CN104321195A - 转印膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置 - Google Patents

转印膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明的转印膜的特征在于：包含临时支撑体与着色层，所述着色层至少包含(A)白色无机颜料及(B)硅酮系树脂。

Description

转印膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置
技术领域
本发明涉及一种用以制造可将手指的接触位置检测为静电电容的变化的静电电容型输入装置的装饰用转印膜、静电电容型输入装置的制造方法及由该制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及包含该静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置。
背景技术
在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来在液晶装置等的表面配置平板型的输入装置，一面参照液晶装置的图像显示区域所显示的指示图像一面用手指或触控笔等触碰显示该指示图像的场所，由此进行与指示图像对应的信息输入。
此种输入装置(触摸屏)存在有电阻膜型、静电电容型等。其中，电阻膜型输入装置是膜与玻璃的2枚结构，是按下膜而使其短路的结构，因此具有动作温度范围狭窄、或随时间变化减弱等缺点。
相对于此，静电电容型输入装置具有仅仅在一枚基板形成透光性导电膜即可的优点。在该静电电容型输入装置中，例如存在有如下类型的装置：在相互交叉的方向上使电极图案延伸，探测手指等接触时电极间的静电电容变化而检测输入位置(例如参照下述专利文献1)。
而且，作为静电电容型输入装置，还存在有如下类型的装置：对透光性导电膜的两端施加同相、同电位的交流电，探测手指接触或近接而形成电容器(capacitor)时所流动的微弱电流，从而检测输入位置。作为此种静电电容型输入装置，揭示有包含如下者的静电电容型输入装置：使多个垫(pad)部分经由连接部分而在第一方向上延伸所形成的多个第一透明电极图案；经由层间绝缘层而与所述第一透明电极图案电绝缘，在与第一方向交叉的方向延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案(例如参照下述专利文献2)。然而，该静电电容型输入装置在所制作的静电电容型输入装置上层叠前面板，因此存在静电电容型输入装置变厚且变重的问题。
另外，揭示了在前面板的非接触侧表面一体地形成有掩模层、读出电路、层间绝缘层的静电电容型触摸屏(例如参照下述专利文献3)。在该专利文献3中，静电电容型触摸屏由于前面板与静电电容型输入装置一体化，因此变得可薄层/轻量化，另外由掩模层遮蔽读出电路，因此装置外观得到改善。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开2007-122326号公报
专利文献2：日本专利第4506785号公报
专利文献3：日本专利特开2009-193587号公报
专利文献4：日本专利特开2011-218561号公报
专利文献5：日本专利特开2008-169237号公报
发明内容
发明要解决的课题
在专利文献3中，仅仅存在可由黑色树脂或其他不透明的涂层材形成掩模层的记载，但可视需要在所述掩模层与前面板之间设置各种色调(黑、白、中间色(pastel color)、金属色泽等)的装饰层，在近年来其中特别是要求提高白色装饰层的亮度与白度。
作为设置该装饰层的方法，现在的主流是利用涂布液体抗蚀剂或网版印刷等的方法。
另一方面，在液晶或有机电激发光(electroluminescence，EL)显示器上具有静电电容型触摸屏的智能手机或平板个人计算机(personal computer，PC)中，开发、发行在前面板(直接用手指接触的面)中使用以康宁(Coming)公司的大猩猩玻璃(gorilla glass)为代表的强化玻璃。
本发明人进行了研究，结果可知若欲在该强化玻璃基板上使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网版印刷墨水而形成白色装饰层，则为了使用遮蔽能力小的液体抗蚀剂或网版印刷墨水而形成白色装饰层，必须分数次进行液体抗蚀剂涂布及网版印刷，从而存在如下问题：由于产生由此而造成的泡、不均，步骤数多而引起收率减少等，成本减低并不容易。另外，在强化玻璃上设置装饰层后存在如下的问题点：若在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行加热，则白度降低。
相对于此，作为耐热性高的白色膜，提出了如下的多层膜，所述多层膜的特征在于：包含至少含有(A)在分子内实质上不含硅的热固性树脂及(B)白色着色剂的白色热固性树脂组合物的层设于聚酰亚胺膜的至少单面(例如参照专利文献4)。然而，其也同样地存在如下的问题点：若在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行高温加热，则白度降低。
同样地，作为耐热性高的膜，提出了如下的白色聚酰亚胺膜，所述白色聚酰亚胺膜可使在使二胺与芳香族四羧酸反应而所得的聚酰胺酸中混合有白色颜料的聚酰亚胺前驱物膜进行酰亚胺化而得(例如参照专利文献5)。然而，其也同样地存在如下的问题点：若在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行高温加热，则白度降低。
如上所述，本发明人进行了研究，结果可知在利用这些文献中所记载的方法形成白色装饰层的情形时，无法获得满足转印后的亮度、白度、网状组织及密接性的所有特性的性能的白色装饰层。而且，可知也难以以高收率获得满足上述特性的白色装饰层。
本发明所欲解决的课题在于提供能够以高收率获得转印后的亮度、白度、网状组织(reticulation)及密接性良好的白色装饰层的转印膜。
除此以外，还提供使用满足上述特性的转印膜、能够以简便的步骤高品质地制造可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置的制造方法、及根据该制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及使用该静电电容型输入装置的图像显示装置。
解决问题的技术手段
本发明人对白色装饰层的白度反复进一步研究，结果发现在形成白色装饰层后，当形成包含氧化铟锡(Indium-Tin Oxide，ITO)等的透明电极图案时变得必需在高温下的加热，但此时白色装饰层的白度的降低明显。因此发现通过使用在着色层中使用有硅酮系树脂的转印膜，能够以高收率获得转印后的亮度、白度、网状组织及密接性良好的白色装饰层，从而完成本发明。
作为用以解决上述课题的具体手段的本发明如下所述。
[1]一种转印膜，其特征在于：包含临时支撑体与着色层，
所述着色层至少包含(A)白色无机颜料及(B)硅酮系树脂。
[2][1]中所记载的转印膜优选的是所述着色层进一步包含(C)抗氧化剂。
[3][1]或[2]中所记载的转印膜优选的是所述硅酮系树脂包含改性硅酮树脂、或在分子内至少含有下述通式(1)所表示的硅氧烷结构的线性硅酮树脂；
通式(1)
[化1]
(通式(1)中，R1独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷氧基、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基、碳数1～20的直链状、分支状或环状的经取代的烷基、碳数2～20的直链状、分支状或环状的烯基、碳数6～20的芳基或碳数7～20的芳烷基)。
[4][3]中所记载的转印膜优选的是所述通式(1)中，R1独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基、碳数1～6的直链状、分支状或环状的经取代的烷基或碳数6～9的芳基。
[5][3]中所记载的转印膜优选的是所述通式(1)中，R1独立地表示氢原子、甲基或甲苯基。
[6][1]～[5]的任一项中所记载的转印膜优选的是所述着色层的厚度为1μm～40μm。
[7][1]～[6]的任一项中所记载的转印膜优选的是所述白色无机颜料相对于所述着色层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。
[8][1]～[7]的任一项中所记载的转印膜优选的是所述白色无机颜料是利用无机物进行了表面处理的金红石型氧化钛。
[9][8]中所记载的转印膜优选的是所述金红石型氧化钛是至少利用氧化铝、氧化锆的任一个进行了表面处理的金红石型氧化钛。
[10][1]～[9]的任一项中所记载的转印膜优选的是在所述临时支撑体与所述着色层之间具有热塑性树脂层。
[11]一种静电电容型输入装置的制造方法，其是包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)及(3)～(5)的要素的静电电容型输入装置的制造方法，且其特征在于包含将[1]～[10]的任一项中所记载的转印膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成所述(1)装饰层的步骤；
(1)装饰层
(3)多个垫(pad)部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案
(4)与所述第一透明电极图案电绝缘，且在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二电极图案
(5)使所述第一透明电极图案与所述第二电极图案电绝缘的绝缘层。
[12][11]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素。
[13][11]或[12]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述第二电极图案是透明电极图案。
[14][11]～[13]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是在0.08atm～1.2atm的环境下将[1]～[10]的任一项中所记载的转印膜的所述着色层加热至180℃～300℃而形成所述(1)装饰层。
[15][14]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是在空气环境下进行所述着色层的加热。
[16][11]～[15]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是包含：在所述转印膜的一部分切出贯通所述着色层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤；将由所述切口围成的区域中的至少一部分区域的所述着色层除去的步骤；使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤。
[17][11]～[16]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是在所述(1)装饰层的与所述前面板侧相反侧的面上进一步设置(2)掩模层。
[18][17]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个设置成跨在所述前面板的非接触面及所述掩模层的与所述前面板侧相反侧的面的双方区域。
[19][17]或[18]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素，并且至少在所述掩模层的与前面板侧相反侧的面侧设置所述(6)其他导电性要素。
[20][11]～[19]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是进一步以覆盖所述(1)及(3)～(5)的要素的全部或一部分的方式设置透明保护层。
[21][20]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是使用依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜形成所述透明保护层。
[22][11]～[21]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素，所述第二电极图案是透明电极图案，使用由依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案，对透明导电材料进行蚀刻处理而形成所述(3)第一透明电极图案、所述(4)第二电极图案及所述(6)导电性要素的至少一个。
[23][11]～[22]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素，所述第二电极图案是透明电极图案，转印依序包含临时支撑体与导电性硬化性树脂层的转印膜的该导电性硬化性树脂层而形成所述(3)第一透明电极图案、所述(4)第二电极图案及所述(6)导电性要素的至少一个。
[24][11]～[23]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是对所述前面板的非接触面进行表面处理，在所述实施了表面处理的所述前面板的非接触面上设置所述转印膜。
[25][24]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是在所述前面板的表面处理中使用硅烷化合物。
[26][11]～[25]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述前面板在至少一部分具有开口部。
[27]一种静电电容型输入装置，其特征在于：利用[11]～[26]的任一项中所记载的静电电容型输入装置的制造方法制造而成。
[28]一种图像显示装置，其特征在于：包含[27]中所记载的静电电容型输入装置作为构成要素。
发明的效果
根据本发明可提供能够以高收率获得转印后的亮度、白度、网状组织及密接性良好的白色装饰层的转印膜。
根据本发明，除此以外，还提供使用满足上述特性的转印膜、能够以简便的步骤高品质地制造可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置的制造方法、及根据该制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及使用该静电电容型输入装置的图像显示装置。
附图说明
图1是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。
图2是表示本发明的前面板的一例的说明图。
图3是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。
图4是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。
图5是表示形成有装饰层、掩模层的前面板的一例的俯视图。
图6是表示形成有第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图7是表示形成有第一及第二透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图8是表示形成有与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板的一例的俯视图。
图9是表示金属纳米线剖面的说明图。
图10是表示为了在前面板的X-X′剖面形成装饰层而使用的转印膜的半切割的方法的说明图。
图11是表示为了在前面板的Y-Y′剖面形成装饰层而使用的转印膜的半切割的方法的说明图。
图12是表示预切性的评价中的半切割的方法的说明图。
图13是表示为了在前面板的X-X′剖面形成装饰层而使用的转印膜的模切的方法的说明图。
图14是表示为了在前面板的Y-Y′剖面形成装饰层而使用的转印膜的模切的方法的说明图。
图15是表示预切性的评价中的模切的方法的说明图。
具体实施方式
以下，对本发明的转印膜、静电电容型输入装置的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置加以说明。
以下所记载的构成要件的说明基于本发明的代表性实施方式而进行，但本发明并不限定于此种实施方式。另外，本申请案说明书中，所谓“～”是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义而使用。
[转印膜]
本发明的转印膜的特征在于：包含临时支撑体与着色层，所述着色层至少包含(A)白色无机颜料及(B)硅酮系树脂。
由于具有此种构成，因此根据本发明的转印膜，能够以高收率获得转印后的亮度、白度、网状组织及密接性良好的白色装饰层。
本发明中的转印膜包含临时支撑体与着色层。而且，在临时支撑体与着色层之间也可具有热塑性树脂层。
<临时支撑体>
临时支撑体可使用具有可挠性，在加压下、或加压及加热下并不产生显著的变形、收缩或延伸的材料。此种支撑体的例子可列举聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中特别优选的是双轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
临时支撑体的厚度并无特别限制，一般是5μm～200μm的范围，就操作容易性、通用性等方面而言，特别优选的是10μm～150μm的范围。
而且，临时支撑体可透明，也可含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
而且，可根据日本专利特开2005-221726号公报中所记载的方法等而对临时支撑体赋予导电性。
<着色层>
(组成)
本发明的转印膜的特征在于：所述着色层至少包含(A)白色无机颜料及(B)硅酮系树脂。
-(A)白色无机颜料-
作为所述着色层中所使用的所述白色无机颜料，可使用日本专利特开2009-191118号公报的段落[0019]或日本专利特开2000-175718号公报的段落[0109]中所记载的白色颜料。
具体而言，在本发明中，所述白色无机颜料优选的是氧化钛(金红石型)、氧化钛(锐钛矿型)、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白碳(white carbon)、氧化铝、氢氧化铝、硫酸钡，更优选的是氧化钛(金红石型)、氧化钛(锐钛矿型)、氧化锌，进一步优选的是氧化钛(金红石型)、氧化钛(锐钛矿型)，进一步更优选的是金红石型氧化钛。
二氧化钛的具体例可列举JR、JRNC、JR-301、403、405、600A、605、600E、603、701、800、805、806、JA-1、C、3、4、5、MT-01、02、03、04、05、100AQ、100SA、100SAK、100SAS、100TV、100Z、100ZR、150W、500B、500H、500SA、500SAK、500SAS、500T、SMT-100SAM、100SAS、500SAM、500SAS(帝国化工(Tayca)公司制造)，CR-50、50-2、57、58、58-2、60、60-2、63、67、80、85、90、90-2、93、95、97、953、Super70、PC-3、PF-690、691、711、736、737、739、740、742、R-550、580、630、670、680、780、780-2、820、830、850、855、930、980、S-305、UT771、TTO-51(A)、51(C)、55(A)、55(B)、55(C)、55(D)、S-1、S-2、S-3、S-4、V-3、V-4、MPT-136、FTL-100、110、200、300(石原产业公司制造)，KA-10、15、20、30、KR-310、380、KV-200、STT-30EHJ、65C-S、455、485SA15、495M、495MC(钛工业公司制造)，TA-100、200、300、400、500、TR-600、700、750、840、900(富士钛工业公司制造)等，这些可单独或混合使用。
在本发明中，所述白色无机颜料(特别是氧化钛)的表面可进行二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、氧化锆处理、有机物处理以及并用这些处理。
由此可抑制所述白色无机颜料(特别是氧化钛)的催化剂活性，可改善耐热性、褪光性等。
自加热后的装饰层的白度的观点考虑，在本发明中所述白色颜料优选的是经无机物进行了表面处理的金红石型氧化钛，更优选的是通过氧化铝处理及氧化锆处理中的至少一个进行了表面处理的金红石型氧化钛，特别优选的是通过并用氧化铝/氧化锆的处理进行了表面处理的金红石型氧化钛。
自形成亮度及白度良好、且同时满足其他要求特性的装饰层的观点考虑，优选的是所述白色无机颜料相对于所述着色层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。而且，在后述的本发明的静电电容型输入装置的制造方法中使用本发明的转印膜时，自充分缩短显影时间的观点考虑，也优选的是所述白色无机颜料相对于所述装饰层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。
所述白色无机颜料相对于所述着色层的总固体成分的含有率更优选的是25质量％～60质量％，进一步更优选的是30质量％～50质量％。
本说明书中所谓的总固体成分是表示自所述着色层除去溶剂等的不挥发成分的总质量。
所述白色无机颜料(另外，关于后述的掩模层中所使用的其他着色剂也同样)理想的是作为分散液而使用。该分散液可通过如下方式而制备：将所述白色无机颜料与颜料分散剂预先混合而所得的组合物添加于后述的有机溶剂(或载体(vehicle))中使其分散。所述载体是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质的部分，包含为液状且与所述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)、对其进行溶解稀释的成分(有机溶剂)。
作为使所述白色无机颜料分散时所使用的分散机，并无特别限制，例如可列举朝仓邦造著的《颜料事典》、第一版、朝仓书店、2000年、第438项中所记载的混炼机、辊磨机、磨碎机、超级研磨机、溶解器、均质混合机、砂磨机等公知的分散机。另外，也可通过该文献第310页中所记载的机械性磨碎，利用摩擦力而进行微粉碎。
作为本发明中所使用的所述白色无机颜料(装饰层形成用着色剂)的白色无机颜料，自分散稳定性及遮蔽能力的观点考虑，优选的是一次粒子的平均粒径为0.16μm～0.3μm者，更优选的是一次粒子的平均粒径为0.18μm～0.27μm者。进一步特别优选的是一次粒子的平均粒径为0.19μm～0.25μm者。若一次粒子的平均粒径为0.16μm，则存在遮蔽能力急剧降低而变得容易看到掩模层的基底，或产生粘度上升的现象。另一方面，若一次粒子的平均粒径超过0.3μm，则白度降低，同时遮蔽能力急剧降低，而且涂布时的面状恶化。
另外，此处所谓的“一次粒子的平均粒径”是指将粒子的电子显微镜相片图像设为同面积的圆时的直径，而且所谓“数量平均粒径”是指对多个粒子求出所述粒径，其100个的平均值。
另一方面，在以分散液、涂布液中的平均粒径进行测定的情形时，可使用激光散射堀场H(HORIBA H)(堀场先进技术股份有限公司制造)。
-(B)硅酮系树脂-
所述硅酮系树脂可使用公知者。
硅酮系树脂可分类为：利用下述硅烷化合物对树脂进行部分改性，赋予多种特性的改性硅酮树脂；使具有烷氧基或硅醇基的硅烷化合物脱水缩合，利用硅酮本来的性质的线性硅酮。本发明的转印膜优选的是所述硅酮系树脂包含改性硅酮树脂、和/或在分子内至少含有下述通式(1)所表示的硅氧烷结构的线性硅酮树脂。
改性硅酮树脂可使用：使硅烷化合物与丙烯酸等丙烯酸系单体反应而成的单体进行聚合或与其他丙烯酸系单体共聚而成的丙烯酸树脂改性硅酮树脂(信越化学工业股份有限公司制造的KR9706)、使硅烷化合物与聚酯的羟基等反应而成的聚酯树脂改性硅酮树脂、使含有环氧基的硅烷化合物与树脂的氨基残基等反应而成的环氧树脂改性硅酮树脂、同样地利用反应性硅烷化合物对醇酸树脂进行改性而成的醇酸树脂改性硅酮树脂、使用肟系引发剂而与树脂直接形成共价键的橡胶系硅酮树脂等。
线性硅酮可使用在分子内至少含有下述通式(1)所表示的硅氧烷结构者。
通式(1)
[化2]
通式(1)中，R1独立为氢原子、卤素原子、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷氧基、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基、碳数1～20的直链状、分支状或环状的经取代的烷基、碳数2～20的直链状、分支状或环状的烯基、碳数6～20的芳基或碳数7～20的芳烷基，R1可相同也可不同。亦即，具有所述通式(1)所表示的硅氧烷结构的线性硅酮可为同一硅氧烷结构的缩合物，也可为不同组合的共缩合物。
R1所表示的卤素原子可列举氟原子、氯原子等。
R1所表示的碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷氧基例如可列举甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、正戊氧基、正己氧基、环戊氧基、环己氧基等。
R1所表示的碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基例如可列举甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、环戊基、环己基等。R1所表示的碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基中优选的是碳数1～3的烷基，更优选的是甲基。
而且，R1所表示的碳数1～20的直链状、分支状或环状的经取代的烷基例如可列举芳基烷基、氟烷基、氯烷基、羟基烷基、(甲基)丙烯酰氧基烷基及巯基烷基。作为这些基的具体例，例如可列举苯基甲基(苄基)、1-苯基乙基、2-苯基乙基、1-苯基-正丙基、2-苯基-2-丙基(异丙苯基)、3-苯基-正丙基、1-苯基丁基、2-苯基丁基、3-苯基丁基、4-苯基丁基、1-苯基戊基、2-苯基戊基、3-苯基戊基、4-苯基戊基、5-苯基戊基、1-苯基己基、2-苯基己基、3-苯基己基、4-苯基己基、5-苯基己基、6-苯基己基、1-苯基环己基、2-苯基环己基、3-苯基环己基、1-苯基庚基、2-苯基庚基、3-苯基庚基、4-苯基庚基、5-苯基庚基、6-苯基庚基、1-苯基辛基、2-苯基辛基、3-苯基辛基、4-苯基辛基、5-苯基辛基、6-苯基辛基、1-萘基乙基、2-萘基乙基、1-萘基-正丙基、2-萘基-2-丙基、3-萘基-正丙基、1-萘基丁基、2-萘基丁基、3-萘基丁基、4-萘基丁基、1-萘基戊基、2-萘基戊基、3-萘基戊基、4-萘基戊基、5-萘基戊基、1-萘基己基、2-萘基己基、3-萘基己基、4-萘基己基、5-萘基己基、6-萘基己基、1-萘基环己基、2-萘基环己基、3-萘基环己基、1-萘基庚基、2-萘基庚基、3-萘基庚基、4-萘基庚基、5-萘基庚基、6-萘基庚基、1-萘基辛基、2-萘基辛基、3-萘基辛基、4-萘基辛基、5-萘基辛基、6-萘基辛基等芳基烷基；氟甲基、三氟甲基、2-氟乙基、(三氟甲基)甲基、五氟乙基、3-氟正丙基、2-(三氟甲基)乙基、(五氟乙基)甲基、七氟正丙基、4-氟正丁基、3-(三氟甲基)-正丙基、2-(五氟乙基)乙基、(七氟正丙基)甲基、九氟正丁基、5-氟正戊基、4-(三氟甲基)-正丁基、3-(五氟乙基)-正丙基、2-(七氟正丙基)乙基、(九氟正丁基)甲基、全氟正戊基、6-氟正己基、5-(三氟甲基)-正戊基、4-(五氟乙基)-正丁基、3-(七氟正丙基)-正丙基、2-(九氟正丁基)乙基、(全氟正戊基)甲基、全氟正己基、7-(三氟甲基)-正庚基、6-(五氟乙基)-正己基、5-(七氟正丙基)-正戊基、4-(九氟正丁基)-正丁基、3-(全氟正戊基)-正丙基、2-(全氟正己基)乙基、(全氟正庚基)甲基、全氟正辛基、9-(三氟甲基)-正壬基、8-(五氟乙基)-正辛基、7-(七氟正丙基)-正庚基、6-(九氟正丁基)-正己基、5-(全氟正戊基)-正戊基、4-(全氟正己基)-正丁基、3-(全氟正庚基)-正丙基、2-(全氟正辛基)乙基、(全氟正壬基)甲基、全氟正癸基、4-氟环戊基、4-氟环己基等氟烷基；以及氯甲基、2-氯乙基、3-氯-正丙基、4-氯-正丁基、3-氯环戊基、4-氯环己基、羟基甲基、2-羟基乙基、3-羟基环戊基、4-羟基环己基、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基、3-巯基丙基等。
而且，R1所表示的碳数2～20的直链状、分支状或环状的烯基例如可列举乙烯基、1-甲基乙烯基、1-丙烯基、烯丙基(2-丙烯基)、2-甲基-2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、3-环戊烯基、3-环己烯基等。R1所表示的碳数1～20的直链状、分支状或环状的经取代的烷基中优选的是芳基烷基，更优选的是异丙苯基。
而且，R1所表示的碳数6～20的芳基例如可列举苯基、邻甲苯基、间甲苯基、对甲苯基、2，3-二甲苯基、2，4-二甲苯基、2，5-二甲苯基、2，6-二甲苯基、3，4-二甲苯基、3，5-二甲苯基、1-萘基等。R1所表示的碳数6～20的芳基中，自加热时难以产生苯的观点考虑，优选的是未经取代的苯基以外者、亦即邻甲苯基、间甲苯基、对甲苯基、2，3-二甲苯基、2，4-二甲苯基、2，5-二甲苯基、2，6-二甲苯基、3，4-二甲苯基、3，5-二甲苯基、1-萘基，更优选的是邻甲苯基、间甲苯基、对甲苯基。
而且，R1所表示的碳数7～20的芳烷基例如可列举苄基、苯乙基等。
所述通式(1)中，R1优选的是独立地为氢原子、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基、碳数1～6的直链状、分支状或环状的经取代的烷基或碳数6～9的芳基(芳基中，自加热时难以产生苯的观点考虑，优选的是未经取代的苯基以外者)，更优选的是表示氢原子、甲基或甲苯基。
自可特别提高装饰层的L值的观点考虑，优选的是所述通式(1)所表示的硅氧烷结构包含甲基作为R1
所述线性硅酮也优选的是R1互不相同的2种以上所述通式(1)所表示的硅氧烷结构的共聚物。在此情形时，可优选地列举R1为烷基的所述通式(1)所表示的硅氧烷结构与R1为氢原子、经取代的烷基或芳基的所述通式(1)所表示的硅氧烷结构的共聚物。共聚比并无特别限制，R1为烷基的所述通式(1)所表示的硅氧烷结构在所有所述通式(1)所表示的硅氧烷结构中优选的是50mol％～100mol％，更优选的是60mol％～100mol％，特别优选的是70mol％～100mol％。
作为本发明的转印膜中所使用的线性硅酮，也可优选地使用在分子内除了所述通式(1)所表示的硅氧烷结构以外，还含有与下述通式(2)所表示的硅氧烷结构共缩合而成的硅氧烷结构者。
通式(2)
[化3]
通式(2)中，R2与可使用与上述通式(1)的R1同样者同义，优选的范围也与R1相同。
线性硅酮的具体例可使用由具有碳数1～20的烷基与烷氧基的硅烷化合物缩合而制备的烷基系线性硅酮(甲基系线性硅酮等)、甲基-苯基等烷基-芳基系线性硅酮、苯基等芳基系线性硅酮、甲基-氢等氢系线性硅酮。
更优选的是甲基系线性硅酮树脂、甲基甲苯基系线性硅酮树脂、甲基苯基系线性硅酮树脂、丙烯酸树脂改性硅酮树脂，自加热时并不产生苯、抑制亮度降低的观点考虑，特别优选的是甲基系线性硅酮树脂、甲基甲苯基系线性硅酮树脂、甲基-氢系线性硅酮树脂、氢-甲苯基系线性硅酮树脂。
这些硅酮系树脂可单独使用也可并用2种以上，通过以任意比率将这些树脂混合而可控制膜物性。
苯的产生可通过气相色谱质谱分析(gas chromatography-massspectrometry，GC-MS)而定量。转印本发明的转印膜或本发明的转印膜的所述着色层而所得的后述的装饰层优选的是作为加热时的分解产物的苯的含量少，更优选的是不含苯。作为所述装饰层的加热时的分解产物的苯的含量优选的是在每100cm2装饰层中为29mg以下，更优选的是19mg以下，特别优选的是9.2mg以下，进一步特别优选的是0.01mg以下。
线性硅酮的重量平均分子量优选的是1000～1000000，更优选的是2000～800000，特别优选的是2500～500000。
作为用以制备改性硅酮树脂及线性硅酮树脂的硅烷化合物，
可分别列举：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三乙酰氧基硅烷、异丙苯基三甲氧基硅烷、甲苯基三甲氧基硅烷、3，3，3-三氟丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三乙氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、β-氰基乙基三乙氧基硅烷、甲基三苯氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基三乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基三甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基三乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基三甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基三乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三丙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三丁氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三苯氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丁基三甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丁基三乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丁基三甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丁基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丁基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丁基三乙氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基三甲氧基硅烷、δ-缩水甘油氧基丁基三乙氧基硅烷、(3，4-环氧环己基)甲基三甲氧基硅烷、(3，4-环氧环己基)甲基三乙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三丙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三丁氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三苯氧基硅烷、γ-(3，4-环氧环己基)丙基三甲氧基硅烷、γ-(3，4-环氧环己基)丙基三乙氧基硅烷、δ-(3，4-环氧环己基)丁基三乙氧基硅烷等三烷氧基、三酰氧基或三苯氧基硅烷类，苯基甲基二甲氧基硅烷、苯基甲基二乙氧基硅烷、二甲基二乙酰氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二甲基二甲氧基硅烷、γ-巯基丙基二乙氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基二甲氧基硅烷、缩水甘油氧基甲基二乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基甲基二甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基乙基二乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基甲基二甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基乙基甲基二乙氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、α-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、β-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二丙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二丁氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二苯氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基乙基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基乙基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基乙基二丙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基乙烯基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基乙烯基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基苯基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基苯基二乙氧基硅烷等烷氧基硅烷或二酰氧基硅烷类，二甲氧基甲基硅烷、三甲氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二乙酰氧基甲基硅烷、二乙氧基甲基硅烷、二乙基甲基硅烷、三乙基硅烷、丁基二甲基硅烷、二甲基苯基硅烷、甲基苯基乙烯基硅烷、二苯基甲基硅烷、三丙基硅烷、三戊基氧基硅烷、三苯基硅烷、三己基硅烷、二乙基硅烷、烯丙基二甲基硅烷、甲基苯基硅烷、二苯基硅烷、苯基硅烷、辛基硅烷、1，4-双(二甲基硅烷基)苯、及1，1，3，3-四甲基二硅氧烷、二甲基甲苯基硅烷、甲基甲苯基乙烯基硅烷、二甲苯基甲基硅烷、三甲苯基硅烷、二甲基苄基硅烷、甲基苄基乙烯基硅烷、二苄基甲基硅烷、三苄基硅烷、二苯基硅烷、2-氯乙基硅烷、双[(对二甲基硅烷基)苯基]醚、1，4-二甲基二硅烷基乙烷、1，3，5-三(二甲基硅烷基)苯、1，3，5-三甲基-1，3，5-三硅烷、聚(甲基亚硅烷基)亚苯基、及聚(甲基亚硅烷基)亚甲基、四氯硅烷、三氯硅烷、三乙氧基硅烷、三正丙氧基硅烷、三异丙氧基硅烷、三正丁氧基硅烷、三第二丁氧基硅烷、氟三氯硅烷、氟三甲氧基硅烷、氟三乙氧基硅烷、氟三正丙氧基硅烷、氟三异丙氧基硅烷、氟三正丁氧基硅烷、氟三第二丁氧基硅烷、甲基三氯硅烷、甲基三正丙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三正丁氧基硅烷、甲基三第二丁氧基硅烷、2-(三氟甲基)乙基三氯硅烷、2-(三氟甲基)乙基三甲氧基硅烷、2-(三氟甲基)乙基三乙氧基硅烷、2-(三氟甲基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(三氟甲基)乙基三异丙氧基硅烷、2-(三氟甲基)乙基三正丁氧基硅烷、2-(三氟甲基)乙基三第二丁氧基硅烷、2-(全氟正己基)乙基三氯硅烷、2-(全氟正己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(全氟正己基)乙基三乙氧基硅烷、2-(全氟正己基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(全氟正己基)乙基三异丙氧基硅烷、2-(全氟正己基)乙基三正丁氧基硅烷、2-(全氟正己基)乙基三第二丁氧基硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三氯硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三甲氧基硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三乙氧基硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三异丙氧基硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三正丁氧基硅烷、2-(全氟正辛基)乙基三第二丁氧基硅烷、羟基甲基三氯硅烷、羟基甲基三甲氧基硅烷、羟基乙基三甲氧基硅烷、羟基甲基三正丙氧基硅烷、羟基甲基三异丙氧基硅烷、羟基甲基三正丁氧基硅烷、羟基甲基三第二丁氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三氯硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三正丁氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三第二丁氧基硅烷、3-巯基丙基三氯硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基三正丙氧基硅烷、3-巯基丙基三异丙氧基硅烷、3-巯基丙基三正丁氧基硅烷、3-巯基丙基三第二丁氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三正丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三正丁氧基硅烷、乙烯基三第二丁氧基硅烷、烯丙基三氯硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基三正丙氧基硅烷、烯丙基三异丙氧基硅烷、烯丙基三正丁氧基硅烷、烯丙基三第二丁氧基硅烷、苯基三氯硅烷、苯基三正丙氧基硅烷、苯基三异丙氧基硅烷、苯基三正丁氧基硅烷、苯基三第二丁氧基硅烷、甲基二氯硅烷、甲基二乙氧基硅烷、甲基二正丙氧基硅烷、甲基二异丙氧基硅烷、甲基二正丁氧基硅烷、甲基二第二丁氧基硅烷、二甲基二氯硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二正丙氧基硅烷、二甲基二异丙氧基硅烷、二甲基二正丁氧基硅烷、二甲基二第二丁氧基硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二氯硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二甲氧基硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二乙氧基硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二正丙氧基硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二异丙氧基硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二正丁氧基硅烷、(甲基)[2-(全氟正辛基)乙基]二第二丁氧基硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二氯硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二甲氧基硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二乙氧基硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二正丙氧基硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二异丙氧基硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二正丁氧基硅烷、(甲基)(γ-缩水甘油氧基丙基)二第二丁氧基硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二氯硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二甲氧基硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二乙氧基硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二正丙氧基硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二异丙氧基硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二正丁氧基硅烷、(甲基)(3-巯基丙基)二第二丁氧基硅烷、(甲基)(乙烯基)二氯硅烷、(甲基)(乙烯基)二甲氧基硅烷、(甲基)(乙烯基)二乙氧基硅烷、(甲基)(乙烯基)二正丙氧基硅烷、(甲基)(乙烯基)二异丙氧基硅烷、(甲基)(乙烯基)二正丁氧基硅烷、(甲基)(乙烯基)二第二丁氧基硅烷、二乙烯基二氯硅烷、二乙烯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二乙氧基硅烷、二乙烯基二正丙氧基硅烷、二乙烯基二异丙氧基硅烷、二乙烯基二正丁氧基硅烷、二乙烯基二第二丁氧基硅烷、二苯基二氯硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、二苯基二正丙氧基硅烷、二苯基二异丙氧基硅烷、二苯基二正丁氧基硅烷、二苯基二第二丁氧基硅烷、氯二甲基硅烷、甲氧基二甲基硅烷、乙氧基二甲基硅烷、氯三甲基硅烷、溴三甲基硅烷、碘三甲基硅烷、甲氧基三甲基硅烷、乙氧基三甲基硅烷、正丙氧基三甲基硅烷、异丙氧基三甲基硅烷、正丁氧基三甲基硅烷、第二丁氧基三甲基硅烷、第三丁氧基三甲基硅烷、(氯)(乙烯基)二甲基硅烷、(甲氧基)(乙烯基)二甲基硅烷、(乙氧基)(乙烯基)二甲基硅烷、(氯)(甲基)二苯基硅烷、(甲氧基)(甲基)二苯基硅烷、(乙氧基)(甲基)二苯基硅烷等。但本发明并不限定于这些具体例。
作为改性硅酮树脂及线性硅酮树脂等所述硅酮系树脂，可使用市售者。商品名例如可列举：
KC-89、KC-89S、X-21-3153、X-21-5841、X-21-5842、X-21-5843、X-21-5844、X-21-5845、X-21-5846、X-21-5847、X-21-5848、X-22-160AS、X-22-170B、X-22-170BX、X-22-170D、X-22-170DX、X-22-176B、X-22-176D、X-22-176DX、X-22-176F、X-40-2308、X-40-2651、X-40-2655A、X-40-2671、X-40-2672、X-40-9220、X-40-9225、X-40-9226、X-40-9227、X-40-9246、X-40-9247、X-40-9250、X-40-9323、X-40-2460M、X-41-1053、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1810、KF6001、KF6002、KF6003、KR212、KR-213、KR-217、KR220L、KR242A、KR271、KR282、KR300、KR311、KR400、KR251、KR255、KR401N、KR500、KR510、KR5206、KR5230、KR5235、KR9218、KR9706、KR165(以上由信越化学工业公司制造)；
玻璃树脂(昭和电工公司)；
SH804、SH805、SH806A、SH840、SR2400、SR2402、SR2405、SR2406、SR2410、SR2411、SR2416、SR2420(以上由东丽道康宁公司制造)；
FZ3711、FZ3722(以上由日本优尼卡(Unicar)公司制造)；
DMS-S12、DMS-S15、DMS-S21、DMS-S27、DMS-S31、DMS-S32、DMS-S33、DMS-S35、DMS-S38、DMS-S42、DMS-S45、DMS-S51、DMS-227、PSD-0332、PDS-1615、PDS-9931、XMS-5025(以上由智索公司制造)；
硅酸甲酯MS51、硅酸甲酯MS56(以上由三菱化学公司制造)；
硅酸乙酯28、硅酸乙酯40、硅酸乙酯48(以上由可尔可特(COLCOAT)公司制造)；
GR100、GR650、GR908、GR950(以上由昭和电工公司制造)等的部分缩合物。但本发明并不限定于这些具体例。
此处，作为本发明的转印膜，所述着色层并不必需利用光硬化性树脂与光聚合引发剂的组合的光硬化，所述着色层可包含光硬化性树脂或光聚合引发剂也可不含。其中，在所述着色层包含后述的抗氧化剂的情形时，自并不由于对光聚合引发剂进行曝光时所生成的自由基而阻碍所述抗氧化剂的功能、充分提高烘烤后的白度的观点考虑，优选的是不含光聚合引发剂。因此，所述(B)硅酮系树脂优选的是热固性。
-(C)抗氧化剂-
作为本发明的转印膜，自关于由本发明的转印膜转印所述着色层时所得的装饰层，提高烘烤后的白度的观点考虑，优选的是所述着色层包含抗氧化剂。此处，在静电电容型输入装置形成ITO等的透明电极图案的情形时，变得必须在高温下进行烘烤，但通过添加抗氧化剂可提高烘烤后的白度。
所述抗氧化剂可使用公知的抗氧化剂。例如可使用受阻酚系、半受阻酚系、磷酸系、在分子内具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化剂。
优选的是磷酸系、磷酸系与受阻酚系或半受阻酚系的并用、或在分子内具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化剂。
所述抗氧化剂也可使用市售的抗氧化剂。例如，磷酸系抗氧化剂可列举易璐佛斯(IRGAFOS)168、易璐佛斯(IRGAFOS)38(均由巴斯夫(BASF)日本公司制造)，磷酸/受阻酚系抗氧化剂可列举易璐莫得(IRGAMOD)295(巴斯夫日本公司制造)，在分子内具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化剂可列举苏米来泽(Sumilizer)GP(住友化学股份有限公司制造)。
作为所述抗氧化剂，自防止白度降低的观点考虑，更优选的是磷酸系抗氧化剂，特别优选的是易璐佛斯(IRGAFOS)168。
所述抗氧化剂相对于所述着色层的总固体成分的添加量并无特别限制，优选的是0.001质量％～10质量％，更优选的是0.01质量％～1质量％，特别优选的是0.05质量％～0.2质量％。
-溶剂-
而且，作为通过涂布而制造本发明的转印膜的所述着色层时的溶剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0043]～段落[0044]中所记载的溶剂。
-催化剂-
作为本发明的转印膜，自对包含所述硅酮系树脂的所述着色层进行硬化而改善脆性的观点考虑，优选的是所述着色层包含催化剂。特别是在使用2种以上硅酮系树脂的情形时，因可促进由于脱水、脱醇化缩合反应而造成的交联故而优选地使用。
所述催化剂可使用公知的催化剂。
优选的催化剂可列举如金属成分是选自由锡(Sn)、锌(Zn)、铁(Fe)、钛(Ti)、锆(Zr)、铋(Bi)、铪(Hf)、钇(Y)、铝(Al)、硼(B)及镓(Ga)所构成的群组的至少一种金属的有机络合物或有机酸盐这样的有机金属化合物催化剂。
这些中，自反应活性高的方面考虑，优选的是Sn、Ti、Zn、Zr、Hf、Ga，自防止烘烤时的裂开破损的观点考虑，更优选的是Zn或Ti，自提高贮存期的观点考虑，特别优选的是Zn。
作为含有锌(Zn)的有机金属化合物催化剂，可列举三乙酰丙酮锌、硬脂酸锌、双(乙酰丙酮)锌(II)(单水合物)等。
作为含有锡(Sn)、钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)、镓(Ga)的有机金属化合物催化剂的例子，例如可优选地使用日本专利特开2012-238636号公报中所记载的催化剂。
所述催化剂也可使用市售的催化剂。例如可列举锌系缩合催化剂D-15(信越化学工业股份有限公司制造)等。
在本发明中，所述催化剂可单独使用1种，而且也可将2种以上以任意的组合及比率使用。而且也可与反应促进剂或反応抑制剂并用。
作为所述催化剂的含量，自防止烘烤时的裂开破损及提高贮存期的观点考虑，优选的是相对于所述硅酮系树脂而言为0.01质量％～10质量％，更优选的是0.03质量％～5.0质量％。
-添加剂-
另外，在所述着色层中也可使用其他添加剂。所述添加剂例如可列举日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]～段落[0071]中所记载的界面活性剂、或者日本专利第4502784号公报的段落[0018]中所记载的热聚合抑制剂、以及日本专利特开2000-310706号公报的段落[0058]～段落[0071]中所记载的其他添加剂。
以上，以本发明的转印膜为非感光性材料的情形为中心加以说明，但所述转印膜也可视需要为负型材料或正型材料。
(厚度)
自为了提高将本发明的转印膜用作静电电容型输入装置的装饰层时的装饰层的遮蔽能力的观点考虑，优选的是所述着色层的厚度为1μm～40μm。
所述着色层的厚度更优选的是1.5μm～38μm，特别优选的是1.8μm～35μm。
(着色层的粘度)
优选的是着色层在100℃下测定的粘度处于2000Pa·sec～50000Pa·sec的区域，进而满足下式(A)。
式(A)：热塑性树脂层的粘度＜着色层的粘度
此处，各层的粘度可如下所述地测定。通过大气压及减压干燥，自热塑性树脂层或装饰层用涂布液中除去溶剂而制成测定样品，例如使用维布隆(Vibron)(DD-III型；东洋鲍德温股份有限公司制造)作为测定器，在测定开始温度为50℃、测定结束温度为150℃、升温速度为5℃/min及频率1Hz/deg的条件下进行测定，可使用100℃的测定值。
<热塑性树脂层>
本发明的转印膜优选的是在所述临时支撑体与所述着色层之间设置热塑性树脂层。所述热塑性树脂层优选的是碱可溶性。热塑性树脂层是以可吸收基底表面的凹凸(也包含已形成的图像等的凹凸等)的方式承担作为缓冲材的作用者，优选的是具有可根据对象面的凹凸而变形的性质。
热塑性树脂层优选的是包含日本专利特开平5-72724号公报中所记载的有机高分子物质作为成分的形态，特别优选的是包含选自维卡(Vicat)法[具体而言是美国材料试验法材料协会ASTMD1235的聚合物软化点测定法]的软化点为约80℃以下的有机高分子物质的至少一种的形态。
具体而言，可列举聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其碱化物等的乙烯共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其碱化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯与乙酸乙烯酯或其碱化物等的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯或其碱化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯或其碱化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物、尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂、聚酯等有机高分子。
而且，优选的是在热塑性树脂层中添加用以控制剥离性的发泡剂等，可适宜使用日本专利特开2007-225939号公报的段落[0020]～段落[0028]中所记载者。
也优选的是在热塑性树脂层中添加界面活性剂，例如可适宜使用日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]～段落[0071]中所记载者。
热塑性树脂层的层厚优选的是3μm～30μm。在热塑性树脂层的层厚为3μm以上的情形时，层叠时的追随性充分，容易完全吸收基底表面的凹凸。而且，在层厚为30μm以下的情形时，难以对在临时支撑体上形成热塑性树脂层时的干燥(溶剂除去)带来负荷，热塑性树脂层的显影并不过于需要时间，工艺适合性变良好。所述热塑性树脂层的层厚更优选的是4μm～25μm，特别优选的是5μm～20μm。
热塑性树脂层可涂布包含热塑性有机高分子的制备液等而形成，涂布等时所使用的制备液可使用溶剂而制备。溶剂若为可溶解构成该层的高分子成分者，则并无特别限制，例如可列举甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。
优选的是所述热塑性树脂层在100℃下测定的粘度处于1000Pa·sec～10000Pa·sec的区域。
<其他层>
在本发明中所使用的转印膜中，可在装饰层与热塑性树脂层之间设置中间层、或者在装饰层的表面进一步设置保护膜等而适宜地构成。
在本发明中所使用的转印膜中，优选的是以防止涂布多层时及涂布后的保存时成分的混合为目的而设置中间层。作为中间层，优选的是在日本专利特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的具有氧阻挡功能的阻氧膜，曝光时的感度提高，可减低曝光机的时间负荷，生产性提高。
作为所述中间层及保护膜，可适宜使用日本专利特开2006-259138号公报的段落[0083]～段落[0087]及段落[0093]中所记载者。
<转印膜的制作方法>
本发明的转印膜可基于日本专利特开2006-259138号公报的段落[0094]～段落[0098]中所记载的感光性转印材料的制作方法而制作。
具体而言，在形成具有中间层的本发明的转印膜的情形时，可通过如下方式而适宜地制作：在临时支撑体上涂布溶解有热塑性有机高分子以及添加剂的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)，使其干燥而设置热塑性树脂层后，在该热塑性树脂层上涂布在并不溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液(中间层用涂布液)，使其干燥而层叠中间层，在该中间层上进一步涂布使用并不溶解中间层的溶剂而制备的着色层用涂布液，使其干燥而层叠着色层。
[静电电容型输入装置的制造方法]
本发明的静电电容型输入装置的制造方法(以下也称为本发明的制造方法)是包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)及(3)～(5)的要素的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于包含将本发明的转印膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成所述(1)装饰层的步骤。
(1)装饰层
(3)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案
(4)与所述第一透明电极图案电绝缘，在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二电极图案
(5)使所述第一透明电极图案与所述第二电极图案电绝缘的绝缘层
另外，本发明的静电电容型输入装置还可进一步包含下述(6)。
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素
而且，本发明的静电电容型输入装置中，第二电极图案也可为透明电极图案。另外，在本说明书中，代替第二电极图案而对第二透明电极图案加以说明，第二电极图案的优选实施方式也与第二透明电极图案的优选实施方式相同。
另外，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选的是在所述前面板的非接触侧的所述(1)装饰层的与前面板相反侧的面上进一步设置(2)掩模层。
<静电电容型输入装置的构成>
首先，对根据本发明的制造方法而形成的静电电容型输入装置的构成加以说明。图1是表示本发明的静电电容型输入装置中优选的构成的剖面图。在图1中，静电电容型输入装置10包含：前面板1、装饰层2a、掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、透明保护层7。
前面板1由玻璃基板等透光性基板构成，可使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃等。而且，在图1中，将前面层1的设有各要素的侧称为非接触面1a。在本发明的静电电容型输入装置10中，用手指等对前面板1的接触面(1a非接触面的相反面)进行接触等而进行输入。以下，有时将前面板称为“基材”。
而且，在前面板1的非接触面上，经由装饰层2a而设有掩模层2b。掩模层2b是在触摸屏前面板的非接触侧所形成的显示区域周围的边框状图案，是为了使引出配线等看不见而形成。
装饰层2a是以装饰为目的而形成于掩模层2b上、亦即触摸屏前面板的非接触侧与掩模层2b之间。
在本发明的静电电容型输入装置10中，优选的是如图2所示那样，以覆盖前面板1的部分区域(在图2中为输入面以外的区域)的方式设置装饰层2a、掩模层2b。另外，在前面板1上，可如图2所示那样在所述前面板的一部分设置开口部8。在开口部8可设置利用按压的机械开关。用作基材的强化玻璃的强度高、难以加工，因此为了形成所述开口部8，一般情况下是在强化处理前形成开口部8，然后进行强化处理。然而，在具有该开口部8的强化处理后的基板上，若欲使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网版印刷墨水而形成装饰层2a，则产生如下的问题：产生抗蚀剂成分自开口部漏出、或者在必须将遮光图案形成至前面板的最边界且设于掩模层与前面板之间的装饰层中抗蚀剂成分自玻璃端渗出，从而污染基板背面侧，但在具有开口部8的基材上使用本发明的转印膜而形成装饰层2a的情形时，也可解决此种问题。
在前面板1的非接触面形成有：多个垫部分经由连接部分在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案3，与第一透明电极图案3电绝缘、在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案4，使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘的绝缘层5。所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述的导电性要素6例如可利用氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)或氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)等透光性导电性金属氧化膜而制作。此种金属膜可列举：ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金属膜；SiO2等的金属氧化膜等。此时，各要素的膜厚可设为10nm～200nm。而且，由于煅烧而使非晶体的ITO膜成为多晶的ITO膜，因此可减低电阻率。而且，所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述的导电性要素6也可使用后述的具有使用有导电性纤维的导电性硬化性树脂层的转印膜而制造。另外，在利用ITO等形成第一透明电极图案等的情形时，可参考日本专利第4506785号公报的段落[0014]～段落[0016]等。
而且，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个可设置成跨在前面板1的非接触面及掩模层2的与前面板1相反侧的面的双方区域。在图1中表示将第二透明电极图案设置成跨在前面板1的非接触面及掩模层2的与前面板1相反侧的面的双方区域的图。这样，即使在将转印膜层叠成跨在必需一定厚度的掩模层与前面板背面的情形，通过使用具有本发明的特定的层构成的转印膜，即使不使用真空层叠机等昂贵的设备，也可通过简单的步骤而在掩模部分边界不会产生泡地进行层叠。
使用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4加以说明。图3是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示那样，第一透明电极图案3是垫部分3a经由连接部分3b在第一方向上延伸而形成的。而且，第二透明电极图案4是通过绝缘层5而与第一透明电极图案3电绝缘，由与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向)上延伸而形成的多个垫部分而构成。此处，在形成第一透明电极图案3的情形时，可使所述垫部分3a与连接部分3b成为一体地制作，也可仅仅制作连接部分3b，使垫部分3a与第二透明电极图案4成为一体而制作(图案化)。在使垫部分3a与第二透明电极图案4成为一体而制作(图案化)的情形时，如图3所示那样将连接部分3b的一部分与垫部分3a的一部分连结，且以由绝缘层5使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘的方式形成各层。
在图1中，在掩模层2的与前面板1相反侧的面侧设置有导电性要素6。导电性要素6是与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个电性连接、且与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的要素。在图1中表示导电性要素6与第二透明电极图案4连接的图。
而且，在图1中，以覆盖各构成要素的全部的方式设置透明保护层7。也可以仅覆盖各构成要素的一部分的方式构成透明保护层7。绝缘层5与透明保护层7可为相同的材料，也可为不同的材料。构成绝缘层5与透明保护层7的材料优选的是表面硬度、耐热性高的材料，可使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。
以下，关于本发明的制造方法，对各层的详细加以说明。
作为本发明的制造方法的过程中所形成的形态例，可列举图4～图8的形态。图4是表示形成有开口部8的强化处理玻璃11的一例的俯视图。图5是表示形成有装饰层2a、掩模层2b的前面板的一例的俯视图。图6是表示形成有第一透明电极图案3的前面板的一例的俯视图。图7表示形成有第一透明电极图案3与第二透明电极图案4的前面板的一例的俯视图。图8是表示形成有与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素6的前面板的一例的俯视图。这些表示将上述说明具体化的例子，本发明的范围并不由于这些图式而限定性地解释。
<(1)装饰层>
本发明的制造方法的特征在于使用本发明的转印膜而至少形成所述(1)装饰层。
在图2的构成的具有开口部8的静电电容型输入装置中，若使用本发明的转印膜或后述的包含光硬化性树脂层的转印膜形成图1中所记载的所述装饰层2a或后述的掩模层等，则即使是具有开口部的基板(前面板)抗蚀剂成分也不会自开口部分漏出，特别是在必须将遮光图案形成至前面板的最边界的装饰层或掩模层中抗蚀剂成分并不自玻璃端渗出，因此并不污染基板背面侧，变得能够以简略的步骤制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。
对使用本发明的转印膜而形成所述装饰层的方法加以说明。一般在使用转印膜的情形时，若着色层包含光硬化性树脂，则可根据通常的光刻的方法而形成。此处，作为本发明的转印膜，着色层可包含光硬化性树脂也可不含光硬化性树脂，即使在任意的情形时，也可通过利用以下的半切割(half cut)的转印方法或利用模切的转印方法而使用本发明的转印膜形成装饰层。
在利用半切割的转印方法中，首先如图10～图12所示那样用剃刀等预切装饰层的图像部32与非图像部31的边界后，利用胶带将非图像部31的保护膜、装饰层及中间层除去，进一步同样地除去图像部32的保护膜，在基板上转印装饰层图案。
另一方面，在利用模切的转印方法中，首先如图13～图15所示那样用剃刀等以贯通全层的方式预切装饰层的图像部32与非图像部31的边界后，利用胶带除去将所述一部分区域的所述着色层(非图像部31)除去后所残存的图像部32的保护膜，在基板上转印装饰层图案。
继而，通过显影将热塑性树脂层与中间层除去，由此可形成装饰层图案。
也可视需要组合毛刷或高压喷射机等公知的显影设备。在显影后，也可视需要进行后曝光、后烘烤，优选的是进行后烘烤。
而且，为了提高其后的转印步骤中的利用层叠的装饰层的密接性，可预先对基材(前面板)的非接触面实施表面处理。作为所述表面处理，优选的是实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷偶合处理)。作为硅烷偶合剂，优选的是具有与感光性树脂相互作用的官能基。例如通过喷淋来吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名为KBM603、信越化学股份有限公司制造)20秒，进行纯水喷淋清洗。其后，通过加热使其反应。也可使用加热槽，即使是层叠机的基板预热也可促进反应。
关于使用本发明中的转印膜形成永久材的情形，以形成装饰层的方法为例，对使用本发明的转印膜的图案化方法加以说明。
优选的是形成所述装饰层的方法包含：半切割步骤，亦即在所述转印膜的一部分切出贯通所述着色层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤；将由所述切口围成的区域中的至少一部分区域的所述着色层除去的步骤；使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤。
而且，也优选的是形成所述装饰层的方法包含：模切步骤，亦即在所述转印膜的一部分切出自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的步骤；使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤。
也将在所述转印膜的一部分切出贯通所述着色层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤或切出自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的步骤，称为预先预切着色层中所转印的图像部的步骤。另外，也将此种切出贯通所述着色层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的切割称为半切割。也将切出自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的切割称为模切。
将由所述切口围成的区域中的至少一部分区域的所述着色层除去的步骤也可称为除去不转印的非图像部的着色层的步骤。
另外，在本发明的转印膜包含保护膜或中间层或热塑性树脂层的情形时，将由所述切口围成的区域中的至少一部分区域的所述着色层除去的步骤优选的是将非图像部的保护膜及着色层、以及图像部的保护膜除去的步骤。
使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤也可称为将所述图像部的着色层转印至基材上的转印步骤。
另外，在本发明的转印膜包含保护膜或中间层或热塑性树脂层的情形时，使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤优选的是将除去了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的着色层转印于基材上的转印步骤。
在此情形时，使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤更优选的是包含将在基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤。
在此情形时，使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤更优选的是包含将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。
本发明的制造方法更优选的是包含如下步骤的方法：预先预切本发明的转印膜的着色层中所转印的图像部的步骤；将非图像部的保护膜及着色层、以及图像部的保护膜除去的步骤；将除去了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的着色层转印于基材上的转印步骤；将基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤；将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。
另一方面，在所述着色层包含光硬化性树脂层的情形时形成所述装饰层的方法可列举包含如下步骤的方法：自所述转印膜上除去所述保护膜的保护膜除去步骤；将除去了所述保护膜的所述感光性转印材料的所述光硬化性树脂层转印于基材上的转印步骤。在此情形时，优选的是在所述转印步骤后进而包含对所转印的光硬化性树脂层进行后曝光的步骤。
(预切步骤)
本发明的制造方法在并不利用通常的光刻方式形成图像的情形时，必须在转印以前在着色层形成图像部。
预切的种类存在有：在所述转印膜的一部分切出贯通所述着色层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤(半切割步骤)、切出自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的步骤(模切步骤)。
(i)半切割步骤
首先，以下对半切割步骤加以说明。
所述切出切口的方法并无特别限制，可通过刀、激光等任意方法而切出切口，优选的是通过刀切出切口。而且，刀的结构并无特别限定。
所述转印膜例如依序层叠临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜而构成时，例如可使用刀或激光，自保护膜之上切出贯穿保护膜、着色层、中间层，直至热塑性树脂层的一部分的切口，由此可将进行转印的图像部与不进行转印的非图像部之间分离。
-将非图像部的着色层除去的步骤-
将通过半切割而预切的着色层的图像部选择性地转印至基板上时变得必须努力并不转印非图像部。一种方法是在转印前将非图像部的着色层除去的方法，是在除去保护膜后，将非图像部的着色层与中间层同时剥离的方法。另一种是剥去非图像部上的保护膜，继而将着色层与中间层同时剥离，进一步剥去图像部上的保护膜的方法。自直至转印之前保护着色层的图像部的观点考虑，优选的是后者的方法。
(ii)模切步骤)
其次，以下对在所述转印膜的一部分切出自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的步骤(模切步骤)加以说明。
所述切出切口的方法与半切割同样地并无特别限制，可通过刀、激光等任意方法切出切口，优选的是通过刀切出切口。而且，刀的结构并无特别限定。
作为所述转印膜，例如当依序层叠临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜而构成时，例如可使用刀或激光，自保护膜之上切出贯穿保护膜、着色层、中间层、热塑性树脂层、所述临时支撑体的切口，由此可将进行转印的图像部与不进行转印的非图像部之间分离。
(转印步骤)
所述转印步骤是将除去了所述保护膜的所述转印膜的所述着色层转印至基材上的步骤。
此时，优选的是通过如下方式而进行的方法：在将所述转印膜的着色层层叠于基材上之后，将临时支撑体除去。
着色层在基材表面的转印(贴合)可将着色层重叠于基材表面上，进行加压、加热来进行。在贴合中可使用层叠机、真空层叠机、及能够进一步提高生产性的自动切割层叠机等公知层叠机。
(将热塑性树脂层除去的步骤、将中间层除去的步骤)
将所述热塑性树脂层与中间层除去的步骤一般可使用在光刻方式中所使用的碱性显影液而进行。作为所述碱性显影液，并无特别制约，可使用日本专利特开平5-72724号公报中所记载者等公知的显影液。另外，显影液优选的是进行装饰层溶解型的显影举动者，例如优选的是以0.05mol/L～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物者，也可进一步添加少量与水具有混和性的有机溶剂。与水具有混和性的有机溶剂可列举甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。该有机溶剂的浓度优选的是0.1质量％～30质量％。
而且，在所述碱性显影液中可进一步添加公知的界面活性剂。界面活性剂的浓度优选的是0.01质量％～10质量％。
作为将所述热塑性树脂层与中间层除去的步骤的方式，可为覆液、喷淋、喷淋&旋涂、浸渍等的任意方法。此处对所述喷淋加以说明，可通过喷淋而吹附显影液，由此将热塑性树脂层或中间层除去。而且，优选的是在显影后，通过喷淋而吹附清洗剂等，一面利用毛刷等擦拭，一面将残渣除去。液体温度优选的是20℃～40℃，而且其pH优选的是8～13。
(后烘烤步骤)
优选的是在所述转印步骤后包含后烘烤步骤，更优选的是包含在将所述热塑性树脂层与中间层除去的步骤后进行后烘烤的步骤。
作为本发明的制造方法，自兼顾白度与生产性的观点考虑，优选的是将本发明的转印膜的所述着色层在0.08atm～1.2atm的环境下加热至180℃～300℃而形成所述(1)装饰层。
更优选的是在0.5atm以上的环境下进行所述后烘烤的加热。另一方面，更优选的是在1.1atm以下的环境下进行，特别优选的是在1.0atm以下的环境下进行。另外，自能够不使用特别的减压装置而减低制造成本的观点考虑，进一步特别优选的是在约1atm(大气压)环境下进行。此处，现在通过加热进行硬化而形成所述(1)装饰层的情形时，在压力非常低的减压环境下进行，通过使氧浓度变低而维持烘烤后的白度，但通过使用本发明的转印膜，即使以上述压力的范围进行烘烤后，也可提高装饰层的白度。
所述后烘烤的温度更优选的是200℃～280℃，特别优选的是220℃～260℃。
所述后烘烤的时间更优选的是20分钟～150分钟，特别优选的是30分钟～100分钟。
所述后烘烤可在空气环境下也可在氮气置换环境下进行，自能够不使用特别的减压装置而减低制造成本的观点考虑，特别优选的是在空气环境下进行。
(其他步骤)
本发明的制造方法也可包含后曝光步骤等其他步骤。
在所述着色层包含光硬化性树脂层的情形时，在形成所述装饰层时，优选的是包含后曝光步骤。作为所述后曝光步骤，可仅仅自所述着色层的与所述基材相接之侧的表面方向进行，也可仅仅自并不与所述透明基材相接之侧的表面方向进行，也可自两个面方向进行。
另外，作为将所述热塑性树脂层与中间层除去的步骤、及其他步骤的例子，也可在本发明中适宜地使用日本专利特开2006-23696号公报的段落编号[0035]～段落编号[0051]中所记载的方法。
<(2)掩模层>
在本发明的制造方法中，优选的是使用依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜而形成掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、视需要的透明保护层7的至少一个要素，具体而言优选的是包含转印所述转印膜的所述硬化性树脂层而形成掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、视需要的透明保护层7的至少一个要素的步骤。此处，作为所述依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜，优选的是本发明的转印膜或在临时支撑体上层叠有光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜。另外，所述依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜更优选的是在所述临时支撑体与硬化性树脂层之间包含上述热塑性树脂层作为本发明的转印膜所含的层。另外，所谓所述依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜中的“硬化性树脂层”是指本发明的转印膜中的“着色层”或者包含光硬化性树脂层的转印膜中的“光硬化性树脂层”。
更优选的是使用包含光硬化性树脂层的转印膜而形成掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、视需要的透明保护层7的至少一个要素，特别优选的是使用依序包含临时支撑体与热塑性树脂层与光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜而形成。
例如，在形成黑色的掩模层2的情形时，可通过使用包含黑色装饰层作为所述装饰层的本发明的转印膜、或包含黑色光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜，在所述前面板1的表面转印所述黑色装饰层而形成。
另外，在必需遮光性的掩模层2b的形成中，使用具有在光硬化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层构成的转印膜，由此可防止层叠转印膜时产生气泡，形成并无漏光的高品质的掩模层2b等。
在将本发明的转印膜的着色层、或所述包含光硬化性树脂层的转印膜的所述光硬化性树脂层用作掩模层的情形时，可在本发明的转印膜的着色层或所述包含光硬化性树脂层的光硬化性树脂层中使用着色剂。作为本发明中所使用的着色剂，可适宜地使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。另外，在本发明中，可使用白、黑、红、蓝、绿色等颜料的混合物等。
特别是在将所述掩模层用作黑色的掩模层的情形时，自光密度的观点考虑，优选的是使用黑色着色剂。黑色着色剂例如可列举碳黑、钛碳、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中优选的是碳黑。
为了用作其他颜色的掩模层，也可将日本专利第4546276号公报的段落[0183]～段落[0185]等中所记载的颜料、或染料混合而用。具体而言可适宜地使用日本专利特开2005-17716号公报的段落编号[0038]～段落编号[0054]中所记载的颜料及染料、日本专利特开2004-361447号公报的段落编号[0068]～段落编号[0072]中所记载的颜料、日本专利特开2005-17521号公报的段落编号[0080]～段落编号[0088]中所记载的着色剂等。
作为本发明中所使用的装饰层以外中所使用的着色剂，自分散稳定性的观点考虑，优选的是数量平均粒径为0.001μm～0.1μm，更优选的是0.01μm～0.08μm。另外，此处所谓的“粒径”是指将粒子的电子显微镜相片图像设为同面积的圆时的直径，而且所谓“数量平均粒径”是指对多个粒子求出所述粒径，其100个的平均值。
所述包含光硬化性树脂层的转印膜除了所述光硬化性树脂层、所述临时支撑体以及所述热塑性树脂层之外，也可包含保护膜或中间层。作为各层的优选构成与层叠顺序，除了在本发明的转印膜中使用光硬化性树脂层代替着色层以外，其他相同。
所述包含光硬化性树脂层的转印膜的光硬化性树脂层优选的是以下的构成。
作为所述光硬化性树脂层中所使用的所述单体，只要不违反本发明的宗旨则并无特别限制，可使用公知的聚合性化合物。
所述聚合性化合物可使用日本专利第4098550号的段落[0023]～段落[0024]中所记载的聚合性化合物。
作为所述光硬化性树脂层中所使用的所述所述粘合剂，只要不违反本发明的宗旨则并无特别限制，可使用公知的聚合性化合物。
在包含光硬化性树脂层的转印膜为负型材料的情形时，优选的是在光硬化性树脂层中包含碱可溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发系统(Polymerization Initiation system)。另外可使用着色剂、添加剂等，但并不限定于此。
作为所述包含光硬化性树脂层的光硬化性树脂层中所含的碱可溶性树脂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0025]、日本专利特开2010-237589号公报的段落[0033]～段落[0052]中所记载的聚合物。
在包含光硬化性树脂层的转印膜为正型材料的情形时，在光硬化性树脂层中使用例如日本专利特开2005-221726中所记载的材料等，但并不限定于此。
作为所述光硬化性树脂层中所使用的所述光聚合引发剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的[0031]～[0042]中所记载的聚合性化合物。
-添加剂-
另外，所述光硬化性树脂层也可使用添加剂。作为所述添加剂，例如可列举日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]～段落[0071]中所记载的界面活性剂，或日本专利第4502784号公报的段落[0018]中所记载的热聚合抑制剂，另外日本专利特开2000-310706号公报的段落[0058]～段落[0071]中所记载的其他添加剂。
-溶剂-
而且，作为通过涂布来制造包含光硬化性树脂层的转印膜时的溶剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0043]～段落[0044]中所记载的溶剂。
以上，以包含光硬化性树脂层的转印膜为负型材料的情形为中心进行了说明，但所述感光性膜也可为正型材料。
(光硬化性树脂层的粘度)
优选的是光硬化性树脂层的在100℃下测定的粘度处于2000Pa·sec～50000Pa·sec的区域，另外满足下式。
热塑性树脂层的粘度＜光硬化性树脂层的粘度
此处，各层的粘度可如下所述地测定。通过大气压及减压干燥，自热塑性树脂层或光硬化性树脂层用涂布液中除去溶剂而作为测定样品，例如使用维布隆(Vibron)(DD-III型；东洋鲍德温股份有限公司制造)作为测定器，在测定开始温度为50℃、测定结束温度为150℃、升温速度为5℃/min及频率为1Hz/deg的条件下进行测定，可使用100℃的测定值。
<(3)多个垫部分经由连接部分在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案>
本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选的是使用由依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，由此而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个；更优选的是使用由依序包含临时支撑体与热塑性树脂层与硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个。
另外，更优选的是使用由包含临时支撑体与光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个；特别优选的是使用由依序包含临时支撑体与热塑性树脂层与光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案。
另一方面，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选的是使用依序包含临时支撑体与导电性硬化性树脂层的转印膜而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个，更优选的是使用依序包含临时支撑体与热塑性树脂层与导电性硬化性树脂层的转印膜而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个。所谓使用依序包含临时支撑体与导电性硬化性树脂层的转印膜而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个，具体而言是指转印依序包含临时支撑体与导电性硬化性树脂层的转印膜的该导电性硬化性树脂层而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性要素的至少一个。
亦即，所述第一透明电极图案3优选的是使用蚀刻处理或包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成。
(蚀刻处理)
在通过蚀刻处理形成所述第一透明电极图案3的情形时，首先通过溅镀在形成有掩模层2b等的前面板1的非接触面上形成ITO等的透明电极层。其次，在所述透明电极层上包含蚀刻用光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层，除此以外使用与所述掩模层的形成中所使用的转印膜同样的转印膜，通过曝光、显影而形成蚀刻图案。其后，可对透明电极层进行蚀刻而对透明电极进行图案化，将蚀刻图案除去，由此而形成第一透明电极图案3等。
在将所述包含光硬化性树脂层的转印膜用作蚀刻抗蚀剂(蚀刻图案)的情形时，也可与所述方法同样地进行而获得抗蚀剂图案。所述蚀刻可适用以日本专利特开2010-152155公报的段落[0048]～段落[0054]等中所记载的公知方法进行蚀刻、抗蚀剂剥离。
例如作为蚀刻的方法，可列举一般所进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀刻中所使用的蚀刻液根据蚀刻对象而适宜选择酸性型或碱性型的蚀刻液即可。酸性型的蚀刻液可例示盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等酸性成分的单独水溶液，酸性成分与氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可使用多种酸性成分组合而成者。而且，碱性型的蚀刻液可例示氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵这样的有机胺的盐等碱成分的单独水溶液，碱成分与高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱成分也可使用多种碱成分组合而成者。
蚀刻液的温度并无特别限定，优选的是45℃以下。在本发明中作为蚀刻掩模(蚀刻图案)而使用的树脂图案是使用上述装饰层而形成，因此对于此种温度区的酸性及碱性的蚀刻液发挥特别优异的耐受性。因此防止在蚀刻步骤中树脂图案剥离，选择性地蚀刻并不存在树脂图案的部分。
在所述蚀刻后，为了防止线污染，也可视需要进行清洗步骤、干燥步骤。关于清洗步骤，例如在常温下利用纯水对基材清洗10秒～300秒而进行，关于干燥步骤，使用空气喷射，适宜调整空气喷射压力(0.1kg/cm2～5kg/cm2左右)而进行即可。
其次，作为树脂图案的剥离方法，并无特别限定，例如可列举在30℃～80℃、优选的是50℃～80℃下，将基材浸渍于搅拌中的剥离液中5分钟～30分钟的方法。在本发明中作为蚀刻掩模而使用的树脂图案是如上所述地在45℃以下显示优异的耐药液性者，若药液温度成为50℃以上，则显示出由于碱性剥离液而膨润的性质。由于此种性质，具有若使用50℃～80℃的剥离液进行剥离步骤，则步骤时间缩短、树脂图案的剥离残渣变少的优点。亦即，通过在所述蚀刻步骤与剥离步骤之间设置药液温度的差，在本发明中作为蚀刻掩模而使用的树脂图案在蚀刻步骤中发挥良好的耐药液性，另一方面在剥离步骤中显示良好的剥离性，可同时满足耐药液性与剥离性这两种相反的特性。
剥离液例如可列举使氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分或三级胺、四级铵盐等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、或这些的混合溶液中而成者。也可使用所述剥离液，通过喷雾法、喷淋法、覆液法等而进行剥离。
(使用包含导电性硬化性树脂层的转印膜的方法)
而且，也可使用包含临时支撑体及硬化性树脂层的转印膜作为剥离(lift-off)材，形成第一透明电极图案、第二透明电极图案及其他导电性构件，所述转印膜可列举本发明的转印膜、或所述包含光硬化性树脂层的转印膜。在此情形时，也优选的是所述包含临时支撑体及硬化性树脂层的转印膜在所述临时支撑体及所述硬化性树脂层之间包含所述热塑性树脂层。在此情形时，使用本发明的转印膜或包含光硬化性树脂层的转印膜而进行图案化后，在基材整个面上形成透明导电层，然后连同所堆积的透明导电层，溶解除去本发明的转印膜的着色层或包含光硬化性树脂层的转印膜的该光硬化性树脂层，由此可获得所期望的透明导电层图案(剥离法)。
使用包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成所述第一透明电极图案3的情形时，可通过在所述前面板1的表面转印所述导电性硬化性树脂层而形成。
若使用所述包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成所述第一透明电极图案3，则即使在具有开口部的基板(前面板)，也不自开口部分漏出抗蚀剂成分，能够不污染基板背面侧，而以简略的步骤制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。
另外，在第一透明电极图案3的形成中，通过使用具有在导电性硬化性树脂层与临时支撑体之间包含热塑性树脂层的特定的层构成的转印膜，可防止层叠转印膜时产生气泡，形成导电性优异、电阻小的第一透明电极图案3。
而且，在所述转印膜包含导电性硬化性树脂层的情形时，所述导电性硬化性树脂层中含有导电性纤维等。
～导电性硬化性树脂层(导电性纤维)～
将所述层叠有导电性硬化性树脂层的转印膜用于透明电极图案、或其他导电性要素的形成中的情形时，可将以下的导电性纤维等用于导电性硬化性树脂层中。
导电性纤维的结构并无特别限制，可视需要而适宜选择，优选的是实心结构及中空结构的任一个。
此处，有时将实心结构的纤维称为“线”，将中空结构的纤维称为“管”。而且，有时将平均短轴长度为5nm～1,000nm、平均长轴长度为1μm～100μm的导电性纤维称为“纳米线”。
而且，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm、平均长轴长度为0.1μm～1,000μm、且具有中空结构的导电性纤维称为“纳米管”。
作为所述导电性纤维的材料，若具有导电性则并无特别限制，可视需要而适宜选择，优选的是金属及碳的至少任一个，这些中，所述导电性纤维特别优选的是金属纳米线、金属纳米管、及碳纳米管的至少任一个。
-金属纳米线-
--金属--
所述金属纳米线的材料并无特别限制，例如优选的是选自由长周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期所构成的群组的至少1种金属，更优选的是选自第2族～第14族的至少1种金属，进一步更优选的是选自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及第14族的至少1种金属，特别优选的是作为主成分而包含这些金属。
所述金属例如可列举铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、这些的合金等。就导电性优异的方面而言，这些中优选的是主要含有银者、或含有银与银以外的金属的合金者。
所谓主要含有银是表示在金属纳米线中含有50质量％以上、优选的是90质量％以上的银。
所述与银的合金中所使用的金属可列举铂、锇、钯及铱等。这些金属可单独使用1种，也可并用2种以上。
--形状--
作为所述金属纳米线的形状，并无特别限制，可视需要适宜选择，例如可使用圆柱状、长方体状、剖面为多边形的柱状等任意形状，在必需高透明性的用途中，优选的是圆柱状、剖面的多边形的角圆滑的剖面形状。
所述金属纳米线的剖面形状可通过在基材上涂布金属纳米线水分散液，利用透射电子显微镜(transmission electron microscope，TEM)观察剖面而调查。
所述金属纳米线的剖面的角是表示将剖面的各边延长，与自相邻边落下的垂线相交的点的周边部。而且，“剖面的各边”是这些相邻的角与角连结而成的直线。在此情形时，将所述“剖面的外周长度”相对于所述“剖面的各边”的合计长度的比例作为锐利度。作为锐利度，例如在如图9所示的金属纳米线剖面中，可通过以实线表示的剖面的外周长度与以虚线表示的五边形的外周长度的比例而表示。将该锐利度为75％以下的剖面形状定义为角圆滑的剖面形状。所述锐利度优选的是60％以下，更优选的是50％以下。若所述锐利度超过75％，则在该角局部存在电子，等离子体激元(plasmon)吸收增加，因此残存黄色调等而造成透明性恶化。而且，图案的边缘部的直线性降低，产生粗糙。所述锐利度的下限优选的是30％，更优选的是40％。
--平均短轴长度径及平均长轴长度--
所述金属纳米线的平均短轴长度(有时也称为“平均短轴径”、“平均直径”)优选的是150nm以下，更优选的是1nm～40nm，进一步更优选的是10nm～40nm，特别优选的是15nm～35nm。
若所述平均短轴长度不足1nm，则存在耐氧化性恶化，耐久性变差的现象；若超过150nm，则存在产生由于金属纳米线所引起的散射，无法获得充分的透明性的现象。
所述金属纳米线的平均短轴长度可使用透射电子显微镜(TEM；日本电子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，对300个金属纳米线进行观察，根据其平均值求出金属纳米线的平均短轴长度。另外，所述金属纳米线的短轴并非圆形的情形时的短轴长度可将最长者作为短轴长度。
所述金属纳米线的平均长轴长度(有时称为“平均长度”)优选的是1μm～40μm，更优选的是3μm～35μm，进一步更优选的是5μm～30μm。
若所述平均长轴长度不足1μm，则存在难以形成致密的网状物，无法获得充分的导电性的现象；若超过40μm，则存在金属纳米线过长而在制造时缠绕，在制造过程中生成凝聚物的现象。
所述金属纳米线的平均长轴长度例如可使用透射电子显微镜(TEM；日本电子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，对300个金属纳米线进行观察，根据其平均值求出金属纳米线的平均长轴长度。另外，在所述金属纳米线弯曲的情形时，考虑以此为弧的圆，将根据其半径及曲率而算出的值作为长轴长度。
自涂布液的稳定性或涂布时的干燥或图案化时的显影时间等工艺适合性的观点考虑，导电性硬化性树脂层的层厚优选的是0.1μm～20μm，更优选的是0.5μm～18μm，特别优选的是1μm～15μm。自导电性与涂布液的稳定性的观点考虑，所述导电性纤维相对于所述导电性硬化性树脂层的总固体成分的含量优选的是0.01质量％～50质量％，更优选的是0.05质量％～30质量％，特别优选的是0.1质量％～20质量％。
<(4)与所述第一透明电极图案电绝缘，在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案>
所述第二透明电极图案4可使用所述蚀刻处理或所述包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成。此时的优选的实施方式与所述第一透明电极图案3的形成方法相同。
<(5)使所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案电绝缘的绝缘层>
在形成绝缘层5的情形时，可通过如下方式而形成：使用包含绝缘性着色层作为所述着色层的本发明的转印膜、或者包含绝缘性光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的所述包含光硬化性树脂层的转印膜，在形成有第一透明电极图案的所述前面板1的表面转印所述绝缘性着色层或光硬化性树脂层。
另外，在使用转印膜形成绝缘层的情形时，自维持绝缘性的观点考虑，绝缘层的层厚优选的是0.1μm～5μm，更优选的是0.3μm～3μm，特别优选的是0.5μm～2μm。
<(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素>
所述其他导电性要素6可使用所述蚀刻处理或所述包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成。
<(7)透明保护层>
在形成透明保护层7的情形时，可通过如下方式而形成：使用包含透明着色层作为所述着色层的本发明的转印膜、或包含透明光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的所述包含光硬化性树脂层的转印膜，在形成有各要素的所述前面板1的表面转印所述透明着色层或透明光硬化性树脂层。
在使用转印膜形成透明保护层的情形时，自发挥充分的表面保护能力的观点考虑，透明保护层的层厚优选的是0.5μm～10μm，更优选的是0.8μm～5μm，特别优选的是1μm～3μm。
《静电电容型输入装置、及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置》
根据本发明的制造方法而所得的静电电容型输入装置、及包含该静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置可适用《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行，技术时代股份有限公司(Techno Times Co.，Ltd))、三谷雄二主编，《触摸屏的技术与开发》、CMC出版(2004，12)，2009年国际平板显示器展会(FPD Intemational 2009Forum)T-11讲座教材，赛普拉斯半导体公司(Cypress Semiconductor Corporation)应用注解AN2292等中所揭示的构成。
[实施例]
以下，通过实施例对本发明加以更具体的说明。
以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不偏离本发明的主旨则可适宜变更。因此，本发明的范围并不由以下所示的具体例而限定性地解释。另外，只要无特别说明，则“％”及“份”是质量基准。
[合成例1]
<甲苯基三甲氧基硅烷((4-甲基苯基)三甲氧基硅烷)的合成>
在具有搅拌机、回流冷凝器、滴液漏斗及温度计的500mL的四口烧瓶中加入镁19.0g(0.784摩尔)与四氢呋喃300mL，加入碘片。在其中滴加少量的氯甲苯(tolyl chloride)而开始反应后，在5℃～10℃下滴加合计94.4g(0.746摩尔)的氯甲苯而制备格式试剂(Grignard reagent)。
其次，在具有搅拌机、回流冷凝器、滴液漏斗及温度计的1000mL的四口烧瓶中装入正硅酸甲酯568g(3.73摩尔)，在60℃～70℃的温度下，以2小时滴加之前所制备的格式试剂。其后，进行冷却而过滤所析出的镁盐后，将溶剂蒸馏除去，进一步进行精馏而回收。根据所得的馏分的GC分析结果，GC纯度为98.8％，根据NMR与IR分析的结果，为甲苯基三甲氧基硅烷(沸点(b.p.)为74℃～75℃)。
(甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的合成)
在具有搅拌机、回流冷凝器、滴液漏斗及温度计的500mL的四口烧瓶中装入25％四甲基氢氧化铵水溶液2.1g与水7.5g，加入2-丙醇60mL与甲苯30mL。一面在35℃～45℃的温度下搅拌，一面在其中滴加使甲基三甲氧基硅烷26.6g(0.195摩尔)与甲苯基三甲氧基硅烷17.8g(0.084摩尔)溶解于甲苯30mL中而所得的溶液。在滴加结束后熟化2小时，冷却至室温后加入甲苯90mL与水90mL。将所得的溶液倒入至分液漏斗中而排出水层后，用稀乙酸水溶液对油层加以清洗，排出水层后，继续以水对油层进行4次清洗。其后用0.5μm的PTFE过滤器对油层进行过滤后进行浓缩而调整为甲苯为50质量％的溶液，获得甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的甲苯溶液。
[合成例2]
<苄基三甲氧基硅烷的合成>
在合成例1中，使用等摩尔的苄基氯(benzyl chloride)代替氯甲苯而制备苄基三甲氧基硅烷。
(苄基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的合成)
在合成例1的所述甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％共聚物的合成法中，使用等摩尔的苄基三甲氧基硅烷代替甲苯基三甲氧基硅烷，除此以外同样地进行而获得甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的甲苯溶液。
[合成例3]
<异丙苯基三甲氧基硅烷的合成>
在合成例1中，使用等摩尔的异丙苯基氯代替氯甲苯而制备异丙苯基三甲氧基硅烷。
(异丙苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的合成)
在合成例1的所述甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的合成法中，使用等摩尔的异丙苯基三甲氧基硅烷代替甲苯基三甲氧基硅烷，除此以外同样地进行而获得异丙苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的甲苯溶液。
[合成例4]
(甲苯基三甲氧基硅烷-乙基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的合成)
在合成例1中，使用等摩尔的乙基三甲氧基硅烷代替甲基三甲氧基硅烷而获得甲苯基三甲氧基硅烷-乙基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的甲苯溶液。
[合成例5]
(甲苯基三甲氧基硅烷-丙基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的合成)
在合成例1中，使用等摩尔的丙基三甲氧基硅烷(合成例5)代替甲基三甲氧基硅烷而获得甲苯基三甲氧基硅烷-丙基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％缩合物的甲苯溶液。
[合成例6]
(甲基三甲氧基硅烷-甲基二甲氧基硅烷90mol％/10mol％缩合物的合成)
在合成例1的所述甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷30mol％/70mol％共聚物的合成法中，以使甲苯基三甲氧基硅烷-甲基三甲氧基硅烷的添加量的合计摩尔数固定、甲基三甲氧基硅烷与甲基二甲氧基硅烷的摩尔比成为90mol％/10mol％的方式进行添加，除此以外同样地进行而获得甲基三甲氧基硅烷-甲基二甲氧基硅烷90mol％/10mol％缩合物(甲基-氢型硅酮树脂)的甲苯溶液。
[实施例1]
～本发明的转印膜的制备～
<作为装饰层形成用转印膜L1的实施例1的转印膜的制备>
在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(临时支撑体)上，使用狭缝状喷嘴而涂布包含下述配方H1的热塑性树脂层用涂布液而使其干燥。其次，涂布包含下述配方P1的中间层用涂布液而使其干燥。进一步涂布包含下述配方L1的着色层用涂布液而使其干燥。如上所述而在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、干燥膜厚为35μm的白色着色层，最后压接保护膜(厚度为12μm的聚丙烯膜)。如上所述而制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)、着色层与保护膜成为一体的转印材料，将样品名设为装饰层形成用转印膜L1(实施例1的转印膜)。
(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)
·甲醇：11.1质量份
·丙二醇单甲醚乙酸酯：6.36质量份
·甲基乙基酮：52.4质量份
·甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚组成比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8、分子量＝10万、Tg≒70℃)：5.83质量份
·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚组成比(摩尔比)＝63/37、重量平均分子量＝1万、Tg≒100℃)：13.6质量份
·单体1(商品名：BPE-500、新中村化学工业股份有限公司制造)：9.1质量份
·界面活性剂(氟系聚合物、商品名：美佳法(Megafac)F780F、大日本油墨化学工业股份有限公司制造)：0.54质量份
上述氟系聚合物是40份C6F13CH2CH2OCOCH＝CH2与55份H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH＝CH2与5份H(OCHCH2)7OCOCH＝CH2的共聚物，重量平均分子量为3万、甲基乙基酮为30质量％的溶液。
另外，热塑性树脂层用涂布液H1的除去溶剂后的120℃的粘度为1500Pa·sec。
(中间层用涂布液：配方P1)
·聚乙烯醇：32.2质量份
(商品名：PVA205、可乐丽(Kuraray)股份有限公司制造、碱化度＝88％、聚合度为550)
·聚乙烯吡咯烷酮：14.9质量份
(商品名：K-30、日本ISP(ISP Japan)股份有限公司制造)
·蒸馏水：524质量份
·甲醇：429质量份
(着色层用涂布液：配方L1)
·甲基乙基酮(东燃化学股份有限公司制造)：15.7质量份
·硅酮树脂KR-311(信越化学工业股份有限公司制造；线性硅酮的二甲苯溶液(固体成分为50质量％))：209质量份
·白色颜料分散物1(下述的组成)：123质量份
·抗氧化剂(苏米来泽(Sumilizer)GP、住友化学股份有限公司制造)：0.195质量份
·界面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、DIC股份有限公司制造)：0.78质量份
-白色颜料分散物1的组成-
·氧化钛(石原产业制造的CR97；氧化铝/氧化锆处理金红石型、一次粒径为0.25μm)：70.0质量％
·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.7万)：3.5质量％
·甲基乙基酮(东燃化学股份有限公司制造)：26.5质量％
<作为装饰层形成用转印膜L1的实施例1的转印膜的评价>
(转印性的评价)
将如上述所示而制作的装饰层形成用转印膜L1(实施例1的转印膜)的保护膜剥离，将装饰层形成用转印膜L1的着色层叠合于后述的本发明的静电电容型输入装置的制造中所制备的进行了硅烷偶合处理的强化玻璃的表面，用层叠机进行贴合后，将聚对苯二甲酸乙二酯膜制的临时支撑体剥离，观察所剥离的临时支撑体的膜表面，根据以下基准进行评价。C以上为实用级别。
<评价基准>
A：在整个面完全转印，转印性极其良好。
B：仅仅膜的边缘存在转印残留，转印性良好。
C：在膜全体存在稍许转印残留，转印性普通。
D：膜到处存在膜状着色层(感光性树脂)的转印残留，转印性差。
将评价结果记载于下述表1中。
～本发明的静电电容型输入装置的制造～
将上述所得的实施例1的转印膜用作装饰层形成用转印膜，利用以下方法制造实施例1的静电电容型输入装置。
《装饰层的形成》
对于形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)，一面通过喷淋来吹附调整为25℃的玻璃清洗剂液20秒，一面用具有尼龙毛的旋转毛刷进行清洗，在纯水喷淋清洗后，通过喷淋来吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名：KBM603、信越化学工业股份有限公司制造)20秒，进行纯水喷淋清洗。将该基材在基材预热装置中在90℃下进行2分钟的预热。
自所得的装饰层形成用转印膜L1(实施例1的转印膜)的保护膜25侧，如图10及图11中所记载那样切入贯通保护膜25、着色层24、中间层23，直至热塑性树脂层22的一部分的切口，分成为用以转印着色层的图像部32、并不转印着色层的非图像部31。其次，使用胶带而仅仅将非图像部31的保护膜25剥离，同样地使用胶带将非图像部31的着色层24与中间层23这2层同时剥离。进一步仅仅将与图像部32对应的区域的保护膜25剥离。
以将保护膜25剥离后所露出的图像部32的着色层24的表面、与所述在90℃下预热的进行了硅烷偶合处理的强化玻璃基材的表面相接的方式进行叠合，使用层叠机(日立产业股份有限公司制造(拉米克II(LamicII)型))，在橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.5m/min下进行层叠。继而在与热塑性树脂层22的界面将聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体21剥离，除去临时支撑体21。
由此，在所述玻璃基材的图像部32自实施例1的转印膜转印着色层24、中间层23及热塑性树脂层22，在所述玻璃基材的非图像部31自实施例1的转印膜仅仅转印热塑性树脂层22。
其次，使三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)在30℃下，在扁嘴压力为0.1MPa下进行60秒的喷淋显影，将所述玻璃基材的图像部32的热塑性树脂层22与中间层23、以及非图像部31的热塑性树脂层22除去。继而，对该玻璃基材的上表面吹气而脱液后，通过喷淋来吹附纯水10秒，进行纯水喷淋清洗，其次吹气而减少玻璃基材上的液体停留。
其后，使用具有排气设备的烘箱，在大气压(1atm)下、空气中、在240℃下进行60分钟的后烘烤处理而使着色层24成为装饰层，在玻璃基材的上表面通过以下方法测定膜厚，结果获得形成有膜厚为35μm的装饰层的前面板。
通过以下方法自前面板的未形成装饰层的面测定亮度，结果L值为84.6。而且，通过以下方法以目视判断前面板的装饰层的白度，结果并无问题。进一步通过下述方法而测定的烘烤后的苯产生量为每100cm2装饰层中为19.1mg，为实用级别。
(膜厚测定)
使用表面粗糙度计P-10(科磊(TENCOR)公司制造)而测定强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的装饰层的膜厚。将其结果记载于下述表1中。另外，在下述表1中，“μ”表示“μm”。
《形成有装饰层的前面板的评价》
(亮度的评价)
在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板中，自与形成有装饰层的面相反的面，将黑纸作为垫片，使用爱色丽(X-Rite)公司制造的938分光光密度计(Spectrodensitometer)进行测定，根据L值评价亮度。实用级别为D以上，优选的是C以上。
<评价基准>
AA：L值为87以上
A：L值为85以上且不足87
B：L值为83以上且不足85
C：L值为81以上且不足83
D：L值为77以上且不足81
E：L值不足77
将评价的结果记载于下述表1中。
(白度的评价)
让60人自基板的表面与背面观察在强化处理玻璃上如上所述地转印装饰层后，在大气压(1atm)下、空气中、240℃下进行60分钟的后烘烤而形成的前面板，基于下述评价基准进行白度的评价。实用级别为C以上。
<评价基准>
A：识别为带黄色调的人数为0人～1人
B：识别为带黄色调的人数为2人～3人
C：识别为带黄色调的人数为4人～5人
D：识别为带黄色调的人数为6人～10人
E：识别为带黄色调的人数为11人以上
将评价的结果记载于下述表1中。
(网状组织评价)
将在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板，在23℃、相对湿度为50％的环境下放置24小时后，使用反射光及透射光，利用显微镜观察前面板的装饰层的表面、及形成有装饰层的面的相反面，基于下述基准进行评价。C以上为实用级别。
<评价基准>
A：在装饰层图案表面完全未看到细小的“皱褶”的产生，网状组织评价极其良好。
B：仅仅在装饰层图案表面的中央部看到部分性地产生极弱的“皱褶”，自前面板的形成有装饰层的面的相反面无法识别，网状组织评价良好。
C：看到装饰层图案表面产生稍许细小“皱褶”等，但自前面板的形成有装饰层的面的相反面无法识别，是实用上并无问题的级别，网状组织评价普通。
D：看到产生很多细小“皱褶”等，自前面板的形成有装饰层的面的相反面也观察到弱的不均，网状组织评价是差的级别。
E：在整个面看到产生细小“皱褶”等，自前面板的形成有装饰层的面的相反面也观察到不均，网状组织评价是极差的级别。
将评价的结果记载于下述表1中。
(收率的评价)
制作500枚在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板，调查可使用的前面板的收率。
<评价基准>
A：收率超过94％，是非常良好的级别。
B：收率为91％以上且不足94，是良好的级别。
C：收率为88％以上且不足91％，普通。
D：收率为83％以上且不足88％，差。
E：收率不足83％，非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(装饰层密接性的评价)
基于JIS K 5600-5-6：ISO2409(交叉切割法)，在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的装饰层上以1mm的宽度切入切口，通过玻璃纸胶带剥离而观察是否存在装饰层表面的剥落及针孔(pin hole)。C以上为实用级别。
<评价基准>
A：装饰层成分完全未剥落，为装饰层密接性非常良好的级别。
B：仅仅在切口边缘存在稍许装饰层成分剥落，但完全无栅格的部分，为装饰层密接性良好的级别。
C：装饰层成分的栅格剥落为0％以上且不足2％，是实用级别，装饰层密接性普通。
D：确认装饰层成分的栅格剥落为2％以上且不足5％的栅格装饰层成分的剥落，实用上需要修复，装饰层密接性差。
E：确认5％以上的栅格装饰层成分的剥落，实用上需要修复，装饰层密接性非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(利用半切割的预切性的评价)
自装饰层形成用转印膜的保护膜25侧，如图12所记载那样切入贯通保护膜25、着色层24、中间层23，直至热塑性树脂层22的一部分的切口而进行预切后，进行所形成的着色层的图像图案轮廓部分及周边部分的光学显微镜观察，根据下述基准而评价在轮廓及周边是否残存切割屑。实用级别为D以上，优选的是C以上。
<评价基准>
A：剖面被干净地切断，完全无刀的污垢，预切适合性极其良好。
B：仅仅剖面的边缘存在稍许污垢或剥落，完全无刀的污垢，预切适合性良好。
C：在剖面存在稍许污垢或剥落，但烘烤后光滑而无问题，刀的污垢也极其少，预切适合性普通。
D：在剖面存在数mm宽的污垢或剥落，即使进行烘烤也不恢复，实用上需要修复。刀的污垢严重，必须每隔数次进行一次清洗，预切适合性差。
E：以剖面的缺落为起点而破坏图像部分，存在实用上的问题。或者刀的污垢严重，必须每次进行清洗，非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(利用模切的预切性的评价)
自装饰层形成用转印膜的保护膜25侧，如图15所记载那样切入贯通保护膜25、着色层24、中间层23、热塑性树脂层22、临时支撑体21的切口而进行预切后，进行所形成的着色层的图像图案轮廓部分及周边部分的光学显微镜观察，根据下述基准而评价在轮廓及周边是否残存切割屑。实用级别为D以上，优选的是C以上。
<评价基准>
A：剖面被干净地切断，完全无刀的污垢，预切适合性极其良好。
B：仅仅剖面的边缘存在稍许污垢或剥落，完全无刀的污垢，预切适合性良好。
C：在剖面存在稍许污垢或剥落，但烘烤后光滑而无问题，刀的污垢也极其少，预切适合性普通。
D：在剖面存在数mm宽的污垢或剥落，即使进行烘烤也不恢复，实用上需要修复。刀的污垢严重，必须每隔数次进行一次清洗，预切适合性差。
E：以剖面的缺口为起点而破坏图像部分，存在实用上的问题。或者刀的污垢严重，必须每次进行清洗，非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(开口部污垢的评价)
利用显微镜观察在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的开口部，观察装饰层成分是否作为污垢而存在。C以上为实用级别。
<评价基准>
A：在开口部完全未附有装饰层成分的污垢，开口部污垢的评价极其良好。
B：仅仅在开口部边缘看到装饰层成分的稍许污垢，为可使用的程度，开口部污垢的评价良好。
C：自开口部边缘起，在开口部内侧数μm左右发现装饰层成分的污垢，实用上可使用，开口部污垢的评价普通。
D：自开口部边缘起，在开口部内侧直至玻璃的厚度的中间，看到装饰层成分的污垢，实用上需要修复，开口部污垢的评价差。
E：自开口部边缘起，通过开口部内侧直至玻璃的背面侧看到装饰层成分的污垢，开口部污垢的评价非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(开口部缺落的评价)
利用显微镜观察在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的开口部周边，观察是否存在装饰层成分的剥落及针孔。
<评价基准>
A：完全无开口部附近的基板的装饰层成分的剥落，开口部缺落的评价是非常良好的级别。
B：仅仅在开口部边缘存在稍许剥落，但其他部分完全无剥落，开口部缺落的评价是良好的级别。
C：在开口部边缘周边数μm看到装饰层成分的剥落，可实用上地使用，开口部缺落的评价普通。
D：在开口部周边数mm宽看到装饰层成分的剥落，实用上需要修复，开口部缺落的评价差。
E：在开口部周边数cm宽看到装饰层成分的剥落，实用上需要修复，开口部缺落的评价非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(苯产生量)
在强化处理玻璃上层叠装饰层形成用转印膜(装饰层形成用转印膜并未预切而仅仅将保护膜自膜的整个面上除去)，进行显影、纯水清洗、吹气。其次，在105℃的烘箱中进行30分钟的干燥。自强化处理玻璃削取一定面积的装饰层，在样品管中放入试样，利用加热脱附装置，进行氦(He)气下、280℃下、15分钟加热(包含自室温起的升温时间)的直接加热，然后进行GC-MS测定。
在校准曲线中，使用市售的试剂苯，利用已有的方法捕获至泰力斯(TENAX)吸附管后，进行与样品同样的加热脱附测定。
GC管柱使用安捷伦公司制造的DB-5MS，在40℃下保持3分钟后，进行升温测定。MS检测是通过电子电离(electron ionization，EI)离子化而进行，在定量中使用苯的色谱峰面积。
·加热脱附装置
公司名          日本分析工业公司制造
装置名          加热脱附装置
型号            JTD-505III
·GC-MS
公司名          岛津制作所制造
装置名          气相色谱质谱仪
型号            QP2010Ultra
<评价基准>
AA：苯产生量不足0.01mg/100cm2，极其良好。
A：苯产生量为0.01mg/100cm2以上、不足9.2mg/100cm2，良好。
B：苯产生量为9.2mg/100cm2以上、不足19mg/100cm2，普通。
C：苯产生量为19mg/100cm2以上、不足29mg/100cm2，实用上可使用，普通。
D：苯产生量为29mg/100cm2以上，差。
将评价的结果记载于下述表1中。
《掩模层的形成》
<掩模层形成用转印膜K1的制备>
在所述装饰层形成用转印膜L1(实施例1的转印膜)的制备中，将包含所述配方L1的着色层用涂布液替代为包含下述配方K1的掩模层形成用涂布液，除此以外与装饰层形成用转印膜L1(实施例1的转印膜)的制备同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)、掩模层形成用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的掩模层形成用转印膜K1(掩模层形成用光硬化性树脂层的膜厚为2.2μm)。
(掩模层形成用涂布液：配方K1)
·K颜料分散物1(下述组成)：31.2质量份
·R颜料分散物1(下述组成)：3.3质量份
·MMPGAc(大赛璐化学股份有限公司制造)：6.2质量份
·甲基乙基酮(东燃化学股份有限公司制造)：34.0质量份
·环己酮(关东电化工业股份有限公司制造)：8.5质量份
·粘合剂2(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝78/22摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.8万)：10.8质量份
·吩噻嗪(东京化成股份有限公司制造)：0.01质量份
·DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化薬股份有限公司制造)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(76质量％)：5.5质量份
·2，4-双(三氯甲基)-6-[4′-(N，N-双(乙氧基羰基甲基)氨基-3′-溴苯基]-均三嗪：0.4质量份
·界面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、大日本油墨股份有限公司制造)：0.1质量份
-K颜料分散物1的组成-
·碳黑(商品名：尼派克斯(Nipex)35、德固赛(Degussa)公司制造)
：13.1质量％
·下述分散剂1：0.65质量％
·粘合剂1(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.7万)：6.72质量％
·丙二醇单甲醚乙酸酯：79.53质量％
[化4]
-R颜料分散物1的组成-
·颜料(C.I.颜料红177)：18质量％
·粘合剂1(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.7万)：12质量％
·丙二醇单甲醚乙酸酯：70质量％
<掩模层的形成>
与装饰层的形成中的强化处理玻璃基板的清洗同样地进行，对形成有装饰层的前面板(以下也称为附有装饰层的前面板)进行清洗。
其后，将并未半切割而仅仅将保护膜自膜的整个面除去的掩模层形成用转印膜K1层叠于清洗后的附有装饰层的前面板的表面(基材温度：140℃、橡胶辊温度为130℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.2m/min)。在将临时支撑体剥离后，利用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高新电子工程股份有限公司制造)，在层叠有掩模层形成用转印膜K1的附有装饰层的前面板与曝光掩模(具有边框图案的石英曝光掩模)垂直竖立的状态下，将曝光掩模面与该掩模层形成用光硬化性树脂层之间的距离设定为500μm，以70mJ/cm2(i线)的曝光量进行图案曝光。
其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在33℃下进行600秒的显影，其次使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释5倍而成的液体)，在32℃下将喷淋压力设定为0.1MPa，进行45秒的显影，其后利用纯水加以清洗。
继而，使用含有界面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在33℃下、圆锥型喷嘴压力为0.1MPa下通过喷淋吹出20秒，进一步利用具有柔软的尼龙毛的旋转毛刷，擦拭所形成的图案图像而进行残渣除去。进一步利用超高压清洗喷嘴，在9.8MPa的压力下喷射超纯水而进行残渣除去。
其次，在大气下自前面板的表面与背面分别以1300mJ/cm2的曝光量进行后曝光，进一步在240℃下进行80分钟的后烘烤处理，获得以前面板、装饰层及掩模层的顺序形成有光密度为4.0、膜厚为2.0μm的掩模层与装饰层的前面板。
《第一透明电极图案的形成》
<透明电极层的形成>
将形成有装饰层及掩模层的前面板导入至真空腔体内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟∶锡＝95∶5(摩尔比))，通过DC磁控溅镀(条件：基材的温度为250℃、氩压为0.13Pa、氧压0.01Pa)形成厚度为40nm的ITO薄膜，获得形成有透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□。
<蚀刻用转印膜E1的制备>
在所述装饰层形成用转印膜L1的制备中，将包含所述配方L1的着色层用涂布液替代为包含下述配方E1的蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液，除此以外与装饰层形成用转印膜L1的制备同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)、蚀刻用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的蚀刻用转印膜E1(蚀刻用光硬化性树脂层的膜厚为2.0μm)。
(蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液：配方E1)
·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物(共聚物组成(质量％)：31/40/29、质量平均分子量为60000、酸值为163mgKOH/g)：16质量份
·单体1(商品名：BPE-500、新中村化学工业股份有限公司制造)：5.6质量份
·六亚甲基二异氰酸酯的四环氧乙烷单甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物：7质量份
·作为在分子中具有1个聚合性基的化合物的环己烷二甲醇单丙烯酸酯：2.8质量份
·2-氯-N-丁基吖啶酮：0.42质量份
·2，2-双(邻氯苯基)-4，4′，5，5′-四苯基联咪唑：2.17质量份
·隐色结晶紫：0.26质量份
·吩噻嗪：0.013质量份
·界面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、大日本油墨股份有限公司制造)：0.03质量份
·甲基乙基酮：40质量份
·1-甲氧基-2-丙醇：20质量份
<第一透明电极图案的形成>
与掩模层的形成同样地进行，对形成有装饰层、掩模层、透明电极层的前面板进行清洗，层叠除去了保护膜的蚀刻用转印膜E1(基材温度：130℃、橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.2m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与该蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为200μm，以50mJ/cm2(i线)的曝光量进行图案曝光。
其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在25℃下进行100秒的显影，其次使用含有界面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒的处理，通过旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去，进一步在130℃下进行30分钟的后烘烤处理，获得形成有装饰层、掩模层、透明电极层与蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板。
将形成有装饰层、掩模层、透明电极层与蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板，浸渍于放有ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液；液温为30℃)的蚀刻槽中，进行100秒的处理，将未被蚀刻用光硬化性树脂层覆盖的露出的区域的透明电极层溶解除去，获得附有装饰层、掩模层、蚀刻用光硬化性树脂层图案的附有透明电极层图案的前面板。
其次，将附有蚀刻用光硬化性树脂层图案的附有透明电极层图案的前面板，浸渍于放入有抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、界面活性剂(商品名：沙飞诺(Surfynol)465、空气化工产品公司(Air Products)制造)；液温为45℃)的抗蚀剂剥离槽中，进行200秒的处理而将蚀刻用光硬化性树脂层除去，获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案(所述第一透明电极图案如图1所示地设置成跨在所述前面板的非接触面及所述掩模层的与所述前面板侧相反侧的面的双方区域)的前面板。
《绝缘层的形成》
<绝缘层形成用转印膜W1的制备>
在装饰层形成用转印膜L1的制备中，将包含所述配方L1的着色层用涂布液替代为包含下述配方W1的绝缘层形成用涂布液，除此以外与装饰层形成用转印膜L1的制备同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)、绝缘层用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的绝缘层形成用转印膜W1(绝缘层用光硬化性树脂层的膜厚为1.4μm)。
(绝缘层形成用涂布液：配方W1)
·粘合剂3(甲基丙烯酸环己酯(a)/甲基丙烯酸甲酯(b)/甲基丙烯酸共聚物(c)的甲基丙烯酸缩水甘油酯加成物(d)(组成(质量％)：a/b/c/d＝46/1/10/43、质量平均分子量：36000、酸值为66mgKOH/g)的1-甲氧基-2-丙醇、甲基乙基酮溶液(固体成分：45％))：12.5质量份
·DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化药股份有限公司制造)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(76质量％)：1.4质量份
·聚氨酯系单体(商品名：NK欧力多(NK Oligo)UA-32P、新中村化学股份有限公司制造：不挥发成分75％、丙二醇单甲醚乙酸酯：25％)：0.68质量份
·三季戊四醇八丙烯酸酯(商品名：V#802、大阪有机化学工业股份有限公司制造)：1.8质量份
·二乙基噻吨酮：0.17质量份
·2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：艳佳固(Irgacure)379、巴斯夫公司制造)：0.17质量份
·分散剂(商品名：索斯帕(Solsperse)20000、阿维西亚(Avecia)公司制造)：0.19质量份
·界面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、大日本油墨公司制造)：0.05质量份
·甲基乙基酮：23.3质量份
·MMPGAc(大赛璐化学股份有限公司制造)：59.8质量份
另外，绝缘层形成用涂布液W1的溶剂除去后的100℃下的粘度为4000Pa·sec。
与掩模层的形成同样地进行，对附有所述装饰层、掩模层、第一透明电极图案的前面板进行清洗、硅烷偶合处理，层叠除去了保护膜的绝缘层形成用转印膜W1(基材温度：100℃、橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.3m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩模(具有绝缘层用图案的石英曝光掩模)面与该蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为100μm，以30mJ/cm2(i线)的曝光量进行图案曝光。
其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在33℃下进行60秒的显影，其次使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释5倍而成的液体)在25℃下进行50秒的显影，使用含有界面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒的处理，通过旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去，进一步在230℃下进行60分钟的后烘烤处理，获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板。
《第二透明电极图案的形成》
<透明电极层的形成>
与所述第一透明电极图案的形成同样地进行，对形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板进行DC磁控溅镀处理(条件：基材的温度为50℃、氩压为0.13Pa、氧压为0.01Pa)，形成厚度为80nm的ITO薄膜，获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为110Ω/□。
与第一透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用转印膜E1，获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、透明电极层、蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板(后烘烤处理；130℃、30分钟)。
另外，与第一透明电极图案的形成的形成同样地进行，通过进行蚀刻(30℃、50秒)，将蚀刻用光硬化性树脂层除去(45℃、200秒)而获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案(所述第二透明电极图案如图1所示那样地设置成跨在所述前面板的非接触面及所述掩模层的与所述前面板侧相反侧的面的双方区域)的前面板。
《与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的形成》
与所述第一及第二透明电极图案的形成同样地进行，对形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板进行DC磁控溅镀处理，获得形成有厚度为200nm的铝(Al)薄膜的前面板。
与所述第一及第二透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用转印膜E1而获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、铝薄膜、蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板(后烘烤处理；130℃、30分钟)。
进一步与第一透明电极图案的形成的形成同样地进行，通过进行蚀刻(30℃、50秒)，将蚀刻用光硬化性树脂层除去(45℃、200秒)而获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板。
《透明保护层的形成》
与绝缘层的形成同样地进行，在也形成有与所述第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板上层叠除去了保护膜的绝缘层形成用转印膜W1，将临时支撑体剥离后，并不介隔曝光掩模而以50mJ/cm2(i线)的曝光量进行前面曝光，进行显影、后曝光(1000mJ/cm2)、后烘烤处理，获得如图1所示地以覆盖装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的全部的方式层叠有绝缘层(透明保护层)的前面板1。将所得的前面板1作为实施例1的静电电容型输入装置。
《图像显示装置(触摸屏)的制作》
在根据日本专利特开2009-47936公报中所记载的方法而制造的液晶显示元件上贴合之前所制造的前面板1(实施例1的静电电容型输入装置)，根据公知的方法制作包含静电电容型输入装置作为构成要素的实施例1的图像显示装置1。
《前面板1及图像显示装置1的整体评价》
在上述各步骤中，形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板1(实施例1的静电电容型输入装置)在开口部及背面并无污垢，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在装饰层中并无针孔，白度、不均也无问题。在掩模层中同样地无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与这些不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例2]
《层叠有导电层的转印膜C1的制作》
在装饰层形成用转印膜L1的制备中，将包含所述配方L1的着色层用涂布液替代为包含下述配方C1的导电层形成用涂布液，除此以外与装饰层形成用转印膜L1的制备同样地进行而获得层叠有导电层的转印膜C1(导电层的膜厚为2.0μm)。
<导电层形成用涂布液的制备>
(银纳米线分散物(1)的制备)
制备在纯水50mL中溶解有硝酸银粉末0.51g的硝酸银溶液。其后，在所述硝酸银溶液中添加1N的氨水直至成为透明，以总量成为100mL的方式添加纯水而制备添加液A。
而且，用140mL的纯水溶解葡萄糖粉末0.5g而制备添加液G。
进一步用27.5mL纯水溶解HTAB(十六烷基-三甲基溴化铵)粉末0.5g而制备添加液H。
其次，将所述添加液A 20.6mL放入至三口烧瓶内而在室温下进行搅拌。利用漏斗在该液体中依序添加纯水41mL、添加液H 20.6mL、及添加液G 16.5mL，一面在90℃下以200rpm搅拌5小时一面进行加热，由此获得银纳米线水分散物(1)。
使所得的银纳米线水分散物(1)冷却后，以相对于银的质量1而言成为0.05的方式一面搅拌一面添加聚乙烯吡咯烷酮(商品名：K-30、和光纯药工业股份有限公司制造)，其后进行离心分离，进行纯化直至导电率成为50μS/cm以下，利用丙二醇单甲醚进一步进行离心分离，将水除去，最终添加丙二醇单甲醚而制备银纳米线溶剂分散物(1)。
(导电层形成用涂布液C1的制备)
对下述组成进行搅拌，以最终银浓度成为1.0质量％的方式与银纳米线溶剂分散物(1)混合，制备导电层形成用涂布液C1。
-导电层形成用涂布液C1的组成-
·所述粘合剂3(固体成分：45％)：3.80质量份
·卡亚拉德(KAYARAD)DPHA(日本化药股份有限公司制造)：1.59质量份
·2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：艳佳固(Irgacure)379、巴斯夫公司制造)：0.159质量份
·EHPE-3150(大赛璐化学股份有限公司制造)：0.150质量份
·界面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-781F、大日本油墨公司制造)：0.002质量份
·MMPGAc(大赛璐化学股份有限公司制造)：19.3质量份
《透明电极图案及绝缘层等的形成》
与实施例1同样地进行而获得形成有装饰层及掩模层的前面板后，使用层叠有导电层的转印膜C1进行第一透明电极图案的形成。
首先，对形成有掩模层的前面板进行清洗，层叠除去了保护膜的转印膜C1(基材温度：120℃、橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为1.7m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与该导电层之间的距离设定为100μm，以100mJ/cm2(i线)的曝光量进行图案曝光。
其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在30℃下进行60秒的显影，其次使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释5倍而成的液体)，在25℃下进行60秒的显影，使用含有界面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒的处理，通过旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去，进一步在230℃下进行60分钟的后烘烤处理，获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案的前面板。
继而，与实施例1同样地进行而形成绝缘层。其次，使用层叠有导电层的转印膜C1而进行第二透明电极图案的形成。另外，与实施例1同样地进行而进行与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、透明保护层的形成，获得前面板2。将其作为实施例2的静电电容型输入装置。
而且，与实施例1同样地进行而制作实施例2的图像显示装置2。
《前面板2及图像显示装置2的评价》
在上述各步骤中，形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板2在开口部及背面并无污垢，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例3～实施例10]
使用在实施例1的着色层用涂布液配方L1中并不改变硅酮树脂的固体成分添加量地变更为硅酮树脂KR300(实施例3)、硅酮树脂KR282(实施例4)、硅酮树脂KR300与硅酮树脂KR282的固体成分等量混合物(实施例5)、硅酮树脂KR271(实施例6)、硅酮树脂KR255(实施例7)、硅酮树脂KR212(实施例8)、硅酮树脂KR9706(实施例9)、硅酮树脂KR5230(实施例10)的着色层用涂布液L3～着色层用涂布液L10，亦即改变为下述表1所示的粘合剂，除此以外与实施例1同样地进行而制作实施例3～实施例10的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例3～实施例10的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例1同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表1中。其后，与实施例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例3～实施例10的作为静电电容型输入装置的前面板3～前面板10，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置3～图像显示装置10。
前面板3～前面板10的转印性、预切适合性、亮度、白度、网状组织、收率、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落是实用级别。
而且，在掩模层并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例11～实施例13]
关于在实施例5中着色层用涂布液中所使用的白色颜料分散物1中所使用的氧化钛，分别使用石原产业制的CR60(氧化铝处理金红石型、一次粒径为0.21μm、实施例11)、石原产业制造的CR50(氧化铝处理金红石型、一次粒径为0.25μm、实施例12)、石原产业制造的CR58(氧化铝处理金红石型、一次粒径为0.28μm、实施例13)代替石原产业制造(CR97；氧化铝/氧化锆处理金红石型、一次粒径为0.25μm)，除此以外与实施例5同样地进行而制作实施例11～实施例13的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例11～实施例13的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表1中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例11～实施例13的作为静电电容型输入装置的前面板11～前面板13，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置11～图像显示装置13。
前面板11～前面板13在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例14～实施例19]
在实施例5中，将氧化钛相对于着色层用涂布液中的总固体成分质量份的含有率由44质量份分别变更为20质量份(实施例14)、26质量份(实施例15)、32质量份(实施例16)、36质量份(实施例17)、60质量份(实施例18)、75质量份(实施例19)，除此以外与实施例5同样地进行而制作实施例14～实施例19的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例14～实施例19的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表1中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例14～实施例19的作为静电电容型输入装置的前面板14～前面板19，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置14～图像显示装置19。
根据下述表1的结果，在20质量份至75质量份的范围内，所有的评价均为实用级别。若进一步加以详细说明，则随着氧化钛含有率自20质量份增加至75质量份，转印性、预切适合性、收率、装饰层密接、开口部缺落稍稍降低，但为实用级别，白度、网状组织、开口部污垢处于良化倾向。至于亮度，38质量份～60质量份是最良好的区域。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例20～实施例22]
在实施例5的着色层用涂布液配方L5中，自磷酸/受阻酚系抗氧化剂苏米来泽(Sumilizer)GP分别变更为磷酸系抗氧化剂易璐佛斯(IRGAFOS)168(巴斯夫日本公司制造、实施例20)、磷酸系抗氧化剂易璐佛斯(IRGAFOS)38(巴斯夫日本公司制造、实施例21)、磷酸/受阻酚系抗氧化剂易璐莫得(IRGAMOD)295(巴斯夫日本公司制造、实施例22)，除此以外与实施例5同样地进行而制作实施例20～实施例22的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例20～实施例22的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例5同样地进行，将评价形成有装饰层的前面板的结果记载于下述表2中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例20～实施例22的作为静电电容型输入装置的前面板20～前面板22，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置20～图像显示装置22。
前面板20及前面板21相对于前面板5而言白度稍微良化，其他同等，为实用级别。
前面板22相对于前面板5而言评价结果不变而同等，为实用级别。
[实施例23]
在实施例5中，使用着色层用涂布液配方L5，将所形成的装饰层的厚度由35μm设为17.5μm，制作实施例23的装饰层形成用转印膜。
与实施例5同样地自所得的装饰层形成用转印膜(实施例25的转印膜)除去保护膜，利用层叠机而层叠于硅烷偶合处理玻璃基材上。继而，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体，将临时支撑体除去。以后与实施例5同样地进行而形成装饰层，制作形成有装饰层的前面板，将评价结果记载于下述表2中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例23的作为静电电容型输入装置的前面板23、及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置23。
前面板23相对于前面板5而言亮度降低，但为实用级别，网状组织及开口部缺落得到改善，另外收率、装饰层密接、开口部污垢、白度的评价结果也同等，为实用级别。
前面板23在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例24]
在实施例5中，使用白色装饰层用涂布液配方L5，将所形成的装饰层的厚度由35μm设为17.5μm，制作装饰层形成用转印膜24。将其作为实施例24的装饰层形成用转印膜。
与实施例1同样地自所得的装饰层形成用转印膜24′除去保护膜，利用层叠机而层叠于硅烷偶合处理玻璃基材上。继而，在与热塑性树脂层的界面将聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体剥离，除去临时支撑体。
其次，用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)在30℃下、在扁嘴压力为0.1MPa下进行60秒的喷淋显影，将热塑性树脂层与中间层除去。继而，对该玻璃基材的上表面吹气而脱液后，通过喷淋来吹附纯水10秒，进行纯水喷淋清洗，吹气而减少基材上的液体停留。通过喷淋来吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名：KBM603、信越化学工业股份有限公司制造)20秒，进行纯水喷淋清洗。在100℃下进行5分钟的干燥。
其后，自第2枚的所述装饰层的厚度为17.5μm的装饰层形成用转印膜24除去保护膜，再次利用层叠机与第1层同样地层叠于形成有第1层装饰层的前面板上。继而将聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体除去。以后与实施例5同样地进行而形成17.5μm×2层的装饰层，制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例24的作为静电电容型输入装置的前面板24，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置24。
前面板24相对于前面板5而言开口部缺落稍稍降低，但为实用级别，另.外网状组织、白度、收率、装饰层密接等的评价结果也同等，为实用级别。
前面板24在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例25]
在实施例5中使用着色层用涂布液配方L5，将所形成的装饰层的厚度由35μm设为6μm，制作实施例25的装饰层形成用转印膜。使用所制作的实施例25的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板25′。其次，在前面板25′上，使用下述配方的白色网版印刷用墨水S1，利用网版印刷机(三岛(MISHIMA)股份有限公司制造；UDF-5L、筛孔尺寸为250μm)对印刷用墨水进行网版印刷，在100℃下干燥10分钟而使其不粘着。墨水干燥的厚度为6μm。进一步与上述同样地进行网版印刷，在100℃下进行10分钟的干燥。反复进行该印刷至干燥的步骤，共计进行4次。在150℃下进行30分钟的干燥，制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例25的作为静电电容型输入装置的前面板25，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置25。
(白色网版印刷用墨水：配方S1)
·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝78/22摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3万、丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(固体成分为40.5质量％)：331质量份
·白色颜料分散物1：157质量份
·界面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、大日本油墨股份有限公司制造)：1.0质量份
前面板25相对于前面板5而言亮度、装饰层密接、收率、开口部污垢稍稍降低，但为实用级别，其他评价结果也同等，为实用级别。
前面板25在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例26]
在实施例25中使用着色层用涂布液配方L5，将所形成的装饰层的厚度由6μm设为2μm，制作实施例26的装饰层形成用转印膜。使用所制作的实施例26的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板26′。其次，在前面板26′上，使用网版印刷用墨水S1，利用网版印刷机(三岛(MISHIMA)股份有限公司制造；UDF-5L、筛孔尺寸为250μm)对印刷用墨水进行网版印刷，在100℃下干燥10分钟而使其不粘着。墨水干燥后的厚度为2μm。进一步与上述同样地进行网版印刷，在100℃下进行10分钟的干燥。反复进行该印刷至干燥的步骤，共计进行5次。在150℃下进行30分钟的干燥，制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。其后，与实施例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例26的作为静电电容型输入装置的前面板26，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置26。
前面板26相对于前面板1而言亮度、网状组织、不均、收率、装饰层密接、开口部缺落、开口部污垢、收率降低，但为实用级别，显影残渣得到改善。另外，白度的评价结果同等，为实用级别。
前面板26在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
[实施例27]
在实施例5中，使用着色层用涂布液配方L5，将所形成的装饰层的厚度由35μm设为42μm，制作实施例27的装饰层形成用转印膜。
与实施例5同样地自所得的装饰层形成用转印膜(实施例27的转印膜)除去保护膜，用层叠机将其层叠于硅烷偶合处理玻璃基材上。继而在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体，将临时支撑体除去。以后与实施例5同样地进行而形成装饰层，制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例27的作为静电电容型输入装置的前面板27，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置27。
前面板27相对于前面板5而言虽然白度、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落、预切适合性降低，但为实用级别，另外亮度、收率、网状组织的评价结果同等，为实用级别。
前面板27在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例28]
使用在实施例20的着色层用涂布液配方中，并未改变硅酮树脂的总固体成分添加量地变更为硅酮树脂KR300与硅酮树脂KR311的固体成分为1/1的等量混合物(实施例28)的着色层用涂布液L28，亦即变更为下述表3中所示的粘合剂，除此以外与实施例20同样地进行而制作实施例28的装饰层形成用转印膜。使用所制作的实施例28的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例20同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例20同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例28的作为静电电容型输入装置的前面板28，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置28。
前面板28相对于前面板20而言虽然白度、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落、预切适合性降低，但为实用级别，另外亮度、收率、网状组织的评价结果同等，为实用级别。
前面板28在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例29]
使用在实施例28的着色层用涂布液配方中，添加有硅酮树脂的总固体成分添加量的4质量％的锌系缩合催化剂D-15(信越化学工业股份有限公司制造)的着色层用涂布液L29，除此以外与实施例28同样地进行而制作实施例29的装饰层形成用转印膜。使用所制作的实施例29的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例28同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例29的作为静电电容型输入装置的前面板29，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置29。
前面板29相对于前面板28而言虽然白度、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落、预切适合性降低，但为实用级别，另外，亮度、收率、网状组织的评价结果同等，为实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例30及实施例31]
在实施例29的着色层用涂布液配方中，未改变硅酮树脂的总固体成分添加量地分别将硅酮树脂KR300与硅酮树脂KR311的固体成分比率自1/1(实施例29)变更为3/7(实施例30)、7/3(实施例31)，除此以外与实施例29同样地进行而制作实施例30及实施例31的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例30及实施例31的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例30及实施例31的作为静电电容型输入装置的前面板30及前面板31，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置30及图像显示装置31。
前面板30及前面板31的转印性、预切适合性、亮度、白度、网状组织、收率、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落为实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例32～实施例36]
在实施例29的着色层用涂布液配方中，并不改变硅酮树脂的总固体成分添加量地以成为硅酮树脂KR400(实施例32)、硅酮树脂KR500(实施例33)、硅酮树脂KR400与硅酮树脂KR500的固体成分比＝3/7(实施例34)、硅酮树脂KR400与硅酮树脂KR500的固体成分比＝7/3(实施例35)、硅酮树脂KR400、硅酮树脂KR500与硅酮烷氧基寡聚物X-40-9225的固体成分比＝70/30/2.5(实施例36)的方式进行变更，除此以外与实施例29同样地进行而制作实施例32～实施例36的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例32～实施例36的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例32～实施例36的作为静电电容型输入装置的前面板32～前面板36，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置32～图像显示装置36。
前面板32～前面板36的转印性、预切适合性、亮度、白度、网状组织、收率、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落为实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例37～实施例42]
在实施例29的着色层用涂布液配方中，并不改变硅酮树脂的总固体成分添加量地变更为合成例1的甲苯溶液(实施例37；甲基-甲苯基型硅酮树脂)、合成例2的缩合物的甲苯溶液(实施例38；甲基-苄基型硅酮树脂)、合成例3的缩合物的甲苯溶液(实施例39；甲基-异丙苯基型硅酮树脂)、合成例4的缩合物的甲苯溶液(实施例40；乙基-甲苯基型硅酮树脂)、合成例5的缩合物的甲苯溶液(实施例41；丙基-甲苯基型硅酮树脂)、合成例6的缩合物的甲苯溶液(实施例42；甲基-氢型硅酮树脂)，除此以外与实施例29同样地进行而制作实施例37～实施例42的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例37～实施例42的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例29同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例37～实施例42的作为静电电容型输入装置的前面板37～前面板42，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置37～图像显示装置42。
前面板37～42的转印性、预切适合性、亮度、白度、网状组织、收率、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落为实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例43及实施例44]
使用在实施例1的着色层用涂布液配方中，并不改变硅酮树脂的总固体成分添加量地分别变更为硅酮树脂KR251(实施例43)、硅酮树脂KR251与硅酮树脂X-40-9246的固体成分为9/1的混合物(实施例44)的着色层用涂布液L43及着色层用涂布液44，亦即改变为下述表3所示的粘合剂，除此以外与实施例1同样地进行而制作实施例43及实施例44的装饰层形成用转印膜。分别使用所制作的实施例28的装饰层形成用转印膜，除此以外与实施例1同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例43及实施例44的作为静电电容型输入装置的前面板43及前面板44，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置43及图像显示装置44。
相对于前面板1而言，前面板43及前面板44的亮度得到大幅改善，转印性、预切适合性、白度、网状组织、收率、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落为实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例45]
如图13及图14中所记载那样自实施例44中所得的装饰层形成用转印膜L44(实施例44的转印膜)的保护膜25侧切入贯通保护膜25、着色层24、中间层23、热塑性树脂层22、临时支撑体21的切口，分成用以转印着色层的图像部32、并不转印着色层的非图像部31。其次，使用胶带仅仅剥离与图像部32对应的区域的保护膜25。以后与实施例44同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表3中。其后，与实施例44同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的实施例45的作为静电电容型输入装置的前面板45，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置45。
前面板45的转印性、预切适合性、亮度、白度、网状组织、收率、装饰层密接、开口部污垢、开口部缺落为实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例1]
将形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)在UV清洗装置中加以清洗后，使用清洗剂进行毛刷清洗，进一步利用超纯水进行超声波清洗。对基材在120℃下进行3分钟的热处理而使表面状态稳定化。使基材冷却而将温度调整为23℃后，利用具有狭缝状喷嘴的玻璃基材用涂布机(FAS日本公司制造、商品名：MH-1600)而涂布实施例5中所得的白色装饰层用涂布液L5。在强化处理玻璃的开口部流入白色装饰层用涂布液L5，产生开口部及基板的背面的污垢。继而通过VCD(真空干燥装置、东京应化工业股份有限公司制造)以30秒对溶剂的一部分进行干燥而使涂布层的流动性变无后，利用晶边去除液(edge bead remover，EBR)将基材周围的不需要的涂布液除去，在120℃下进行3分钟的预烘烤，在所述强化处理玻璃上获得膜厚为5.0μm的白色装饰层L51(液体抗蚀剂法)。
利用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高新电子工程股份有限公司制造)，在使基材与曝光掩模(具有边框图案的石英曝光掩模)垂直竖立的状态下，将曝光掩模面与白色装饰层L51之间的距离设为200μm，在氮气环境下，自白色装饰层L51侧以1000mJ/cm2的曝光量进行图案曝光。
其次，利用喷淋喷嘴而喷雾纯水，使白色装饰层L51的表面均一地湿润之后，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释5倍而成的液体)，在35℃下将喷淋压力设定为0.1MPa，求出未曝光部可完全显影的时间(以后称为断点)，以其1.5倍的显影时间进行显影，利用纯水加以清洗。
进一步通过超高压清洗喷嘴在8MPa的压力下喷射超纯水而进行残渣除去，其次在大气下自基板的表面和背面分别以1300mJ/cm2的曝光量进行后曝光，进一步在真空烘箱中、15mmHg以下的条件下、240℃下进行30分钟的后烘烤处理，获得形成有装饰层的前面板。与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。以后与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的比较例1的作为静电电容型输入装置的前面板51，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置51。
前面板51相对于前面板5而言产生开口部及背面的污垢，必须清洗，收率较大程度地降低，亮度也不充分。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例2]
在比较例1中，将实施例5中所得的着色层用涂布液L5反复涂布7次，获得在所述强化处理玻璃上形成有7层膜厚为5.0μm的层的白色装饰层L52(液体抗蚀剂法)。与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。以后与比较例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的比较例2的作为静电电容型输入装置的前面板52，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置52。
前面板52相对于前面板5而言，产生开口部及背面的污垢，必须清洗，收率较大程度地降低，亮度也不充分。与前面板52相比而言不均进一步恶化，收率变低。
前面板52是属于实用级别。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例3]
对于形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)，一面通过喷淋吹附调整为25℃的玻璃清洗剂液，一面用具有尼龙毛的旋转毛刷进行清洗，在纯水喷淋清洗后，通过喷淋吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名：KBM603、信越化学工业股份有限公司制造)20秒，进行纯水喷淋清洗。将该基材在基材预热装置中在110℃下进行10分钟的加热后，放置冷却至室温。在所得的硅烷偶合处理玻璃基材上，使用上述白色网版印刷用墨水S1，利用网版印刷机(三岛(MISHIMA)股份有限公司制造；UDF-5L、筛孔尺寸为250μm)对印刷用墨水进行网版印刷，在100℃下进行10分钟的预烘烤干燥而使其不粘着。墨水的厚度为6μm。进一步在150℃下进行30分钟的干燥作为最终烘烤，获得白色装饰层L53。另外，所使用的氧化钛微粒子的一次粒径为0.20μm。
其后，与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。以后与比较例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的比较例3的作为静电电容型输入装置的前面板53，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置53。
前面板53相对于前面板1而言亮度及开口部缺落降低，收率降低。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例4]
在比较例3中，反复进行6次网版印刷及预烘烤，进行最终烘烤，获得在所述强化处理玻璃上形成有6层膜厚为6.0μm的层的白色装饰层L54。与实施例5同样地进行而制作形成有装饰层的前面板，将评价的结果记载于下述表2中。其后，以后与比较例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的比较例4的作为静电电容型输入装置的前面板54，及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置54。
前面板54相对于前面板5而言亮度、网状组织、不均、装饰层密接、开口部缺落、开口部污垢降低，收率降低。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
在开口部及背面并无污垢，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例5]
在实施例1的着色层用涂布液配方L1中，添加相同固体成分量的下述聚酰胺酸代替硅酮树脂KR-311，获得着色层用涂布液配方L55。
(聚酰亚胺前驱物聚酰胺酸的聚合)
在反应容器中放入4，4′-亚甲基双(环己胺)210质量份，溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮2860质量份中之后，在氮气流下一面搅拌一面缓缓加入均苯四甲酸二酐的粉末218质量份，在35℃下使其反应8小时，由此获得透明、粘稠的聚酰胺酸溶液。
使用该着色层用涂布液配方L55，与实施例1同样地进行而制作装饰层形成用转印膜L55。将其作为比较例5的转印膜。预切适合性降低，必需烘烤后的装饰层的修复与刀的清洗。使用装饰层形成用转印膜L55，除此以外与实施例1同样地进行而形成在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板55，在烘烤后以约20秒升温至350℃，在350℃下进行7分钟的热处理而使聚酰胺酸的酰亚胺化完成。
其后，与实施例1同样地进行而制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素、以及透明保护层的比较例5的作为静电电容型输入装置的前面板55，包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置55，将评价的结果记载于下述表2中。
前面板55相对于前面板5而言预切适合性、白度、装饰层密接、开口部缺落、收率显著降低，成为NG级别。在开口部及背面的污垢方面并无问题，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。
而且，前面板55在掩模层中并无针孔，光遮断性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的导电性要素的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
根据上述表1～表3可知：通过使用本发明的转印膜，能够以高收率获得转印后的亮度、白度、网状组织及密接良好的白色装饰层。
而且，如上所述地根据使用本发明的转印膜的本发明的静电电容型输入装置的制造方法，能够以简单的步骤高品质地制造具有薄层/轻量化的优点的静电电容型输入装置。因此可知：利用本发明的制造方法而制造的静电电容型输入装置、及使用其的图像显示装置的品质高。
另外可知：根据本发明的静电电容型输入装置的制造方法的更优选的实施方式，即使在使用具有开口部的基板的情形时，抗蚀剂的渗出或基板背面侧的污染也少。
符号的说明
1：前面板
1a：前面板的非接触侧/非接触面
2a：装饰层
2b：掩模层
3：第一透明电极图案
3a：垫部分
3b：连接部分
4：第二透明电极图案
5：绝缘层
6：导电性要素
7：透明保护层
8：开口部
10：静电电容型输入装置
11：强化处理玻璃
12：其他导电性要素
21：临时支撑体
22：热塑性树脂层
23：中间层
24：着色层
25：覆盖膜/保护膜
31：非图像部
32：图像部
33：刀
C：第1方向
D：第2方向

Claims (28)

1.一种转印膜，其特征在于：包含临时支撑体与着色层，
所述着色层至少包含(A)白色无机颜料及(B)硅酮系树脂。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其特征在于，
所述着色层进一步包含(C)抗氧化剂。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其特征在于，
所述硅酮系树脂包含改性硅酮树脂、或在分子内至少含有下述通式(1)所表示的硅氧烷结构的线性硅酮树脂：
通式(1)
[化1]
(通式(1)中，R1独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷氧基、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基、碳数1～20的直链状、分支状或环状的经取代的烷基、碳数2～20的直链状、分支状或环状的烯基、碳数6～20的芳基或碳数7～20的芳烷基)。
4.根据权利要求3所述的转印膜，其特征在于，
所述通式(1)中，R1独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状、分支状或环状的烷基、碳数1～6的直链状、分支状或环状的经取代的烷基或碳数6～9的芳基。
5.根据权利要求3所述的转印膜，其特征在于，
所述通式(1)中，R1独立地表示氢原子、甲基或甲苯基。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其特征在于，
所述着色层的厚度为1μm～40μm。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜，其特征在于，
所述白色无机颜料相对于所述着色层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜，其特征在于，
所述白色无机颜料是利用无机物进行了表面处理的金红石型氧化钛。
9.根据权利要求8所述的转印膜，其特征在于，
所述金红石型氧化钛是至少利用氧化铝、氧化锆的任一个进行了表面处理的金红石型氧化钛。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的转印膜，其特征在于，
在所述临时支撑体与所述着色层之间具有热塑性树脂层。
11.一种静电电容型输入装置的制造方法，其是包括前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)及(3)～(5)的要素的静电电容型输入装置的制造方法，且其特征在于包含：
将根据权利要求1至10中任一项所述的转印膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成所述(1)装饰层的步骤；
(1)装饰层
(3)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案
(4)与所述第一透明电极图案电绝缘，且在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二电极图案
(5)使所述第一透明电极图案与所述第二电极图案电绝缘的绝缘层。
12.根据权利要求11所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素。
13.根据权利要求11或12所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
所述第二电极图案是透明电极图案。
14.根据权利要求11至13中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
在0.08atm～1.2atm的环境下将根据权利要求1至10中任一项所述的转印膜的所述着色层加热至180℃～300℃而形成所述(1)装饰层。
15.根据权利要求14所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
在空气环境下进行所述着色层的加热。
16.根据权利要求11至15中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于包含：
在所述转印膜的一部分切出贯通所述着色层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤；
将由所述切口围成的区域中的至少一部分区域的所述着色层除去的步骤；
使用除去所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜而形成所述(1)装饰层的步骤。
17.根据权利要求11至16中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
在所述(1)装饰层的与所述前面板侧相反侧的面上进一步设置(2)掩模层。
18.根据权利要求17所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个设置成跨在所述前面板的非接触面及所述掩模层的与所述前面板侧相反侧的面的双方区域。
19.根据权利要求17或18所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素，并且
至少在所述掩模层的与前面板侧相反侧的面侧设置所述(6)其他导电性要素。
20.根据权利要求11至19中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
进一步以覆盖所述(1)及(3)～(5)的要素的全部或一部分的方式设置透明保护层。
21.根据权利要求20所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
使用依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜而形成所述透明保护层。
22.根据权利要求11至21中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素，
所述第二电极图案是透明电极图案，
使用利用依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案，对透明导电材料进行蚀刻处理而形成所述(3)第一透明电极图案、所述(4)第二电极图案及所述(6)导电性要素的至少一个。
23.根据权利要求11至21中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
所述静电电容型输入装置进一步包含(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素，
所述第二电极图案是透明电极图案，
转印依序包含临时支撑体与导电性硬化性树脂层的转印膜的所述导电性硬化性树脂层而形成所述(3)第一透明电极图案、所述(4)第二电极图案及所述(6)导电性要素的至少一个。
24.根据权利要求11至23中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
对所述前面板的非接触面进行表面处理，
在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置所述转印膜。
25.根据权利要求24所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
在所述前面板的表面处理中使用硅烷化合物。
26.根据权利要求11至25中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于，
所述前面板在至少一部分具有开口部。
27.一种静电电容型输入装置，其特征在于：
利用根据权利要求11至26中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法制造而成。
28.一种图像显示装置，其特征在于：
包含根据权利要求27所述的静电电容型输入装置作为构成要素。
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