CN103901728B - 感光性聚硅氧烷组合物及其应用 - Google Patents
感光性聚硅氧烷组合物及其应用 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103901728B CN103901728B CN201310704085.7A CN201310704085A CN103901728B CN 103901728 B CN103901728 B CN 103901728B CN 201310704085 A CN201310704085 A CN 201310704085A CN 103901728 B CN103901728 B CN 103901728B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- methyl
- carbon number
- usage amount
- film
- limited
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 250
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 95
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 71
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 32
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 31
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 19
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 18
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000032050 esterification Effects 0.000 claims description 8
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 8
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052800 carbon group element Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 abstract description 3
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 abstract 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 abstract 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 abstract 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 47
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 44
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 16
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 16
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 150000002791 naphthoquinones Chemical group 0.000 description 15
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 14
- TZRXHJWUDPFEEY-UHFFFAOYSA-N Pentaerythritol Tetranitrate Chemical compound [O-][N+](=O)OCC(CO[N+]([O-])=O)(CO[N+]([O-])=O)CO[N+]([O-])=O TZRXHJWUDPFEEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N alpha-methacrylic acid Natural products CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical group CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 8
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- BCQZXOMGPXTTIC-UHFFFAOYSA-N halothane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Br BCQZXOMGPXTTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229960003132 halothane Drugs 0.000 description 8
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical group CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 7
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 7
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical compound N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- KEVMYFLMMDUPJE-UHFFFAOYSA-N 2,7-dimethyloctane Chemical group CC(C)CCCCC(C)C KEVMYFLMMDUPJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical group CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 6
- 208000036758 Postinfectious cerebellitis Diseases 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether Substances COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 241000894007 species Species 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical class CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical compound CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N Karpoxanthin Natural products CC(=C/C=C/C=C(C)/C=C/C=C(C)/C=C/C1(O)C(C)(C)CC(O)CC1(C)O)C=CC=C(/C)C=CC2=C(C)CC(O)CC2(C)C DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical class OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JIUWLLYCZJHZCZ-UHFFFAOYSA-N 3-propyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCCC1CC(=O)OC1=O JIUWLLYCZJHZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical class CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical class CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- KEWMFJNMUKCMDU-UHFFFAOYSA-N phenoxysilicon Chemical compound [Si]OC1=CC=CC=C1 KEWMFJNMUKCMDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical class CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQAXBTFXHKKQHN-UHFFFAOYSA-N 2-n-(propoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCCOCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 ZQAXBTFXHKKQHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1CC(=O)OC1=O GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-3-methylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)(C)O BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRTGWRSQRUHPKX-UHFFFAOYSA-N 3-ethyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCC1CC(=O)OC1=O YRTGWRSQRUHPKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N Vilsmeier-Haack reagent Natural products CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXFBJATYVZPQTG-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilicon Chemical compound CO[Si]OC UXFBJATYVZPQTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001046 glycoluril group Chemical class [H]C12N(*)C(=O)N(*)C1([H])N(*)C(=O)N2* 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N n-Butanol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diol Chemical compound CC(C)(O)O CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)F BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PKDCQJMRWCHQOH-UHFFFAOYSA-N triethoxysilicon Chemical compound CCO[Si](OCC)OCC PKDCQJMRWCHQOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)F ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 2
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XEDWWPGWIXPVRQ-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-trihydroxyphenyl)-(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 XEDWWPGWIXPVRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQZZLQKUYLGFT-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical class OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O GBQZZLQKUYLGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCIXQOGTJBVUNW-UHFFFAOYSA-N (3,5-dihydroxyphenyl)-(2,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical class OC1=CC(O)=CC(C(=O)C=2C(=CC(O)=C(O)C=2)O)=C1 FCIXQOGTJBVUNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical class C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- BFYMATGRNXZDNK-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluoropropoxy)propane Chemical compound CC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(C)(F)F BFYMATGRNXZDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIESAWGOYVNHLV-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydropyrrol-2-one Chemical compound O=C1CC=CN1 VIESAWGOYVNHLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trichloromethyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=C(C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical class C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical class CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGRFMIMXPWKPM-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tributylphenol Chemical class CCCCC1=CC=C(O)C(CCCC)=C1CCCC QQGRFMIMXPWKPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTSWSQGDJQFXHB-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichloro-5-methylpyrimidine Chemical compound CC1=C(Cl)N=C(Cl)N=C1Cl VTSWSQGDJQFXHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trihydroxybenzophenone Chemical class OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical class CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical class CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAFNNYNGQVOTOM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenyl-1h-imidazol-5-yl)propanenitrile Chemical class N1C(C(C#N)C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 UAFNNYNGQVOTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTPSRQRIPCVMKQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(N)C(S(O)(=O)=O)=C1 LTPSRQRIPCVMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXKOSHBFVWYVIH-UHFFFAOYSA-N 2-n-(butoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCCCOCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 NXKOSHBFVWYVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPVLPWLUVFRGN-UHFFFAOYSA-N 2-n-(ethoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCOCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 XLPVLPWLUVFRGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSQYKOSZQFTNSN-UHFFFAOYSA-N 2-n-[(2-methylpropan-2-yl)oxymethyl]-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CC(C)(C)OCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 JSQYKOSZQFTNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRJSXFWDNMKQT-UHFFFAOYSA-N 2-n-methoxy-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CONC1=NC(N)=NC(N)=N1 BLRJSXFWDNMKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004941 2-phenylimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-4-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CCC1=NC(C)=CN1CCC#N UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDIFGEXETPKVSW-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropyl)oxane-2,6-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1CCC(=O)OC1=O FDIFGEXETPKVSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADXRZEBGDJHQDY-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropyl)oxane-2,6-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC1CCC(=O)OC1=O ADXRZEBGDJHQDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADOWCXTUZWAKL-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC1CC(=O)OC1=O ZADOWCXTUZWAKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMASDBUJEZKWEH-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triphenoxysilylpropyl)oxane-2,6-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CCC1CCC[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 OMASDBUJEZKWEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSRHFTKAMSLMBK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]propyl-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1(CC)COC1 FSRHFTKAMSLMBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical class CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDGDHUUVXSDKE-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl but-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=CC VLDGDHUUVXSDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYDIWCXDGMNRO-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl but-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=CC PBYDIWCXDGMNRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical class CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVSRECWZBBJOTG-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-3-methyl-2-butanone Chemical compound OCC(C)C(C)=O VVSRECWZBBJOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRIPFBLDKQDJL-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylphenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(O)C=C1 HLRIPFBLDKQDJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHWIAGPQYKXGQV-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3-(2-methylpropyl)hexan-2-one Chemical compound CC(C)CC(C(C)=O)CC(C)C QHWIAGPQYKXGQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHLKOHSAWQPOFO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1h-imidazole Chemical class N1C=NC=C1C1=CC=CC=C1 XHLKOHSAWQPOFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000016068 Berberis vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 241000335053 Beta vulgaris Species 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical class C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWYXHLOAQZAERI-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)O[SiH](OC(C)=O)OC(C)=O.C=C Chemical compound C(C)(=O)O[SiH](OC(C)=O)OC(C)=O.C=C LWYXHLOAQZAERI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSSDYVGQDFQBNT-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)OCCC[Si](OC)(C)C.C[SiH](OC)C Chemical compound C(C1CO1)OCCC[Si](OC)(C)C.C[SiH](OC)C KSSDYVGQDFQBNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISZDYMQXLCLSD-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)OCCC[Si](OCC)(C)C.C[SiH](OCC)C Chemical compound C(C1CO1)OCCC[Si](OCC)(C)C.C[SiH](OCC)C CISZDYMQXLCLSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMILNMHSHNQWPE-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C)O[SiH](OCC)OCC Chemical compound C(C1CO1)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C)O[SiH](OCC)OCC VMILNMHSHNQWPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUGLZZQFIGCSHH-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC.C(=O)OCC Chemical class C(C=C)(=O)OC.C(=O)OCC SUGLZZQFIGCSHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRFKVQVDMTZZAU-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](OCC)(OCC)OCC.C(CC)[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound C(CC)[Si](OCC)(OCC)OCC.C(CC)[Si](OCC)(OCC)OCC CRFKVQVDMTZZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFFWPQIYPMCAEP-UHFFFAOYSA-N C(CCC)[Si](OC)(OC)CCCC.C(CCC)[SiH](OC)OC Chemical compound C(CCC)[Si](OC)(OC)CCCC.C(CCC)[SiH](OC)OC SFFWPQIYPMCAEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZYFBBJAYTVNSC-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCC.[F] Chemical class CCCCCCCCCCCC.[F] DZYFBBJAYTVNSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKGGANNFIPPIQQ-UHFFFAOYSA-N C[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C.C(C)(C)O[SiH3] Chemical compound C[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C.C(C)(C)O[SiH3] RKGGANNFIPPIQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWASJKHALYYKHR-UHFFFAOYSA-N FC(CC[Si](OC)(OC)OC)(F)F.CO[SiH](OC)OC Chemical compound FC(CC[Si](OC)(OC)OC)(F)F.CO[SiH](OC)OC DWASJKHALYYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWIKHYCFFJSOEH-UHFFFAOYSA-N Isocyanic acid Chemical compound N=C=O OWIKHYCFFJSOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- XNWPXDGRBWJIES-UHFFFAOYSA-N Maclurin Chemical class OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XNWPXDGRBWJIES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCEOSZQSKNDLSA-UHFFFAOYSA-N N.[I+] Chemical compound N.[I+] UCEOSZQSKNDLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GORXRFCHPRVABO-UHFFFAOYSA-N O(C)[SiH](OC)OC.C=C Chemical compound O(C)[SiH](OC)OC.C=C GORXRFCHPRVABO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWHWYVPHVCCQR-UHFFFAOYSA-N O1C(CC1)C(CC[Si](OC)(OC)CCC(CC)C1OCC1)CC.CO[SiH2]OC Chemical compound O1C(CC1)C(CC[Si](OC)(OC)CCC(CC)C1OCC1)CC.CO[SiH2]OC XMWHWYVPHVCCQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDACPKTDMPRBA-UHFFFAOYSA-N O1C(CC1)C(COCCCCC[Si](OCC)(CC(CCC)C1OCC1)CCCCCOCC(CC)C1OCC1)CC.C(C)O[SiH3] Chemical compound O1C(CC1)C(COCCCCC[Si](OCC)(CC(CCC)C1OCC1)CCCCCOCC(CC)C1OCC1)CC.C(C)O[SiH3] HYDACPKTDMPRBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USNVWEJAGSESMM-UHFFFAOYSA-N O1C(CC1)C(C[Si](OC)(CC(CCC)C1OCC1)CC(CCC)C1OCC1)CCC.CO[SiH3] Chemical compound O1C(CC1)C(C[Si](OC)(CC(CCC)C1OCC1)CC(CCC)C1OCC1)CCC.CO[SiH3] USNVWEJAGSESMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHICZPONNMEPAC-UHFFFAOYSA-N OC(CCC[Si](OC)(OC)OC)COC(=O)C1=CC=C(C=C1)O.C(CCCC)[Si](OC)(OC)OC Chemical compound OC(CCC[Si](OC)(OC)OC)COC(=O)C1=CC=C(C=C1)O.C(CCCC)[Si](OC)(OC)OC YHICZPONNMEPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFIMRLJCJGCABM-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=C(C=C1)C(C)[Si](OC)(OC)OC.C(C)[Si](OC)(OC)OC Chemical compound OC1=CC=C(C=C1)C(C)[Si](OC)(OC)OC.C(C)[Si](OC)(OC)OC UFIMRLJCJGCABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLHXQGSGXBTVIA-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=C(C=C1)CC[Si](OC)(OC)OC.OC1=CC=C(C=C1)CC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound OC1=CC=C(C=C1)CC[Si](OC)(OC)OC.OC1=CC=C(C=C1)CC[Si](OC)(OC)OC XLHXQGSGXBTVIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNGXZZXNMJYZSA-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=C(C=C1)[Si](OC)(OC)OC.OC1=CC=C(C=C1)[Si](OC)(OC)OC Chemical compound OC1=CC=C(C=C1)[Si](OC)(OC)OC.OC1=CC=C(C=C1)[Si](OC)(OC)OC RNGXZZXNMJYZSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVGNYZSPGXPKTC-UHFFFAOYSA-N ONC1=CC=CC=C1.ON=O.ON=O.ON=O.ON=O.ON=O.ON=O.N.N Chemical compound ONC1=CC=CC=C1.ON=O.ON=O.ON=O.ON=O.ON=O.ON=O.N.N HVGNYZSPGXPKTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100027370 Parathymosin Human genes 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMESTGIDOHHSLE-UHFFFAOYSA-N [N].O=C1CCCN1 Chemical class [N].O=C1CCCN1 KMESTGIDOHHSLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N acetoguanamine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(N)=N1 NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N acrylic acid acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N anhydrous cyanic acid Natural products OC#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000037429 base substitution Effects 0.000 description 1
- MYWRVJWWYQGSDR-UHFFFAOYSA-N bis[3-[2-(oxetan-2-yl)butoxy]propyl]-di(propan-2-yloxy)silane Chemical compound C1COC1C(CC)COCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOCC(CC)C1CCO1 MYWRVJWWYQGSDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical class C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical group CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N butoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH3] ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNOXYHBCQYPISX-UHFFFAOYSA-N butoxysilicon Chemical compound CCCCO[Si] KNOXYHBCQYPISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWVSWWKRRJJMFA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound C(CCC)[Si](OC)(OC)OC.C(CCC)[Si](OC)(OC)OC AWVSWWKRRJJMFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWZPGMMKDANPKU-UHFFFAOYSA-L butyl-di(dodecanoyloxy)tin Chemical compound CCCC[Sn+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O CWZPGMMKDANPKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SIXOAUAWLZKQKX-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;prop-1-ene Chemical compound CC=C.OC(O)=O SIXOAUAWLZKQKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000009514 concussion Effects 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- XXKOQQBKBHUATC-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1CC1CCCCC1 XXKOQQBKBHUATC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043237 diethanolamine Drugs 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical class CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940059082 douche Drugs 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- CASPZMCSNJZQMV-UHFFFAOYSA-N ethane;2-methyloxirane Chemical compound CC.CC1CO1 CASPZMCSNJZQMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N ethyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](CC)(OC(C)C)OC(C)C MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZKYPNAFPJQLRLN-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound C(CCCCC)[Si](OC)(OC)OC.C(CCCCC)[Si](OC)(OC)OC ZKYPNAFPJQLRLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetone Chemical compound CC(=O)CO XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylethylamine Chemical compound CCN(C)C DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 208000007578 phototoxic dermatitis Diseases 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical group CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical group O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIHPVQDFBJMUAO-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CC)(OCCCC)OCCCC GIHPVQDFBJMUAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical class CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
本发明有关一种感光性聚硅氧烷组合物。该感光性聚硅氧烷组合物包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分；以及溶剂(E)。该感光性聚硅氧烷组合物具有感光度佳及折射率佳的优点。本发明还提供一种于一基板上形成薄膜的方法、一种基板上的薄膜及一种装置。
Description
技术领域
本发明有关一种感光性聚硅氧烷组合物及使用该组合物所形成的薄膜及装置，特别提供一种感光度佳及折射率佳的感光性聚硅氧烷组合物。
背景技术
近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等各领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于微影工艺中图案所需的微细化要求日益增高。业界为了达到微细化的图案，一般是透过具有高解析及高感光度的正型感光度材料经曝光及显影后而形成，其中，包含聚硅氧烷聚合物成分的正型感光度材料渐成为业界使用的主流。
日本公开特许第2008-107529号揭示了一种可形成高透明度硬化膜的感光性聚硅氧烷组合物。该组合物包含聚硅氧烷聚合物、醌二叠氮磺酸酯及溶剂。其中，该聚硅氧烷聚合物具有环氧丙烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基，是由一含环氧丙烷基或丁二酸酐基的硅氧烷单体经加水分解且部分缩合所获得。该聚硅氧烷于共聚合时会经开环反应形成亲水性的结构，并在稀薄碱性显影液中具有高溶解性，然而，该感光性聚硅氧烷组合物无法满足现今业界对其感光度与折射率日益升高的需求。
因此，如何同时克服感光度与折射率不佳的问题以达到目前业界的要求，为本技术领域中亟待解决的问题。
发明内容
首先要说明的是，在本文中，所述(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及/或甲基丙烯酸；(甲基)丙烯酰（(meth)acryloyl）表示丙烯酰(acryloyl)及/或甲基丙烯酰(methacryloyl)；(甲基)丙烯酸酯（(meth)acrylate）表示丙烯酸酯(acrylate)及/或甲基丙烯酸酯(methacrylate）。
为解决上述技术问题，本发明利用氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(urethane(metha)acrylate compound)及无机粒子，而得到感光度与折射率佳的感光性聚硅氧烷组合物。
因此，本发明有关一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：
聚硅氧烷聚合物(A)；
邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；
氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；
无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分；以及
溶剂(E)。
本发明还提供一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用上述的感光性聚硅氧烷组合物施予所述基板上的步骤。
本发明又提供一种基板上的薄膜，其是由上述的方法所制得。
本发明再提供一种装置，其包含上述的薄膜。
为达上述目的，本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：
聚硅氧烷聚合物(A)；
邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；
氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；
无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四副族元素的氧化物为主要成分；以及
溶剂(E)。
本发明的所述聚硅氧烷聚合物的构造并无特别限制。根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述聚硅氧烷聚合物(A)可以是使用硅烷单体及/或聚硅氧烷加水分解及缩合而制得，优选地，所述缩合为部分缩合。
于本发明的一优选实施例中，所述硅烷单体包含但不限于下列结构式(1)所示的结构：
Si(Ra)t(ORb)4-t 结构式(1)
其中：
t为0至3的整数，且当t表示2或3时，几个Ra各自为相同或不同；
Ra选自由氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至10的烯基、碳数6至15的芳基、经酸酐基取代的碳数1至10的烷基、经环氧基取代的的碳数1至10的烷基及经环氧基取代的烷氧基所组成的群；
Rb选自由氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基及碳数6至15的芳基所组成的群，且当4-t表示2或3时，几个Rb各自为相同或不同。
在该Ra的定义中，碳数1至10的烷基例如但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第三丁基、正己基、正癸基、三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-氨丙基、3-巯丙基、3-异氰酸丙基。碳数2至10的烯基例如但不限于乙烯基、3-丙烯酰氧基丙基、3-甲基丙烯酰氧基丙基等。C6至C15的芳香基例如但不限于苯基、甲苯基(tolyl)、对-羟基苯基、1-(对-羟基苯基)乙基、2-(对-羟基苯基)乙基、4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基、（4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl）、萘基(naphthyl)等。
在该Ra的定义中，所述经酸酐基取代的碳数1至10的烷基例如但不限于乙基丁二酸酐、丙基丁二酸酐、丙基戊二酸酐等。
在该Ra的定义中，所述经环氧基取代的碳数1至10的烷基例如但不限于环氧丙烷基戊基(oxetanylpentyl)、2-(3,4-环氧环己基)乙基(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl)等。
在该Ra的定义中，所述经环氧基取代的烷氧基例如但不限于环氧丙氧基丙基(glycidyloxypropyl)、2-环氧丙烷基丁氧基(2-oxetanylbutoxy)等。
在该Rb的定义中，碳数1至6的烷基包含但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等。碳数1至6的酰基包含但不限于乙酰基等。碳数6至15的芳香基包含但不限于苯基等。
于结构式(1)中，当t表示0至3的整数时，t=0时表示硅烷单体为四官能性硅烷，t=1时表示硅烷单体为三官能性硅烷，t=2时表示硅烷单体为二官能性硅烷，t=3时则表示硅烷单体为单官能性硅烷。
根据本发明的具体实施方式，优选地，所述硅烷单体包含但不限于(1)四官能性硅烷：四甲氧基硅烷(tetramethoxysilane)、四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane)、四乙酰氧基硅烷(tetraacetoxysilane)、四苯氧基硅烷等(tetraphenoxy silane)；(2)三官能性硅烷：甲基三甲氧基硅烷(methyltrimethoxysilane简称MTMS)、甲基三乙氧基硅烷(methyltriethoxysilane)、甲基三异丙氧基硅烷(methyltriisopropoxysilane)、甲基三正丁氧基硅烷(methyltri-n-butoxysilane)、乙基三甲氧基硅烷(ethyltrimethoxysilane)、乙基三乙氧基硅烷(ethyltriethoxysilane)、乙基三异丙氧基硅烷(ethyltriisopropoxysilane)、乙基三正丁氧基硅烷(ethyltri-n-butoxysilane)、正丙基三甲氧基硅烷(n-propyltrimethoxysilane)、正丙基三乙氧基硅烷(n-propyltriethoxysilane)、正丁基三甲氧基硅烷(n-butyltrimethoxysilane)、正丁基三乙氧基硅烷(n-butyltriethoxysilane)、正己基三甲氧基硅烷(n-hexyltrimethoxysilane)、正己基三乙氧基硅烷(n-hexyltriethoxysilane)、癸基三甲氧基硅烷(decyltrimethoxysilane)、乙烯基三甲氧基硅烷(vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基硅烷(vinyltriethoxysilane)、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(3-acryoyloxypropyltrimethoxysilane)、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(3-methylacryloyloxypropyltrimethoxysilane)、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷(3-methylacryloyloxypropyltriethoxysilane)、苯基三甲氧基硅烷(phenyltrimethoxysilane，简称PTMS)、苯基三乙氧基硅烷(phenyltriethoxysilane简称PTES)、对-羟基苯基三甲氧基硅烷(p-hydroxyphenyltrimethoxysilane)、1-(对-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷[1-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane]、2-(对-羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷[2-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane]、4-羟基-5-(对-羟基苯基羰氧基)戊基三甲氧基硅烷[4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyltrimethoxysilane]、三氟甲基三甲氧基硅烷(trifluoromethyltrimethoxysilane)、三氟甲基三乙氧基硅烷(trifluoromethyltriethoxysilane)、3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷(3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane)、3-氨丙基三甲氧基硅烷(3-aminopropyltrimethoxysilane)、3-氨丙基三乙氧基硅烷(3-aminopropyltriethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane)、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane)、3-巯丙基三甲氧基硅烷(3-mercaptopropyltrimethoxysilane)、3-乙基-3-[[3-(三苯氧基硅基)丙氧基]甲基]环氧丙烷{3-ethyl-3-[[3-(triphenoxysilyl)propoxy)methyl]oxetane}、由东亚合成所制造的市售品：3-乙基-3-[[3-(三甲氧基硅基)丙氧基]甲基]环氧丙烷{3-ethyl-3-[[3-(trimethoxysilyl)propoxy)methyl]oxetane}(商品名TMSOX-D)、3-乙基-3-[[3-(三乙氧基硅基)丙氧基]甲基]环氧丙烷{3-ethyl-3-[[3-(triethoxysilyl)propoxy)methyl]oxetane}(商品名TESOX-D)、2-(三甲氧基硅基)乙基丁二酸酐[2-(trimethoxysilyl)ethylsuccinic anhydride]、3-(三苯氧基硅基)丙基丁二酸酐[3-triphenoxysilyl propylsuccinic anhydride]、由信越化学所制造的市售品：3-(三甲氧基硅基)丙基丁二酸酐[3-trimethoxysilyl propyl succinic anhydride](商品名X-12-967)、由WACKER公司所制造的市售品：3-(三乙氧基硅基)丙基丁二酸酐[3-(triethoxysilyl)propyl succinicanhydride](商品名GF-20)、3-(三甲氧基硅基)丙基戊二酸酐(3-(trimethoxysilyl)propyl glutaric anhydride，简称TMSG)、3-(三乙氧基硅基)丙基戊二酸酐(3-(triethoxysilyl)propyl glutaric anhydride)、3-(三苯氧基硅基)丙基戊二酸酐(3-(triphenoxysilyl)propyl glutaric anhydride)等；(3)二官能性硅烷：二甲基二甲氧基硅烷(dimethyldimethoxysilane简称DMDMS)、二甲基二乙氧基硅烷(dimethyldiethoxysilane)、二甲基二乙酰氧基硅烷(dimethyldiacetyloxysilane)、二正丁基二甲氧基硅烷(di-n-butyldimethoxysilane)、二苯基二甲氧基硅烷(diphenyldimethoxysilane)、二异丙氧基-二(2-环氧丙烷基丁氧基丙基)硅烷(diisopropoxy-di(2-oxetanylbutoxypropyl)silane，简称DIDOS)、二(3-环氧丙烷基戊基)二甲氧基硅烷(di(3-oxetanylpentyl)dimethoxy silane)、(二正丁氧基硅基)二(丙基丁二酸酐)（(di-n-butoxysilyl)di(propyl succinic anhydride)）、(二甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐)（(dimethoxysilyl)di(ethyl succinic anhydride)）；(4)单官能性硅烷：三甲基甲氧基硅烷(trimethylmethoxysilane)、三正丁基乙氧基硅烷(tri-n-butylethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基二甲基乙氧基硅烷(3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane)、二(2-环氧丙烷基丁氧基戊基)-2-环氧丙烷基戊基乙氧基硅烷(di(2-oxetanylbutoxypentyl)-2-oxetanylpentylethoxy silane)、三(2-环氧丙烷基戊基)甲氧基硅烷(tri(2-oxetanylpentyl)methoxy silane)、(苯氧基硅基)三(丙基丁二酸酐)（(phenoxysilyl)tri(propyl succinic anhydride)）、(甲基甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐)（(methoxysilyl)di(ethyl succinic anhydride)）等。上述的各种硅烷单体可单独一种使用或混合几种使用。
根据本发明的具体实施方式，优选地，所述聚硅氧烷包含但不限于结构式(2)所示的聚硅氧烷：
于结构式(2)中，Rg、Rh、Ri及Rj为相同或不同，且分别表示氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至6的烯基，或碳数6至15的芳香基，所述烷基、烯基及芳香基中任一者可选择地含有取代基，当s为2至1000的整数时，每个Rg为相同或不同，且每个Rh为相同或不同。烷基例如但不限于甲基、乙基、正丙基等。烯基例如但不限于乙烯基、丙烯酰氧基丙基、甲基丙烯酰氧基丙基等。芳香基例如但不限于苯基、甲苯基、萘基等。
Rl及Rk分别表示氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基或碳数6至15的芳香基，所述烷基、酰基及芳香基中任一者可选择地含有取代基。烷基可例如但不限于甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等。酰基可例如但不限于乙酰基等。芳香基可例如但不限于苯基等。
进一步地，于结构式(2)中，s为1至1000的整数。优选地，s为3至300的整数。更优选地，s为5至200的整数。
所述结构式(2)所示的聚硅氧烷可单独一种使用或混合几种使用。根据本发明的具体实施方式，优选地，所述结构式(2)所示的聚硅氧烷包含但不限于1,1,3,3-四甲基-1,3-二甲氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四乙基-1,3-二乙氧基二硅氧烷、Gelest公司制硅烷醇末端聚硅氧烷的市售品（商品名如DM-S12(分子量400至700)、DMS-S15(分子量1500至2000)、DMS-S21(分子量4200)、DMS-S27(分子量18000)、DMS-S31(分子量26000)、DMS-S32(分子量36000)、DMS-S33(分子量43500)、DMS-S35(分子量49000)、DMS-S38(分子量58000)、DMS-S42(分子量77000)、PDS-9931(分子量1000至1400)等）等。
在上述聚硅氧烷聚合物(A)的制备方法中，所述硅烷单体与所述聚硅氧烷混合使用时，其混合比率并无特别限制。优选地，所述硅烷单体与聚硅氧烷的硅原子摩尔数比为100：0.01至50：50。
所述聚硅氧烷聚合物(A)除了可由上述的硅烷单体及/或聚硅氧烷进行加水分解及部分缩合而制得外，亦可混合二氧化硅（silicon dioxide）粒子进行共聚合反应。所述二氧化硅的平均粒径并无特别的限制，其范围为2nm至250nm。优选地，其平均粒径范围为5nm至200nm。更优选地，其平均粒径范围为10nm至100nm。
所述二氧化硅粒子可单独或混合使用，且所述二氧化硅粒子包含但不限于由触媒化成公司所制造的市售品（商品名如OSCAR1132(粒径12nm；分散剂为甲醇)、OSCAR1332(粒径12nm；分散剂为正丙醇)、OSCAR105(粒径60nm；分散剂为γ-丁内酯)、OSCAR106(粒径120nm；分散剂为二丙酮醇)等）、由扶桑化学公司所制造的市售品（商品名如Quartron PL-1-IPA(粒径13nm；分散剂为异丙酮)、Quartron PL-1-TOL(粒径13nm；分散剂为甲苯)、Quartron PL-2L-PGME(粒径18nm；分散剂为丙二醇单甲醚)、Quartron PL-2L-MEK(粒径18nm；分散剂为甲乙酮)等）、由日产化学公司所制造的市售品（商品名如IPA-ST(粒径12nm；分散剂为异丙醇)、EG-ST(粒径12nm；分散剂为乙二醇)、IPA-ST-L(粒径45nm；分散剂为异丙醇)、IPA-ST-ZL(粒径100nm；分散剂为异丙醇)等）等。
所述二氧化硅粒子与所述硅烷单体及/或聚硅氧烷混合时，并无使用量的限制。优选地，所述二氧化硅粒子硅原子摩尔数与所述聚硅氧烷高分子(A)的硅原子摩尔数比为1：100至50：100。
所述加水分解及部分缩合可使用常规的方法。例如，在硅烷单体及/或聚硅氧烷、二氧化硅粒子等的混合物中添加溶剂、水，或选择性地可进一步添加催化剂（触媒），接着于50℃至150℃下加热搅拌0.5小时至120小时。搅拌时，进一步地可通过蒸馏除去副产物(醇类、水等)。
上述溶剂并没有特别限制，可与本发明感光性聚硅氧烷组合物中所包含的溶剂(E)为相同或不同。优选地，基于所述硅烷单体及/或聚硅氧烷的总量为100克，所述溶剂的使用量范围为15克至1200克。更优选地，所述溶剂的使用量范围为20克至1100克。最优选地，所述溶剂的使用量范围为30克至1000克。
基于所述混合物中所含的可水解基团为1摩尔，所述用于水解的水的使用量范围为0.5摩尔至2摩尔。
所述催化剂没有特别的限制，优选地，所述催化剂是选自于酸催化剂或碱催化剂。所述酸催化剂包含但不限于盐酸、硝酸、硫酸、氟酸、草酸、磷酸、醋酸、三氟醋酸、蚁酸、多元羧酸或其酸酐、离子交换树脂等。所述碱催化剂包含但不限于二乙胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化钠、氢氧化钾、含有氨基的烷氧基硅烷、离子交换树脂等。
优选地，基于所述硅烷单体及/或聚硅氧烷的总量为100克，所述催化剂的使用量范围为0.005克至15克。更优选地，所述催化剂的使用量范围为0.01克至12克。最优选地，所述催化剂的使用量范围为0.05克至10克。
基于稳定性的需求，经缩合反应后所制得的聚硅氧烷聚合物(A)以不含副产物(如醇类或水)、催化剂为佳，因此所制得的聚硅氧烷聚合物(A)可选择性地进行纯化。纯化方法并无特别限制，优选地，可使用疏水性溶剂稀释所述聚硅氧烷聚合物(A)，接着以蒸发器浓缩经水洗涤数次有机层，以除去醇类或水。另外，可使用离子交换树脂除去催化剂。
根据本发明的具体实施方式，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的结构并无特殊限制，可选用本领域常规使用的邻萘醌二叠氮磺酸酯。所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)是指完全酯化或部分酯化的酯化物。优选地，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)是由邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类与羟基化合物反应所制得。更优选地，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)是由邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类与多元羟基化合物反应所制得。
根据本发明的具体实施方式，优选地，所述邻萘醌二叠氮磺酸包含但不限于邻萘醌二叠氮-4-磺酸、邻萘醌二叠氮-5-磺酸、邻萘醌二叠氮-6-磺酸等。所述邻萘醌二叠氮磺酸的盐类可例如但不限于邻萘醌二叠氮磺酸卤盐。
所述多元羟基化合物可单独或混合使用，且所述多元羟基化合物包含但不限于：
(1)羟基二苯甲酮类化合物，例如但不限于2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,4'-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羟基二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羟基二苯甲酮、2,4,5,3',5'-五羟基二苯甲酮、2,3,4,3',4',5'-六羟基二苯甲酮等。
(2)羟基芳基类化合物，例如但不限于由结构式(3)所示的羟基芳基类化合物：
其中：
Rm至Ro分别表示氢原子或碳数1至6的烷基；
Rp至Ru分别表示氢原子、卤素原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的烷氧基、碳数1至6的脂烯基(alkenyl)，或环烷基(cycloalkyl)；
Rv及Rw分别表示氢原子、卤素原子及碳数1至6的烷基；
x、y及z分别表示1至3的整数；
k表示0或1。
根据本发明的具体实施方式，优选地，结构式(3)所示的羟基芳基类化合物例如但不限于三(4-羟基苯基)甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基苯基)-3-甲氧基-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(3-甲基-4-羟基苯基)乙基]苯等。
(3)(羟基苯基)烃类化合物，例如但不限于由结构式(4)所示的(羟基苯基)烃类化合物：
其中：
Rx及Ry分别表示氢原子或碳数1至6的烷基；及
x'及y'分别表示1至3的整数。
根据本发明的具体实施方式，优选地，结构式(4)所示的(羟基苯基)烃类化合物例如但不限于2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(2',3',4'-三羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(2',4'-二羟基苯基)丙烷、2-(4-羟基苯基)-2-(4'-羟基苯基)丙烷、双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、双(2,4-二羟基苯基)甲烷等。
(4)其它芳香族羟基类化合物，例如但不限于苯酚、对-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、对苯二酚、双酚A、萘酚、邻苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羟基苯甲酸、部分酯化或部分醚化的3,4,5-三羟基苯甲酸等。
根据本发明的具体实施方式，优选地，所述羟基化合物包括1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯、2,3,4-三羟基二苯甲酮和2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮中的一种或几种的组合。
所述邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类，与羟基化合物的反应通常在二氧杂环己烷(dioxane)、氮-吡咯烷酮(N-pyrrolidone)、乙酰胺(acetamide)等有机溶剂中进行，同时在三乙醇胺、碱金属碳酸盐或碱金属碳酸氢盐等碱性缩合剂存在下进行为佳。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的酯化度在50%以上，亦即以所述羟基化合物中的羟基总量为100mol%计，所述羟基化合物中有50mol%以上的羟基与邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类进行酯化反应。更优选地，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的酯化度在60%以上。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量范围为1重量份至50重量份。优选地，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为2重量份至40重量份。更优选地，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为3重量份至30重量份。
在本发明的感光性聚硅氧烷组合物中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基。所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)可由公知的方法获得。具体的制备方法可例如但不限于：先由聚异氰酸酯与多元醇反应，接着再与含羟基的(甲基)丙烯酸酯反应而制得所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物；或是先由聚异氰酸酯与含羟基的(甲基)丙烯酸酯反应，接着再与多元醇反应而制得所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。优选地，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物是先由双官能的聚异氰酸酯与双官能的多元醇反应，接着再与异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯反应而得。更优选地，所述制备方法还包括使用一反应催化剂，所述反应催化剂可例如但不限于二丁基锡二月桂酸酯等公知的氨基甲酸酯化催化剂。
在上述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的制备方法中，优选地，所述含羟基的(甲基)丙烯酸酯可例如但不限于：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基甲酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、二(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、三聚甘油二(甲基)丙烯酸酯、异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等。所述含羟基的(甲基)丙烯酸酯可单独一种或混合几种使用。更优选地，所述含羟基的(甲基)丙烯酸酯为异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯。
在上述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的制备方法中，优选地，所述聚异氰酸酯是分子内具有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯，可例如但不限于：亚甲苯基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯基聚异氰酸酯、甲苯胺二异氰酸酯、萘二异氰酸酯等芳香族系、或六亚甲基二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate)、异佛尔酮二异氰酸酯(isophorone diisocyanate)、亚二甲苯基二异氰酸酯(xylylene diisocyanate)、氢化亚二甲苯基二异氰酸酯(hHydrogenated xylylene diisocyanate)、二环己基甲烷二异氰酸酯等；所述聚异氰酸酯可单独或混合几种使用。
在上述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的制备方法中，优选地，所述多元醇可例如但不限于：聚(环氧丙烷)二醇、聚(环氧丙烷)三醇、共聚(环氧乙烷-环氧丙烷)二醇、聚(四氢呋喃)二醇、乙氧基化双酚A、乙氧基化双酚S、螺环二醇(spiro glycol)、己内酯改质二醇、碳酸酯二醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇等；所述多元醇可单独或混合几种使用。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的分子量范围为1000至200000，更优选地为1200至100000，最优选地为1500至50000。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为每分子具有至少含有七个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物，有助于使所述感光性聚硅氧烷组合物所形成的保护膜感光度更佳。
更优选地，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为每分子具有至少含有八个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的市售品可例如但不限于：
(1)每分子具有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物：日本合成化学(股)制造的紫光UV-7600B、紫光UV-7605B；根上工业(股)制造的Art Resin UN-3320HA、Art Resin UN-3320HC；新中村化学工业(股)制造的NK Oligo U-6HA、NK Oligo U-6LPA；DAICEL-CYTEC公司制造的EBECRYL5129、EBECRYL220、EBECRYL8301、KRM8200、KRM8200AE；荒川化学工业(股)制造的Beam Set575、Beam Set577等；
(2)每分子具有七个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物：如日本合成化学(股)制造的紫光UV-6300B等；
(3)每分子具有至少含有八个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物：日本合成化学(股)制造的紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-1700B；根上工业(股)制造的Art Resin UN-901T、Art Resin UN-3320HS；新中村化学工业(股)制造的NKOligo UA-33H、NK Oligo UA-53H；DAICEL-CYTEC公司制造的KRM8452等。
上述市售品可单独或混合几种使用。其中，优选地，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为：日本合成化学(股)制造的紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7605B，新中村化学工业(股)制造的NK Oligo U-6HA，及根上工业(股)制造的Art Resin UN-3320HC、Art Resin UN-3320HS、Art Resin UN-901T。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为0.1重量份至35重量份。更优选地，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为0.5重量份至30重量份。最优选地，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为1重量份至25重量份。
当本发明的所述感光性聚硅氧烷组合物不含有所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)时，所形成的膜，会有感光度不佳的问题。所述感光性聚硅氧烷组合物因添加低分子量的化合物于光阻中，可增加显影的效果。
本发明的无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分，通过添加所述具有高折射率的无机粒子(D)，可以进一步提高由本发明的感光性聚硅氧烷组合物所得薄膜的折射率。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，所述无机粒子(D)的粒径大小为1nm至100nm。该粒径的测量方法可为公知的测量方法，例如通过动态光散射粒子所量测，其粒径更优选为1nm至50nm；最优选为5nm至15nm。当粒径小于1nm时，所制得的薄膜容易发生二次凝集，并可能产生白化；当粒径大于100nm时，则可能影响所形成薄膜表面的均匀性。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，可供作为无机粒子(D)的氧化物粒子为氧化钛、氧化锆、氧化铪以及这些金属氧化物和氧化硅以及氧化锡的复合粒子，所述无机粒子(D)可使所得的薄膜产物的折射率增加，其中，更优选为氧化钛或氧化锆，亦即所述无机粒子(D)中第四族元素的氧化物是以钛或锆的氧化物为更优选的。
另一方面，氧化钛的结晶形式同时存在锐钛矿型(Anatase)和金红石型(Rutile)，优选为金红石型，其具有高折射率及优异的耐旋光性。
再者，由于氧化钛具有光催化活性，故难以作为光学应用，故优选是以氧化硅覆盖粒子表面。
本发明的无机粒子(D)可为粉末形式或是将氧化物颗粒分散于分散介质中的分散溶胶形式。所述分散介质可以例如甲醇、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、丙二醇单甲基醚、乙氧基乙醇等。
根据本发明的具体实施方式，优选地，市售氧化钛粒子可以为日本C.I.Kasei制，NanoTek TiO2(分散剂为甲基异丁基酮，锐钛矿型)；韩国NanoCMS制，Lot No.：S111109(分散剂为乙氧基乙醇，金红石型)；日本日挥触媒化成制，Red Lake series(分散剂为甲醇，锐钛矿型)；Tayca制造，TS series(分散剂为甲基乙基酮，金红石型)。市售氧化锆粒子为日本Osaka Cement Co.制造，HXU-120JC(分散剂为甲基乙基酮)。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述无机粒子(D)的使用量为5重量份至120重量份。更优选地，所述无机粒子(D)的使用量为10重量份至100重量份。最优选地，所述无机粒子(D)的使用量为20重量份至70重量份。若无机粒子(D)的使用量小于5重量份，则所制得的薄膜折射率不足；若无机粒子(D)的使用量大于120重量份，则显影性不佳。
本发明的所述感光性聚硅氧烷组合物中的溶剂(E)种类并没有特别限制，只要能使各组份完全溶解，且具有高挥发性，在常压下只需提供少许热量便可以使所述溶剂挥发。所述溶剂(E)可单独或混合几种使用，且所述溶剂(E)包含但不限于含醇式羟基(alcoholichydroxyl)的化合物或含羰基的环状化合物等。
所述含醇式羟基的化合物可单独或混合几种使用，且所述含醇式羟基的化合物包含但不限于丙酮醇、3-羟基-3-甲基-2-丁酮、4-羟基-3-甲基-2-丁酮、5-羟基-2-戊酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮(二丙酮醇，简称DAA)、乳酸乙酯、乳酸丁酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚(简称PGEE)、丙二醇甲醚醋酸酯(简称PGMEA)、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚、丙二醇单第三丁醚、3-甲氧基-1-丁醇和3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇中的一种或几种的组合组合。优选地，所述含醇式羟基的化合物是包括二丙酮醇、乳酸乙酯、丙二醇单乙醚和丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或几种的组合。
所述含羰基的环状化合物可单独或混合几种使用，且所述含羰基的环状化合物包含但不限于γ-丁内酯、γ-戊内酯、δ-戊内酯、碳酸丙烯酯、氮-甲基吡咯烷酮、环己酮或环庚酮等。优选地，所述含羰基的环状化合物包括γ-丁内酯、氮-甲基吡咯烷酮和环己酮中的一种或几种的组合。
当所述含醇式羟基的化合物与含羰基的环状化合物混合使用时，其重量比没有特别限制。优选地，所述含醇式羟基的化合物与所述含羰基的环状化合物的重量比值为99/1至50/50。更优选地，所述含醇式羟基的化合物与所述含羰基的环状化合物的重量比值为95/5至60/40。值得一提的是，当所述溶剂(E)中所述含醇式羟基的化合物与含羰基的环状化合物的重量比值为99/1至50/50时，所述聚硅氧烷聚合物(A)中未反应的硅烷醇基不易产生缩合反应而降低贮藏安定性，且其与所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的兼容性佳，于涂布成膜时不易有白化的现象，可维持所述保护膜的透明性。
在不损害本发明的技术效果的前提下，本发明的感光性聚硅氧烷组合物亦可以含有其它溶剂。所述其它溶剂包含但不限于(1)酯类：醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯、3-甲氧基-1-醋酸丁酯、3-甲基-3-甲氧基-1-醋酸丁酯等；(2)酮类：甲基异丁酮、二异丙酮、二异丁酮等；(3)醚类：二乙醚、二异丙醚、二正丁醚、二苯醚等。
根据本发明的具体实施方式，优选地，在上述感光性聚硅氧烷组合物中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量量为100重量份，所述溶剂(E)的使用量为50重量份至2000重量份。更优选地，所述溶剂(E)的使用量为100重量份至1900重量份。最优选地，所述溶剂(E)的使用量为200重量份至1800重量份。
本发明的所述感光性聚硅氧烷组合物选择性地可进一步添加添加剂(F)，添加剂的选择可以是本发明所属技术领域一般技术人员依需求进行的选择，其包含但不限于填充剂、聚硅氧烷聚合物(A)以外的高分子聚合物、紫外线吸收剂、防凝集剂、界面活性剂、密着促进剂、保存稳定剂和耐热性促进剂中的一种或几种的组合。
所述填充剂的种类并无特别的限制，优选地，所述填充剂为玻璃或铝。
所述聚硅氧烷聚合物(A)以外的高分子聚合物为聚乙烯醇、聚乙二醇单烷基醚，或聚氟丙烯酸烷酯。
所述紫外线吸收剂的种类并无特别的限制，优选地，所述紫外线吸收剂为2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯基叠氮或烷氧基苯酮。
所述防凝集剂包含但不限于聚丙烯酸钠。
所述界面活性剂包含但不限于含氟界面活性剂或有机硅界面活性剂，所述界面活性剂可单独或混合使用，其作用在于促进所述感光性聚硅氧烷组合物的涂布性。
所述含氟界面活性剂是指末端、主链及侧链至少包含一氟烷基或一氟烯基的含氟界面活性剂，可例如但不限于1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基硫酸钠、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1,2,2,3,3-六氟癸烷、氟烷苯磺酸钠、氟烷磷酸钠、氟烷羧酸钠、氟烷聚氧乙烯醚、二丙三醇四(氟烷聚氧乙烯醚)、氟烷铵碘、氟烷甜菜碱、氟烷聚氧乙烯醚、全氟烷聚氧乙烯醚、全氟烷基烷醇等。所述含氟界面活性剂的市售品例如但不限于BM-1000、BM-1100(以上由BM Chemical制)、Megafac F142D、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F183、Megafac F178、Megafac F191、Megafac F471、Megafac F476(以上由大日本墨水及化学工业制)、Fluorad FC170C、Fluorad FC-171、Fluorad FC-430、Fluorad FC-431(以上由住友化学制)、Surflon S-112、Surflon S-113、Surflon S-131、Surflon S-141、Surflon S-145、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-102、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-106(以上由旭硝子公司制)、F-Top EF301、F-Top303、F-Top352(以上由新秋田化成制)、Ftergent FT-100、FT-110、FT-140A、FT-150、FT-250、FT-251、FTX-251、FTX-218、FT-300、FT-310、FT-400S(以上由NEOSU制)等。
所述有机硅界面活性剂的市售品可例如但不限于TORE有机硅DC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8427、SF-8428、DC-57、DC-190(Dow Corning Toray Silicone制)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(GE东芝有机硅制)等。
除上述含氟界面活性剂或有机硅界面活性剂外，所述界面活性剂的具体例如：(1)聚氧乙烯烷基醚类，如月桂醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯硬脂酸醚、聚氧乙烯油基醚等；(2)聚氧乙烯芳基醚类，如聚氧乙烯正辛基苯醚、聚氧乙烯正壬基苯酚醚等；(3)聚氧乙烯二烷基酯，如聚氧乙烯二月桂酸、聚氧乙烯二硬脂酸等；(4)非离子界面活性剂，如KP-341(信越化学制)、poly flow No.57、poly flow No.95(共荣社油脂化学工业制)等。
所述密着促进剂包含但不限于官能性硅烷化合物，其作用在于增加感光性聚硅氧烷组合物与基材间的密着性。优选地，所述官能性硅烷化合物是指包含羧基、烯基、异氰酸酯基、环氧基、氨基、巯基或卤素的硅烷化合物。所述官能性硅烷化合物可以单独或混合几种使用，其例如但不限于对-羟基苯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯三乙酰氧基硅烷、乙烯三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧基)硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(市售品例如信越化学制KBM403)、2-(3,4-环氧环己烷基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、氮-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、氮-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷等。
所述保存稳定剂包含但不限于可为硫、醌、氢醌、聚氧化物、胺、亚硝基化合物或硝基化合物，可例如但不限于4-甲氧基苯酚、(氮-亚硝基-氮-苯基)羟胺铝、2,2-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,6-二-第三丁基苯酚等。
所述耐热性促进剂包含但不限于氮-(烷氧基甲基)甘脲化合物或氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺。所述氮-(烷氧基甲基)甘脲化合物可例如但不限于N,N,N',N'-四(甲氧基甲基)甘脲、N,N,N',N'-四(乙氧基甲基)甘脲、N,N,N',N'-四(正丙氧基甲基)甘脲、N,N,N',N'-四(异丙氧基甲基)甘脲、N,N,N',N'-四(正丁氧基甲基)甘脲、N,N,N',N'-四(叔丁氧基甲基)甘脲等；优选地为N,N,N',N'-四(甲氧基甲基)甘脲。所述氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺可例如但不限于N,N,N',N',N'',N''-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N',N',N'',N''-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N',N',N'',N''-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N',N',N'',N''-六(异丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N',N',N'',N''-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N',N',N'',N''-六(叔丁氧基甲基)三聚氰胺；优选地为N,N,N',N',N'',N''-六(甲氧基甲基)三聚氰胺。其中，氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺的市售品可例如NIKARAKKU N-2702、MW-30M(三和化学制)。
所述硬化促进剂包含但不限于：(1)含环氧基的化合物，可例如但不限于双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚AD二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚等双酚化合物的二缩水甘油醚；(2)胍胺(guanamine)化合物，可例如但不限于三聚氰胺(melamine)、胍胺、乙酰胍胺(acetoguanamine)，及苯胍胺(benzoguanamine)；(3)胺类化合物，可例如但不限于双氰胺、苄基二甲基胺、4-(二甲基氨基)-N,N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N,N-二甲基苄基胺，及4-甲基-N,N-二甲基苄基胺；及(4)咪唑衍生物(imidazole derivatives)及其盐，可例如但不限于咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑，及1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑。
所述添加剂的使用量可由本发明所属技术领域中一般技术人员依需求自行调整；优选地，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述添加剂(F)的使用量为0重量份至30重量份。更优选地，所述添加剂(F)的使用量为0重量份至25重量份。最优选地，所述添加剂(F)的使用量为0重量份至20重量份。
所述感光性聚硅氧烷组合物的制法是将聚硅氧烷聚合物(A)、醌二叠氮磺酸酯(B)、氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)、无机粒子(D)及溶剂(E)放置于搅拌器中搅拌，使其均匀混合成溶液状态，必要时可添加添加剂(F)。
本发明亦提供一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用上述的感光性聚硅氧烷组合物施予所述基板上的步骤。
本发明又提供一种基板上的薄膜，其是由上述的方法所制得的。
优选地，所述薄膜为液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的保护膜。
根据本发明的具体实施方式，优选地，所述薄膜是将如上所述的感光性聚硅氧烷组合物涂布于一基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。
本发明薄膜的涂布方法没有特别限制，可以通过喷涂法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、缝模涂敷法、棒涂法、喷墨法等涂布方法，优选为使用旋涂法或缝模涂敷法，将所述感光性聚硅氧烷组合物涂布在一基材上，再经预烤(prebake)方式将溶剂去除而形成一预烤涂膜。其中，预烤的条件，依各组份的种类、配合比率而异，通常为温度在60℃至110℃，进行30秒钟至15分钟。优选地，所述涂膜的厚度为3至6μm。
预烤后，将所述涂膜于光罩下进行曝光，曝光所使用的光线可例如但不限于紫外线、远紫外线、X射线、带电粒子束；紫外线可例如g线(波长436nm)、h线、i线(波长365nm)等，远紫外线可例如KrF准分子激光等，X射线可例如同步加速放射线等，带电粒子束可例如电子束等。优选为紫外线，更优选为g线或i线。当选用紫外线时，紫外线照射装置粒如但不限于高水银灯、超高水银灯及金属卤素灯；优选曝光量为50至1500J/m2。
显影是浸渍于一显影液中，根据组合物的组成而不同，历时30秒至2分钟，以去除不要的部分而形成特定的图案。所述显影液的具体例为：(1)无机碱，如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸酸钠，及氨；(2)第一级脂肪胺，如乙胺、正丙胺；(3)第二级脂肪胺，如二乙胺、正丙胺；(4)第三级脂肪胺，如三甲胺、二乙胺甲基、二甲基乙基胺，及三乙胺；(5)第三级脂肪环酸，如吡咯、哌啶、N-甲基哌啶、N-甲基1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯，及1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯；(6)第三级芳香胺，如吡啶、甲基嘧啶、二甲基吡啶，及喹啉；及(7)第四级铵盐碱性化合物，如四甲基氢氧化铵(TMAH)、四乙基氢氧化铵的水溶液。
此外，水溶性有机溶剂及/或表面活性剂，如甲醇、乙醇，亦可视需要添加于上述显影液中。另外，显影方法可例如但不限于盛液法、浸渍法、震荡浸渍法、冲洗法等适当的方法。
使用上述碱性化合物所构成的显影液时，通常于显影后以水洗净，再以压缩空气或压缩氮气风干。并且，优选地，还采用高压汞灯等进行一后曝光处理，对所述涂膜全面照射放射线，使残留的邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)化合物分解。更优选地，后曝光步骤中的曝光量为2000至5000J/m2。
接着，使用加热板或烘箱等装置进行后烤(postbake)处理，使所述涂膜固化。后烤温度通常为120至250℃。其中，后烤时间是根据加热机器的种类而不同而调整，例如，使用加热板的加热时间为5至30分钟，使用烘箱的加热时间为30至90分钟。经过以上的处理步骤后，即可形成一薄膜。
所述基材可选自于应用在液晶显示器中的无碱玻璃、钠钙玻璃、强化玻璃(Pyrex玻璃)、石英玻璃或表面上已附着透明导电膜的玻璃等基材及用于固体摄影组件等的光电变换组件基板(如：硅基板)等。
本发明还提供一种装置，其包含上述的薄膜，该装置包含但不限于显示组件、半导体组件及光波导路等。
具体实施方式
兹以下列实施例予以详细说明本发明，但并不意味本发明仅局限于下述实施例所揭示的内容。
聚硅氧烷聚合物(A-1)的合成例
在一容积500毫升的三颈烧瓶中，加入丙二醇单乙醚(简称PGEE)200克，并于室温下，以一边搅拌，一边以连续添加的方式，同时加入硅烷单体及聚硅氧烷的组合溶液及草酸水溶液；其中，硅烷单体及聚硅氧烷的使用量如表1所示。接着，将烧瓶浸渍于30℃的油浴中并搅拌30分钟，然后于30分钟内将油浴升温至120℃，待溶液的内温达到105℃时，持续加热搅拌进行聚缩合6小时后，可得聚硅氧烷聚合物(A-1)。
聚硅氧烷聚合物(A-2)至(A-4)的合成例
聚硅氧烷聚合物(A-2)至(A-4)的合成例与上述聚硅氧烷聚合物(A-1)类似，其中，硅烷单体及聚硅氧烷的种类及使用量如表1所示。但其中溶剂、草酸的使用量、反应温度及聚缩合的反应时间与上述聚硅氧烷聚合物(A-1)不同，亦示于表1，可得聚硅氧烷聚合物(A-2)至(A-4)。
表1
表1中各符号所表示的化合物如下所述：
感光性聚硅氧烷组合物实施例
表2所示的各成分及使用量，以摇动式搅拌器，加以溶解混合，即可调制而得感旋光性聚硅氧烷组合物。
感光性聚硅氧烷组合物比较例
表2所示的各成分及使用量，以摇动式搅拌器，加以溶解混合，即可调制而得感光性聚硅氧烷组合物。
OG保护正光阻的形成
于素玻璃基板(100×100×0.7mm)上以旋转涂布方式得到约2μm的涂膜，然后以110℃预烤2分钟后，在曝光机与涂膜间置入正光阻用光罩，并以曝光机的紫外光照射涂膜，其能量为100mJ/cm2。将曝光后的涂膜浸渍于23℃的质量浓度为2.38%的TMAH水溶液60秒，除去曝光的部分。以清水清洗后，再以曝光机直接照射显影后的涂膜，其能量为200mJ/cm2。最后以230℃后烤60分钟，可获得素玻璃基板上的保护膜。
评价方式
1、感光度：
于素玻璃基板(100×100×0.7mm)上以旋转涂布方式得到约2μm的涂膜，然后以110℃预烤2分钟后，在曝光机与涂膜间置入正光阻用光罩，且该光罩含有不同线幅的图样，接着以曝光机的紫外光照射涂膜，将曝光后的涂膜浸渍于23℃的质量浓度为2.38%的TMAH水溶液60秒，观察涂膜可形成图样的1μm线幅，其曝光能量为多少mJ/cm2。
◎：曝光能量<150mJ/cm2
○：150mJ/cm2≦曝光能量<300mJ/cm2
×：300mJ/cm2≦曝光能量
2、折射率：
将上述的素玻璃基板上的保护膜，以光学膜厚机(MFS-630-F，宏明科技制)测量保护膜的折射率。该测量结果如下：
○：折射率≧1.6
△：1.6>折射率≧1.5
×：1.5>折射率
评价结果示于表2，可知使用氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及无机粒子(D)的成分，其所得的薄膜感光度与折射率佳。
表2
表2中各符号所表示的化合物如下所述：
B-1 1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯
B-2 2,3,4-三羟基二苯甲酮与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯
C-1 NK Oligo U-6HA(新中村化学制)
C-2 UV-1700B(日本合成化学制)
C-3 UV-6300B(日本合成化学制)
C-4 UN-901T(根上工业制)
C-5 UN-3320HS(根上工业制)
C-6 UN-9000PEP(根上工业制，含两个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物)
D-1 TiO2，平均粒径13.14nm，韩国NanoCMS制
D-2 TiO2，平均粒径24.23nm，日本C.I.Kasei制
D-3 ZrO2，平均粒径17.46nm，日本Osaka Cement Co.,Ltd.制
E-1 丙二醇甲醚醋酸酯PGMEA
E-2 4-羟基-4-甲基-2-戊酮DAA
E-3 环己酮
F-1 SF-8427(Toray Dow Corning Silicon制，界面活性剂)
F-2 3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(商品名KBM403，信越化学制，密着助剂)
上述实施例仅为说明本发明的原理及其功效，而非限制本发明。本领域一般技术人员对上述实施例所做的修改及变化仍不违背本发明的精神。本发明的权利保护范围应如权利要求书所述。
Claims (7)
1.一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：
聚硅氧烷聚合物(A)；
邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；
氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子含有六至十五个(甲基)丙烯酰基；
无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分，并且所述无机粒子(D)中第四族元素为钛或锆；以及
溶剂(E)；
其中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为1至50重量份；所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为0.1至35重量份；所述无机粒子(D)的使用量为5至120重量份；及所述溶剂(E)的使用量为50至2000重量份。
2.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述聚硅氧烷聚合物(A)是由下列结构式1所表示的硅烷单体经加水分解及缩合反应而得；
Si(Ra)t(ORb)4-t 结构式(1)
其中：
Ra选自由氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至10的烯基、碳数6至15的芳基、经酸酐基取代的碳数1至10的烷基、经环氧基取代的碳数1至10的烷基及经环氧基取代的烷氧基所组成的群；
Rb选自由氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基及碳数6至15的芳基所组成的群；及t表示0至3的整数，且当t表示2或3时，几个Ra各自为相同或不同；且当4-t表示2或3时，几个Rb各自为相同或不同。
3.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述无机粒子(D)的粒径大小为1nm至100nm。
4.一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用权利要求1至3任一项所述的感光性聚硅氧烷组合物施予所述基板上的步骤。
5.一种基板上的薄膜，其是由权利要求4所述的方法所制得的。
6.根据权利要求5所述的薄膜，其为液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的保护膜。
7.一种装置，其包含权利要求5或6所述的薄膜，该装置为显示组件、半导体组件或光波导路。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW101149666A TWI479269B (zh) | 2012-12-25 | 2012-12-25 | 感光性聚矽氧烷組成物及其應用 |
| TW101149666 | 2012-12-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103901728A CN103901728A (zh) | 2014-07-02 |
| CN103901728B true CN103901728B (zh) | 2017-06-06 |
Family
ID=50975024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310704085.7A Active CN103901728B (zh) | 2012-12-25 | 2013-12-19 | 感光性聚硅氧烷组合物及其应用 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8936891B2 (zh) |
| CN (1) | CN103901728B (zh) |
| TW (1) | TWI479269B (zh) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001033926A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP6221279B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2017-11-01 | 富士通株式会社 | レジスト組成物の製造方法及びパターン形成方法 |
| CN105359037B (zh) * | 2013-07-02 | 2020-02-28 | 东丽株式会社 | 正型感光性树脂组合物、使其固化而成的固化膜及具有其的光学设备 |
| JP6569211B2 (ja) * | 2013-11-29 | 2019-09-04 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを硬化させてなる硬化膜ならびにそれを具備する発光素子および固体撮像素子 |
| US9977329B2 (en) * | 2014-01-24 | 2018-05-22 | Toray Industries, Inc. | Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated CMOS image sensor |
| KR102433199B1 (ko) * | 2017-03-09 | 2022-08-17 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 |
| JP2018189732A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ ＧｍｂＨ | ポジ型感光性シロキサン組成物、およびそれを用いて形成した硬化膜 |
| WO2019005161A1 (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | Intel Corporation | METHOD AND COMPOUND FOR CONTROLLING PATTERN FORMATION ON RESIST MATERIAL |
| KR20200026872A (ko) | 2017-07-06 | 2020-03-11 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 알칼리성 현상액 가용성 실리콘함유 레지스트 하층막 형성 조성물 |
| KR20190056088A (ko) * | 2017-11-16 | 2019-05-24 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101454722A (zh) * | 2006-05-26 | 2009-06-10 | 伊斯曼柯达公司 | 负性辐射敏感组合物及可成像材料 |
| CN101784958A (zh) * | 2007-08-24 | 2010-07-21 | 东丽株式会社 | 感光性组合物、由该组合物形成的固化膜、以及具有固化膜的元件 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010051941A (ko) * | 1999-11-26 | 2001-06-25 | 가마이 고로 | 감광성 수지 조성물, 다공질 수지, 회로기판 및 무선서스펜션 기판 |
| US6534235B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-03-18 | Kansai Research Institute, Inc. | Photosensitive resin composition and process for forming pattern |
| JP4853228B2 (ja) | 2006-10-25 | 2012-01-11 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法 |
-
2012
- 2012-12-25 TW TW101149666A patent/TWI479269B/zh active
-
2013
- 2013-12-18 US US14/133,277 patent/US8936891B2/en active Active
- 2013-12-19 CN CN201310704085.7A patent/CN103901728B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101454722A (zh) * | 2006-05-26 | 2009-06-10 | 伊斯曼柯达公司 | 负性辐射敏感组合物及可成像材料 |
| CN101784958A (zh) * | 2007-08-24 | 2010-07-21 | 东丽株式会社 | 感光性组合物、由该组合物形成的固化膜、以及具有固化膜的元件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20140178822A1 (en) | 2014-06-26 |
| CN103901728A (zh) | 2014-07-02 |
| TWI479269B (zh) | 2015-04-01 |
| TW201426191A (zh) | 2014-07-01 |
| US8936891B2 (en) | 2015-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103901728B (zh) | 感光性聚硅氧烷组合物及其应用 | |
| CN104345567B (zh) | 感光性聚硅氧烷组合物及其应用 | |
| CN102540727B (zh) | 光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜 | |
| CN104423168B (zh) | 正型感光性树脂组成物及其图案形成方法 | |
| CN103885294B (zh) | 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件 | |
| JP4231076B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| CN105319852A (zh) | 感光性树脂组合物、保护膜及具有保护膜的元件 | |
| CN103376661B (zh) | 光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件 | |
| TWI551951B (zh) | 感光性組成物、保護膜以及具有保護膜的元件 | |
| CN103309161A (zh) | 感光性树脂组合物及其应用 | |
| CN104375381A (zh) | 感光性聚硅氧烷组合物及其形成的薄膜与包含薄膜的装置 | |
| CN104122753A (zh) | 感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件 | |
| CN104423170A (zh) | 感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的组件 | |
| CN103135355B (zh) | 光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件 | |
| CN103483753B (zh) | 硬化性树脂组合物、保护膜及含该保护膜的液晶显示元件 | |
| TWI540396B (zh) | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜及具有保護膜的元件 | |
| CN104950580A (zh) | 感光性聚硅氧烷组合物及其应用 | |
| US20150346601A1 (en) | Photosensitive polysiloxane composition, protective film and element having the protective film | |
| CN102443265B (zh) | 光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜 | |
| CN103365093B (zh) | 光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件 | |
| CN106918989A (zh) | 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的组件 | |
| WO2021193221A1 (ja) | 樹脂組成物、硬化膜、マイクロレンズの製造方法、固体撮像素子、マイクロレンズ、タッチパネル | |
| CN107179652A (zh) | 正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |