JP2002285992A - 真空ポンプ装置 - Google Patents
真空ポンプ装置Info
- Publication number
- JP2002285992A JP2002285992A JP2001090714A JP2001090714A JP2002285992A JP 2002285992 A JP2002285992 A JP 2002285992A JP 2001090714 A JP2001090714 A JP 2001090714A JP 2001090714 A JP2001090714 A JP 2001090714A JP 2002285992 A JP2002285992 A JP 2002285992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- cooling
- vacuum pump
- cooling water
- rotor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 96
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 76
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 48
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001648319 Toronia toru Species 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H tungsten hexafluoride Chemical compound F[W](F)(F)(F)(F)F NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/58—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer
- F04D29/582—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps
- F04D29/584—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps cooling or heating the machine
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
持するとともに、冷却水の使用量を低減し、かつ、冷却
不足予防のための冷却水、冷却部の冷し過ぎをしないで
済むようにする。 【解決手段】 真空ポンプPの冷却部25、26の温度
に応じて流量可変バルブ22の開度を制御して冷却水流
量を連続的に変化させ、真空ポンプの冷却部の温度をな
めらかに制御する。
Description
置、電子顕微鏡、表面分析装置、質量分析装置、粒子加
速器、核融合実験装置等に用いられる真空ポンプ装置に
関する。
やCDV等のプロセスがあり、これらのプロセスはプロ
セスチャンバと称する真空容器内で行なわれる。この場
合、プロセスの過程で生じたガス状の生成物(以下「生
成物ガス」ともいう)は、真空容器に取り付けられてい
る真空ポンプを通じて外部へ排気されるが、その排気ガ
スの種類によっては、真空ポンプ内の温度と圧力との関
係から、真空ポンプ内で固体化または液体化するものも
あり、このように固体化または液体化した生成物が真空
ポンプ内部に付着や堆積し、そのため真空ポンプの正常
運転が妨げられる場合もある。
成条件が非常に異なる。代表的な排気ガスについて図5
を参照して説明する。
素、6フッ化タングステン、4塩化ケイ素、塩化アルミ
ニウム)の蒸気圧曲線図であり、この蒸気圧曲線の右側
は気体の状態、左側は固体又は液体の状態である。図5
の蒸気圧曲線によると、4種の排気ガスは、いずれも圧
力が高くなると気体から固体又は液体に変わることが分
かる。
D等のプロセスで使用される真空ポンプの場合は、生成
物の付着と堆積を防止するために、真空ポンプの排気ガ
スの流路をヒータにより、排気ガスの種類に応じた温度
に加熱して、排気ガスの固体化または液体化を防ぐこと
が行なわれている。
の回転によりガスを排気する構造の真空ポンプの場合
は、ロータ、ロータ翼、軸受、電気モータ、ステータ翼
等の真空ポンプ機能部は、これらの材料特性等の故に、
機能維持のため、温度をあまり高くすることができな
い。
スの流路をヒータにより加熱する一方で、真空ポンプ機
能部を冷却水の通水により冷却するという、一見矛盾し
て、無駄な温度制御を強いられることになっている。
には、水道水を使用したり、チラーで冷却した水を循環
使用したりしている。そして、真空ポンプ機能部の温度
が許容値を超えそうな場合は冷却水の流路に設置された
ON/OFF型のバルブを開いて、真空ポンプ機能部付
近に配設した冷却部へ上記の冷却水を通水し、許容値を
超えそうもない場合はバルブを閉じて、通水を停止して
いた。水路構成としては、2方弁、2方弁とチェック
弁、3方弁等が用いられている。
わち、全開か全閉であって、冷やすか冷やさないかの2
段制御である。また、バルブの制御と真空ポンプ機能部
の温度の昇降とのタイムラグは避けることができないも
のである。
バルブ閉止中に真空ポンプ機能部の温度が許容値を超え
ることを懸念して、冷却水の温度を必要以上に低くし、
冷却水量を多くし、また、ほとんど常時流して、冷却部
を必要以上に低温に冷却するという安全策が取られてい
る。
に冷却すると、当然に冷却エネルギーを浪費するが、更
に、周辺の排気ガスの流路の熱を多く奪ってしまい、そ
の分、排気ガスの流路の加熱エネルギーも余分に必要に
なってしまう。
を解決するためになされたものであり、その目的とする
ところは、真空ポンプ機能部の温度を適性値に保つこと
ができ、冷却エネルギー、加熱エネルギーを節約できる
真空ポンプ装置を提供することにある。
に、この発明は、真空ポンプ内で排気ガスの固体化また
は液体化を防ぐために、排気ガスの流路を所定温度の設
定範囲にコントロールする加熱用のヒータと冷却用の水
冷管を有する真空ポンプ装置において、上記冷却水の流
路に設置され、冷却水流量を増減する流量可変バルブ
と、上記真空ポンプに設置され、真空ポンプの温度を検
知する温度センサと、上記温度センサの温度信号を受け
て、上記温度信号が設定範囲より高いときは上記流量可
変バルブの弁開度を大きくし、設定範囲より低いときは
弁開度を小さくする温度コントローラとを具備したこと
を特徴とする。
開度をきめ細かく制御しながら冷却水流量を増減してい
くから、冷却部の温度が徐々に上下し、急激に温度が下
がって低温になり過ぎたり、急激に温度が上がって真空
ポンプ機能部の機能を損なうことがない。
装置の実施形態について、図面を参照して説明する。
真空ポンプの一実施形態を示す縦断面図である。図1に
示した真空ポンプPは、円筒状のポンプケース1内にポ
ンプ機構部を有し、このポンプ機構部は回転可能に設置
された筒型のロータ2を備え、このロータ2はその上端
がポンプケース1上部のガス吸入口3側を向くように配
置されている。
2の上半分はターボ分子ポンプとして機能し、そのロー
タ2の下半分はネジ溝ポンプとして機能するように構成
されている。
するターボ分子ポンプ機構部A(ロータ2の上半分側)
の構成を説明する。ロータ2の上部側外周には、加工さ
れたブレード状のロータ翼4とステータ翼5が複数設け
られており、これらのロータ翼4とステータ翼5は、ロ
ータ2の回転中心軸線に沿って交互に配置されている。
このように、ロータ2の上部側外周は、上下段のロータ
翼4、4間にステータ翼5が配置される、または、上下
段のステータ翼5、5間にロータ翼4が配置される構造
となっている。
りこのロータ2の上部側外周面に一体に設けられ、ロー
タ2と一体的に回転することができるが、ステータ翼5
は、ポンプケース1の内面にスペーサ6を介して取り付
け固定されている。
ポンプ機構部B(ロータ2の下半分)の構成を説明す
る。ロータ2の下部側外周と対向する位置にはネジステ
ータ7が配置されており、このネジステータ7はロータ
2の下部側外周を囲む筒型の形状であって、ポンプケー
ス1内壁側に取り付け固定されている。
おり、このネジ溝8はネジステータ7のロータ対向面側
に設けられている。
ータ翼5と接触するように構成されており、またネジス
テータ7の下部側は、ポンプケース1下部のガス排気口
9と接触するように構成されている。
構造材の中で最も熱容量が大きい。このように熱容量の
大きいネジステータ7に、加熱手段のヒータとして周知
のシーズヒータ10が内蔵されている。このシーズヒー
タ10は、排気ガスが固体化、液体化しやすいネジ溝ポ
ンプの排気ガスの流路(ネジ溝8とロータ2の下部側外
周とのすきま)を加熱する手段として用いられている。
の配置密度は、ネジステータ7の上部から下部まで一律
に均一なものとしてもよいが、この実施形態では、ネジ
ステータ7の上下部側においてシーズヒータ10が密に
配置されるように構成している。このようにシーズヒー
タ10の配置密度に変化をつけたのは、ネジステータ7
全体が均一に加熱されるようにするためである。
ロータ2の内側にはその回転中心軸線上にロータシャフ
ト11が一体に取り付けられている。このロータシャフ
ト11の軸受手段については各種考えられるが、この実
施形態では、ボールベアリング12によりロータシャフ
ト11を軸受け支持する構成を採用している。
3により回転駆動される。この種の駆動モータ13の構
造については、ロータ2の内側に設置されているステー
タコラム14に、モータ固定子13aを取り付けるとと
もに、このモータ固定子13aと対向するロータシャフ
ト11外周面にモータ回転子13bを配設するものとし
ている。
ータ翼4、ステータ翼5の近くで、加熱源であるシーズ
ヒータ10側には上部温度センサ15が、また、ポンプ
ケース1の下部のベース1aの上部側には下部温度セン
サ16が設置され、これらの温度センサ15、16は、
真空ポンプ機能部(ロータ翼4、ステータ翼5あるいは
ボールベアリング12等)の温度をコントロールするた
めの温度を検出する手段として設けられている。
機能部は、通常、アルミ合金で作成されており、この材
料は、150℃を超えると強度が急激に低下する。ロー
タ2、ロータ翼4は、ロータ翼周速が400m/s程度
と高速回転するものであるから、これらの回転体の強度
が低下することは、真空ポンプの危険な破壊につながる
おそれがある。それ故、これらの部分はあまり高温にな
らないよう、必要に応じて冷却する必要がある。また、
チャンバー取付部に熱を伝えてはいけない場合も同様で
ある。
分子ポンプ機構部Aの外周に、水冷管をめぐらしてなる
上部冷却部25が、また、ネジ溝ポンプ機構Bの下部外
周に、水冷管をめぐらしてなる下部冷却部26がそれぞ
れ装着されており、これらの冷却部25、26内を流れ
る冷却水により真空ポンプ機能部が冷却される。なお、
この実施形態では、冷却部25、26は直列に接続され
ている。
は、回転するロータ翼4と固定のステータ翼5との相互
作用により排気の動作を行なうターボ分子ポンプ機構部
A側が、高真空となる側に位置し、かつ、ロータ2とネ
ジ溝8との相互作用により排気の動作を行なうネジ溝ポ
ンプ機構B側が、低真空圧となる側に位置するようにな
っている。なお、ターボ分子ポンプ機構部Aでは、回転
するロータ翼4と固定のステータ翼5との相互作用によ
りガスの分子を排気するが、このような排気の動作によ
り高真空(真空度:10-6Pa)を得ることができるも
のである。
体の一実施形態を示し、図1の真空ポンプPの真空ポン
プ機能部の付近の要所の温度を検出して、これらの検出
値から 排気ガスの流路を加熱して排気ガスの固体化ま
たは液体化を防ぎ、真空ポンプ機能部を冷却して、ポン
プ機能の劣化を防ぐように制御を行なう系を示してい
る。
び下部温度センサ16により行なう。加熱は、上記シー
ズヒータ10に通電して行ない、主にネジ溝ポンプ機構
Bを加熱する。冷却は、上記冷却部25、26に通水し
て行ない、真空ポンプ機能部であるロータ翼4、ステー
タ翼5の付近と、中心部分に、真空ポンプ機能部である
軸受12、駆動モータ13があるネジ溝ポンプ機構Bの
下部を冷却する。
冷却水管23が上部冷却部25に、復路冷却水管24が
下部冷却部26にそれぞれ接続され、これらの冷却水管
23、24の他端はチラー20に接続されている。そし
て、往路冷却水管23の中間には、流量可変バルブ2
2、冷却水流量センサ(フローメータ)19が設置され
ていて、チラー20で冷却された冷却水が、チラーに内
蔵された冷却水ポンプ21により往路冷却水管23に送
り出され、流量可変バルブ22と冷却水流量センサ19
を通過して真空ポンプPの上部冷却部25、下部冷却部
26に至ってその周囲を冷却し、復路冷却水管24から
チラー20に戻って、循環するようになっている。な
お、27は、冷却水ポンプ21と流量可変バルブ22と
の間の往路冷却水管23と、復路冷却水管24との間に
接続され、冷却水ポンプ21が送り出す過剰の冷却水流
をバイパスするための逆止弁である。
トローラ28には、真空ポンプPの上記上部温度センサ
15、下部温度センサ16、更に、往路冷却水管23に
設置された冷却水入口温度センサ18、復路冷却水管2
4に設置された冷却水出口温度センサ17で検知して得
られる温度信号が入力され、これらの温度信号から、温
度コントローラ28は、シーズヒータ10への供給電力
をコントロールし、併せて、流量可変バルブ22の開度
を加減して、冷却部25、26の冷却水量をコントロー
ルする。
の温度センサ15、16からの温度信号が設定範囲より
高いときは弁開度を大きくし、設定範囲より低いときは
弁開度を小さくするように制御する。設定範囲より充分
低くなって、設定温度を超える温度上昇がしばらくない
と予想される状態になれば、ポンプ21を停止したり、
チラー20の冷却運転を停止したりする。
知温度が通常より高い場合は、チラー20の異常か冷却
水ポンプ21の過熱が考えられるから、温度コントロー
ラ28は、その旨のアラームを発する。
常より高く、真空ポンプPの温度センサ15、16の検
知温度も設定値より高い場合は、冷却能力不足が考えら
れるから、温度コントローラ28は、流量可変バルブ2
2を全開させ、冷却水ポンプ21が出力可変のものであ
れば、ポンプ出力を上げさせ、あるいは、チラー20の
設定温度を下げたりする。それでも、異常な高温の継続
が検出されればアラームを出す。
プPの温度センサ15、16の検知温度が低いときは、
シーズヒータ10への供給電力を増やし、高いときは、
供給電力を減じるようにコントロールする。
おいて、真空ポンプPの動作は、図1を参照して説明す
ると、以下のようになる。なお、図1中の矢印は真空ポ
ンプP内での排気ガスの流れ方向を示している。
排気動作は、高速で回転している最上段のロータ翼4が
ガス吸気口3から入射したガス分子群に下向き方向の運
動量を付与し、この下向き方向の運動量を有するガス分
子がステータ翼5に案内され、次の下段のロータ翼4側
へ送り込まれるという動作であり、このような運動量の
付与を繰り返すことにより、ガス吸気口3からネジ溝8
側へガス分子が移行し排気されていく。
回転するロータ2とネジ溝8との相互作用により、遷移
流に圧縮されてガス排気口9側へ移送され、かつこのガ
ス排気口9から図示しない補助ポンプによりポンプ外部
へ排気される。
に排気されるガスの中には半導体製造プロセス等の過程
で生じたガス状の生成物も含まれており、その生成物ガ
スの種類によっては、真空ポンプP内の温度と圧力との
関係から、真空ポンプP内で固体化または液体化して真
空ポンプP内部に付着や堆積し得るが、このような生成
物の付着や堆積の生じるおそれがあるので、シーズヒー
タ10に電力を供給して発熱させ、排気ガスの流路、特
に、ネジステータ7、ガス排気口9付近を加熱して、排
気ガスの固体化または液体化を防ぐ。
真空ポンプ機能部に伝熱して真空ポンプ機能部が高温に
なると、その強度が低下したり、駆動モータや軸受の機
能が劣化したりするから、冷却部25、26で真空ポン
プ機能部を適度に冷却するわけである。
を示した図3を参照して、上記のように運転される真空
ポンプPの温度の制御を、冷却温度の制御を中心に説明
する。
ラ28内で、温度センサ15、16の目標温度T0とこ
の目標温度T0からの上下の許容値(オフセット温度)
ΔTを設定する。
サ15、16の検知温度の平均値(冷却部温度)T1を
得て、ステップ303で、冷却部温度T1と設定上限値
T0+ΔTとを比較する。
ES)であれば、ポンプ機能部の温度が上がり過ぎで、
ポンプ機能部機能劣化のおそれがあるから、ステップ3
04へ進み、冷却水ポンプ21が運転中か否かを調べ
る。そして、運転中(YES)であれば、ステップ30
5へ進んで、流量可変バルブ22の弁開度を所定量増し
て冷却部25、26の冷却力が増加するようにし、ステ
ップ302へ戻る。
ならば、冷却水ポンプ21の運転を開始して冷却部2
5、26に冷却水を送り、ステップ302へ戻る。
(NO)であれば、ステップ307へ進み、冷却部温度
T1と設定下限値T0−ΔTとを比較する。
T(YES)で、ポンプ機能部の冷やし過ぎであれば、
無駄な冷却状態であり、排気ガス流路の加熱を妨げるお
それもあるから、ステップ308へ進み、冷却水ポンプ
21が運転中か否かを調べる。そして、運転中(YE
S)であれば、ステップ309へ進んで、流量可変バル
ブ22の弁開度が最小であるか否かを調べ、最小になっ
ている(YES)ならば、ステップ310へ進んで、冷
却水ポンプ21の運転を停止して冷却を休止して、ステ
ップ302へ戻る。
弁開度が最小でない(NO)ならば、ステップ311へ
進んで、流量可変バルブ22の弁開度を所定量小さくし
て冷却部25、26の冷却力を弱め、ステップ302へ
戻る。
が運転中でない(NO)ならば、既に冷却を休止してい
るのであるから、そのままステップ302へ戻る。
(NO)ならば、冷却部25、26の温度は設定温度範
囲内であり、冷却制御状態を変更する必要がなく、その
ままステップ302へ戻る。
かりやすくするために簡単な制御を行なう場合を示した
もので、温度コントローラ28による実際の制御は、冷
却水出入り口の温度センサ17、18や冷却水フローメ
ータ19からの情報を加味して総合判断による制御を行
なったり、ヒータ10、チラー20の制御と連動させた
りしてより高度の制御を行なうことができる。また、真
空ポンプPの温度センサ、冷却部も数を増して個別に制
御することもできる。
26の冷却水量を適正に制御することにより、ロータ2
等の温度を適切に制御しつつ、ポンプ内部での生成物の
付着と堆積を効果的に防止でき、ロータ2やロータ翼4
等の熱疲労による破損や、生成物の付着や堆積によるポ
ンプ故障がなくなり、真空ポンプPの長寿命化を図れ
る。しかも、冷却のし過ぎも防止でき、冷却エネルギ
ー、加熱エネルギーの消費を抑制でき、エネルギー効率
のよい温度コントロールを達成できる。
分子ポンプ機構部Aからネジ溝ポンプ機構部Bへ下るの
に従い、次第に圧力が高まること等から、ネジステータ
7に隣接しているステータ翼5やロータ翼4、ネジステ
ータ7のネジ溝8やこれに対向するロータ2外周面、並
びにガス排気口9の付近では、排気ガスが固体の生成物
になり易いのであるが、このような温度コントロールに
より、生成物が付着や堆積しやすいネジステータ7やそ
の付近にあるステータ翼5やロータ翼4、およびガス排
気口9をシーズヒータ10で加熱して、ガス排気口9な
どへの生成物の付着や堆積を未然に防ぎながら、真空ポ
ンプ機能部の過度でかつ有害な温度上昇を、経済的に、
効率よく抑えることができる。
ポンプ内蔵型のシーズヒータ10に代えてポンプケース
外周に装着されるバンドヒータを用いてもよいし、他の
種類の適宜のヒータを用いることができる。
ては、ボールベアリング12の他、磁気軸受等の非接触
型軸受を適用することもできる。磁気浮上制御を行なう
磁気軸受を軸受(真空ポンプ機能部の一)として用いる
場合は、ロータシャフト11の下側に磁気軸受の位置セ
ンサ基板が組み付けられるが、この位置センサ基板は、
温度特性により高温域で所望の性能を発揮できなくなる
から、特に適正な冷却が重要となる。
他、水道水を用いて、使用後の水道水は他の用途に流用
することもできる。
施の形態を説明する。この実施の形態は、3台の真空ポ
ンプの冷却部の冷却水量を制御するもので、各真空ポン
プの冷却部251、252、253は、それぞれ真空ポ
ンプ機能部付近に配設されている。そして、これらの冷
却部251、252、253には、それぞれ往路冷却水
管231、232、233と復路冷却水管241、24
2、243が接続されている。上記冷却部251、25
2、253の付近には、真空ポンプ機能部の温度を検知
する温度センサ151、152、153がそれぞれ設置
されている。
233の中間には、流量可変バルブ221、222、2
23、冷却水流量センサ(フローメータ)191、19
2、193がそれぞれ設置されている。
2、242、233、243の他端は、全て冷却水本管
29に接続されていて、冷却水本管29の支管となって
いる。そして、この冷却水本管29の、各冷却部の往路
冷却水管231(232および233)と復路冷却水管
241(242および243)との接続点間には、逆止
弁271、272、273が設置され、冷却部251
(252および253)には過剰となる冷却水をバイパ
スするようになっている。
されている。そして、、チラー20で冷却された冷却水
が、冷却水ポンプ211により冷却水本管29に送り出
されて循環するようになっている。
同じく、冷却水出口温度センサおよび冷却水入口温度セ
ンサである。
7および18の検知する温度信号は、温度コントローラ
281に入力される。また、各フローメータ191、1
92、193の冷却水流量信号も温度コントローラ28
1に入力される。
御の動作を説明する。第1の真空ポンプの冷却部251
には、その流量可変バルブ221により適度に絞られた
冷却水が通水され、第1の真空ポンプの真空ポンプ機能
部が冷却される。その冷却温度は温度センサ151によ
り検知され、温度コントローラ281にその温度信号が
送られる。
度範囲を超えていて、冷却部251が冷却不足である
と、流量可変バルブ221の弁開度を所定量大きくし
て、冷却力を上げる。逆に、設定温度範囲を下回ってい
て、冷却部251が冷却過剰であると、流量可変バルブ
221の弁開度を所定量小さくして、冷却力を低下させ
る。
ば、第1の真空ポンプへの往復冷却水管231、241
内の冷却水流量が減少するが、冷却水ポンプ211によ
り送られる冷却水のうちの余剰分は、逆止弁271を通
過して、隣の第2の真空ポンプ側へ送られる。
も、上記のようにして冷却水量の制御が温度コントロー
ラ281により行なわれる。
空ポンプの冷却制御ができ、規模の大きい製造現場等に
適用すると経済効果が高いものである。
は、冷却水出入り口の温度センサ17、18や冷却水フ
ローメータ191、192、193からの情報を加味し
て総合判断による制御を行なったり、ヒータやチラー2
0の制御と連動させたりしてより高度の制御を行なうこ
とができる。
変バルブ221、222、223と逆止弁271、27
2、273に代えて、2方向に分岐させて総流量一定、
分岐路流量可変の流量可変バルブを使用してもよい。
として、1台の真空ポンプ中に設置した複数の冷却部に
対して、図4と同様の配管、配線を行なって、1台の真
空ポンプ中の複数か所の冷却部の冷却水流量をそれぞれ
独立に変えて、きめ細かく温度制御することができる。
を複数台まとめて、これらに冷却水管を接続して、1台
のチラーで冷却制御することもできる。
は、上述のように、真空ポンプ機能部の温度を温度セン
サにより検知して、検知した温度が設定範囲より高いと
きは冷却水流量を増減する流量可変バルブの弁開度を大
きくし、低いときは小さくするようにしたから、流量可
変バルブを弁全開から閉止まで連続的に変化することが
できて、真空ポンプ機能部の温度が適性値に維持され
る。
使用した場合の、バルブOFFの継続による冷却不足を
避けるための、(1)冷却水の冷し過ぎ、(2)冷し過
ぎた冷却水の冷却部へのほとんど常時の供給、の必要が
なく、冷却水を比較的高い温度で使用でき、また、冷却
部が適温に維持されている間は冷却水の供給を停止する
こともできて、冷却用エネルギーの節約になる。
され、周辺の排気ガス流路の熱を不必要に奪って、その
分余分に排気ガス流路を加熱するという、加熱エネルギ
ーの浪費もなくなる。
縦断面図。
示す説明図。
例を示すフローチャート。
を示す説明図。
ータ) 211 冷却水ポンプ 221、222、223 流量可変バルブ 231、232、233 往路冷却水管 241、242、243 復路冷却水管 251、252、253 冷却部 271、272、273 逆止弁 281 温度コントローラ
Claims (1)
- 【請求項1】 真空ポンプ内で排気ガスの固体化または
液体化を防ぐために、排気ガスの流路を所定温度の設定
範囲にコントロールする加熱用のヒータと冷却用の水冷
管を有する真空ポンプ装置において、 上記冷却水の流路に設置され、冷却水流量を増減する流
量可変バルブと、 上記真空ポンプに設置され、真空ポンプの温度を検知す
る温度センサと、 上記温度センサの温度信号を受けて、上記温度信号が設
定範囲より高いときは上記流量可変バルブの弁開度を大
きくし、設定範囲より低いときは弁開度を小さくする温
度コントローラとを具備したことを特徴とする真空ポン
プ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001090714A JP2002285992A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 真空ポンプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001090714A JP2002285992A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 真空ポンプ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002285992A true JP2002285992A (ja) | 2002-10-03 |
Family
ID=18945463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001090714A Pending JP2002285992A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 真空ポンプ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002285992A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006236095A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Yokogawa Electric Corp | 流量制御装置 |
JP2006274960A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ装置 |
WO2011021428A1 (ja) * | 2009-08-21 | 2011-02-24 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
KR101106685B1 (ko) | 2009-07-23 | 2012-01-18 | 한국표준과학연구원 | 진공 펌프, 그 동작 방법, 및 가스 이동 장치 |
JP2015031153A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
JP2019031969A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー | 真空ポンプの回転子を熱する方法 |
WO2021205200A1 (en) * | 2020-04-06 | 2021-10-14 | Edwards Korea Limited | Pumping system |
CN114109831A (zh) * | 2021-11-08 | 2022-03-01 | 陕西飞机工业有限责任公司 | 一种用于真空泵组的水循环控制装置 |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001090714A patent/JP2002285992A/ja active Pending
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006236095A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Yokogawa Electric Corp | 流量制御装置 |
JP2006274960A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ装置 |
JP4710377B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-06-29 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ装置 |
KR101106685B1 (ko) | 2009-07-23 | 2012-01-18 | 한국표준과학연구원 | 진공 펌프, 그 동작 방법, 및 가스 이동 장치 |
EP2469096A4 (en) * | 2009-08-21 | 2015-12-09 | Edwards Japan Ltd | VACUUM PUMP |
CN102472288A (zh) * | 2009-08-21 | 2012-05-23 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵 |
JP5782378B2 (ja) * | 2009-08-21 | 2015-09-24 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
WO2011021428A1 (ja) * | 2009-08-21 | 2011-02-24 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
US10001126B2 (en) | 2009-08-21 | 2018-06-19 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump |
JP2015031153A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
US20160160877A1 (en) * | 2013-07-31 | 2016-06-09 | Edwards Japan Limited | Vacuum Pump |
US10954962B2 (en) | 2013-07-31 | 2021-03-23 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump |
JP2019031969A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー | 真空ポンプの回転子を熱する方法 |
WO2021205200A1 (en) * | 2020-04-06 | 2021-10-14 | Edwards Korea Limited | Pumping system |
CN114109831A (zh) * | 2021-11-08 | 2022-03-01 | 陕西飞机工业有限责任公司 | 一种用于真空泵组的水循环控制装置 |
CN114109831B (zh) * | 2021-11-08 | 2023-05-23 | 陕西飞机工业有限责任公司 | 一种用于真空泵组的水循环控制装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6484919B2 (ja) | ターボ分子ポンプ | |
JP5924414B2 (ja) | ターボ分子ポンプ | |
US6599108B2 (en) | Vacuum pump | |
CN104819158B (zh) | 涡轮分子泵 | |
JPH10266991A (ja) | ターボ分子ポンプ | |
US11018360B2 (en) | Fuel cell system | |
US20220220976A1 (en) | Cooling system for centrifugal compressor and refrigeration system including same | |
US20170097005A1 (en) | Centrifugal compressor with surge control | |
JP2006342688A (ja) | 真空排気システム | |
JP2002285992A (ja) | 真空ポンプ装置 | |
JP2011002154A (ja) | 冷却水温度制御装置 | |
KR20220059471A (ko) | 진공 펌프, 및, 진공 펌프 시스템 | |
JP2003343211A (ja) | 復水器システム | |
EP1552153A1 (en) | Screw pump | |
US9121416B2 (en) | Variable speed air blowing system | |
WO2022186076A1 (ja) | 真空ポンプ、及び、真空排気装置 | |
JP2611039B2 (ja) | 磁気軸受タ−ボ分子ポンプ | |
JPH10238462A (ja) | 真空排気装置及びそのメンテナンス方法 | |
JP5144774B2 (ja) | 真空排気システム | |
WO2023106154A1 (ja) | 真空ポンプおよび良熱伝導性部品 | |
JP2006009587A (ja) | 温度調整可能な真空ポンプ | |
JP2009138884A (ja) | 冷却器用送風装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040108 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040301 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080130 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20080912 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100827 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110105 |