JP2003254284A - ポンプ装置 - Google Patents

ポンプ装置

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JP2003254284A
JP2003254284A JP2002058421A JP2002058421A JP2003254284A JP 2003254284 A JP2003254284 A JP 2003254284A JP 2002058421 A JP2002058421 A JP 2002058421A JP 2002058421 A JP2002058421 A JP 2002058421A JP 2003254284 A JP2003254284 A JP 2003254284A
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Japan
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pump
rotor
process gas
turbo molecular
thread groove
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JP2002058421A
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Tsuyoshi Kabasawa
剛志 樺澤
Satoshi Okudera
智 奥寺
Toru Miwata
透 三輪田
Manabu Nonaka
学 野中
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Edwards Japan Ltd
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BOC Edwards Technologies Ltd
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Publication date
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/042Turbomolecular vacuum pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/046Combinations of two or more different types of pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2260/00Function
    • F05D2260/60Fluid transfer
    • F05D2260/607Preventing clogging or obstruction of flow paths by dirt, dust, or foreign particles

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポンプを加熱せずに、プロセスガスの析出物
の生成を抑制すること。 【解決手段】 ターボ分子ポンプの管路の内部に、板状
部品を取り付け、これを周囲の管路より低温に保つこと
により、反応性生物を堆積させる。即ち、ターボ分子ポ
ンプ内のプロセスガスの流路に冷却トラップを設ける。
例えば、吸気口側配設されたターボ分子ポンプ部と、排
気口側配設されたねじ溝ポンプ部の間に冷却トラップを
設けた場合、プロセスガスの析出物が冷却トラップに堆
積されるため、ねじ溝ポンプ部でのプロセスガスの析出
を抑制することができる。一般に、プロセスガスは圧力
が高くなるほど高温で析出する傾向がある。そのため、
ポンプ内部にトラップを設けることにより、圧縮された
プロセスガスに冷却トラップを作用させることができ、
冷却トラップにプロセスガスを効率よく析出させること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はポンプ装置に関し、
例えば、半導体の製造に用いるターボ分子ポンプに関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造は、チャンバの中で基盤に
プロセスガスを作用させながら行われる。このチャンバ
の排気には、排気能力や真空度などの要求からターボ分
子ポンプが広く使用されている。ターボ分子ポンプは、
チャンバ内のプロセスガスなどを排気するほか、チャン
バ内を所定の圧力に保つために使用されている。
【0003】半導体の製造に用いられるプロセスガスに
は各種のものがあるが、温度や圧力などの条件により、
管路部分に凝固し堆積する場合がある。そのため、ある
程度の時間ターボ分子ポンプを運転すると、管路部分に
堆積物が生じ、管路が詰まって性能が低下したり、ロー
タと堆積物が接触してポンプの運転に悪影響を与える場
合がある。
【0004】そのため、管路でプロセスガスが凝固する
のを防ぐために、ポンプの周囲にヒータを設置し、管路
を高温に保温することが広く行われている。ヒータを用
いてポンプの温度を所定の値にコントロールすることに
より、ポンプ内でプロセスガスが凝固するのを低減する
ことができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ヒータでポ
ンプを加熱すると、ポンプの内部温度が上昇するため、
ロータ部(ロータ軸とロータ翼などから成る回転体部
分)が過熱しやすくなる。すると、ロータ翼などの強度
が低下するため、ロータ部の回転速度を抑える必要がで
てくる。そのため、ポンプで排気可能なガス流量が低下
するという問題があった。また、特開平9−31768
8号公報のポンプ装置のように、生成物対策として、ポ
ンプの排気要素の上流側に冷却トラップを設けたものも
ある。しかし、この方法では、生成物の析出に伴なうパ
ーティクルの発生が問題となる。即ち、トラップ部に析
出した細かい粉末が巻き上げられ、チャンバ内に侵入す
る可能性がある。
【0006】そこで、本発明の目的は、ポンプを加熱せ
ずに、プロセスガスの析出物の生成を抑制することので
きるポンプ装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、請求項1に記載の発明では、一端の側に
吸気口が形成され、他端の側に排気口が形成されたケー
シングと、前記ケーシング内で回転自在に配設されたロ
ータ軸と、前記ロータ軸を軸支する軸受と、前記ロータ
軸を回転するモータと、前記ロータ軸に配設されるロー
タと、前記ロータと所定の間隙を隔てて、前記ケーシン
グの内周面に配設されたステータと、前記ロータと前記
ステータとの間隙に設けられ、軸方向に複数形成された
気体移送手段と、前記複数の気体移送手段の少なくとも
1つの間に形成された低温部と、を具備したことを特徴
とするポンプ装置を提供する。また、請求項2に記載の
発明では、前記複数形成された気体移送手段が、ロータ
側に形成されたロータ翼と、ステータ側に形成されたス
テータ翼から構成されたターボ分子ポンプ部と、ロータ
側かステータ側の少なくとも一方にらせん状のねじ溝が
形成されたねじ溝ポンプ部と、から構成されていること
を特徴とする請求項1に記載のポンプ装置を提供する。
請求項3に記載の発明では、前記低温部が、前記ターボ
分子ポンプ部と前記ねじ溝ポンプ部の間に形成されたこ
とを特徴とする請求項2に記載のポンプ装置を提供す
る。請求項4に記載の発明では、前記低温部が、前記ね
じ溝ポンプ部に形成されていることを特徴とする請求項
2、又は請求項3に記載のポンプ装置を提供する。請求
項5に記載の発明では、前記低温部が、気体移送手段に
取り付け可能な円環状のフランジ部と、前記フランジ部
の内周から、前記気体移送手段にて移送される排気ガス
の移送路に張り出したトラップ部と、前記フランジ部と
前記トラップ部のうち少なくとも一方に形成された、冷
却部と、を具備したことを特徴とする請求項1から請求
項4までのうちの何れか1の請求項に記載のポンプ装置
を提供する。請求項6に記載の発明では、前記排気口に
おける排気気体の温度と圧力をそれぞれT0、P0、圧
力P0での排気ガスの昇華温度と排気口温度T0との差
をδTとし、圧力Pにおける前記排出気体の蒸気圧曲線
を表す関数をf(P)、前記低温部での前記排出ガスの
圧力をPtとした場合に、前記低温部の温度が[f(P
t)−δT]以下であることを特徴とする請求項1から
請求項5までのうちの何れか1の請求項に記載のポンプ
装置を提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、図1から図4を参照して詳細に説明する。 (1)実施形態の概要 ターボ分子ポンプの管路の内部に、板状部品を取り付
け、これを周囲の管路より低温に保つことにより、反応
性生物を堆積させる。即ち、ターボ分子ポンプ内のプロ
セスガスの流路に低温部として冷却トラップを設ける。
例えば、吸気口側をロータ翼とステータ翼から成るター
ボ分子ポンプ部によって構成され、排気口側をねじ溝か
ら成るねじ溝ポンプ部によって構成されたターボ分子ポ
ンプの場合、冷却トラップを、例えばターボ分子ポンプ
部とねじ溝ポンプ部の間に設ける。
【0009】プロセスガスの蒸気圧曲線から、一般にガ
スの圧力が高くなるほどプロセスガスが高温で固体凝固
する。ターボ分子ポンプ部とねじ溝ポンプ部の間にトラ
ップを設けると、この部位でのプロセスガスの圧力は、
ターボ分子ポンプ部によって高くなっているので、例え
ば、水冷によって冷却トラップを冷却することにより、
プロセスガスを凝固させることができ、フロンガスや液
体窒素などの特別な冷媒ガスを用いた大掛かりな冷却シ
ステムを必要としない。
【0010】このように、ポンプ内に冷却トラップを設
けることにより、ポンプの内部を高温に保持する必要が
なくなるため、ポンプの放熱を促進することができる。
その結果、ロータ部の回転速度を大きくし、排気可能な
ガス流量を増加することができる。また、トラップが排
気流路の途中に設けられているため、吸気口側にトラッ
プを付ける場合と比較し、パーティクルの逆流を防止す
る効果が高い。
【0011】(2)実施形態の詳細 図1は、本実施の形態のターボ分子ポンプ1をチャンバ
60に設置したところを示した図である。チャンバ60
は、機密性を備えた容器であって、内部でドライエッチ
ングや積層など、半導体製造のための各種作業を行える
ようになっている。図示しないが、チャンバ60には半
導体の製造に使用するプロセスガスの放出口が設けられ
ており、この放出口から放出されるプロセスガスによ
り、チャンバ60内を所定の雰囲気にすることができ
る。
【0012】ターボ分子ポンプ1は、コンダクタンスバ
ルブ55を介して、チャンバ60の下端面に吊り下げら
れた状態で設置されている。コンダクタンスバルブ55
は、例えば、バタフライ弁によって構成された弁体を備
えたバルブである。バタフライ弁とは、円筒形の弁箱の
中に流路内径と等しい径をもつ円板状の弁体56を入
れ,それを直径軸のまわりに回転して開閉を行うもので
ある。コンダクタンスバルブ55の外部から弁体56を
回転させて流路の断面積を調節することができる。ま
た、図1ではコンダクタンスバルブ55の内部に配置さ
れた弁体56を点線で図示している。
【0013】コンダクタンスバルブ55は、コンダクタ
ンス(ガスの流れ易さ)を調節するバルブであり、ター
ボ分子ポンプ1が排気ガスを吸引する程度を調節するた
めに設置されている。このようにして、ターボ分子ポン
プ1が真空装置から排気ガスを吸引する程度を調整する
コンダクタンスバルブ55を開閉することによりチャン
バ内の圧力を調節することができる。
【0014】ターボ分子ポンプ1は、磁気軸受部にて軸
支されたロータ部を高速回転することにより、チャンバ
60内のガスを補助ポンプ側へ排気するためのポンプで
ある。磁気軸受部は、ロータ軸の周囲、及び底部に設置
した複数の電磁石(以下軸受電磁石と記す)の吸引力に
より、ロータ軸を磁気浮上させて所定の位置に保持する
ための装置である。また、ターボ分子ポンプ1は、吸気
口から排気口に至る管路の途中に、プロセスガスを凝固
するための冷却トラップが設けられている。
【0015】制御装置51は、磁気軸受部やロータ軸に
設けられたモータ部を制御するための装置である。磁気
軸受部に関しては、ロータ軸の変位をセンサによって検
出し、ロータ軸が所定の位置に保持されるように軸受電
磁石に供給する電流を制御する。モータ部に関しては、
ロータ軸の回転数をセンサによって検出し、モータ部を
構成するステータコイル(以下単にステータコイルと記
す)に供給する電流を調節する。
【0016】送水装置52は、ターボ分子ポンプ1に設
けられた冷却トラップに冷却水を供給する装置である。
送水装置52によって供給される冷却水によって、冷却
トラップが冷却され、プロセスガスの反応生成物が冷却
トラップに析出する。なお、本実施の形態では、送水装
置52によって、冷却水を供給することとしたが、本実
施の形態の冷却トラップでは、水道水程度の水温でもプ
ロセスガスを析出させることができるので、単に一般の
水道から水道水を供給し、冷却トラップから排出される
水は下水溝に排出するように構成することもできる。
【0017】図2は、本実施の形態のターボ分子ポンプ
1の軸線方向の断面を示した図である。本実施の形態で
は、分子ポンプの一例として吸気口6側にターボ分子ポ
ンプ部が形成され、排気口19側にねじ溝式ポンプ部が
形成されたターボ分子ポンプを用いることとする。
【0018】ターボ分子ポンプ1の外装体を形成するケ
ーシング16は、円筒状の形状をしており、その中心に
ロータ軸11が設置されている。ケーシング16は、後
に述べるスペーサ5と共にターボ分子ポンプ1の外装体
を形成している。スペーサ5の底部を成す基底部の中央
には略円筒形状をしたステータコラム46が吸気口6の
側に形成されている。ステータコラム46の内周面に
は、ロータ軸11を支持するための磁気軸受部8、12
とロータ軸11を回転するためのモータ部10が収納さ
れている。
【0019】磁気軸受8、12は、それぞれロータ軸1
1の軸線方向の上部と下部に設けられている。また、ロ
ータ軸11の底部には、磁気軸受部20が設けられてい
る。ロータ軸11は、磁気軸受部8、12によってラジ
アル方向(ロータ軸11の径方向)に非接触で支持さ
れ、磁気軸受部20によってスラスト方向(ロータ軸1
1の軸方向)に非接触で支持されている。これらの磁気
軸受部は、いわゆる5軸制御型の磁気軸受を構成してお
り、ロータ軸11は軸線周りに回転するようになってい
る。
【0020】磁気軸受部8では、例えば4つの軸受電磁
石がロータ軸11の周囲に90°ごとに対向するように
配置されている。ロータ軸11上の磁気軸受部8を構成
する部位には電磁石ターゲット48が形成されている。
電磁石ターゲット48は、表面に絶縁皮膜を形成したケ
イ素鋼などの鋼板が多数積層された積層鋼板によって形
成されている。これは、磁気軸受部8で生じる磁場によ
り、ロータ軸11上で渦電流が発生するのを抑制するた
めに設置されたものである。
【0021】ロータ軸11で渦電流が生じると、ロータ
軸11が発熱すると共に渦電流損が発生し、効率が低下
することとなるが、電磁石ターゲット48を積層鋼板で
構成することによりこれを防ぐことができる。磁気軸受
部8では、電磁石の磁力により電磁石ターゲット48が
吸引され、ロータ軸11は、ラジアル方向に磁気浮上す
る。
【0022】磁気軸受部8の近傍には、ラジアルセンサ
9が形成されている。ラジアルセンサ9は、例えば、ロ
ータの周囲に配設されたコイルと、ロータ軸11上に形
成されたラジアルセンサターゲット47とから構成され
ている。コイルは制御装置51(図1)の発信回路の一
部をなしており、コイルとラジアルセンサターゲット4
7との距離により信号の振幅が変化するため、これによ
ってロータ軸11の変位を検知する。
【0023】ラジアルセンサターゲット47は、電磁石
ターゲット48と同様に積層鋼板によって形成されてい
る。ラジアルセンサ9の信号に基づいて制御装置51
は、磁気軸受部8で発生させる磁力をフィードバック制
御する。なお、ロータ軸11の変位を検出するセンサと
して、他に静電容量式のものや光学式のものなどがあ
る。磁気軸受部12とラジアルセンサ13の構成と作用
はそれぞれ磁気軸受部8とラジアルセンサ9と同様であ
るので説明を省略する。
【0024】ロータ軸11の下端に設けられた磁気軸受
部20は、円板状の金属ディスク26、軸受電磁石1
4、15、スラストセンサ17によって構成されてい
る。金属ディスク26は、鉄などの高透磁率材で構成さ
れており、その中心においてロータ軸11に垂直に固定
されている。金属ディスク26の上には軸受電磁石14
が設置され、下には軸受電磁石15が設置されている。
軸受電磁石14は、磁力により金属ディスク26を上方
に吸引し、軸受電磁石15は、金属ディスク26を下方
に吸引する。
【0025】スラストセンサ17は、ラジアルセンサ
9、13と同様に、例えばコイルにより構成されてお
り、ロータ軸11のスラスト方向の変位を検出してこれ
を制御装置51に送信する。制御装置51は、ラジアル
センサ13から受信した信号によりロータ軸11のスラ
スト方向の変位を検出することができるようになってい
る。
【0026】ロータ軸11がスラスト方向のどちらかに
移動して所定の位置から変位すると、制御装置51はこ
の変位を修正するように軸受電磁石14、15の励磁電
流を調節し、ロータ軸11を所定の位置に戻すように動
作する。制御装置51は、このフィードバック制御によ
りロータ軸11をスラスト方向の所定の位置に磁気浮上
させてこれを保持することができる。以上に説明したよ
うに、ロータ軸11は、磁気軸受部8、12によりラジ
アル方向に保持され、磁気軸受部20によりスラスト方
向に保持されるため、軸線周りの回転の自由度を有する
ように軸支される。
【0027】ロータ軸11の、磁気軸受部8、12の中
程にはモータ部10が設けてある。本実施の形態では、
一例としてモータ部10はDCブラシレスモータによっ
て構成されているものとする。ロータ軸11のモータ部
10を構成する部位の周囲には、永久磁石が固着されて
いる。この永久磁石は、例えば、ロータ軸11の周りに
N極とS極が180°ごとに配置されるように固定され
ている。この永久磁石の周囲には、ロータ軸11から所
定のクリアランスを経て、例えば6個の電磁石が60°
ごとにロータ軸11の軸線に対して対照的にかつ対向す
るように配置されている。
【0028】一方、ターボ分子ポンプ1は、ロータ軸1
1の回転数と回転角度(位相)を検出する図示しないセ
ンサを備えており、これによって制御装置51は、ロー
タ軸11に固着された永久磁石の磁極の位置を検出する
ことができるようになっている。制御装置51は、検出
した磁極の位置に従って、モータ部10の電磁石の電流
を次々に切り替えて、ロータ軸11の永久磁石の周囲に
回転磁界を生成する。ロータ軸11に固着した永久磁石
はこの回転磁界に追従し、これによってロータ軸11は
回転する。モータ部10の外周面には、モータ部10を
保護するためのステンレス製の円筒部材であるカラー4
9が設けられている。
【0029】ロータ軸11の上端にはロータ24が複数
のボルト25により取り付けられている。本実施の形態
では、一例として、ロータ24の略中ほどから吸気口6
側、即ち、図中略上半分の部分は気体移送手段がロータ
翼21やステータ翼22などで構成されたターボ分子ポ
ンプ部となっており、図中略下半分の部分は気体移送手
段がねじ付スペーサであるスペーサ5などで構成された
ねじ溝式ポンプ部となっているものとする。なお、ター
ボ分子ポンプの構造はこれに限定するものではなく、例
えば、吸気口6側から排気口19側までねじ溝式ポンプ
で構成されたものでも良い。
【0030】ターボ分子ポンプ部においては、ロータ2
4は、アルミ合金などで構成されたロータ翼21がロー
タ軸11の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜し
て、ロータ24から放射状に複数段取り付けてられてい
る。ロータ翼21は、ロータ24に固着されており、ロ
ータ軸11と共に高速回転するようになっている。ケー
シング16の吸気口側には、アルミ合金などで構成され
たステータ翼22が、ロータ軸11の軸線に垂直な平面
から所定の角度だけ傾斜して、ケーシング16の内側方
向にロータ翼21の段と互い違いに配設されている。
【0031】スペーサ23はリング状の部材であり、例
えばアルミニウム、鉄又はステンレスなどの金属によっ
て構成されている。スペーサ23は、ステータ翼22で
形成された各段の間に配設され、ステータ翼22を所定
の位置に保持している。
【0032】ロータ24がモータ部10により駆動され
てロータ軸11と共に回転すると、ロータ翼21とステ
ータ翼22の作用により、吸気口6から排気ガスが吸気
される。吸気口6から吸気された排気ガスは、ロータ翼
21とステータ翼22の間を通り、冷却トラップ30を
通過して、ねじ溝式ポンプ部へ送られる。
【0033】冷却トラップ30は、例えば、アルミニウ
ムやステンレスなどで形成された円環状の低温部であ
り、ターボ分子ポンプ部とねじ溝ポンプ部の間に挿入さ
れている。冷却トラップ30は、内周側に張り出したト
ラップ部33と、外周側に形成されたフランジ部31、
及びフランジ部31の内部に、全周に渡って形成された
水冷管部32などから構成されている。水冷管部32
は、送水装置52から冷却水が供給され、冷媒を導通さ
せる導通路を形成している。フランジ部31の上端面は
ケーシング16の下端部に、下端面はスペーサ5の上端
部に、それぞれ同心に固定させれている。
【0034】ねじ溝式ポンプ部は、ロータ下部29、ス
ペーサ5などから構成されている。本実施の形態では、
ねじ溝はスペーサ5に形成されている。ロータ下部29
は、ロータ24の略下半部に形成された円筒状の外周面
を有する部分から構成されており、外周面がスペーサ5
の内周面に近接した領域まで張り出している。ねじ溝式
ポンプ部のステータはスペーサ5によって構成されてい
る。スペーサ5は、例えば、アルミニウム、ステンレ
ス、鉄などの金属によって構成された円筒状の部材であ
り、その内周面にらせん状の複数のねじ溝7が複数条形
成されている。
【0035】ねじ溝7のらせんの方向は、ロータ24の
回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、該分子が
排気口19へ移送される方向である。ロータ24がモー
タ部10により駆動されて回転すると、ターボ分子ポン
プ部から送られてきた排気ガスは、ねじ溝7にガイドさ
れながら、排気口19の方へ移送される。ターボ分子ポ
ンプ1の内部のガスの圧力は、吸気口6から排気口19
にかけて増大するが、このように、ターボ分子ポンプ1
の吸気口6側をターボ分子ポンプ部で構成し、排気口1
9をねじ溝ポンプ部で構成することにより、高い圧縮比
を実現することができる。
【0036】なお、本実施の形態では、ステータ側にね
じ溝7が形成されたねじ付スペーサが配置され、ロータ
下部29の外周面は円筒状としたが、逆に、ロータの外
周面にねじ溝が形成してあるターボ分子ポンプとするこ
ともできる。
【0037】スペーサ5の基底部の中央には、ステータ
コラム46が、ねじ溝スペーサの内周面と同心に配設さ
せれている。このようにして、スペーサ5の基底部は、
ステータコラム46を介してロータ部を支持する。
【0038】スペーサ5の基底部には冷却水を循環させ
る水冷管18が取り付けてあり、水冷管18とスペーサ
5の基底部との間は熱交換が効率的に行われるようにな
っている。水冷管18には、送水装置52から冷却水が
供給される。スペーサ5の基底部に伝達してきた熱は、
水冷管18内を循環する冷却水によりターボ分子ポンプ
1の外部へ効率よく放出することができるので、ターボ
分子ポンプ1が加熱して許容温度以上になるのを防ぐこ
とができる。
【0039】図3は、冷却トラップ30の構造の1例を
示した図である。冷却トラップ30は、円環状の部材で
あり、トラップ部33、フランジ部31、及び水冷管部
32などから構成されている。トラップ部33は、フラ
ンジ部31から内周方向に全周に渡って張り出してお
り、プロセスガスの流れる方向(軸線方向)に扇型の断
面を有する複数の貫通孔40が形成されている。なお、
図では、貫通孔40の空洞になっている部分は斜線にて
示してある。
【0040】扇型の断面を有する貫通孔40は、同心状
に、かつ径方向に他段に形成されている。即ち、径方向
に配設された板材と円周方向に配設された板材が格子状
に組み合わされた形状をしている。そのため、プロセス
ガスに接する部分の表面積が大きくなり、より多くの析
出物を析出させることができる。析出物は、貫通孔40
の内周面及びトラップ部33の上下端面に堆積する。
【0041】フランジ部31の上端面は、内周側に全周
に渡って凸部41が形成してある。凸部41の外径は、
ケーシング16の内径にあわせて設定されており、ケー
シング16の下端が凸部41に勘合するようになってい
る。凸部41とケーシング16の内周が勘合することに
より、両者の位置決めが同心になされる。凸部41をケ
ーシング16に勘合させる場合は、フランジ部31とケ
ーシング16の間に、図示しないOリングやガスケット
などのシール部材を介在させ、真空シールする。
【0042】フランジ部31の下端面には、全周に渡っ
て段部42が形成されている。一方、スペーサ5の上端
面には、段部42の内周面と勘合する凸部45(図1)
が形成されている。段部42の内周と凸部45の外周が
勘合することにより、両者の位置決めが同心になされ
る。段部42をスペーサ5の凸部45に勘合させる場合
は、フランジ部31とケーシング16の間に、図示しな
いOリングやガスケットなどのシール部材を介在させ、
真空シールする。
【0043】水冷管部32は、冷却水を水冷とラップ3
0に循環させるための水路であって、フランジ部31の
上端面と下端面の中ほどに、フランジ部31の全周に渡
って形成されている。貫通孔40の外周を構成する部分
の熱が熱伝導により冷却水に伝達され、トラップ部33
が冷却される。本実施の形態では、冷却水の水温は、室
温における水温とするが、プロセスガスの種類により、
更に低い温度が必要な場合は、水冷装置を設けて水温を
調節したり、あるいはフロンガスや液体窒素などの冷媒
を供給するようにしてもよい。
【0044】図4は、あるプロセスガスの蒸気圧曲線の
1例をグラフとして示した図である。ただし、横軸は蒸
気圧を、縦軸は温度を表している。蒸気圧曲線61は、
ターボ分子ポンプ1で排出するあるプロセスガスの蒸気
圧T=f(P)を表している。ここでTは温度を、Pは
圧力をそれぞれ表している。蒸気圧曲線61を境に図中
右側は固相、左側は気相となっている。このように、生
成物が堆積し始める温度は、ガスの圧力により変化す
る。
【0045】点66は、ターボ分子ポンプ1の吸気口6
での温度と圧力を表している。点66は、気相側にある
ため、吸気口6ではこのプロセスガスが気体であること
がわかる。このプロセスガスは、ターボ分子ポンプ1の
内部で排気口19側に移送されるにつれて圧縮され、排
気口19では、点67に示したP0となる。このプロセ
スガスは、圧縮される過程で、点66において固体とな
って析出する。
【0046】一方、トラップ部33の温度をTt、ま
た、トラップ部33でのこのプロセスガスの圧力をPt
とすると、このプロセスガスは、点70(温度T1、圧
力Pt)において固相となり、トラップ部33で析出す
る。
【0047】そのため、トラップ部33の温度Ttをお
およそTt<T1とすると、トラップ部33でこのプロ
セスガスを析出させることができる。
【0048】ここで、圧力P0における、排気口19で
のプロセスガスの温度と蒸気圧曲線61上の点の温度の
差をδTとする。一方、圧力Ptにおいて、蒸気圧曲線
61上の点70からδTだけ温度が下がった点を点71
(温度T2)とする。なお、曲線62(T=f’
(P))は、蒸気圧曲線61を−δTだけ平行移動した
ものである。トラップ部33の温度を温度T2以下にす
ると、従来ポンプの管内で堆積していた堆積物と同程度
以上の量の堆積物をトラップ部33に堆積させることが
期待できる。このため、従来管内に堆積していた堆積物
をトラップ部33に集中的に堆積させることができる。
【0049】なお、以上の説明は、特定のプロセスガス
に限定するものではなく、半導体製造に使用される各種
のプロセスガスに適用できるものである。これらのプロ
セスガスは、以上に説明したように、圧力が高いほど堆
積開始温度が低下するため、従来はポンプの中で最も圧
力の高い排気口付近に堆積していた。しかも、例えば、
ロータ部とステータ部(ステータ翼22やスペーサ5な
ど)の間などのように、回転する部材と固定した部材の
隙間を最も狭くしたい部分に堆積しがちである。そこ
で、その上流側に、排気口付近より堆積しやすい温度ま
で冷却した部材を設置することで排気口付近への堆積を
防止することを目指したのが本実施の形態である。
【0050】(実施の形態の変形例)実施の形態では、
冷却トラップ30をターボ分子ポンプ部とねじ溝ポンプ
部の間に形成したが、冷却トラップを配設する部位はこ
れに限定するものではない。例えば、ターボ分子ポンプ
部を軸方向に2つ以上に分割し、これら分割されたター
ボ分子ポンプの間に冷却トラップ30を配設しても良い
し、又は、ねじ溝ポンプ部を2つ以上に分割し、これら
分割されたねじ溝ポンプ部の間に冷却トラップ30を配
設しても良い。
【0051】本実施の形態及び本実施の形態の変形例よ
り、冷却トラップに選択的にプロセスガスの反応生成物
を堆積させ、排気要素部分に堆積しないようにすること
ができる。また、ヒータなどによりターボ分子ポンプ1
を加熱する必要がないので、昇温によるロータ翼21の
強度の低下などが生じにくい他、モータ部10など過熱
を避けたい部分の昇温を抑制することができる。堆積物
を冷却トラップ30に集中的に生じさせることができる
ので、ターボ分子ポンプ1の保守、清掃が容易になる。
【0052】以上、本発明の1実施形態について説明し
たが、本発明は説明した実施形態に限定されるものでは
なく、各請求項に記載した範囲において各種の変形を行
うことが可能である。例えば、ターボ分子ポンプ1を気
体移送手段が、ロータ翼とステータ翼で構成された全翼
タイプのターボ分子ポンプとしても良いし、また、気体
移送手段がねじ溝のみからなるねじ溝式の分子ポンプと
していも良い。
【0053】
【発明の効果】本発明によれば、ポンプを加熱せずに、
プロセスガスの析出物の生成を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態のターボ分子ポンプをチャンバに
設置したところを示した図である。
【図2】本実施の形態のターボ分子ポンプの軸線方向の
断面を示した図である。
【図3】冷却トラップの構造の1例を示した図である。
【図4】あるプロセスガスの蒸気圧曲線の1例をグラフ
として示した図である。
【符号の説明】
1 ターボ分子ポンプ 5 スペーサ 6 吸気口 7 ねじ溝 8 磁気軸受部 9 ラジアルセンサ 10 モータ部 11 ロータ軸 12 磁気軸受部 13 ラジアルセンサ 14 軸受電磁石 15 軸受電磁石 16 ケーシング 17 スラストセンサ 18 水冷管 19 排気口 20 磁気軸受部 21 ロータ翼 22 ステータ翼 23 スペーサ 24 ロータ 25 ボルト 26 金属ディスク 29 ロータ下部 30 冷却トラップ 31 フランジ部 32 水冷管部 33 トラップ部 40 貫通孔 41 凸部 42 段部 46 ステータコラム 47 ラジアルセンサターゲット 49 カラー 51 制御装置 52 送水装置 55 コンダクタンスバルブ 56 弁体 60 チャンバ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三輪田 透 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 野中 学 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 Fターム(参考) 3H031 DA01 DA02 DA07 EA02 EA03 FA35 3H034 AA01 AA02 AA03 AA12 BB01 BB08 BB11 BB16 BB17 CC03 CC07 DD05 DD28 EE03 EE04

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一端の側に吸気口が形成され、他端の側
    に排気口が形成されたケーシングと、 前記ケーシング内で回転自在に配設されたロータ軸と、 前記ロータ軸を軸支する軸受と、 前記ロータ軸を回転するモータと、 前記ロータ軸に配設されるロータと、 前記ロータと所定の間隙を隔てて、前記ケーシングの内
    周面に配設されたステータと、 前記ロータと前記ステータとの間隙に設けられ、軸方向
    に複数形成された気体移送手段と、 前記複数の気体移送手段の間に、前記気体移送手段にて
    移送される排気ガスの流路に張り出した少なくとも1つ
    の低温部と、 を具備したことを特徴とするポンプ装置。
  2. 【請求項2】 前記複数形成された気体移送手段は、 ロータ側に形成されたロータ翼と、ステータ側に形成さ
    れたステータ翼から構成されたターボ分子ポンプ部と、 ロータ側かステータ側の少なくとも一方にらせん状のね
    じ溝が形成されたねじ溝ポンプ部と、 から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の
    ポンプ装置。
  3. 【請求項3】 前記低温部は、前記ターボ分子ポンプ部
    と前記ねじ溝ポンプ部の間に形成されたことを特徴とす
    る請求項2に記載のポンプ装置。
  4. 【請求項4】 前記低温部は、前記ねじ溝ポンプ部に形
    成されていることを特徴とする請求項2、又は請求項3
    に記載のポンプ装置。
  5. 【請求項5】 前記低温部は、 円環状のフランジ部と、 前記フランジ部の内周から、前記気体移送手段にて移送
    される排気ガスの移送路に張り出したトラップ部と、 前記フランジ部と前記トラップ部のうち少なくとも一方
    に形成された、冷却部と、 を具備したことを特徴とする請求項1から請求項4まで
    のうちの何れか1の請求項に記載のポンプ装置。
  6. 【請求項6】 前記排気口における排気気体の温度と圧
    力をそれぞれT0、P0、圧力P0での排気ガスの昇華
    温度と排気口温度T0との差をδTとし、圧力Pにおけ
    る前記排出気体の蒸気圧曲線を表す関数をf(P)、前
    記低温部での前記排出ガスの圧力をPtとした場合に、 前記低温部の温度が[f(Pt)−δT]以下であること
    を特徴とする請求項1から請求項5までのうちの何れか
    1の請求項に記載のポンプ装置。
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