CN103221850B

CN103221850B - 热射线屏蔽材料

Info

Publication number: CN103221850B
Application number: CN201180055944.3A
Authority: CN
Inventors: 镰田晃; 清都尚治
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2010-11-22
Filing date: 2011-11-18
Publication date: 2015-05-13
Anticipated expiration: 2031-11-18
Also published as: CN103221850A; US20130260139A1; WO2012070477A1

Abstract

本发明提供可见光线透过性、电波透过性以及耐光性优异、可宽频带地屏蔽近红外线、近红外线的屏蔽率高的热射线屏蔽材料。本发明涉及具有含有银扁平颗粒与金属氧化物颗粒的热射线屏蔽层的热射线屏蔽材料。优选下述方式等：上述金属氧化物颗粒为锡掺杂氧化铟颗粒的方式；上述热射线屏蔽层为银扁平颗粒与金属氧化物颗粒混合分散在粘结剂内而成的方式；上述热射线屏蔽层为含有银扁平颗粒的含银扁平颗粒层与含有金属氧化物的含金属氧化物层层积而成的方式。

Description

热射线屏蔽材料

技术领域

本发明涉及一种热射线屏蔽材料，该热射线屏蔽材料的可见光线透过性、电波透过性以及耐光性优异，可宽频带地屏蔽近红外线，近红外线的屏蔽率高。

背景技术

近年来，作为用于削减二氧化碳的节能措施之一，开发出了可对汽车窗或建筑物窗赋予热射线屏蔽性的材料。例如，金属Ag薄膜由于其反射率高而通常作为热射线反射材料使用，但是由于其不仅反射可见光及热射线、而且还反射电波，因而具有可见光透过性和电波透过性低的问题。为了提高可见光透过性，在大量建筑物中采用利用了Ag和ZnO多层膜的Low-E玻璃(例如，旭硝子株式会社制造)，但由于Low-E玻璃在玻璃表面形成金属Ag薄膜，因而具有电波透过性低的问题。

为了解决上述课题，例如有人提出了一种赋予了电波透过性的带有岛状Ag颗粒的玻璃。有人提出了一种将通过蒸镀进行成膜的Ag薄膜退火从而形成粒状Ag的玻璃(参见专利文献1)。但是，在该提案中，由于粒状Ag是通过退火形成的，因而颗粒的尺寸、形状、面积率等难以控制，具有难以控制热射线的反射波长、频带等、难以提高可见光透过率等的问题。

另外，作为红外线屏蔽过滤器，有人提出了使用Ag扁平颗粒的过滤器(参照专利文献2～6)。但是，这些提案均意图用于等离子体显示板中，并且为了提高红外域波长光的吸收能力而使用了体积小的颗粒，并未采用Ag扁平颗粒作为屏蔽热射线的材料(反射热射线的材料)。

另一方面，对于透明电极中所用的锡掺杂氧化铟(ITO)颗粒，其1,200nm以上的屏蔽率可确保90%以上、且可见光透过率可确保90%。但是，其具有无法屏蔽热能量高的800nm～1,200nm波长范围的近红外线的问题。

此外，有人提出了下述的热射线屏蔽膜，该热射线屏蔽膜具有含有ITO颗粒的热射线屏蔽层、以及含有作为有机系热射线屏蔽物质的二亚铵系物质和紫外线吸收物质的热射线屏蔽层(参见专利文献7)。但其可见光透过率为60%，具有可见光透过率不充分的问题。另外，二亚铵系物质的耐光性不充分，即使在同一层中含有紫外线吸收物质，也会由于基于热射线吸收的膜自身放热、太阳光所含有的紫外线等而发生劣化，具有热射线屏蔽效果快速降低的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第3454422号公报

专利文献2：日本特开2007-108536号公报

专利文献3：日本特开2007-178915号公报

专利文献4：日本特开2007-138249号公报

专利文献5：日本特开2007-138250号公报

专利文献6：日本特开2007-154292号公报

专利文献7：日本特开2008-020525号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的课题在于解决现有技术中的上述各问题并达成下述目的。即，本发明的目的在于提供一种热射线屏蔽材料，该热射线屏蔽材料的可见光线透过性、电波透过性以及耐光性优异，可宽频带地屏蔽近红外线、近红外线的屏蔽率高。

解决课题的手段

作为解决上述课题的手段如下所述。即：

<1>一种热射线屏蔽材料，其特征在于，该热射线屏蔽材料具有含有银扁平颗粒与金属氧化物颗粒的热射线屏蔽层。

<2>如上述<1>中所述的热射线屏蔽材料，其中，金属氧化物颗粒为锡掺杂氧化铟颗粒。

<3>如上述<1>至<2>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒具有60个数%以上的大致六边形或大致圆盘形的银扁平颗粒。

<4>如上述<1>至<3>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒粒度分布的偏离系数为30%以下。

<5>如上述<1>至<4>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒的平均粒径为40nm～400nm，银扁平颗粒的长厚比(平均粒径/平均颗粒厚度)为5～100。

<6>如上述<1>至<5>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒在热射线屏蔽层中的含量为0.02g/m²～0.20g/m²。

<7>如上述<1>至<6>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，金属氧化物颗粒在热射线屏蔽层中的含量为1.0g/m²～4.0g/m²。

<8>如上述<1>至<7>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，该热射线屏蔽材料的可见光透过率为65%以上、且波长780nm～2,000nm下的平均透过率为20%以下。

<9>如上述<1>至<8>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，热射线屏蔽层是银扁平颗粒与金属氧化物颗粒混合分散在粘结剂内而成的。

<10>如上述<1>至<8>的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，热射线屏蔽层是含有银扁平颗粒的含银扁平颗粒层与含有金属氧化物的含金属氧化物层层积而成的。

发明的效果

根据本发明，可以解决现有技术中的上述各问题、可以达成上述目的，能够提供一种热射线屏蔽材料，该热射线屏蔽材料的可见光线透过性、电波透过性以及耐光性优异，可宽频带地屏蔽近红外线、近红外线的屏蔽率高。

附图说明

图1为示出本发明热射线屏蔽材料的一例的示意图。

图2为示出本发明热射线屏蔽材料的另一例的示意图。

图3A为示意性示出本发明热射线屏蔽材料所含有的扁平颗粒的形状的一例的立体图，其示例出了大致圆盘形的扁平颗粒。

图3B为示意性示出本发明热射线屏蔽材料所含有的扁平颗粒的形状的一例的立体图，其示例出了大致六边形的扁平颗粒。

图4A为示意性示出了本发明的热射线屏蔽材料中的银扁平颗粒与金属氧化物颗粒混合分散而成的热射线屏蔽层的存在状态的截面图。

图4B为示意性示出了本发明的热射线屏蔽材料中的含有银扁平颗粒的含银扁平颗粒层和含有金属氧化物颗粒的含金属氧化物颗粒层的存在状态的截面图。

图4C为示意性示出了本发明的热射线屏蔽材料中的含有银扁平颗粒的含银扁平颗粒层和含有金属氧化物颗粒的含金属氧化物颗粒层的存在状态的截面图，其为用于说明基材的平面与银扁平颗粒的平面所成的角度(θ)的图。

图5为实施例1中得到的热射线屏蔽材料的SEM照片，其示出了在20,000倍进行观察的照片。

图6为示出了实施例1中得到的热射线屏蔽材料的分光光谱的曲线图。

具体实施方式

(热射线屏蔽材料)

本发明的热射线屏蔽材料具有至少含有银扁平颗粒与金属氧化物颗粒的热射线屏蔽层，根据需要具有基材等其它层。

作为上述热射线屏蔽材料的层构成，可以举出：如图1所示的具有基材11以及下述热射线屏蔽层12的方式，该热射线屏蔽层12是在该基材上银扁平颗粒与金属氧化物颗粒混合分散而成的；如图2所示的具有基材11以及下述热射线屏蔽层12的方式，该热射线屏蔽层12是在该基材上含银扁平颗粒层13和含金属氧化物层14层积而成的。

<热射线屏蔽层>

对于上述热射线屏蔽层的形状、结构、尺寸等没有特别限制，可以根据目的酌情选择，例如，作为上述形状可以举出扁平状等，作为上述结构可以为单层结构、也可以为层积结构，作为上述尺寸，可以根据用途等酌情选择。

作为上述热射线屏蔽层，可以举出：作为第一实施方式的上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒混合分散在粘结剂内而成的方式；作为第二实施方式的含银扁平颗粒层与含金属氧化物层层积而成的方式等，任意方式均可优选使用。

在第一实施方式中，上述热射线屏蔽层至少含有银扁平颗粒、金属氧化物颗粒以及粘结剂，根据需要进一步含有其它成分。

第一实施方式中的上述热射线屏蔽层可以为上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒混合分散在粘结剂内而成的单层结构，也可以为多层结构，但从生产率的方面考虑，优选单层结构。另外，通过涂布将上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒混合分散在粘结剂内而成的混合液，在具有平面和曲面任意形状的基材表面上均可形成上述热射线屏蔽层，从这方面考虑，优选将上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒制成上述混合液；从可在具有曲面形状的基材表面上形成上述热射线屏蔽层的方面考虑，更优选将上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒制成上述混合液。

在第二实施方式中，上述热射线屏蔽层是至少含银扁平颗粒层与含金属氧化物颗粒层层积而成的。上述含银扁平颗粒层至少含有银扁平颗粒与粘结剂，根据需要进一步含有其它成分。上述含金属氧化物层至少含有金属氧化物颗粒与粘结剂，根据需要进一步含有其它成分。

上述银扁平颗粒在上述含银扁平颗粒层中的取向如后所述可以为平面取向(反射型)，也可以为随机取向(吸收型)。

在第一和第二的任一实施方式中，均可与柔软的粘结剂一起形成上述热射线屏蔽层，因而，所得到的上述热射线屏蔽材料可适用于曲面，从这点考虑，其为优选的。

作为上述热射线屏蔽层的厚度没有特别限制，可以根据目的酌情选择，优选为0.01μm～10μm。

-银扁平颗粒-

作为上述银扁平颗粒，对其形状等没有特别限制，可以根据目的酌情选择，优选为大致三角形的扁平状、大致六边形的扁平状以及它们的角被去除而成的大致圆盘状的银扁平颗粒中的至少任意一种。

作为上述银扁平颗粒的材料，只要至少含有银就没有特别限制，可以根据目的酌情选择，也可以进一步含有热射线(近红外线)的屏蔽率高的金、铝、铜、铑、镍、铂等金属等。

作为上述银扁平颗粒在上述热射线屏蔽层中的含量没有特别限制，可以根据目的酌情选择，在第一和第二的任一实施方式中，该含量均优选为0.01g/m²～1.00g/m²、更优选为0.02g/m²～0.20g/m²。

上述含量若低于0.01g/m²，则热射线屏蔽不充分；若高于1.00g/m²，则可见光透过率会降低。另一方面，上述含量为0.02g/m²～0.20g/m²时，从充分的热射线屏蔽与可见光透过率的方面考虑为有利的。

需要说明的是，上述银扁平颗粒在上述热射线屏蔽层中的含量例如可如下进行计算。根据上述热射线屏蔽层的超箔切片TEM像和表面SEM像的观察来测定一定面积内的银扁平颗粒的个数、平均粒径和平均厚度。或者，对于平均厚度，将该热射线屏蔽层中使用的银扁平颗粒以未添加粘结剂的分散液状态涂布在玻璃板上，利用原子力显微镜对其表面进行测定，由此可测定出更为精确的平均厚度。将基于这样测定出的银扁平颗粒的个数、平均粒径和平均厚度、以及银扁平颗粒的相对密度计算出的银扁平颗粒的质量(g)除以上述一定面积(m²)，从而可计算出该含量。另外，也可以使上述热射线屏蔽层的一定面积内的银扁平颗粒溶出到甲醇中，通过荧光X射线测定测定出银扁平颗粒的质量(g)，将该银扁平颗粒的质量(g)除以上述一定面积(m²)，从而计算出该含量。

作为上述银扁平颗粒，只要为具有2个主平面的颗粒(参照图3A和图3B)就没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如大致六边形、大致圆盘形、大致三角形等。这些之中，从可见光透过率高的方面考虑，特别优选大致六边形或大致圆盘形。

作为上述大致圆盘形，只要在利用透过型电子显微镜(TEM)从主平面的上方对银扁平颗粒进行观察时为没有棱角的圆形形状就没有特别限制，可以根据目的酌情选择。

作为上述大致六边形，只要在利用透过型电子显微镜(TEM)从主平面的上方对银扁平颗粒进行观察时为大致六边形就没有特别限制，可以根据目的酌情选择，例如，六边形的角可以是锐角，也可以是钝角。

作为上述大致六边形或大致圆盘形的银扁平颗粒的比例，相对于银扁平颗粒的全部个数优选为60个数%以上、更优选为65个数%以上、特别优选为70个数%以上。上述银扁平颗粒的比例若小于60个数%，则可见光线透过率降低。

[平均粒径(平均圆当量直径)和平均粒径(平均圆当量直径)的粒度分布]

作为上述银扁平颗粒的平均粒径(平均圆当量直径)没有特别限制，可以根据目的酌情选择，优选为40nm～400nm、更优选为60nm～350nm。上述平均粒径(平均圆当量直径)若小于40nm，银扁平颗粒的吸收的贡献大于反射，因而无法得到充分的热射线屏蔽能；若大于400nm，则雾度(散射)增加，基材的透明性可能会受损。

此处，上述平均粒径(平均圆当量直径)意味着从利用TEM对颗粒进行观察而得到的图像中任意选出的200个扁平颗粒的主平面直径(最大长度)的平均值。

上述热射线屏蔽层中可以含有平均粒径(平均圆当量直径)不同的2种以上的银扁平颗粒，在这种情况下，银扁平颗粒平均粒径(平均圆当量直径)的峰可以为2个以上，即可以具有2个平均粒径(平均圆当量直径)。

本发明的热射线屏蔽材料中，银扁平颗粒粒度分布的偏离系数优选为30%以下、更优选为10%以下。上述偏离系数若大于30%，则热射线屏蔽材料中的热射线的屏蔽波段会变宽。

此处，上述银扁平颗粒粒度分布的偏离系数例如为如下得到的值：对于如上所述得到的用于计算平均值的200个银扁平颗粒的粒径的分布范围进行作图，求出粒度分布的标准偏差，该标准偏差除以如上所述得到的主平面直径(最大长度)的平均值(平均粒径(平均圆当量直径))，所得到的值(%)为该偏离系数。

[长厚比]

作为上述银扁平颗粒的长厚比没有特别限制，可以根据目的酌情选择，从波长为780nm～2,000nm的红外光区域中的屏蔽率增高的方面考虑，该长厚比优选为2～200、更优选为5～100。上述长厚比若小于2，则屏蔽波长小于780nm；若大于200，则屏蔽波长大于2,300nm，得不到充分的热射线屏蔽能。

上述长厚比意味着银扁平颗粒的平均粒径(平均圆当量直径)除以银扁平颗粒的平均颗粒厚度而计算出的值。平均颗粒厚度相当于银扁平颗粒的主平面间距离，如图3A和图3B所示，例如可通过原子力显微镜(AFM)进行测定。

作为上述基于AFM的平均颗粒厚度的测定方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，例如可以举出下述方法等：将含有银扁平颗粒的颗粒分散液滴加在玻璃基板上，进行干燥，来测定1个银扁平颗粒的厚度。

-银扁平颗粒的制造方法-

作为上述银扁平颗粒的制造方法，只要为可合成大致六边形或大致圆盘形的颗粒的方法就没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如化学还原法、光化学还原法、电化学还原法等液相法等。这些之中，从形状与尺寸控制性的方面考虑，特别优选化学还原法、光化学还原法等液相法。在合成六边形或三角形的银扁平颗粒后，利用溶解银的溶解种（例如硝酸、亚硫酸钠、Br^-、Cl^-等卤素离子等）进行蚀刻处理、或者通过加热进行熟化处理，由此使得六边形或三角形的银扁平颗粒的角变钝，可获得大致六边形或大致圆盘形的银扁平颗粒。

需要说明的是，作为上述银扁平颗粒的制造方法，除上述方法外，也可以预先在膜或玻璃等透明基材的表面固定晶种，之后使金属颗粒(例如Ag)结晶成长为扁平状。

上述银扁平颗粒也可以施以进一步的处理以赋予所期望的特性。作为上述进一步的处理没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如：高折射率壳层的形成；添加分散剂、抗氧化剂等各种添加剂；等等。

--高折射率壳层的形成--

为了进一步提高可见光域透明性，上述银扁平颗粒可以被覆有可见光域透明性高的高折射率材料。

作为上述高折射率材料没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如TiO_x、BaTiO₃、ZnO、SnO₂、ZrO₂、NbO_x等。

作为上述被覆方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，例如可以为如Langmuir,2000年,16卷,p.2731-2735中所报道的那样通过对四丁氧基钛进行水解而在银扁平颗粒的表面形成TiO_x层的方法。

另外，当在上述银扁平颗粒上难以直接形成高折射率金属氧化物层壳的情况下，可以在如上所述合成银扁平颗粒之后适宜地形成SiO₂或聚合物的壳层，进一步在该壳层上形成上述金属氧化物层。将TiO_x作为高折射率金属氧化物层的材料使用的情况下，由于TiO_x具有光催化剂活性，因而可能会使用于分散银扁平颗粒的基质发生劣化，因此，在银扁平颗粒上形成TiO_x层之后，可以根据目的适宜地形成SiO₂层。

--各种添加物的添加--

为了防止构成该银扁平颗粒的银等金属的氧化，上述银扁平颗粒还可以吸附巯基四唑环、抗坏血酸等抗氧化剂。此外，出于抗氧化的目的，可以在银扁平颗粒的表面形成Ni等氧化牺牲层。另外，出于屏蔽氧的目的，可以被覆有SiO₂等金属氧化物膜。

出于赋予分散性的目的，上述银扁平颗粒可以添加例如季铵盐、胺类等含有N元素、S元素以及P元素中的至少一种元素的低分子量分散剂、高分子量分散剂等分散剂。

[平面取向]

在上述热射线屏蔽材料中，银扁平颗粒的主平面相对于热射线屏蔽层的一个表面(在热射线屏蔽材料具有基材的情况下，为基材表面)可以为随机取向，也可以在规定范围内平面取向。前者的随机取向型主要作为红外线吸收型发挥功能，从可容易地形成上述热射线屏蔽层或上述含银扁平颗粒层的方面考虑为优选的；后者的平面取向型主要作为红外线反射型发挥功能，从遮热性能更为优异的方面考虑为优选的，上述取向均可适当使用。上述含银扁平颗粒层中，上述银扁平颗粒优选在规定范围内平面取向。

上述银扁平颗粒没有特别限制，可以根据目的酌情选择，从提高热射线屏蔽率的方面考虑，优选如后述的图4C所示相对于热射线屏蔽层的一个表面(在热射线屏蔽材料具有基材的情况下，为基材表面)大致水平地偏在。

作为上述平面取向，只要为银扁平颗粒的主平面与热射线屏蔽层的一个表面(在热射线屏蔽材料具有基材的情况下，为基材表面)在规定范围内呈大致平行的方式就没有特别限制，可以根据目的酌情选择，平面取向的角度优选为0°～±30°、更优选为0°～±20°。

此处，图4A～图4C为示意性截面图，示出了本发明的热射线屏蔽材料的含有银扁平颗粒的热射线屏蔽层的存在状态。图4A示出了银扁平颗粒1与金属氧化物颗粒2混合分散而成的热射线屏蔽层12的存在状态。图4B示出了含有银扁平颗粒1的含银扁平颗粒层13和含有金属氧化物颗粒2的含金属氧化物颗粒层14中银扁平颗粒随机取向的存在状态。图4C示出了含有银扁平颗粒1的含银扁平颗粒层13和含有金属氧化物颗粒2的含金属氧化物颗粒层14中银扁平颗粒平面取向的存在状态，说明了热射线屏蔽层12的平面与银扁平颗粒1的平面所成的角度(±θ)。

图4C中，热射线屏蔽层12的平面与银扁平颗粒1的主平面或主平面的延长线所成的角度(±θ)对应于上述的平面取向中的规定范围。即，平面取向指的是，在对热射线屏蔽材料的截面进行观察时，图4C所示的角度(±θ)小的状态；特别地，θ为0°的状态表示的是热射线屏蔽层12的平面与银扁平颗粒1的主平面平行的状态。如图4A和图4B所示，若银扁平颗粒1的主平面相对于热射线屏蔽层12的表面的平面取向的角度θ大于±30°、即银扁平颗粒1呈随机取向，则热射线屏蔽材料在规定波长(例如，从可见光域长波长侧到近红外光区域)的吸收率上升。

[平面取向的评价]

对于银扁平颗粒的主平面相对于上述热射线屏蔽层的一个表面(在热射线屏蔽材料具有基材的情况下，为基材表面)是否为平面取向的评价方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，例如可以为下述方法：制作适当的截面切片，在该切片中对热射线屏蔽层的一个表面(在热射线屏蔽材料具有基材的情况下，为基材表面)和银扁平颗粒进行观察、并进行评价。具体地说，可以举出下述方法等：对于热射线屏蔽材料，使用切片机(Microtome)、聚焦离子束(FIB)等来制作热射线屏蔽材料的截面样品或截面切片样品，使用各种显微镜(例如电场放射型扫描电子显微镜(FE-SEM)等)对其进行观察，由所得到的图像对平面取向进行评价。

在上述热射线屏蔽材料中，在被覆银扁平颗粒的粘结剂在水中溶胀的情况下，将在液氮中冷冻状态的试样利用安装于切片机的金刚石切割器切断，从而可制作出上述截面样品或截面切片样品。另外，在热射线屏蔽材料中的被覆银扁平颗粒的粘结剂不在水中溶胀的情况下，也可以制作上述截面样品或截面切片样品。

作为如上所述制作出的截面样品或截面切片样品的观察，只要可确认样品中的银扁平颗粒的主平面相对于热射线屏蔽层的一个表面(在热射线屏蔽材料具有基材的情况下，为基材表面)是否为平面取向即可，没有特别限制，可以根据目的酌情选择，例如可以举出使用FE-SEM、TEM、光学显微镜等的观察。在为上述截面样品的情况下，可利用FE-SEM进行观察；在为上述截面切片样品的情况下，可利用TEM进行观察。在利用FE-SEM进行评价的情况下，优选具有可清晰判断出银扁平颗粒的形状与平面取向角度(图4C的±θ)的空间解析能力。

上述热射线屏蔽层中的构成银扁平颗粒的金属的等离子共振波长λ没有特别限制，可以根据目的酌情选择，从可赋予热射线屏蔽性能的方面考虑，优选为400nm～2,500nm；从可见光域的雾度(散射性)低的方面考虑，更优选为700nm～2,500nm。

作为上述热射线屏蔽层中的基质(媒質)没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)树脂等聚乙烯醇缩醛系树脂；聚乙烯醇(PVA)系树脂；聚氯乙烯系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯系树脂；聚氨酯系树脂；乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)；聚酰胺系树脂；环氧系树脂；聚丙烯酸酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂等丙烯酸系树脂；聚碳酸酯树脂；明胶、纤维素等天然高分子；二氧化硅、氧化铝等无机物等。

作为上述基质的折射率(n)，优选为1.4～1.7。

[银扁平颗粒的面积率]

银扁平颗粒的面积率为从上方观察上述热射线屏蔽材料时银扁平颗粒面积的合计值B相对于基材的面积A的比例即面积率〔(B/A)×100〕优选为15%以上、更优选为20%以上。上述面积率若小于15%，则热射线的最大屏蔽率降低，得不到充分的遮热效果。

此处，上述面积率例如可如下测定：对于从上方对热射线屏蔽材料进行SEM观察所得到的图像、或者进行AFM(原子力显微镜)观察所得到的图像进行图像处理，由此来测定该面积率。

[银扁平颗粒的平均颗粒间距离]

作为上述热射线屏蔽层中的在水平方向上相邻的上述银扁平颗粒的平均颗粒间距离，优选为不均匀(随机)的。在该距离不是随机的情况下、即为均匀的情况下，会产生衍射、观察到波纹，因而作为光学膜不优选。

此处，上述银扁平颗粒在水平方向上的平均颗粒间距离意味着2个相邻颗粒的颗粒间距离的平均值。另外，上述平均颗粒间距离为随机的意味着“将包括100个以上银扁平颗粒的SEM图像二值化，将此时的亮度值进行二维自相关时，其不具有除原点以外的显著极大点”。

[热射线屏蔽层的层构成]

本发明的热射线屏蔽材料中，银扁平颗粒如图4A～图4C所示，其以含有银扁平颗粒与金属氧化物的热射线屏蔽层的形态进行配置，其可如图4A所示以银扁平颗粒与金属氧化物颗粒混合分散而成的热射线屏蔽层的形态进行配置，也可如图4B和图4C所示以含有银扁平颗粒的含银扁平颗粒层与含有金属氧化物颗粒的含金属氧化物颗粒层层积而成的热射线屏蔽层的形态进行配置。

作为上述含银扁平颗粒层，如图4B和图4C所示，可以由单层构成，或者例如，可以由2个以上的含银扁平颗粒层来构成，各层分别含有具有不同长厚比的银扁平颗粒。在由2个以上的含银扁平颗粒层构成的情况下，可以赋予与所要赋予遮热性能的波长频带相应的屏蔽性能。

-金属氧化物颗粒-

作为上述金属氧化物颗粒的材料没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如锡掺杂氧化铟(下文中简称为“ITO”。)、锡掺杂氧化锑(下文中简称为“ATO”。)、氧化锌、二氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化锑、玻璃陶瓷等。这些之中，从热射线吸收能力优异、可通过与银扁平颗粒组合来制造具有宽频带热射线吸收能的热射线屏蔽材料的方面考虑，更优选ITO、ATO、氧化锌；从可将1,200nm以上的红外线屏蔽90%以上、可见光透过率为90%以上的方面考虑，特别优选ITO。

作为上述金属氧化物颗粒一次颗粒的体积平均粒径，出于不会降低可见光透过率的理由，优选0.1μm以下。

作为上述金属氧化物颗粒的形状没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如球状、针状、板状等。

作为上述金属氧化物颗粒在上述热射线屏蔽层中的含量没有特别限制，可以根据目的酌情选择，在第一和第二的任一实施方式中，均优选为0.1g/m²～20g/m²、更优选为0.5g/m²～10g/m²、进一步优选为1.0g/m²～4.0g/m²。

上述含量若小于0.1g/m²，则表面感知的日光辐射量会上升；若高于20g/m²，则可见光透过率会变差。另一方面，上述含量若为1.0g/m²～4.0g/m²，则可回避上述2点，从这方面考虑为有利的。

需要说明的是，上述金属氧化物颗粒在上述热射线屏蔽层中的含量例如可如下计算出：由上述热射线屏蔽层的超箔切片TEM像和表面SEM像的观察来测定一定面积内的金属氧化物颗粒的个数和平均粒径。基于该个数和平均粒径、以及金属氧化物颗粒的相对密度计算出质量(g)，该计算出的质量(g)除以上述一定面积(m²)，从而可计算出该含量。此外，还可如下计算出：使上述热射线屏蔽层的一定面积内的金属氧化物微粒溶出到甲醇中，通过荧光X射线测定来测定出金属氧化物微粒的质量(g)，将该金属氧化物微粒的质量(g)除以上述一定面积(m²)，从而计算出该含量。

-粘结剂-

作为上述粘结剂没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)树脂等聚乙烯醇缩醛系树脂；聚乙烯醇(PVA)系树脂；聚氯乙烯系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯系树脂；聚氨酯系树脂；乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)；聚酰胺系树脂；环氧系树脂；聚丙烯酸酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂等丙烯酸系树脂；聚碳酸酯树脂；明胶、纤维素等天然高分子等。这些之中，特别优选聚乙烯醇缩丁醛(PVB)树脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)。

-其它成分-

在上述热射线屏蔽层中，可以根据需要含有各种添加剂，例如可含有溶剂、表面活性剂、抗氧化剂、抗硫化剂、抗腐蚀剂、红外线吸收剂、紫外线吸收剂、着色剂、粘度调整剂、防腐剂等。

<基材>

作为上述基材，对其形状、结构、尺寸、材料等没有特别限制，可以根据目的酌情选择，作为上述形状，可以举出例如扁平状等；作为上述结构，可以为单层结构、也可以为层积结构；作为上述尺寸，可以根据上述热射线屏蔽材料的尺寸等酌情选择。

作为上述基材的材料没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚(2,6-萘二甲酸乙二醇酯)(PEN)、聚碳酸酯、聚酰亚胺(PI)、聚乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物等。它们可以单独使用1种，也可以合用两种以上。这些之中，从机械强度、对热的尺寸稳定性等方面考虑，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

在上述基材的表面，为了提高与其上的热射线屏蔽层的密合性，优选进行表面活性化处理。作为上述表面活性化处理，可以举出例如辉光放电处理、电晕放电处理等。

上述基材可以为适当合成出的基材，也可以使用市售品。

作为上述基材的厚度没有特别限制，可以根据目的酌情选择，优选为10μm以上、更优选为50μm以上。

[热射线屏蔽材料的制造方法]

作为本发明热射线屏蔽材料的制造方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如：通过涂布方法来形成上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒混合分散在上述粘结剂内的热射线屏蔽层的方法；在上述基材的表面形成上述含银扁平颗粒层与上述金属氧化物颗粒层层积而成的热射线屏蔽层的方法；等等。

-含银扁平颗粒层的形成方法-

作为上述含银扁平颗粒层的形成方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如：利用浸渍涂布机、模涂机、狭缝涂布机、刮条涂布机、凹版涂布机等将至少含有上述银扁平颗粒与上述粘结剂的分散液涂布在基材上的方法；利用LB膜法、自身组织化法、喷涂法等进行平面取向的方法；等等。

另外，为了提高银扁平颗粒在基材表面的吸附性或平面取向性，也可以为利用静电相互作用进行平面取向的方法。具体地说，在银扁平颗粒的表面带负电的情况下(例如为分散在柠檬酸等带负电性的基质中的状态)，可以为下述方法：使基材的表面带正电(例如，利用氨基等进行基材表面修饰)，提高静电性的平面取向性，由此来进行平面取向。此外，在银扁平颗粒的表面为亲水性的情况下，可利用嵌段共聚物或μ-接触压印法等在基材的表面形成亲水-疏水的海岛结构，利用亲水疏水性相互作用来控制平面取向性以及银扁平颗粒的颗粒间距离。

需要说明的是，为了促进平面取向，在涂布银扁平颗粒后，可使其通过压延辊、层压辊等压接辊来促进平面取向。

-金属氧化物颗粒层的形成方法-

作为上述金属氧化物颗粒层的形成方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如利用浸渍涂布机、模涂机、狭缝涂布机、刮条涂布机、凹版涂布机等将至少含有上述金属氧化物颗粒与上述粘结剂的分散液涂布在基材上的方法等。

作为上述含有金属氧化物颗粒的分散液没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以使用市售品。作为该市售品，可以举出例如ITO硬膜涂布液EI-1(MitsubishiMaterials株式会社制造)等。

-混合分散层的形成方法-

作为上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒混合分散在上述粘结剂内而成的热射线屏蔽层(混合分散层)的形成方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如，利用浸渍涂布机、模涂机、狭缝涂布机、刮条涂布机、凹版涂布机等将至少含有上述银扁平颗粒、上述金属氧化物颗粒以及上述粘结剂的分散液涂布在基材上的方法等。

作为本发明热射线屏蔽材料的可见光线透过率，优选为60%以上、更优选为65%以上。上述可见光线透过率若小于60%，则在作为例如汽车用玻璃或建筑物用玻璃使用时，不容易看清楚外部。

作为本发明热射线屏蔽材料在780nm～2,000nm的平均透过率，从可提高热射线屏蔽率的效率的方面考虑，优选为30%以下、更优选为20%以下。

这些之中，本发明的热射线屏蔽材料特别优选可见光透过率为65%以上、且波长780nm～2,000nm下的平均透过率为20%以下。

此处，“可见光透过率”为利用JIS-R3106：1998“平板玻璃类的透过率·反射率·放射率·日光辐射取得率的试验方法”所记载的方法对各样品进行测定得到的值，其为由各波长的光谱视亮度(分光視感度)校正从380nm至780nm所测定出的各波长的透过率后的值之平均值。

另外，近红外处的“平均透过率”为在规定的近红外波长范围(例如780nm～2,000nm)中对各样品测定出的各波长透过率的平均值。

作为本发明热射线屏蔽材料的雾度，优选为20%以下、固形物10%以下、特别优选为3%以下。上述雾度若超过20%，则在作为例如汽车用玻璃或建筑物用玻璃使用时，不容易看清楚外部，在安全性上不优选。

[热射线屏蔽材料的使用方式]

对于本发明的热射线屏蔽材料，只要为用于选择性地反射或吸收热射线(近红外线)进行使用的方式就没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以举出例如交通工具用玻璃或膜、建材用玻璃或膜、农业用膜等。这些之中，从能量节省效果的方面考虑，优选为交通工具用玻璃或膜、建材用玻璃或膜。

需要说明的是，本发明中，热射线(近红外线)意味着在太阳光中约含50%的近红外线(780nm～2,500nm)。

作为上述玻璃的制造方法没有特别限制，可以根据目的酌情选择，可以在如上所述制造出的热射线屏蔽材料上进一步形成粘接层，将其贴合在汽车等交通工具用玻璃或建材用玻璃上，也可将其夹在夹层玻璃(合せガラス)中所用的PVB中间膜、EVA中间膜等中来使用。此外，也可仅将含有上述银扁平颗粒与上述金属氧化物颗粒的上述热射线屏蔽层转移到PVB中间膜、EVA中间膜等上，以剥离除去基材的状态进行使用。

实施例

下面对本发明的实施例进行说明，但本发明并不受这些实施例的任何限定。

(制造例1)

-银扁平颗粒的合成-

--扁平核颗粒的合成工序--

向2.5mmol/L的柠檬酸钠水溶液50mL中添加0.5g/L的聚苯乙烯磺酸水溶液2.5mL，加热至35℃。向该溶液中添加10mmol/L的硼氢化钠水溶液3mL，一边在20mL/min搅拌一边添加0.5mmol/L的硝酸银水溶液50mL。将该溶液搅拌30分钟，制作种子溶液(種溶液)。

--扁平颗粒的第1成长工序--

随后，向2.5mmol/L的柠檬酸钠水溶液132.7mL中添加离子交换水87.1mL，加热至35℃。向该溶液中添加10mmol/L的抗坏血酸水溶液2mL、添加上述种子溶液42.4mL，一边在10mL/min进行搅拌一边添加0.5mmol/L的硝酸银水溶液79.6mL。

--扁平颗粒的第2成长工序--

接下来，将上述溶液搅拌30分钟后，添加0.35mol/L的对苯二酚磺酸钾水溶液71.1mL、添加7质量%明胶水溶液200g。向该溶液中添加将0.25mol/L的亚硫酸钠水溶液107mL与0.47mol/L的硝酸银水溶液107mL混合而得到的白色沉淀物混合液。在添加上述白色沉淀物混合液后，立即添加0.83mol/L的NaOH水溶液72mL。此时，在调节添加速度的情况下添加NaOH水溶液，以使pH不超过10。将其搅拌300分钟，得到银扁平颗粒分散液a。

确认到在该银扁平颗粒分散液a中生成了平均圆当量直径为210nm的银的六边形扁平颗粒(下文中称为Ag六边形扁平颗粒)。此外，利用原子力显微镜(Nanocute II、Seiko Instruments社制造)对六边形扁平颗粒的厚度进行测定，结果为平均18nm，可知生成了长厚比为11.7的扁平颗粒。

接下来，如下对所得到的银扁平颗粒和热射线屏蔽材料进行各种特性评价。结果列于表1。

<<银扁平颗粒的评价>>

-扁平颗粒的比例、平均粒径(平均圆当量直径)、偏离系数-

对于Ag扁平颗粒的形状均匀性，从所观察的SEM图像中任意提取200个颗粒，将颗粒形状为大致六边形或大致圆盘形的颗粒作为A、将颗粒形状为泪滴形等无定形形状的颗粒作为B，进行图像解析，求出相当于A的颗粒个数的比例(个数%)。

此外，同样地，利用数字卡尺对相当于A的100个颗粒的粒径进行测定，将其平均值作为平均粒径(平均圆当量直径)，将粒径分布的标准偏差除以平均粒径(平均圆当量直径)，求出偏离系数(%)。

-平均颗粒厚度-

将所得到的含有银扁平颗粒的分散液滴加在玻璃基板上并进行干燥，使用原子力显微镜(AFM)(Nanocute II、Seiko Instruments社制造)测定1个银扁平颗粒的厚度。需要说明的是，使用AFM进行测定的条件如下：自检测型传感器、DFM模式；测定范围为5μm；扫描速度为180秒/1帧、数据点数为256×256。

-长厚比-

基于所得到的银扁平颗粒的平均粒径(平均圆当量直径)和平均颗粒厚度，将平均粒径(平均圆当量直径)除以平均颗粒厚度，计算出长厚比。

-透过光谱-

将银扁平颗粒分散液用水稀释至40倍，加入到光程长1mm的石英池中，使用紫外可见近红外分光机(日本分光株式会社制造、V-670)，评价所得到的银扁平颗粒分散液的透过光谱。

[表1-1]

[表1-2]

(制造例2)

在制造例1中，不添加0.83mol/L的NaOH水溶液72mL，而添加离子交换水72mL，除此之外，与制造例1同样地制作银扁平颗粒分散液b。

(制造例3)

在制造例1中，不添加离子交换水87.1mL、将上述晶种溶液的添加量变更为127.6mL，并且不添加0.83mol/L的NaOH水溶液72mL而添加0.08mol/L的NaOH水溶液72mL，除此之外，与制造例1同样地制作银扁平颗粒分散液c。

(制造例4)

在制造例3中，不添加2.5mmol/L的柠檬酸钠水溶液132.7mL，并且将上述晶种溶液的添加量变更为255.2mL，除此之外，与制造例3同样地制作银扁平颗粒分散液d。

(制造例5)

在制造例4中，不添加0.08mol/L的NaOH水溶液72mL而添加离子交换水72mL，除此之外，与制造例4同样地制作银扁平颗粒分散液e。

(制造例6)

在制造例1中，将上述晶种溶液的添加量由42.4mL变为21.2mL，不添加离子交换水21.2mL，除此之外，与制造例1同样地制作银扁平颗粒分散液f。

(实施例1)

-银扁平颗粒平面取向层的制作-

在制造例5的银扁平颗粒分散液e(16mL)中添加1N的NaOH(0.75mL)，添加离子交换水24mL，利用离心分离器(Kokusan社制造、H-200N、ANGLE ROTOR BN)在5,000rpm进行5分钟离心分离，使Ag六边形扁平颗粒沉淀。舍弃离心分离后的上层清液，添加水5mL，使沉淀的Ag六边形扁平颗粒再分散。向该分散液中添加2质量%的下述结构式(1)所表示化合物的水甲醇溶液(水:甲醇=1:1(质量比))1.6mL，制作涂布液。使用绕线棒No.14(R.D.S Webster N.Y.社制造)将该涂布液涂布在50μm厚的PET膜(A4300、东洋纺纱株式会社制造)上，使其干燥，得到在表面固定有Ag六边形扁平颗粒的膜。如上制作银扁平颗粒平面取向层。

在所得到的PET膜上以厚度20nm蒸镀碳薄膜后，进行SEM观察(日立制作所制造，FE-SEM、S-4300、2kV、2万倍)。结果见图5。可知Ag六边形扁平颗粒并未聚集而被固定在PET膜上，如下测定出Ag六边形扁平颗粒在基材表面所占的面积率，该面积率为45%。此外可知，如下测定出的上述银扁平颗粒在上述银扁平颗粒平面取向层中的含量为0.04g/m²。

-遮热膜的制作-

接下来，使用绕线棒No.10(R.D.S Webster N.Y.社制造)在上述PET膜的与银扁平涂布面的背面涂布ITO硬膜涂布液(Mitsubishi Materials株式会社制造、EI-1)，以使干燥后的层厚度为1.5μm，由此得到遮热膜1。另外可知，如下测定出的上述ITO颗粒在上述含金属氧化物颗粒层中的含量为3.0g/m²。

[化1]

-遮热玻璃的制作-

利用厚度为0.38mm的汽车用聚乙烯醇缩丁醛膜(Solutia社制造)从两面夹住该遮热膜1，进一步利用2mm厚的玻璃板从该层积物的两面将其加在中间(各个面方向的尺寸为50mm见方)。在该状态下使其通过具有被加热至60℃的金属辊的辊式层压机，进行临时压接。将临时压接样品装入到高压釜中，在130℃、30分钟、13气压的条件下进行永久压接(本圧着)，得到实施例1的遮热玻璃1。

<<遮热膜的评价>>

如下对于所得到的遮热膜进行各种特性评价。各评价的结果列于表2。

-面积率-

利用扫描型电子显微镜(SEM)对于所得到的遮热膜进行观察，将得到的SEM图像二值化，求出面积率〔(B/A)×100〕，该面积率为银扁平颗粒面积的合计值B相对于从上方观察遮热膜时的基材面积A(从垂直方向对遮热膜进行观察时的上述遮热膜的全投影面积A)的比例。

-电波透过性-

采用东京都立产业技术中心的KEC法对该遮热膜进行测定。遮蔽效果为5dB以下被判断为有电波透过性。

<<遮热玻璃的评价>>

接下来，如下对所得到的遮热玻璃进行各种特性评价。各评价的结果列于表2。

-可见光透过光谱-

所得到的遮热膜的透过光谱依据作为汽车用玻璃评价规格的JIS进行评价。

透过光谱使用紫外可见近红外分光机(日本分光株式会社制造、V-670)进行评价。入射光通过45°偏振片，其被看作无偏振光。

图6为示出实施例1中得到的屏蔽膜1的分光光谱的曲线图。

-可见光线透过率·初期近红外透过率-

可见光线透过率为利用JIS-R3106：1998“平板玻璃类的透过率·反射率·放射率·日光辐射取得率的试验方法”所记载的方法对各样品进行测定得到的值，其为利用各波长的光谱光视灵敏度对于从380nm至780nm为止所测定出的各波长的透过率进行校正而得到的值的平均值。初期近红外透过率为对于各样品从780nm至2,000nm为止进行测定而得到的各波长透过率的平均值。

-耐光性-

对于耐光性，在对各样品施加一定的耐光性试验时，以百分数表示初期近红外透过率相对于试验后的近红外透过率的比例，将该值作为屏蔽性能的耐光性的值。视为良好的标准(ライン)为90%以上。所谓一定的耐光性试验为下述试验：使用阳光耐气候试验箱(SUGA TEST INSTRUMENTS社制造、氙灯照射)，在180W/m、63℃、30%RH暴露1,000小时。

-雾度的测定-

使用雾度计(NDH-5000、日本电色工业株式会社制造)，对上述得到的遮热膜的雾度(%)进行测定。对上述遮热膜进行评价，结果雾度为0.8%。

-银扁平颗粒和ITO颗粒的含量的测定-

上述银扁平颗粒在热射线屏蔽层中的含量和上述ITO颗粒在热射线屏蔽层中的含量如下计算：使一定面积的热射线屏蔽层(涂布膜)中的银扁平颗粒和ITO颗粒溶出到甲醇中，通过荧光X射线测定对银扁平颗粒和ITO颗粒的各自的质量进行测定，将该各自的质量除以上述一定面积，从而计算出上述各含量。

(实施例2)

-遮热膜和遮热玻璃的制作-

在实施例1中，不使用制造例5的银扁平颗粒分散液e而使用制造例2的银扁平颗粒分散液b，除此之外，与实施例1同样地制作实施例2的遮热膜2和遮热玻璃2。

(实施例3)

-银扁平颗粒随机取向层的制作-

在各自为16mL的制造例3、4和6的银扁平颗粒分散液c、d和f中添加1N的NaOH(0.75mL)，添加离子交换水24mL，利用离心分离器(Kokusan社制造、H-200N、ANGLE ROTOR BN)在5,000rpm进行5分钟离心分离，使Ag六边形扁平颗粒沉淀。舍弃离心分离后的上层清液，添加水5mL，使沉淀后的Ag六边形扁平颗粒再分散。向该3种分散液中各添加明胶10质量%的水溶液1.6mL，之后进行混合，制作涂布液。使用绕线棒No.14(R.D.S Webster N.Y.社制造)将该涂布液涂布在PET膜上、进行干燥，得到Ag六边形扁平颗粒在表面附近随机取向的PET膜。如上制作银扁平颗粒随机取向层。

-遮热膜和遮热玻璃的制作-

在实施例1中，不使用银扁平颗粒平面取向层而使用银扁平颗粒随机取向层，除此之外，与实施例1同样地得到实施例3的遮热膜3和遮热玻璃3。

(实施例4)

-遮热膜和遮热玻璃的制作-

在实施例3中，不使用制造例3、4和6的银扁平颗粒分散液c、d和f而使用制造例1和5的银扁平颗粒分散液a和e，除此之外，与实施例3同样地制作实施例4的遮热膜4和遮热玻璃4。

(实施例5：混合分散)

-遮热膜的制作-

在实施例3中，不使用PET膜而使用B4尺寸的大玻璃板来制作银扁平颗粒随机取向层，使用单刃剃刀将银扁平随机取向层从玻璃面刮落。对10张玻璃板进行该操作，收集含有银扁平颗粒(銀平板)的粉末。此外，使用绕线棒No.10(R.D.S Webster N.Y.社制造)在另外的B4尺寸大玻璃板上涂布ITO硬膜涂布液(Mitsubishi Materials株式会社制造、EI-1)，使干燥后的层厚度为1.5μm，使用单刃剃刀从玻璃面刮落所得到的含有ITO颗粒的层。对10张玻璃板进行该操作，收集含有ITO颗粒的粉末。

将上述的含有银扁平颗粒的粉末与含有ITO颗粒的粉末加热至150℃进行混合，制成颗粒状态。向该颗粒10质量份中加入乙醇90质量份进行溶解，制成涂布液。使用该涂布液，利用绕线棒No.10(R.D.S Webster N.Y.社制造)涂布到PET膜上，使干燥后的层厚度为1.5μm，得到实施例5的遮热膜5。

-遮热玻璃的制作-

在实施例1中，不使用遮热膜1而使用遮热膜5，除此以外，与实施例1同样地得到实施例5的遮热玻璃5。

(比较例1：含有二亚铵系有机颜料的层和含有ITO的层)

-遮热膜的制作-

首先，按以下步骤得到包含含有二亚铵系有机颜料(其为一种有机系热射线屏蔽物质)的层的PET膜。

将甲基乙基酮20质量份、甲苯20质量份、丙烯酸类树脂(LP-45M、综研化学株式会社制造)50质量份、二亚铵系有机颜料(N,N,N,N-四(对二丁基氨基苯基)1,4苯亚胺鎓二(四氧氯酸)盐；IRG023、日本化药株式会社制造)5质量份、紫外线吸收剂2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并三唑(ChemiSorb79、Chemipro化成株式会社制造)5质量份搅拌混合，制成涂布液。使用该涂布液，利用绕线棒No.10(R.D.S Webster N.Y.社制造)涂布在50μm厚的PET膜(A4300、东洋纺纱株式会社制造)上，使其干燥后的层厚度为2.5μm，在100℃下干燥3分钟，从而得到包含含有二亚铵系有机颜料的层的PET膜。

接下来，使用绕线棒No.10(R.D.S Webster N.Y.社制造)在该PET膜的与二亚铵系物质涂布面相反的背面涂布ITO硬膜涂布液(Mitsubishi Materials株式会社制造、EI-1)，使其干燥后的层厚度为1.5μm，来得到比较例1的遮热膜A。

需要说明的是，比较例1的遮热膜A相当于日本特开2008-20525号公报所记载的热射线屏蔽膜。

-遮热玻璃的制作-

在实施例1中，不使用遮热膜1而使用遮热膜A，除此以外，与实施例1同样地得到比较例1的遮热玻璃A。

(比较例2：ITO单独分散层)

-遮热膜的制作-

使用绕线棒No.10(R.D.S Webster N.Y.社制造)在50μm厚的PET膜(A4300、东洋纺纱株式会社制造)的表面涂布ITO硬膜涂布液(Mitsubishi Materials株式会社制造、EI-1)，使其干燥后的层厚度为1.5μm，来得到比较例2的遮热膜B。

-遮热玻璃的制作-

在实施例1中，不使用遮热膜1而使用遮热膜B，除此以外，与实施例1同样地得到比较例2的遮热玻璃B。

(比较例3：银扁平颗粒单独分散层)

-遮热膜和遮热玻璃的制作-

在实施例1中，不涂布ITO硬膜涂布液，除此以外，与实施例1同样地制作比较例3的遮热膜C和遮热玻璃C。

接下来，与实施例1同样地对实施例2～5以及比较例1～3的遮热膜2～5和A～C、遮热玻璃2～5和A～C进行各种特性的评价。其中，在实施例3～5、比较例1和2中，由于不能进行面积率的测定，因而未测定面积率。结果列于表2。

如由表2所知，利用本发明的制造方法制造出的遮热膜和屏蔽玻璃可维持电波透过性，同时具有65%以上的高可见光线透过性、显示出高耐光性，可宽频带地屏蔽780nm～2,000nm的近红外线，并且在该近红外线下的平均透过率为20%以下。

[表2-1]

[表2-2]

工业实用性

本发明热射线屏蔽材料的可见光线透过性、电波透过性以及耐光性优异，可宽频带地屏蔽近红外线、近红外线的屏蔽率高，因而可适当地用作例如轿车、公共汽车等交通工具用玻璃、建材用玻璃等的要求防止热射线透过的各种部件。符号的说明

1 银扁平颗粒

2 金属氧化物颗粒

10 热射线屏蔽材料

11 基材

12 热射线屏蔽层

13 含银扁平颗粒层

14 金属氧化物颗粒层

Claims

1.一种热射线屏蔽材料，其特征在于，该热射线屏蔽材料具有热射线屏蔽层，该热射线屏蔽层含有银扁平颗粒与金属氧化物颗粒，其中，银扁平颗粒在热射线屏蔽层中的含量为0.02g/m²～0.20g/m²。

2.如权利要求1所述的热射线屏蔽材料，其中，金属氧化物颗粒为锡掺杂氧化铟颗粒。

3.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒具有60个数％以上的大致六边形或大致圆盘形的银扁平颗粒。

4.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒粒度分布的偏离系数为30％以下。

5.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，银扁平颗粒的平均粒径为40nm～400nm，银扁平颗粒的长厚比、即平均粒径/平均颗粒厚度为5～100。

6.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，金属氧化物颗粒在热射线屏蔽层中的含量为1.0g/m²～4.0g/m²。

7.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，该热射线屏蔽材料的可见光透过率为65％以上、且波长780nm～2,000nm的平均透过率为20％以下。

8.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，热射线屏蔽层是将银扁平颗粒与金属氧化物颗粒混合分散在粘结剂内而成的。

9.如权利要求1～2的任一项所述的热射线屏蔽材料，其中，热射线屏蔽层是将含银扁平颗粒层与含金属氧化物层层积而成的，所述含银扁平颗粒层含有银扁平颗粒，所述含金属氧化物层含有金属氧化物。