JP5563318B2 - 基板支持装置、基板処理装置、基板支持方法、基板支持装置の制御プログラム及び記録媒体 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 162
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 57
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 49
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 283
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012905 input function Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67748—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a single workpiece
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67715—Changing the direction of the conveying path
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
支持装置本体に備えられ、上記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ上記支持装置本体から分離させた状態で、上記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
上記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
上記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備え、
上記パレット両端保持機構は、上記パレットの径方向両端部をその板厚方向の両側から把持する機構であって、上記支持装置本体の移動中は、該パレット両端保持機構が上記パレットを上記支持装置本体から分離した状態で保持し、
上記パレット両端保持機構による保持と上記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって上記パレットが上記支持装置本体から分離した状態で保持され、
基板処理時は上記パレット中央保持機構によって上記パレットの中心部を、該パレットが上記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持し、上記パレット両端保持機構による保持は解除されることを特徴とする基板支持装置である。
支持装置本体に備えられ、上記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ上記支持装置本体から分離させた状態で、上記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
上記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
上記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備え、
上記パレット両端保持機構は、上記パレットの径方向両端部に設けられた係合部に、その径方向外方から係合する機構であって、上記支持装置本体の移動中は、該パレット両端保持機構が前記パレットを上記支持装置本体から分離した状態で保持し、
上記パレット両端保持機構による保持と上記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって上記パレットが上記支持装置本体から分離した状態で保持され、
基板処理時は上記パレット中央保持機構によって上記パレットの中心部を、該パレットが上記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持し、上記パレット両端保持機構による保持は解除されることを特徴とする基板支持装置である。
図1から図6を参照して、第1の実施形態のインライン型基板処理装置、基板支持装置、基板支持装置の制御プログラム及び記録媒体について説明する。
まず、図1を参照して、本発明に係るインライン型基板処理装置の概略構成について説明する。図1は、本発明に係るインライン型基板処理装置の概略構成を例示する平面図である。
次に、図2を参照して、上記真空室間を搬送される基板支持装置としてのキャリア1の構造について説明する。図2は、第1の本実施形態の基板支持装置の概略構成を示す正面図及び上面図である。
次に、図3A、図3B及び図3Cを参照して、パレット両端保持機構15の具体的な構造について説明する。図3Aは、第1の実施形態のパレット両端保持機構15の構成を示す概略正面断面図である。図3Bは、第1の実施形態のパレット両端保持機構15の閉状態を示す概略上面断面図である。図3Cは、第1の実施形態のパレット両端保持機構15の開状態を示す概略上面断面図である。
次に、図6(a)から(c)を参照して、本実施形態の基板支持装置1の作用と共に、この装置1を用いて実施する本発明に係る基板支持方法について説明する。図6は、第1の実施形態のパレット保持機構の動作を説明する図である。なお、第1の実施形態の基板支持方法のアルゴリズムは、コントローラ31A0の記憶部31A3に制御プログラムとして記憶されており、動作開始の際にプロセッサ31A4により読み出されて実行される。
次に、図7A、図7B及び図8を参照して、第2の実施形態のインライン型基板処理装置、基板支持装置、基板支持装置の制御プログラム及び記録媒体について説明する。なお、基板支持装置7を備えるインライン型基板処理装置の構成は、第1の実施形態と同様の構成であるので、説明を省略する。また、第1の実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明する。
次に、図7A及び図7Bを参照して、上記真空室間を搬送される基板支持装置としてのキャリア1の構造について説明する。図7Aは、第2の実施形態の基板支持装置を示す正面図である。図7Bは、第2の実施形態のパレット両端保持機構の開状態を示す正面図である。
次に、図8(a)から(c)を参照して、第2の実施形態の基板支持装置1の作用と共に、この装置1を用いて実施する第2の実施形態の基板支持方法について説明する。図8は、パレット保持機構の動作を説明する図である。なお、第2の実施形態の基板支持方法のアルゴリズムは、コントローラの記憶部31A3に制御プログラムとして記憶されており、動作開始の際にプロセッサ31A4により読み出されて実行される(図5参照)。
2 真空チャンバ
3 ゲートバルブ
8 パレット
9 装置本体
11 搬送マグネット(移動機構)
12 基板
13 パレット中央保持機構
15 パレット両端保持機構
23 パレット保持駆動機構
24 クリップ開放機構
25 熱膨張によるパレット面積増加分
26 パレット両端保持機構(アーム機構)
27 アームA
28 アームB
31 ピン(係合部)
32 係合部材
Claims (21)
- 1以上の基板を搭載するパレットと、
支持装置本体に備えられ、前記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ前記支持装置本体から分離させた状態で、前記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
前記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
前記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備え、
前記パレット両端保持機構は、前記パレットの径方向両端部をその板厚方向の両側から把持する機構であって、前記支持装置本体の移動中は、該パレット両端保持機構が前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持し、
前記パレット両端保持機構による保持と前記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって前記パレットが前記支持装置本体から分離した状態で保持され、
基板処理時は前記パレット中央保持機構によって前記パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持し、前記パレット両端保持機構による保持は解除されることを特徴とする基板支持装置。 - 前記パレット中央保持機構は、基板処理中は前記パレットの中心部に移動して該パレットを保持し、前記支持装置本体の移動中は前記パレットの中心部から退避する駆動機構と連結されることを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
- 前記パレット両端保持機構は、前記支持装置本体の両端部に鉛直方向に起立させて配されたアームと、前記アームの先端部に備えられ、前記パレットの水平中心線の延長上で前記パレットの径方向両端部を保持する保持部材と、を有し、前記保持部材は、前記パレットの径方向両端部を該パレットの板厚方向の両側から挟み込んで、該パレットを鉛直方向に起立させて保持するクリップ機構であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板支持装置。
- 前記クリップ機構は、外力を開放することで把持力を発生させる要素にて構成され、外力が付与されない状態ではパレットを保持し、外力を付与することでパレットの保持を開放可能な構造を有することを特徴とする請求項3に記載の基板支持装置。
- 前記クリップ機構は、パレットが加熱されて熱膨張した場合に、パレットの把持位置をずらして、熱膨張によるパレットの面積増加分を許容することを特徴とする請求項3または4に記載の基板支持装置。
- 前記クリップ機構は、これに外力を付与して把持を開放させる開放機構を備えていることを特徴とする請求項3から5のいずれか1項に記載の基板支持装置。
- 基板の搬送方向に沿って複数の真空室が気密接続され、前記基板に対して連続的に真空成膜処理が施されるインライン型基板処理装置において、
請求項1から6のいずれか1項に記載の基板支持装置を備え、
前記基板支持装置によって、前記基板を搭載するパレットは鉛直方向に起立された状態で真空室間を移動するように構成され、前記パレットの両面に対向するように、該パレットの回転中心と同心円状のターゲットを固定する支持部が配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 1以上の基板を搭載するパレットと、
支持装置本体に備えられ、前記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ前記支持装置本体から分離させた状態で、前記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
前記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
前記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備える基板支持装置を用いて実施する基板支持方法であって、
前記支持装置本体の移動中は、前記パレット両端保持機構によって前記パレットの径方向両端部をその板厚方向の両側から把持して前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
前記パレット両端保持機構による保持と前記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
基板処理時は、前記パレット中央保持機構によって前記パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するとともに、前記パレット両端保持機構による保持は解除する手順と、
を有することを特徴とする基板支持方法。 - 1以上の基板を搭載するパレットと、
支持装置本体に備えられ、前記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ前記支持装置本体から分離させた状態で、前記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
前記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
前記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備える基板支持装置のコントローラに、
前記支持装置本体の移動中は、前記パレット両端保持機構によって前記パレットの径方向両端部をその板厚方向の両側から把持して前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
前記パレット両端保持機構による保持と前記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
基板処理時は、前記パレット中央保持機構によって前記パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するとともに、前記パレット両端保持機構による保持を解除する手順と、
を実行させることを特徴とする基板支持装置の制御プログラム。 - 請求項9に記載の制御プログラムを記録したことを特徴とするコンピュータで読み取り可能な記録媒体。
- 1以上の基板を搭載するパレットと、
支持装置本体に備えられ、前記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ前記支持装置本体から分離させた状態で、前記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
前記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
前記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備え、
前記パレット両端保持機構は、前記パレットの径方向両端部に設けられた係合部に、その径方向外方から係合する機構であって、前記支持装置本体の移動中は、該パレット両端保持機構が前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持し、
前記パレット両端保持機構による保持と前記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって前記パレットが前記支持装置本体から分離した状態で保持され、
基板処理時は前記パレット中央保持機構によって前記パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持し、前記パレット両端保持機構による保持は解除されることを特徴とする基板支持装置。 - 前記パレット中央保持機構は、基板処理中は前記パレットの中心部に移動して該パレットを保持し、前記支持装置本体の移動中は前記パレットの中心部から退避する駆動機構と連結されることを特徴とする請求項11に記載の基板支持装置。
- 前記パレット両端保持機構は、基板処理中は前記パレットの径方向両端から退避し、前記支持装置本体の移動中は前記パレットの径方向両端に移動して該パレットを保持する係合部材を有することを特徴とする請求項11または12に記載の基板支持装置。
- 前記係合部材は、前記パレットが加熱されて熱膨張した場合に、前記パレットの係合部の係合位置をずらして、熱膨張による前記パレットの面積増加分を許容することを特徴とする請求項13に記載の基板支持装置。
- 前記パレットの径方向両端部に設けられた係合部はピンもしくは溝であって、
前記係合部材は、前記パレット水平方向中心線の両端に鉛直方向に起立して設けられたアーム機構の一部であり、該アーム機構が前記係合部に係合することを特徴とする請求項13または14に記載の基板支持装置。 - 前記パレット両端保持機構は、前記パレットの径方向両端部に設けられた係合部に、その径方向外方から係合するアーム機構であって、パレット水平方向中心線の両端に、前記支持装置本体から鉛直方向に起立させて配されており、前記アーム機構は、基板処理中は前記パレットの径方向両端の係合部から退避し、前記支持装置本体の移動中は前記パレットの径方向両端に移動して該パレットを保持する係合手段を有していることを特徴とする請求項11または12に記載の基板支持装置。
- 前記アーム機構は、線熱膨張係数の異なる2以上の材料を組み合わせて複合形成されていることを特徴とする請求項15または16に記載の基板支持装置。
- 基板の搬送方向に沿って複数の真空室が気密接続され、前記基板に対して連続的に真空成膜処理が施されるインライン型基板処理装置において、
請求項11から17のいずれか1項に記載の基板支持装置を備え、
前記基板支持装置によって、前記基板を搭載するパレットは鉛直方向に起立された状態で真空室間を移動するように構成され、前記パレットの両面に対向するように、該パレットの回転中心と同心円状のターゲットを固定する支持部が配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 1以上の基板を搭載するパレットと、
支持装置本体に備えられ、前記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ前記支持装置本体から分離させた状態で、前記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
前記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
前記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備える基板支持装置を用いて実施する基板支持方法であって、
前記支持装置本体の移動中は、前記パレット両端保持機構によって前記パレットの径方向両端部に設けられた係合部に、その径方向外方から係合して前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
前記パレット両端保持機構による保持と前記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
基板処理時は、前記パレット中央保持機構によって前記パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するとともに、前記パレット両端保持機構による保持を解除する手順と、
を有することを特徴とする基板支持方法。 - 1以上の基板を搭載するパレットと、
支持装置本体に備えられ、前記パレットを鉛直方向に起立させ、かつ前記支持装置本体から分離させた状態で、前記パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構と、
前記パレットの搭載面の中心部に配され、該パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するためのパレット中央保持機構と、
前記支持装置本体を移動する移動機構と、
を備える基板支持装置のコントローラに、
前記支持装置本体の移動中は、前記パレット両端保持機構によって前記パレットの径方向両端部に設けられた係合部に、その径方向外方から係合して前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
前記パレット両端保持機構による保持と前記パレット中央保持機構による保持との受け渡し時は、双方の保持機構によって前記パレットを前記支持装置本体から分離した状態で保持する手順と、
基板処理時は、前記パレット中央保持機構によって前記パレットの中心部を、該パレットが前記支持装置本体から分離した状態で回転可能に保持するとともに、前記パレット両端保持機構による保持を解除する手順と、
を実行させることを特徴とする基板支持装置の制御プログラム。 - 請求項20に記載の制御プログラムを記録したことを特徴とするコンピュータで読み取り可能な記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010007700A JP5563318B2 (ja) | 2009-03-02 | 2010-01-18 | 基板支持装置、基板処理装置、基板支持方法、基板支持装置の制御プログラム及び記録媒体 |
US12/714,797 US8340811B2 (en) | 2009-03-02 | 2010-03-01 | Substrate supporting apparatus, substrate processing apparatus, substrate supporting method, control program of substrate supporting apparatus, and recording medium |
CN2010101221817A CN101826481B (zh) | 2009-03-02 | 2010-03-02 | 基板支承装置、基板处理装置及基板支承方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009047612 | 2009-03-02 | ||
JP2009047613 | 2009-03-02 | ||
JP2009047613 | 2009-03-02 | ||
JP2009047612 | 2009-03-02 | ||
JP2010007700A JP5563318B2 (ja) | 2009-03-02 | 2010-01-18 | 基板支持装置、基板処理装置、基板支持方法、基板支持装置の制御プログラム及び記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010232633A JP2010232633A (ja) | 2010-10-14 |
JP5563318B2 true JP5563318B2 (ja) | 2014-07-30 |
Family
ID=42667546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010007700A Active JP5563318B2 (ja) | 2009-03-02 | 2010-01-18 | 基板支持装置、基板処理装置、基板支持方法、基板支持装置の制御プログラム及び記録媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8340811B2 (ja) |
JP (1) | JP5563318B2 (ja) |
CN (1) | CN101826481B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5566669B2 (ja) * | 2009-11-19 | 2014-08-06 | 昭和電工株式会社 | インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
CN103207529B (zh) * | 2013-03-22 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 曝光方法及曝光设备 |
JP6383152B2 (ja) * | 2014-01-10 | 2018-08-29 | 平田機工株式会社 | 移載方法、保持装置及び移載システム |
US9947572B2 (en) | 2014-03-26 | 2018-04-17 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
CN106711071B (zh) * | 2015-11-13 | 2020-06-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 装卸手 |
CN111748786A (zh) * | 2015-12-17 | 2020-10-09 | 株式会社爱发科 | 真空处理装置 |
JP6615069B2 (ja) * | 2016-08-29 | 2019-12-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 懸垂型インジェクタの支持構造及びこれを用いた基板処理装置 |
CN109768187B (zh) * | 2017-12-04 | 2021-06-18 | 深圳市柯达科电子科技有限公司 | 一种自动化生产用oled面板制造设备 |
CN109283890B (zh) * | 2018-11-20 | 2023-11-03 | 东莞市义信精密模具科技有限公司 | 数控机床托板热误差自动补偿装置 |
CN112768388A (zh) * | 2021-01-15 | 2021-05-07 | 台州学院 | 一种翻转结构及半导体封装板加工装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02113331U (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-11 | ||
JP3346835B2 (ja) | 1993-06-25 | 2002-11-18 | 松下電工株式会社 | 遠隔監視制御システム |
JPH07316807A (ja) * | 1994-05-27 | 1995-12-05 | Sony Corp | スパッタリング装置 |
JPH0992709A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Sony Corp | ロック機構とロック検出装置を有するインデックス回転装置 |
JPH11284051A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Anelva Corp | 基板搬送トレー |
JP2000100895A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 基板の搬送装置、基板の保持装置、及び基板処理装置 |
JP4614529B2 (ja) * | 2000-12-07 | 2011-01-19 | キヤノンアネルバ株式会社 | インライン式基板処理装置 |
JP4222589B2 (ja) * | 2001-03-26 | 2009-02-12 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置及びそれを用いた基板処理装置 |
JP3732748B2 (ja) * | 2001-04-18 | 2006-01-11 | 株式会社ライク | スパッタ成膜装置 |
KR100956348B1 (ko) * | 2003-09-05 | 2010-05-06 | 삼성전자주식회사 | 인라인 반송 시스템 |
KR100906916B1 (ko) * | 2004-01-29 | 2009-07-08 | 유겐카이샤 나스 기켄 | 기판 검사 장치, 기판 검사 방법, 및 회수 치구 |
JP3972958B2 (ja) * | 2005-11-08 | 2007-09-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光ピックアップ装置 |
WO2007123032A1 (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Ulvac, Inc. | 縦型基板搬送装置および成膜装置 |
-
2010
- 2010-01-18 JP JP2010007700A patent/JP5563318B2/ja active Active
- 2010-03-01 US US12/714,797 patent/US8340811B2/en active Active
- 2010-03-02 CN CN2010101221817A patent/CN101826481B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8340811B2 (en) | 2012-12-25 |
CN101826481B (zh) | 2012-05-23 |
US20100222919A1 (en) | 2010-09-02 |
CN101826481A (zh) | 2010-09-08 |
JP2010232633A (ja) | 2010-10-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140520 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140612 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5563318 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |