CN103383969B - 一种肖特基器件及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种肖特基器件,本发明的半导体器件具有沟槽结构的终端,简化了器件的制造流程,并且将结终端延伸结构引入到沟槽结构中,使得器件具有良好反向阻断特性。本发明还提供了一种肖特基器件的制备方法。
Description
技术领域
本发明涉及到一种肖特基器件,本发明还涉及一种肖特基器件的制备方法。
背景技术
功率半导体器件被大量使用在电源管理和电源应用上,特别涉及到肖特基结的半导体器件已成为器件发展的重要趋势,肖特基器件具有正向开启电压低开启关断速度快等优点。
肖特基二极管可以通过多种不同的布局技术制造,最常用的为平面布局,传统的平面肖特基二极管具有较为复杂的制造工艺,需要三次光刻腐蚀工艺完成器件的生产制造。
发明内容
本发明针对上述问题提出,提供一种肖特基器件及其制备方法。
一种肖特基器件,其特征在于:包括:衬底层,为半导体材料;漂移层,为第一传导类型的半导体材料,位于衬底层之上;沟槽结构,沟槽位于器件边缘漂移层中,沟槽内壁表面有绝缘材料,临靠沟槽底部区域设置有第二传导类型半导体材料;肖特基势垒结,位于沟槽终端结构包裹的漂移层表面。一种肖特基器件的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:在衬底层上通过外延生产形成第一传导类型的半导体材料层;在表面形成第一钝化层,在待形成沟槽区域表面去除第一钝化层;进行刻蚀半导体材料,形成沟槽;注入杂质,进行退火工艺;腐蚀去除器件表面第一钝化层;在器件表面淀积金属,进行烧结形成肖特基势垒结。
本发明的半导体器件具有沟槽结构的终端,简化了器件的制造流程,并且将结终端延伸结构引入到沟槽结构中,使得器件具有良好反向阻断特性。
附图说明
图1为本发明的一种肖特基器件剖面示意图;
其中,
1、衬底层;
2、二氧化硅;
3、第一导电半导体材料;
4、第二导电半导体材料;
5、肖特基势垒结;
10、上表面金属层;
11、下表面金属层。
具体实施方式
实施例1
图1为本发明的一种肖特基器件剖面图,下面结合图1详细说明本发明的半导体装置。
一种肖特基器件,包括:衬底层1,为N导电类型半导体硅材料,磷原子的掺杂浓度为1E19/CM3,在衬底层1下表面,通过下表面金属层11引出电极;第一导电半导体材料3,位于衬底层1之上,为N传导类型的半导体硅材料,磷原子的掺杂浓度为1E16/CM3;第二导电半导体材料4,位于沟槽底部,为P传导类型的半导体硅材料;肖特基势垒结5,位于第一导电半导体材料3的表面,为半导体硅材料与势垒金属形成的硅化物;二氧化硅2,位于沟槽内壁;器件上表面附有上表面金属层10,为器件引出另一电极。
其制作工艺包括如下步骤:
第一步,在衬底层1表面外延形成第一导电半导体材料层3;
第二步,表面淀积氮化硅,进行光刻腐蚀工艺,半导体材料表面去除部分氮化硅;
第三步,干法刻蚀,去除部分裸露半导体硅材料形成沟槽;
第四步,注入硼杂质,进行退火氧化工艺,形成第二导电半导体材料4;
第五步,腐蚀去除氮化硅;
第六步,在半导体材料表面淀积势垒金属,进行烧结形成肖特基势垒结5,然后在表面淀积金属形成上表面金属层10;
第七步,进行背面金属化工艺,在背面形成下表面金属层11,器件结构如图1所示。
通过上述实例阐述了本发明,同时也可以采用其它实例实现本发明,本发明不局限于上述具体实例,因此本发明由所附权利要求范围限定。
Claims (2)
1.一种肖特基器件,其特征在于:包括:
衬底层,为半导体材料;
漂移层,为第一传导类型的半导体材料,位于衬底层之上;
沟槽结构,沟槽位于器件边缘漂移层中,沟槽结构为具有双面侧壁的整个沟槽结构,沟槽内壁表面有氧化物绝缘材料,器件漂移层上表面不设置有绝缘材料,临靠沟槽底部区域设置有第二传导类型半导体材料,第二传导类型半导体材料不与器件漂移层上表面接触,沟槽底部的第二传导类型半导体材料为结终端延伸电荷补偿结构,在器件反向偏压时形成完全耗尽区域;
肖特基势垒结,位于沟槽结构包裹的漂移层表面。
2.如权利要求1所述的一种肖特基器件的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
1)在衬底层上通过外延生长形成第一传导类型的半导体材料层;
2)在表面形成氮化硅层,在待形成沟槽区域表面去除氮化硅层;
3)进行刻蚀半导体材料,形成沟槽,沟槽位于第一传导类型的半导体材料层中;
4)注入杂质,进行退火氧化工艺,形成沟槽内壁氧化物和沟槽底部第二导电半导体材料;
5)腐蚀去除器件表面氮化硅层;
6)在器件表面淀积金属,进行烧结形成肖特基势垒结。
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1529912A (zh) * | 2000-12-15 | 2004-09-15 | ͨ�ð뵼�幫˾ | 沟槽式肖特基势垒整流器及其制作方法 |
CN101371337A (zh) * | 2005-01-14 | 2009-02-18 | 国际整流器公司 | 具有不同的氧化物厚度的沟槽肖特基势垒二极管 |
CN101452967A (zh) * | 2007-11-30 | 2009-06-10 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 肖特基势垒二极管器件及其制作方法 |
CN101510557A (zh) * | 2008-01-11 | 2009-08-19 | 艾斯莫斯技术有限公司 | 具有电介质终止的超结半导体器件及制造该器件的方法 |
CN101800252A (zh) * | 2010-03-04 | 2010-08-11 | 无锡新洁能功率半导体有限公司 | 沟槽型肖特基势垒整流器及其制造方法 |
CN102013426A (zh) * | 2008-12-08 | 2011-04-13 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 具有肖特基势垒二极管的集成电路结构 |
CN102054877A (zh) * | 2009-10-28 | 2011-05-11 | 三菱电机株式会社 | 碳化硅半导体装置 |
CN102244106A (zh) * | 2011-06-29 | 2011-11-16 | 复旦大学 | 一种肖特基二极管 |
CN102326256A (zh) * | 2009-02-19 | 2012-01-18 | 飞兆半导体公司 | 用于改进沟槽屏蔽式半导体装置和肖特基势垒整流器装置的结构和方法 |
-
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1529912A (zh) * | 2000-12-15 | 2004-09-15 | ͨ�ð뵼�幫˾ | 沟槽式肖特基势垒整流器及其制作方法 |
CN101371337A (zh) * | 2005-01-14 | 2009-02-18 | 国际整流器公司 | 具有不同的氧化物厚度的沟槽肖特基势垒二极管 |
CN101452967A (zh) * | 2007-11-30 | 2009-06-10 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 肖特基势垒二极管器件及其制作方法 |
CN101510557A (zh) * | 2008-01-11 | 2009-08-19 | 艾斯莫斯技术有限公司 | 具有电介质终止的超结半导体器件及制造该器件的方法 |
CN102013426A (zh) * | 2008-12-08 | 2011-04-13 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 具有肖特基势垒二极管的集成电路结构 |
CN102326256A (zh) * | 2009-02-19 | 2012-01-18 | 飞兆半导体公司 | 用于改进沟槽屏蔽式半导体装置和肖特基势垒整流器装置的结构和方法 |
CN102054877A (zh) * | 2009-10-28 | 2011-05-11 | 三菱电机株式会社 | 碳化硅半导体装置 |
CN101800252A (zh) * | 2010-03-04 | 2010-08-11 | 无锡新洁能功率半导体有限公司 | 沟槽型肖特基势垒整流器及其制造方法 |
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