配管53中的任一者供给冷却液。三通阀52的切换是由调温用控制器51控制。调温用控制器51基于温度传感器43的检测温度与存储在存储部511中的设定温度,而控制三通阀52的切换及加热器42的接通断开(on off)。另外,图4所示的例中是独立于控制单元而另外设有调温用控制器51,但也可将调温用控制器51内置于控制单元。而且,也可在装设有涡轮分子泵的真空装置的控制部进行由调温用控制器51进行的控制。
(温度控制的详细说明)
接下来,对由调温用控制器51进行的温度控制(以下称为调温控制)进行说明。当在进行氯系或硫化氟系的反应产物容易堆积的制造过程的真空装置中使用涡轮分子泵时,为了防止反应产物堆积在泵内,而进行如以下所说明的调温控制。就氯系或硫化氟系的反应产物而言,真空度越低(即,压力越高)则升华温度越高、越容易堆积。
例如,在反应产物为氯化铝的情况下,氯化铝的蒸气压曲线为如图5所示的曲线L1。图5中,纵轴为升华温度(℃),横轴为压力(Pa)。在曲线L1的上侧,氯化铝为气体,而在曲线L1的下侧,氯化铝为固体。根据图5可知,压力越高则升华温度越高,所以,越位于泵的下游侧,反应产物越容易堆积,具体而言,反应产物容易堆积在螺纹槽泵部SP(圆筒部30b、螺纹定子24)。因此,在本实施方式中,进行调温控制而防止反应产物堆积。
图6是表示本实施方式中的调温控制的一例的流程图。在调温控制中,由调温用控制器51以规定时间的间隔重复执行图6所示的处理。步骤S110中,判定螺纹定子24的温度T是否大于规定管理温度Tth。规定管理温度Tth被设定为气体排出时的螺纹槽泵部SP的压力下的升华温度以上。例如,设定为规定管理温度Tth=升华温度。基于由温度传感器43测量出的温度,并考虑从螺纹定子24到温度传感器43的部分的热阻等而算出螺纹定子24的温度T。而且,也能以温度传感器43的温度测量值代用作螺纹定子24的温度T。
当步骤S110中判定为T>Tth时,螺纹定子24的温度成为能够防止反应产物堆积的温度。但是,与螺纹定子24相向的转子30(即,圆筒部30b)的温度因螺纹定子24及圆筒部30b之间的热移动而成为与螺纹定子24相同程度或稍高于螺纹定子24的温度。如后所述,转子温度须保持低于蠕变现象变得明显的温度,所以,螺纹定子24的温度不宜过高。因此,当步骤S110中判定为T>Tth时,进入到步骤S120使加热器42的通电停止,且切换三通阀52使冷却液流通到隔片冷却管45及基座冷却管46,以使螺纹定子24的温度不会过高。结果,螺纹定子24的温度开始降低。
另一方面,当步骤S110中判定为否(T≦Tth)时进入到步骤S130,开始加热器42的通电,且切换三通阀52使冷却液迂回至旁通配管53。借此,隔片冷却管45及基座冷却管46中冷却液的流通停止,且基座20及与基座20热接触的螺纹定子24被加热器42加热,从而螺纹定子24的温度上升。在调温控制中重复执行图6的处理,使螺纹定子24的温度T维持在规定管理温度Tth的附近(比图5的线(line)L1更上侧的温度),而防止反应产物的堆积。
另外,本实施方式中构成为设有冷却隔片23b,且将该冷却隔片23b的隔片冷却管45与基座冷却管46串联连接。设置冷却隔片23b是用于使固定叶片22冷却。涡轮分子泵中,因气体排出所产生的发热而使旋转叶片30a及固定叶片22的温度上升。不包括冷却隔片23b的现有涡轮分子泵中,旋转叶片30a的热是以旋转叶片30a→固定叶片22→隔片23a→基座20→基座冷却管46的路径向冷却液散热。另一方面,因为调温控制中的螺纹定子24或基座20的温度被维持在规定温度(所述的规定管理温度Tth的附近),所以螺纹定子24、固定叶片22的温度成为例如图7所示的温度。
图7表示螺纹定子24及固定叶片22的温度(线L2)与升华温度曲线L1。螺纹定子24、固定叶片22的压力为排出气体时的压力。压力按螺纹定子出口(A)、螺纹定子入口(B)、最下段的固定叶片22(C)、中间段的固定叶片22(D)、最上段的固定叶片22(E)的顺序变低。另一方面,螺纹定子24通过调温控制而维持在规定温度,但因气体排出的热而使螺纹定子出口(A)的温度稍高于螺纹定子入口(B)的温度。而且,距螺纹定子24越远则固定叶片22的温度越高,最上段的固定叶片22(E)超过100℃。此外,旋转叶片30a的温度与固定叶片22的温度为相同程度或高于固定叶片22的温度。
一般而言,转子30是由铝合金形成,而铝产生蠕变现象的温度低于其他金属。因此,在转子30高速旋转的涡轮分子泵中,须将转子温度抑制得比蠕变温度区域更低。因而,由涡轮分子泵能排出的气体流量受到转子温度的限制,在图7所示的温度状况下,无法进一步增加气体流量。
因此,本实施方式中构成为设有冷却隔片23b来进行固定叶片22的冷却。图8表示本实施方式中的螺纹定子24及固定叶片22的温度(线L3)与升华温度曲线L1。另外,为了进行比较,也图示出图7所示的线L2。在执行调温控制的情况下,螺纹定子24被维持在规定温度,因此,就本实施方式而言,螺纹定子24的温度也与图7所示的温度相同。然而,通过冷却隔片23b的冷却,最下段的固定叶片22(C)、中间段的固定叶片22(D)、最上段的固定叶片22(E)的温度如线L3所示低于以往的线L2。结果,转子30的相对于蠕变变形的温度容限变大,可实现气体流量的增加,从而可实现CVD制造过程等的高速化。
另外,在调温控制中,如图6所示,同步进行加热器42的接通断开及冷却液向隔片冷却管45、基座冷却管46的流通及停止,因此,加热器42接通时的温度分布与加热器42断开时的温度分布稍有不同。图8表示加热器接通、冷却液流通时的温度分布。
将冷却隔片23b的质量Ms与基座20的质量Mb进行比较而可知Mb>Ms,且它们的差非常大。因为隔片冷却管45与基座冷却管46串联连接,所以冷却液的流速相同,可视为从冷却隔片23b向冷却液的热传递系数与从基座20向冷却液的热传递系数大致相同。因为可视为隔片冷却管45、基座冷却管46的与冷却液的温度差大致相同,所以可认为从隔片冷却管45、基座冷却管46向冷却液移动的单位时间的热大致相同(其中,假设两者的长度大致相同)。
如上所述,Mb>Ms,因此,冷却液流通时的冷却隔片23b的温度降低速度快于基座20(即,螺纹定子24)的温度降低速度。即,在调温控制中,在隔片冷却管45及基座冷却管46中未流通冷却液的期间,就固定叶片22的温度而言,温度高于图8所示的线L3,但若切换三通阀52使冷却液的流通开始,则温度快速地接近于线L3。而且,若切换三通阀52使冷却液的流通停止,则固定叶片22的温度分布从线L3的位置向上方移动。即,在温度控制中,伴随通电及断电与冷却液流通及停止的控制,线L3稍微上下变化。
图9、图10是对本实施方式的变形例进行说明的图。图9是对调温系统与冷却隔片23b的关系进行说明的框图。图10表示变形例中的螺纹定子24及固定叶片22的温度(线L4)与升华温度曲线L1。另外,为了进行比较,也表示出线L2。以下,以与图4的构成不同的部分为中心进行说明。
图9所示的构成中,隔片冷却管45的流入部45a上连接有冷却液供给用配管55,该冷却液供给用配管55设有三通阀52。隔片冷却管45的排出部45b利用配管54而连接于基座冷却管46的流入部46a。基座冷却管46的排出部46b上连接有冷却液返回用配管56。即,变形例中,使冷却液按冷却隔片23b(隔片冷却管45)、基座冷却管46的顺序流通。
在图4所示的构成的情况下,经基座冷却管46加热的冷却液被供给至隔片冷却管45,而图9中是反向地流通,所以,供给至冷却隔片23b的冷却液的温度比图4的情况更低。因此,如图10的线L4所示,可使冷却隔片23b及固定叶片22的温度比图4、图8的情况更低。结果,转子30的相对于蠕变变形的温度容限进一步增大,从而可实现气体流量的进一步增加。
如上所述,通过调温控制中的冷却液流通及停止的控制,线L3(线L4也同样地)上下变化,且反言之,因具有停止期间,而可防止固定叶片22的温度过度降低。例如,当构成为独立于基座冷却管46的冷却液流通而将隔片冷却管45设为另一系统,使冷却液一直在隔片冷却管45中流通时,有最下段侧的固定叶片22(C)的温度比升华温度曲线L1更低的担忧。在这种情况下,会产生反应产物堆积在最下段的固定叶片22(C)或冷却隔片23b的问题,而本实施方式中可防止这种反应产物产生堆积。
另外,所述实施方式中,当在调温控制中使基座冷却管46及隔片冷却管45的冷却液流通停止时,利用三通阀52使冷却液迂回至旁通配管53,因此,能避免整个装置的冷却系统中的冷却液流通停止。一般而言,就包括利用冷却液的冷却系统的真空装置而言,构成为:当冷却液的流通停止时会产生警报(alarm)。然而,当使用本实施方式的涡轮分子泵时,在调温时不会产生警报。当然,也可代替三通阀而使用二通阀来进行冷却液的流通及停止。
如上所述,本实施方式中,涡轮分子泵包括:转子30,形成有多段旋转叶片30a与圆筒部30b;多段固定叶片22,相对于多段旋转叶片30a而交替地配置;多个隔片23a,通过积层而将多段固定叶片22定位;螺纹定子24,相对于圆筒部30b隔着间隙而配置;基座20,固定螺纹定子24;冷却隔片23b,以与积层的隔片23a的最下段隔片23a接触的方式配置在该最下段隔片23a与基座20之间,且形成有供冷却液流通的第一流路;加热器42,使螺纹定子24升温;温度传感器43,检测螺纹定子24的温度;以及基座冷却管46,是与作为第一流路的隔片冷却管45串联连接的第二流路,使基座20冷却;且所述涡轮分子泵包括作为温度控制部的调温用控制器51,该调温用控制器51控制冷却液向串联连接的隔片冷却管45及基座冷却管46的流通与加热器42的通电,而将螺纹定子24的温度维持在规定温度。
通过控制冷却液向串联连接的隔片冷却管45及基座冷却管46的流通与加热器42的通电,而将螺纹定子24的温度维持在规定温度,螺纹定子24会变得高于反应产物的升华温度,从而可防止反应产物的堆积。此外,通过设置用于使固定叶片22冷却的冷却隔片23b,而如图8的线L3所示,能将固定叶片22的温度保持为低于现有技术的温度,从而能实现气体流量的增大。进而,通过使隔片冷却管45的冷却液流通及停止,能防止固定叶片22被过度地冷却,从而能防止反应产物堆积在固定叶片22。
另外,冷却液的流通方向可按基座冷却管46→隔片冷却管45的顺序,也可按隔片冷却管45→基座冷却管46的顺序。当按隔片冷却管45→基座冷却管46流动时可将固定叶片22的温度维持为更低,从而能进一步增大气体流量。
以上,已对各种实施方式及变形例进行了说明,但本发明并不限定于这些内容。在本发明的技术性思想范围内可考虑到的其他实施方式也包含在本发明的范围内。
Claims (4)
1.一种涡轮分子泵,其特征在于包括:
转子,形成有多段旋转叶片与圆筒部;
多段固定叶片,相对于所述多段旋转叶片而交替地配置;
多个隔片,通过积层而将所述多段固定叶片定位;
定子,相对于所述圆筒部隔着间隙而配置;
基座,固定所述定子;
隔片冷却部,以与积层的所述隔片的最下段隔片接触的方式配置在所述最下段隔片与所述基座之间,且具有供冷却液流通的第一流路;
加热器,使所述定子升温;
温度传感器,检测所述定子的温度;
基座冷却部,形成有与所述第一流路串联连接的第二流路,使所述基座冷却;以及
温度控制部,控制所述冷却液向串联连接的所述第一流路及所述第二流路的流通与所述加热器的通电,而将所述定子的温度维持在规定温度。
2.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于,
所述第二流路的流出部连接于所述第一流路的流入部,以使所述冷却液按所述第二流路、所述第一流路的顺序流通。
3.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于,
所述第一流路的流出部连接于所述第二流路的流入部,以使所述冷却液按所述第一流路、所述第二流路的顺序流通。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的涡轮分子泵,其特征在于包括:
旁通配管,相对于串联连接的所述第一流路及所述第二流路而并联连接;以及
三通阀,选择性地切换为第一流通状态与第二流通状态,所述第一流通状态下所述冷却液流通到所述第一流路及所述第二流路,所述第二流通状态下所述冷却液流通到所述旁通配管;且
所述温度控制部控制所述加热器的通电及利用所述三通阀在所述第一流通状态与所述第二流通状态之间的切换,而将所述定子的温度维持在所述规定温度。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710068005.1A CN106968969B (zh) | 2014-02-05 | 2014-12-02 | 涡轮分子泵 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-020364 | 2014-02-05 | ||
JP2014020364A JP6375631B2 (ja) | 2014-02-05 | 2014-02-05 | ターボ分子ポンプ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710068005.1A Division CN106968969B (zh) | 2014-02-05 | 2014-12-02 | 涡轮分子泵 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104819158A true CN104819158A (zh) | 2015-08-05 |
CN104819158B CN104819158B (zh) | 2017-04-12 |
Family
ID=53729581
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410721317.4A Active CN104819158B (zh) | 2014-02-05 | 2014-12-02 | 涡轮分子泵 |
CN201710068005.1A Active CN106968969B (zh) | 2014-02-05 | 2014-12-02 | 涡轮分子泵 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710068005.1A Active CN106968969B (zh) | 2014-02-05 | 2014-12-02 | 涡轮分子泵 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9618012B2 (zh) |
JP (1) | JP6375631B2 (zh) |
CN (2) | CN104819158B (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111836968A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-10-27 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵 |
CN112153852A (zh) * | 2019-06-27 | 2020-12-29 | 广州汇弘科技有限公司 | 真空水冷散热系统及其散热方法 |
CN112867867A (zh) * | 2018-10-31 | 2021-05-28 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵、以及真空泵构成零件 |
CN113840985A (zh) * | 2019-05-31 | 2021-12-24 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵及连结型螺纹槽间隔件 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6069981B2 (ja) * | 2012-09-10 | 2017-02-01 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
JP6583122B2 (ja) * | 2016-04-22 | 2019-10-02 | 株式会社島津製作所 | 監視装置および真空ポンプ |
JP6916413B2 (ja) * | 2017-04-25 | 2021-08-11 | 株式会社島津製作所 | 電源一体型真空ポンプ |
JP6942610B2 (ja) * | 2017-07-14 | 2021-09-29 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、該真空ポンプに適用される温度調節用制御装置、検査用治具、及び温度調節機能部の診断方法 |
JP7147401B2 (ja) * | 2018-09-12 | 2022-10-05 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
JP7306845B2 (ja) * | 2019-03-26 | 2023-07-11 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、及び、真空ポンプ構成部品 |
JP7467882B2 (ja) * | 2019-10-28 | 2024-04-16 | 株式会社島津製作所 | 真空ポンプ |
JP7428101B2 (ja) * | 2020-08-14 | 2024-02-06 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
JP2022145225A (ja) * | 2021-03-19 | 2022-10-03 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、真空ポンプの制御装置及びリモート制御装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57212395A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Molecular pump |
JPH10205486A (ja) * | 1997-01-24 | 1998-08-04 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | 真空ポンプ |
JP2002180988A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-06-26 | Ebara Corp | 真空ポンプ |
JP2003148379A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ターボ分子ポンプ |
JP2003254284A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Boc Edwards Technologies Ltd | ポンプ装置 |
JP2005083271A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Boc Edwards Kk | 真空ポンプ |
JP3168845U (ja) * | 2011-04-19 | 2011-06-30 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
CN102472288A (zh) * | 2009-08-21 | 2012-05-23 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵 |
CN104350283A (zh) * | 2012-09-24 | 2015-02-11 | 株式会社岛津制作所 | 涡轮分子泵 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0325893U (zh) * | 1989-07-24 | 1991-03-18 | ||
JP3456558B2 (ja) * | 1995-07-24 | 2003-10-14 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
JPH11190294A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
JP2000220595A (ja) * | 1999-01-27 | 2000-08-08 | Seiko Seiki Co Ltd | 真空ポンプ装置 |
US6793466B2 (en) * | 2000-10-03 | 2004-09-21 | Ebara Corporation | Vacuum pump |
JP2003269367A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Boc Edwards Technologies Ltd | 真空ポンプ |
JP2003278692A (ja) | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Boc Edwards Technologies Ltd | 真空ポンプ |
JP4710377B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-06-29 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ装置 |
JP2006342688A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Ebara Corp | 真空排気システム |
JP5673497B2 (ja) * | 2011-11-08 | 2015-02-18 | 株式会社島津製作所 | 一体型ターボ分子ポンプ |
-
2014
- 2014-02-05 JP JP2014020364A patent/JP6375631B2/ja active Active
- 2014-12-02 CN CN201410721317.4A patent/CN104819158B/zh active Active
- 2014-12-02 CN CN201710068005.1A patent/CN106968969B/zh active Active
- 2014-12-31 US US14/587,359 patent/US9618012B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57212395A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Molecular pump |
JPH10205486A (ja) * | 1997-01-24 | 1998-08-04 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | 真空ポンプ |
JP2002180988A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-06-26 | Ebara Corp | 真空ポンプ |
JP2003148379A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ターボ分子ポンプ |
JP2003254284A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Boc Edwards Technologies Ltd | ポンプ装置 |
JP2005083271A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Boc Edwards Kk | 真空ポンプ |
CN102472288A (zh) * | 2009-08-21 | 2012-05-23 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵 |
JP3168845U (ja) * | 2011-04-19 | 2011-06-30 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
CN104350283A (zh) * | 2012-09-24 | 2015-02-11 | 株式会社岛津制作所 | 涡轮分子泵 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111836968A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-10-27 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵 |
CN111836968B (zh) * | 2018-03-30 | 2022-07-26 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵 |
CN112867867A (zh) * | 2018-10-31 | 2021-05-28 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵、以及真空泵构成零件 |
CN112867867B (zh) * | 2018-10-31 | 2023-10-31 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵、以及真空泵构成零件 |
CN113840985A (zh) * | 2019-05-31 | 2021-12-24 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵及连结型螺纹槽间隔件 |
CN112153852A (zh) * | 2019-06-27 | 2020-12-29 | 广州汇弘科技有限公司 | 真空水冷散热系统及其散热方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106968969B (zh) | 2019-04-26 |
US20150219116A1 (en) | 2015-08-06 |
JP2015148162A (ja) | 2015-08-20 |
US9618012B2 (en) | 2017-04-11 |
JP6375631B2 (ja) | 2018-08-22 |
CN106968969A (zh) | 2017-07-21 |
CN104819158B (zh) | 2017-04-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |