CN107066134B

CN107066134B - 转印材料、静电电容型输入装置及其制造方法、以及具备这些的图像显示装置

Info

Publication number: CN107066134B
Application number: CN201611048336.0A
Authority: CN
Inventors: 伊藤英明; 汉那慎一
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2012-09-11
Filing date: 2013-07-05
Publication date: 2020-02-14
Anticipated expiration: 2033-07-05
Also published as: KR20150023493A; WO2014041880A1; TWI603250B; CN107066134A; CN104412207B; US9710117B2; US20150169113A1; JP2014056311A; CN104412207A; KR101780994B1; JP6170288B2; TW201411465A; KR20160091433A

Abstract

本发明提供一种可通过在静电电容型输入装置中使用而改良透明电极图案的视认性、可提高静电电容型输入装置的生产性的转印材料、输入装置及其制造方法以及图像显示装置。一种转印材料，其包含：临时支撑体、在所述临时支撑体上所层叠的透明硬化性树脂层，所述透明硬化性树脂层的550nm的波长下的折射率为为1.6以上，所述透明硬化性树脂层含有折射率为1.6以上的单体以及折射率为1.6以上的粘合剂中的至少一个。

Description

转印材料、静电电容型输入装置及其制造方法、以及具备这些的图像显示装置

相关分案申请

本申请案是发明名称为“转印材料、静电电容型输入装置及其制造方法、以及具备这些的图像显示装置”，申请号为201380035236.2的发明专利国际申请案的分案申请，原申请案的申请日是2013年7月5日。

技术领域

本发明涉及一种可将手指的接触位置检测为静电电容的变化的静电电容型输入装置的制造方法、及利用所述制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及包含所述静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置。

背景技术

在移动电话、汽车导航(car navigation)、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来在液晶装置等的表面配置有平板型的输入装置，一面参照液晶装置的图像显示区域所显示的指示图像一面用手指或触控笔等触碰显示有所述指示图像的部位，由此可进行与指示图像对应的信息输入。

此种输入装置(触摸屏)存在有电阻膜型、静电电容型等。然而其中，电阻膜型输入装置是膜与玻璃的2片结构，是按下膜而使其短路(short)的结构，因此具有动作温度范围狭窄、或不耐经时变化等缺点。

相对于此，静电电容型输入装置具有仅仅在一片基板上形成透光性导电膜即可的优点。

作为静电电容型输入装置，已知有在前面板的非接触侧表面一体地形成有掩膜层、透明电极图案、层间绝缘层、透明保护膜等的静电电容型触摸屏，由于前面板与静电电容型输入装置一体化，因此变得可薄层/轻量化。在专利文献1中记载了将对包含芴树脂的硅氧烷树脂组合物进行硬化而得的硬化膜用于触摸屏的保护膜或触控传感器用绝缘膜中。

近年来，专注于解决如下的问题：在此种静电电容型输入装置中，由于能看到眼前电极的图案形状等而造成美观性变差，例如在专利文献2中记载了：为了改良ITO图案等透明电极图案的视认性(使其不可见)，有效的是提高所层叠的透明绝缘层的折射率，减小与ITO的折射率的差。

而且，开发、公布了在液晶或有机电激发光(electroluminescence，EL)显示器上具有静电电容型触摸屏的智能手机或平板(tablet)型个人计算机(personal computer，PC)中，前面板(直接用手指接触的面)使用以康宁(Corning)公司的大猩猩玻璃(GorillaGlass)为代表的强化玻璃的设备。而且，上市了在所述前面板的一部分形成有用以设置感压(静电电容并不变化、利用按压的机械机构)开关的开口部的设备。这些强化玻璃的强度高，难以加工，因此为了形成所述开口部，一般情况下在强化处理前形成开口部，然后进行强化处理。

在专利文献1或专利文献2中仅仅记载了，作为透明绝缘层或透明保护膜的形成方法，在使用有机材料的情形时进行涂布的方法。

另一方面，在专利文献3及专利文献4中，记载了彩色滤光片用转印材料，提出了将转印材料层叠于基板上的方法。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]WO2010-061744号公报

[专利文献2]日本专利特开2010-061425号公报

[专利文献3]日本专利特开2007-334045号公报

[专利文献4]日本专利特开2008-107779号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在专利文献1或专利文献2中的透明绝缘层或透明保护膜的形成方法中存在如下问题：若利用专利文献1或专利文献2中所记载的涂布法，使用专利文献1或专利文献2中所记载的材料而在上述具有开口部的强化处理后的基板上形成透明绝缘层或透明保护膜，则产生抗蚀剂成分自开口部漏出或渗出，因而必须进行将所渗出的部分除去的步骤，从而造成生产效率明显降低。而且，在专利文献3及专利文献4中，虽然提到利用于液晶显示装置中，但并未对改善其ITO图案视认性加以研究，而且关于将转印材料应用至静电电容型输入装置中，也未加以记载。

本发明的目的在于提供一种可通过在静电电容型输入装置中使用而改良透明电极图案的视认性、可提高静电电容型输入装置的生产性的转印材料。

解决问题的技术手段

因此，本发明人等人以解决上述课题为目的而进行努力研究。其结果发现若使用包含550nm的波长下的折射率为1.55以上的透明硬化性树脂层的转印材料，则可解决上述课题，从而提供以下所记载的本发明。

作为用以解决本发明的课题的具体手段的发明如下所述。

[1]一种转印材料，其包含：临时支撑体、在所述临时支撑体上所层叠的透明硬化性树脂层，所述透明硬化性树脂层的550nm的波长下的折射率为1.55以上。

[2][1]中所记载的转印材料优选的是所述透明硬化性树脂层含有折射率为1.55以上的单体。

[3][1]或[2]中所记载的转印材料优选的是所述透明硬化性树脂层含有折射率为1.55以上的粘合剂。

[4][1]～[3]中任一项所记载的转印材料优选的是所述透明硬化性树脂层含有折射率为1.55以上的微粒子。

[5][1]～[4]中任一项所记载的转印材料优选的是在所述临时支撑体与所述透明硬化性树脂层之间层叠有热塑性树脂层。

[6][5]中所记载的转印材料优选的是所述热塑性树脂层的在110℃下所测定的熔融粘度ηc为250Pa·s～3000Pa·s。

[7][1]～[6]中任一项所记载的转印材料优选的是所述透明硬化性树脂层是静电电容型输入装置的透明绝缘层或透明保护层用。

[8]一种静电电容型输入装置的制造方法，所述静电电容型输入装置包含透明绝缘层及透明保护层中的至少一个，以及透明电极图案，所述静电电容型输入装置的制造方法：

使用[7]中所记载的转印材料而形成所述透明绝缘层及透明保护层中的至少一个。

[9][8]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述静电电容型输入装置包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)～(5)的元件，所述静电电容型输入装置的制造方法使用所述转印材料而形成所述(3)及(5)的元件中的至少一个：

(1)多个垫(pad)部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案

(2)与所述第一透明电极图案电绝缘，在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案

(3)使所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案电绝缘的透明绝缘层

(4)与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案的至少一个电性连接，与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案不同的导电性元件

(5)以覆盖所述(1)～(4)的元件的全部或一部分的方式而设置的透明保护层。

[10][8]或[9]中所记载的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述前面板在至少一部分具有开口部。

[11]一种静电电容型输入装置，利用[8]～[10]中任一项所记载的静电电容型输入装置的制造方法而制造。

[12]一种图像显示装置，包含[11]中所记载的静电电容型输入装置。

发明的效果

根据本发明可提供可改良静电电容型输入装置的透明电极图案的视认性、可提高静电电容型输入装置的生产性的转印材料。

附图说明

图1是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。

图2是表示本发明中的前面板的一例的说明图。

图3是表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。

图4是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。

图5是表示形成有掩膜层的前面板的一例的俯视图。

图6是表示形成有第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。

图7是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案的前面板的一例的俯视图。

图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件的前面板的一例的俯视图。

图9是表示金属纳米线剖面的说明图。

附图标号说明：

1：前面板

2：掩膜层

3：第一透明电极图案

3a：垫部分

3b：连接部分

4：第二透明电极图案

5：绝缘层

6：导电性元件

7：透明保护层

8：开口部

10：静电电容型输入装置

11：强化处理玻璃

12：其他导电性元件

具体实施方式

以下，对本发明的转印材料、静电电容型输入装置的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置加以说明。以下所记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式或具体例而进行，但本发明并不限定于此种实施方式或具体例。另外，在本申请说明书中，使用“～”而表示的数值范围是表示包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。

《转印材料》

本发明的转印材料包含：临时支撑体、在所述临时支撑体上所层叠的透明硬化性树脂层，所述透明硬化性树脂层的550nm的波长下的折射率为1.55以上。

利用此种构成，可通过在静电电容型输入装置中使用而改良透明电极图案的视认性，可提高静电电容型输入装置的生产性。虽然不拘泥于任何理论，但通过使透明电极图案(优选的是ITO)与所述透明硬化性树脂层的折射率差变小，使光反射减低而变得难以看到透明电极图案，从而可改善视认性。

以下，对本发明的转印材料加以说明。另外，本发明的转印材料可为负型材料也可为正型材料。本发明的转印材料优选的是静电电容型输入装置的透明绝缘层或透明保护层用。

<临时支撑体>

本发明的转印材料包含临时支撑体。作为所述临时支撑体，可使用具有可挠性，在加压下、或加压及加热下并不产生显著的变形、收缩或伸长的材料。作为此种临时支撑体的例子，可列举聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中特别优选的是双轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。

所述临时支撑体的厚度并无特别限制，一般为5μm～200μm的范围，自操作容易性、通用性等方面而言，特别优选的是10μm～150μm的范围。

而且，所述临时支撑体可透明，也可含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。

而且，可利用日本专利特开2005-221726号公报中所记载的方法等对本发明的转印材料中的所述临时支撑体赋予导电性。

<透明硬化性树脂层>

本发明的转印材料包含透明硬化性树脂层，所述透明硬化性树脂层的550nm的波长下的折射率为1.55以上。另外，在本说明书中，在并未特别说明地使用折射率的情形时，表示550nm下的折射率。

所述透明硬化性树脂层可为光硬化性，也可为热交联性(热硬化性)，也可兼具光硬化性与热交联性(热硬化性)。

优选的是所述透明硬化性树脂层至少具有光硬化性，亦即，优选的是所述透明硬化性树脂层为光硬化性树脂层。更优选的是所述透明硬化性树脂层兼具光硬化性与热交联性(热硬化性)。

所述透明硬化性树脂层的在550nm的波长下的折射率为1.55以上，优选的是1.6以上，自改善透明电极图案的视认性的观点考虑，更优选的是1.66以上。另外，关于所述透明硬化性树脂层的在550nm的波长下的折射率的上限值，并无特别限制，自制造成本的观点考虑，优选的是2.3以下。

后述的透明电极图案与所述透明硬化性树脂层的折射率的差Δn优选的是0.4以下，更优选的是0.3以下。

作为使所述透明硬化性树脂层的折射率为上述范围的方法，并无特别限制，可列举在所述透明硬化性树脂层中添加折射率为1.55以上的粘合剂、折射率为1.55以上的单体及折射率为1.55以上的微粒子中的至少1种以上的方法。所述透明硬化性树脂层可使用折射率为1.55以上的粘合剂、折射率为1.55以上的单体及折射率为1.55以上的微粒子中的任意1种，也可并用2种以上。

所述透明硬化性树脂层优选的是包含折射率为1.55以上的粘合剂，更优选的是包含折射率为1.6以上的粘合剂，特别优选的是包含折射率为1.66以上的粘合剂。

所述折射率为1.55以上的粘合剂并无特别限制，可使用公知的粘合剂。作为1.55以上的高折射率粘合剂的例子，优选的是至少包含1个以上芳基、芳香族杂环基、氯原子、溴原子、碘原子、硫原子的聚合物，更优选的是包含芳基的聚合物。作为优选的高折射率聚合物的具体例，可列举：聚苯乙烯聚合物、以及与例如丙烯腈、马来酸酐、丙烯酸、甲基丙烯酸及其酯的共聚物，偏二氯乙烯(vinylidene chloride)共聚物(例如偏二氯乙烯/丙烯腈共聚物、偏二氯乙烯/甲基丙烯酸酯共聚物、偏二氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物)，聚氯乙烯及共聚物(例如聚氯乙烯/乙酸酯、氯乙烯/丙烯腈共聚物)，聚乙烯基亚苄基合成橡胶(例如丁二烯/丙烯腈共聚物、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸酯/丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚物、2-氯丁二烯-1，3聚合物、氯化橡胶、苯乙烯/丁二烯/苯乙烯、苯乙烯/异戊二烯/苯乙烯嵌段共聚物)，共聚酯(例如由式HO(CH₂)_nOH(式中，n为2～10的整数)的聚甲二醇、以及(1)六氢对苯二甲酸、癸二酸及对苯二甲酸、(2)对苯二甲酸、间苯二甲酸及癸二酸、(3)对苯二甲酸及癸二酸、(4)由对苯二甲酸及间苯二甲酸的反应生成物而制造者，以及由(5)所述二醇及(i)对苯二甲酸、间苯二甲酸及癸二酸及(ii)对苯二甲酸、间苯二甲酸、癸二酸及己二酸而制造的共聚酯的混合物)，聚N-乙烯基咔唑及其共聚物，包含碳酸酯与双酚的聚碳酸酯等。而且，也可列举聚(甲基苯基硅氧烷)、或1，3，5-三甲基-1，1，3，5，5-五苯基三硅氧烷等硅化物、含有较多芳香族的硅油等作为优选例。而且，可列举具有芴、四苯基甲烷、1，1，2，2-四苯基乙烷或联苯等骨架的化合物。

其中，优选的是具有芴、四苯基甲烷、1，1，2，2-四苯基乙烷或联苯等骨架的化合物，特别优选的是具有芴骨架的化合物。

所述透明硬化性树脂层中的折射率为1.55以上的粘合剂的含量并无特别限制，相对于透明硬化性树脂层而言优选的是1质量％～60质量％，更优选的是3质量％～40质量％，特别优选的是5质量％～30质量％。

所述透明硬化性树脂层优选的是包含折射率为1.55以上的单体，更优选的是包含折射率为1.6以上的单体，特别优选的是包含折射率为1.66以上的单体。

所述折射率为1.55以上的单体并无特别限制，可使用公知的单体。所述折射率为1.55以上的单体例如可列举双(4-甲基丙烯酰基苯硫基)硫醚、双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、乙烯基萘、乙烯基苯基硫醚、4-甲基丙烯酰氧基苯基-4′-甲氧基苯基硫醚、四溴双酚A二环氧丙烯酸酯等。

其中，本发明的转印材料中，所述折射率为1.55以上的单体优选的是双芳基芴系丙烯酸酯，更优选的是WO2010/061744号的通式(1)所表示的化合物、双(4-甲基丙烯酰基苯硫基)硫醚，特别优选的是WO2010/061744号的[0063]段落中所记载的化合物。

作为所述折射率为1.55以上的单体的具体例，例如可列举大阪气体化学(OsakaGas Chemicals)股份有限公司制造的奥古索(OGSOL)EA-0200、奥古索(OGSOL)EA-F5003、奥古索(OGSOL)EA-F5503、奥古索(OGSOL)EA-F5510等。

所述透明硬化性树脂层中的折射率为1.55以上的单体的含量并无特别限制，相对于透明硬化性树脂层而言优选的是1质量％～60质量％，更优选的是3质量％～40质量％，特别优选的是5质量％～30质量％。

所述透明硬化性树脂层优选的是包含折射率为1.55以上的微粒子，更优选的是包含折射率为1.6以上的微粒子，特别优选的是包含折射率为1.66以上的微粒子。

所述折射率为1.55以上的高折射率微粒子例如可列举以Ti、Zr、Ta、In、Nd、Sn、Sb、Zn，La、W、Ce、Nb、V、Sm、Y等的氧化物或复合氧化物、硫化物为主成分的粒子。此处，所谓主成分是表示构成粒子的成分中含量(质量％)最多的成分。更优选的高折射率微粒子是以包含选自Ti、Zr、Ta、In、及Sn的至少1种金属元素的氧化物或复合氧化物为主成分的粒子。

进一步优选的是以包含选自Ti、Zr的至少1种金属元素的氧化物或复合氧化物为主成分的粒子。

所述透明硬化性树脂层中的折射率为1.55以上的微粒子的含量并无特别限制，相对于透明硬化性树脂层而言优选的是20质量％～80质量％，更优选的是30质量％～70质量％，特别优选的是35质量％～65质量％。

在本发明的转印材料为负型材料的情形时，优选的是在所述透明硬化性树脂层为光硬化性树脂层时的光硬化性树脂层中包含碱可溶性树脂(优选的是折射率不足1.55的粘合剂)、聚合性化合物(优选的是折射率不足1.55的单体)、聚合引发剂或聚合引发系。

本发明的转印材料中所含的碱可溶性树脂可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0025]、日本专利特开2010-237589号公报的段落[0033]～段落[0052]中所记载的聚合物。

所述聚合性化合物可使用日本专利第4098550号的段落[0023]～段落[0024]中所记载的聚合性化合物。

所述聚合引发剂或聚合引发系可使用日本专利特开2011-95716号公报中所记载的段落[0031]～段落[0042]中所记载的聚合性化合物。

另外，所述光硬化性树脂层中也可使用添加剂。所述添加剂例如可列举日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]～段落[0071]中所记载的表面活性剂，或日本专利第4502784号公报的段落[0018]中所记载的热聚合抑制剂，另外可列举日本专利特开2000-310706号公报的段落[0058]～段落[0071]中所记载的其他添加剂。

而且，作为利用涂布而制造本发明的转印材料的所述透明硬化性树脂层时的溶剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0043]～段落[0044]中所记载的溶剂。

以上，以本发明的转印材料为负型材料的情形为中心而进行说明，但本发明的转印材料也可为正型材料。在本发明的转印材料为正型材料的情形时，在所述透明硬化性树脂层为光硬化性树脂层的情形时，光硬化性树脂层使用例如日本专利特开2005-221726号公报中记载的材料等，但并不限定于此。

在使用本发明的转印材料而形成绝缘层的情形时，自维持绝缘性的观点考虑，所述透明硬化性树脂层的层厚优选的是0.1μm～5μm，更优选的是0.3μm～3μm，特别优选的是0.5μm～2μm。

在使用本发明的转印材料而形成透明保护层的情形时，自充分发挥表面保护能力的观点考虑，所述透明硬化性树脂层的层厚优选的是0.5μm～10μm，更优选的是0.8μm～5μm，特别优选的是1μm～3μm。

此处，各层的粘度可如下所述般地测定。利用大气压及减压干燥，自热塑性树脂层或所述透明硬化性树脂层中除去溶剂而作为测定样品，例如使用维布隆(Vibron)(DD-III型；东洋鲍德温(Baldwin)股份有限公司制造)作为测定器，在测定开始温度为50℃、测定结束温度为150℃、升温速度为5℃/min及振动频率为1Hz/deg的条件下进行测定，可使用100℃的测定值。

<热塑性树脂层>

作为本发明的转印材料，自可防止层叠时产生气泡的观点考虑，优选的是在所述临时支撑体与所述透明硬化性树脂层之间层叠热塑性树脂层。所述热塑性树脂层优选的是碱可溶性。热塑性树脂层以吸收基底表面的凹凸(也包含已形成的图像等的凹凸等)的方式承担作为缓冲材料的作用，优选的是具有可根据目标面的凹凸而变形的性质。

热塑性树脂层优选的是包含日本专利特开平5-72724号公报中所记载的有机高分子物质作为成分的形态，特别优选的是包含选自利用维卡(Vicat)法[具体而言是美国材料试验法-美国材料试验学会(American Society for Testing Material，ASTM)D1235的聚合物软化点测定法]而得的软化点为约80℃以下的有机高分子物质的至少1种的形态。

具体而言，可列举聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃，乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物，乙烯与丙烯酸酯或其皂化物的共聚物，聚氯乙烯或氯乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物，聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物，聚苯乙烯、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物，聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物，聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物，乙酸乙烯酯共聚物，尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。

作为本发明的转印材料，所述热塑性树脂层的层厚优选的是3μm～30μm。在热塑性树脂层的层厚不足3μm的情形时，存在如下的现象：层叠时的追随性不充分，且无法完全吸收基底表面的凹凸。而且，在层厚超过30μm的情形时，存在如下现象：对于在临时支撑体上形成热塑性树脂层时的干燥(溶剂除去)带来负荷，或热塑性树脂层的显影需要时间，使工艺适合性劣化。所述热塑性树脂层的层厚更优选的是4μm～25μm，特别优选的是5μm～20μm。

热塑性树脂层可涂布包含热塑性有机高分子的制备液等而形成，涂布等时所使用的制备液可使用溶剂而制备。溶剂若为可溶解构成所述层的高分子成分的溶剂，则并无特别限制，例如可列举甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。

<热塑性树脂层及透明硬化性树脂层的粘度>

本发明的转印材料的所述热塑性树脂层的在110℃下所测定的熔融粘度ηc优选的是250Pa·s～3000Pa·s，更优选的是300Pa·s～2500Pa·s，特别优选的是500Pa·s～2000Pa·s。

<其他层>

本发明的转印材料中，可在透明硬化性树脂层与热塑性树脂层之间设置中间层，或者在透明硬化性树脂层的表面进一步设置保护膜等而适宜地构成。

在本发明的转印材料中，优选的是以防止涂布多层时及涂布后的保存时成分的混合为目的而设置中间层。作为中间层，优选的是在日本专利特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的具有氧阻隔功能的隔氧膜，曝光时的感度提高，可减低曝光机的时间负荷，生产性提高。

作为所述中间层及保护膜，可适宜使用日本专利特开2006-259138号公报的段落[0083]～段落[0087]及段落[0093]中所记载的膜。

<转印材料的制作方法>

本发明的转印材料可基于日本专利特开2006-259138号公报的段落[0094]～段落[0098]中所记载的感光性转印材料的制作方法而制作。

具体而言，在形成具有中间层的本发明的转印材料的情形时，可通过如下方式而适宜地制作：在临时支撑体上涂布溶解有热塑性有机高分子以及添加剂的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)，使其干燥而设置热塑性树脂层后，在所述热塑性树脂层上涂布在并不溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液(中间层用涂布液)，使其干燥而层叠中间层，在所述中间层上进一步涂布使用并不溶解中间层的溶剂而制备的透明硬化性树脂层用涂布液，使其干燥而层叠透明硬化性树脂层。

《静电电容型输入装置的制造方法》

本发明的静电电容型输入装置的制造方法(以下有时简称为“本发明的制造方法”)是包含透明绝缘层及透明保护层中的至少一个以及透明电极图案的静电电容型输入装置的制造方法，使用本发明的转印材料而形成所述透明绝缘层及透明保护层中的至少一个。

对利用本发明的制造方法而形成的静电电容型输入装置的构成加以说明。图1是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。在图1中，静电电容型输入装置10包含：前面板1、掩膜层2、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、透明绝缘层5、导电性元件6、透明保护层7。

本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选的是所述静电电容型输入装置包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)～(5)的元件，所述静电电容型输入装置的制造方法使用本发明的转印材料而形成所述(3)及(5)的元件中的至少一个，更优选的是所述(3)及(5)的元件均是使用本发明的转印材料而形成。

(1)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案

(4)与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案的至少一方电性连接，与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案不同的导电性元件

(5)以覆盖所述(1)～(4)的元件的全部或一部分的方式而设置的透明保护层

(前面板)

前面板1包含玻璃基板等透光性基板，可使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃等。而且，在图1中，将前面板1的设有各元件的一侧称为非接触面。在本发明的静电电容型输入装置10中，用手指等对前面板1的接触面(非接触面的相反面)进行接触等而进行输入。以下，有时将前面板称为“基材”。

而且，为了提高其后的转印步骤中的利用层叠的所述透明硬化性树脂层或所述感光性树脂层的密接性，可预先对基材(前面板)的非接触面实施表面处理。作为所述表面处理，优选的是实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷偶合处理)。作为硅烷偶合剂，优选的是具有与感光性树脂相互作用的官能基。例如通过喷淋吹附硅烷偶合液(N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名为KBM603、信越化学股份有限公司制造)20秒钟，进行纯水喷淋清洗。其后，通过加热使其反应。也可使用加热槽，层叠机的基板预热也可促进反应。

(透明绝缘层、透明保护层)

在图1中，第一透明电极图案3与第二透明电极图案4利用绝缘层5而电绝缘。

而且，在图1中，以覆盖各构成元件的全部的方式设置有透明保护层7。也能以仅仅覆盖各构成元件的一部分的方式而构成透明保护层7。

透明绝缘层5与透明保护层7可为同一材料，也可为不同的材料，自可改善透明电极图案的视认性的观点、或者可抑制透明绝缘层5与透明保护层7之间的界面的反射的观点考虑，优选的是透明绝缘层5与透明保护层7为同一材料。

特别是在静电电容型输入装置为同时包含透明绝缘层5与透明保护层7的图1的构成的情形时，透明保护层7较第二透明电极图案4而言成为前面板1侧(上侧)，透明绝缘层5较第二透明电极图案4而言成为背面侧(下侧)，且自改善透明电极图案视认性的观点考虑，更优选的是作为透明电极图案的上下的构件的透明绝缘层5与透明保护层7均利用本发明的转印材料中的所述透明硬化性树脂层而形成。

构成透明绝缘层5与透明保护层7的材料是本发明的转印材料中的所述透明硬化性树脂层所使用的材料，优选的是除了可改善透明电极图案视认性以外，表面硬度、耐热性也高的材料。

在本发明的静电电容型输入装置的制造方法中，优选的是通过使用本发明的转印材料将透明硬化性树脂层转印于前面板1上而形成透明绝缘层5及透明保护层7。

例如，在形成透明绝缘层5的情形时，可通过如下方式而形成：使用包含绝缘性透明硬化性树脂层作为所述透明硬化性树脂层的本发明的转印材料，在形成有第一透明电极图案的所述前面板1的表面转印所述透明硬化性树脂层。在形成透明保护层7的情形时，可通过如下方式而形成：使用透明的包含透明硬化性树脂层的本发明的转印材料，在形成有各元件的所述前面板1的表面转印透明硬化性树脂层。

若使用本发明的转印材料而形成所述透明绝缘层5或透明保护层7，则即使在具有开口部的基板(前面板)，也不产生抗蚀剂成分自开口部分的漏出，即使在开口部分附近也可充分地改善透明电极图案视认性。

对使用本发明的转印材料而形成所述透明绝缘层及透明保护层的方法加以说明。一般在使用转印膜的情形时，若转印膜的所述透明硬化性树脂层为包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层，则可通过通常的光刻方式而形成所述透明绝缘层及透明保护层。而且，在转印膜的所述透明硬化性树脂层不含光硬化性树脂的情形时，可通过利用半切穿(half-cut)的转印方法而形成所述透明绝缘层及透明保护层。其中，在本发明的静电电容型输入装置的制造方法中，优选的是光刻方式。

(1)光刻

关于使用光刻方式而形成所述透明绝缘层及透明保护层的情形，对图案化方法加以说明。

本发明的转印材料可通过如下方式而获得图案：在转印材料层叠于基材(前面板)上之后，曝光为必要的图案状，在负型材料的情形时，对非曝光部分进行显影处理而将其除去，在正型材料的情形时，对曝光部分进行显影处理而将其除去。此时，作为显影，可将热塑性树脂层与光硬化性树脂层利用不同的液体而显影除去，也可利用同一液体而除去。也可视需要组合毛刷或高压喷射机等公知的显影设备。在显影后，也可视需要而进行后曝光、后烘烤。

在所述透明硬化性树脂层具有光硬化性树脂层的情形时，形成所述透明硬化性树脂层图案的方法可列举包含如下步骤的方法：保护膜除去步骤，自本发明的转印材料除去所述保护膜；转印步骤，将除去了所述保护膜的本发明的转印材料的包含所述光硬化性树脂的透明硬化性树脂层转印于基材上；曝光步骤，对基材上所转印的包含所述光硬化性树脂的透明硬化性树脂层进行曝光；显影步骤，对进行了曝光的包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层进行显影而获得图案图像。在此情形时，优选的是在所述转印步骤后进一步包含对所转印的包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层进行后曝光的步骤。

-转印步骤-

所述转印步骤是将除去了所述保护膜的本发明的转印材料的包含所述光硬化性树脂的透明硬化性树脂层转印至基材上的步骤。

此时，优选的是通过如下方式而进行的方法：在将本发明的转印材料的包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层层叠于基材上之后，将临时支撑体除去。

包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层在基材表面上的转印(贴合)可将包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层重叠在基材表面上，进行加压、加热来进行。在贴合中可使用层叠机、真空层叠机、及能够进一步提高生产性的自动切割层叠机等公知层叠机。

-曝光步骤、显影步骤、及其他步骤-

作为所述曝光步骤、显影步骤、及其他步骤的例子，也可在本发明中适宜地使用日本专利特开2006-23696号公报的段落编号[0035]～段落编号[0051]中所记载的方法。

所述曝光步骤是对基材上所转印的所述包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层进行曝光的步骤。

具体而言，可列举在所述基材上所形成的包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层的上方配置规定的掩膜，其后介隔所述掩膜、热塑性树脂层、及中间层而自掩膜上方进行曝光的方法。

此处，所述曝光的光源若可照射能够使包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层硬化的波段的光(例如365nm、405nm等)，则可适宜选定而使用。具体而言，可列举超高压水银灯、高压水银灯、金属卤化物灯等。曝光量通常为5mJ/cm²～200mJ/cm²左右，优选的是10mJ/cm²～100mJ/cm²左右。

所述显影步骤是对进行了曝光的包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层进行显影的步骤。

所述显影可使用显影液而进行。作为所述显影液，并无特别制约，可使用日本专利特开平5-72724号公报中所记载者等公知的显影液。另外，显影液优选的是进行光硬化性树脂层为溶解型的显影举动，例如优选的是以0.05mol/L～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物的显影液，也可进一步添加少量的与水具有混和性的有机溶剂。与水具有混和性的有机溶剂可列举甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苯甲醇(benzyl alcohol)、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。所述有机溶剂的浓度优选的是0.1质量％～30质量％。而且，所述显影液中可进一步添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选的是0.01质量％～10质量％。

所述显影的方式可为覆液(puddle)显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等的任意方式。此处，对所述喷淋显影加以说明，可通过喷淋而将显影液吹附至曝光后的包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层上，由此将未硬化部分除去。另外，在设有热塑性树脂层或中间层的情形时，优选的是在显影前，通过喷淋等吹附包含光硬化性树脂的透明硬化性树脂层的溶解性低的碱性液体，预先将热塑性树脂层、中间层等除去。而且，优选的是在显影之后，通过喷淋而吹附清洗剂等，一面利用毛刷等进行擦拭，一面将显影残渣除去。显影液的液体温度优选的是20℃～40℃，而且显影液的pH优选的是8～13。

本发明的静电电容型输入装置的制造方法也可包含后曝光步骤、后烘烤步骤等其他步骤。

另外，作为图案化曝光，可在将临时支撑体剥离后进行，也可在剥离临时支撑体之前进行曝光，其后剥离临时支撑体。可为介隔掩膜的曝光，也可为使用激光等的数字曝光。

(2)利用半切穿的转印

在利用半切穿的转印方法中，优选的是首先用剃刀等预切(pre-cut)透明硬化性树脂层的图像部与非图像部的边界后，利用胶带(tape)将非图像部的保护膜、透明硬化性树脂层及中间层除去，进一步同样地除去图像部的保护膜，在基板上转印透明硬化性树脂层图案。

继而，通过显影将热塑性树脂层与中间层除去，由此可形成透明硬化性树脂层图案。

也可视需要组合毛刷或高压喷射机等公知的显影设备。在显影后，也可视需要进行后曝光、后烘烤，优选的是进行后烘烤。

优选的是利用半切穿的转印方法包含如下步骤：在所述本发明的转印膜的一部分中切出贯通所述透明硬化性树脂层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤；将由所述切口所围的区域中的至少一部分区域的所述透明硬化性树脂层除去的步骤；使用除去所述一部分区域的所述透明硬化性树脂层后的所述转印膜而形成所述透明硬化性树脂层的步骤。

将在所述转印膜的一部分中切出贯通所述透明硬化性树脂层且并不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤，也可称为预先预切透明硬化性树脂层中所转印的图像部的步骤。另外，将切出此种深度的切口的情况也可称为半切穿。

将由所述切口所围的区域中的至少一部分区域的所述透明硬化性树脂层除去的步骤也可称为除去并未转印的非图像部的透明硬化性树脂层的步骤。

另外，在本发明的转印膜包含保护膜或中间层或热塑性树脂层的情形时，将由所述切口所围的区域中的至少一部分区域的所述透明硬化性树脂层除去的步骤优选的是将非图像部的保护膜及透明硬化性树脂层、以及图像部的保护膜除去的步骤。

使用除去所述一部分区域的所述透明硬化性树脂层后的所述转印膜而形成所述透明硬化性树脂层的步骤也可称为将所述图像部的透明硬化性树脂层转印至基材上的转印步骤。

另外，在本发明的转印膜包含保护膜或中间层或热塑性树脂层的情形时，使用除去所述一部分区域的所述透明硬化性树脂层后的所述转印膜而形成所述透明硬化性树脂层的步骤优选的是将除去了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的透明硬化性树脂层转印于基材上的转印步骤。

在此情形时，使用除去所述一部分区域的所述透明硬化性树脂层后的所述转印膜而形成所述透明硬化性树脂层的步骤更优选的是包含将基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤。

在此情形时，使用除去所述一部分区域的所述透明硬化性树脂层后的所述转印膜而形成所述透明硬化性树脂层的步骤更优选的是包含将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。

本发明的制造方法更优选的是包含如下步骤的方法：预先预切本发明的转印膜的透明硬化性树脂层中所转印的图像部的步骤；将非图像部的保护膜及透明硬化性树脂层、以及图像部的保护膜除去的步骤；将除去了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的透明硬化性树脂层转印于基材上的转印步骤；将基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤；将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。

-预切步骤-

在并不通过通常的光刻方式而形成图像的情形时，必须在转印以前在透明硬化性树脂层形成图像部。以下对在所述转印膜的一部分中切出贯通所述透明硬化性树脂层且不贯通所述临时支撑体的深度的切口的步骤(预切步骤)加以说明。

所述切出切口的方法并无特别限制，可利用刀、激光等任意方法而切出切口，优选的是利用刀而切出切口。而且，刀的结构并无特别限定。

作为所述转印膜，例如在顺次层叠临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、透明硬化性树脂层、保护膜而构成时，例如可使用刀或激光，自保护膜上切出贯穿保护膜、透明硬化性树脂层、中间层，直至热塑性树脂层的一部分的切口，由此可将所转印的图像部与并未转印的非图像部之间分离。

-将非图像部的透明硬化性树脂层除去的步骤-

将预切的透明硬化性树脂层的图像部选择性地转印于基板上时必须努力使非图像部不被转印。一种方法是在转印前将非图像部的透明硬化性树脂层除去的方法，是在除去保护膜后，将非图像部的透明硬化性树脂层与中间层同时剥离的方法。另一种是剥去图像部上的保护膜，继而将透明硬化性树脂层与中间层同时剥离，进一步剥去图像部上的保护膜的方法。自直至转印之前保护透明硬化性树脂层的图像部的观点考虑，优选的是后者的方法。

-其他步骤-

关于除去保护膜的步骤、将除去所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的透明硬化性树脂层转印于基材上的转印步骤、将基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤、将热塑性树脂层与中间层除去的步骤，与光刻方式相同。

(掩膜层)

也优选的是本发明的静电电容型输入装置的制造方法进一步包含形成掩膜层的步骤。

图1的前面板1的非接触面上设有掩膜层2。掩膜层2是在触摸屏前面板的非接触侧所形成的显示区域周围的边框状图案，是为了使引线等不可见而形成的。

本发明的静电电容型输入装置10中，如图2所示那样，以覆盖前面板1的一部分区域(在图2中为输入面以外的区域)的方式设有掩膜层2。另外，在前面板1上，可如图2所示那样在一部分中设置开口部8。在开口部8中，可设置利用按压的机械开关。

作为所述静电电容型输入装置的制造方法，对形成掩膜层2等所述(3)及(5)的元件以外的层的方法并无特别限制，优选的是使用顺次包含临时支撑体与光硬化性树脂层的感光性膜而形成，更优选的是使用顺次包含临时支撑体与热塑性树脂层及光硬化性树脂层的感光性膜而形成。另外，作为此处所述感光性膜，可使用本发明的转印材料，也可使用本发明的转印材料以外的感光性膜。

通过使用所述感光性膜将光硬化性树脂层转印于前面板1上而形成所述掩膜层2的步骤的优选范围，与形成所述透明绝缘层及透明保护层的方法中的光刻方式的各步骤的优选范围相同。

此处，作为通过所述光刻方式而形成所述掩膜层2、或后述的第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及导电性元件6等永久材的情形时所使用的所述感光性膜的优选形态，可列举设有具有任意功能的光硬化性树脂层代替本发明的转印材料中的所述透明硬化性树脂层的感光性膜。而且，所述感光性膜中的光硬化性树脂层以外的层的优选范围与本发明的转印材料中的所述透明硬化性树脂层以外的层的优选范围相同。

在所述掩膜层2的形成中使用所述感光性膜的情形时，优选的是在光硬化性树脂层中含有着色剂。

若使用所述感光性膜而形成掩膜层2，则即使在具有开口部的基板(前面板)中，抗蚀剂成分也不自开口部分漏出，在必须将遮光图案形成至前面板的最边界的掩膜层中，抗蚀剂成分并不自玻璃端渗出，因此并不污染基板背面侧，利用简略的步骤便可制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。

另外，在形成必须具有遮光性的掩膜层2时，通过使用具有特定的层构成(在光硬化性树脂层与临时支撑体之间包含热塑性树脂层)的所述感光性膜而可防止层叠感光性膜时产生气泡，可形成并不漏光的高品质的掩膜层2。

而且，在使用所述感光性膜而形成掩膜层的情形时，可在光硬化性树脂层中使用着色剂。作为所述着色剂，可适宜地使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。

所述掩膜层优选的是黑色的掩膜层或白色的掩膜层(有时也称为装饰层)。例如在形成黑色的掩膜层2的情形时，优选的是可通过如下方式而形成：使用具有黑色光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的感光性膜，在所述前面板1的表面转印所述黑色光硬化性树脂层。另外，除了黑色着色剂的外，也可使用红、蓝、绿色等颜料的混合物等。

在将所述光硬化性树脂层用作黑色掩膜层的情形时，自光学密度(opticaldensity)的观点考虑，优选的是包含黑色着色剂。黑色着色剂例如可列举碳黑、钛碳、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中优选的是碳黑。

在将所述光硬化性树脂层用作白色掩膜层的情形时，可使用日本专利特开2005-7765号公报的段落[0015]或段落[0114]中所记载的白色颜料。

为了将所述光硬化性树脂层用作其他颜色的掩膜层，也可混合使用日本专利第4546276号公报的段落[0183]～段落[0185]等中所记载的颜料、或染料。具体而言，可适宜使用日本专利特开2005-17716号公报的段落编号[0038]～段落编号[0054]中所记载的颜料及染料、日本专利特开2004-361447号公报的段落编号[0068]～段落编号[0072]中所记载的颜料、日本专利特开2005-17521号公报的段落编号[0080]～段落编号[0088]中所记载的着色剂等。

所述着色剂(优选的是颜料、更优选的是碳黑)理想的是用作分散液。所述分散液可通过如下方式而制备：将所述着色剂与颜料分散剂预先混合而得的组合物，添加于后述的有机溶剂(或媒剂(vehicle))中使其分散。所述媒剂是指在涂料处于液体状态时使颜料分散的介质(medium)的部分，包含为液状且与所述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)、对其进行溶解稀释的成分(有机溶剂)。

作为使所述颜料分散时所使用的分散机，并无特别限制，例如可列举朝仓邦造著的《颜料事典》、第一版、朝仓书店、2000年、第438项中所记载的捏炼机(kneader)、辊磨机(roll mill)、磨碎机(Attritor)、超级研磨机(super mill)、溶解器、均质混合机、砂磨机(sand mill)等公知的分散机。另外，也可利用所述文献第310页中所记载的机械性磨碎，利用摩擦力而进行微粉碎。

作为所述着色剂，自分散稳定性的观点考虑，优选的是数量平均粒径为0.001μm～0.1μm，更优选的是数量平均粒径为0.01μm～0.08μm。另外，此处所谓的“粒径”是指将粒子的电子显微镜相片图像设为同面积的圆时的直径，而且所谓“数量平均粒径”是指对多个粒子求出所述粒径，其100个的平均值。

作为包含着色剂的光硬化性树脂层的层厚，自与其他层的厚度差的观点考虑，优选的是0.5μm～10μm，更优选的是0.8μm～5μm，特别优选的是1μm～3μm。作为包含所述着色剂的光硬化性树脂层的固体成分中的着色剂的含有率，并无特别限制，自充分地缩短显影时间的观点考虑，优选的是15质量％～70质量％，更优选的是20质量％～60质量％，进一步更优选的是25质量％～50质量％。

本说明书中所谓的总固体成分是表示自包含着色剂的光硬化性树脂层中除去溶剂等的不挥发成分的总质量。

(第一透明电极图案及第二透明电极图案、导电性元件)

在前面板1的接触面形成有：多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案3；与第一透明电极图案3电绝缘，在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案4；使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘的透明绝缘层5。所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述的导电性元件6例如可利用氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)或氧化铟锌(Indium ZincOxide，IZO)等透光性导电性金属氧化膜而制作。此种金属膜可列举：ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金属膜；SiO₂等的金属氧化膜等。此时，各元件的膜厚可设为10nm～200nm。而且，利用煅烧而使非晶体的ITO膜成为多晶的ITO膜，因此也可减低电阻。而且，所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述的导电性元件6也可使用具有后述使用导电性纤维的光硬化性树脂层的感光性膜而制造。另外，在利用ITO等形成第一导电性图案等的情形时，可参考日本专利第4506785号公报的段落[0014]～段落[0016]等。

而且，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个可跨过前面板1的非接触面及掩膜层2的与前面板1为相反侧的面两者的区域而设置。在图1中表示跨过前面板1的非接触面及掩膜层2的与前面板1为相反侧的面两者的区域而设置有第二透明电极图案的图。这样，即使在跨过必需一定厚度的掩膜层与前面板背面而层叠感光性膜的情形时，通过使用所述感光性膜，即使不使用真空层叠机等昂贵的设备，也可利用简单的步骤而在掩膜部分边界不会产生泡地进行层叠。

使用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4加以说明。图3是表示本发明的静电电容型输入装置中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示那样，第一透明电极图案3是垫部分3a经由连接部分3b在第一方向上延伸而形成的。而且，第二透明电极图案4是利用绝缘层5而与第一透明电极图案3电绝缘，包含在与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向)上延伸而形成的多个垫部分。此处，在形成第一透明电极图案3的情形时，可使所述垫部分3a与连接部分3b成为一体而制作，也可仅仅制作连接部分3b，使垫部分3a与第二透明电极图案4成为一体而制作(图案化)。在使垫部分3a与第二透明电极图案4成为一体而制作(图案化)的情形时，如图3所示那样将连接部分3b的一部分与垫部分3a的一部分连结，且以由绝缘层5使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘的方式而形成各层。

在图1中，在掩膜层2的与前面板1为相反侧的面侧设置有导电性元件6。导电性元件6是与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个电性连接、且与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的元件。在图1中表示导电性元件6与第二透明电极图案4连接的图。

所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及导电性元件6可(1)使用包含导电性光硬化性树脂层的所述感光性膜而形成、或(2)利用蚀刻处理而形成。

(1)使用包含导电性光硬化性树脂层的所述感光性膜的方法

在使用包含导电性光硬化性树脂层的所述感光性膜而形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其他的导电性元件6的情形时，可通过在所述前面板1的表面转印所述导电性光硬化性树脂层而形成。

若使用包含所述导电性光硬化性树脂层的感光性膜而形成所述第一透明电极图案3等，则即使是具有开口部的基板(前面板)，抗蚀剂成分也不自开口部分漏出，并不污染基板背面侧，利用简略的步骤而可制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。

通过使用所述感光性膜而将光硬化性树脂层转印于前面板1上来形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其他导电性元件6的步骤的优选范围，与形成所述透明绝缘层及透明保护层的方法中的光刻方式的各步骤的优选范围相同。

另外，在形成第一透明电极图案3等时，通过使用具有特定层构成(在导电性光硬化性树脂层与临时支撑体之间包含热塑性树脂层)的所述感光性膜而可防止层叠所述感光性膜时产生气泡，能以优异导电性、小电阻来形成第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其他导电性元件6。

在使用层叠有所述导电性光硬化性树脂层的感光性膜而形成所述第一透明电极图案及第二透明电极图案、或其他导电性元件的情形时，可将以下的导电性纤维等用于光硬化性树脂层中。

导电性纤维的结构并无特别限制，可视需要而适宜选择，优选的是实心结构及中空结构的任意结构。

此处，有时将实心结构的纤维称为“线”，将中空结构的纤维称为“管”。而且，有时将平均短轴长度为5nm～1,000nm、平均长轴长度为1μm～100μm的导电性纤维称为“纳米线”。

而且，有时将平均短轴长度为1nm～1,000nm、平均长轴长度为0.1μm～1,000μm、且具有中空结构的导电性纤维称为“纳米管”。

作为所述导电性纤维的材料，若具有导电性则并无特别限制，可视需要而适宜选择，优选的是金属及碳的至少任意的，在这些中，所述导电性纤维特别优选的是金属纳米线、金属纳米管、及碳纳米管的至少任意的。

--金属纳米线--

-金属-

所述金属纳米线的材料并无特别限制，例如优选的是选自由长周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期所构成的群组的至少1种金属，更优选的是选自第2族～第14族的至少1种金属，进一步更优选的是选自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及第14族的至少1种金属，特别优选的是包含这些金属作为主成分。

所述金属例如可列举铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、这些的合金等。就导电性优异的方面而言，这些中优选的是主要含有银的材料、或含有银与银以外的金属的合金的材料。

所述所谓主要含有银是表示在金属纳米线中含有50质量％以上、优选的是90质量％以上的银。

所述与银的合金中所使用的金属可列举铂、锇、钯及铱等。这些金属可单独使用1种，也可并用2种以上。

-形状-

作为所述金属纳米线的形状，并无特别限制，可视需要适宜选择，例如可使用圆柱状、长方体状、剖面为多边形的柱状等任意形状，在必需高透明性的用途中，优选的是圆柱状、剖面的多边形的角圆滑的剖面形状。

所述金属纳米线的剖面形状可通过在基材上涂布金属纳米线水分散液，利用透射式电子显微镜(transmission electron microscope，TEM)观察剖面而调查。

所述金属纳米线的剖面的角是表示将剖面的各边延长，与自相邻边引下的垂线相交的点的周边部。而且，“剖面的各边”是将这些相邻的角与角连结而成的直线。在此情形时，将所述“剖面的外周长度”相对于所述“剖面的各边”的合计长度的比例作为锐利度。作为锐利度，例如在如图9所示的金属纳米线剖面中，可利用以实线表示的剖面的外周长度与以虚线表示的五边形的外周长度的比例而表示。将所述锐利度为75％以下的剖面形状定义为角圆滑的剖面形状。所述锐利度优选的是60％以下，更优选的是50％以下。若所述锐利度超过75％，则在所述角局部存在电子，等离子体激元(plasmon)吸收增加，因此残存黄色调等而造成透明性劣化。而且，有时图案的边缘部的直线性降低，产生粗糙。所述锐利度的下限优选的是30％，更优选的是40％。

-平均短轴长度及平均长轴长度-

所述金属纳米线的平均短轴长度(有时也称为“平均短轴径”、“平均直径”)优选的是150nm以下，更优选的是1nm～40nm，进一步更优选的是10nm～40nm，特别优选的是15nm～35nm。

若所述平均短轴长度不足1nm，则存在耐氧化性劣化，耐久性变差的现象；若超过150nm，则存在产生由金属纳米线所引起的散射，无法获得充分的透明性的现象。

所述金属纳米线的平均短轴长度可使用透射式电子显微镜(TEM；日本电子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，对300个金属纳米线进行观察，根据其平均值求出金属纳米线的平均短轴长度。另外，所述金属纳米线的短轴并非圆形的情形时的短轴长度可将最长的作为短轴长度。

所述金属纳米线的平均长轴长度(有时称为“平均长度”)优选的是1μm～40μm，更优选的是3μm～35μm，进一步更优选的是5μm～30μm。

若所述平均长轴长度不足1μm，则存在难以形成致密的网状物，无法获得充分的导电性的现象；若超过40μm，则存在金属纳米线过长而在制造时缠绕，在制造过程中生成凝聚物的现象。

所述金属纳米线的平均长轴长度例如可使用透射式电子显微镜(TEM；日本电子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，对300个金属纳米线进行观察，根据其平均值求出金属纳米线的平均长轴长度。另外，在所述金属纳米线弯曲的情形时，考虑以此为弧的圆，将根据其半径及曲率而算出的值作为长轴长度。

自涂布液的稳定性或涂布时的干燥或图案化时的显影时间等工艺适合性的观点考虑，导电性硬化性树脂层的层厚优选的是0.1μm～20μm，更优选的是0.5μm～18μm，特别优选的是1μm～15μm。自导电性与涂布液的稳定性的观点考虑，所述导电性纤维相对于所述导电性硬化性树脂层的总固体成分的含量优选的是0.01质量％～50质量％，更优选的是0.05质量％～30质量％，特别优选的是0.1质量％～20质量％。

而且，也可使用所述感光性膜作为剥离材而形成第一透明电极层、第二透明电极层及其他导电性构件。在此情形时，在使用所述感光性膜进行图案化之后，在基材整个面形成透明导电层，然后进行所堆积的透明导电层连同所述光硬化性树脂层的溶解除去，由此可获得所期望的透明导电层图案(剥离法)。

(2)使用蚀刻处理的方法

在利用蚀刻处理形成所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及其他导电性元件6的情形时，首先利用溅镀在形成有掩膜层2等的前面板1的非接触面上形成ITO等的透明电极层。其次，在所述透明电极层上，使用包含蚀刻用光硬化性树脂层作为所述光硬化性树脂层的所述感光性膜，利用曝光、显影而形成蚀刻图案。其后，可通过对透明电极层进行蚀刻而对透明电极进行图案化，将蚀刻图案除去而形成第一透明电极图案3等。

在将所述感光性膜用作蚀刻阻剂(蚀刻图案)的情形时，可与所述使用导电性光硬化性树脂层的方法同样地进行而获得抗蚀剂图案。所述蚀刻可利用日本专利特开2010-152155号公报的段落[0048]～段落[0054]等中所记载的公知方法而应用蚀刻、抗蚀剂剥离。

例如作为蚀刻的方法，可列举一般所进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀刻中所使用的蚀刻液可根据蚀刻对象而适宜选择酸性型或碱性型的蚀刻液即可。酸性型的蚀刻液可例示盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等酸性成分的单独水溶液，酸性成分与氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可使用多种酸性成分组合而成的。而且，碱性型的蚀刻液可例示氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵这样的有机胺的盐等碱成分的单独水溶液，碱成分与高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱成分也可使用多种碱成分组合而成的。

蚀刻液的温度并无特别限定，优选的是45℃以下。在本发明中作为蚀刻掩膜(蚀刻图案)而使用的树脂图案是使用上述光硬化性树脂层而形成的，因此对于此种温度区域的酸性及碱性的蚀刻液发挥特别优异的耐受性。因此防止在蚀刻步骤中树脂图案剥离，选择性蚀刻并不存在树脂图案的部分。

在所述蚀刻后，为了防止线污染而也可视需要进行清洗步骤、干燥步骤。关于清洗步骤，例如在常温下利用纯水对基材清洗10秒钟～300秒钟而进行，关于干燥步骤，使用鼓风机，适宜调整鼓风压力(0.1kg/cm²～5kg/cm²左右)而进行即可。

其次，作为树脂图案的剥离方法，并无特别限定，例如可列举在30℃～80℃、优选的是50℃～80℃下，将基材浸渍于搅拌中的剥离液中5分钟～30分钟的方法。在本发明中作为蚀刻掩膜而使用的树脂图案是如上所述地在45℃以下显示优异的耐化学药品性的树脂图案，若化学药品温度成为50℃以上，则显示出由于碱性剥离液而膨润的性质。由于此种性质，具有若使用50℃～80℃的剥离液而进行剥离步骤，则步骤时间缩短、树脂图案的剥离残渣变少的优点。亦即，通过在所述蚀刻步骤与剥离步骤之间设置化学药品温度的差，在本发明中作为蚀刻掩膜而使用的树脂图案在蚀刻步骤中发挥良好的耐化学药品性，另一方面在剥离步骤中显示良好的剥离性，可同时满足耐化学药品性与剥离性此两种相反特性。

剥离液例如可列举使氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分或三级胺、四级铵盐等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、或这些的混合溶液中而成者。也可使用所述剥离液，利用喷雾法、喷淋法、覆液法等而进行剥离。

作为本发明的制造方法的过程中所形成的静电电容型输入装置的形态例，可列举图4～图8的形态。图4是表示形成有开口部8的强化处理玻璃11的一例的俯视图。图5是表示形成有掩膜层2的前面板的一例的俯视图。图6是表示形成有第一透明电极图案3的前面板的一例的俯视图。图7表示形成有第一透明电极图案3与第二透明电极图案4的前面板的一例的俯视图。图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件6的前面板的一例的俯视图。这些图式表示将上述说明具体化的例，本发明的范围并不由这些图式而限定性地解释。

《静电电容型输入装置、及包含静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置》

利用本发明的制造方法而所得的静电电容型输入装置、及包含所述静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置可适用《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行，技术时代股份有限公司(Techno Times Co.，Ltd))、三谷雄二主编，《触摸屏的技术与开发》、CMC出版(2004，12)，2009年国际平板显示器展会(FPD International 2009 Forum)T-11讲座教材，赛普拉斯半导体公司(Cypress Semiconductor Corporation)应用注解AN2292等中所揭示的构成。

[实施例]

以下列举实施例与比较例对本发明的特征加以更具体说明。以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不偏离本发明的主旨则可适宜变更。因此，本发明的范围并不由以下所示的具体例而限定性地解释。另外，只要无特别说明，则“％”及“份”是质量基准。

<比较例1及实施例1～实施例10>

[转印材料的制备]

在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜临时支撑体(PET)上，使用狭缝状喷嘴而涂布包含下述配方H1的热塑性树脂层用涂布液并使其干燥。其次，涂布包含下述配方P1的中间层用涂布液而使其干燥。进一步涂布包含下述表1中所记载的配方的透明硬化性树脂层用涂布液而使其干燥。如上所述而在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层，且以光学密度成为4.0的方式而设置干燥膜厚为2.2μm的透明硬化性树脂层，最后压接保护膜(厚度为12μm的聚丙烯膜)。如上所述而制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)、透明硬化性树脂层成为一体的转印材料，作为各实施例及比较例的转印材料(透明硬化性树脂层形成用感光性膜)(透明硬化性树脂层的膜厚为1.4μm)。

(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)

上述氟系聚合物是40份C₆F₁₃CH₂CH₂OCOCH＝CH₂与55份H(OCH(CH₃)CH₂)₇OCOCH＝CH₂与5份H(OCHCH₂)₇OCOCH＝CH₂的共聚物，重量平均分子量为3万、甲基乙基酮为30质量％的溶液(商品名为美佳法(Megafac)F780F、大日本油墨化学工业股份有限公司制造)

测定热塑性树脂层用涂布液H1的除去溶剂后的110℃下的粘度ηc，记载于下述表1中。

(中间层用涂布液：配方P1)

(透明硬化性树脂层用涂布液)

以成为以下表1中所记载的组成的方式混合各成分而获得透明硬化性树脂层用涂布液。测定透明硬化性树脂层用涂布液的除去溶剂后的110℃下的粘度ηa，记载于下述表1中。而且，计算ηa/ηc的值，记载于下述表1中。

下述表1中，利用以下方法进行TiO₂分散液-A的制备。

(1)二氧化钛分散液(分散组合物)的制备

对于下述组成的混合液，使用寿工业股份有限公司制造的超顶端磨机(UltraApex Mill)(商品名)作为循环型分散装置(珠磨机)，以如下方式进行分散处理，获得二氧化钛分散液作为分散组合物。

(组成)

[化1]

在上述化学式所表示的特定树脂1中，x∶y＝20∶80，接枝链的原子数(氢原子除外)为257，特定树脂1的重量平均分子量为20500。

而且，分散装置在以下条件下运转。

·珠粒直径：φ0.05mm

·珠粒填充率：75体积％

·圆周速度：8m/sec

·泵供给量：10Kg/hour

·冷却水：自来水

·珠磨机环状通路内部容积：0.15L

·分散处理的混合液量：0.44Kg

在分散开始后，以30分钟的间隔(1次的时间)而进行平均粒径的测定。

平均粒径随着分散时间(通过次数)而减少，但其变化量逐渐变少。在将分散时间延长30分钟时的平均粒径变化成为5nm以下的时间点结束分散。另外，所述分散液中的二氧化钛粒子的平均粒径为40nm。

另外，各实施例中的二氧化钛的平均粒径是指用丙二醇单甲醚乙酸酯将包含二氧化钛的混合液或分散液稀释至80倍，使用动态光散射法对所得的稀释液进行测定而所得的值。是使用日机装股份有限公司制造的微追踪(Microtrack)UPA-EX150进行所述测定而所得的数量平均粒径。

而且，与上述测定分开，对于所得的分散液中所含的二氧化钛粒子300个，使用使用透射式电子显微镜而分别求出二氧化钛粒子的投影面积，求出对应的等效圆直径的算术平均值，结果为40nm。

下述表1中，作为折射率为1.55以上的高折射率粘合剂的化合物1为CR-1030(大阪气体化学股份有限公司制造)。

下述表1中，单体混合物中所使用的日本专利特开2012-78528号公报的段落编号[0111]中所记载的聚合性化合物(b2-1)是下述式所表示的结构，是X均为丙烯酰基且n＝1：三季戊四醇八丙烯酸酯含有率为85％且作为杂质的n＝2及n＝3的合计为15％的混合物。

[化2]

下述表1中，聚合物溶液1中所使用的日本专利特开2008-146018号公报的段落编号[0058]中所记载的下述结构式P-25的化合物的重量平均分子量为3.5万，聚合物溶液1是固体成分为45％的乙酸-1-甲氧基-2-丙酯15％、1-甲氧基-2-丙醇40％的溶液。

[化3]

下述表1中，聚合物溶液2中所使用的聚合物是下述式(1)所表示的结构。

式(1)

[化4]

[透明硬化性树脂层的折射率的测定]

将上述所得的透明硬化性树脂层用涂布液涂布于硅晶片上，其后在加热板上、100℃下进行2分钟的加热而获得透明图案。对于形成有所述透明图案的基板，使用J.A.沃拉姆日本有限公司(J.A.Woollam Japan Co.，Inc.)制造的分光式椭圆偏光仪VUV-VASE(商品名)而测定透明图案的光学常数。将波长550nm下的使用透明硬化性树脂层用涂布液而制作的透明图案的折射率设为n(550)。将所得的结果记载于下述表1中。

[反射率测定]

在透明玻璃基板上溅镀成膜ITO后，经由透明接着剂(住友3M股份有限公司制造、8171CL)而贴合黑色PET材，利用积分球反射计(日本分光股份有限公司制造、V570)而测定反射率(反射_ITO)。

其次，同样地在透明玻璃基板上溅镀成膜ITO后，在与PET临时支撑体的界面剥离上述感光性树脂组合物后，同时转印热塑性树脂及中间层(层形成步骤)。

其次，使用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高新电子工程股份有限公司制造)，以40mJ/cm²的i线曝光量自热塑性树脂侧进行曝光。其次，使三乙醇胺系显影液(含有30％的三乙醇胺、用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍(以1份T-PD2与9份纯水的比例加以混合)而成的液体)在30℃下，在扁嘴压力为0.04MPa下进行60秒钟的喷淋显影，将热塑性树脂与中间层除去。继而，对所述玻璃基板的上表面吹气而进行脱液后，通过喷淋而吹附纯水10秒钟，进行纯水喷淋清洗，并吹气而减少基板上的液体滞留。其次，将基板在230℃下进行60分钟的加热处理后，介隔透明接着剂而使上述感光性树脂层与黑色PET材接着，对基板整体遮光后，利用积分球反射计测定反射率(反射_样品)。

<评价标准>

根据下述式而评价样品的反射率(测定值使用550nm的值)。

式：

(反射_样品)/(反射_ITO)×100％

○：0％以上、不足60％

△：60％以上、不足90％

×：90％以上

根据上述表1可知：若使用本发明的转印膜而形成静电电容型输入装置的透明保护层，则可改良透明电极图案的视认性，可提高制造使用开孔基板的静电电容型输入装置时的生产性。另一方面，根据比较例1可知：若转印膜的透明硬化性树脂层在波长550nm下的折射率低于本发明中所规定的下限值，则透明电极图案的反射率劣化，无法改善视认性。

<实施例101～实施例110及比较例101：静电电容型触摸屏的制造1>

《掩膜层的形成》[掩膜层形成用感光性膜K1的制备]

在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴涂布包含实施例1～实施例10及比较例1的转印材料的制作中使用的所述配方H1的热塑性树脂层用涂布液而使其干燥。其次，涂布包含所述配方P1的中间层用涂布液而使其干燥。另外，涂布包含下述配方K1的黑色光硬化性树脂层用涂布液而使其干燥。如上所述地在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层，且以光学密度成为4.0的方式设置干燥膜厚为2.2μm的黑色光硬化性树脂层，最后压接保护膜(厚度为12μm的聚丙烯膜)。如上所述而制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)、黑色光硬化性树脂层成为一体的转印材料，将样品名设为掩膜层形成用感光性膜K1。

(黑色光硬化性树脂层用涂布液：配方K1)

另外，黑色光硬化性树脂层用涂布液K1的除去溶剂后的100℃的粘度为10000Pa·sec。

(K颜料分散物1的组成)

[化5]

分散剂1

-R颜料分散物1的组成-

[掩膜层的形成]

其次，对于形成有开口部(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)，一面通过喷淋吹附调整为25℃的玻璃清洗剂液20秒钟，一面用具有尼龙毛的旋转毛刷进行清洗，在纯水喷淋清洗后，通过喷淋吹附硅烷偶合液(N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名为KBM603、信越化学工业股份有限公司制造)20秒钟，进行纯水喷淋清洗。将所述基材在基材预热装置中在140℃下进行2分钟的加热。在所得的硅烷偶合处理玻璃基材上，自上述所得的掩膜层形成用感光性膜K1除去保护膜，以除去后所露出的黑色光硬化性树脂层的表面与所述硅烷偶合处理玻璃基材的表面相接的方式进行重合，使用层叠机(日立产业股份有限公司制造拉米克((Lamic)II型))，在橡胶辊温度为130℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.2m/min下层叠于所述在140℃下进行了加热的基材上。继而，在与热塑性树脂层的界面将聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体剥离，除去临时支撑体。将临时支撑体剥离后，利用具有超高压水银灯的近接型曝光机(日立高新电子工程股份有限公司制造)，在使基材与曝光掩膜(具有边框图案的石英曝光掩膜)垂直地竖立的状态下，将曝光掩膜面与所述黑色光硬化性树脂层之间的距离设定为200μm，在曝光量为70mJ/cm²(i线)下进行图案曝光。

其次，使三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)在33℃下，在扁嘴压力为0.1MPa下进行60秒钟的喷淋显影，将热塑性树脂层与中间层除去。继而，对所述玻璃基材的上表面吹气而进行脱液后，通过喷淋而吹附纯水10秒，进行纯水喷淋清洗，并吹气而减少基板上的液体滞留。

其后，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释至5倍而成的液体)，在32℃下将喷淋压力设定为0.1MPa，进行45秒钟的显影，其后利用纯水加以清洗。

继而，使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在33℃下、圆锥型喷嘴压力为0.1MPa下通过喷淋吹出20秒钟，进一步利用具有柔软的尼龙毛的旋转毛刷，擦拭所形成的图案图像而进行残渣除去。进一步利用超高压清洗喷嘴，在9.8MPa的压力下喷射超纯水而进行残渣除去。

其次，在大气下，以1300mJ/cm²的曝光量进行后曝光，进一步在240℃下进行80分钟的后烘烤处理，获得形成有光学密度为4.0、膜厚为2.0μm的掩膜层的前面板。

《第一透明电极图案的形成》

[透明电极层的形成]

将形成有掩膜层的前面板导入至真空室内，使用SnO₂含有率为10质量％的ITO靶(铟∶锡＝95∶5(摩尔比))，利用DC磁控溅镀(条件：基材的温度为250℃、氩压为0.13Pa、氧压为0.01Pa)形成厚度为40nm的ITO薄膜，获得形成有透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□。

[蚀刻用感光性膜E1的制备]

在所述掩膜层形成用感光性膜K1的制备中，将黑色光硬化性树脂层用涂布液替代为包含下述配方E1的蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液，除此以外与掩膜层形成用感光性膜K1的制备同样地进行而获得蚀刻用感光性膜E1(蚀刻用光硬化性树脂层的膜厚为2.0μm)。

(蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液：配方E1)

另外，蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液E1的除去溶剂后的100℃的粘度为2500Pa·sec。

[第一透明电极图案的形成]

与掩膜层的形成同样地进行，对形成有透明电极层的前面板进行清洗，层叠除去了保护膜的蚀刻用感光性膜E1(基材温度为130℃、橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.2m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩膜(具有透明电极图案的石英曝光掩膜)面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为200μm，以50mJ/cm²(i线)的曝光量进行图案曝光。

其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在25℃下进行100秒钟的处理，其次使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒钟的处理，利用旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去，进一步在130℃下进行30分钟的后烘烤处理，获得形成有透明电极层与蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板。

将形成有透明电极层与蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板浸渍于放有ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液。液温为30℃)的蚀刻槽中，进行100秒钟的处理，将未被蚀刻用光硬化性树脂层覆盖而露出的区域的透明电极层溶解除去，获得附有蚀刻用光硬化性树脂层图案且附有透明电极层图案的前面板。

其次，将附有蚀刻用光硬化性树脂层图案且附有透明电极层图案的前面板，浸渍于放入有抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名为萨菲诺尔(Surfynol)465、空气化工产品公司制造)液温为45℃)的抗蚀剂剥离槽中，进行200秒的处理而将蚀刻用光硬化性树脂层除去，获得形成有掩膜层与第一透明电极图案的前面板。

《绝缘层的形成》与掩膜层的形成同样地进行，对所述附有第一透明电极图案的前面板进行清洗、硅烷偶合处理，层叠除去了保护膜的实施例1～实施例10及比较例1的转印材料(基材温度为100℃、橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为2.3m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩膜(具有绝缘层用图案的石英曝光掩膜)面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为100μm，以30mJ/cm²(i线)的曝光量进行图案曝光。

其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在33℃下进行60秒钟的处理，其次使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释至5倍而成的液体)，在25℃下进行50秒钟的处理，使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒钟的处理，利用旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去，进一步在230℃下进行60分钟的后烘烤处理，获得形成有掩膜层、第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案的前面板。

《第二透明电极图案的形成》

[透明电极层的形成]

与所述第一透明电极图案的形成同样地进行，对形成至使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案为止的前面板进行DC磁控溅镀处理(条件：基材的温度为50℃、氩压为0.13Pa、氧压为0.01Pa)，形成厚度为80nm的ITO薄膜，获得形成有透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为110Ω/□。

与第一透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用感光性膜E1，获得形成有第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案、透明电极层、蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板(后烘烤处理；130℃、30分钟)。

另外，与第一透明电极图案的形成同样地进行，通过进行蚀刻(30℃、50秒钟)、将蚀刻用光硬化性树脂层除去(45℃、200秒钟)而获得形成有掩膜层、第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板。

《与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件的形成》

与所述第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行，对形成有第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板进行DC磁控溅镀处理，获得形成有厚度为200nm的铝(Al)薄膜的前面板。

与所述第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用感光性膜E1而获得形成有第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案、第二透明电极图案、蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板。(后烘烤处理；130℃、30分钟)。

另外，与第一透明电极图案的形成同样地进行，通过进行蚀刻(30℃、50秒钟)、将蚀刻用光硬化性树脂层除去(45℃、200秒钟)而获得形成有掩膜层、第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件的前面板。

《透明保护层的形成》与绝缘层的形成同样地进行，在形成至所述与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件为止的前面板上，层叠除去了保护膜的实施例1～实施例10及比较例1的转印材料，将临时支撑体剥离后，并未介隔曝光掩膜而以50mJ/cm²(i线)的曝光量进行整面曝光，进行显影、后曝光(1000mJ/cm²)、后烘烤处理，获得以覆盖掩膜层、第一透明电极图案、使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件的全部的方式层叠有使用实施例1～实施例10及比较例1的转印材料而形成的绝缘层(透明保护层)的前面板。

《图像显示装置(触摸屏)的制作》在利用日本专利特开2009-47936公报中所记载的方法而制造的液晶显示元件上贴合之前所制造的前面板，利用公知的方法制作包含静电电容型输入装置作为构成元件的实施例101～实施例110及比较例101的图像显示装置。

《前面板及图像显示装置的评价》

在上述各步骤中，形成有掩膜层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件的前面板在开口部及背面并无污垢，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。

而且，在掩膜层中并无针孔，光遮断性优异。

而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与这些不同的导电性元件的各自的导电性并无问题，另一方面，在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性。

另外，若使用本发明的转印膜而形成静电电容型输入装置的透明绝缘层及透明保护层，则在透明绝缘层中及在透明保护层中均无气泡等缺陷，透明电极图案的视认性得到改善，获得显示特性优异的图像显示装置。

[实施例201～实施例210及比较例201：静电电容型触摸屏的制造2]

《层叠有导电性光硬化性树脂层的感光性膜C1的制作》

在掩膜层形成用感光性膜K1的制备中，将黑色光硬化性树脂层用涂布液替代为包含下述配方C1的导电性光硬化性树脂层形成用涂布液，除此以外与掩膜层形成用感光性膜K1的制备同样地进行而获得层叠有导电性光硬化性树脂层的感光性膜C1(导电性光硬化性树脂层的膜厚为2.0μm)。

<导电性光硬化性树脂层形成用涂布液的制备>

(银纳米线分散物(1)的制备)

制备在纯水50mL中溶解有硝酸银粉末0.51g的硝酸银溶液。其后，在所述硝酸银溶液中添加1N的氨水直至成为透明，以总量成为100mL的方式添加纯水而制备添加液A。

而且，用140mL的纯水溶解葡萄糖粉末0.5g而制备添加液G。

进一步用27.5mL纯水溶解HTAB(十六烷基-三甲基溴化铵)粉末0.5g而制备添加液H。

其次，将所述添加液A 20.6mL放入至三口烧瓶内而在室温下进行搅拌。利用漏斗在所述液体中顺次添加纯水41mL、添加液H 20.6mL、及添加液G 16.5mL，一面在90℃下以200rpm搅拌5小时一面进行加热，获得银纳米线水分散物(1)。

使所得的银纳米线水分散物(1)冷却后，以相对于银的质量1而言成为0.05的方式一面搅拌一面添加聚乙烯吡咯烷酮(商品名为K-30、和光纯药工业股份有限公司制造)，其后进行离心分离，进行纯化直至导电率成为50μS/cm以下，利用丙二醇单甲醚进一步进行离心分离，将水除去，最终添加丙二醇单甲醚而制备银纳米线溶剂分散物(1)。

(导电性光硬化性树脂层形成用涂布液C1的制备)

对下述组成进行搅拌，以最终银浓度成为1.0质量％的方式与银纳米线分散物(1)混合，制备导电性光硬化性树脂层形成用涂布液。

另外，导电性光硬化性树脂层形成用涂布液C1的除去溶剂后的100℃下的粘度为4500Pa·sec。

-导电性光硬化性树脂层形成用涂布液C1的组成-

《透明电极图案及绝缘层等的形成》与实施例101～实施例110及比较例101同样地进行而获得形成有掩膜层的前面板之后，使用层叠有导电性光硬化性树脂层的感光性膜C1而进行第一透明电极图案的形成。

首先，对形成有掩膜层的前面板进行清洗，层叠除去了保护膜的感光性膜C1(基材温度为120℃、橡胶辊温度为120℃、线性压力为100N/cm、搬送速度为1.7m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩膜(具有透明电极图案的石英曝光掩膜)面与所述导电性光硬化性树脂层之间的距离设定为100μm，以100mJ/cm²(i线)的曝光量进行图案曝光。

其次，使用三乙醇胺系显影液(含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在30℃下进行60秒钟的处理，其次使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释至5倍而成的液体)，在25℃下进行60秒钟的处理，使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释至10倍而成的液体)，在33℃下进行20秒钟的处理，利用旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去，进一步在230℃下进行60分钟的后烘烤处理，获得形成有掩膜层、第一透明电极图案的前面板。

继而，与实施例101～实施例110及比较例101同样地进行而形成绝缘层。其次，使用层叠有导电性光硬化性树脂层的感光性膜C1而进行第二透明电极图案的形成。另外，与实施例101～实施例110及比较例101同样地进行与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件、透明保护层的形成，获得前面板。

而且，与实施例101～实施例110以及比较例101同样地进行而制作实施例201～实施例210及比较例201的图像显示装置。

《前面板及图像显示装置的评价》

在上述各步骤中，形成有掩膜层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性元件的前面板2在开口部及背面并无污垢，容易清洗，且并无污染其他构件的问题。

而且，在掩膜层中并无针孔，光遮断性优异。

如上所述，根据本发明的静电电容型输入装置的制造方法，能够以简单的步骤而高品质地制造透明电极图案的视认性得到改善、具有薄层/轻量化的优点的静电电容型输入装置。因此，可知利用本发明的制造方法而制造的静电电容型输入装置、及使用其的图像显示装置为高品质。

Claims

1.一种转印材料，其特征在于包含：

临时支撑体、

所述临时支撑体上所层叠的透明硬化性树脂层，

所述透明硬化性树脂层的550nm的波长下的折射率为1.6以上，

所述透明硬化性树脂层含有折射率为1.6以上的单体以及折射率为1.66以上的粘合剂中的至少一个，

所述透明硬化性树脂层用作为静电电容型输入装置的透明电极图案的透明绝缘层或透明保护层。

2.根据权利要求1所述的转印材料，其特征在于：

所述透明硬化性树脂层含有折射率为1.6以上的单体以及折射率为1.66以上的粘合剂。

3.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

所述粘合剂为至少包含1个以上芳基、芳香族杂环基、氯原子、溴原子、碘原子或硫原子的聚合物。

4.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

相对于所述透明硬化性树脂层，所述透明硬化性树脂层中的折射率为1.66以上的粘合剂的含量为1～60质量％。

5.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

所述单体的折射率为1.66以上。

6.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

所述单体为双芳基芴系丙烯酸酯。

7.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

相对于所述透明硬化性树脂层，所述透明硬化性树脂层中的折射率为1.6以上的单体的含量为1～60质量％。

8.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

所述透明硬化性树脂层含有碱可溶性树脂。

9.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

所述透明硬化性树脂层的膜厚为0.1～5μm。

10.根据权利要求1或2所述的转印材料，其特征在于：

在所述临时支撑体与所述透明硬化性树脂层之间层叠有热塑性树脂层。

11.根据权利要求10所述的转印材料，其特征在于：

所述热塑性树脂层的在110℃下所测定的熔融粘度ηc为250Pa·s～3000Pa·s。

12.根据权利要求10所述的转印材料，其特征在于：

所述热塑性树脂层的膜厚为3μm以上。

13.一种静电电容型输入装置的制造方法，所述静电电容型输入装置包含透明绝缘层及透明保护层中的至少一个，以及透明电极图案，所述静电电容型输入装置的制造方法的特征在于：

使用根据权利要求1所述的转印材料而形成所述透明绝缘层及透明保护层中的至少一个。

14.根据权利要求13所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：

所述静电电容型输入装置包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)～(5)的元件，所述静电电容型输入装置的制造方法使用所述转印材料而形成所述(3)及(5)的元件中的至少一个：

(1)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案，

(2)与所述第一透明电极图案电绝缘，在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案，

(3)使所述第一透明电极图案与所述第二透明电极图案电绝缘的透明绝缘层，

(4)与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案的至少一个电性连接，与所述第一透明电极图案及所述第二透明电极图案不同的导电性元件，

15.根据权利要求14所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：

所述前面板在至少一部分具有开口部。

16.一种静电电容型输入装置，具有透明绝缘层及透明保护层中的至少一个、以及透明电极图案，其特征在于：

所述透明保护层的550nm的波长下的折射率为1.6以上，且

所述透明保护层含有折射率为1.6以上的单体硬化物以及折射率为1.66以上的粘合剂中的至少一个。

17.根据权利要求16所述的静电电容型输入装置，其特征在于：

所述透明保护层含有双芳基芴系丙烯酸酯的硬化物。

18.根据权利要求16所述的静电电容型输入装置，其特征在于：

所述透明保护层含有至少包含1个以上芳基、芳香族杂环基、氯原子、溴原子、碘原子或硫原子的聚合物。

19.一种图像显示装置，其特征在于：

包含根据权利要求16～18中任一项所述的静电电容型输入装置。