JP2003269370A - ポンプ装置 - Google Patents

ポンプ装置

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JP2003269370A
JP2003269370A JP2002066584A JP2002066584A JP2003269370A JP 2003269370 A JP2003269370 A JP 2003269370A JP 2002066584 A JP2002066584 A JP 2002066584A JP 2002066584 A JP2002066584 A JP 2002066584A JP 2003269370 A JP2003269370 A JP 2003269370A
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rotor
electromagnetic field
turbo molecular
rotor shaft
pump
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JP2002066584A
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Takaharu Ishikawa
隆治 石川
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Edwards Japan Ltd
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BOC Edwards Technologies Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 加熱したい部分と加熱したくない部分を選択
的に加熱することができるポンプ装置を提供すること。 【解決手段】 ポンプを構成する部材のうち、加熱した
い部分は高周波電磁界によって加熱されやすい、例えば
ステンレスなどの部材により構成し、加熱したくない部
分は、例えばアルミニウムなどの高周波電磁界で加熱さ
れにくい部材で構成する。これによって、ポンプに加熱
用コイルから高周波電磁界を供給することにより、加熱
したい部分を加熱したくない部分から選択的に加熱する
ことができる。これによって、ロータ翼、モータ、基板
部などは加熱せず、プロセスガスの析出物の堆積を抑制
したいねじ溝スペーサやベースを加熱することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はポンプ装置に関し、
例えば、半導体の製造でプロセスガスの排出に使用され
るターボ分子ポンプなどに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造は、チャンバの中で基板に
プロセスガスを作用させながら行われる。このチャンバ
の排気には、排気能力や真空度などの要求からターボ分
子ポンプが広く使用されている。ターボ分子ポンプは、
チャンバ内のプロセスガスなどを排気するほか、チャン
バ内を所定の圧力に保つために使用されている。
【0003】半導体の製造に用いられるプロセスガスに
は各種のものがあるが、温度や圧力などの条件により、
管路部分に凝固し堆積する場合がある。そのため、ある
程度の時間ターボ分子ポンプを運転すると、管路部分に
堆積物が生じ、管路が詰まって性能が低下したり、ロー
タと堆積物が接触してポンプの運転に悪影響を与える場
合がある。
【0004】そのため、ポンプ内の管路でプロセスガス
が凝固して堆積するのを抑制するために、ポンプの周囲
やベース部にヒータを設置し、管路を一定の温度に保温
することが広く行われている。ヒータを用いてポンプの
温度を所定の値にコントロールすることにより、ポンプ
内でプロセスガスが凝固するのを低減することができ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ヒータを用
いてポンプを加熱すると、堆積物が生成される部分以外
の、本来は暖めたくない部分まで暖めてしまうことにな
る。このような部分としては、例えばポンプ内部にある
ポンプ内部基板、ステータ部に内蔵されているモータ、
回転翼といった部分がある。これらの部分は、所定の値
以上の温度に達すると正常に運転できなくなる場合があ
る。このため、従来以上にポンプ内部の温度を上げるこ
とは困難であった。
【0006】そこで、本発明の目的は、加熱したい部分
と加熱したくない部分を選択的に加熱することができる
ポンプ装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、請求項1に記載の発明では、一端の側に
吸気口が形成され、他端の側に排気口が形成されたケー
シングと、前記ケーシング内で回転自在に配設されたロ
ータ軸と、前記ロータ軸を軸支する軸受と、前記ロータ
軸を回転するモータと、少なくとも一部が第1の部材に
よって構成され、前記ロータ軸に配設されたロータと、
高周波電磁界による温度上昇の程度が前記第1の部材よ
りも大きい第2の部材によって少なくとも一部が構成さ
れ、前記ロータと所定の間隙を隔てて、前記ケーシング
の内周面に配設されたステータと、前記ロータと前記ス
テータとの間隙に形成された気体移送手段と、前記第2
の部材で構成された部分に作用する高周波電磁界を発生
する高周波電磁界発生手段と、を具備したことを特徴と
するポンプ装置を提供する。ここで、例えば、前記第1
の部材の電気抵抗は、23.4×10-8[Ω・m]以下
であり、前記第2の部材の電気抵抗は、72×10
-8[Ω・m]以上である。請求項2に記載の発明では、
前記気体移送手段が、前記ロータ軸に対して放射状に配
設された前記第1の部材から成る複数段のロータ翼と、
前記ケーシングの内周面から前記ロータ軸に向かって、
前記ロータ翼が形成する段の間隙に配設された前記第2
の部材から成るステータ翼と、から構成されたことを特
徴とする請求項1に記載のポンプ装置を提供する。請求
項3に記載の発明では、前記ロータが、円筒状の外周面
を有し、前記ステータは、前記ロータと所定の間隙を隔
てた円筒状の内周面を有し、前記気体移送手段は、前記
ロータの外周面又は前記ステータの内周面のうち少なく
とも一方に形成されたらせん状の溝であることを特徴と
する請求項1に記載のポンプ装置を提供する。請求項4
に記載の発明では、前記気体移送手段から前記排気口に
至るまでの部材を前記第2の部材で構成したことを特徴
とする請求項1、請求項2、又は請求項3に記載のポン
プ装置を提供する。請求項5に記載の発明では、前記ロ
ータ内に固定的に収容され、かつ前記モータを収納す
る、前記第1の部材から成る円筒部材を更に具備したこ
とを特徴とする請求項1から請求項4までのうちの何れ
か1の請求項に記載のポンプ装置を提供する。請求項6
に記載の発明では、前記第1の部材は、アルミニウム、
アルミニウム系の合金、銅、又は銅系の合金などの非磁
性体金属であり、前記第2の部材は、ステンレス、鉄、
又は鉄系の合金であることを特徴とする請求項1から請
求項5までのうちの何れか1の請求項に記載のポンプ装
置を提供する。請求項7に記載の発明では、前記ポンプ
装置の所定の個所に設置した温度検出手段によって検出
した温度に関連して、前記高周波発生手段が発生する高
周波電磁界の出力を制御する出力制御手段を更に具備し
たことを特徴とする請求項1から請求項6までのうちの
何れか1の請求項に記載のポンプ装置を提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、図1から図4を参照して詳細に説明する。 (1)実施形態の概要 高周波の電磁界を作用させた場合、ステンレスや鉄など
は、アルミウムや銅などに比べて温まり易いという性質
がある。これは、ステンレスや鉄は、電気抵抗が大き
く、アルミニウムや銅は電気抵抗が小さいためである。
そこで、ターボ分子ポンプを構成する部材のうち、暖め
たい部分をステンレスや鉄あるいは鉄系の合金など(第
2の部材)で構成し、暖めたくない部分をアルミニウム
やアルミニウム系の合金、又は銅や銅系の合金などの非
磁性体金属(第1の部材)で構成し、ターボ分子ポンプ
に高周波電磁界を作用させることにより、ターボ分子ポ
ンプを構成する各部位を選択的に加熱することができ
る。
【0009】より具体的には、渦巻き状のコイルをター
ボ分子ポンプの周囲、又は下部に設置し、所定の周波数
の高周波電流を流す。そして、その結果生じる高周波の
電磁場をターボ分子ポンプに作用させる。プロセスガス
の堆積しやすい管路の部分(例えばねじ溝スペーサ)な
どをステンレス材で構成し、加熱したくない部分(例え
ばロータ翼、モータケーシング部)をアルミニウムで構
成することにより、加熱したい部分を加熱したくない部
分から選択的に加熱することができる。
【0010】(2)実施形態の詳細 図1(a)は、本実施の形態のターボ分子ポンプ1をチ
ャンバ60に設置したところを示した図である。チャン
バ60は、機密性を備えた容器であって、内部でドライ
エッチングや積層など、半導体製造のための各種作業を
行えるようになっている。図示しないが、チャンバ60
には半導体の製造に使用するプロセスガスの放出口が設
けられており、この放出口から放出されるプロセスガス
により、チャンバ60内を所定の雰囲気にすることがで
きる。
【0011】ターボ分子ポンプ1は、コンダクタンスバ
ルブ55を介して、チャンバ60の下端面に吊り下げら
れた状態で設置されている。コンダクタンスバルブ55
は、例えば、バタフライ弁によって構成された弁体を備
えたバルブである。バタフライ弁とは、円筒形の弁箱の
中に流路内径と等しい径をもつ円板状の弁体56を入
れ,それを直径軸のまわりに回転して開閉を行うもので
ある。コンダクタンスバルブ55の外部から弁体56を
回転させて流路の断面積を調節することができる。ま
た、図1ではコンダクタンスバルブ55の内部に配置さ
れた弁体56を点線で図示している。
【0012】コンダクタンスバルブ55は、コンダクタ
ンス(ガスの流れ易さ)を調節するバルブであり、ター
ボ分子ポンプ1が排気ガスを吸引する程度を調節するた
めに設置されている。このようにして、ターボ分子ポン
プ1が真空装置から排気ガスを吸引する程度を調整する
コンダクタンスバルブ55を開閉することによりチャン
バ内の圧力を調節することができる。
【0013】ターボ分子ポンプ1は、磁気軸受部にて軸
支されたロータ部を高速回転することにより、チャンバ
60内のガスを補助ポンプ側へ排気するためのポンプで
ある。なお、磁気軸受部は、他の種類の軸受を用いても
良い。ターボ分子ポンプ1は、後に説明するように、例
えばベースはステンレスで構成し、ロータ翼はアルミニ
ウムで構成するなどして、高周波の電磁界を作用させた
ときに、各構成部分を選択的に加熱できるようになって
いる。
【0014】制御装置51は、磁気軸受部やロータ軸に
設けられたモータ部を制御するための装置である。磁気
軸受部に関しては、ロータ軸の変位をセンサによって検
出し、ロータ軸が所定の位置に保持されるように変位制
御電流を軸受電磁石に供給して磁力を調節する。モータ
部に関しては、ロータ軸の回転数をセンサによって検出
し、モータ部を構成するステータコイル(以下単にステ
ータコイルと記す)に供給する電流を調節する。
【0015】ターボ分子ポンプ1の周囲には、ターボ分
子ポンプ1に作用させる高周波電磁界を一方向から発生
させるための加熱用コイル57が配設されている。な
お、加熱用コイル57は、このように単体をターボ分子
ポンプ1の近傍に配設し、一方向から電磁界を作用させ
るようにしても良いし、又は複数をターボ分子ポンプ1
の周囲に配設し、そのうちの1つを用いてターボ分子ポ
ンプ1に向けて一方向に高周波電磁界を作用させるよう
にしても良い。又は後に実施の形態の第2の変形例で説
明するように、ターボ分子ポンプ1の下端部に設けてポ
ンプの下から一方向に高周波電磁界を作用させても良
い。このように高周波電磁界を一方向から作用させるの
は、複数の方向から高周波電磁界を作用させると、これ
らの高周波電磁界が相殺してしまい、十分な効果を得ら
れない可能性があるからである。高周波電源装置52
は、加熱用コイル57に高周波電流を供給する装置であ
る。加熱用コイル57は、高周波電源装置52と共に、
高周波電磁界発生手段を構成している。本実施の形態で
は、1例として、25[kHz]の高周波電流を供給する
ものとする。なお、周波数はこれに限定せず適当なもの
を用いることができる。
【0016】図1(b)は、ターボ分子ポンプ1に対す
る加熱用コイル57の位置をターボ分子ポンプ1の軸線
方向から見た図である。この図に示したように、加熱用
コイル57は、ターボ分子ポンプ1の周囲から一方向
(ターボ分子ポンプ1の回転軸に向かう方向)に高周波
電磁界を作用させるように配設されている。
【0017】図2は、本実施の形態のターボ分子ポンプ
1の軸線方向の断面図を示した図である。本実施の形態
では、分子ポンプの一例としてターボ分子ポンプ部とね
じ溝式ポンプ部を備えた、いわゆる複合翼タイプのター
ボ分子ポンプを用いることとする。
【0018】ターボ分子ポンプ1の外装体を形成するケ
ーシング16は、円筒状の形状をしており、その中心に
ロータ軸11が設置されている。ケーシング16は、後
に述べるベース27と共にターボ分子ポンプ1の外装体
を形成している。ベース27の中央には略円筒形状をし
た円筒部材であるステータコラム46が吸気口6の側に
形成されている。ステータコラム46の内周面には、後
に説明するロータ軸11を支持するための磁気軸受部
8、12やラジアルセンサ9、13、及びロータ軸11
を回転するためのモータ部10などが収納されている。
【0019】ステータコラム46は、アルミニウムで構
成されていおり、ポンプ外部から高周波電磁界を作用さ
せても、温度が上昇しにくくなっている。このように、
ステータコラム46をアルミニウムで構成することによ
り、高周波電磁界を作用させたときに、モータ部10、
基板部31、また磁気軸受部8、12、やラジアルセン
サ9、13などの、加熱するのが好ましくない部分の昇
温を低減することができる。
【0020】磁気軸受8、12は、それぞれロータ軸1
1の軸線方向の上部と下部に設けられている。また、ロ
ータ軸11の底部には、磁気軸受部20が設けられてい
る。ロータ軸11は、磁気軸受部8、12によってラジ
アル方向(ロータ軸11の径方向)に非接触で支持さ
れ、磁気軸受部20によってスラスト方向(ロータ軸1
1の軸方向)に非接触で支持されている。これらの磁気
軸受部は、いわゆる5軸制御型の磁気軸受を構成してお
り、ロータ軸11は軸線周りに回転するようになってい
る。
【0021】磁気軸受部8では、例えば4つの軸受電磁
石がロータ軸11の周囲に90°ごとに対向するように
配置されている。ロータ軸11上の磁気軸受部8を構成
する部位には電磁石ターゲット48が形成されている。
電磁石ターゲット48は、表面に絶縁皮膜を形成したケ
イ素鋼などの鋼板が多数積層された積層鋼板によって形
成されている。これは、磁気軸受部8で生じる磁場によ
り、ロータ軸11上で渦電流が発生するのを抑制するた
めに設置されたものである。
【0022】ロータ軸11で渦電流が生じると、ロータ
軸11が発熱すると共に渦電流損が発生し、効率が低下
することとなるが、電磁石ターゲット48を積層鋼板で
構成することによりこれを防ぐことができる。磁気軸受
部8では、電磁石の磁力により電磁石ターゲット48が
吸引され、ロータ軸11は、ラジアル方向に磁気浮上す
る。
【0023】磁気軸受部8の近傍には、ラジアルセンサ
9が形成されている。ラジアルセンサ9は、例えば、ロ
ータの周囲に配設されたコイルと、ロータ軸11上に形
成されたラジアルセンサターゲット47とから構成され
ている。コイルは制御装置51の発信回路の一部をなし
ており、コイルとラジアルセンサターゲット47との距
離により信号の振幅が変化するため、これによってロー
タ軸11の変位を検知する。
【0024】ラジアルセンサターゲット47は、電磁石
ターゲット48と同様に積層鋼板によって形成されてい
る。ラジアルセンサ9の信号に基づいて制御装置51
は、磁気軸受部8で発生させる磁力をフィードバック制
御する。なお、ロータ軸11の変位を検出するセンサと
して、他に静電容量式のものや光学式のものなどがあ
る。
【0025】磁気軸受部12とラジアルセンサ13の構
成と作用はそれぞれ磁気軸受部8とラジアルセンサ9と
同様であるので説明を省略する。
【0026】ロータ軸11の下端に設けられた磁気軸受
部20は、円板状の金属ディスク26、軸受電磁石1
4、15、スラストセンサ17によって構成されてい
る。金属ディスク26は、鉄などの高透磁率材で構成さ
れており、その中心においてロータ軸11に垂直に固定
されている。金属ディスク26の上には軸受電磁石14
が設置され、下には軸受電磁石15が設置されている。
軸受電磁石14は、磁力により金属ディスク26を上方
に吸引し、軸受電磁石15は、金属ディスク26を下方
に吸引する。
【0027】スラストセンサ17は、ラジアルセンサ
9、13と同様に、例えばコイルにより構成されてお
り、ロータ軸11のスラスト方向の変位を検出してこれ
を制御装置51に送信する。制御装置51は、ラジアル
センサ13から受信した信号によりロータ軸11のスラ
スト方向の変位を検出することができるようになってい
る。
【0028】ロータ軸11がスラスト方向のどちらかに
移動して所定の位置から変位すると、制御装置51はこ
の変位を修正するように軸受電磁石14、15の励磁電
流を調節し、ロータ軸11を所定の位置に戻すように動
作する。制御装置51は、このフィードバック制御によ
りロータ軸11をスラスト方向の所定の位置に磁気浮上
させてこれを保持することができる。以上に説明したよ
うに、ロータ軸11は、磁気軸受部8、12によりラジ
アル方向に保持され、磁気軸受部20によりスラスト方
向に保持されるため、軸線周りの回転の自由度を有する
ように軸支される。
【0029】スラストセンサ17の下部には、基板部3
1が設けられている。基板部31は、制御装置51から
の電気信号を受信し、モータ部10や磁気軸受部8、1
2、20を制御するための電子回路から構成されてい
る。この電子回路を構成する素子は、一定の温度範囲で
性能が保証されており、その上限温度は、例えば90
[℃]である。ステータコラム46は、高周波電磁界が
作用しても昇温しにくいアルミニウムでできているた
め、ターボ分子ポンプ1に高周波電磁界を作用させた場
合でもステータコラム46からの熱伝導による温度の上
昇を抑制することかできる。
【0030】ロータ軸11の、磁気軸受部8、12の中
程にはモータ部10が設けてある。本実施の形態では、
一例としてモータ部10はDCブラシレスモータによっ
て構成されているものとする。ロータ軸11のモータ部
10を構成する部位の周囲には、永久磁石が固着されて
いる。この永久磁石は、例えば、ロータ軸11の周りに
N極とS極が180°ごとに配置されるように固定され
ている。この永久磁石の周囲には、ロータ軸11から所
定のクリアランスを経て、例えば6個の電磁石が60°
ごとにロータ軸11の軸線に対して対照的にかつ対向す
るように配置されている。
【0031】一方、ターボ分子ポンプ1は、ロータ軸1
1の回転数と回転角度(位相)を検出する図示しないセ
ンサを備えており、これによって制御装置51は、ロー
タ軸11に固着された永久磁石の磁極の位置を検出する
ことができるようになっている。制御装置51は、検出
した磁極の位置に従って、モータ部10の電磁石の電流
を次々に切り替えて、ロータ軸11の永久磁石の周囲に
回転磁界を生成する。ロータ軸11に固着した永久磁石
はこの回転磁界に追従し、これによってロータ軸11は
回転する。
【0032】モータ部10の外周面には、モータ部10
を保護するためのステンレス製の円筒部材であるカラー
49が設けられている。ステータコラム46、及びカラ
ー49は共にアルミニウムで構成されているため、ター
ボ分子ポンプ1に高周波電磁界が作用してもモータ部1
0が昇温しにくいようになっている。
【0033】ロータ軸11の上端にはロータ24が複数
のボルト25により取り付けられている。本実施の形態
では、一例として、ロータ24の略中ほどから吸気口6
側、即ち、図中略上半分の部分はロータ翼21やステー
タ翼22などで構成されたターボ分子ポンプ部となって
おり、図中略下半分の部分はねじ付スペーサであるスペ
ーサ5などで構成されたねじ溝式ポンプ部となっている
ものとする。なお、ターボ分子ポンプの構造はこれに限
定するものではなく、例えば、後に変形例で説明するよ
うな、気体移送手段が全てロータ翼21とステータ翼2
2で構成された全翼タイプのポンプでも良いし、又は、
吸気口6側から排気口19側までねじ溝式ポンプで構成
されたものでも良い。
【0034】ターボ分子ポンプ部においては、ロータ2
4は、アルミニウムで形成されたロータ翼21がロータ
軸11の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜し
て、ロータ24から放射状に複数段取り付けてられてい
る。ロータ翼21は、ロータ24に固着されており、ロ
ータ軸11と共に高速回転するようになっている。ケー
シング16の吸気口側には、ステンレスで構成されたス
テータ翼22が、ロータ軸11の軸線に垂直な平面から
所定の角度だけ傾斜して、ケーシング16の内側方向に
ロータ翼21の段と互い違いに配設されている。
【0035】ロータ翼21は、例えば毎分3万回転程度
の高速回転を行う必要がある場合がある。ところが、ロ
ータ翼21の温度が上昇するとロータ翼21の強度が低
下するため、破断を避けるために回転速度を抑制しなけ
ればならない場合がある。ロータ翼21は、高周波電磁
界が作用しても昇温しにくいアルミニウムで構成されて
いるため、ターボ分子ポンプ1に高周波電磁界を作用さ
せても、ロータ翼21の昇温を抑制することができる。
【0036】一方、ステータ翼22は、遠心力が作用し
ないため、昇温による強度の低下に関しては、ロータ翼
21ほどには問題にはならない。そのため、本実施の形
態では、ステータ翼22をステンレスで構成し、ターボ
分子ポンプ1の外部から高周波電磁界が作用した場合に
昇温し易くしている。ステータ翼22が加熱されること
により、ステータ翼22への析出物の堆積を抑制するこ
とができる。
【0037】スペーサ23はリング状の部材であり、本
実施の形態ではステンレスで構成されている。スペーサ
23は、ステータ翼22で形成された各段の間に配設さ
れ、ステータ翼22を所定の位置に保持している。スペ
ーサ23は、ステンレスで構成されているため、ターボ
分子ポンプ1の外部から高周波電磁界が作用した場合に
昇温し易くなっている。そのため、ターボ分子ポンプ1
に高周波電磁界が作用した場合、スペーサ23は加熱さ
れ、その熱がステータ翼22に熱伝導するようになって
いる。
【0038】ロータ24がモータ部10により駆動され
てロータ軸11と共に回転すると、ロータ翼21とステ
ータ翼22の作用により、吸気口6から排気ガスが吸気
される。吸気口6から吸気された排気ガスは、ロータ翼
21とステータ翼22の間を通り、ねじ溝式ポンプ部へ
送られる。このように、ロータ翼21とステータ翼22
は、気体移送手段を構成している。
【0039】ねじ溝式ポンプ部は、ロータ下部29、ス
ペーサ5などから構成されている。本実施の形態では、
ねじ溝はスペーサ5に形成されている。ロータ下部29
は、ロータ24の略下半部に形成された円筒状の外周面
を有する部分から構成されており、外周面がスペーサ5
の内周面に近接した領域まで張り出している。ねじ溝式
ポンプ部のステータはスペーサ5によって構成されてい
る。スペーサ5は、円筒状の部材であり、その内周面に
らせん状の複数のねじ溝7が複数条形成されている。本
実施の形態では、スペーサ5が高周波電磁界により昇温
しやすいようにステンレスで構成した。
【0040】ねじ溝7のらせんの方向は、ロータ24の
回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、該分子が
排気口19へ移送される方向である。ロータ24がモー
タ部10により駆動されて回転すると、ターボ分子ポン
プ部から送られてきた排気ガスは、ねじ溝7にガイドさ
れながら、排気口19の方へ移送される。ターボ分子ポ
ンプ1の内部のガスの圧力は、吸気口6から排気口19
にかけて増大するが、このように、ターボ分子ポンプ1
の吸気口6側をターボ分子ポンプ部で構成し、排気口1
9をねじ溝ポンプ部で構成することにより、高い圧縮比
を実現することができる。
【0041】なお、本実施の形態では、ステータ側にね
じ溝7が形成されたスペーサ5が配置され、ロータ下部
29の外周面は円筒状としたが、逆に、ロータの外周面
にねじ溝が形成してあるターボ分子ポンプとすることも
できる。
【0042】ベース27は、ターボ分子ポンプ1の基底
部を構成する円盤状の部材である。ベース27は、高周
波電磁界が作用した場合に昇温し易いようにステンレス
で構成されている。ベース27が高周波電磁界によって
加熱されることにより、この部位でのプロセスガスの析
出を抑制することができる。ベース27は、外縁部の上
端部にケーシング16が接合され、その内側にスペーサ
5が配設されている。更に、ベース27の中心部には、
ステータコラム46がロータ軸11方向に配設されてい
る。
【0043】ベース27の低部には冷却水を循環させる
水冷管18が取り付けてあり、水冷管18とベース27
の間は熱交換が効率的に行われるようになっている。ベ
ース27に伝達してきた熱は、水冷管18内を循環する
冷却水によりターボ分子ポンプ1の外部へ効率よく放出
することができるので、ターボ分子ポンプ1が加熱して
許容温度以上になるのを防ぐことができる。
【0044】水冷管18は、図示しない送水ポンプ、及
び図示しない熱交換器と共に水冷系を構成している。水
冷管18内の冷却水は送水ポンプの作用により該水冷系
を循環する。そして、該冷却水がベース27との熱交換
によって得た熱は、熱交換器により、例えば大気中など
の該水冷系外に放出される。その結果、冷却水は冷却さ
れ、送水ポンプにより再びターボ分子ポンプ1へと送出
される。
【0045】図示しないが、ターボ分子ポンプ1の周囲
には加熱用コイル57が配設されており、ターボ分子ポ
ンプ1に周囲から一方向(ターボ分子ポンプ1の回転軸
に向かう方向)に高周波電磁界を供給している。
【0046】一般に、プロセスガスは圧力が高いほど低
温で析出するという性質がある。ターボ分子ポンプ1で
は、吸気口6から吸引されたプロセスガスガスがターボ
分子ポンプ部で圧縮された後、ねじ溝ポンプ部で更に圧
縮されて排気口19から排出される。そのため、析出物
の堆積は、スペーサ5、ベース27、排気口19で堆積
しやすい傾向がある。ターボ分子ポンプ1では、スペー
サ5、ベース27、排気口19がステンレスで構成され
ているため、これらの部位が高周波電磁界によって加熱
され、プロセスガスの析出物が堆積しにくい構成となっ
ている。
【0047】また、モータ部10や基板部31は、アル
ミニウムで構成されたステータコラム46の内部に収納
されているため、ターボ分子ポンプ1に高周波電磁界を
作用させても、これらの部位の昇温は抑制することがで
きる。
【0048】以上に説明したターボ分子ポンプ1でステ
ンレスで構成した部分(ステータ翼22、ケーシング1
6、スペーサ23、スペーサ5、ベース27、排気口1
9など)は、鉄や鉄系の合金によって構成しても良い。
また、アルミニウムで構成した部分(ロータ翼21、ス
テータコラム46など)は、銅や、アルミニウム系の合
金又は銅系の合金などの非磁性体金属によって構成して
も良い。また、加熱用コイル57は、ターボ分子ポンプ
1と一体として構成しても良い。
【0049】(実施の形態の変形例1)図3は、他の形
態のターボ分子ポンプ1aの構成を示した図である。タ
ーボ分子ポンプ1aは、吸気口6aから排気口19aま
で、気体移送手段がロータ翼21aとステータ翼22a
によって構成された、いわゆる全翼タイプのターボ分子
ポンプである。ターボ分子ポンプ1と対応する構成要素
には、図2と同じ符号に添え字aを付して表すことにす
る。また、実施の形態と重複する説明は省略する。
【0050】ターボ分子ポンプ1aの構成は、気体移送
手段が全てロータ翼21aとステータ翼22aから構成
されている他はターボ分子ポンプ1と同様である。吸気
口6aから吸引されたプロセスガスは、これらの気体移
送手段により圧縮され、排気口19aから排出される。
図示しないが、ターボ分子ポンプ1aの周囲には、加熱
用コイル57aが配設されている。
【0051】ロータ翼21aとステータコラム46a
は、アルミニウムによって構成されている。このため、
加熱用コイル57aが発生する高周波電磁界がターボ分
子ポンプ1aに作用した場合、ロータ翼21a、ステー
タコラム46a、及びステータコラム46aの内部に配
設された磁気軸受部8a、12a、モータ部10a、ま
た、ステータコラム46aの下部に配設された磁気軸受
部20a、基板部31aなどの昇温を抑制することがで
きる。
【0052】一方、ステータ翼22a、ケーシング16
a、ベース27a、排気口19aはステンレスで構成さ
れている。このため、ターボ分子ポンプ1aに高周波電
磁界が作用した場合、これらの構成要素が選択的に加熱
され、プロセスガスによる生成物の析出を抑制すること
ができる。
【0053】なお、以上のステンレスで構成した部分
は、鉄や鉄系の合金によって構成しても良く、また、ア
ルミニウムで構成した部分は、銅や、アルミニウム又は
銅の合金などの非磁性体金属によって構成しても良い。
【0054】(実施の形態の変形例2)図4(a)は、
実施の形態の第2の変形例を説明するための図である。
本変形例では、図4(b)に示したような加熱用コイル
57bをターボ分子ポンプ1の底部に配設したものであ
る。矢線65は、加熱用コイル57bが発生する高周波
の磁界を表している。
【0055】先に説明したように、プロセスガスは、タ
ーボ分子ポンプ1内の管路のうち、排気口側で析出しや
すい傾向がある。そのため、ターボ分子ポンプ1の底部
に加熱用コイル57bを設けることで、ターボ分子ポン
プ1のうち、排気口19側を重点的に加熱することがで
きる。また、ロータ翼21は、加熱用コイル57bから
距離的に離れているため、高周波電磁界のロータ翼21
に及ぼす影響を低減することができる。
【0056】以上、本変形例では、ターボ分子ポンプ1
の底部に加熱用コイル57aを配設したが、これに限定
せず、ターボ分子ポンプ1aの底部に加熱用コイル57
aを配設するように構成することもできる。
【0057】(実施の形態の変形例3)実施の形態では
加熱用コイル57でターボ分子ポンプ1を加熱したが、
ターボ分子ポンプ1に温度計を設置し、検出された温度
により加熱用コイル57の出力を制御するように構成す
ることもできる。温度検出手段として、例えば、ステー
タコラム46、スペーサ5の内部やケーシング16など
に熱電対を設置する。そして、検出温度を高周波電源装
置56に入力する。高周波電源装置56には、例えば、
検出温度が所定温度より高くなると出力を下げ、又検出
温度が所定温度より低くなると出力を上げるように、検
出温度に従って加熱用コイル57の出力を制御する出力
制御手段を備える。これによって、ターボ分子ポンプ1
の温度によって、高周波電磁界の出力をフィードバック
制御することができる。
【0058】以上、本発明の1実施形態及び1変形例に
ついて説明したが、本発明はこれらに限定されるもので
はなく、各請求項に記載した範囲において各種の変形を
行うことが可能である。例えば、高周波電磁界により、
ターボ分子ポンプ1、1aの構成要素を選択的に加熱す
るための部材は、アルミニウムやステンレスなど、以上
に説明したものに限定するものではなく、高周波電磁界
により加熱される程度に差が生じするものであれば使用
することができる。また、高周波電磁界により加熱され
にくいものとして使用される部材は金属に限らず、例え
ば合成樹脂やセラミックスなど、又は非磁性体金属を使
用することもできる。
【0059】
【発明の効果】本発明によれば、加熱したい部分を加熱
したくない部分から選択的に加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、本実施の形態のターボ分子ポンプを
チャンバに設置したところを示した図であり、(b)
は、ターボ分子ポンプに対する加熱用コイルの位置を示
した図である。
【図2】本実施の形態のターボ分子ポンプの軸線方向の
断面図を示した図である。
【図3】他の形態のターボ分子ポンプの構成を示した図
である。
【図4】(a)は、実施の形態の第2の変形例を説明す
るための図であり、(b)は加熱用コイルを示した図で
ある。
【符号の説明】
1 ターボ分子ポンプ 5 スペーサ 6 吸気口 7 ねじ溝 8 磁気軸受部 9 ラジアルセンサ 10 モータ部 11 ロータ軸 12 磁気軸受部 13 ラジアルセンサ 14 軸受電磁石 15 軸受電磁石 16 ケーシング 17 スラストセンサ 18 水冷管 19 排気口 20 磁気軸受部 21 ロータ翼 22 ステータ翼 23 スペーサ 24 ロータ 25 ボルト 26 金属ディスク 27 ベース 28 コイル 29 ロータ下部 31 基板部 46 ステータコラム 47 ラジアルセンサターゲット 48 電磁石ターゲット 49 カラー 51 制御装置 52 高周波電源装置 55 コンダクタンスバルブ 56 弁体 57 加熱用コイル 60 チャンバ 1a ターボ分子ポンプ 6a 吸気口 8a 磁気軸受部 10a モータ部 12a 磁気軸受部 16a ケーシング 19a 排気口 20a 磁気軸受部 21a ロータ翼 22a ステータ翼 27a ベース 31a 基板部 46a ステータコラム 57a 加熱用コイル 57b 加熱用コイル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F04D 29/52 F04D 29/52 E 29/58 29/58 L S Fターム(参考) 3H022 AA01 BA01 BA07 CA48 CA50 DA01 DA04 DA09 3H031 DA01 DA02 DA07 EA01 EA03 EA09 EA12 EA15 FA01 FA31 FA35 3H034 AA01 AA02 AA12 BB01 BB08 BB11 BB16 BB17 CC03 CC07 DD01 DD24 DD28 DD30 EE02 EE04 EE15 EE17

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一端の側に吸気口が形成され、他端の側
    に排気口が形成されたケーシングと、 前記ケーシング内で回転自在に配設されたロータ軸と、 前記ロータ軸を軸支する軸受と、 前記ロータ軸を回転するモータと、 少なくとも一部が第1の部材によって構成され、前記ロ
    ータ軸に配設されたロータと、 高周波電磁界による温度上昇の程度が前記第1の部材よ
    りも大きい第2の部材によって少なくとも一部が構成さ
    れ、前記ロータと所定の間隙を隔てて、前記ケーシング
    の内周面に配設されたステータと、 前記ロータと前記ステータとの間隙に形成された気体移
    送手段と、 前記第2の部材で構成された部分に作用する高周波電磁
    界を発生する高周波電磁界発生手段と、 を具備したことを特徴とするポンプ装置。
  2. 【請求項2】 前記気体移送手段は、 前記ロータ軸に対して放射状に配設された前記第1の部
    材から成る複数段のロータ翼と、 前記ケーシングの内周面から前記ロータ軸に向かって、
    前記ロータ翼が形成する段の間隙に配設された前記第2
    の部材から成るステータ翼と、 から構成されたことを特徴とする請求項1に記載のポン
    プ装置。
  3. 【請求項3】 前記ロータは、円筒状の外周面を有し、
    前記ステータは、前記ロータと所定の間隙を隔てた円筒
    状の内周面を有し、 前記気体移送手段は、前記ロータの外周面又は前記ステ
    ータの内周面のうち少なくとも一方に形成されたらせん
    状の溝であることを特徴とする請求項1に記載のポンプ
    装置。
  4. 【請求項4】 前記気体移送手段から前記排気口に至る
    までの部材を前記第2の部材で構成したことを特徴とす
    る請求項1、請求項2、又は請求項3に記載のポンプ装
    置。
  5. 【請求項5】 前記ロータ内に固定的に収容され、かつ
    前記モータを収納する、前記第1の部材から成る円筒部
    材を更に具備したことを特徴とする請求項1から請求項
    4までのうちの何れか1の請求項に記載のポンプ装置。
  6. 【請求項6】 前記第1の部材は、アルミニウム、アル
    ミニウム系の合金、銅、又は銅系の合金などの非磁性体
    金属であり、前記第2の部材は、ステンレス、鉄、又は
    鉄系の合金であることを特徴とする請求項1から請求項
    5までのうちの何れか1の請求項に記載のポンプ装置。
  7. 【請求項7】 前記ポンプ装置の所定の個所に設置した
    温度検出手段によって検出した温度に関連して、前記高
    周波発生手段が発生する高周波電磁界の出力を制御する
    出力制御手段を更に具備したことを特徴とする請求項1
    から請求項6までのうちの何れか1の請求項に記載のポ
    ンプ装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007508492A (ja) * 2003-10-16 2007-04-05 ソシエテ・ドゥ・メカニーク・マグネティーク ターボ分子真空ポンプ
JP2011052628A (ja) * 2009-09-03 2011-03-17 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプ
CN114286895A (zh) * 2019-10-03 2022-04-05 普发真空公司 涡轮分子真空泵

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0730395U (ja) * 1993-11-10 1995-06-06 セイコー精機株式会社 ターボ分子ポンプ
JPH10306789A (ja) * 1997-05-08 1998-11-17 Daikin Ind Ltd 分子ポンプ
JP2000161286A (ja) * 1998-11-25 2000-06-13 Shimadzu Corp ターボ分子ポンプ
JP2002031082A (ja) * 2000-07-21 2002-01-31 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0730395U (ja) * 1993-11-10 1995-06-06 セイコー精機株式会社 ターボ分子ポンプ
JPH10306789A (ja) * 1997-05-08 1998-11-17 Daikin Ind Ltd 分子ポンプ
JP2000161286A (ja) * 1998-11-25 2000-06-13 Shimadzu Corp ターボ分子ポンプ
JP2002031082A (ja) * 2000-07-21 2002-01-31 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007508492A (ja) * 2003-10-16 2007-04-05 ソシエテ・ドゥ・メカニーク・マグネティーク ターボ分子真空ポンプ
JP2011052628A (ja) * 2009-09-03 2011-03-17 Osaka Vacuum Ltd 分子ポンプ
CN114286895A (zh) * 2019-10-03 2022-04-05 普发真空公司 涡轮分子真空泵

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