CN103492328A - 磁盘用玻璃毛坯的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃毛坯 - Google Patents

磁盘用玻璃毛坯的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃毛坯 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种通过模压成形得到平面度良好的磁盘用玻璃毛坯的磁盘用玻璃毛坯的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃毛坯。本发明是包括使用一对模具模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，使用上述一对模具模压成形下落中的上述熔融玻璃的块。

Description

磁盘用玻璃毛坯的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃毛坯
技术领域
本发明涉及磁盘用玻璃毛坯的制造方法以及磁盘用玻璃基板的制造方法。
背景技术
现今，在个人计算机或者DVD（Digital Versatile Disc）记录装置等为了数据记录，内置硬盘装置（HDD：Hard Disk Drive）。尤其是，在用于笔记本型个人计算机等以可搬运性为前提的设备的硬盘装置中，使用在玻璃基板上设置了磁性层的磁盘，由在磁盘的面上略微上浮的磁头（DFH（Dynamic Flying Height）头）在磁性层记录或者读取磁记录信息。作为该磁盘的基板，由于玻璃基板与金属基板（铝基板）等相比具有难以塑性变形的性质，所以，适合使用。
虽然磁头例如具备磁阻效果型元件，但是，存在在这样的磁头上作为固有的故障引起热粗糙故障的情况。热粗糙故障是指在磁头在磁盘的微小的凹凸形状的主表面上一面上浮飞行，一面通过时，磁阻效果型元件因空气的隔热压缩或接触而被加热，产生读出错误这样的故障。为此，为了避免热粗糙故障，而制作成磁盘用玻璃基板的主表面的表面粗糙度、平面度等表面性状达到良好的水平。
作为以往的板状玻璃（玻璃毛坯）的制造方法，已知垂直直接模压法。该模压法是向下模上供给熔融玻璃的块，使用上模模压成形熔融玻璃的块（熔融玻璃块）的方法（专利文献1、图4等）。在垂直直接模压法中，需要用于把持模压后得到的玻璃毛坯，并从模具取出的工件把持装置。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-269762号公报
但是，公知的垂直直接模压法存在所制作的玻璃毛坯的平面度（形状精度）不佳这样的问题。其理由如下。
在垂直直接模压法中，在刚刚在下模上配置了熔融玻璃块后，仅熔融玻璃块中的与下模的接触面以及靠近接触面的部分被急剧冷却并固化。玻璃由于热传导率低，所以，即使在熔融玻璃块与下模接触的期间，熔融玻璃块的上方的部分（后面，与上模接触的部分）也维持高温。此后，其上方的部分与上模接触，被急剧冷却并固化。因此，在垂直直接模压法的情况下，在熔融玻璃块被成形为玻璃毛坯的过程中，在熔融玻璃块的下侧和上侧被冷却并固化的时机产生偏差，其结果为，在上侧翘曲成凹形状，产生玻璃毛坯的平面度的增加（恶化）。上述时机的偏差在垂直直接模压法的模压方式上不能彻底地抑制。
再有，在垂直直接模压法中，为了防止熔融玻璃块粘贴在下模而不能除去，有必要使例如BN（氮化硼）等脱模材料（（mold）releaseagent）预先附着在模具，但是，在这样的脱模材料附着在玻璃毛坯的状态下，不能减小表面粗糙度。另外，为了制作平面度良好的玻璃毛坯，优选尽量使上模和下模的温度相同，但是，由于若脱模材料附着在下模，则下模的热传导率恶化，所以，在模压成形过程中，难以将玻璃毛坯的两面均匀地冷却。因此，通过垂直直接模压法制作的玻璃毛坯为了改善其平面度，且除去扎入玻璃毛坯的表面的脱模材料，必须有后工序，即、基于研磨·磨削等的除去工序。
再有，在垂直直接模压法中，如上所述，需要用于把持模压后得到的玻璃毛坯，并从模具取出的工件把持装置，但是，在模压后把持模具上的玻璃毛坯时，存在工件把持装置接触玻璃毛坯或者模具表面，玻璃毛坯或者模具表面损伤的情况。
本发明的目的是提供一种通过模压成形得到平面度良好的磁盘用玻璃毛坯的磁盘用玻璃毛坯的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃毛坯。
本发明的其它目的是提供一种通过模压成形得到平面度良好的磁盘用玻璃毛坯，且在将玻璃毛坯从模具取出时，不使玻璃毛坯或者模具损伤的磁盘用玻璃毛坯的制造方法以及磁盘用玻璃基板的制造方法。
发明内容
本发明者们面对上述课题，反复认知研究的结果是，发明者们提出了新的模压成形方法。即、在本实施方式的玻璃毛坯的制造方法中，采用对下落中的熔融玻璃块由在相对于熔融玻璃块的下落方向正交的方向（水平方向）相向配置的一对模具（模压成形模具）进行模压成形的水平直接模压法。在该水平直接模压法中，熔融玻璃块在被模压成形前的期间与以往的垂直直接模压法不同，暂时不与比熔融玻璃块温度低的部件接触·保持。为此，相对于在模压成形即将开始前的时点，在垂直直接模压法中熔融玻璃块的内部的粘度分布在模压成形时非常宽，在本实施方式的水平直接模压中，熔融玻璃块的粘度分布被保持均匀。由此，与垂直直接模压法相比，在水平直接模压法中，极其容易使模压成形的熔融玻璃块均匀地薄薄延伸。因此，结果为，与利用垂直直接模压法制作玻璃毛坯的情况相比，在利用水平直接模压法制作玻璃毛坯的情况下，极其容易彻底地抑制平面度的低下。
另外，在模压成形熔融玻璃块时的一对模具的相向位置的温度的差小的情况下，与其差大的情况相比，能够使生成的玻璃毛坯的平面度低下。这是因为，由于在一对模具间的温度差更小的情况下，容易实现高温的熔融玻璃块与模具的内周面接触被急剧冷却时的热均衡，所以，能够进一步抑制能够以在冷却阶段的一对模具间的微小的热变形程度的差为起因所产生的玻璃毛坯的平面度的低下。也就是说，在模压成形熔融玻璃块时的一对模具的相向位置的温度差和模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间，存在相关关系。若已知该相关关系，则知道用于实现磁盘用玻璃基板所要求的平面度的一对模具间的温度差（绝对值）的最大值。因此，通过将一对模具间的温度差控制成在该最大值以下，能够实现磁盘用玻璃基板所要求的平面度。
从上述观点出发，本发明的第一观点是包括使用一对模具模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，得到模压成形上述熔融玻璃时的一对模具的相向位置的温度差和模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间的相关关系，根据上述相关关系，求出能够实现玻璃毛坯所要求的平面度的上述一对模具的温度差，在一对模具的温度在上述求出的温度差以内时，进行模压成形。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，优选其特征在于，上述玻璃毛坯所要求的平面度与能够在上述磁盘被搭载在硬盘装置上时防止头的接触的磁盘的平面度相等。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，优选其特征在于，在成形工序中，进行模压成形，以便上述模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具之间实质上成为相同的温度。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，使从玻璃毛坯与模具接触到离开为止的上述一对模具的温度为不足上述熔融玻璃的玻璃转化点（Tg）的温度。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，不使脱模材料附着在上述模具上地进行模压成形。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，成形后得到的玻璃毛坯的100℃～300℃时的热膨胀系数在30×10-7～100×10-7（K-1）的范围内。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，在前述成形工序中，模压成形上述熔融玻璃，以便使玻璃毛坯的平面度在8μm以下。
本发明的第二观点是包括使用一对模具模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在前述成形工序中，模压成形上述熔融玻璃，以便使上述一对模具的相向位置的温度差在10℃以内。
本发明的第三观点是包括使用一对模具，模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在前述成形工序中，模压成形上述熔融玻璃，以便使玻璃毛坯的平面度在8μm以下。
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，相对于通过有关第一～第三观点的磁盘用玻璃基板毛坯的制造方法制造的玻璃毛坯，实施加工余量50μm以下的研磨加工，制造上述磁盘用玻璃基板。
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，使用通过有关第一～第三观点的磁盘用玻璃毛坯的制造方法得到的磁盘用玻璃毛坯，制造磁盘用玻璃基板。
然而，在上述水平直接模压法中，由于由在相对于熔融玻璃块的下落方向正交的方向相向配置的一对模具进行模压成形，所以，在打开模具后，在大多数情况下，被模压成形的玻璃毛坯因自重而向竖直下方下落。为此，不需要用于从模具取出玻璃毛坯的工件把持装置，因此，与垂直直接模压法不同，不存在将玻璃毛坯从模具取出时，使玻璃毛坯或者模具损伤的情况。
但是，发明者们通过上述提出的水平直接模压法进行多次模压成形的结果，判明了即使在将模具打开后，也产生玻璃毛坯粘贴在配置在水平方向的一对模具中的一方的模具的情况这样的事实。研究了由于玻璃毛坯相对于模具的粘贴力不大，所以，在将模具打开后，从模具的内部朝向模压成形面（也就是水平方向）排出空气，由其排出力，使玻璃毛坯从模具剥离的方法。在该方法中，虽然可以使玻璃毛坯从模具剥离，但是，产生在批量生产玻璃毛坯时，玻璃毛坯的平面度低下这样的问题。这是由于下述的理由。也就是说，就玻璃毛坯粘贴在一对模具的哪一个模具上而言，不将模具打开看不会知道。为此，空气的水平方向的排出必须针对双方的模具进行，但是，这样一来，在粘贴了玻璃毛坯的模具和没有粘贴的模具之间，空气的排出对模具的冷却程度不同，因此，是以模具间温度差变大的状态模压下一个熔融玻璃块。若以模具间温度差大的状态进行模压成形，则被成形的玻璃毛坯的一方的面和另一方的面，冷却过程不同，产生应变，其结果为，平面度低下。
如上所述，在模具间的温度差变大的要因存在于某个熔融玻璃的模压成形和下一个熔融玻璃的模压成形之间的情况下，以下一个熔融玻璃为基础成形的玻璃毛坯的平面度低下。本发明者们以上述知识为基础，提出了即使在模具间的温度差变大的要因存在于某个熔融玻璃的模压成形和下一个熔融玻璃的模压成形之间的情况下，也不使玻璃毛坯的平面度恶化的方法。该方法包括在从开模具后将粘贴在一方的模具上的玻璃毛坯从模具取出后到为模压成形而使新的熔融玻璃下落为止之间，包括为使上述一对模具的每一个的与熔融玻璃接触的部分的温度差降低而使上述部分和均热材料面接触。根据该方法，例如，即使在进行像上述那样用于使玻璃毛坯从模具剥离的处理等产生模具间的温度差变大的要因的处理的情况下，也能够在模压成形下一个熔融玻璃的时点，在短时间谋求一对模具的等温化，因此，在连续地模压成形熔融玻璃时（也就是在批量生产工序中），能够连续地得到平面度良好的玻璃毛坯。
从上述观点出发，本发明的第四观点是包括通过使用一对模具对下落中的熔融玻璃从与下落方向正交的方向进行模压成形来成形板状的玻璃毛坯的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，上述成形工序在从开模到模压成形新的熔融玻璃之间，具有用于降低上述一对模具间的温度差的均热化工序。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，上述均热化工序是使均热材料与上述一对模具的至少一方接触的工序。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，优选其特征在于，在成形工序中，进行模压成形，以便使上述模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具间实质上成为相同的温度。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，使从玻璃毛坯与模具接触到离开为止的上述一对模具的温度为不足上述熔融玻璃的玻璃转化点（Tg）的温度。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，不使脱模材料附着在上述模具上地进行模压成形。
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，相对于通过有关第四观点的磁盘用玻璃基板毛坯的制造方法制造的玻璃毛坯，实施加工余量50μm以下的研磨加工，制造上述磁盘用玻璃基板。
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，使用通过有关第四观点的磁盘用玻璃毛坯的制造方法得到的磁盘用玻璃毛坯，制造磁盘用玻璃基板。
再有，本发明者们以上述知识为基础，提出了在使玻璃毛坯从一对模具中的任意一个模具剥离时，不使模具间的温度差变大的方法。若即使是在玻璃毛坯在模压成形后粘贴在一对模具中的任意一个的情况下，也将该玻璃毛坯用不使模具间的温度差变大的方法剥离，则在模压成形其下一个熔融玻璃的时点，在模具间温度差不会变大，因此，在连续地模压成形熔融玻璃时（也就是在批量生产工序中），能够连续地得到平面度良好的玻璃毛坯。
从上述观点出发，本发明的第五观点是包括通过使用一对模具对下落中的熔融玻璃从与下落方向正交的方向进行模压成形来成形板状的玻璃毛坯的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序之后，在进行了在将粘贴在上述模具上的玻璃毛坯不产生上述模具间的温度差地从模具剥离的剥离工序后，相对于下一个熔融玻璃进行上述成形工序。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法的一方式中，其特征在于，上述剥离工序在两模具和玻璃毛坯接触的状态下，将上述玻璃毛坯的外周部的至少一部分冷却。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法的一方式中，其特征在于，上述剥离工序通过相对于玻璃毛坯供给气体来将上述玻璃毛坯的外周端部的至少一部分冷却。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法的一方式中，其特征在于，供给上述气体的时机是关闭的状态的上述一对模具即将开始打开前或与开始打开的时机同时。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，优选其特征在于，在成形工序中，进行模压成形，以便使上述模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具间实质上成为相同的温度。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，使从玻璃毛坯与模具接触到离开为止的上述一对模具的温度为不足上述熔融玻璃的玻璃转化点（Tg）的温度。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，其特征在于，不使脱模材料附着在上述模具上地进行模压成形。
在上述磁盘用玻璃毛坯的制造方法中，也可以是模具的表面粗糙度（Ra）在0.1μm以下。
另外，本发明的第六观点是包括通过使用一对模具对下落中的熔融玻璃从与下落方向正交的方向进行模压成形来成形板状的玻璃毛坯的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，上述一对模具的每一个具备用于将气体导入因模具的合模而形成的空间的通路，在上述成形工序中，在模具合模时，通过每一个模具的上述通路向上述空间供给气体。
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，相对于通过有关第五或第六观点的磁盘用玻璃基板毛坯的制造方法制造的玻璃毛坯，实施加工余量50μm以下的研磨加工，制造上述磁盘用玻璃基板。
本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，使用通过有关第五或第六观点的磁盘用玻璃毛坯的制造方法得到的磁盘用玻璃毛坯，制造磁盘用玻璃基板。
发明效果
根据本发明的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，能够通过模压成形制造平面度良好的磁盘用玻璃毛坯以及磁盘用玻璃基板。
根据本发明的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，通过模压成形得到平面度良好的磁盘用玻璃毛坯，且在将玻璃毛坯从模具取出时，不会损伤玻璃毛坯或者模具。
附图说明
图1是表示实施方式的磁盘用玻璃基板的外观形状的立体图。
图2是表示实施方式的磁盘用玻璃基板的制造方法的一实施方式的流程的图。
图3是实施方式的模压成形中使用的装置的俯视图。
图4是表示实施方式的模压成形的图。
图5是表示使用了料滴形成模的实施方式的模压成形的变形例的图。
图6是表示不使用切割单元的实施方式的模压成形的变形例的图。
图7是表示使用由软化炉加热了的光学玻璃的实施方式的模压成形的变形例的图。
图8是表示实施方式的模压成形的其它的变形例的图。
图9是表示一对模具间的温度差和玻璃毛坯的平面度之间的实施例中的相关关系的图。
图10是用于说明第二实施方式的模压成形中的模具的均热化处理的图。
图11是举例表示第二实施方式的模具的均热化处理前后的一对模具的每一个模压成形面的温度变化的图。
图12是举例表示第二实施方式的模具的均热化处理前后的一对模具的每一个的模压成形面的温度变化的图。
图13是举例表示在第三实施方式的模压成形中，向因模具的合模而形成的空间供给气体的方法的图。
具体实施方式
<第一实施方式>
下面，对本实施方式的磁盘用玻璃毛坯的制造方法以及磁盘用玻璃基板的制造方法详细地进行说明。
[磁盘用玻璃基板]
如图1所示，本实施方式中的磁盘用玻璃基板1是圆环状的薄板的玻璃基板。虽然磁盘用玻璃基板的尺寸不受限制，但是例如，作为公称直径2.5英寸的磁盘用玻璃基板适合。在为公称直径2.5英寸的磁盘用玻璃基板的情况下，例如，外径为65mm，中心孔2的径为20mm，板厚T为0.6～1.0mm。实施方式的磁盘用玻璃基板的主表面的平面度例如为4μm以下，主表面的表面粗糙度（算术平均粗糙度Ra）例如为0.2nm以下。另外，作为最终制品的磁盘用基板所要求的平面度例如为4μm以下。
作为本实施方式中的磁盘用玻璃基板的材料，能够使用非晶的铝硅酸盐玻璃、碱石灰玻璃、硼硅酸盐玻璃等。尤其是，能够实施化学强化，另外，在能够制作主表面的平面度以及基板的强度方面优异的磁盘用玻璃基板这点，能够适合使用非晶的铝硅酸盐玻璃。另外，这些玻璃材料因若做成非晶玻璃，则能够使表面粗糙度极小而被优选。因此，若做成非晶的铝硅酸盐玻璃，则在强度和表面粗糙度降低两方的观点被优选。
虽然没有对本实施方式的磁盘用玻璃基板的组成进行限定，但是，本实施方式的玻璃基板是优选由具有换算成氧化物基准，以摩尔%表示，SiO250～75%、Al2O31～15%、从Li2O、Na2O以及K2O选择的至少一种成分合计5～35%、从MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO选择的至少一种成分合计0～20%以及从ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5以及HfO2选择的至少一种成分合计0～10%的组成构成的非晶的铝硅酸盐玻璃。
本实施方式的玻璃基板也可以是由下述组成构成的非晶的铝硅酸盐玻璃。
以摩尔%表示，含有
SiO256～75%、
Al2O31～11%、
Li2O超过0%，且在4%以下、
Na2O在1%以上，且不足15%、
K2O在0%以上，且不足3%，
并且实质上不含BaO，
从由Li2O、Na2O以及K2O构成的群选出的碱金属氧化物的合计含有量为6～15%的范围，
Li2O含有量相对于Na2O含有量的摩尔比（Li2O/Na2O）不足0.50，
K2O含有量相对于上述碱金属氧化物的合计含有量的摩尔比｛K2O/（Li2O＋Na2O＋K2O）｝为0.13以下，
从由MgO、CaO以及SrO构成的群选出的碱土类金属氧化物的合计含有量为10～30%的范围，
MgO以及CaO的合计含有量为10～30%的范围，
MgO以及CaO的合计含有量相对于上述碱土类金属氧化物的合计含有量的摩尔比｛（MgO＋CaO）/（MgO＋CaO＋SrO）｝为0.86以上，
上述碱金属氧化物以及碱土类金属氧化物的合计含有量为20～40%的范围，
MgO、CaO以及Li2O的合计含有量相对于上述碱金属氧化物以及碱土类金属氧化物的合计含有量的摩尔比｛（MgO＋CaO＋Li2O）/（Li2O＋Na2O＋K2O＋MgO＋CaO＋SrO）为0.50以上，
从由ZrO2、TiO2、Y2O3、La2O3、Gd2O3、Nb2O5以及Ta2O5构成的群选出的氧化物的合计含有量超过0%，且在10%以下，
上述氧化物的合计含有量相对于Al2O3含有量的摩尔比｛（ZrO2＋TiO2＋Y2O3＋La2O3＋Gd2O3＋Nb2O5＋Ta2O5）/Al2O3｝为0.40以上。
本实施方式的玻璃基板也可以是由下述组成构成的非晶的铝硅酸盐玻璃。
以摩尔%表示，含有
SiO250～75%、
Al2O30～5%、
Li2O0～3%、
ZnO0～5%、
Na2O以及K2O合计3～15%、
MgO、CaO、SrO以及BaO合计14～35%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5以及HfO2合计2～9%，
摩尔比[（MgO＋CaO）/（MgO＋CaO＋SrO＋BaO）]为0.8～1的范围，且
摩尔比[Al2O3/（MgO＋CaO）]为0～0.30的范围内的玻璃。
[实施方式的磁盘用玻璃基板的制造方法]
接着，参见图2，说明磁盘用玻璃基板的制造方法的流程。图2是表示磁盘用玻璃基板的制造方法的一实施方式的流程的图。
如图2所示，在本实施方式的磁盘用玻璃基板的制造方法中，首先，通过模压成形制作圆板状的玻璃毛坯（步骤S10）。接着，对成形的玻璃毛坯进行划线，制作圆环状的玻璃基板（步骤S20）。接着，相对于被划线的玻璃基板进行形状加工（倒角加工）（步骤S30）。接着，相对于玻璃基板实施基于固定磨粒的磨削（步骤S40）。接着，进行玻璃基板的端面研磨（步骤S50）。接着，对玻璃基板的主表面实施第一研磨（步骤S60）。接着，相对于第一研磨后的玻璃基板实施化学强化（步骤S70）。接着，相对于被化学强化的玻璃基板实施第二研磨（步骤S80）。经过上面的工序，得到磁盘用玻璃基板。
下面，对各工序详细地进行说明。
（a）模压成形工序（步骤S10）
首先，参见图3，对模压成形工序进行说明。图3是模压成形所使用的装置的俯视图。如图3所示，装置101具备4组模压单元120、130、140、150、切割单元160和切割刀165（图2中未图示出）。切割单元160被设置在从熔融玻璃流出口111流出的熔融玻璃的路径上。装置101使由切割单元160切割而产生的熔融玻璃的块（以后也称为料滴）下落，此时，通过从块的下落路径的两侧由相互相向的一对模具的面夹入并模压块来成形玻璃毛坯。
具体地说，如图4所示，装置101以熔融玻璃流出口111为中心，每隔90度设置四组模压单元120、130、140以及150。
模压单元120、130、140以及150的每一个由未图示出的移动机构驱动，可以相对于熔融玻璃流出口111进退。即、可以在位于熔融玻璃流出口111的正下方的捕捉位置（图3中，以实线描绘模压单元140的位置）和从熔融玻璃流出口111离开的退让位置（图3中，以实线描绘模压单元120、130以及150的位置以及以虚线描绘模压单元140的位置）之间移动。
切割单元160被设置在捕捉位置（模压单元对料滴的捕获位置）和熔融玻璃流出口111之间的熔融玻璃的路径上，将从熔融玻璃流出口111流出的熔融玻璃适量地切出，形成熔融玻璃的块。切割单元160具有一对切割刀161以及162。切割刀161以及162以在一定的时机在熔融玻璃的路径上交叉的方式被驱动，在切割刀161以及162交叉时，熔融玻璃被切出，得到料滴。所得到的料滴朝向捕捉位置下落。
模压单元120具有第一模具121、第二模具122、第一驱动部123以及第二驱动部124。第一模具121和第二模具122的每一个是具有用于模压成形料滴的面的板状的部件。该两个面的法线方向为大致水平方向，该两个面被配置成相互平行地相向。第一驱动部123使第一模具121相对于第二模具122进退。另一方面，第二驱动部124使第二模具122相对于第一模具121进退。第一驱动部123以及第二驱动部124例如具有将空气缸、螺线管和螺旋弹簧组合的机构等使第一驱动部123的面和第二驱动部124的面迅速接近的机构。
另外，由于模压单元130、140以及150的构造与模压单元120相同，所以，省略说明。
模压单元的每一个在移动到捕捉位置后，通过第一驱动部和第二驱动部的驱动，将下落的料滴夹入第一模具和第二模具之间，成形为规定的厚度，且迅速地进行冷却，制作圆形状的玻璃毛坯G。接着，模压单元在移动到退让位置后，将第一模具和第二模具拉开，使成形了的玻璃毛坯G下落。在模压单元120、130、140以及150的退让位置之下，设置第一输送器171、第二输送器172、第三输送器173以及第四输送器174。第一～第四输送器171～174的每一个挡住从对应的各模压单元下落的玻璃毛坯G，将玻璃毛坯G向未图示出的下个工序的装置运送。
在装置101中，由于被构成为模压单元120、130、140以及150依次向捕捉位置移动，夹入料滴，向退让位置移动，所以，能够不必等待各模压单元上的玻璃毛坯G的冷却，连续地进行玻璃毛坯G的成形。
图4（a）～（c）更具体地说明使用了装置101的模压成形。图4（a）是表示作出料滴以前的状态的图，图4（b）是表示通过切割单元160作出了料滴的状态的图，图4（c）是表示通过模压料滴来成形玻璃毛坯G的状态的图。
如图4（a）所示，熔融玻璃材料LG连续地从熔融玻璃流出口111流出。此时，在规定的时机驱动切割单元160，由切割刀161以及162切割熔融玻璃材料LG（图4（b））。据此，被切割的熔融玻璃因其表面张力，成为大致球状的料滴GG。熔融玻璃材料LG单位时间的流出量以及切割单元160的驱动间隔的调整可以与作为目标的玻璃毛坯G的大小、由板厚决定的体积相应地适宜地进行。
作出的料滴GG朝向模压单元120的第一模具121和第二模具122的间隙下落。此时，在料滴GG进入第一模具121和第二模具122的间隙的时机，第一驱动部123以及第二驱动部124（参见图4）被驱动，使第一模具121和第二模具122相互挨近。据此，如图4（c）所示，料滴GG被捕获（捕捉）到第一模具121和第二模具122之间。进而，第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a成为隔着微小的间隔接近的状态，被夹入第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a之间的料滴GG被成形为薄板状。另外，为了将第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的间隔维持为一定，在第一模具121的内周面121a以及第二模具122的内周面122a分别设置突起121b以及突起122b。即、通过突起121b以及突起122b抵接，第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的间隔被维持为一定，作出板状的空间。
在该模压成形工序中，使用一对模具121、122进行模压成形，但是，在本实施方式的模压成形中，玻璃毛坯的外形并不被模具的形状限制。即、如图4（c）所示，不存在因合模而被拉长的料滴到达模具的突起121b、122b的情况。
在第一模具121以及第二模具122设置未图示出的温度调节机构，第一模具121以及第二模具122的温度被保持在与熔融玻璃LG的玻璃转化温度（Tg）相比充分低的温度。另外，在模压成形工序中，没有必要使脱模材附着在第一模具121以及第二模具122。
另外，在模压成形料滴GG时的第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的相向位置的温度差和模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间存在相关关系。也就是说，第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的相向位置的温度差越小，模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度越良好。这是因为，由于在一对模具之间的温度更接近的情况下，在高温的料滴GG与模具的内周面接触，急剧地进行冷却时，实现热均衡，所以，能够进一步抑制能够以在冷却阶段的一对模具间的微小的热变形程度的差为起因所产生的玻璃毛坯的平面度的低下。
因此，若该相关关系已知，则知道用于实现磁盘用玻璃基板所要求的平面度的一对模具间（第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a之间）的温度差（绝对值）的最大值。因此，通过将一对模具间的温度差控制成在该最大值以下，能够实现磁盘用玻璃基板所要求的平面度。例如，若使磁盘用玻璃基板所要求的平面度为4μm，则能够在使一对模具间的上述温度差在10℃以内的状态下进行模压成形。
模具间的温度差是在从第一模具121的内周面121a以及第二模具122的内周面122a的各自的表面向模具的内部移动1mm的地点，也就是内周面121a以及内周面122a的相互相向的地点（例如，与玻璃毛坯的中心位置对应的地点、内周面121a以及内周面122a的中心点），使用热电偶计量时的温度的差量。测定模具间的温度差的时机是料滴与第一模具121以及第二模具122接触的时点。
上述温度差可以与磁盘用玻璃基板所要求的平面度相应地根据上述相关关系适宜决定，也可以根据下面的观点决定。
本实施方式的磁盘用玻璃基板由于作为最终制品，也就是磁盘，在硬盘装置内被轴支承并装入热膨胀系数高的金属制的转轴，所以，优选磁盘用玻璃基板的热膨胀系数也高到与转轴相同的程度。为此，磁盘用玻璃基板的组成被确定为磁盘用玻璃基板的热膨胀系数高。磁盘用玻璃基板的热膨胀系数例如在30×10-7～100×10-7（K-1）的范围内，优选在50×10-7～100×10-7（K-1）的范围内。更优选在80×10-7（K-1）以上。上述热膨胀系数是使用磁盘用玻璃基板的温度100度和温度300度时的线膨胀率算出的值。在热膨胀系数例如为不足30×10-7（K-1）或比100×10-7大的情况下，与转轴的热膨胀系数的差变大而不优选。从这点来看，在制作热膨胀系数高的磁盘用玻璃基板时，在上述模压成形工序中，使围绕玻璃毛坯的主表面的温度条件一致。作为一例，优选进行温度管理成第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的温度实质上相同。在进行温度管理成温度实质上相同的情况下，例如优选温度差在5度以下。更优选上述温度差在3度以下，尤其优选在1度以下。
另外，在本实施方式中，由于使用水平模压，所以，能够模压成形宽范围的粘度的玻璃，尤其适合高粘度的玻璃。这是由于因在竖直方向下落的途中进行模压，使得粘度比较高的玻璃的正圆度良好。具体地说，优选为500泊以上。另外，由于若在2000泊以上，则难以薄板化，所以，不优选。
在装置101中，从料滴GG与第一模具121的内周面121a或第二模具122的内周面122a接触到成为第一模具121和第二模具122将料滴GG完全关入的状态为止的时间极短，约0.1秒以内（约0.06秒）。为此，料滴GG在极短时间内沿第一模具121的内周面121a以及第二模具122的内周面122a扩开，被成形为大致圆形状，进而，被急剧冷却，作为非晶质的玻璃固化。据此，制作玻璃毛坯G。另外，在本实施方式中成形的玻璃毛坯G的大小还取决于作为目的的磁盘用玻璃基板的大小，例如为直径20～200mm左右。
另外，在本实施方式的模压成形方法中，由于以第一模具121的内周面121a以及第二模具122的内周面122a被形状转印的形式形成玻璃毛坯G，所以，优选一对模具的内周面的平面度以及平滑性与作为目的的磁盘用玻璃基板的平面度以及平滑性等同。在这种情况下，能够在进行模压成形后，不需要相对于玻璃毛坯G的表面加工工序，即、磨削以及研磨工序。即、在本实施方式的模压成形方法中成形的玻璃毛坯G也可以是与最终得到的磁盘用玻璃基板的目标板厚相同的板厚。例如，玻璃毛坯G为厚度0.2～1.1mm的圆形状的板。内周面121a以及内周面122a的表面粗糙度在面内实质上相同，玻璃毛坯G的算术平均粗糙度Ra优选调整为0.0005～0.05μm，更优选调整为0.001～0.1μm。玻璃毛坯G的表面粗糙度因内周面121a以及内周面122a的表面性状被形状转印，而在面内成为相同的表面粗糙度。
另外，通过使由模压成形得到的玻璃毛坯的表面粗糙度Ra为0.2μm以下，能够不经后述的磨削工序，实施研磨工序。若表面粗糙度Ra比0.2μm大，则在将表面粗糙度研磨到最终充分小的水平（例如，Ra为0.2nm以下）时，通过使研磨加工余量增多，产生研磨时间过长，生产性低下，进而，端部形状恶化等问题。
在第一模具121和第二模具122被关闭后，模压单元120快速向退让位置移动，反之，其它的模压单元130向捕捉位置移动，由该模压单元130进行料滴GG的模压。
在模压单元120移动到退让位置后，到玻璃毛坯G被充分冷却为止（到至少成为比屈服点低的温度为止），第一模具121和第二模具122维持关闭的状态。此后，第一驱动部123以及第二驱动部124被驱动，第一模具121和第二模具122分离，玻璃毛坯G在模压单元120离开并下落，由处于下部的输送器171挡住（参见图3）。
在装置101中，如上所述，在0.1秒以内（约0.06秒）这样的极短时间期间，第一模具121和第二模具122被关闭，熔融玻璃大致同时与第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a整体接触。为此，不存在第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a被局部加热的情况，基本不会在内周面121a和内周面122a产生应变。另外，由于在热从熔融玻璃向第一模具121以及第二模具122移动前，熔融玻璃被成形为圆形状，所以，被成形的熔融玻璃的温度分布成为大致一样的温度分布。为此，在冷却熔融玻璃时，玻璃材料的收缩量的分布小，不存在大幅产生玻璃毛坯G应变的情况。因此，所制作的玻璃毛坯G的主表面的平面度比通过以往的上下模的模压成形制作的玻璃毛坯提高。
另外，在图4所示的例中，通过使用切割刀161以及162切割流出的熔融玻璃LG来形成大致球状的料滴GG。但是，在熔融玻璃材料LG的粘度相对于欲切出的料滴GG的体积小的情况下，仅切割熔融玻璃LG，被切割的玻璃没有成为大致球状，没有作出料滴。在这种情况下，使用用于作出料滴的料滴形成模。
图5（a）～（c）是说明图4所示的实施方式的变形例的图。在该变形例中，使用料滴形成模。图5（a）是表示作出料滴前的状态的图，图5（b）是表示由切割单元160以及料滴形成模180作出了料滴GG的状态的图，图5（c）是表示模压成形料滴GG，作出玻璃毛坯G的状态的图。
如图5（a）所示，模压单元120通过将块体181、182在熔融玻璃LG的路径上关闭来将熔融玻璃LG的路径堵塞，在由块体181、182作出的凹部180C，挡住由切割单元160切割的熔融玻璃LG的块。此后，如图5（b）所示，块体181、182被打开，据此，在凹部180C成为球状的熔融玻璃LG一下子朝向模压单元120下落。在该下落时，料滴GG因熔融玻璃LG的表面张力而成为球状。球状的料滴GG在下落途中，如图5（c）所示，由第一模具121和第二模具122夹着，被模压成形，据此，制作圆形状的玻璃毛坯G。
或者如图6（a）～（d）所示，装置101也可以不使用图5（a）～（c）所示的切割单元160，而是使用使料滴形成模180沿熔融玻璃LG的路径向上游侧方向或者下游侧方向移动的移动机构。图6（a）～（d）是说明使用料滴形成模180的变形例的图。图6（a）、（b）是表示作出料滴GG前的状态的图，图6（c）是表示由料滴形成模180作出了料滴GG的状态的图，图6（d）是表示模压成形料滴GG，作出玻璃毛坯G的状态的图。
如图6（a）所示，由块体181、182作出的凹部180C将从熔融玻璃流出口111流出的熔融玻璃LG挡住，如图6（b）所示，在规定的时机，使块体181、182迅捷地向熔融玻璃LG流动的下游侧移动。据此，熔融玻璃LG被切割。此后，在规定的时机，如图6（c）所示，块体181、182分离。据此，由块体181、182保持的熔融玻璃LG一下子下落，料滴GG因熔融玻璃LG的表面张力而成为球状。球状的料滴GG在下落途中，如图6（d）所示，由第一模具121和第二模具122夹着，被模压成形，据此，制作圆形状的玻璃毛坯G。
图7（a）～（c）是说明替代料滴GG，使由未图示出的软化炉加热的光学玻璃的块CP下落，从下落途中的两侧由模具221、222夹着进行模压成形的变形例的图。图7（a）是表示成形加热了的光学玻璃的块前的状态的图，图7（b）是表示使光学玻璃的块下落的状态的图，图7（c）是表示模压成形光学玻璃的块，作出玻璃毛坯G的状态的图。
如图7（a）所示，装置201由玻璃材把持机构212将光学玻璃的块CP向模压单元220的上部的位置运送，在该位置，如图7（b）所示，将由玻璃材把持机构212对光学玻璃的块CP的把持释放，使光学玻璃的块CP下落。光学玻璃的块CP在下落途中，如图7（c）所示，由第一模具221和第二模具222夹着，成形圆形状的玻璃毛坯G。因为第一模具221以及第二模具222结构以及作用与图5所示的第一模具121以及第二模具122相同，所以，省略其说明。
[模压成形方法的变形例]
参见图8，说明上述模压成形方法的变形例。
在该变形例中，如图8（a）所示，在图4（a）～（c）所示的第一模具121以及第二模具122中，相对于作为平面状的模压成形面的内周面121a以及内周面122a的每一个在相反侧的外周面121c以及122c的外周缘，设置散热片121d、122d，以便将圆板状的玻璃毛坯的外周包围。通过在第一模具121以及第二模具122设置散热片121d、122d，在模压成形中的第一模具121以及第二模具122产生图8（b）所示那样的热的流动，在模压成形中的玻璃毛坯的外周侧的部分和中心部侧，冷却产生差。据此，模压成形后的玻璃毛坯G如图8（c）所示，成形的玻璃毛坯G的截面形状为板厚随着从外周侧趋向中心侧而减少的凹形状的玻璃毛坯。即使在这种情况下，玻璃毛坯G的平面度也能够成为给予磁盘用玻璃基板的目标平面度，例如4μm以下。这是因为，在模压成形玻璃毛坯G时，在从模具的模压的开始到被模压的玻璃毛坯G的温度下降到应变点为止的期间，模具的两侧的内周面121a以及内周面122a的与玻璃毛坯接触的部分的温度在内周面121a以及内周面122a之间实质上相同。
另外，有意地成形凹形状的玻璃毛坯是为了有效地进行后工序的基于固定磨粒的磨削。也就是说，在玻璃毛坯的表面的平坦度过于良好的情况下，金刚石片材等的固定磨粒在玻璃毛坯的表面上打滑，产生磨削实质上没有进行的情况，但是，通过使表面成为凹形状，在磨削时，玻璃毛坯的板厚厚的外周边缘部容易成为基于金刚石片材等的固定磨粒的磨削加工的起点。另外，能够将磨削中的加工余量抑制在与厚度均匀的玻璃毛坯相比的大约一半。再有，与平面度相比，还能够改善周期长的表面凹凸的玻璃毛坯的翘曲。
具有图8（c）所示那样的凹形状的截面的玻璃毛坯G的板厚中，最大厚度和最小厚度的差例如为8μm以下。玻璃毛坯G的板厚例如能够使用千分尺测定。
（b）划线工序（步骤S20）
接着，对划线工序进行说明。在模压成形工序后，在划线工序中，相对于所成形的玻璃毛坯G进行划线。
这里，划线是指为了将被成形的玻璃毛坯G做成规定的尺寸的环形状，而在玻璃毛坯G的表面由超硬合金制或者由金刚石粒子构成的划线器设置两个同心圆（内侧同心圆以及外侧同心圆）状的切割线（线状的切痕）的情况。被划线成两个同心圆的形状的玻璃毛坯G被局部加热，外侧同心圆的外侧部分以及内侧同心圆的内侧部分因玻璃毛坯G的热膨胀的差异而被除去。据此，得到圆环状的玻璃基板。
另外，通过相对于玻璃毛坯使用空心钻等形成圆孔，也能够得到圆环状的玻璃基板。
（c）形状加工工序（步骤S30）
接着，对形状加工工序进行说明。在形状加工工序中，包括针对划线工序后的玻璃基板的端部的倒角加工（外周端部以及内周端部的倒棱加工）。倒角加工是在划线工序后的玻璃基板的外周端部以及内周端部，在主表面和与主表面垂直的侧壁部之间，由金刚石磨石实施倒棱的形状加工。倒棱角度相对于主表面例如为40～50度。
（d）由固定磨粒进行的磨削工序（步骤S40）
在由固定磨粒进行的磨削工序中，使用具备行星齿轮机构的两面磨削装置，相对于形状加工工序后的玻璃基板的主表面进行磨削加工（机械加工）。基于磨削的加工余量例如为几个μm～100μm左右。两面磨削装置具有上下一对平台（上平台以及下平台），玻璃基板被夹持在上平台以及下平台之间。而且，通过移动操作上平台或下平台的任意一方或双方，使玻璃基板和各平台相对移动，据此，能够磨削该玻璃基板的两主表面。
另外，在本实施方式的模压成形工序中，由于能够制作平面度极高的玻璃毛坯，所以，也可以不进行该磨削工序。另外，也可以在磨削工序前，进行使用了与在磨削工序中使用的装置相同的两面磨削装置以及氧化铝系游离磨粒的抛光工序。
（e）端面研磨工序（步骤S50）
接着，相对于磨削工序后的玻璃基板进行端面研磨。
在端面研磨中，通过刷式研磨对玻璃基板的内周端面以及外周端面进行镜面精加工。此时，使用作为游离磨粒含有氧化铈等的微粒子的浆料。通过进行端面研磨，将在玻璃基板的端面上的附着灰尘等的污染、损毁或者伤痕等损伤除去，据此，能够防止热粗糙的产生、防止成为钠、钾等腐蚀的原因的离子析出的产生。
（f）第一研磨工序（步骤S60）
接着，对端面研磨工序后的玻璃基板的主表面实施第一研磨。基于第一研磨的加工余量例如为几μm～50μm左右。第一研磨以除去因由固定磨粒进行的磨削而残留在主表面上的伤痕、应变，调整微小的表面凹凸（微波纹、粗糙度）为目的。在第一研磨工序中，使用与在磨削工序使用的部件构造相同的两面研磨装置，一面给予研磨液，一面进行研磨。使研磨液含有的研磨剂例如是氧化铈磨粒或者氧化锆磨粒。
另外，在第一研磨工序中，针对玻璃基板的主表面进行研磨，使表面粗糙度（Ra）在0.5nm以下，并且使微波纹（MW-Rq）在0.5nm以下。这里，微波纹能够用作为主表面整个面的半径14.0～31.5mm的区域中的波长带宽100～500μm的粗糙度被算出的RMS（Rq）值表示，例如，能够使用普利特（ポリテック）公司制的Model-4224计量。
表面粗糙度用由JIS B0601：2001规定的算术平均粗糙度Ra表示，在为0.006μm以上，200μm以下的情况下，例如，用三丰（ミツトヨ）公司制的粗糙度测定机SV-3100测定，能够用由JIS B0633：2001规定的方法算出。其结果为，在粗糙度为0.03μm以下的情况下，例如，能够用日本Veeco公司制的扫描型探针显微镜（原子间力显微镜；AFM）纳秒示波器计量，用JIS R1683：2007规定的方法算出。在本申请中，能够使用在1μm×1μm见方的测定区域，以512×512像素的分辨率测定时的算术平均粗糙度Ra。
（g）化学强化工序（步骤S70）
接着，相对于第一研磨工序后的玻璃基板，进行化学强化处理。
作为化学强化液，例如能够使用硝酸钾（60重量%）和硫酸钠（40重量%）的混合液等。在化学强化工序中，将化学强化液加热到例如300℃～400℃，在将清洗了的玻璃基板预热到例如200℃～300℃后，使玻璃基板浸渍在化学强化液中例如3小时～4小时。
通过将玻璃基板浸渍在化学强化液，玻璃基板的表层的锂离子以及钠离子被分别置换为化学强化液中的离子半径相对大的钠离子以及钾离子，据此，在表层部分形成压缩应力层，玻璃基板被强化。另外，清洗被化学强化处理了的玻璃基板。例如，在由硫酸清洗后，由纯水等清洗。
（h）第二研磨工序（步骤S80）
接着，对化学强化工序后的玻璃基板实施第二研磨。基于第二研磨的加工余量例如为1μm左右，具体地说，优选在0.5～2μm的范围内。若加工余量比该范围小，则存在不能充分降低表面粗糙度的情况。另外，若比该范围大，则存在导致端部形状的恶化（下垂等）的情况。第二研磨以主表面的镜面研磨为目的。在第二研磨中，例如使用在第一研磨中使用的研磨装置。此时，与第一研磨不同之处在于游离磨粒的种类以及粒子尺寸不同和树脂抛光机的硬度不同。
作为用于第二研磨的游离磨粒，例如使用混浊于浆料的硅胶等的微粒子（粒子尺寸：直径10～50nm程度）。
通过使用中性洗涤剂、纯水、IPA等清洗被研磨了的玻璃基板，得到磁盘用玻璃基板。
虽然并非必须实施第二研磨工序，但是，在能够使玻璃基板的主表面的表面凹凸的水平成为更良好的水平这点，优选实施。通过实施第二研磨工序，能够使主表面的粗糙度（Ra）在0.15nm以下，更优选在0.1nm以下，且使上述主表面的微波纹（MW-Rq）在0.3nm以下，更优选在0.1nm以下。
如上面说明的那样，根据本实施方式的磁盘用玻璃基板的制造方法，包括使用一对模具对熔融玻璃的块模压成形的模压成形工序。为此，若将一对模具的内周面的表面粗糙度设定成良好的水平（例如，磁盘用玻璃基板所要求的表面粗糙度），则其表面粗糙度作为通过模压成形得到的玻璃毛坯的表面粗糙度被形状转印，因此，能够使玻璃毛坯的表面粗糙度为良好的水平。另外，在模压成形工序中，也可以根据模压成形熔融玻璃时的一对模具的相向位置的温度差和模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间的相关关系，求出能够实现磁盘用玻璃基板所要求的平面度的一对模具的温度差，一面控制一对模具温度，以便使一对模具的温度在上述求出的温度差以内，一面进行模压成形。因此，由于通过本实施方式的模压成形工序得到的玻璃毛坯能够使其主表面的表面粗糙度以及平面度成为磁盘用玻璃基板所要求的水平，所以，不需要作为后工序的主表面的加工工序。虽然相对于以该玻璃毛坯为基础被形状加工成规定的形状的玻璃基板实施化学强化，但是，在本实施方式中，不存在因化学强化而相对于玻璃基板的平面度使之恶化的情况。为此，最终得到的磁盘用玻璃基板成为薄型且具备高的机械强度，且具有比以往高的平面度的玻璃基板。
[磁盘]
经过上面的各工序制作磁盘用玻璃基板。使用该磁盘用玻璃基板，像下述那样得到磁盘。
磁盘例如做成在玻璃基板的主表面上按照从靠近主表面开始的顺序至少叠层附着层、衬底层、磁性层（磁记录层）、保护层、润滑层的结构。
例如，将基板导入进行了抽真空的成膜装置内，通过DC磁控溅射法在Ar环境中依次在基板主表面上成膜附着层到磁性层。作为附着层，例如能够使用CrTi，作为衬底层例如能够使用CrRu。作为磁性层例如能够使用CoPt系合金。另外，也可以形成L10有序构造的CoPt系合金、FePt系合金，作为热辅助磁记录用的磁性层。在上述成膜后，例如通过CVD法使用C2H4，成膜保护层，接着，通过进行向表面导入氮的氮化处理，能够形成磁记录媒体。此后，例如将PFPE（全氟聚醚）用浸涂法涂抹在保护层上，据此，能够形成润滑层。
实施例
下面，通过实施例进一步说明本发明。但是，本发明并非是被实施例所示的样态限定的发明。
（1）熔融玻璃的制作
为了得到下面的组成的玻璃，称量并混合原料，做成调合原料。将该原料投入熔融容器，加热、熔融，并澄净、搅拌，制作不含泡、未熔解物的均质的熔融玻璃。在得到的玻璃中看不出泡、未熔解物、结晶的析出、构成熔融容器的耐火物、白金的混入物。
[玻璃的组成1]
是由换算为氧化物基准，以摩尔%表示由具有SiO250～75%、Al2O31～15%、从Li2O、Na2O以及K2O选择的至少一种的成分合计为5～35%、从MgO、CaO、SrO、BaO以及ZnO选择的至少一种的成分合计为0～20%、以及从ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5以及HfO2选择的至少一种成分合计为0～10%的组成构成的非晶的铝硅酸盐玻璃。
准备上述熔融玻璃，使用本发明的模压成形方法（使用图3、图4的装置的方法），制作直径75mm、厚度0.9mm的玻璃毛坯。从熔融玻璃流出口111排出的熔融玻璃材料LG的温度为1300℃，此时的熔融玻璃材料LG的粘度为700泊。另外，第一模具以及第二模具的内周面的表面粗糙度（算术平均粗糙度Ra）为0.01μm～0.1μm。
从熔融玻璃流出口111排出的熔融玻璃材料LG被切割单元160切割,形成直径约20mm的料滴GG。料滴GG是一面由模压单元以载荷3000kgf模压，直至其温度在熔融玻璃材料的玻璃转化温度（Tg）以下（约10秒），一面被冷却，形成直径75mm的玻璃毛坯。
在该实施例中，作为一例，使通过模压成形工序成形的玻璃毛坯的目标平面度（玻璃毛坯所要求的平面度）在8μm以下。这里，使玻璃毛坯的目标平面度在8μm以下的原因是假想为了在作为最终制品的磁盘被搭载在硬盘装置上时防止头的接触而使磁盘的目标平面度在4μm的情况。由于在磁盘用玻璃基板上成膜的前后，平面度没有变化，所以，若使磁盘用玻璃基板的平面度在4μm以下，则能够使磁盘的平面度在4μm以下，但是，若通过模压成形工序成形的玻璃毛坯的平面度超过8μm，则即使在进行了作为后工序的磨削工序的情况下，也难以使磨削工序后的玻璃基板的平面度在4μm以下。因此，使玻璃毛坯的目标平面度在8μm以下。另外，由于若使通过模压成形工序成形的玻璃毛坯的平面度在4μm以下，则即使省略作为后工序的磨削工序，也能够使磁盘的平面度在4μm以下，所以，进一步被优选。
本实施例中，由于发现满足上述玻璃毛坯的目标平面度的一对模具的温度差的条件，所以，使第一模具的温度一定，为470℃，使第二模具的温度在450～490℃变化，测定所得到的玻璃毛坯的平面度。另外，使模具的最低温度为450℃的原因是，若不足450℃，则在模压时存在玻璃裂开的可能性。
[实施例的玻璃毛坯的测定]
针对通过实施例制作的直径75mm的玻璃毛坯，测定平面度以及表面粗糙度（算术平均粗糙度Ra）。
平面度能够作为在圆板状的玻璃毛坯的主表面，法线轴方向的最低位置和最高位置的高度差来定义，例如，使用Nidek公司制的平坦度测量仪FT-900测定。表1所示的平面度的评价基准如下。在下面的基准中，在若玻璃毛坯的平面度在8.0μm以下，则能够通过磨削工序将平面度改善到作为磁盘用玻璃基板的目标平面度的4μm以下的水平这方面好。另外，若玻璃毛坯的平面度在4.0μm以下，则即使省略磨削工序，也能够达到磁盘用玻璃基板的目标平面度，因此，成本降低，更好。
○○○：平面度在2.0μm以下
○○：平面度比2.0μm大，在4.0μm以下
○：平面度比4.0μm大，在8.0μm以下
×：平面度比8.0μm大
表面粗糙度用由JIS B0601：2001规定的算术平均粗糙度Ra表示，在为0.006μm以上200μm以下的情况下，例如，用三丰公司制的粗糙度测定机SV-3100测定，能够用由JIS B0633：2001规定的方法算出。在其结果为粗糙度在0.03μm以下的情况下，例如，能够用日本Veeco公司制的扫描型探针显微镜（原子间力显微镜；AFM）纳秒示波器计量，通过由JIS R1683：2007规定的方法算出。在本申请中，能够使用在10μm×10μm见方的测定区域，以256×256像素的分辨率测定时的算术平均粗糙度Ra。其结果为，就玻璃毛坯的表面粗糙度而言，在所有的例中，都在0.05μm以下。这是因为，由于第一模具以及第二模具的内周面与模具的温度无关地被形状转移到玻璃毛坯，所以，玻璃毛坯的表面粗糙度与第一模具以及第二模具的内周面的表面粗糙度等同。另外，若算术平均粗糙度Ra在0.1μm以下，则通过省略针对主表面的磨削工序，直接进行研磨工序，能够得到作为目标的磁盘用玻璃基板的表面性状。
另外，在本实施方式的模压成形方法中，由于与以往的直接模压法不同，在从熔融玻璃与模具开始接触，在极短期间完成成形，所以，即使使表面粗糙度低下，也不会产生玻璃料滴向模具的烧结。为此，本实施方式的模压成形方法在为了得到所希望的表面粗糙度的玻璃毛坯而能够降低模具的表面粗糙度这点优选。
[表1]
第一模具和第二模具的温度差（※） 平面度 平面度的评价
样本1 +20℃ 15.8μm ×
样本2 -20℃ 16.1μm ×
样本3 +11℃ 8.9μm ×
样本4 -11℃ 8.8μm ×
样本5 +9℃ 7.5μm ○
样本6 -9℃ 7.0μm ○
样本7 +5℃ 3.9μm ○○
样本8 +1℃ 1.0μm ○○○
（※）第一模具和第二模具的温度差是从第二模具的温度减去第一模具的温度（这里为470℃）的值。
从表1可知，在模压成形了各样本的玻璃毛坯时的一对模具间的温度差和各样本的玻璃毛坯的平面度之间存在相关关系。若将表1的各样本的温度差和平面度的关系绘图，则如图9所示，成为大致比例关系。也就是说，若使横轴的温度差为X[℃]，使纵轴的平面度为Y[μm]，则大概Y＝0.8X的关系成立。另外，从表1以及图9可知，尤其是在使温度差在1℃以下的情况下，得到最高的平面度。
另外，参见图9，可知为了满足玻璃毛坯的目标平面度（在本实施例中为8μm以下），只要使第一模具和第二模具的温度差在约10℃以下即可。另外，如上所述，可知为了节省模压成形后的磨削工序，只要使玻璃毛坯的平面度在4μm以下即可，为了得到该平面度，只要使第一模具和第二模具的温度差在约5℃以下即可。
另外，针对其他组成的玻璃组成（下面的玻璃的组成2、玻璃的组成3），也同样地测定第一模具和第二模具的温度差和平面度。另外，使第一模具的温度为比各自的玻璃的Tg低30℃的温度，与表1同样地设定第一模具和第二模具的温度差。其结果为，模具的温度差和平面度得到相同程度的相关关系。
[玻璃的组成2]
由下面的组成构成的非晶的铝硅酸盐玻璃（Tg：630℃、100～300℃时的平均线膨胀系数为80×10-7/℃）。
以摩尔%表示，含有
SiO256～75%、
Al2O31～11%、
Li2O超过0%，且在4%以下、
Na2O在1%以上，且不足15%、
K2O在0%以上，且不足3%，
并且实质上不含BaO，
从由Li2O、Na2O以及K2O构成的群选出的碱金属氧化物的合计含有量为6～15%的范围，
Li2O含有量相对于Na2O含有量的摩尔比（Li2O/Na2O）不足0.50，
K2O含有量相对于上述碱金属氧化物的合计含有量的摩尔比｛K2O/（Li2O＋Na2O＋K2O）｝为0.13以下，
从由MgO、CaO以及SrO构成的群选出的碱土类金属氧化物的合计含有量为10～30%的范围，
MgO以及CaO的合计含有量为10～30%的范围，
MgO以及CaO的合计含有量相对于上述碱土类金属氧化物的合计含有量的摩尔比｛（MgO＋CaO）/（MgO＋CaO＋SrO）｝为0.86以上，
上述碱金属氧化物以及碱土类金属氧化物的合计含有量为20～40%的范围，
MgO、CaO以及Li2O的合计含有量相对于上述碱金属氧化物以及碱土类金属氧化物的合计含有量的摩尔比｛（MgO＋CaO＋Li2O）/（Li2O＋Na2O＋K2O＋MgO＋CaO＋SrO）为0.50以上，
从由ZrO2、TiO2、Y2O3、La2O3、Gd2O3、Nb2O5以及Ta2O5构成的群选出的氧化物的合计含有量超过0%，且在10%以下，
上述氧化物的合计含有量相对于Al2O3含有量的摩尔比｛（ZrO2＋TiO2＋Y2O3＋La2O3＋Gd2O3＋Nb2O5＋Ta2O5）/Al2O3｝为0.40以上。
[玻璃的组成3]
由下面的组成构成的非晶的铝硅酸盐玻璃（Tg：680℃、100～300℃时的平均线膨胀系数为80×10-7/℃）。
以摩尔%表示，含有
SiO250～75%、
Al2O30～5%、
Li2O0～3%、
ZnO0～5%、
Na2O以及K2O合计3～15%、
MgO、CaO、SrO以及BaO合计14～35%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5以及HfO2合计2～9%，
摩尔比[（MgO＋CaO）/（MgO＋CaO＋SrO＋BaO）]为0.8～1的范围，且
摩尔比[Al2O3/（MgO＋CaO）]为0～0.30的范围内的玻璃。
[实施例的磁盘用玻璃基板的制作]
使用上述样本2、样本4、样本6、样本7的玻璃毛坯，仅不进行图2所示的步骤S40的工序，分别制作磁盘用玻璃基板。也就是说，不进行用于提高平面度的主表面的磨削工序，制作磁盘用玻璃基板。制作的磁盘用玻璃基板为公称2.5英寸尺寸（内径20mm、外径65mm、板厚0.8mm）。
另外，在制作上述磁盘用玻璃基板时，以下述条件进行第一研磨、第二研磨的各工序。
·第一研磨工序：使用氧化铈（平均粒子尺寸；直径1～2μm）、硬质尿烷垫研磨。加工余量10μm。
·第二研磨工序：使用硅胶（平均粒子尺寸；直径0.03μm）、软质聚氨酯垫研磨。加工余量1μm。
接着，在以样本2、样本4、样本6、样本7的玻璃毛坯为基础制作的磁盘用玻璃基板上成膜记录层，制作磁盘（依次分别为样本2A、样本4A、样本6A、样本7A）。
另外，记录层相对于磁盘用玻璃基板的成膜像下面那样进行。首先，使用进行了抽真空的成膜装置，通过DC磁控溅射法在Ar环境中依次在基板上成膜附着层/软磁性层/前衬底层/衬底层/主记录层/辅助记录层/保护层/润滑层。另外，在未事先说明的情况下，以成膜时Ar气压为0.6Pa来进行。作为附着层，成膜10nm的Cr-50Ti。作为软磁性层，隔着0.7nm的Ru层，分别成膜20nm的92Co-3Ta-5Zr。作为前衬底层，成膜8nm的Ni-5W。作为衬底层，在以0.6Pa成膜10nm的Ru的基础上，以5Pa成膜10nm的Ru。作为主记录层，以3Pa成膜15nm的90（72Co-10Cr-18Pt）-5（SiO2）-5（TiO2）。作为辅助记录层，成膜6nm的62Co-18Cr-15Pt-5B。作为保护层，通过CVD法使用C2H4成膜4nm，将表层氮化处理。作为润滑层，通过浸涂法，使用PFPE形成1nm。
[实施例的磁盘的评价]
以样本2A、样本4A、样本6A、样本7A的磁盘为对象，使用久保田（クボタコンプス）公司制的HDF测试器（Head/Disk FlyabilityTester），进行DFH（Dynamic Fly height）头元件部的触地试验（DFH触地试验）。该试验是通过DFH机构将元件部逐渐推出，由AE（Acoustic Emission）传感器检测与磁盘表面的接触，据此，评价头元件部与磁盘表面接触时的推出量的试验。头使用面向320GB/P磁盘（2.5英寸尺寸）的DFH头。在没有元件部的推出时的上浮量为10nm。即、例如在推出量为8nm时，头上浮量为2nm。另外，其它的条件设定如下。
·评价半径：22mm
·磁盘的转速：5400rpm
·温度：25℃
·湿度：60%
DFH触地试验的结果表示在表2。另外，在表2中，与头元件部的推出量相应地评价如下。
○：推出量≥8nm
×：推出量<8nm
[表2]
推出量的评价
样本2A ×
样本4A ×
样本6A ×
样本7A ○
另外，样本6A、7A的推出量在7nm以上，样本2A、4A的推出量不足7nm。
就样本7A而言，成为基础的样本7的玻璃毛坯如表1所示，是作为磁盘用玻璃基板的目标平面度的4.0μm以下的平面度。为此，以样本7的玻璃毛坯为基础未经磨削工序制作的作为磁盘的样本7A也为4.0μm以下的平面度。其结果为，就样本7A而言，即使省略了磨削工序，也能够使DFH头的推出量足够大。即、针对样本7A，可以确认能够制造即使省略磨削工序，平面度、表面粗糙度也均良好，且在媒体化时得到良好的DFH触地试验结果的磁盘用玻璃基板。
<第二实施方式>
在本实施方式中，就磁盘用玻璃毛坯的制造方法的模压成形工序以外而言，与第一实施方式相同，省略重复说明。在本实施方式中，在磁盘用玻璃毛坯的制造方法中的模压成形工序中进行模具的均热化处理这点，与第一实施方式不同。
[模具的均热化处理]
在本实施方式的模压成形工序中，在连续切割熔融玻璃材料LG，使料滴GG下落，制作玻璃毛坯G时，在某个料滴GG的模压成形和其下一个料滴GG的模压成形之间的时机，进行模具的均热化处理（均热化工序）。参见图10～12，对该模具的均热化处理进行说明。图10是用于说明本实施方式的模压成形中的模具的均热化处理的图。图11以及图12分别是举例表示模具的均热化处理前后的一对模具的每一个的模压成形面的温度变化的图。
图10的（a）～（d）依次表示从图4所示的料滴GG的模压成形到其下一个料滴GG的模压成形为止的处理。图10（a）与图4（c）相同。在图10（a）中，在通过模压料滴成形玻璃毛坯G后，进行开模，被成形的玻璃毛坯G向竖直下方下落（图10中未图示）。此后，如图10（b）所示，例如，从下方向第一模具121以及第二模具122之间导入被设定成规定的温度的均热材料H。再有，如图10（c）所示，在将均热材料H导入模具内的状态下，将模具关闭，据此，均热材料H的两面与第一模具121的内周面121a以及第二模具122的内周面122a面接触。另外，该面接触也可以像图10（c）所示那样，在模具的内周面（模压形成面）的整个面进行，但是，只要至少在内周面中的与料滴接触的部分进行即可。通过该面接触，一对模具的内周面均与均热材料H的温度相同，或者接近均热材料H的温度。该面接触一直持续到像图10（d）所示那样切割熔融玻璃，为模压成形而使新的料滴下落为止。模具和均热材料H的接触时间例如在1秒以上。在图10（d）的时点，再次开模，使均热材料H向下方退让。
如上所述，均热材料的使用目的是，在连续地逐渐模压成形料滴的情况下，在从某个料滴的模压成形到其下一个料滴的模压成形为止之间降低第一模具121以及第二模具122之间的温度差，更优选使温度差为零。均热材料优选例如由铜、铜合金、铝或铝合金等具有高的热传导率的材料形成，另外，具有可以与第一模具121的内周面121a以及第二模具122的内周面122a以均等的压力面接触的外形。由于若由高的热传导率的材料形成均热材料，则容易将均热材料整体设定为一样的温度，所以，容易使第一模具121以及第二模具122之间的温度一致。
均热材料的温度优选与在假设不使均热材料与模具接触地进行模压成形的情况下的料滴接触的部分的温度的上限值和下限值之间。由于通过使均热材料为该范围的温度，而成为模具和均热材料的接触开始时点的温度差小的状态，所以，能够在更短时间使第一模具121以及第二模具122之间的温度差接近零。
图11是表示在模具和均热材料开始接触的时点，均热材料的温度比模具的温度高的情况下的一对模具的每一个的模压成形面的温度变化（因模具的均热化处理而产生的温度变化）。
在图11中，时刻t0是表示在制作第N个玻璃毛坯时，开始料滴的模压的时点。另外，在图11中，设想在时刻t0，第一模具121和第二模具122的温度相同的情况。在时刻t0～t1的期间A，由于高热的料滴与双方的模具接触，热从料滴向双方的模具均等传递，所以，双方的模具的温度以相同的梯度上升。而且，在时刻t1的前后，玻璃毛坯从模具被取出。
在时刻t1～t2的期间B，将时刻t2时的温度作为峰值，模具的模压成形面逐渐被外气冷却，温度逐渐低下。此时，例如，即使一对模具在时刻t2为相同的峰值温度，也存在温度低下的梯度不同的情况。例如，是即使在成形玻璃毛坯后进行开模，玻璃毛坯依然粘贴在一方的模具的情况。此时，在从模具的内部朝向模压成形面排出空气，通过其排出力使玻璃毛坯从模具剥离的情况下，若该空气的排出相对于双方的模具进行，则在粘贴了玻璃毛坯的模具和未粘贴的模具之间，空气的排出对模具的冷却程度不同，因此，期间B中的每一个模具的温度的低下梯度逐渐不同。
在本实施方式中，例如，在时刻t2将均热材料导入模具内，在时刻t2～t3的期间C之间，使均热材料与一对模具面接触。据此，在时刻t3，第一模具121和第二模具122的温度上升到与均热材料相同的温度。而且，在时刻t3，为了制作下一个第N＋1个玻璃毛坯，开始料滴的下落以及模压。在时刻t3，因为模具间的温度为零，所以，第N＋1个玻璃毛坯的平面度为良好的平面度。
图12是表示在模具和均热材料开始接触的时点，均热材料的温度比模具的温度低的情况下的一对模具的每一个的模压成形面的温度变化（因模具的均热化处理而产生的温度变化）。在图12中，与图11不同，在时刻t3，第一模具121和第二模具122的温度下降到与均热材料相同的温度。因为只要在模压成形下一个料滴前使模具间的温度差降低或者为零即可，所以，如图11以及图12所示，通过均热材料使一对模具的温度上升或下降均可。
如第一实施方式中阐述的那样，在模压成形工序中，在模压成形熔融玻璃时的一对模具的相向位置的温度差和模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间存在相关关系，但是，在本实施方式中，通过执行上述模具的均热化处理，能够使连续地进行的模压成形的初期的模具间的温度差低下或为零，因此，在连续制作玻璃毛坯时，总是能够良好地保持玻璃毛坯的平面度。
<第三实施方式>
在本实施方式中，除磁盘用玻璃毛坯的制造方法的模压成形工序以外，与第一实施方式相同，省略重复说明。在本实施方式中，在将剥离工序设置在磁盘用玻璃毛坯的制造方法中的模压成形工序中这点与第一实施方式不同。
在剥离工序中，在模压成形后，进行使玻璃毛坯G不粘贴在第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的任意一个，而是用于切实地向下方下落的处理。参见图13，对该剥离工序的处理进行说明。图13是举例表示作为剥离工序的处理，利用将气体向因模具的合模而形成的空间供给的方法的情况的图。
在剥离工序中，在两模具（第一模具121以及第二模具122）和玻璃毛坯G接触的状态下，将玻璃毛坯G的外周部的至少一部分局部冷却，容易将玻璃毛坯G从模具剥下。可以认为，这是由于玻璃毛坯G的外周端部被冷却而收缩，从模具的内周面略微卷曲，所以，在模具打开时，空气容易进入玻璃毛坯G和模具的内周面之间，容易剥下。
作为用于在两模具和玻璃毛坯G接触的状态下将玻璃毛坯G的外周部的至少一部分冷却的具体的方法的例，可以列举出向因模具的合模而形成的空间S供给气体（例如空气（air））的方法。也就是说，在关闭状态的第一模具121以及第二模具122（例如，图4（c）所示的合模状态）即将开始打开前或与开始打开的时机同时，向欲使玻璃毛坯G冷却的因模具的合模而形成的空间S供给气体（例如空气（air））。供给的气体的温度只要是使模压成形时的玻璃毛坯G局部冷却的温度即可，例如为常温。图13中，作为气体的供给样态，图示了（a）以及（b）两个样态。在图13（a）所示的样态中，与模具的内周面121a、122a平行地将气体向空间S导入（供给）。据此，玻璃毛坯G被局部冷却而热收缩，在此刚刚结束后或者同时，模具打开，因此，玻璃毛坯G没有粘贴在第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的任意一个，而是向竖直方向下落。
另外，在图13（a）中，表示在每一个模具从两个部位将气体经设置在每一个模具上的通路导入空间S的一例，但是，并不限定于此。由于空间S沿玻璃毛坯S的周围上以面包圈形状形成，所以，能够从模具周围上的任意的场所将气体导入空间S。
另外，气体向空间S导入的时机如上所述，是关闭的状态的模具即将开始打开前或与开始打开的时机同时，这里“即将开始前”例如是指与模具开始打开时机相比的前10～1000ms左右的时机。
另一方面，在图13（b）所示的样态中，气体经设置在每一个模具上的通路与模具的内周面121a、122a垂直（也就是在模压方向）被导入空间S。由于即使是这样的导入样态，相向地被导入的气体也在空间S的内部产生对流，产生气体朝向玻璃毛坯G的流动，所以，玻璃毛坯G被局部冷却而热收缩。因此，与图13（a）同样，在开模的同时，玻璃毛坯G没有粘贴在第一模具121的内周面121a和第二模具122的内周面122a的任意一个，而是向竖直方向下落。
在图13所示的剥离工序的处理中，优选从相对于一对模具的每一个成为对称的位置导入气体，被导入的气体在一对模具间为相同的量以及压力。另外，优选设置在一对模具的每一个上的气体供给用的通路的构造（路径、通路径等）在模具间对称。据此，能够从成形玻璃毛坯G到模具打开为止，消除气体的导入对模具间的温度差的影响。为此，能够避免伴随着上述剥离工序的执行，玻璃毛坯G的平面度因模具间的温度差增大而恶化的情况。
另外，如前所述，通过使模具的内周面121a以及内周面122a的表面粗糙度（Ra）在0.1μm以下，通过成形工序得到的玻璃毛坯G的表面粗糙度成为良好的水平。以往，若通过具备这样的小的表面粗糙度的内周面的模具成形，则在成形后，玻璃毛坯G容易粘贴在模具的内周面，但是，在本实施方式中，通过上述剥离工序，能够不会粘贴在任意一个模具的内周面地使模具下落。也就是说，根据上述剥离工序，能够兼顾使玻璃毛坯G的表面粗糙度低下这点和成形后不使玻璃毛坯粘贴在模具这点。也就是说，尤其是在要求小的表面粗糙度的玻璃毛坯的制造中，能够适合使用上述剥离工序。
如第一实施方式中阐述的那样，在模压成形工序中，在模压成形熔融玻璃时的一对模具的相向位置的温度差和模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间存在相关关系，但是，在本实施方式中，通过执行剥离工序的处理，能够切实地防止模压成形后玻璃毛坯粘贴在任意一个模具，且通过该剥离工序的处理，使模具间的温度差不会变大，因此，在连续制作玻璃毛坯时，能够避免玻璃毛坯的平面度恶化。
上面，对本发明的实施方式详细地进行了说明，但是，本发明的磁盘用玻璃毛坯的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃毛坯并不被上述实施方式限定，当然也可以在不脱离本发明的主旨的范围进行各种改进、变更。
符号说明
1：磁盘用玻璃基板；2：中心孔。

Claims (37)

1.一种磁盘用玻璃毛坯的制造方法，是包括使用一对模具模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，
得到模压成形上述熔融玻璃时的一对模具的在相向位置的温度差和在模压成形后得到的玻璃毛坯的平面度之间的相关关系，
根据上述相关关系，求出能够实现对玻璃毛坯所要求的平面度的上述一对模具的温度差，
在一对模具的温度在上述求出的温度差以内时，进行模压成形。
2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，对上述玻璃毛坯所要求的平面度，与能够在磁盘被搭载在硬盘装置上时防止头的接触的磁盘的平面度相等。
3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，使用上述一对模具对下落中的上述熔融玻璃的块从与其下落方向正交的方向进行模压成形。
4.如权利要求1至3中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，进行模压成形，以便上述模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具之间实质上成为相同的温度。
5.如权利要求1至4中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，使从玻璃毛坯与模具接触到离开为止的上述一对模具的温度为不足上述熔融玻璃的玻璃转化点（Tg）的温度。
6.如权利要求1至5中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，不使脱模材料附着在上述模具上地进行模压成形。
7.如权利要求1至6中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，模压成形后得到的玻璃毛坯的100℃～300℃时的热膨胀系数在30×10-7～100×10-7（K-1）的范围内。
8.如权利要求1至7中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在前述成形工序中，模压成形上述熔融玻璃，以便使玻璃毛坯的平面度在8μm以下。
9.一种磁盘用玻璃毛坯的制造方法，是包括使用一对模具模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，
在前述成形工序中，模压成形上述熔融玻璃，以便使上述一对模具的相向位置的温度差在10℃以内。
10.一种磁盘用玻璃毛坯的制造方法，是包括使用一对模具模压成形熔融玻璃的块的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，
在前述成形工序中，模压成形上述熔融玻璃，以便使玻璃毛坯的平面度在8μm以下。
11.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，相对于通过权利要求1至10中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法制造的玻璃毛坯，实施加工余量50μm以下的研磨加工，制造磁盘用玻璃基板。
12.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用通过权利要求1至10中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法得到的磁盘用玻璃毛坯，制造磁盘用玻璃基板。
13.一种磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，具有对与能够在磁盘被搭载在硬盘装置上时防止头的接触的磁盘所要求的平面度实质上相同的平面度。
14.如权利要求13所述的磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，通过模压成形制作。
15.如权利要求13或14所述的磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，前述平面度的在玻璃毛坯的主表面上选择直径65mm的区域进行测定时的值在4μm以下。
16.如权利要求13至15中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，一对主表面的表面粗糙度（Ra）在0.1μm以下。
17.如权利要求13至16中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，一对主表面的玻璃组成实质上相同。
18.如权利要求13至17中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，在玻璃毛坯的主表面上选择直径65mm的区域进行测定时的板厚的最大值和最小值的差在8μm以下。
19.如权利要求13至18中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯，其特征在于，玻璃毛坯的截面形状为板厚随着从外周侧趋向中心侧而减少。
20.一种磁盘用玻璃毛坯的制造方法，是包括通过使用一对模具对下落中的熔融玻璃从与下落方向正交的方向进行模压成形来成形板状的玻璃毛坯的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，
上述成形工序在从开模到模压成形新的熔融玻璃为止的过程中，具有用于降低上述一对模具间的温度差的均热化工序。
21.如权利要求20所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，上述均热化工序是使均热材料与上述一对模具的至少一方接触的工序。
22.如权利要求20或21所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，进行模压成形，以便使上述模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具间实质上成为相同的温度。
23.如权利要求20至22中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，使从玻璃毛坯与模具接触到离开为止的上述一对模具的温度为不足上述熔融玻璃的玻璃转化点（Tg）的温度。
24.如权利要求20至23中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，不使脱模材料附着在上述模具上地进行模压成形。
25.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，相对于通过权利要求20至24中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法制造的玻璃毛坯，实施加工余量50μm以下的研磨加工，制造磁盘用玻璃基板。
26.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用通过权利要求20至24中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法得到的磁盘用玻璃毛坯，制造磁盘用玻璃基板。
27.一种磁盘用玻璃毛坯的制造方法，是包括通过使用一对模具对下落中的熔融玻璃从与下落方向正交的方向进行模压成形来成形板状的玻璃毛坯的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，
在上述成形工序之后，在进行了使粘贴在上述模具上的玻璃毛坯不产生上述模具间的温度差地从模具剥离的剥离工序后，相对于下一个熔融玻璃进行上述成形工序。
28.如权利要求27所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，上述剥离工序在两模具和玻璃毛坯接触的状态下，将上述玻璃毛坯的外周部的至少一部分冷却。
29.如权利要求28所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，上述剥离工序通过相对于玻璃毛坯供给气体来将上述玻璃毛坯的外周端部的至少一部分冷却。
30.如权利要求29所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，供给上述气体的时机是关闭的状态的上述一对模具即将开始打开前或与开始打开的时机同时。
31.如权利要求27至30中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，进行模压成形，以便使上述模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具间实质上成为相同的温度。
32.如权利要求27至31中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，使从玻璃毛坯与模具接触到离开为止的上述一对模具的温度为不足上述熔融玻璃的玻璃转化点（Tg）的温度。
33.如权利要求27至32中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，在上述成形工序中，不使脱模材料附着在上述模具上地进行模压成形。
34.如权利要求27至33中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，上述模具的表面粗糙度（Ra）在0.1μm以下。
35.一种磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，是包括通过使用一对模具对下落中的熔融玻璃从与下落方向正交的方向进行模压成形来成形板状的玻璃毛坯的成形工序的磁盘用玻璃毛坯的制造方法，其特征在于，
上述一对模具的每一个具备用于将气体导入因模具的合模而形成的空间的通路，在上述成形工序中，在模具合模时，通过每一个模具的上述通路向上述空间供给气体。
36.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，相对于通过权利要求27至35中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法制造的玻璃毛坯，实施加工余量50μm以下的研磨加工，制造磁盘用玻璃基板。
37.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用通过权利要求27至35中的任一项所述的磁盘用玻璃毛坯的制造方法得到的磁盘用玻璃毛坯，制造磁盘用玻璃基板。
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