CN104246607A - 感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种感光性膜，其具有临时支撑体及光固化性树脂层，所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为1μm～40μm，所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％，根据所述感光性膜，能够以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层。

Description

感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置
技术领域
本发明涉及用于制造能够以静电电容的变化来检测出手指的接触位置的静电电容型输入装置的装饰用感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法、及通过该制造方法获得的静电电容型输入装置以及具备该静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置。
背景技术
在手机、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来有如下设备，在液晶装置等的表面配置有面板型输入装置，能够通过一边参照液晶装置的图像显示区域所显示的指示图像，一边使手指或触摸笔等接触显示该指示图像的部位，由此输入与指示图像对应的信息。
这种输入装置(触摸面板)有电阻膜型、静电电容型等。但是，电阻膜型的输入装置由于是膜和玻璃的2片结构，且是通过对膜进行按压而使其短路的结构，所以具有操作温度范围窄、或经时变化弱的缺点。
与此相对，静电电容型的输入装置具有只要仅在一片基板上形成透光性导电膜即可的优点。该静电电容型的输入装置中，有如下类型的装置，例如在相互交叉的方向上使电极图案延伸存在，在手指等接触时，探测电极间的静电电容变化来检测出输入位置(例如参照下述专利文献1)。
另外，作为静电电容型的输入装置，也有如下类型的装置：在对透光性导电膜的两端施加同相、同电位的交流电，探测手指接触或接近而形成电容器时所流通的微弱电流，检测出输入位置。作为这种静电电容型输入装置，公开有如下静电电容型输入装置，其具备：多个第一透明电极图案，将多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成；多个第二透明电极图案，经由层间绝缘层与所述第一透明电极图案电绝缘，且由在与第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分构成(例如参照下述专利文献2)。但是，该静电电容型输入装置由于在所制作的静电电容型输入装置上层叠前面板，所以存在静电电容型输入装置变厚，并且变重的问题。
进而，公开有在前面板的非接触侧表面一体化地形成掩模层、读出电路、层间绝缘层的静电电容型触摸面板(例如参照下述专利文献3)。该专利文献3中，由于前面板和静电电容型输入装置一体化，所以静电电容型触摸面板可薄层/轻量化，可根据需要在所述掩模层和前面板之间设置多种色调(黑、白、浅色系、金属色等)的装饰层，其中特别要求提高白色装饰层的明度和白色度。
目前，作为设置该装饰层的方法，主流是利用液体抗蚀剂涂布或网版印刷等。
另一方面，在液晶或有机EL显示器上具备静电电容型触摸面板的智能手机或平板电脑中，开发且发表了在前面板(直接以手指接触的面)上使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃的结构。
若想要在该基板上，使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网版印刷墨液来形成白色装饰层，则为了使用遮盖力小的液体抗蚀剂或网版印刷墨液形成白色装饰层，必须分成数次进行液体抗蚀剂涂布及网版印刷，存在产生由此引起的泡、不均匀，存在着因工序数目多而引起收率降低等、不容易降低成本的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-122326号公报
专利文献2：日本专利第4506785号
专利文献3：日本特开2009-193587号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明人进行研究而得知，在通过所述文献中记载的方法形成白色装饰层的情况下，无法获得满足明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀的全部特性的性能的白色装饰层。
另外可知，也难以高收率地获得满足所述特性的白色装饰层。
本发明所要解决的课题在于，提供一种能够以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层的感光性膜。
随之，本发明的课题在于，提供能够以简便工序高质量地制造出使用了满足所述特性的感光性膜、且可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置制造方法、及利用该制造方法获得的静电电容型输入装置以及使用了该静电电容型输入装置的图像显示装置。
解决问题的方法
[1]一种感光性膜，其具有临时支撑体和光固化性树脂层，其中，
所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为1～40μm，所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20～75质量％。
[2]如[1]所述的感光性膜，其中，所述白色无机颜料优选为金红石型氧化钛。
[3]如[1]或[2]所述的感光性膜，其中，所述(B)单体的固体成分相对于所述(C)粘合剂的固体成分的含量比率B/C优选为0.4以上。
[4]如[1]～[3]中任一项所述的感光性膜，其中，优选在所述临时支撑体和所述光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
[5]一种静电电容型输入装置的制造方法，
所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的至少下述(1)及(3)～(5)的元件，
(1)装饰层；
(3)多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成；
(4)多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分；
(5)绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘，
该制造方法包含：
将[1]～[4]中任一项所述的感光性膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成下述(1)装饰层的工序。
[6]如[5]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件。
[7]如[5]或[6]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述第二电极图案优选为透明电极图案。
[8]如[5]～[7]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选在所述(1)装饰层的与所述前面板相反侧的面上还设置(2)掩模层。
[9]如[8]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一遍及所述前面板的非接触面、以及所述掩模层的与所述前面板相反侧的面这两个区域而设置。
[10]如[8]或[9]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
且将所述(6)其它导电性元件至少设置于所述掩模层的、与前面板相反侧的面侧。
[11]如[5]～[10]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选以覆盖所述(1)及(3)～(5)的元件的全部或一部分的方式进一步设置透明保护层。
[12]如[11]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
优选使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层和光固化性树脂层的感光性膜形成所述透明保护层。
[13]如[5]～[12]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
所述第二电极图案为透明电极图案，
通过使用由依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
[14]如[5]～[13]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
所述第二电极图案为透明电极图案，
将依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及导电性光固化性树脂层的感光性膜的该导电性固化性树脂层进行转印，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
[15]如[5]～[14]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
优选对所述前面板的非接触面进行表面处理，
在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置[1]～[4]中任一项所述的感光性膜。
[16]如[15]所述的静电电容型输入装置的制造方法，在所述前面板的表面处理中优选使用硅烷化合物。
[17]如[5]～[16]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，优选所述前面板在至少一部分具有开口部。
[18]一种静电电容型输入装置，其是按照[5]～[17]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法制造的。
[19]一种图像显示装置，其具备[18]所述的静电电容型输入装置作为构成元件。
发明效果
根据本发明，能够提供一种可以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层的感光性膜。
根据本发明，还可提供一种能够以简便工序高质量地制造出使用了满足所述特性的感光性膜的、可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置制造方法、及利用该制造方法获得的静电电容型输入装置以及使用了该静电电容型输入装置的图像显示装置。
附图说明
[图1]是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。
[图2]是表示本发明的前面板的一例的说明图。
[图3]是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。
[图4]是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的上表面图。
[图5]是表示形成有装饰层、掩模层的前面板的一例的上表面图。
[图6]是表示形成有第一透明电极图案的前面板的一例的上表面图。
[图7]是表示形成有第一及第二透明电极图案的前面板的一例的上表面图。
[图8]是表示形成有和第一及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的前面板的一例的上表面图。
[图9]是表示金属纳米线剖面的说明图。
[图10]是表示半切的方法的说明图。
[图11]是表示在前面板的X-X’剖面形成装饰层所使用的转印膜的半切方法的说明图。
[图12]是表示在前面板的Y-Y’剖面形成装饰层所使用的转印膜的半切方法的说明图。
[图13]是表示模切方法的说明图。
[图14]是表示在前面板的X-X’剖面形成装饰层所使用的转印膜的模切方法的说明图。
[图15]是表示在前面板的Y-Y’剖面形成装饰层所使用的转印膜的模切方法的说明图。
符号说明
1：前面板
2a：装饰层
2b：掩模层
3：第一透明电极图案
3a：衬垫部分
3b：连接部分
4：第二透明电极图案
5：绝缘层
6：导电性元件
7：透明保护层
8：开口部
10：静电电容型输入装置
11：强化处理玻璃
12：其它的导电性元件
21：临时支撑体
22：热塑性树脂层
23：中间层
24：着色层
25：覆盖膜
31：非图像部
32：图像部
33：刀刃
C：第1方向
D：第2方向
具体实施方式
下面，对本发明的感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置进行说明。
以下所记载的构成要件的说明基于本发明的代表性实施方式，但本发明不限定于这样的实施方式。此外，本申请说明书中的“～”以含有其前后记载的数值作为下限值及上限值的含义来使用。
[感光性膜]
本发明的感光性膜具有临时支撑体及光固化性树脂层，所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为1μm～40μm，且所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。
由于具有这种构成，本发明的感光性膜能够以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层。
本发明的感光性膜具有临时支撑体及光固化性树脂层。另外，也可以在临时支撑体和光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
本发明中使用的感光性膜可以为负型材料，也可以为正型材料。
<临时支撑体>
作为临时支撑体，可使用具有挠性，且在加压下或在加压及加热下不会产生明显变形、收缩或伸长的材料。作为上述支撑体的例子可举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中，特别优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
临时支撑体的厚度没有特别限制，通常为5μm～200μm的范围，就操作容易度、通用性等方面而言，特别优选为10μm～150μm的范围。
另外，临时支撑体可以为透明的，也可以含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
另外，对于临时支撑体，可利用日本特开2005-221726记载的方法等赋予导电性。
<光固化性树脂层>
对于本发明的感光性膜而言，所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为1μm～40μm，且所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。
(厚度)
从用于提高将本发明的感光性膜作为静电电容型输入装置的装饰层的光固化性树脂层的遮盖力的观点出发，所述光固化性树脂层的厚度需为1μm～40μm。
所述光固化性树脂层的厚度更优选为1.5μm～38μm，特别优选为1.8μm～35μm。
(组成)
-(A)白色无机颜料-
作为所述光固化性树脂层中使用的所述白色无机颜料，可使用日本特开2005-7765公报的段落[0015]或段落[0114]中记载的白色颜料。
具体而言，优选为氧化钛(金红石型)、氧化钛(锐钛矿型)、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白碳、氧化铝、氢氧化铝、硫酸钡。更优选为氧化钛(金红石型)、氧化钛(锐钛矿型)、氧化锌，进一步优选为氧化钛(金红石型)、氧化钛(锐钛矿型)，进而更优选为金红石型氧化钛。
氧化钛的表面可进行二氧化硅处理、氧化铝处理、有机物处理。
由此可抑制氧化钛的催化剂活性，可改善耐热性、褪光性等。
所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％，由此能够形成具有良好的明度及白色度，且同时满足其它所要求的特性的装饰层。另外，从在将本发明的感光性膜用于后述本发明的静电电容型输入装置的制造方法时，能够充分缩短显影时间的观点出发，所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率也需为20质量％～75质量％。
所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率更优选为25质量％～60质量％，进一步优选为30质量％～50质量％。
本说明书中所述的总固体成分是指从所述光固化性树脂层中去除了溶剂等不挥发成分的总质量。
所述白色无机颜料(此外，关于后述的掩模层中使用的其他着色剂也同样)期望作为分散液使用。该分散液可通过将所述白色无机颜料和颜料分散剂预先混合而获得的组成物添加于后述有机溶剂(或载色剂)中，使其分散而制备。所谓载色剂是指在涂料处于液体状态时使颜料分散的媒质的部分，包含液态且和所述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)以及将其溶解稀释的成分(有机溶剂)。
作为使所述白色无机颜料分散时使用的分散机，没有特别限制，例如可举出：朝仓书店2000年发行的朝仓邦造著“颜料词典”第一版第438项中记载的捏合机、辊磨机、研磨机、超级磨机、溶解器、均质机、砂磨机等公知的分散机。进而也可以通过该文献第310页记载的机械性磨碎，利用摩擦力来进行微粉碎。
从分散稳定性及遮盖力的观点出发，作为本发明中使用的所述白色无机颜料(装饰层形成用着色剂)的白色无机颜料，优选初级粒子的平均粒径为0.16μm～0.3μm的颜料，进一步优选初级粒子的平均粒径为0.18μm～0.27μm的颜料。进而特别优选初级粒子的平均粒径为0.19μm～0.25μm的颜料。若初级粒子的平均粒径为0.16μm，则存在遮盖力急剧下降而容易看到掩模层的基底，或引起粘度上升。另一方面，若初级粒子的平均粒径超过0.3μm，则白色度下降，同时遮盖力急剧下降，另外涂布时的表面状况恶化。
此外，在此所说的“初级粒子的平均粒径”是指在将粒子的电子显微镜拍摄图像设定为同面积的圆时的直径，另外，所谓“数均粒径”是对多个粒子求出所述粒径，是指其100个的平均值。
另一方面，在以分散液、涂布液中的平均粒径进行测定的情况下，可使用激光散射HORIBA H(株式会社堀场Advanced techno公司制)。
-(B)单体-
作为所述光固化性树脂层中使用的所述单体，只要不违反本发明的主旨，则没有特别限制，可使用公知的聚合性化合物。
作为所述聚合性化合物，可使用日本专利第4098550号的段落[0023]～段落[0024]中记载的聚合性化合物。
对于本发明的感光性膜而言，所述(B)单体的固体成分相对于所述(C)粘合剂的固体成分的含量比率B/C优选为0.4以上，更优选为0.58～0.95，特别优选为0.6～0.9。
-(C)粘合剂-
所述光固化性树脂层中使用的所述粘合剂只要不违反本发明的主旨，就没有特别限制，可使用公知的聚合性化合物。
在本发明的感光性膜为负型材料的情况下，光固化性树脂层中优选含有碱可溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发系。进而可使用着色剂、添加剂等，但不限于此。
本发明中使用的感光性膜中所含的碱可溶性树脂可使用日本特开2011-95716号公报的段落[0025]、日本特开2010-237589号公报的段落[0033]～段落[0052]中记载的聚合物。
在所述感光性膜为正型材料的情况下，可在光固化性树脂层中使用例如日本特开2005-221726记载的材料等，但不限于此。
-(D)光聚合引发剂-
作为所述光固化性树脂层中使用的所述光聚合引发剂，可使用日本特开2011-95716号公报中记载的[0031]～[0042]中记载的聚合性化合物。作为这样的光聚合引发剂，可举出“Irgacure-651”、“Irgacure-184D”、“Irgacure-1800”、“Irgacure-907”、“Irgacure-369”、“Irgacure OXE01”、“Irgacure OXE02”(以上为Ciba Speciality Chemicals公司制)。
-添加剂-
进而，所述光固化性树脂层也可以使用添加剂。作为所述添加剂，例如可举出：日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本特开2009-237362号公报的段落[0060]～[0071]中记载的表面活性剂、或日本专利第4502784号公报的段落[0018]中记载的热聚合防止剂、以及日本特开2000-310706号公报的段落[0058]～[0071]中记载的其它添加剂。
-溶剂-
另外，作为通过涂布来制造本发明的感光性膜时的溶剂，可使用日本特开2011-95716号公报的段落[0043]～[0044]中记载的溶剂。
以上，以本发明的感光性膜为负型材料的情况为中心进行说明，但所述感光性膜也可以为正型材料。
(光固化性树脂层的粘度)
光固化性树脂层的100℃下测定的粘度处于2000～50000Pa·sec的范围，进一步优选满足下式(A)。
式(A)：热塑性树脂层的粘度＜光固化性树脂层的粘度
在此，各层的粘度可按如下方式进行测定。通过大气压及减压干燥，从热塑性树脂层或光固化性树脂层用涂布液中去除溶剂并将其作为测定样品，例如使用Vibron(DD-III型：东洋鲍德温(株)制)作为测定器，在测定起始温度50℃、测定结束温度150℃、升温速度5℃/分钟及频率1Hz/deg的条件下进行测定，可使用100℃的测定值。
<热塑性树脂层>
本发明的感光性膜优选在临时支撑体和着色感光性树脂层之间设置热塑性树脂层。所述热塑性树脂层优选为碱可溶性。热塑性树脂层以可吸收基底表面的凹凸(也包含由已形成的图像等引起的凹凸等)的方式承担着作为缓冲材料的作用，优选具有可根据对象面的凹凸来变形的性质。
热塑性树脂层优选含有日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质作为成分的方式，特别优选含有选自以维氏(Vicat)法[具体而言，利用美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法]测得的软化点约为80℃以下的有机高分子物质中的至少1种物质的方式。
具体而言，可举出：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏氯乙烯、偏氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯和乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。
热塑性树脂层的层厚优选为3μm～30μm。在热塑性树脂层的层厚低于3μm的情况下，存在层压时的追随性不充分，无法完全吸收基底表面的凹凸的情况。另外，在层厚超过30μm的情况下，存在下述情况：形成热塑性树脂层时的干燥(去除溶剂)会对临时支撑体施加负荷，或热塑性树脂层的显影需要时间，使工艺适应性恶化。作为所述热塑性树脂层的层厚，进一步优选为4μm～25μm，特别优选为5μm～20μm。
热塑性树脂层可将含有热塑性有机高分子的制备液进行涂布等来形成，涂布等时使用的制备液可使用溶剂来制备。对于溶剂，只要是可溶解构成该层的高分子成分的溶剂，就没有特别限制，例如可举出：甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。
优选所述热塑性树脂层的100℃下测定的粘度处于1000～10000Pa·sec的范围。
<其它层>
本发明中使用的感光性膜，可以在光固化性树脂层和热塑性树脂层之间设置中间层、或在光固化性树脂层的表面进一部设置保护膜等来适当构成。
基于防止涂布多层时及涂布后的保存时的成分混合的目的，优选在本发明中使用的感光性膜中设置中间层。作为中间层优选为日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”记载的具有氧阻隔功能的氧阻隔膜，曝光时的灵敏度提高，可降低曝光机的时间负荷，生产率提高。
作为所述中间层及保护膜，可适当使用日本特开2006-259138号公报的段落[0083]～[0087]及[0093]中记载的物质。
<感光性膜的制作方法>
本发明的感光性膜可根据日本特开2006-259138号公报的段落[0094]～[0098]中记载的感光性转印材料的制作方法来制作。
具体而言，在形成具有中间层的本发明的感光性膜的情况下，可通过如下操作来适当制作：在临时支撑体上涂布将添加剂和热塑性有机高分子一起溶解而成的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)，使其干燥而设置热塑性树脂层后，在该热塑性树脂层上涂布向不溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液(中间层用涂布液)，使其干燥而层叠中间层，在该中间层上进一步涂布使用不溶解中间层的溶剂所制备的着色感光性树脂层用涂布液，使其干燥而层叠着色感光性树脂层。
[静电电容型输入装置的制造方法]
本发明的静电电容型输入装置的制造方法(以下也称为本发明的制造方法)中,包含将本发明的感光性膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成下述(1)装饰层的工序，其中，所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的至少下述(1)及(3)～(5)的元件。
(1)装饰层
(3)多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成
(4)多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分
(5)绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘
本发明的静电电容型输入装置还具有下述(6)。
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件
另外，本发明的静电电容型输入装置的第二电极图案也可以为透明电极图案。需要说明的是，本说明书中有时代替第二电极图案而对第二透明电极图案进行说明，但第二电极图案的优选方式也和第二透明电极图案的优选方式相同。
进而，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选在所述前面板的非接触侧的所述(1)装饰层的、与所述前面板相反侧的面上进一步设置(2)掩模层。
<静电电容型输入装置的构成>
首先，对利用本发明的制造方法形成的静电电容型输入装置的构成进行说明。图1是表示本发明的静电电容型输入装置中优选的构成的剖面图。图1中，静电电容型输入装置10由前面板1、装饰层2a、掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性元件6、透明保护层7构成。
前面板1由玻璃基板等透光性基板构成，可使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃等。另外，图1中，将前面层1的设置各元件的一侧称为非接触面。本发明的静电电容型输入装置10中，使手指等与前面板1的接触面(非接触面的相反面)接触等而进行输入。以下，有时将前面板称为“基材”。
另外，在前面板1的非接触面上设有掩模层2b。掩模层2b是在触摸面板前面板的非接触侧形成的显示区域周围的框状的图案，为了看不到引伸配线等而形成。
装饰层2a以装饰为目的而形成于掩模层2b上，即触摸面板前面板的非接触侧和掩模层2b之间。
如图2所示，在本发明的静电电容型输入装置10中，优选以覆盖前面板1的一部分区域(图2中输入面以外的区域)的方式设置装饰层2a、掩模层2b。进而，如图2所示，可以在前面板1上，在所述前面板的一部分设置开口部8。可以在开口部8设置按压的机械性开关。作为基材来使用的强化玻璃的强度高，加工困难，因此，通常为了形成所述开口部8而在强化处理前形成开口部8，然后进行强化处理。但是，若要在具有该开口部8的强化处理后的基板上，使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网版印刷墨液来形成白色装饰层透明电极图案，则可能引起以下问题：抗蚀剂成分自开口部泄漏、或抗蚀剂成分自将遮光图案最大限度地形成至前面板的边界为止所必须的掩模层的玻璃端渗出，污染基板背侧，但使用本发明的感光性膜在具有开口部8的基材上形成装饰层2a的情况下，也可以解决上述问题。
在前面板1的非接触面形成有：多个第一透明电极图案3，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成；多个第二透明电极图案4，其与第一透明电极图案3电绝缘、且由在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分构成；绝缘层5，其将第一透明电极图案3和第二透明电极图案4电绝缘。所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述的导电性元件6例如可利用ITO(Indium Tin Oxide)或IZO(Indium Zinc Oxide)等透光性导电性金属氧化膜来制作。作为这种金属膜，可举出：ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；SiO2等金属氧化膜等。此时，各元件的膜厚可设为10nm～200nm。另外，通过烧成将非晶的ITO膜制成多晶的ITO膜，因此，也可以降低电阻。另外，所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述导电性元件6也可以使用具有后述的光固化性树脂层的感光性膜来制造，该光固化性树脂层使用了导电性纤维。除此以外，在由ITO等形成第一透明电极图案等的情况下，可以以日本专利第4506785号公报的段落[0014]～[0016]等为参考。
另外，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少之一可遍及前面板1的非接触面、以及掩模层2的与前面板1相反侧的面这两个区域来设置。图1中，示出第二透明电极图案遍及前面板1的非接触面、以及掩模层2的与前面板1相反侧的面的两区域设置的图。由此，即便是在遍及需要一定厚度的掩模层及前面板背面而层压感光性膜的情况下，通过使用本发明的具有特定层结构的感光性膜，能够在不使用真空层压机等高价设备的条件下，以简单的工序进行在掩模部分边界不产生泡的层压。
使用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4进行说明。图3是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示，第一透明电极图案3是衬垫部分3a经由连接部分3b在第一方向延伸存在而形成的。另外，第二透明电极图案4通过绝缘层5与第一透明电极图案3电绝缘，由在与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向)延伸而形成的多个衬垫部分构成。在此，在形成第一透明电极图案3的情况下，可以将所述衬垫部分3a和连接部分3b一体化地制作，也可以仅制作连接部分3b，将衬垫部分3a和第二透明电极图案4制作(构图)为一体。在将衬垫部分3a和第二透明电极图案4制作(构图)为一体的情况下，如图3所示，以连接部分3b的一部分和衬垫部分3a的一部分连结、且第一透明电极图案3和第二透明电极图案4通过绝缘层5电绝缘的方式形成各层。
图1中，在掩模层2的与前面板1的相反侧的面侧设置有导电性元件6。导电性元件6是与所述第一透明电极图案3及所述第二电极图案4的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案3及所述第二电极图案4不同的其它元件。图1中，表示导电性元件6连接于第二透明电极图案4的图。
另外，图1中，以覆盖全部的各构成元件的方式设置有透明保护层7。透明保护层7也可以以仅覆盖一部分的各构成元件的方式构成。绝缘层5和透明保护层7可以为同一材料，也可以为不同材料。作为构成绝缘层5和透明保护层7的材料优选为表面硬度、耐热性高的材料，可使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。
以下，关于本发明的制造方法，对各层的详情进行说明。
作为本发明的制造方法的过程中形成的方式例，可举出图4～图8的方式。图4是表示形成有开口部8的强化处理玻璃11的一例的上表面图。图5是表示形成有装饰层2a、掩模层2b的前面板的一例的上表面图。图6是表示形成有第一透明电极图案3的前面板的一例的上表面图。图7是表示形成有第一透明电极图案3和第二透明电极图案4的前面板的一例的上表面图。图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件6的前面板的一例的上表面图。其中，图6～图8是用于表示从前面板的装饰层2a侧观察的情况下，前面板内部所存在的第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、其它导电性元件6的配置的概念图，也可以由于利用装饰层2a而不能从装饰层2a侧肉眼观察这些内部的部件。另外，图6～图8中可具有掩模层2b，也可以不具有掩模层2b。这些图表示将所述说明具体化的例子，本发明的范围并不通过这些图而作限定性解释。
<(1)装饰层>
本发明的制造方法的特征在于，使用本发明的感光性膜至少形成所述(1)装饰层。
若使用所述感光性膜来形成所述装饰层2a等，则在具有开口部的基板(前面板)上也不存在抗蚀剂成分自开口部分的泄漏，尤其是不存在抗蚀剂成分从将遮光图案尽可能形成至前面板的边界为止所必须的掩模层的玻璃端的渗出，因此，不会污染基板背侧，能够以简单的工序来制造具有薄层/轻量化的优点的触摸面板。
使用本发明的感光性膜来形成所述装饰层的方法，通常在使用转印膜的情况下，若着色层含有光固化性树脂，则可利用通常的光刻的方法来形成。层压于基材上后，曝光成所需的图案式样，在负型材料的情况下对非曝光部分进行显影处理而去除，在正型材料的情况下对曝光部分进行显影处理而去除，由此可获得图案。此时，显影可利用不同的溶液将热塑性树脂层及光固化性层显影去除，也可以利用同一溶液来去除。在此，关于本发明的转印膜，可以利用下述的通过半切的转印方法或通过模切的转印方法，使用本发明的转印膜来形成装饰层。
通过半切的转印方法中，首先，如图10～图12所示，用剃刀等预切至装饰层的图像部32和非图像部31的边界后，用胶带去除非图像部31的保护膜、装饰层及中间层，进而同样去除图像部32的保护膜，向基板上转印装饰层图案。
另一方面，在模切的转印方法中，首先，如图13～图15所示，利用剃刀等以贯通全层的方式预切至装饰层的图像部32和非图像部31的边界后，利用胶带将除去了所述一部分区域的所述着色层(非图像部31)后所残留的图像部32的保护膜去除，在基板上转印装饰层图案。
接着，通过显影去除热塑性树脂层及中间层，由此可形成装饰层图案。
也可以根据需要组合刷子或高压喷射器等公知的显影设备。显影后，也可以根据需要进行后曝光、后烘烤。
另外，为了提高由后述转印工序中的层压实现的感光性树脂层的粘附性，可预先对基材(前面板)的非接触面实施表面处理。作为所述表面处理，优选实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷偶合处理)。作为硅烷偶合剂，优选具有与感光性树脂相互作用的官能基的硅烷偶合剂。例如通过喷淋而吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液，商品名：KBM603，信越化学(株)制)20秒，并进行纯水喷淋清洗。然后，通过加热使其反应。可以使用加热槽，也可以通过层压机对基板预加热来促进反应。
对于使用本发明的感光性膜来形成永久材料的情况，以形成装饰层的方法为例，对使用本发明感光性膜的图案化方法进行说明。
所述形成装饰层的方法可举出具有以下工序的方法：覆盖膜去除工序，自本发明的感光性膜去除所述覆盖膜；转印工序，将去除所述覆盖膜的所述感光性转印材料的所述感光性树脂层转印于基材上；曝光工序，将转印于基材上的所述感光性树脂层进行曝光；显影工序，将经曝光的感光性树脂层进行显影而获得图案图像。
在以通常的光刻方式形成图像的情况下，可举出具有以下工序的方法：覆盖膜去除工序，从所述感光性膜去除所述覆盖膜；转印工序，将去除了所述覆盖膜的所述感光性转印材料的所述感光性树脂层转印于基材上。
所述形成装饰层的方法也优选包含以下工序：半切工序，在所述转印膜的一部分形成贯通所述着色层、且不贯通所述临时支撑体的深度的切口；将由所述切口包围的区域中至少一部分区域的所述着色层去除的工序；使用将所述一部分区域的所述着色层去除后的所述转印膜形成所述(1)装饰层的工序。
另外，所述形成装饰层的方法也优选包含以下工序：模切工序，在所述转印膜的一部分形成自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口；使用将所述一部分区域的所述着色层去除后的所述转印膜形成所述(1)装饰层的工序。
关于将在所述转印膜的一部分形成贯通所述着色层、且不贯通所述临时支撑体的深度的切口的工序、形成自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的工序，也将其称为对着色层中所转印的图像部预先进行预切的工序。需要说明的是，将形成如上所述的贯通所述着色层、且不贯通所述临时支撑体的深度的切口的情况也称为半切。将形成自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的情况也称为模切。
关于将所述切口包围的区域中的至少一部分区域的所述着色层去除的工序，也将其称为将未转印的非图像部的着色层去除的工序。
进而，在本发明的转印膜包含保护膜、中间层或热塑性树脂层的情况下，将所述切口包围的区域中的至少一部分区域的所述着色层去除的工序优选为将非图像部的保护膜及着色层、及图像部的保护膜去除的工序。
关于使用除去了所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜来形成所述(1)装饰层的工序，也将其称为将所述图像部的着色层转印于基材上的转印工序。
进而，在本发明的转印膜含有保护膜、中间层或热塑性树脂层的情况下，关于使用除去了所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜来形成所述(1)装饰层的工序，优选为将去除了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的着色层转印于基材上的转印工序。
该情况下，进一步使用将所述一部分区域的所述着色层去除后的所述转印膜来形成所述(1)装饰层的工序，优选为包含将转印于基材上的临时支撑体剥离的工序。
该情况下，关于进一步使用去除了所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜来形成所述(1)装饰层的工序，优选为包含将热塑性树脂层及中间层去除的工序。
本发明的制造方法更优选为具有以下工序的方法：对本发明的转印膜的着色层中的转印的图像部预先进行预切的工序；将非图像部的保护膜及着色层、及图像部的保护膜去除的工序；将去除了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的着色层转印于基材上的转印工序；将转印于基材上的临时支撑体剥离的工序；将热塑性树脂层及中间层去除的工序。
另一方面，在所述着色层具有光固化性树脂层的情况下形成所述装饰层的方法，可举出具有以下工序的方法：自所述转印膜去除所述保护膜的保护膜去除工序；将去除了所述保护膜的所述感光性转印材料的所述光固化性树脂层转印于基材上的转印工序。该情况下，优选在所述转印工序后，进一步具有将所转印的光固化性树脂层进行后曝光的工序。
(预切工序)
本发明的制造方法在不利用通常的光刻方式来形成图像的情况下，需要在转印以前在着色层上形成图像部。
作为预切的种类，有如下工序：在所述转印膜的一部分形成贯通所述着色层、且不贯通所述临时支撑体的深度的切口的工序(半切工序)；形成从所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的工序(模切工序)。
(i)半切工序
首先，以下对半切工序进行说明。
作为所述形成切口的方法，没有特别限制，可利用刀刃、激光等任意方法来形成切口，优选利用刀刃形成切口。另外，刀刃的构造没有特别限定。
在所述转印膜例如以临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜的顺序层叠而构成时，例如可通过使用刀刃或激光形成自保护膜上贯通保护膜、着色层、中间层而到达热塑性树脂层的一部分的切口，可以将转印的图像部和未转印的非图像部之间分离。
-去除非图像部的着色层的工序-
要将通过半切而预切的着色层的图像部选择性地转印于基板上，需要研究不使非图像部转印。方法之一是在转印前去除非图像部的着色层的方法，且为去除保护膜后，将非图像部的着色层和中间层同时剥离的方法。另一方法是剥落非图像部上的保护膜，接着将着色层和中间层同时剥离，进而剥落图像部上的保护膜的方法。从直至将要转印之前保护着色层的图像部的观点出发，优选为后者的方法。
(ii)模切工序
接着，以下对在所述转印膜的一部分形成从所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的工序(模切工序)进行说明。
作为所述形成切口的方法，与半切相同，没有特别限制，可利用刀刃、激光等任意方法形成切口，优选为利用刀刃形成切口。另外，刀刃的构造没有特别限定。
在所述转印膜例如以临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜的顺序层叠而构成时，例如通过使用刀刃或激光，形成自保护膜上贯穿保护膜、着色层、中间层、热塑性树脂层、所述临时支撑体的切口，可以将转印的图像部和未转印的非图像部之间分离。
(转印工序)
所述转印工序是将去除了所述覆盖膜的所述感光性膜的所述光固化性树脂层转印于基材上的工序。
此时，优选为通过将所述感光性膜的光固化性树脂层层压于基材上后，去除临时支撑体来进行的方法。
光固化性树脂层向基材表面的转印(贴合)通过将光固化性树脂层重叠于基材表面，进行加压、加热来进行。在进行贴合时，可使用层压机、真空层压机、及能够进一步提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。
(对基材上的感光性树脂组成物进行曝光的工序)
在利用通常的光刻方式来形成图像的情况、使用所述感光性膜而将装饰层应用于基板上的情况下，所述曝光工序优选为将转印于基材上的所述光固化性树脂层进行曝光的工序。
具体而言，可举出如下方法：在形成于所述基材上的光固化性树脂层的上方配置规定的掩模，然后经由该掩模、热塑性树脂层以及中间层而从掩模上方进行曝光。
在此，作为所述曝光的光源，只要是能够照射可将光固化性树脂层进行固化的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源，就可以适当选定来使用。具体而言，可举出超高压水银灯、高压水银灯、金属卤化物灯等。曝光量通常为5～200mJ/cm2左右，优选为10～100mJ/cm2左右。
(显影工序)
在利用通常的光刻方式来形成图像的情况下，所述显影可使用显影液来进行。作为所述显影液，没有特别限定，可使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。此外，显影液优选为光固化性树脂层进行溶解型的显影行为的显影液，例如优选为以0.05～5mol/L的浓度含有pKa＝7～13的化合物的显影液，进而也可以添加少量和水具有混合性的有机溶剂。作为和水具有混合性的有机溶剂可举出：甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单-正丁醚、芐醇、丙酮、甲基乙基酮、环已酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。该有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。
另外，所述显影液中可进一步添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
作为所述显影的方式，可以为浸置显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等的任一种。在此，若对所述喷淋显影进行说明，则可通过喷淋对曝光后的光固化性树脂层吹附显影液，由此去除未固化部分。
另外，在设置热塑性树脂层或中间层的情况下，优选为在显影之前，通过喷淋等来吹附光固化性树脂层的溶解性低的碱性液，去除热塑性树脂层、中间层等。另外，优选为在显影之后，一边通过喷淋吹附清洗剂等，利用刷子等进行擦拭，一边去除显影残渣。显影液的液温度优选为20℃～40℃，另外，显影液的pH值优选为8～13。
另一方面，在将通过半切或模切而预切的着色层转印于基材上的情况下，预先形成所需图案时，可以不包含通常的光刻形式的所述曝光工序或所述显影工序。在该情况下也设置有热塑性树脂层或中间层的情况下，也可以包含：在转印工序后，将所述热塑性树脂层和中间层去除的工序，可使用与通常在光刻方式中使用的所述碱显影液相同的显影液，进行将所述热塑性树脂层和中间层去除的工序。
(后曝光工序)
所述显影工序后也可以包含进行后曝光的工序。
所述后曝光工序可仅从所述感光性树脂组成物的与所述基材相接的一侧的表面方向来进行，也可以仅从不与所述透明基材相接的一侧的表面方向来进行，也可以从两个面的方向来进行。
(其它工序)
本发明的制造方法也可以包含后烘烤工序等其它工序。
此外，作为所述曝光工序、显影工序、及其它工序的例子，也可以将日本特开2006-23696号公报的段落编号[0035]～[0051]中记载的方法适用于本发明中。
此外，构图曝光可在剥离临时支撑体之后进行，也可以在剥离临时支撑体之前进行曝光，然后剥离临时支撑体。可以为经由掩模的曝光，也可以为使用激光等的数字曝光。
<(2)掩模层>
在本发明的制造方法中，除装饰层2a以外，优选掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性元件6、及根据需要的透明保护层7的至少一个元件通过使用临时支撑体上层叠有所述感光性树脂组成物的感光性膜来形成，更优选使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜来形成。
例如，在形成黑色的掩模层2的情况下，可通过使用具有黑色光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的感光性膜，在所述前面板1的表面转印所述黑色光固化性树脂层而形成。
进而，在需要遮光性的掩模层2b的形成中，可通过使用特定层结构的感光性膜来防止感光性膜层压时产生气泡，所述特定层结构为在光固化性树脂层和临时支撑体之间具有热塑性树脂层，可由此形成无光泄漏的高质量的掩模层2b等。
在将所述感光性膜的所述光固化性树脂层作为掩模层使用的情况下，可以在光固化性树脂层中使用着色剂。作为本发明中使用的着色剂，可适宜使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。此外，本发明中可使用白色、黑色、红色、蓝色、绿色等颜料的混合物等。
尤其是在将所述感光性膜的所述光固化性树脂层作为黑色的掩模层使用的情况下，从光学浓度的观点出发，优选含有黑色着色剂。黑色着色剂例如可举出碳黑、钛碳、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中，优选为碳黑。
为了作为其它颜色的掩模层使用，也可以将日本专利第4546276号公报的段落[0183]～[0185]等中记载的颜料、或染料混合使用。具体而言，可适宜使用日本特开2005-17716号公报的段落编号[0038]～[0054]中记载的颜料及染料、日本特开2004-361447号公报的段落编号[0068]～[0072]中记载的颜料、日本特开2005-17521号公报的段落编号[0080]～[0088]中记载的着色剂等。
从分散稳定性的观点出发，本发明中使用的装饰层以外所使用的着色剂优选数均粒径为0.001μm～0.1μm的着色剂，进一步优选为0.01μm～0.08μm的着色剂。此外，在此所谓的“粒径”是指将粒子的电子显微镜拍摄图像设定为同面积的圆时的直径，另外，所谓“数均粒径”是对多个粒子求出所述粒径，是指其100个的平均值。
<(3)多个衬垫部分经由连接部分而在第一方向延伸存在而形成的多个第一透明电极图案>
本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选通过使用由依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
另一方面，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。所述使用依次具有临时支撑体及导电性光固化性树脂层的转印膜来形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一，具体而言，是指将依次具有临时支撑体及导电性光固化性树脂层的转印膜的该导电性光固化性树脂层进行转印而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
即，所述第一透明电极图案3优选通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成。
(蚀刻处理)
在通过蚀刻处理来形成所述第一透明电极图案3的情况下，首先在形成有掩模层2等的前面板1的非接触面上，通过溅射形成ITO等的透明电极层。接着，使用具有蚀刻用光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的感光性膜，通过曝光、显影而在所述透明电极层上形成蚀刻图案。然后，可通过对透明电极层进行蚀刻，构图透明电极，去除蚀刻图案来形成第一透明电极图案3等。
在将本发明的感光性膜作为抗蚀剂(蚀刻图案)来使用的情况下，也可以与所述方法同样地获得抗蚀剂图案。所述蚀刻可利用日本特开2010-152155公报的段落[0048]～[0054]等中记载的公知方法来应用蚀刻、抗蚀剂剥离。
例如，作为蚀刻的方法，可举出通常进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀刻中使用的蚀刻液只要根据蚀刻的对象来适当选择酸性类型或碱性类型的蚀刻液即可。作为酸性类型的蚀刻液可例示：盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等酸性成分单独的水溶液，酸性成分和氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可以使用将多种酸性成分组合而成的成分。另外，作为碱性类型的蚀刻液可例示：氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵之类的有机胺的盐等碱成分单独的水溶液，碱成分和高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱成分也可以使用将多种碱成分组合而成的成分。
蚀刻液的温度没有特别限定，优选为45℃以下。本发明中作为蚀刻掩模(蚀刻图案)来使用的树脂图案通过使用所述光固化性树脂层来形成，由此，对所述温度范围中的酸性及碱性的蚀刻液发挥特别优异的耐性。因此，在蚀刻工序中防止树脂图案剥离，对不存在树脂图案的部分进行选择性蚀刻。
在上述蚀刻后，为了防止生产线污染，也可以根据需要进行清洗工序、干燥工序。关于清洗工序，例如在常温下利用纯水将基材清洗10秒～300秒而进行，关于干燥工序，只要使用鼓风机并适当调整鼓风机压力(0.1～5kg/cm2左右)进行即可。
接着，作为树脂图案的剥离方法，没有特别限定，例如可举出在30℃～80℃、优选为50℃～80℃下，将基材浸渍在搅拌中的剥离液中5～30分钟的方法。本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案在如上所述45℃以下表现出优异的耐药液性，若药液温度成为50℃以上，则表现出因碱性剥离液而膨润的性质。通过这种性质，若使用50℃～80℃的剥离液来进行剥离工序，则具有工序时间缩短、树脂图案的剥离残渣减少的优点。即，通过在所述蚀刻工序和剥离工序之间设置药液温度差，本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案在蚀刻工序中发挥良好的耐药液性，另一方面，在剥离工序中表现出良好的剥离性，可同时满足耐药液性和剥离性这两种相反的特性。
作为剥离液，例如可举出使氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分、或叔胺、季铵盐等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合溶液中得到的剥离液。也可以使用上述剥离液，通过喷射法、喷淋法、浸置法等来剥离。
(使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜的方法)
另外，也可以使用本发明的感光性膜作为提离材料来形成第一透明电极图案、第二透明电极图案及其它导电性部件。该情况下，可通过使用本发明的感光性膜构图后，在基材整面上形成透明导电层，然后连同所堆积的透明导电层一起进行本发明的光固化性树脂层的溶解去除，从而获得所需的透明导电层图案(提离法)。
在使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成所述第一透明电极图案3的情况下，可通过在所述前面板1的表面转印所述导电性光固化性树脂层而形成。
若使用所述具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成所述第一透明电极图案3，则在具有开口部的基板(前面板)上也没有抗蚀剂成分从开口部分的泄漏，不会污染基板背侧，能够以简略的工序来制造具有薄层/轻量化的优点的触摸面板。
进而，第一透明电极图案3的形成中，可通过使用具有特定层结构的本发明的感光性膜，来防止感光性膜层压时的气泡产生，形成导电性优异且电阻小的第一透明电极图案3，所述特定层结构在导电性光固化性树脂层和临时支撑体之间具备热塑性树脂层。
另外，在感光性膜具有导电性光固化性树脂层的情况下，在所述光固化性树脂层中含有导电性纤维等。
～导电性光固化性树脂层(导电性纤维)～
在将所述层叠有导电性光固化性树脂层的感光性膜用于形成透明电极图案、或其它导电性元件的情况下，可将以下的导电性纤维等用于光固化性树脂层。
作为导电性纤维的结构，没有特别限制，可根据目的来适当选择，优选为实心结构及中空结构的任一种。
在此，有时将实心结构的纤维称为“线”，有时将中空结构的纤维称为“管”。另外，有时将平均短轴长度为5nm～1,000nm且平均长轴长度为1μm～100μm的导电性纤维称为“纳米线”。
另外，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm、平均长轴长度为0.1μm～1,000μm且具有中空结构的导电性纤维称为“纳米管”。
作为所述导电性纤维的材料，只要具有导电性，则没有特别限制，可根据目的来适当选择，优选为金属及碳的至少任意之一，这些材料中，所述导电性纤维特别优选金属纳米线、金属纳米管、及碳纳米管的至少任意之一。
-金属纳米线-
--金属--
作为所述金属纳米线的材料，没有特别限制，例如优选为选自长元素周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期中的至少1种金属，更优选为选自第2族～第14族中的至少1种金属，进一步优选为选自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族及第14族中的至少1种金属，特别优选作为主成分而含有。
作为所述金属，例如可举出：铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、这些金属的合金等。这些金属中，从导电性优异的方面出发，优选为主要含有银的金属、或含有银和银以外的金属的合金的金属。
所述主要含有银是指金属纳米线中含有银50质量％以上，优选含有90质量％以上。
所述以与银以合金形式进行使用的金属可举出铂、锇、钯及铱等。这些金属可单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
--形状--
作为所述金属纳米线的形状，没有特别限制，可根据目的适当选择，例如可采取圆柱状、长方体状、剖面成为多边形的柱状等任意的形状，但在需要高透明性的用途中，优选为圆柱状、剖面的多边形的角圆润的剖面形状。
所述金属纳米线的剖面形状可通过在基材上涂布金属纳米线水分散液，利用透射型电子显微镜(TEM)观察剖面而调查。
所述所谓金属纳米线的剖面的角是指将剖面的各边延长、自相邻的边垂下的垂线相交的点的周边部。另外，所谓“剖面的各边”是指将这些相邻的角和角连结的直线。该情况下，将所述“剖面的外周长度”相对于所述“剖面的各边”的总长度的比例作为锐利度。在例如图9所示的金属纳米线剖面中，锐利度能够以实线表示的剖面的外周长度和虚线表示的五角形的外周长度的比例来表示。将该锐利度为75％以下的剖面形状定义为角圆润的剖面形状。所述锐利度优选为60％以下，更优选为50％以下。若所述锐利度超过75％，存在以下情况：在该角中局部存在电子，可能因等离体子吸收增加而残留黄化等，从而导致透明性恶化。另外，有时图案的边缘部的直线性下降而产生不稳定。所述锐利度的下限优选为30％，更优选为40％。
--平均短轴长度及平均长轴长度--
所述金属纳米线的平均短轴长度(有时称为“平均短轴径”、“平均直径”)优选为150nm以下，更优选为1nm～40nm，进一步优选为10nm～40nm，特别优选为15nm～35nm。
若所述平均短轴长度低于1nm，则存在耐氧化性恶化，耐久性变差的情况，若超过150nm，则存在产生由金属纳米线引起的散射，无法获得充分的透明性的情况。
所述金属纳米线的平均短轴长度是使用透射型电子显微镜(TEM，日本电子(株)制，JEM-2000FX)来观察300个金属纳米线，根据其平均值来求出金属纳米线的平均短轴长度。需要说明的是，所述金属纳米线的短轴不为圆形的情况下的短轴长度是将最长者作为短轴长度。
所述金属纳米线的平均长轴长度(有时称为“平均长度”)优选为1μm～40μm，更优选为3μm～35μm，进一步优选为5μm～30μm。
若所述平均长轴长度低于1μm，则存在难以形成密集的网状物，无法获得充分的导电性的情况，若超过40μm，则存在金属纳米线过长而在制造时会缠绕，在制造过程中产生凝聚物的情况。
关于所述金属纳米线的平均长轴长度，使用例如透射型电子显微镜(TEM，日本电子(株)制，JEM～2000FX)来观察300个金属纳米线，并根据其平均值来求出金属纳米线的平均长轴长度。此外，在所述金属纳米线弯曲的情况下，考虑到将其弧作为圆，将根据其半径及曲率算出的值作为长轴长度。
从涂布液的稳定性、涂布时的干燥或构图时的显影时间等工艺适应性的观点出发，导电性光固化性树脂层的层厚优选为0.1μm～20μm，进一步优选为0.5μm～18μm，特别优选为1μm～15μm。从导电性及涂布液的稳定性的观点出发，所述导电性纤维相对于所述导电性光固化性树脂层的总固体成分的含量优选为0.01质量％～50质量％，进一步优选为0.05质量％～30质量％，特别优选为0.1质量％～20质量％。
<(4)与所述第一透明电极图案电绝缘、且由在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分构成的多个第二透明电极图案>
所述第二透明电极图案4可通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成。此时的优选方式和所述第一透明电极图案3的形成方法相同。
<(5)将所述第一透明电极图案和所述第二透明电极图案电绝缘的绝缘层>
在形成绝缘层5的情况下，可通过使用具有绝缘性的光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的本发明感光性膜，在形成有第一透明电极图案的所述前面板1的表面转印所述光固化性树脂层来形成。
此外，在使用所述感光性膜形成绝缘层的情况下，从保持绝缘性的观点出发，光固化性树脂层的层厚优选为0.1μm～5μm，进一步优选为0.3μm～3μm，特别优选为0.5μm～2μm。
<(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件>
所述其它导电性元件6可通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成。
所述第二透明电极图案4可通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成。此时的优选方式和所述第一透明电极图案3的形成方法相同。
<(7)透明保护层>
在形成透明保护层7的情况下，可通过使用具有透明的光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的感光性膜，在形成有各元件的所述前面板1的表面转印所述光固化性树脂层而形成。
在使用所述感光性膜形成透明保护层的情况下，从发挥充分的表面保护能力的观点出发，光固化性树脂层的层厚优选为0.5μm～10μm，进一步优选为0.8μm～5μm，特别优选为1μm～3μm。
《静电电容型输入装置、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置》
利用本发明的制造方法而获得的静电电容型输入装置、及具备该静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置可应用：《最新触摸面板技术》(2009年7月6日发行，TechnoTimes(株))、三谷雄二主编且由CMC出版(2004年12月)的“触摸面板的技术和开发”、2009平板显示器国际论坛(FPD International2009Forum)T-11讲演文本、赛普拉斯半导体公司(Cypress Semiconductor Corporation)的应用批注AN2292等中公开的结构。
实施例
以下，利用实施例对本发明进一步进行具体说明。
以下的实施例所示的材料、用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的宗旨，则可适当变更。因此，本发明的范围并不通过以下所示的具体例作限定性解释。需要说明的是，只要无特别说明，则“％”及“份”为质量基准。
[实施例1]
～本发明的感光性膜的制备～
<装饰层形成用感光性膜L1即实施例1的感光性膜的制备>
使用狭缝状喷嘴将下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂布液涂布在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜临时支撑体上，使其干燥。接着，涂布由下述配方P1构成的中间层用涂布液，使其干燥。进而，涂布由下述配方L1构成的白色光固化性树脂层用涂布液，使其干燥。按照上述方式在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、及干燥膜厚为35μm的白色光固化性树脂层，最后压接保护膜(厚度12μm的聚丙烯膜)。由此来制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(氧阻隔膜)及白色光固化性树脂层成为一体的转印材料，将样品名作为装饰层形成用感光性膜L1(实施例1的感光性膜)。
(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)
所述碳氟系聚合物是40份的C6F13CH2CH2OCOCH＝CH2、55份的H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH＝CH2和5份的H(OCHCH2)7OCOCH＝CH2的共聚物，重均分子量3万，甲基乙基酮30质量％溶液(商品名：Megafac F780F，大日本油墨化学工业(株)制)
需要说明的是，热塑性树脂层用涂布液H1的溶剂去除后的120℃的粘度为1500Pa·sec。
(中间层用涂布液：配方P1)
(白色光固化性树脂层用涂布液：配方L1)
-白色颜料分散物1的组成-
·氧化钛(氧化铝处理金红石型，初级粒径0.2μm
                               ：70.0质量％
·甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比的无规共聚物，重均分子量3.7万)                            ：3.5质量％
·甲基乙基酮(东燃化学(株)制)   ：26.5质量％
<装饰层形成用感光性膜L1即实施例1的感光性膜的评价>
(转印性的评价)
将以上述方式制作的装饰层形成用感光性膜L1(实施例1的感光性膜)的覆盖膜剥离，用层压机贴合后，剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯膜制的临时支撑体，观察剥离后的膜表面，以如下基准进行评价。C以上为实用水平。
<评价基准>
A：遍及全面完全转印，转印性极其良好。
B：仅在膜的边缘存在少许转印残余，转印性良好。
C：膜整体存在少许转印残余，转印性普通。
D：在膜的各处存在膜状的感光性树脂的转印残余，转印性差。
将评价结果记载于下述表1中。
～本发明的静电电容型输入装置的制造～
将按照上述获得的实施例1的感光性膜作为装饰层形成用感光性膜使用，制造实施例1的静电电容型输入装置。
《装饰层的形成》
在形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)上，一边通过喷淋来吹附调整为25℃的玻璃清洗剂液20秒，一边利用具有尼龙毛的旋转刷进行清洗，进行纯水喷淋清洗后，通过喷淋来吹附硅烷偶合液(N-β氨基乙基)γ-基氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液，商品名：KBM603，信越化学工业(株)制)20秒，进行纯水喷淋清洗。利用基材预加热装置将该基材于140℃加热2分钟。从所得的装饰层形成用感光性膜L1(实施例1的感光性膜)去除覆盖膜，以去除后所露出的白色光固化性树脂层的表面和所述硅烷偶合处理玻璃基材的表面接触的方式，在所得的硅烷偶合处理玻璃基材上进行叠层，使用层压机((株)日立工业制(Lamic II型))，在上述于120℃加热了的基材上，以橡胶辊温度120℃、线压100N/cm、搬送速度2.5m/分钟进行层压。接着，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。剥离临时支撑体后，利用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高新电子工程(株)制)，在将基材和曝光掩模(具有框图案的石英曝光掩模)垂直立起的状态下，将曝光掩模面和该白色光固化性树脂层之间的距离设定为500μm，以曝光量1000mJ/cm2(i射线)进行图案曝光。
接着，将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)在30℃，以扁平喷嘴压力0.1MPa进行喷淋显影60秒，去除热塑性树脂层及中间层。接着，对该玻璃基材的上表面吹附空气而控去液体后，通过喷淋吹附纯水10秒，进行纯水喷淋清洗，吹附空气而减少基材上的液体积存。
然后，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(以纯水将商品名：T-CD1(富士胶片(株)制)稀释至5倍而成的溶液)，在35℃将喷淋压力设定为0.1MPa，求出未曝光部能够完全显影的时间(以下称为断点)，以其1.5倍的显影时间进行显影，利用纯水进行清洗。所述装饰层形成用感光性膜LI(实施例1的感光性膜)的断点为110秒。
接着，使用含表面活性剂的清洗液(以纯水将商品名：T-SD3(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在33℃通过喷淋而以锥型喷嘴压力0.1MPa吹附44秒，进而利用具有柔软尼龙毛的旋转刷擦拭所形成的图案像以残渣去除。进而，利用超高压清洗喷嘴，以8MPa的压力喷射超纯水进行残渣去除，利用气刀控去水，进行80℃、10分钟的烘箱干燥。
接着，在大气下，从基板的表面背面分别以曝光量1300mJ/cm2进行后曝光，进而在真空烘箱中于15mmHg以下的条件下，进行240℃、30分钟的后烘烤处理，获得形成有膜厚35μm的装饰层的前面板。从前面板的未形成装饰层的面测定明度，结果L值为83.4。另外，以肉眼观察来判断白色度，结果无问题，为良好的水平。
(膜厚测定)
在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板中，装饰层的膜厚使用表面粗糙度计P-10(TENCOR社制)测定。将其结果记载于下述表1中。
《形成有装饰层的前面板的评价》
(网状结构评价)
将在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板在23℃、相对湿度50％环境下放置24小时后，使用反射光及透过光，利用显微镜观察前面板的装饰层的表面、及与形成有装饰层的面的相反面，根据下述基准进行评价。C以上为实用水平。
<评价基准>
A：在装饰层图案表面完全未确认到细小“褶皱”的产生，极其良好。
B：仅在装饰层图案表面的中央部确认产生一部分极其微弱的“褶皱”，但从形成有装饰层的面的相反面无法辨认，良好。
C：在装饰层图案表面确认产生少量细小的“褶皱”等，但从形成有装饰层的面的相反面无法辨认，是实用上无问题的水平，普通。
D：确认产生相当量的细小“褶皱”等，从形成有装饰层的面的相反面亦观察到微弱的不均匀，为差的水平。
E：在整个面上确认产生细小“褶皱”等，从形成有装饰层的面的相反面亦观察到不均匀，为极差的水平。
将评价的结果记载于下述表1中。
(收率的评价)
制作500片在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板，调查可使用的前面板的收率。
<评价基准>
A：收率超过94％，为非常良好的水平。
B：收率为91％以上且低于94％，为良好的水平。
C：收率为88％以上且低于91％，普通。
D：收率为83％以上且低于88％，差。
E：收率低于83％，非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(装饰层粘附的评价)
根据JIS K5600-5-6：ISO2409(交叉划线法)，在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的装饰层上，以1mm宽度形成切口，利用玻璃纸胶带进行剥落，观察装饰层表面是否存在剥落及针孔。C以上为实用水平。
<评价基准>
A：装饰层成分完全未剥落，粘附，为非常良好的水平。
B：仅在切口边缘存在微少的装饰层成分的剥落，但完全不存在方格的部分，为良好的水平。
C：装饰层成分的方格剥落为0％以上且小于2％，为实用水准，普通。
D：装饰层成分的方格剥落为2％以上且小于5％，确认到方格装饰层成分的剥落，实用上必须修复，差。
E：确认到5％以上的方格装饰层成分的剥落，实用上必须修复，非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(显影残渣评价)
在装饰层显影后，对所形成的装饰图案轮廓部分及周边部分进行SEM观察，以下述基准来评价轮廓及周边是否残留残渣。实用水平为C以上。
<评价基准>
A：完全未看到残渣，残渣极其良好。
B：仅在装饰图案的轮廓部分看到微少的残渣，残渣良好。
C：虽在装饰图案的轮廓部分看到少量残渣，但其它部分未看到残渣，为事实上无问题的水平，残渣普通。
D：在装饰图案轮廓部分看到大量残渣，或不仅在装饰图案周边，而且在其以外的基板上也看到残渣，差。
E：遍及基板整个面而确认到残渣，残渣非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(不均匀的评价)
使60人从基板的表面背面观察所述形成于强化处理玻璃上的装饰层，根据下述评价基准进行不均匀的评价。实用水平为C以上。
<评价基准>
A：辨认到存在不均匀的人数 0～1人
B：辨认到存在不均匀的人数 2～3人
C：辨认到存在不均匀的人数 4～5人
D：辨认到存在不均匀的人数 6～10人
E：辨认到存在不均匀的人数 11人以上
将评价的结果记载于下述表1中。
(开口部污染的评价)
利用显微镜观察在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的开口部，观察装饰层成分是否作为污染存在。
<评价基准>
A：在开口部完全未附着装饰层成分的污染，极其良好。
B：仅在开口部边缘确认到装饰层成分的微少污染，但为可使用的程度，良好。
C：在自开口部边缘至开口部内侧，确认到数μm左右的装饰层成分的污染，但实用上可使用，普通。
D：在自开口部边缘至开口部内侧，确认到装饰层成分的污染直至玻璃厚度的一半，实用上必须修复，差。
E：在自开口部边缘通过开口部内侧直至玻璃的背侧，确认到装饰层成分的污染，非常差。
将评价的结果记载于下述表1中。
(开口部缺陷的评价)
对在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的开口部周边进行显微镜观察，观察是否存在装饰层成分的剥落及针孔。
<评价基准>
A：开口部附近的基板的装饰层成分的剥落完全不存在，为非常良好的水平。
B：仅在开口部边缘存在微少的剥落，其它部分完全不存在剥落，为良好的水平。
C：确认到开口部边缘周边数μm的装饰层成分的剥落，但实用上可使用，普通。
D：在开口部周边数mm宽度确认到装饰层成分的剥落，实用上必须修复，差。
E：在开口部周边数cm宽度确认到装饰层成分的剥落，实用上必须修复，非常差。
《掩模层的形成》
<掩模层形成用感光性膜K1的制备>
在所述装饰层形成用感光性膜L1(实施例1的感光性膜)的制备中，除了将白色光固化性树脂层用涂布液替代为由下述配方K1构成的掩模层形成用光固化性树脂层用涂布液以外，以与装饰层形成用感光性膜L1(实施例1的感光性膜)的制备相同的方式，获得掩模层形成用感光性膜K1(掩模层光固化性树脂层的膜厚为2.2μm)。
(黑色光固化性树脂层用涂布液)
-K颜料分散物1的组成-
[化学式1]
-R颜料分散物1的组成-
·颜料(C.I.颜料红177)          ：18质量％
·粘合剂1(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比的无规共聚物，重均分子量3.7万)                      ：12质量％
·丙二醇单甲醚乙酸酯           ：70质量％
<掩模层的形成>
与装饰层的形成同样地对形成有装饰层的前面板进行清洗，层压将覆盖膜去除的蚀刻用感光性膜K1(基材温度：140℃，橡胶辊温度130℃，线压100N/cm，搬送速度2.2m/分钟)。剥离临时支撑体后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面和该蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为200μm，以曝光量70mJ/cm2(i射线)进行图案曝光。
接着，使用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在33℃显影600秒，然后使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(以纯水将商品名：T-CD1(富士胶片(株)制)稀释至5倍而成的溶液)，在32℃将喷淋压设定为0.1MPa，显影45秒，利用纯水进行清洗。
接着，使用含表面活性剂的清洗液(以纯水将商品名：T-SD3(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在33℃通过喷淋，以锥型喷嘴压力0.1MPa吹附20秒，进而利用具有柔软尼龙毛的旋转刷，擦拭所形成的图案像进行残渣去除。进而，利用超高压清洗喷嘴以9.8MPa的压力喷射超纯水而进行残渣去除。
接着，在大气下从基板的表面背面分别以曝光量1300mJ/cm2进行后曝光，进而进行240℃、80分钟的后烘烤处理，获得以前面板、装饰层、掩模层的顺序形成有光学浓度4.0、膜厚2.0μm的掩模层和装饰层的前面板。
《形成有装饰层及掩模层的前面板的评价》
(明度的评价)
于在强化处理玻璃上形成有装饰层及掩模层的前面板中，从与形成有装饰层的面相反的面垫上黑纸，使用X-Rite社制的938光谱密度计(Spectrodensitometer)进行测定，根据L值来评价明度。实用水平为D以上，优选为C以上。
A：L值为83以上
B：L值为82以上且低于83
C：L值为80以上且低于82
D：L值为77以上且低于80
E：L值低于77
将评价的结果记载于下述表1中。
(白色度的评价)
使60人从基板的表面背面对在强化处理玻璃上形成有装饰层及掩膜层的前面板进行观察，根据下述评价基准来进行白色度的评价。实用水平为C以上。
<评价基准>
A：辨认到带有黄化的人数 0～1人
B：辨认到带有黄化的人数 2～3人
C：辨认到带有黄化的人数 4～5人
D：辨认到带有黄化的人数 6～10人
E：辨认到带有黄化的人数 11人以上
将评价的结果记载于下述表1中。
《第一透明电极图案的形成》
<透明电极层的形成>
将形成有掩模层的前面板导入至真空腔室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟：锡＝95：5(摩尔比))，通过DC磁控溅射(条件：基材的温度250℃，氩压0.13Pa，氧压0.01Pa)，形成厚度40nm的ITO薄膜，获得形成有透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□。
<蚀刻用感光性膜E1的制备>
在所述装饰层形成用感光性膜L1的制备中，除了将白色光固化性树脂层用涂布液替代为由下述配方E1构成的蚀刻用光固化性树脂层用涂布液以外，以和装饰层形成用感光性膜L1的制备相同的方式，获得蚀刻用感光性膜E1(蚀刻用光固化性树脂层的膜厚为2.0μm)。
(蚀刻用光固化性树脂层用涂布液：配方E1)
<第一透明电极图案的形成>
以与装饰层的形成相同的方式，将形成有透明电极层的前面板进行清洗，层压将覆盖膜去除后的蚀刻用感光性膜E1(基材温度：130℃，橡胶辊温度120℃，线压100N/cm，搬送速度2.2m/分钟)。剥离临时支撑体后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面和该蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为200μm，以曝光量50mJ/cm2(i射线)进行图案曝光。
接着，使用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在25℃处理100秒，然后使用含表面活性剂的清洗液(将商品名：T-SD3(富士胶片(株)制)以纯水稀释至10倍而成的溶液)，在33℃处理20秒，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行残渣去除，进而进行130℃、30分钟的后烘烤处理，获得形成有透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板。
将形成有透明电极层及蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板浸渍于加入有ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液；液温30℃)的蚀刻槽中，进行100秒处理，将未被蚀刻用光固化性树脂层覆盖的露出区域的透明电极层溶解去除，获得附着有蚀刻用光固化性树脂层图案的带有透明电极层图案的前面板。
接着，将附着有蚀刻用光固化性树脂层图案的带有透明电极层图案的前面板浸渍于加入有抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名：Surfynol465，Air Products制)，液温45℃)的抗蚀剂剥离槽中，进行200秒处理，将蚀刻用光固化性树脂层去除，获得形成有装饰层、掩模层、及第一透明电极图案的前面板，所述第一透明电极图案遍及所述前面板的非接触面、以及所述掩模层的和所述前面板相反侧的面的两方区域设置。
《绝缘层的形成》
<绝缘层形成用感光性膜W1的制备>
在装饰层形成用感光性膜L1的制备中，除了将白色光固化性树脂层用涂布液替代为由下述配方W1构成的绝缘层用光固化性树脂层用涂布液以外，以和装饰层形成用感光性膜L1的制备相同的方式获得绝缘层形成用感光性膜W1(绝缘层用光固化性树脂层的膜厚为1.4μm)。
(绝缘层形成用涂布液：配方W1)
此外，绝缘层形成用涂布液W1的溶剂去除后的100℃的粘度为4000Pa·sec。
以与装饰层的形成相同的方式，对所述带有第一透明电极图案的前面板进行清洗、硅烷偶合处理，层压将覆盖膜去除后的绝缘层形成用感光性膜W1(基材温度：100℃，橡胶辊温度120℃，线压100N/cm，搬送速度2.3m/分钟)。剥离临时支撑体后，将曝光掩模(具有绝缘层用图案的石英曝光掩模)面和该蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为100μm，以曝光量30mJ/cm2(i射线)进行图案曝光。
接着，使用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在33℃处理60秒，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(以纯水将商品名：T-CD1(富士胶片(株)制)稀释至5倍而成的溶液)，在25℃处理50秒，然后使用含表面活性剂的清洗液(以纯水将商品名：T-SD3(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在33℃处理20秒，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行残渣去除，进而进行230℃、60分钟的后烘烤处理，获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板。
《第二透明电极图案的形成》
<透明电极层的形成>
以与所述第一透明电极图案的形成相同的方式，对形成有第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板进行DC磁控溅射处理(条件：基材的温度50℃，氩压0.13Pa，氧压0.01Pa)，形成厚度80nm的ITO薄膜，获得形成有透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为110Ω/□。
以与第一透明电极图案的形成相同的方式，使用蚀刻用感光性膜E1，获得形成有第一透明电极图案、绝缘层图案、透明电极层、蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板(后烘烤处理，130℃、30分钟)。
进而，以与第一透明电极图案的形成的形成相同的方式进行蚀刻(30℃、50秒)，将蚀刻用光固化性树脂层去除(45℃、200秒)，由此获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、及第二透明电极图案的前面板，所述第二透明电极图案遍及所述前面板的非接触面及所述掩模层的和所述前面板相反侧的面的两区域来设置。
《与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的形成》
以与所述第一透明电极图案、及第二透明电极图案的形成相同的方式，对形成有第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板进行DC磁控溅射处理，获得形成有厚度200nm的铝(Al)薄膜的前面板。
以与所述第一透明电极图案、及第二透明电极图案的形成相同的方式，使用蚀刻用感光性膜E1，获得形成有第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板(后烘烤处理，130℃、30分钟)。
进而，以与第一透明电极图案的形成相同的方式进行蚀刻(30℃、50秒)，将蚀刻用光固化性树脂层去除(45℃、200秒)，由此获得形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、以及与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的前面板。
《透明保护层的形成》
以与绝缘层的形成相同的方式，在形成有与所述第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的前面板上，层压将覆盖膜去除后的绝缘层形成用感光性膜W1，剥离临时支撑体后，不经由曝光掩模而以曝光量50mJ/cm2(i射线)进行前面曝光，进行显影、后曝光(1000mJ/cm2)、后烘烤处理，获得以覆盖掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、以及与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的全部的方式层叠有绝缘层(透明保护层)的前面板1。将所得的前面板1作为实施例1的静电电容型输入装置。
《图像显示装置(触摸面板)的制作》
在利用日本特开2009-47936公报中记载的方法来制造的液晶显示元件上贴合先前制造的前面板1(实施例1的静电电容型输入装置)，通过公知的方法制作具备静电电容型输入装置作为构成元件的实施例1的图像显示装置1。
《前面板1、及图像显示装置1的整体评价》
在所述各工序中，关于形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、以及与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的前面板1(实施例1的静电电容型输入装置)，在开口部、及背面不存在污染，容易进行清洗，且不存在其它部件的污染的问题。
另外，在装饰层上无针孔，白色度、不均匀也没有问题。掩模层上同样无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与它们不同的其它导电性元件各自的导电性没有问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例2]
《层叠有导电性光固化性树脂层的感光性膜C1的制作》
在装饰层形成用感光性膜L1的制备中，除了将白色光固化性树脂层用涂布液替代为由下述配方C1构成的导电性光固化性树脂层形成用涂布液以外，以与装饰层形成用感光性膜L1的制备相同的方式，获得层叠有导电性光固化性树脂层的感光性膜C1(导电性光固化性树脂层的膜厚为2.0μm)。
<导电性光固化性树脂层形成用涂布液的制备>
(银纳米线分散物(1)的制备)
制备将硝酸银粉末0.51g溶解于纯水50mL中而得的硝酸银溶液。然后，在所述硝酸银溶液中添加1N的氨水直至成为透明，以总量成为100mL的方式添加纯水，制备添加液A。
另外，将葡萄糖粉末0.5g以140mL的纯水进行溶解，制备添加液G。
进而，将HTAB(十六烷基-三甲基溴化铵)粉末0.5g以27.5mL的纯水进行溶解，制备添加液H。
接着，将所述添加液A20.6mL加入至三口烧瓶内，在室温下进行搅拌。在该溶液中，利用漏斗依次添加纯水41mL、添加液H20.6mL、及添加液G16.5mL，一边在90℃下以200rpm搅拌5小时一边加热，由此获得银纳米线水分散物(1)。
将所得的银纳米线水分散物(1)冷却后，以相对于银的质量1成为0.05的方式，一边搅拌一边添加聚乙烯基吡咯烷酮(商品名：K-30，和光纯药工业(株)制)，然后离心分离，纯化至传导率成为50μS/cm以下为止，以丙二醇单甲醚进一步进行离心分离，去除水，最终添加丙二醇单甲醚，制备银纳米线溶剂分散物(1)。
(导电性光固化性树脂层形成用涂布液C1的制备)
将下述组成进行搅拌，以最终银浓度成为1.0质量％的方式和银纳米线分散物(1)混合，制备导电性光固化性树脂层形成用涂布液C1。
-导电性光固化性树脂层形成用涂布液C1的组成-
《透明电极图案及绝缘层等的形成》
以与实施例1相同的方式，获得形成有装饰层及掩模层的前面板后，使用层叠有导电性光固化性树脂层的感光性膜C1，形成第一透明电极图案。
首先，将形成有掩模层的前面板进行清洗，层压将覆盖膜去除后的感光性膜C1(基材温度：120℃，橡胶辊温度120℃，线压100N/cm，搬送速度1.7m/分钟)。剥离临时支撑体后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面和该导电性光固化性树脂层之间的距离设定为100μm，以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行图案曝光。
接着，使用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在30℃处理60秒，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(以纯水将商品名：T-CD1(富士胶片(株)制)稀释至5倍而成的溶液)，在25℃处理60秒，然后使用含表面活性剂的清洗液(以纯水将商品名：T-SD3(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)，在33℃处理20秒，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行残渣去除，进而进行230℃、60分钟的后烘烤处理，获得形成有掩模层、第一透明电极图案的前面板。
接着，以与实施例1相同的方式形成绝缘层。接着，使用层叠有导电性光固化性树脂层的感光性膜C1形成第二透明电极图案。进而，以与实施例1相同的方式，形成与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、透明保护层，获得前面板2。将该前面板2作为实施例2的静电电容型输入装置。
另外，以与实施例1相同的方式，制作实施例2的图像显示装置2。
《前面板2、及图像显示装置2的评价》
在所述各工序中，关于形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、以及与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的前面板2，在开口部、及背面不存在污染，容易清洗，且没有其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例3及实施例4]
在实施例1中，除了使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L3及白色光固化性树脂层用涂布液配方L4代替白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，变更为表1所示的单体/粘合剂比率以外，以与实施例1相同的方式，制成实施例3及实施例4的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例3及实施例4的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例3及实施例4的静电电容型输入装置即前面板3及前面板4、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置3及图像显示装置4。
相对于前面板1，前面板3的明度、白色度、不均匀、开口部污染、网状结构、收率等稍稍下降，但为实用水平，装饰层粘附、显影残渣、开口部缺陷得到改善。
另一方面，相对于前面板1，前面板4的装饰层粘附、显影残渣、开口部缺陷等稍稍下降，但为实用水平，明度、白色度、不均匀、开口部污染、网状结构、收率得到改善。
前面板3及前面板4于开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例5～实施例10]
在实施例1中，除了使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L5～L10代替白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，变更为表1所示的氧化钛含量/固体成分比率以外，以与实施例1相同的方式，制成实施例5～实施例10的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例5～实施例10的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例5～实施例10的静电电容型输入装置即前面板5～前面板10、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置5～图像显示装置10。
随着氧化钛相对于总固体成分质量的比率增加，前面板5～前面板10的装饰层粘附、显影残渣、开口部缺陷等稍稍下降，但为实用水平，白色度、不均匀、开口部污染、网状结构、收率得到改善。除此以外，明度等的评价结果也为实用水平。这些前面板的开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[实施例11及实施例12]
在实施例1中，除了使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L11(实施例11，引发剂，BASF日本株式会社制，IRGACURE127)及L12(实施例12，起始剂、DKSH日本株式会社制，Lunar6)代替白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，变更为表1所示的引发剂种类、引发剂/单体比率、曝光量以外，以与实施例1相同的方式，制成实施例11及实施例12的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例11及实施例12的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例11及实施例12的静电电容型输入装置即前面板11及前面板12、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置11及图像显示装置12。
前面板11及前面板12于开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例13及实施例14]
在实施例1中，除了使用将白色光固化性树脂层用涂布液配方L1中使用的氧化钛的初级粒径由0.2μm(白色颜料分散物1)分别变更为0.19μm(实施例13，白色颜料分散物2)及0.25μm(实施例14，白色颜料分散物3)的氧化钛而得的白色光固化性树脂层用涂布液配方L13及L14以外，以与实施例1相同的方式，制成了实施例13及实施例14的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例13及实施例14的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例13及实施例14的静电电容型输入装置即前面板13及前面板14、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置13及图像显示装置14。
相对于前面板1，前面板13的明度、收率稍稍下降，但为实用水平，开口部缺陷、开口部污染得到改善。除此以外，网状结构、白色度、不均匀、装饰层粘附、显影残渣等的评价结果也同样为实用水平。
相对于前面板1，前面板14的明度、白色度、收率、装饰层粘附稍稍下降，但为实用水平。其它评价结果也同样为实用水准。
这些前面板在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例15]
在实施例1中，使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，将所形成的光固化性树脂层的厚度由35μm改为17.5μm，制作实施例15的装饰层形成用的感光性膜。
以与实施例1相同的方式，在硅烷偶合处理玻璃基材上，从所得的装饰层形成用感光性膜(实施例15的感光性膜)上去除覆盖膜，用层压机层压。接着，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。以下，以与实施例1相同的方式形成装饰层，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例15的静电电容型输入装置即前面板15、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置15。
相对于前面板1，前面板15的明度、收率下降，但为实用水平，网状结构、不均匀、装饰层粘附、显影残渣、开口部缺陷、开口部污染得到改善。除此以外，白色度的评价结果同样为实用水准。
前面板15在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例16]
在实施例1中，使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，将所形成的光固化性树脂层的厚度由35μm改为17.5μm，制作了装饰层形成用感光性膜16’。
以与实施例1相同的方式，在硅烷偶合处理玻璃基材上，从所得的装饰层形成用感光性膜16’上去除覆盖膜，用层压机层压。接着，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。
接着，将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名：T-PD2(富士胶片(株)制)稀释至10倍而成的溶液)在30℃，以扁平喷嘴压力0.1MPa进行喷淋显影60秒，去除热塑性树脂层及中间层。接着，对该玻璃基材的上表面吹附空气，控去液体后，通过喷淋吹附纯水10秒，进行纯水喷淋清洗，吹附空气，减少基材上的液体积存。通过喷淋吹附硅烷偶合液(N-β氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液，商品名：KBM603，信越化学工业(株)制)20秒，进行纯水喷淋清洗。进行100℃、5分钟干燥后，将所述装饰层的厚度设为17.5μm，从装饰层形成用感光性膜16’去除覆盖膜，再次用层压机层压。接着，去除聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体。设为所形成的光固化性树脂层的厚度17.5μm×2层，制作了实施例16的装饰层形成用感光性膜。以下，以与实施例1相同的方式形成装饰层，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例16的静电电容型输入装置即前面板16、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置16。
相对于前面板1，前面板16的收率、装饰层粘附、开口部缺陷稍稍下降，但为实用水平，除此以外，网状结构、白色度、不均匀、显影残渣等的评价结果亦同样为实用水平。
前面板16在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例17]
在实施例1中，使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，将所形成的层的厚度由35μm改为6μm，制成了实施例17的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例17的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层的前面板17’。接着，在前面板17’上，使用白色网版印刷用墨液S1，将印刷用墨液以网版印刷机(Mishima株式会社制；UDF-5L，网眼尺寸250μm)进行网版印刷，通过100℃、10分钟干燥而使其不粘接。墨液的厚度为6μm。进而以与上述相同的方式进行网版印刷，进行100℃、10分钟的干燥。将该印刷至干燥的工序重复进行共计4次。进行150℃、30分钟干燥，将对形成有装饰层的前面板进行评价的结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例17的静电电容型输入装置即前面板17、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置17。
(白色网版印刷用墨液：配方S1)
·甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸＝78/22摩尔比的无规共聚物，重均分子量3万，丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(固体成分40.5质量％)
                            ：331质量份
·白色颜料分散物1           ：157质量份
·表面活性剂(商品名：Megafac F-780F，大日本油墨(株)制)
                            ：1.0质量份
相对于前面板1，前面板17的明度、装饰层粘附、收率、不均匀、开口部污染稍稍下降，但为实用水平，显影残渣得到改善。除此以外，网状结构、白色度、开口部缺陷等的评价结果也同样为实用水平。
前面板17在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例18]
在实施例17中，使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，将所形成的层的厚度由6μm改为2μm，制成了实施例18的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例18的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层的前面板18’。接着，在前面板18’上，使用网版印刷用墨液S1，将印刷用墨液以网版印刷机(Mishima株式会社制，UDF-5L，网眼尺寸250μm)进行网版印刷，通过100℃、10分钟干燥而使其不粘接。墨液的厚度为6μm。进而以与上述相同的方式进行网版印刷，进行100℃、10分钟的干燥。将该印刷至干燥的工序重复进行共计5次。进行150℃、30分钟干燥，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例18的静电电容型输入装置即前面板18、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置18。
相对于前面板1，前面板18的明度、网状结构、不均匀、收率、装饰层粘附、开口部缺陷、开口部污染收率为下降，但为实用水平，显影残渣得到改善。除此以外，白色度的评价结果同样为实用水平。
前面板18在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例19及实施例20]
实施例1中，除了代替白色光固化性树脂层用涂布液配方L1而使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L19(实施例19，引发剂，BASF日本株式会社制，IRGACURE OXE-01)及白色光固化性树脂层用涂布液配方L20(实施例12，引发剂，DKSH日本株式会社制，Lunar6)，变更为表1所示的引发剂种类、引发剂/单体比率、曝光量以外，以与实施例1相同的方式，制成了实施例19及实施例20的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例19及实施例20的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例19及实施例20的静电电容型输入装置即前面板19及前面板20、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置19及图像显示装置20。
前面板19及前面板20在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[比较例1]
将形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)，利用UV清洗装置进行清洗后，使用清洗剂进行刷洗，进而以超纯水进行超音波清洗。将基材进行120℃、3分钟热处理而使表面状态稳定化。将基材冷却而将温度调整为23℃后，利用具有狭缝状喷嘴的玻璃基材用涂布机(FAS日本公司制，商品名：MH-1600)，涂布实施例1中获得的白色光固化性树脂层用涂布液L1。在强化处理玻璃的开口部流入白色光固化性树脂层用涂布液L1，产生开口部及基板的背面的污染。接着，用VCD(真空干燥装置，东京应化工业(株)制)，耗费30秒将溶剂的一部分干燥，消除涂布层的流动性后，利用EBR(Edge BeadRemover)去除基材周围的不需要的涂布液，进行120℃、3分钟预烘烤，在所述强化处理玻璃上获得膜厚5.0μm的白色光固化性树脂层L21(液体抗蚀剂法)。
利用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高新电子工程(株)制)，在使基材和曝光掩模(具有框图案的石英曝光掩模)垂直立起的状态下，将曝光掩模面和黑色光固化性树脂层L21之间的距离设定为200μm，在氮气环境下，从白色光固化性树脂层L21侧以曝光量1000mJ/cm2进行图案曝光。
接着，利用喷淋喷嘴来喷雾纯水，使白色光固化性树脂层L21的表面均匀湿润后，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(以纯水将商品名：T-CD1(富士胶片(株)制)稀释至5倍而成的溶液)，在35℃将喷淋压力设定为0.1MPa，求出未曝光部能够完全显影的时间(以下称为断点)，以其1.5倍的显影时间进行显影，利用纯水进行了清洗。
进而，利用超高压清洗喷嘴，以8MPa的压力喷射超纯水来进行残渣去除，接着，在大气下从基板的表面背面分别以曝光量1300mJ/cm2进行后曝光，进而利用真空烘箱，在15mmHg以下的条件下进行240℃、30分钟的后烘烤处理，获得了形成有装饰层的前面板。以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。以下，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例1的静电电容型输入装置即前面板21、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置21。
相对于前面板1，前面板21产生开口部及背面的污染，必须清洗，收率大幅度下降，明度也不充分。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[比较例2]
在比较例1中，将实施例1中获得的白色光固化性树脂层用涂布液L1重复涂布7次，在所述强化处理玻璃上形成7层膜厚为5.0μm的层，获得了白色光固化性树脂层L22(液体抗蚀剂法)。以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行评价，将评价结果记载于下述表1中。以下，以与比较例1相同的方式制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例2的静电电容型输入装置即前面板22、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置22。
相对于前面板1，前面板22产生开口部及背面的污染，必须清洗，收率大幅度下降，明度也不充分。和前面板21相比，不均匀进一步恶化，成为低收率。为实用水平。另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[比较例3]
在形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)上，一边通过喷淋并吹附调整为25℃的玻璃清洗剂液20秒，一边利用具有尼龙毛的旋转刷进行清洗，进行纯水喷淋清洗后，通过喷淋吹附硅烷偶合液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液，商品名：KBM603，信越化学工业(株)制)20秒，进行纯水喷淋清洗。将该基材以基材预加热装置进行110℃、10分钟加热后，放冷至室温。在所得的硅烷偶合处理玻璃基材上，使用上述白色网版印刷用墨液S1，将印刷用墨液以网版印刷机(Mishima株式会社制；UDF-5L，网眼尺寸250μm)进行网版印刷，通过100℃、10分钟预烘烤干燥而使其不粘接。墨液的厚度为6μm。进而进行150℃、30分钟干燥作为最终烘烤，获得白色光固化性树脂层L23。需要说明的是，所使用的氧化钛微粒子的初级粒径为0.20μm。对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。
然后，以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。以下，以与比较例1相同的方式制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例3的静电电容型输入装置即前面板23、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置23。
相对于前面板1，前面板23的明度及开口部缺陷下降，收率下降。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[比较例4]
在比较例3中，将网版印刷及预烘烤重复进行6次，进行最终烘烤，获得了在所述强化处理玻璃上形成有6层膜厚6.0μm的层的白色光固化性树脂层L24。以与实施例1相同的方式，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以下，以与比较例1相同的方式制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例4的静电电容型输入装置即前面板24、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置24。
相对于前面板1，前面板24的明度、网状结构、不均匀、装饰层粘附、开口部缺陷、开口部污染下降，收率下降。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
开口部、及背面不存在污染，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[实施例21及实施例22]
在实施例1中，除了使用将白色光固化性树脂层用涂布液配方L1中使用的氧化钛的初级粒径0.2μm分别变更为0.17μm(实施例21，白色颜料分散物4)及0.35μm(实施例22，白色颜料分散物5)的氧化钛而得到的白色光固化性树脂层用涂布液配方L15及L16以外，以与实施例1相同的方式，制成了实施例21及实施例22的装饰层形成用的感光性膜。除了分别使用所制成的实施例21及实施例22的装饰层形成用的感光性膜以外，以与实施例1相同的方式，形成了装饰层。将对形成有装饰层的前面板进行评价的结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的实施例21及实施例22的静电电容型输入装置即前面板25及前面板26、及具备静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置25及图像显示装置26。
相对于前面板1，前面板25的明度、收率下降，但为实用水平，开口部缺陷、开口部污染得到改善。除此以外，白色度、网状结构、不均匀、显影残渣的评价结果同样为实用水平。开口部、及背面不存在污染，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
相对于前面板1，前面板26的明度、收率、显影残渣下降，但为实用水平，除此以外，白色度、网状结构、不均匀、开口部缺陷、开口部污染的评价结果同样为实用水平。前面板25及前面板26在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例5]
在实施例1中，使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，将所形成的层的厚度由35μm改为42μm，制作比较例5的装饰层形成用的感光性膜。
以与实施例1相同的方式，在硅烷偶合处理玻璃基材上，从所得的装饰层形成用感光性膜16’去除覆盖膜，用层压机层压。接着，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。以下，以与实施例1相同的方式形成装饰层，将对形成有装饰层的前面板进行评价的结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例5的静电电容型输入装置即前面板27、及具备静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置27。
相对于前面板1，前面板27的显影残渣显著下降，成为NG水平。在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得显示特性优异的图像显示装置。
[比较例6]
在实施例1中，除了使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L17代替白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，变更为表1所示的单体/粘合剂比率以外，以与实施例1相同的方式，制作了比较例6的装饰层形成用的感光性膜。
以与实施例1相同的方式，在硅烷偶合处理玻璃基材上，从所得的比较例6的装饰层形成用感光性膜上去除覆盖膜，用层压机层压。接着，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。以下，以与实施例1相同的方式形成装饰层，将对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表l中。然后，以与实施例1相同的方式，制作了形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例6的静电电容型输入装置即前面板28、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置28。
相对于前面板1，前面板28的装饰层粘附、显影残渣、开口部缺陷显著下降，成为NG水平。在开口部及背面的污染方面不存在问题，开口部、及背面不存在污染，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
[比较例7及比较例8]
在实施例1中，除了使用白色光固化性树脂层用涂布液配方L18及L19代替白色光固化性树脂层用涂布液配方L1，变更为表1所示的氧化钛含量/固体成分比率以外，以与实施例1相同的方式，制作了比较例7及比较例8的装饰层形成用的感光性膜。
以与实施例1相同的方式，在硅烷偶合处理玻璃基材上，从所得的比较例7及比较例8的装饰层形成用感光性膜上去除覆盖膜，用层压机层压。接着，在与热塑性树脂层的界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。以下，以与实施例1相同的方式形成装饰层，对形成有装饰层的前面板进行了评价，将评价结果记载于下述表1中。然后，以与实施例1相同的方式，制作形成有装饰层、掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的其它导电性元件、及透明保护层的比较例7及比较例8的静电电容型输入装置即前面板29及前面板30、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置29及图像显示装置30。
相对于前面板1，前面板29的装饰层粘附、显影残渣、开口部缺陷显著下降，成为NG水平。在开口部及背面的污染方面不存在问题，容易清洗，且无其它部件的污染的问题。相对于前面板1，前面板30的白色度、网状结构、开口部污染显著下降，成为NG水平。在背面的污染方面不存在问题，但由于开口部的污染而必须清洗。
另外，掩模层上无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与其不同的其它导电性元件各自的导电性不存在问题，另一方面，在第一透明电极图案和第二透明电极图案之间具有绝缘性。
进而，透明保护层上也没有气泡等缺陷，获得了显示特性优异的图像显示装置。
根据所述表1可知，通过使用本发明的感光性膜，能够以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀良好的白色装饰层。
另外，如上，根据使用本发明感光性膜的本发明静电电容型输入装置的制造方法，能够以简单的工序高质量地制造具有薄层/轻量化的优点的静电电容型输入装置。因此，可知利用本发明的制造方法制造的静电电容型输入装置、及使用该静电电容型输入装置的图像显示装置为高质量。
此外可知，根据本发明的静电电容型输入装置的制造方法的优选的方式，即使在使用具有开口部的基板的情况下，抗蚀剂的渗出、或基板背侧的污染也较少。
权利要求书(按照条约第19条的修改)
1.(补正后)一种感光性膜，其具有临时支撑体和光固化性树脂层，其中，
所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，
所述光固化性树脂层的厚度为1μm～40μm，
所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为30质量％～50质量％，
所述(B)单体的固体成分相对于所述(C)粘合剂的固体成分的含量比率B/C为0.58～0.95。
2.根据权利要求1所述的感光性膜，其中，所述白色无机颜料为金红石型氧化钛。
3.[删除]
4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光性膜，其中，在所述临时支撑体和所述光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
5.一种静电电容型输入装置的制造方法，
所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的至少下述(1)及(3)～(5)的元件，
(1)装饰层；
(3)多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成；
(4)多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分；
(5)绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘，
该制造方法包含：
将权利要求1～4中任一项所述的感光性膜的着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成所述(1)装饰层的工序。
6.根据权利要求5所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件。
7.根据权利要求5或6所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述第二电极图案为透明电极图案。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
在所述(1)装饰层的与所述前面板相反侧的面上还设置(2)掩模层。
9.根据权利要求8所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一遍及所述前面板的非接触面、以及所述掩模层的与所述前面板相反侧的面这两个区域而设置。
10.根据权利要求8或9所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
且将所述(6)其它导电性元件至少设置于所述掩模层的与前面板相反侧的面侧。
11.根据权利要求5～10中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
以覆盖所述(1)及(3)～(5)的元件的全部或一部分的方式进一步设置透明保护层。
12.根据权利要求11所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层和光固化性树脂层的感光性膜形成所述透明保护层。
13.根据权利要求5～12中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
所述第二电极图案为透明电极图案，
通过使用由依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
14.根据权利要求5～13中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
所述第二电极图案为透明电极图案，
将依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及导电性光固化性树脂层的感光性膜的该导电性固化性树脂层进行转印，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
15.根据权利要求5～14中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
对所述前面板的非接触面进行表面处理，
在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置权利要求1～4中任一项所述的感光性膜。
16.根据权利要求15所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，在所述前面板的表面处理中使用硅烷化合物。
17.根据权利要求5～16中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述前面板在至少一部分具有开口部。
18.一种静电电容型输入装置，其是按照权利要求5～17中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法制造的。
19.一种图像显示装置，其具备权利要求18所述的静电电容型输入装置作为构成元件。

Claims (19)

1.一种感光性膜，其具有临时支撑体和光固化性树脂层，其中，
所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，
所述光固化性树脂层的厚度为1μm～40μm，
所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％。
2.根据权利要求1所述的感光性膜，其中，所述白色无机颜料为金红石型氧化钛。
3.根据权利要求1或2所述的感光性膜，其中，
所述(B)单体的固体成分相对于所述(C)粘合剂的固体成分的含量比率B/C为0.4以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光性膜，其中，在所述临时支撑体和所述光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
5.一种静电电容型输入装置的制造方法，
所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的至少下述(1)及(3)～(5)的元件，
(1)装饰层；
(3)多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成；
(4)多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分；
(5)绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘，
该制造方法包含：
将权利要求1～4中任一项所述的感光性膜的着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成所述(1)装饰层的工序。
6.根据权利要求5所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件。
7.根据权利要求5或6所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述第二电极图案为透明电极图案。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
在所述(1)装饰层的与所述前面板相反侧的面上还设置(2)掩模层。
9.根据权利要求8所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一遍及所述前面板的非接触面、以及所述掩模层的与所述前面板相反侧的面这两个区域而设置。
10.根据权利要求8或9所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
且将所述(6)其它的导电性元件至少设置于所述掩模层的与前面板相反侧的面侧。
11.根据权利要求5～10中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
以覆盖所述(1)及(3)～(5)的元件的全部或一部分的方式进一步设置透明保护层。
12.根据权利要求11所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层和光固化性树脂层的感光性膜形成所述透明保护层。
13.根据权利要求5～12中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
所述第二电极图案为透明电极图案，
通过使用由依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
14.根据权利要求5～13中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输入装置还具有：
(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
所述第二电极图案为透明电极图案，
将依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及导电性光固化性树脂层的感光性膜的该导电性固化性树脂层进行转印，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
15.根据权利要求5～14中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
对所述前面板的非接触面进行表面处理，
在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置权利要求1～4中任一项所述的感光性膜。
16.根据权利要求15所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，在所述前面板的表面处理中使用硅烷化合物。
17.根据权利要求5～16中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述前面板在至少一部分具有开口部。
18.一种静电电容型输入装置，其是按照权利要求5～17中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法制造的。
19.一种图像显示装置，其具备权利要求18所述的静电电容型输入装置作为构成元件。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106354323A (zh) * 2016-09-05 2017-01-25 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及其制作方法、显示装置、触控装置
CN107250958A (zh) * 2015-03-24 2017-10-13 富士胶片株式会社 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极用保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置
CN107870506A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 康达智株式会社 图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序
CN108780370A (zh) * 2016-03-14 2018-11-09 株式会社理光 输入元件和输入装置

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9651865B2 (en) * 2013-02-14 2017-05-16 Toray Industries, Inc. Negative-type photosensitive coloring composition, cured film, light-shielding pattern for touch panel, and touch panel manufacturing method
KR102082722B1 (ko) * 2013-07-25 2020-02-28 도레이 카부시키가이샤 터치 패널용 네거티브형 감광성 백색 조성물, 터치 패널 및 터치 패널의 제조 방법
DE112014003943B4 (de) * 2013-08-30 2020-11-19 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Mit einem Berührungssensor ausgestattete Anzeigevorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
JP6289006B2 (ja) * 2013-09-30 2018-03-07 新日鉄住金化学株式会社 白色感光性樹脂組成物、それを用いた硬化物、及びその硬化物を構成成分として含むタッチパネル
WO2015133599A1 (ja) * 2014-03-07 2015-09-11 富士フイルム株式会社 加飾材付き基材およびその製造方法、タッチパネル、ならびに情報表示装置
JP5990291B2 (ja) * 2014-04-11 2016-09-14 太陽インキ製造株式会社 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板
JP2016027384A (ja) * 2014-06-25 2016-02-18 Jsr株式会社 ベゼル形成用感光性組成物、ベゼル及び表示装置
WO2016031615A1 (ja) 2014-08-28 2016-03-03 富士フイルム株式会社 転写フィルム、積層体の製造方法、積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置
JP6199501B2 (ja) 2014-09-12 2017-09-20 富士フイルム株式会社 加飾用着色組成物、加飾材、加飾材付き基材、転写材料、タッチパネル、及び、情報表示装置
KR102226601B1 (ko) * 2014-12-02 2021-03-15 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 그 제조방법
CN104360786A (zh) * 2014-12-09 2015-02-18 合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸屏及其制造方法、以及显示装置
CN104576528B (zh) * 2015-01-09 2018-03-23 京东方科技集团股份有限公司 有机电致发光显示面板的阵列基板、制作方法及显示装置
KR101898955B1 (ko) * 2015-04-21 2018-09-14 도레이 카부시키가이샤 도전 패턴 형성 부재의 제조 방법
US9982349B2 (en) 2015-05-11 2018-05-29 Eastman Kodak Company Method for making electrically-conductive articles
US9566569B2 (en) 2015-05-11 2017-02-14 Eastman Kodak Company Metal catalytic compositions and articles therefrom
WO2018029749A1 (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 東レ株式会社 導電パターン形成部材の製造方法
KR101809063B1 (ko) * 2016-09-27 2017-12-14 동우 화인켐 주식회사 청색 경화성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시장치
CN110462559A (zh) * 2017-03-28 2019-11-15 日立化成株式会社 转印型感光性膜、固化膜图案的形成方法及触摸面板
US10532586B1 (en) * 2018-06-14 2020-01-14 Christian Carter Noterman Metal photographic plate with carrier and method of use
WO2021065322A1 (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 富士フイルム株式会社 転写フィルム、積層体の製造方法、積層体、タッチパネルセンサー、タッチパネル
JPWO2022163301A1 (zh) * 2021-01-29 2022-08-04
KR20230020035A (ko) * 2021-08-02 2023-02-10 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040106061A1 (en) * 2002-11-21 2004-06-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive transfer material
JP2010020264A (ja) * 2007-08-09 2010-01-28 Nichigo Morton Co Ltd ソルダーレジストフィルム、レジストパターン形成方法および発光装置
CN101989160A (zh) * 2009-08-07 2011-03-23 铼宝科技股份有限公司 电容式触控面板
WO2012011390A1 (ja) * 2010-07-22 2012-01-26 アルプス電気株式会社 入力装置及びその製造方法
JP2012043298A (ja) * 2010-08-20 2012-03-01 Alps Electric Co Ltd 入力装置及びその製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4005236B2 (ja) * 1998-09-25 2007-11-07 富士フイルム株式会社 感光性転写材料および画像形成方法
EP1594904A1 (en) * 2003-02-20 2005-11-16 Ciba SC Holding AG Photocurable compositions
JP2006023406A (ja) * 2004-07-06 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 永久パターン形成用感光性フィルム、その製造方法、及び永久パターンの形成方法
WO2006004171A1 (en) 2004-07-06 2006-01-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive film, process for producing the same, process for forming permanent pattern
US20080268374A1 (en) 2004-07-14 2008-10-30 Fujifilm Corporation Photosensitive Composition, Pattern Forming Material, Photosensitive Laminate, Pattern Forming Apparatus, and Pattern Forming Process
JP4579022B2 (ja) * 2005-03-23 2010-11-10 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、積層体、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、液晶表示装置
JP4546367B2 (ja) * 2005-09-12 2010-09-15 富士フイルム株式会社 パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2007122326A (ja) 2005-10-27 2007-05-17 Alps Electric Co Ltd 入力装置および前記入力装置を使用した電子機器
JP4506785B2 (ja) 2007-06-14 2010-07-21 エプソンイメージングデバイス株式会社 静電容量型入力装置
TWM348999U (en) 2008-02-18 2009-01-11 Tpk Touch Solutions Inc Capacitive touch panel
JP2012242928A (ja) * 2011-05-17 2012-12-10 Toppan Printing Co Ltd 加飾透明保護基板一体型タッチパネル

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040106061A1 (en) * 2002-11-21 2004-06-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive transfer material
JP2010020264A (ja) * 2007-08-09 2010-01-28 Nichigo Morton Co Ltd ソルダーレジストフィルム、レジストパターン形成方法および発光装置
CN101989160A (zh) * 2009-08-07 2011-03-23 铼宝科技股份有限公司 电容式触控面板
WO2012011390A1 (ja) * 2010-07-22 2012-01-26 アルプス電気株式会社 入力装置及びその製造方法
JP2012043298A (ja) * 2010-08-20 2012-03-01 Alps Electric Co Ltd 入力装置及びその製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107250958A (zh) * 2015-03-24 2017-10-13 富士胶片株式会社 转印薄膜、静电电容型输入装置的电极用保护膜、层叠体、层叠体的制造方法及静电电容型输入装置
CN107250958B (zh) * 2015-03-24 2020-07-28 富士胶片株式会社 转印薄膜、静电电容型输入装置及其电极用保护膜、层叠体及其制造方法
CN108780370A (zh) * 2016-03-14 2018-11-09 株式会社理光 输入元件和输入装置
US11010004B2 (en) 2016-03-14 2021-05-18 Ricoh Company, Ltd. Input element and input device
CN108780370B (zh) * 2016-03-14 2021-10-15 株式会社理光 输入元件和输入装置
CN106354323A (zh) * 2016-09-05 2017-01-25 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及其制作方法、显示装置、触控装置
CN107870506A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 康达智株式会社 图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序

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