CN104780750B - 移载方法、保持装置及移载系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种移载方法、保持装置及移载系统。移载方法是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，移载被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板的移载方法，其特征在于，包含：由保持装置保持上述载置部上的上述基板及上述罩的保持工序；和通过移动上述保持装置，从载置部向移载目的地移动上述基板及上述罩的移动工序，在上述保持工序中，以上述罩和上述基板平行的姿势，由上述保持装置的罩保持单元保持上述罩，由上述保持装置的基板保持单元保持上述基板。

Description

移载方法、保持装置及移载系统

技术领域

本发明涉及移载方法、保持装置及移载系统。

背景技术

在向处理装置等输送基板时，如柔性基板的那样比较薄的基板存在产生翘度的情况，存在其输送困难的情况。因此，在由载体保持了基板的状态下向输送目的地输送的方案已被提出。在此情况下，需要从载体仅将基板取出向处理装置等移载的结构。在日本特开2010-272650号公报中，公开了一种将基板的罩卸下并由销顶起基板而取出的装置。

在日本特开2010-272650号公报的装置中，需要去掉罩进行移动的工序和取出基板进行移动的工序的2个工序，在基板的移载的效率的方面存在改善的余地。

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的目的，在于提高基板的移载效率。

为了解决课题的手段

根据本发明，提供一种移载方法，是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，移载被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板的移载方法，其特征在于，包含：由保持装置保持上述载置部上的上述基板及上述罩的保持工序；和通过移动上述保持装置，从载置部向移载目的地移动上述基板及上述罩的移动工序，在上述保持工序中，以上述罩和上述基板平行的姿势，由上述保持装置的罩保持单元保持上述罩，由上述保持装置的基板保持单元保持上述基板。

另外，根据本发明，提供一种保持装置，是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，保持被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板和上述罩的装置，其特征在于，具备：保持上述罩的罩保持单元；保持上述基板的基板保持单元；和对上述罩保持单元及上述基板保持单元进行支承的支承单元，上述支承单元，以上述罩保持单元在与上述载体接近或离开的方向可位移的方式支承上述罩保持单元。

另外，根据本发明，提供一种移载系统，是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，移载被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板的移载系统，其特征在于，具备：将上述载体的上述载置部定位而保持的定位单元；将上述罩从被保持在上述定位单元上的上述载体的上述载置部分离的分离单元；上述保持装置；和移动上述保持装置的移动装置。

本发明的更多的特征将从下述的具体的实施方式(同时参照附图)的描述中明确。

附图说明

图1是适用了本发明的一实施方式的移载系统的基板处理设备的概要图。

图2是图1的移载系统的概要图。

图3是图1的移载系统具备的载体处理装置的概要图。

图4A及图4B是图1的移载系统具备的保持装置的概要图。

图5A及图5B是罩保持单元的概要图。

图6A及图6B是基板保持单元的概要图。

图7是控制单元的框图。

图8A及图8B是图1的移载系统的动作说明图。

图9A及图9B是图1的移载系统的动作说明图。

图10A及图10B是图1的移载系统的动作说明图。

图11A及图11B是图1的移载系统的动作说明图。

图12是图1的移载系统的动作说明图。

图13A及图13B是图1的移载系统的动作说明图。

图14是另一例的保持装置的概要图。

图15A及图15B是另一例的保持装置的基板保持单元的概要图。

图16A及图16B是另一例的保持装置的动作说明图。

图17A及图17B是另一例的保持装置的动作说明图。

图18是另一例的保持装置的动作说明图。

具体实施方式

为了实施发明的方式

＜第一实施方式＞

下面，对本发明的实施方式进行说明。在各图中，箭头Y表示上下方向，箭头X及Z表示相互正交的水平方向。

＜基板处理设备＞

图1是适用了本发明的一实施方式的移载系统1的基板处理设备A的概要图。基板处理设备A，具备移载系统1、容纳装置2、处理装置3和处理装置4。

容纳装置2可容纳多个后述的载体5。载体5是用于保持基板的器具。基板，例如可举出以FPC(柔性印刷基板)为代表的具有可挠性的薄膜状基板，或者，具有可挠性的膜体，具有可挠性的片材体及具有可挠性的箔体等。在容纳装置2中，能容纳保持了基板W的载体5或者取出了基板W的空的载体5。容纳装置2，是进行载体5的相对于移载系统1的供给和来自移载系统1的载体5的回收的装置。

处理装置3例如是进行被涂覆了的焊锡的加热处理(回流)的装置，处理装置4例如是进行冷却、清洗处理的装置。移载系统1，具备用于从处理装置3输入保持基板W的载体5的输送装置10。而且，从载体5取出基板W，将取出了的基板向处理装置4输送。取出了基板W的空的载体5向容纳装置2输送。

＜移载系统＞

图2是移载系统1的概要图。移载系统1，具备输送装置10、载体处理装置11、输送装置12、保持装置13和移动装置14。输送装置10、载体处理装置11、输送装置12及移动装置14的支承构造及配置，不被特别地限定，但在本实施方式中，在具有基底部的架台上，配置输送装置10、载体处理装置11、输送装置12和移动装置14。输送装置10及输送装置12，以各自的输送方向成为平行的方式且在与输送方向正交的方向离开地配置。另外，载体处理装置11被配置在输送装置10和输送装置12之间。移动装置14，在输送装置10、载体处理装置11及输送装置12之间可移动地配置保持装置13。

输送装置10，例如，具备在成为输送方向的X方向延伸的皮带式输送机机构，保持水平姿势不变地输送载置在了未图示的皮带上的载体5。在该图的例子中，表示载体5被搭载在输送装置10上的状态。输送装置10进行来自处理装置3的载体5的输入和载体5向容纳装置2的输出。在来自处理装置3的载体5上保持了基板W。向容纳装置2输出取出了基板W之后的空的载体5。

载体5具备载置基板W的载置部50和紧贴地重叠在载置部50的上面上的罩51。载置部50和罩51都是板状的构件，在本实施方式中构成了方形状。载置部50和罩51，在此，由磁力相互吸附(连结)。在此情况下，例如，在载置部50设置永久磁铁，罩51能做成粘在磁铁上的金属材料。作为载置部50和罩51的紧贴连结，除了由磁力产生的吸附以外，也可以由夹紧构件等物理性地夹着。

基板W被夹着地保持在载置部50和罩51之间。罩51具有多个切口51a、开口部51b和定位用的孔51c。切口51a被形成在罩51的4角附近，是为了防止当后述的载体处理装置11保持载置部50时与罩51干涉而被形成的。开口部51b，形成基板W和罩51不重叠的露出部。本实施方式的情况下，在罩51的中央形成了开口部51b，但开口部51b的部位无论在何处都可以，另外，也可以代替开口部51b地做成切口。进而，也可以将罩51的尺寸做得比基板W小，使得基板W在罩51的周缘外方露出。孔51c是设置在罩51的四角的贯通孔。在载置部50的四角，在与孔51c重叠的位置形成了孔50a(在图3中图示)。

输送装置12，进行基板W向处理装置4的输出。输送装置12，例如，具备在X方向延伸的皮带式输送机机构，将直接载置在了未图示的皮带上的基板W保持水平姿势不变地输送。

在输送装置10和输送装置12之间，设置了载体处理装置11。参照图2及图3对载体处理装置11进行说明。图3是载体处理装置11的概要图。载体处理装置11具备定位单元110和分离单元111。图3表示载置部50被保持在定位单元110上的状态。

定位单元110是定位地保持载体5的单元，在本实施方式的情况下，把持载置部50地进行其定位。定位单元110，具备基底构件1100、多个载置销1101、多个动作执行器1102和多个定位构件1103。

基底构件1100是板状的构件，搭载了上述的各结构。在基底构件1100的中央部，形成了后述的分离单元111的销支承工作台1113、抵接构件1114可通过的开口部。抵接构件1114在本实施方式中是销。因此，存在将抵接构件1114称为销1114的情况。

载置销1101被直立设置在基底构件1100上，设置了将前端部形成为圆锥状的导向部1101a和支承载置部50的下面的支承面1101b，在本实施方式的情况下，设置了2个部位。在载置部50的下面上形成了游动嵌合载置销1101的孔，载置部50在被导向的同时被支承并搭载在设置在载置销1101上的支承面上。

动作执行器1102，例如，是电动缸，使定位构件1103在Z方向往返移动。在本实施方式的情况下，相对于一个定位构件1103分配了一个动作执行器1102。

定位构件1103构成了设置垂直部及水平部的L字型，从上部及侧部与载置部50的周缘抵接来进行载置部50的定位和载置部50的保持。在本实施方式的情况下，相对于载置部50的相向的两边，分别分配了两个定位构件1103。通过各动作执行器1102的驱动，载置部50，通过定位构件1103的垂直部及水平部分别与相向的两边抵接而被夹着，被定位且以水平姿势被保持。

分离单元111是将吸附在了载置部50上的罩51从载置部50分离的单元。分离单元111具备驱动单元1110、升降体1111、导向部1112、销支承工作台1113和多个销1114。驱动单元1110具备马达等驱动源1110a和将驱动源1110a的驱动力传递给升降体1111的传递机构1110b。传递机构1110b，例如是滚珠丝杠机构，由驱动源1110a的驱动力对升降体1111进行升降。导向部1112对升降体1111的升降进行引导。导向部1112，在本实施方式的情况下，具备在成为升降方向的Y方向延伸的轨道1112a，与升降体1111连结了的滑块1111a卡合在此轨道1112a上。

销支承工作台1113是与升降体1111连结地与升降体1111一起升降的板状的构件。多个销1114，其支承部侧前端被形成为水平面状，被直立设置在销支承工作台1113上。在载置部50上，形成了销1114可穿插的贯通孔或者切口，随着销支承工作台1113的升降，销1114可在被设定在上方的位置的工作位置(图3的位置)和被设定在载置部50的下方的位置的退避位置之间移动。在工作位置，销1114从载置部50的上面突出。

当从被保持在定位单元110上的载置部50分离罩51时，通过使销1114从退避位置上升到工作位置，使销1114与罩51的下面抵接，顶起罩51。由此，罩51从载置部50分离，向载置部50的上方升起。

参照图2对移动装置14进行说明。移动装置14在Y方向及Z方向可移动保持装置13，在输送装置10和载体处理装置11之间及载体处理装置11和输送装置12之间，在上下方向及水平方向移动保持装置13。

移动装置14，具备在成为移载方向的Z方向离开，在Y方向延伸设置的一对支柱140、架设在一对支柱140之间的导向单元141、沿着导向单元141在Z方向可移动地被支承的水平移动体141a、设置在水平移动体141a上的升降单元142、由升降单元142升降的升降体144和设置在升降体144上的转动单元143。升降体144对转动单元143进行支承。转动单元143，与保持装置13连接，进行在由保持装置13保持的基板W及罩51的面与XZ面(水平面)平行的状态下转动并保持的基板W或者罩51的在XZ面中的角度调整。导向单元141使升降单元142移动的机构及升降单元142使升降体144升降的机构，能采用公知的机构，例如，能由马达等驱动源和传递驱动源的驱动力的传递机构(例如，皮带传递机构、滚珠丝杠机构、齿条－小齿轮机构等)构成。另外，通过在导向单元141及升降单元142上设置检测水平移动体141a及升降体144的各位置的编码器等传感器，能基于各传感器的检测结果进行保持装置13的移动控制。在本实施方式中，采用了呈直线状地移动保持装置13的正交移动机构，但也可以在具有垂直多关节的机械手等多样的移动机构的前端安装保持装置13。

接着，参照图4A～图6B对保持装置13进行说明。图4A及图4B是保持装置13的概要图，图4A表示保持装置13的立体图，图4B表示保持装置13的分解立体图。图5A及图5B是罩保持单元130的概要图。图6A及图6B是基板保持单元131的概要图。

保持装置13，具备罩保持单元130、基板保持单元131和对它们进行支承的支承单元132。

罩保持单元130是解除自由地保持载体5的罩51的单元。罩保持单元130，具备基底构件1300、吸附部1301、罩规定构件1302和定位构件1303。

基底构件1300是板状的构件，具备穿插后述的支承单元132的支承部1323的开口部1300a(在本实施方式中图示2个)。开口部1300a是与支承部1323相应形成的，其数量也可以是1个或者3个以上。

吸附部1301吸附罩51。吸附部1301以向基底构件1300的下方突出的方式被支承在基底构件1300上，在其前端部设置了吸引空气的吸附衬垫。通过经吸附衬垫的吸引孔由未图示的泵吸引空气，能负压吸引并保持罩51。通过停止吸引并进行大气压释放，罩51的保持被解除。在本实施方式的情况下，吸附部1301设置了4个，通过吸附部1301相对于罩51的上面吸附4个部位，与罩规定构件1302一起以水平姿势保持罩51。

罩规定构件1302是规定罩保持单元130中的罩51的保持位置(保持高度)的构件，能稳定罩51的姿势不变地保持该罩51。罩规定构件1302以向基底构件1300的下方突出的方式被支承在基底构件1300上，在其前端部具有水平的定位面。在罩51的吸附时，通过罩51的上面与此定位面抵接，罩规定构件1302规定罩51的吸附方向(Y方向)的位置，由此保持罩51的水平姿势。在本实施方式的情况下，罩规定构件1302设置了4个，通过罩规定构件1302相对于罩51的上面抵接4个部位，规定其吸附方向的位置。

定位构件1303是进行罩保持单元130的相对于载体5的定位的构件。定位构件1303以向基底构件1300的下方突出的方式被支承在基底构件1300上，在其前端部具备销。通过此销在下降时插入在载置部50的孔50a及罩51的孔51c内进行卡合，能进行定位构件1303和载体5的水平方向的相对的定位。在本实施方式的情况下，定位构件1303设置了2个，通过定位构件1303相对于载置部50在2个部位(详细地讲，在对角2个部位)进行卡合，规定了相对的位置。

基板保持单元131是解除自由地保持基板W的单元。基板保持单元131具备基底构件1310、吸附部1311和基板规定构件1312。基底构件1310是板状的构件，形成了固定后述的支承单元132的支承部1323的安装孔1310a(在本实施方式中图示2个)。

吸附部1311对基板W进行吸附。吸附部1311以向基底构件1310的下方突出的方式被支承在基底构件1310上，在其前端部设置了吸引空气的波纹管衬垫。通过经波纹管衬垫的吸引孔由未图示的泵吸引空气，能负压吸引并保持基板W。如果停止吸引，进行大气压释放，则基板W的保持被解除。在本实施方式的情况下，吸附部1311设置了8个，通过吸附部1311相对于基板W的上面进行吸附8个部位，与基板规定构件1312一起以水平姿势保持基板W。吸附部1311被配置在不与后述的基板规定构件1312干涉的位置且在基板规定构件1312的附近。另外，吸附部1311，以夹入各基板规定构件1312的方式配置，一边使基板W的上面与后述的定位部1312b可靠地抵接一边保持基板W。

基板规定构件1312是规定基板保持单元131中的基板W的保持位置的构件。基板规定构件1312以向基底构件1310的下方突出的方式被支承在基底构件1310上，在其前端部，具有水平的安装部1312a和从安装部1312a突出地形成的定位部1312b。安装部1312a，例如在由螺栓等紧固连结构件安装在基底构件1310上时使用。另外，在基板W的吸附时基板W的上面的一部分与定位部1312b的下面抵接，规定基板W的吸附方向(Y方向)的位置。在本实施方式的情况下，基板规定构件1312在基底构件1310的下侧配置了6个，各自的定位部1312b的下面以成为相同的水平面(同一平面)的方式配置。另外，按3个一组将基板规定构件1312呈直线状地以成为2列的方式排列进行配置，形成各自的列的定位部1312b以成为直线状的方式配置，各自的列被配置成相对于基底构件1310的中心线线对称。通过设置了多个定位部1312b，能防止吸附时的基板W的挠曲，以水平姿势保持基板W。另外，即使是1个定位部1312b，在扩大了其下面的面积的情况下，有时也能以水平姿势保持基板W。

支承单元132是支承罩保持单元130和基板保持单元131，另外，与移动装置14的转动单元143连接的单元。

支承单元132具备基底构件1320和支承部1322、1323。基底构件1320是板状的构件，在其上面中央部设置了连接转动单元143(特别是其旋转输出部)的连接构件1321。在连接构件1321上，例如形成了与转动单元143紧固连结的螺栓孔等。

支承部1322，一端侧与基底构件1320连接，另一端侧与罩保持单元130的基底构件1300连接，对罩保持单元130进行支承。在本实施方式的情况下，支承部1322在X方向分离地设置了2个。在本实施方式的情况下，罩保持单元130，在相对于载体5接近或离开的方向可位移地被支承(吊设)。由于设置了多个支承部1322，所以罩保持单元130，不仅在相对于载体5接近或离开的方向可位移，而且相对于水平面可倾斜地被支承。

在本实施方式的情况下，支承部1322是作为浮动支承罩保持单元130的浮动机构而构成，可进行罩保持单元130的位移。

详细地讲，支承部1322由杆气缸和弹簧构成，杆气缸的气缸部被固定在基底构件1320上，杆部被固定在基底构件1300上。弹簧围绕杆部地被装填在气缸部和基底构件1300之间。基底构件1300在相对于基底构件1320接近或离开的方向(Y方向)仅可位移杆部的相对于气缸部的进退量。此结果，在保持罩51时，罩保持单元130，在相对于载体5接近或离开的方向能相对于支承单元132位移。弹簧在基底构件1300和基底构件1320离开的方向对它们进行加载。

支承部1323，一端侧与基底构件1320连接，另一端侧通过在基底构件1300上形成的开口部1300a，与基底构件1310连接，支承(吊设)基板保持单元131。在本实施方式的情况下，支承部1323在X方向分离地设置了2个。支承部1323是支柱状的构件，在其前端部固定基底构件1310。与罩保持单元130不同，基板保持单元131相对于支承单元132不能位移地被支承。基底构件1310及1320都被维持成水平姿势，基底构件1300虽然因支承部1322的伸缩而有一些倾斜，但是基本上被维持成水平姿势。

＜控制单元＞

图7是移载系统1的控制单元6的框图。控制单元6进行移载系统1整体的控制。

控制单元6，包含CPU等的处理部61、RAM和ROM等存储部62、连接外部装置和处理部61的接口部63。在接口部63，除了I/O接口之外也包含进行与主计算机的通信的通信接口。主计算机，例如，是控制基板处理设备A整体的计算机。

处理部61执行被存储在存储部62中的程序，控制各种传感器65的检测结果、各种动作执行器64。在各种传感器65中，例如，包含检测升降体144的位置的传感器等。在各种动作执行器64中，例如，包含输送装置10、载体处理装置11、输送装置12及移动装置14的各驱动源、进行保持装置13中的负压吸引的泵、控制阀等。

＜控制例＞

参照图8A～图13B对移载系统1的控制例进行说明。在此，对基板W的移载动作进行说明。具体地讲，对从保持向输送装置10上输入了的基板W的载体5取出基板W，将该基板W向移载目的地移载的例子进行说明。在此例子中，基板W的移载目的地是输送装置12。

图8A表示从处理装置3供给的保持基板W的载体5向输送装置10上的规定位置输入的状态。首先，如该图所示，由移动装置14将保持装置13向载体5的上方移动，并且由转动单元143调节保持装置13的在水平面中的旋转角度。接着，如图8B所示，由移动装置14使保持装置13降下，由保持装置13保持载体5。这时，首先，在保持装置13的降下的过程中罩保持单元130的定位构件1303被插入载置部50的孔50a及罩51的孔51c内进行卡合。由此，进行保持装置13和载体5的水平方向的定位。接着，开始罩保持单元130的吸附部1301的吸引，吸附保持罩51。这时，由罩规定构件1302规定保持位置。由于罩51和载置部50由磁力连结，所以通过吸附保持罩51，包含基板W在内的载体5整体被保持在保持装置13上。

接着，如图9A所示，将保持了载体5的保持装置13由移动装置14向载体处理装置11上移动，并且由转动单元143调节保持装置13的在水平面中的旋转角度。接着，如图9B所示，由移动装置14使保持装置13降下，将载体5载置在定位单元110的载置销1101上。进而，对动作执行器1102进行驱动，使定位构件1103与载置部50抵接，定位地保持载置部50。因为在罩51上形成了切口51a，所以在定位构件1103与载置部50抵接时，罩51和定位构件1103不会干涉。

接着，如图10A所示，对分离单元111的驱动单元1110进行驱动，使销支承工作台1113上升。由此，如图10B所示，销1114从载置部50突出地顶起罩51，使罩51从载置部50向上方分离。即，载置部50和罩51的连结被解除，罩51被摆正在仅离开载置部50规定的距离的位置。因为罩保持单元130由支承部1322相对于支承单元132可位移地支承，所以在罩51被顶起时，罩保持单元130也与罩51一起上升。

接着，开始基板保持单元131的吸附部1311的吸引。因为在罩51上形成了开口部51b，所以经开口部51b，基板W之中没有与罩51重叠的部分被吸附保持在吸附部1311。这时，基板W的位置由基板规定构件1312规定。而且，成为罩51被吸附保持在罩保持单元130上，基板W被吸附保持在基板保持单元131上的状态。另外，在本实施方式中，在解除了罩51和载置部50的连结之后开始了基板W的吸附，但也可以在罩51和载置部50的连结解除前开始基板W的吸附。

接着，如图11A所示，使保持装置13由移动装置14上升。此时，载置部50残留在载体处理装置11上，罩51和基板W与保持装置13一起上升。罩51和基板W都以水平姿势被保持成相互平行。

通过销1114的相对于罩51的顶起，相对于支承单元132向上方位移了的罩保持单元130，仅按照其位移量返回(降下)起始地的位置。

接着，如图11B所示，将保持了罩51和基板W的保持装置13由移动装置14向输送装置12上移动，并且由转动单元143调节保持装置13的在水平面中的旋转角度。接着，如图12所示，将保持装置13降下到输送装置12上。

在输送装置12的上部，如图13A所示，在与基板W不干涉的位置形成了突起部120。当将保持装置13降下到输送装置12上时，此突起部120与罩51抵接，使罩51的降下与基板W相比先停止。即，如果突起部120与罩51的下面抵接，则罩保持单元130变得不能进一步降下。因为罩保持单元130由支承部1322相对于支承单元132可位移地支承，所以如果继续保持装置13的降下，则基板保持单元131与罩保持单元130相比降下，成为基板W从罩51离开的状态。

通过使保持装置13的降下在规定位置停止，并停止吸附部1311的吸引而进行大气开放，基板W的吸附被解除，被载置在输送装置12上。通过以上的动作，基板W的向输送装置12的移载结束。

然后，将罩51重叠在移载起始地的定位单元110上的载置部50上而做成空的载体5，进行将此空的载体5向输送装置10移载的动作。首先，使仅保持了罩51的保持装置13如图13B所示，向载体处理装置11上移动，并且由转动单元143调节保持装置13的在水平面中的旋转角度，向移载起始地的载置部50移动，使罩51和载置部50连结。另外，销支承工作台1113，以与分离动作相反的动作进行动作，使销1114向退避位置移动。

通过将罩51与载置部50重叠，两者由磁力连结。由此，成为没有保持基板W的空的载体5。对动作执行器1102进行驱动而使定位构件1103离开载置部50，解除载置部50的保持。

将保持了空的载体5的保持装置13由移动装置14向输送装置10上移动，并且由转动单元143调节保持装置13的在水平面中的旋转角度。接着，停止罩保持单元130的吸附部1301的吸引而进行大气开放。由此，空的载体5的保持被解除，空的载体5被向输送装置10移载。空的载体5由输送装置10向容纳装置2输出，保持了基板W的新的载体5被从处理装置3向输送装置10输入。

另外，被载置在了输送装置12上的基板W，由输送装置12向处理装置4移送，由处理装置4进行处理。

如上述的那样，在本实施方式中，在从载体处理单元11向输送装置12移载基板W时，由于由保持装置13保持罩51和基板W的双方地输送，所以与分别移动罩51和基板W的方式相比，能减少移载的工序数量，提高基板W的移载效率。罩51和基板W，以各自的面彼此相互平行的姿势相邻地被保持，保持载体5中的这些位置关系不变地被移动。因此，不需要罩51的倒手等，除了基板W的移载效率提高以外，也能提高将罩51返回到载置部50上时的效率。

<第二实施方式>

在第一实施方式中，通过由基板保持单元131的吸附部1311进行的负压吸引，与基板W接触吸附地保持了基板W，但也可以做成由伯努利吸盘方式进行的非接触吸附。

图14是本实施方式的保持装置13的局部分解图，图15A及图15B是基板保持单元133的概要图。保持装置13，具备罩保持单元130、基板保持单元133和对它们进行支承的支承单元132。罩保持单元130和支承单元132的结构与第一实施方式相同。

基板保持单元133是解除自由地保持基板W的单元。基板保持单元133，具备基底构件1330、吸附部1331和限制单元1332。在基底构件1330上，形成了固定支承单元132的支承部1323的安装孔1330a(在本实施方式中图示2个)。另外，基底构件1330，被形成为避免与定位单元110的定位构件1103的干涉。

吸附部1331，设置在基底构件1330的下面的凹部。在本实施方式中，在基板的长度方向空开间隔地设置了3个吸附部。吸附部1331被构成为经设置在基底构件1330的内部的通路与未图示的流体发生源连接，喷出空气。从吸附部1331喷出的空气从基底构件1330的下面和基板W的间隙向外部周围流动，因为吸附部1331和基板W的间隙的气压变得比大气压低，所以以非接触方式吸附基板W。

基板W的吸附是非接触吸附，基板W可向其基板面方向自由移动。因此，对基板W的向基板面方向(在本实施方式中是水平方向)的自由移动进行限制的限制单元1332，在设置在基底构件1330的长度方向的各自的端部的吸附部1331的周边设置了多个。限制单元1332具备从基底构件1330的下面突出的销状的限制部1332a。限制部1332a被设置成可相对于限制单元1332的主体进退。因此，从基底构件1330的下面在Y方向伸缩自由地突出。

多个限制单元1332，以限制部1332a包围基板W的外缘的方式空开间隔地配置，在本实施方式的情况下，配置了6个。详细地讲，在基板W的长度方向的相向的各自的边上各2个地合计配置了4个限制单元1332，及在基板W的短边方向的相向的各自的边上各1个地合计配置了2个限制单元1332，在基板W在基板面方向移动时，由于基板W的外缘与各自的限制部1332a抵接，所以其自由移动被限制。

接着，参照图16A～图18对本实施方式中的基板W的移载动作中的基板保持单元133的动作进行说明。

图16A表示由销1114顶起了罩51的状态，与第一实施方式的图10A的阶段相当。这时，基板保持单元133的限制部1332a处于与载置部50的上面抵接了的状态，基板W的周围由6个限制部1332a包围。另外，基板W和罩51成为离开了的状态。另外，在将保持装置13向定位单元110上降下时，因为限制部1332a是伸缩自由，所以在限制部1332a与载置部50的上面抵接之后，进而，如果降下保持装置13则限制部1332a收缩。

如果从吸附部1331开始空气的喷出，则如图16B所示，基板W离开载置部50，以非接触方式吸附在基底构件1330的下面上。限制部1332a，在以非接触方式吸附时，一边限制基板W的周围一边对从载置部50到非接触吸附保持位置的基板W的移动进行导向。另外，罩51和基板W的相向的面，在重叠的部分中，在接触了的状态下被保持在保持装置13上。接着，由移动装置14使保持装置13上升。罩51和基板W都以水平姿势被保持成相互平行。

接着，如图17A所示，由移动装置14将保持装置13向输送装置12上降下。在移动时，存在基板W在其基板面方向(Z方向)自由移动的情况，但这由限制部1332a限制。

与第一实施方式同样，在将保持装置13向输送装置12上降下时，突起部120与罩51抵接，成为图17B的状态。如果停止吸附部1331的空气的喷出，则基板W的吸附被解除，基板W被载置在输送装置12上。此时，限制部1332a也一边限制基板W的周围一边对基板W的移动进行导向直到被载置到输送装置12上。通过以上的动作，基板W的向输送装置12的移载结束。

然后，如图18所示，与第一实施方式同样将罩51重叠在移载起始地的定位单元110上的载置部50上做成空的载体5，进行将此空的载体5向输送装置10输送的动作。

在本实施方式的情况下，由于与基板保持单元133以非接触方式保持基板W，所以能防止在基板W上产生吸附痕。

另外，在本移载系统1中，在Z方向在不同的位置配置输了送装置10和载体处理装置11，但也可以在由输送装置10进行的输送轨道途中配置载体处理装置11，并在Z方向配置在相同的位置。由此，能连续地进行载体5的输入输出及载置部50和罩51的分离及基板W和罩51的保持。

虽然本发明就具体的实施方式进行了描述，但应该理解本发明不限于所公开的具体的实施方式。本发明的权利要求的范围应该以包含所有的变更及等同的结构和功能的方式与最宽泛的解释一致。

Claims (16)

1.一种移载方法，是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，移载被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板的移载方法，其特征在于，包含：

由保持装置保持上述载置部上的上述基板及上述罩的双方的保持工序；和

通过移动保持上述基板及上述罩的双方的上述保持装置，将上述基板及上述罩从上述载置部分离地向移载目的地移动的移动工序，

在上述保持工序中，

以上述罩和上述基板平行的姿势，由上述保持装置的罩保持单元保持上述罩，由上述保持装置的基板保持单元保持上述基板。

2.如权利要求1记载的移载方法，其特征在于，

在上述保持工序中，

上述罩保持单元吸附上述罩，

上述基板保持单元吸附上述基板，并且由规定构件进行基板的定位。

3.如权利要求1记载的移载方法，其特征在于，

在上述保持工序中，

上述罩保持单元吸附上述罩，

上述基板保持单元对上述基板进行非接触吸附，并且限制被进行了非接触吸附的上述基板的向基板面方向的自由移动。

4.如权利要求1记载的移载方法，其特征在于，

在上述保持工序中，

上述基板保持单元保持上述基板的不与上述罩重叠的部分。

5.如权利要求1记载的移载方法，其特征在于，还包含：

将由上述移动工序向上述移载目的地移动了的上述基板及上述罩之中的上述基板的保持解除，向移载目的地载置上述基板的工序；

使仅保持上述罩的上述保持装置向移载起始地的上述载置部移动的工序；和

将上述罩重叠在移载起始地的上述载置部上面上的工序。

6.如权利要求5记载的移载方法，其特征在于，还包含：

将移载起始地的上述载置部和重叠在上述载置部上的上述罩输出，将新的上述载体输入的输入输出工序。

7.一种保持装置，是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，保持被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板和上述罩的装置，其特征在于，具备：

保持上述罩的罩保持单元；

保持上述基板的基板保持单元；和

对上述罩保持单元及上述基板保持单元进行支承的支承单元，

上述支承单元，

以上述罩保持单元在与上述载体接近或离开的方向可位移的方式支承上述罩保持单元。

8.如权利要求7记载的保持装置，其特征在于，

上述支承单元，具备：

在与上述载体接近或离开的方向浮动支承上述罩保持单元的浮动机构。

9.如权利要求7记载的保持装置，其特征在于，

上述罩保持单元，具备：

吸附上述罩的吸附部；和

与上述罩抵接而规定上述罩的吸附方向的位置的罩规定构件。

10.如权利要求7记载的保持装置，其特征在于，

上述罩保持单元，具备：

吸附上述罩的吸附部；和

与上述载置部卡合而将上述罩保持单元相对于上述载体定位的定位构件。

11.如权利要求7记载的保持装置，其特征在于，

上述基板保持单元，具备：

对上述基板进行非接触吸附的吸附部；和

限制被进行了非接触吸附的上述基板的向基板面方向的自由移动的限制单元。

12.如权利要求11记载的保持装置，其特征在于，

上述支承单元，具备对上述基板保持单元进行支承的支承部，

上述限制单元，具备在与上述基板面方向正交的方向伸缩自由地突出的限制部。

13.一种移载系统，是从具备载置基板的载置部和紧贴地重叠在上述载置部上面上的罩的载体，移载被保持在上述载置部和上述罩之间的上述基板的移载系统，其特征在于，具备：

将上述载体的上述载置部定位而保持的定位单元；

将上述罩从被保持在上述定位单元上的上述载体的上述载置部分离的分离单元；

权利要求7记载的保持装置；和

移动上述保持装置的移动装置。

14.如权利要求13记载的移载系统，其特征在于，

上述分离单元包含抵接构件，该抵接构件在退避位置和工作位置之间升降自由，而且与上述载体的上述罩的下面抵接，该退避位置与被上述定位单元定位的上述载体的上述载置部相比位于下方，该工作位置从上述载置部的上面突出，

上述定位单元具备形成了开口部的基底构件，

该开口部是上述抵接构件可通过的开口部。

15.如权利要求13记载的移载系统，其特征在于，

上述移载系统，还具备：

配置上述移动装置及上述定位单元的基底部；和

设置在该基底部上，输送上述基板的输送装置，

上述移动装置，至少在上述定位单元及上述输送装置之间可移动地支承上述保持装置。

16.如权利要求15记载的移载系统，其特征在于，

上述移动装置，具备：

在上述输送装置及上述定位单元的上方在水平方向延伸设置的导向单元；

对上述导向单元进行支承的支柱；

可沿着上述导向单元移动的水平移动体；和

设置在上述水平移动体上，升降上述保持装置的升降单元。