CN104081281A - 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物 - Google Patents

感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物 Download PDF

Info

Publication number
CN104081281A
CN104081281A CN201380007111.9A CN201380007111A CN104081281A CN 104081281 A CN104081281 A CN 104081281A CN 201380007111 A CN201380007111 A CN 201380007111A CN 104081281 A CN104081281 A CN 104081281A
Authority
CN
China
Prior art keywords
composition
polymer combination
photosensitive polymer
methyl
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201380007111.9A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
濑里泰洋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of CN104081281A publication Critical patent/CN104081281A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
CN201380007111.9A 2012-02-02 2013-01-30 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物 Pending CN104081281A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012-020777 2012-02-02
JP2012020777 2012-02-02
PCT/JP2013/052069 WO2013115262A1 (fr) 2012-02-02 2013-01-30 Composition de résine photosensible, élément photosensible utilisant celle-ci, procédé de formation d'entretoise, et entretoise

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104081281A true CN104081281A (zh) 2014-10-01

Family

ID=48905294

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380007111.9A Pending CN104081281A (zh) 2012-02-02 2013-01-30 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5924350B2 (fr)
CN (1) CN104081281A (fr)
TW (1) TWI545400B (fr)
WO (1) WO2013115262A1 (fr)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106796375A (zh) * 2014-11-10 2017-05-31 大日本印刷株式会社 柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方法和附有柱状形成物的基板
CN111133344A (zh) * 2017-09-26 2020-05-08 大阪有机化学工业株式会社 光间隔体形成用感光性树脂组合物、光间隔体的形成方法、带光间隔体的基板、及滤色器

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015152676A (ja) * 2014-02-12 2015-08-24 日立化成株式会社 視野角拡大パターン形成材料と、その視野角拡大パターンの形成方法及びそれに用いる感光性エレメント
CN107077068B (zh) * 2014-11-17 2021-03-12 昭和电工材料株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法和印刷配线板的制造方法
WO2016084855A1 (fr) * 2014-11-26 2016-06-02 日立化成株式会社 Composition de résine photosensible, élément photosensible, article durci, dispositif à semi-conducteurs, procédé de formation de motif de réserve, et procédé de fabrication de matériau de base de circuit
CN106687864B (zh) 2014-11-26 2020-07-03 日立化成株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、固化物、半导体装置、抗蚀图案的形成方法及电路基材的制造方法
JP6976069B2 (ja) * 2017-03-29 2021-12-01 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物及びその用途

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08146213A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 Nippon Kayaku Co Ltd 昇華性染料染色用基板及びその染色法
CN1945428A (zh) * 2005-10-05 2007-04-11 旭化成电子材料元件株式会社 感光性树脂组合物及其层压体
CN101116034A (zh) * 2005-01-17 2008-01-30 东亚合成株式会社 活性能量射线固化型组合物
CN101121825A (zh) * 2006-08-11 2008-02-13 住友化学株式会社 可聚合树脂组合物
JP2010107755A (ja) * 2008-10-30 2010-05-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
CN103460131A (zh) * 2011-03-30 2013-12-18 日立化成株式会社 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4144342B2 (ja) * 2002-12-11 2008-09-03 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び積層基材
JP2004198853A (ja) * 2002-12-19 2004-07-15 Chisso Corp 光硬化性樹脂組成物
TW200745749A (en) * 2006-02-21 2007-12-16 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, method for forming resist pattern, method for manufacturing printed wiring board, and method for producing substrate for plasma display panel
JP4816917B2 (ja) * 2006-03-17 2011-11-16 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、液晶表示パネル用スペーサー、液晶表示パネル用スペーサーの形成方法、および液晶表示パネル
JP5023878B2 (ja) * 2006-08-11 2012-09-12 住友化学株式会社 重合性樹脂組成物
JP5051365B2 (ja) * 2006-08-24 2012-10-17 Jsr株式会社 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
JP4992534B2 (ja) * 2007-04-27 2012-08-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08146213A (ja) * 1994-11-18 1996-06-07 Nippon Kayaku Co Ltd 昇華性染料染色用基板及びその染色法
CN101116034A (zh) * 2005-01-17 2008-01-30 东亚合成株式会社 活性能量射线固化型组合物
CN1945428A (zh) * 2005-10-05 2007-04-11 旭化成电子材料元件株式会社 感光性树脂组合物及其层压体
CN101121825A (zh) * 2006-08-11 2008-02-13 住友化学株式会社 可聚合树脂组合物
JP2010107755A (ja) * 2008-10-30 2010-05-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
CN103460131A (zh) * 2011-03-30 2013-12-18 日立化成株式会社 感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、图像显示装置的隔壁的形成方法及图像显示装置的制造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106796375A (zh) * 2014-11-10 2017-05-31 大日本印刷株式会社 柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方法和附有柱状形成物的基板
CN106796375B (zh) * 2014-11-10 2020-07-31 大日本印刷株式会社 柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方法和附有柱状形成物的基板
CN111133344A (zh) * 2017-09-26 2020-05-08 大阪有机化学工业株式会社 光间隔体形成用感光性树脂组合物、光间隔体的形成方法、带光间隔体的基板、及滤色器

Also Published As

Publication number Publication date
JP5924350B2 (ja) 2016-05-25
JPWO2013115262A1 (ja) 2015-05-11
TWI545400B (zh) 2016-08-11
TW201339756A (zh) 2013-10-01
WO2013115262A1 (fr) 2013-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104081281A (zh) 感光性树脂组合物和使用了该组合物的感光性元件、间隔物的形成方法以及间隔物
CN104914673B (zh) 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法和触摸面板的制造方法
CN103336409A (zh) 导电图案的形成方法、导电图案基板和触摸面板传感器
CN102566276A (zh) 正型感光性树脂组合物、以及使用该组合物形成固化膜的方法
CN104204948A (zh) 感光性树脂组合物及使用其的加工玻璃基板的制造方法、和触控面板及其制造方法
JP5660200B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP5884337B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置
JP4935833B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP4941438B2 (ja) 感光性樹脂組成物、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
CN104541204B (zh) 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及触控面板的制造方法
KR20130026389A (ko) 컬러 필터용 착색 조성물, 컬러 필터 및 표시 소자
JP5626574B2 (ja) 感光性樹脂組成物並びにこれを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
TWI569097B (zh) 感光性樹脂組成物、使用其的感光性元件、硬化物、影像顯示裝置之隔壁的形成方法、影像顯示裝置的製造方法以及影像顯示裝置
JP5761457B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置
JP2017198878A (ja) 感光性導電フィルム及びそれを用いた導電パターン、導電パターン基板、タッチパネルセンサの製造方法
JP5126408B2 (ja) 感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法
JP2012162601A (ja) オーバーコート用光硬化性樹脂組成物、オーバーコート用光硬化性エレメント、導電膜基板の製造方法及び導電膜基板
JP2015152676A (ja) 視野角拡大パターン形成材料と、その視野角拡大パターンの形成方法及びそれに用いる感光性エレメント
KR102255619B1 (ko) 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 및 그것을 사용한 표시 소자용 스페이서 및/또는 컬러필터 보호막
JP2012014860A (ja) オーバーコート用光硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたオーバーコート用光硬化性エレメント、導電パターンの形成方法、及び導電膜基板

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20141001

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication