CN102741993A - 基板支承构件、基板搬送装置、基板搬送方法、曝光装置及元件制造方法 - Google Patents

Abstract

基板支承构件，具备：载置部(20)，载置基板(P)；以及多个支承部(20b)，是设于载置部(20)，支承载置于载置部(20)的基板(P)的一部分；多个支承部(20b)之中第1部分的支承部(20b)与第2部分的支承部(20b)，与载置有基板(P)的状态下的载置部(20)的弯曲量对应，相对于载置部(20)的高度彼此不同。

Description

基板支承构件、基板搬送装置、基板搬送方法、曝光装置及元件制造方法

技术领域

本发明是关于一种基板支承构件、基板搬送装置、基板搬送方法、曝光装置及元件制造方法。

本申请根据2009年12月16日在日本申请的日本特愿2009-285412号及日本特愿2009-285413号主张优先权，并将其内容援引于此。

背景技术

在平板显示器等的电子元件的工艺中，使用曝光装置或检查装置等大型基板的处理装置。在使用此等处理装置的曝光步骤、检查步骤，使用将大型基板(例如玻璃基板)搬送至处理装置的下述专利文献所揭示的搬送装置。

专利文献1：日本特开2004-273702号公报

发明内容

例如在专利文献1所揭示的上述大型基板的搬送装置，在将基板载置于基板支承构件并借由基板支承构件支承基板后，借由搬送臂等保持并搬送基板支承构件。因此，依基板支承构件的支承方法会有在搬送时使基板支承构件因本身重量而向下方弯曲的情形。又，在借由基板支承构件支承基板时，会有基板与基板支承构件密合，成为在该等之间不易产生滑动的状态的情形。此情形，若基板支承构件向下方弯曲，则会有在基板产生应力而使基板变形的情形。

例如在曝光装置，若将呈如上述变形状态的基板交接至曝光用的基板保持具，则会产生无法在基板上的适当位置进行既定曝光等的曝光不良的问题。

本发明的形态的目的在于提供一种可抑制在基板交接时产生的基板的变形的基板支承构件、基板搬送装置、基板搬送方法、曝光装置及元件制造方法。

本发明第1形态的基板支承构件，用以支承基板，其特征在于，具备：载置部，载置该基板；以及多个支承部，设于该载置部，支承载置于该载置部的该基板；该多个支承部之中第1部分的支承部与第2部分的支承部相对于该载置部的高度彼此不同。

本发明第2形态的基板搬送装置，用以搬送基板，其特征在于，具备：上述基板支承构件，用以支承该基板；以及搬送部，保持该基板支承构件并移动。

本发明第3形态的基板搬送方法，包含：支承上述基板支承构件的动作；使该基板载置于该基板支承构件的该载置部的动作；以及将该基板从该载置部交接至基板保持具的动作。

本发明第4形态的曝光装置，对基板保持具保持的基板照射曝光用光以使该基板曝光，其特征在于：具备将该基板搬送至该基板保持具的上述基板搬送装置。

本发明第5形态的元件制造方法，包含：使用上述曝光装置使该基板曝光的动作；以及根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。

本发明第6形态的基板搬送方法，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于，包含：支承该基板支承构件的既定被支承部的动作；将该基板载置于支承有该被支承部的该基板支承构件的动作；以及保持载置有该基板的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并使该基板支承构件移动的动作。

本发明第7形态的基板搬送装置，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于，具备：支承机构，支承该基板支承构件的既定被支承部；载置机构，将该基板载置于支承有该被支承部的该基板支承构件；以及搬送机构，保持载置有该基板的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并使该基板支承构件移动。

本发明第8形态的曝光装置，对基板保持具保持的基板照射曝光用光以使该基板曝光，其特征在于：具备将该基板搬送至该基板保持具的上述基板搬送装置。

本发明第9形态的元件制造方法，包含：使用上述曝光装置使该基板曝光的动作；以及根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。

本发明第10形态的元件制造方法，包含：使用上述基板搬送方法搬送该基板的动作；使该基板曝光的动作；以及根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。

根据本发明的形态，可抑制在基板交接时产生的基板的变形。

附图说明

图1是显示曝光装置的整体概略的剖面俯视图。

图2是搬送机器手的外观立体图。

图3是用以说明搬送机器手的动作的立体图。

图4A是显示搬出入部的概略构成的侧视图。

图4B是显示搬出入部与搬送机器手的关系的立体图。

图5A是显示托盘的平面构造的俯视图。

图5B是载置部的载置面附近的放大剖面图。

图6是显示托盘收容于基板保持具的槽部的状态的部分侧剖面图。

图7A是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图7B是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图7C是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图8A是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图8B是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图9A是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图9B是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图9C是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图9D是说明第1实施形态的基板交接步骤的示意图。

图10(a)～(c)是说明现有习知基板交接步骤的示意图。

图11(a)～(c)是说明现有习知基板交接步骤的示意图。

图12A是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。

图12B是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。

图12C是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。

图13A是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。

图13B是说明第2实施形态的基板交接步骤的示意图。

图14是说明本发明实施形态的元件制造方法的流程图。

【主要元件符号说明】

具体实施方式

参照图式说明本发明的第1实施形态。又，本发明并不限于此。以下，针对具备本发明的基板搬送装置、对涂布有感光剂的基板进行使液晶显示元件用图案曝光的曝光处理的曝光装置进行说明，且针对本发明的基板支承构件、元件制造方法、及基板搬送方法的一实施形态亦进行说明。

图1是显示本实施形态的曝光装置的概略构成的剖面俯视图。曝光装置1具备使液晶显示元件用图案曝光于基板的曝光装置本体3、搬送机器手(搬送部、搬送机构)4、搬出入部(搬送部)5、及具有托盘(基板支承构件)T的基板搬送装置7，该等是收纳于被高度洁净化、且调整至既定温度的腔室2内。本实施形态中，基板是大型玻璃板，其一边的尺寸为例如500mm以上。

图2是曝光装置本体3、及将基板P搬送至此曝光装置本体3的搬送机器手4的外观立体图。曝光装置本体3具备以曝光用光IL照明光掩膜M的未图示的照明系统、保持形成有液晶显示元件用图案的光掩膜M的未图示的光掩膜载台、配置于此光掩膜载台下方的投影光学系统PL、设成可在配置于投影光学系统PL下方的基座8上二维移动的基板保持具9、及保持基板保持具9且使该基板保持具9移动的移动机构33。亦即，曝光装置本体3，设有具备基板保持具9与移动机构33的载台装置。

此外，以下说明中，设基板保持具9相对基座8的二维移动是在水平面内进行，在此水平面内彼此正交的方向设定X轴及Y轴。基板保持具9对基板P的保持面，在基准状态(例如，进行基板P的交接时的状态)下设与水平面平行。又，在与X轴及Y轴正交的方向设定Z轴，投影光学系统PL的光轴设与Z轴平行。此外，将绕X轴、Y轴及Z轴的各方向分别称为θX方向、θY方向及θZ方向。

移动机构33具有移动机构本体35，及配置于移动机构本体35上、保持基板保持具9的板台34。移动机构本体35借由气体轴承以非接触方式支承于导引面8a(基座8的上面)，可在导引面8a上移动于XY方向。曝光装置本体3，在保持基板P的状态下，在光射出侧(投影光学系统PL的像面侧)，可在导引面8a的既定区域内移动。

移动机构本体35借由包含例如线性马达等致动器的粗动系统(移动机构)的作动，可在导引面8a上移动于XY平面内。板台34借由包含例如音圈马达等致动器的微动系统的作动，可相对移动机构本体35在Z轴、θX、θY方向移动。板台34借由包含粗动系统及微动系统的基板载台驱动系统的作动，在保持基板P的状态下，可在X轴、Y轴、Z轴、θX、θY、及θZ方向的六个方向移动。

搬送机器手4用以对曝光装置本体3及搬出入部5搬送基板P者。搬送机器手4保持托盘T，使装载于托盘T的基板P与托盘T一起移动以搬送基板P，对曝光装置本体3及搬出入部5交接基板P。

曝光装置1，在长方形基板P载置于上述基板保持具9上的状态下，进行步进扫描方式的曝光，形成于光掩膜M的图案依序转印至基板P上的多个、例如4个曝光区域(图案转印区域)。亦即，在此曝光装置1，进行下述扫描曝光，亦即借由来自照明系统的曝光用光IL照明光掩膜M上的狭缝状的照明区域的状态下，借由未图示的控制器通过未图示的驱动系统，使保持光掩膜M的光掩膜载台与保持基板P的基板保持具9同步移动于既定扫描方向(此处设为Y轴方向)，借此将光掩膜M的图案转印至基板P上的1个曝光区域。此外，本实施形态的曝光装置1构成投影光学系统PL具有多个投影光学模块、上述照明系统包含与多个投影光学模块对应的多个照明模块的所谓多透镜型扫描曝光装置。

在此1个曝光区域的扫描曝光结束后，进行使基板保持具9以既定量在X方向移动至下一个曝光区域的扫描开始位置的步进动作。接着，在曝光装置本体3，借由反复进行此种扫描曝光与步进动作，将光掩膜M的图案依序转印至4个曝光区域。

如图2所示，搬送机器手4具有例如水平关节型构造者，具备由通过垂直关节轴连结的多个部分构成的臂部10、连结于此臂部10前端的搬送手(保持臂)12、及驱动装置13。臂部10可借由驱动装置13例如在上下方向(Z轴方向)移动。驱动装置13借由未图示的控制装置控制其驱动。

搬送手12，前端部设成开放的大致U型的形状(图2中，从Z轴方向观察在+X方向开放的大致U字的形状)，将托盘T的长边方向(基板P的长边方向)的两侧部(被保持部)18，18支承于与托盘T的长边平行的支承方向，借此可通过托盘T保持基板P。

图3是用以说明搬送机器手4的动作的立体图。如图2及图3所示，搬送机器手4能以使搬送手12的长边方向(基板P的长边方向)朝向曝光装置本体3的基板保持具9侧的方式改变搬送手12的方向。借此，搬送机器手4将基板P交接至基板保持具9。

此外，此搬送机器手4，在图2及图3为了方便起见并未图示，但是具备设于搬送手12下方、具有与此搬送手12相同的机构且可独立驱动的搬送手的双臂构造。又，搬送机器手4并不限于水平关节型构造的机器手，可适当采用公知的机器手(一般而言为搬送机构)或组合来实现。

图4A是显示搬出入部5的概略构成的侧视图。搬出入部5被交接在与曝光装置1相邻配置的涂布显影机(未图示)涂布感光剂并搬送而来的基板P。搬出入部5具备支承基板P的基板支承部51、及支承托盘T的托盘支承部52。基板支承部51具备平板状的第1支承部51a、及竖设于此第1支承部51a上并分别支承基板P下面的不同部位的多个基板支承销(支承销)51b。

本实施形态中，基板支承销51b设置例如30个，在沿着大致水平面的状态下支承基板P。此处，沿着大致水平面的状态，是指在忽视例如支承于基板支承销51b导致的基板P的弯曲、基板支承销51b的定位误差、基板P的容许公差等时，基板P的基板面成为与水平面平行。

各基板支承销51b设成下端部固定于第1支承部51a、上端部(上端面)可支承基板P。在基板支承销51b的上端面设有连接于未图示的真空泵的吸附孔，可吸附保持基板P。又，在基板支承销51b的上端部设有检测基板P是否装载于基板支承销51b的未图示的基板检测部。

基板支承部51通过连结构件53连接于驱动部54。驱动部54例如借由包含粗动系统及微动系统的驱动系统的作动，在基座部55上可移动于XY平面及θZ方向。借此，搬出入部5可进行支承于基板支承销51b的基板P的位置修正、或使基板P旋转90度。

托盘支承部52具备框状的第2支承部52a、及竖设于此第2支承部52a上并分别支承托盘T下面的不同部位的多个托盘支承销(第2支承销)52b。

各托盘支承销52b设成下端部固定于第2支承部52a、上端部可支承托盘T。托盘支承销52b配置在较基板支承部51的第1支承部51a外侧。又，在托盘支承销52b的上端部设有检测托盘T是否装载于托盘支承销52b的未图示的托盘检测部。

托盘支承部52设成借由未图示的驱动部的作动可沿着导引部56移动于Z轴方向。导引部56设在基板支承部51的驱动部54及基座部55的外侧。又，基板支承部51的第1支承部51a、连结构件53及驱动部54配置于框状的第2支承部52a的内侧。借由此等托盘支承部52、导引部56及未图示的驱动部构成支承托盘T并使托盘T相对基板P移动的支承机构。

托盘支承部52能与基板支承部51的第1支承部51a、连结构件53及驱动部54不产生干涉地在Z轴方向移动。又，托盘支承部52，借由往Z轴正方向上升，能使支承于托盘支承销52b的托盘T往Z轴正方向上升，使支承于基板支承部51的基板支承销51b上的基板P装载于托盘T。又，托盘支承部52，将借由托盘支承销52b支承的托盘T交接至搬送机器手4的搬送手12。

图4B是显示搬送机器手4、搬出入部5及托盘T的关系的立体图。搬送机器手4的搬送手12，如图4B所示，在保持托盘T的托盘保持部12a具有供多个托盘支承销52b插通的多个缺口部12b。缺口部12b形成为托盘保持部12a的端缘侧开放的矩形。借此，在将搬送手12沿着两侧部18，18配置在托盘T侧方的下侧后，使搬送手12移动将托盘保持部12a配置在托盘T的两侧部18，18的下方时，搬送手12与托盘支承销52b不会干涉。

接着，详细说明托盘T的构造。图5A是显示托盘T的平面构造的俯视图。如图5A所示，托盘T具备借由在纵横以既定间隔交织的多条线状构件19形成格子状的载置部20。亦即，载置部20的未配置线状构件19的部分成为矩形的开口部21。托盘T，载置部20的两侧部18，18借由搬送手12支承的被支承部。此处，托盘T的被保持部即两侧部18，18借由配置在托盘T的短边方向的端部、在托盘T的长边方向延伸的线状构件19设置。

托盘T，在搬送基板P时，在两侧部18，18或其附近被支承的状态下，将基板P载置于载置部20的既定位置，从下方支承基板P。又，托盘T的形状并不限于图5A所示的形状，为例如仅形成一个开口部21的仅支承基板P的周缘部的框状的单一框架亦可。

图5B是托盘T的载置部20的载置基板P的载置面20a附近的放大剖面图。在载置部20设置支承载置于载置部20的基板P的一部分的多个支承部20b。支承部20b设成从载置部20的载置面20a突出，相对于载置部20的高度H在例如载置部20的中央部与周边部彼此不同。多个支承部20b分别的高度H，是与在支承托盘T的两侧部18，18、将基板P载置于载置部20的状态下的载置部20的弯曲量对应设定。

亦即，在载置部20的弯曲量大的部分，支承部20b的高度H设定较高，在载置部20的弯曲量小的部分，支承部20b的高度H设定较低。一般而言，托盘T的两侧部18，18被支承时的载置部20的弯曲量，具有在两侧部18，18附近较小、在两侧部18，18的中间部分附近成为最大的倾向。因此，一般而言，配置在托盘T的两侧部18，18(载置部20的周缘部)附近的支承部20b的高度H，相较于配置在其他部分的支承部20b的高度H较低。亦即，相较于配置在弯曲量较少的两侧部18，18附近的支承部20b的高度H，配置在弯曲量较多的部分、例如托盘T的两侧部18，18的中间部附近的支承部20b的高度H较高。

然而，会有托盘T因载置部20的构造或搬送基板P时被支承的被支承部的位置，存在有与上述弯曲量的倾向相反部分的情形。在此种情形，预先测量两侧部18，18被保持、载置有基板P的载置部20的各部分的弯曲量，与载置部20的各部分的弯曲量的大小对应，设定配置在各部分的支承部20b的高度H。亦即，多个支承部20b分别的高度H及配置，是考量载置部20的材质、形状及被支承部的位置决定。借此，多个支承部20b，在托盘T的被支承部即两侧部18，18被支承、在载置部20载置有基板P的状态下，将基板P支承成基板P的弯曲量小于载置部20的弯曲量。

作为托盘T的形成材料，较佳为使用在托盘T支承基板P时可抑制基板P的本身重量导致的弯曲的材料，例如可使用各种合成树脂或金属。具体而言，可举出尼龙、聚丙烯、AS(丙烯腈-苯乙烯共聚物)树脂、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)树脂、聚碳酸酯、纤维强化塑胶、不锈钢等。作为纤维强化塑胶，可举出GFRP(Glass Fiber Reinforced Plastic：玻璃纤维强化热硬化性塑胶)或CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic：碳纤维强化热硬化性塑胶)。又，交织成格子状的线状构件19，使用引线等柔软性优异的构件形成亦可。

又，本实施形态中，相对于托盘T的载置部20的支承部20b的高度H，以不仅补偿载置部20的弯曲量、亦补偿载置部20的载置面20a的凹凸等形状或公差等的方式进行调整。此外，多个支承部20b分别的高度H，在支承托盘T的两侧部18，18、在载置部20载置有基板P时，调整成与基板P抵接的支承部20b的上端分别配置在与水平面平行的相同假想平面上。此处，支承部20b的与基板P抵接的面，为了防止基板P与支承部20b的密合导致的吸附状态，基板P侧以成为凸的凸面曲状为佳。

又，多个支承部20b，在与托盘T的两侧部18，18的延伸方向(图5A的上下方向)例如垂直交叉的方向(图5A及图5B的左右方向)，相对于两侧部18，18的中间部呈对称配置。此配置在例如托盘T的两侧部18，18被支承时，与托盘T相对两侧部18，18的中间部对称弯曲对应。

借由以上构成，多个支承部20b，在支承托盘T的两侧部18，18、在载置部20载置有基板P的状态下，将基板P沿着水平面支承成大致平坦。此处，大致平坦是在忽视基板P被多个支承部20b及载置面20a支承导致的微小弯曲时，基板P成为沿着水平面的无起伏的平板状。

基板P配置成长边与托盘T的两侧部18，18平行。托盘T在两侧部18，18被搬送机器手4的搬送手12从下方支承的状态下，将基板P载置于载置部20并搬送(参照图2及图3)。

如上述，本实施形态的搬送机器手4的搬送手12作用为支承托盘T的被支承部即两侧部18，18的支承机构。又，搬送机器手4，借由搬送手12保持托盘T的两侧部18，18并使其移动，亦作用为将基板P载置于托盘T的两侧部18，18被支承的托盘T的载置机构。又，搬送机器手4，亦作用为保持载置有基板P的托盘T的两侧部18，18或其附近并使托盘T移动的搬送机构。

托盘T，载置部20的下面借由图4A所示的搬出入部5的托盘支承部52的多个托盘支承销52b支承。又，托盘T，如图4A所示在载置部20的下面借由托盘支承销52b支承的状态下，使基板支承部51的多个基板支承销51b插通于图5A所示的多个开口部21。

搬送机器手4，如图4B所示，在将搬送手12沿着托盘T的两侧部18，18配置在托盘T的侧方的下侧后，使搬送手12移动将托盘保持部12a配置在托盘T的两侧部18，18的下方。

如图2所示，在基板保持具9的上面形成有保持托盘T的槽部30。槽部30与托盘T的框架构造对应设成格子状。又，借由在基板保持具9的上面形成槽部30，岛状设置多个基板P的保持部(保持具部)31。亦即，槽部30是槽状设置于基板保持具9的保持部31，保持部31具有与托盘T的开口部21对应的尺寸。

保持部31的上面加工成基板保持具9对基板P的实质保持面具有良好平面度。再者，在保持部31的上面设置多个用以使基板P仿效此面密合的吸引孔K(参照图2)。各吸引孔K连接于未图示的真空泵。

图6是显示托盘T收容于基板保持具9的槽部30的状态的部分侧剖面图。如图6所示，托盘T的厚度小于槽部30的深度。借此，托盘T插入陷入槽部30内，成为保持部31从开口部21突出的状态，仅载置于托盘T上的基板P交接至保持部31。

在托盘T的载置部20的下面侧的四角形成圆锥状的凹部41，在槽部30内与各凹部41对应的位置设有卡合于凹部41的球状凸部42。托盘T，在载置部20插入至槽部30时，借由基板保持具9的凸部42卡合于载置部20的凹部41内，可防止收容于槽部30时的位置偏移。又，在搬送手12的托盘保持部12a亦形成有与载置部20的凹部41卡合的相同凸部12c(参照图7A～图7C)。

接着，说明曝光装置1的动作。具体而言，针对借由搬送机器手4将载置于托盘T的基板P与托盘T一起搬送以将基板P搬入及搬出的基板搬送方法进行说明。此处，针对将基板P载置至托盘T，将载置于此托盘T的基板P搬入、搬出曝光装置本体3的步骤进行说明。

涂布有感光剂的基板P是从涂布显影机搬送至图1所示的搬出入部5，定位载置于图4A所示的基板支承部51的基板支承销51b上的既定位置，吸附保持于基板支承销51b的上面。借比，基板P支承成与水平面大致平行的状态。若基板P吸附保持于基板支承销51b的上面，则基板支承部51在基板P吸附保持于基板支承销51b的上面的状态下，使驱动部54作动，使基板P对准于托盘T。借此，托盘T支承成在基板P下方与基板P对向与水平面大致平行的状态。

图7A～图7C及图8A～图8B是显示将基板P载置于托盘T的步骤的步骤图。

基板搬送装置7，在基板P与托盘T的对准结束后，使搬送机器手4驱动，如图4B所示，将搬送手12沿着两侧部18，18配置在托盘T的侧方的下侧。接着，如图7A所示，使设在搬送手12的托盘保持部12a的凸部12c与设在托盘T的载置部20的凹部41对准。

接着，基板搬送装置7，使搬送机器手4驱动，如图7B所示，使搬送手12沿着铅垂方向上升移动，使搬送手12的凸部12c与托盘T的凹部41卡合。之后，使搬送手12进一步沿着铅垂方向上升移动，如图7C所示，借由搬送手12支承托盘T的被支承部即两侧部18，18将托盘T举起。

于是，托盘T被往上举起至载置部20的两侧部18，18及其附近，两侧部18，18的中间部分成为相对向下方弯曲的状态，从两侧部18，18的附近与托盘支承销52b分离。若使搬送手12进一步沿着铅垂方向上升移动，则托盘T的两侧部18，18的中间部分最后从托盘支承销52b分离。借此，托盘T与多个托盘支承销52b完全离开，托盘T成为两侧部18，18被搬送手12支承的状态。

在此状态下，载置部20自托盘T支承成沿着水平面大致平坦的状态向下方的弯曲量，在两侧部18，18的附近较小，在两侧部18，18的中间部分的附近大致最大。在此状态下，若使搬送手12进一步沿着铅垂方向上升移动，则如图8A所示，托盘T的多个支承部20b与基板P下面抵接。

此处，多个支承部20b分别的高度H，在配置多个支承部20b的各位置，设定成与支承托盘T的两侧部18，18时的托盘T的变形量(弯曲的大小)对应的高度。具体而言，在支承托盘T的两侧部18，18、将基板P载置于载置部20时，与基板P抵接的支承部20b的上端，调整成分别配置在与水平面平行的相同假想平面上。是以，在基板P未载置于载置部20的状态下，托盘T成为稍微向上方弯曲的状态(位于托盘T的两侧部18，18的中间部分的支承部20b较配置在其他部分的支承部20b更突出至稍微上方的状态)。又，在基板P未载置于载置部20的状态下，以图5B的视点观察，在以平滑假想曲线连结支承部20b分别的上端时，在该曲线上托盘T的中间部分成为向上方弯曲(在上方具有凸的形状)的拱状(弧状)。

因此，若使搬送手12沿着铅垂方向上升移动，首先托盘T的两侧部18，18的中间部分或配置在其附近的支承部20b与基板P的下面的一部分抵接。接着，配置在该支承部20b的两侧部18，18侧的支承部20b依序与基板P的下面的一部分抵接。接着，基板P载置于托盘T的载置部20，如图8B所示，基板P从基板支承销51b交接至托盘T。

此时，托盘T的载置部20，两侧部18，18的中间部分因基板P的本身重量进一步向下方弯曲若干的弯曲量。借此，与基板P的下面的一部分抵接的多个支承部20b的上端分别配置在与水平面平行的相同假想平面上此外，载置于托盘T的载置部20的基板P借由多个支承部20b支承成与水平面大致平行且大致平坦。此处，在支承部20b的与基板P抵接的面形成为凸曲面状的情形，可防止支承部20b与基板P成为吸附状态，可更确实地防止在基板P产生托盘T的弯曲导致的应力。

如上述，本实施形态中，首先，在将基板P载置于托盘T之前，支承载置有基板P的托盘T的搬送时的被支承部即两侧部18，18，托盘T的形状在载置有基板P的状态下成为与搬送时的托盘T的形状相同的形状。此外，在使托盘T弯曲成该形状后，将基板P载置于托盘T。

接着，如图3所示，搬送机器手4从图2所示的状态改变搬送手12的方向以使搬送手12的长边方向(基板P的长边方向)朝向曝光装置本体3的基板保持具9侧。之后，使搬送手12移动，将载置有基板P的托盘T朝向基板保持具9上方搬送。搬送手12以基板P表面与基板保持具9的保持部31成为大致平行的方式搬送基板P。此处，大致平行是意指排除因本身重量导致的基板P的弯曲时平行或接近平行的状态。具体而言，搬送手12以托盘T的基板P的被保持部分与保持部31的基板载置面成为大致平行的方式搬送基板P。

图9A～图9D是说明从托盘T将基板P交接至曝光装置1的基板保持具9的步骤的步骤图。

搬送机器手4，如图9A所示，借由搬送手12将基板P向基板保持具9上方搬送，进行托盘T与槽部30的对准后，使图2所示的驱动装置13驱动以使搬送手12下降。于是，如图9B及图9C所示，托盘T收容于基板保持具9的槽部30，基板P载置于基板保持具9的保持部31上。此时，托盘T的载置部20成为两侧部18，18被支承、两侧部18，18的中间部向下方弯曲的状态，但基板P在借由支承部20b支承成与水平面大致平行且平坦的状态下交接至保持部31上。

如图9D所示，进一步使搬送手12下降后，托盘T的凹部41与基板保持具9的槽部30的凸部42卡合，托盘T从搬送手12交接至基板保持具9的槽部30。对基板保持具9的基板P的交接完成后，基板搬送装置7驱动搬送机器手4使搬送手12从基板保持具9上退开。在基板P载置至基板保持具9后，借由照明系统以曝光用光IL照明图2所示的光掩膜M。以曝光用光IL照明的光掩膜M的图案，是通过投影光学系统PL投影曝光于载置于基板保持具9的基板P。

在本实施形态的曝光装置1，如上述在基板P的交接时基板P几乎不弯曲，可将基板P良好地(亦即，在抑制变形产生的状态下)载置于基板保持具9上。因此可在基板P上的适当位置高精度进行既定曝光，可实现可靠性高的曝光处理。又，在曝光装置1，如上述可顺利进行对托盘T及基板保持具9的基板P的交接，因此可无延迟地进行对基板P的曝光处理。

另一方面，在现有习知基板搬送方法，具有图10及图11所示的下述问题。图10(a)～图10(c)是显示借由搬送手保持载置有基板的托盘的两侧部的步骤的步骤图。图11(a)～图11(c)是显示将基板及托盘交接至基板保持具的步骤的步骤图。

在现有习知基板搬送方法，首先，如图10(a)所示，在将基板载置于托盘的状态下，借由多个支承销从下方支承托盘。接着，如图10(b)所示，使搬送手上升移动，借由搬送手保持托盘的两侧部。接着，如图10(c)所示，使搬送手进一步上升移动，使托盘从多个支承销离开后，使搬送手朝向基板保持具移动以搬送基板。

然而，如图10(a)所示，若将基板载置于托盘，则会有基板与托盘密合而成为彼此不易产生滑动的状态的情形。在此状态下，如图10(b)所示，若保持托盘的两侧部举起托盘，则托盘的弯曲逐渐增加，另一方面，基板无法相对托盘往箭头方向移动，基板成为朝向两侧部的中间部被压缩的状态。于是，如图10(c)所示，基板的两侧部的中间部膨胀般地变形。将此种变形状态的基板交接至基板保持具时，在基板保持具的保持部与基板之间不会产生充分滑动，在基板保持具上无法消除基板的变形的情形，有可能会对曝光处理造成不良影响。

又，假设，在借由搬送手保持载置有基板的托盘的两侧部时，即使在托盘与基板之间产生滑动而消除基板的变形的情形，如图11(a)所示，由于基板沿着托盘弯曲，因此以图的虚线所示的基板端部彼此的距离小于平坦状态的基板端部彼此的距离。在此状态下，如图11(b)所示，在使托盘下降将基板交接至基板保持具的保持部时，在基板保持具的保持部与基板之间不会产生充分滑动的情形，会有基板无法相对基板保持具的保持部往箭头方向移动的情形。于是，如图11(c)所示，交接至基板保持具的保持部的基板端部彼此的距离与图11(a)般弯曲状态的基板端部间的距离大致相等，基板成为朝向两侧部的中间部被压缩而缩小的状态。如上述，在基板被压缩而缩小的状态下，有可能会对曝光处理造成不良影响。

然而，根据本实施形态的具备托盘T的基板搬送装置7的基板搬送方法，如图8A～图8B所示，在借由搬送手12保持载置有基板P的托盘T并搬送时，基板P借由多个支承部20b支承，不会如以往般变形。又，如图9A～图9D所示，可将与水平面大致平行且平坦状态的基板P交接至基板保持具9的保持部31。是以，可消除所有图10(a)～图10(c)所示的以往基板P的变形产生的问题、图11(a)～图11(c)所示的基板P的压缩产生的问题、或此等的组合产生的问题。

接着，针对曝光处理结束后的从基板保持具9的基板P的搬出动作进行说明。此外，以下的说明中虽说明搬送手12进行基板P的搬出，但双手构造中的另一个搬送手进行搬出亦可。

曝光处理结束后，搬送机器手4驱动搬送手12，在载置于基板保持具9上的托盘T的下方将搬送手12从-Y方向侧插入至基板保持具9的X轴方向两侧。与此同时，借由未图示的控制装置解除真空泵的吸引，解除基板保持具9进行的基板P的吸附。

接着，搬送手12被驱动装置13往上方驱动既定量后，搬送手12的托盘保持部12a的凸部12c卡合于托盘T的载置部20的两侧部18，18的下面的凹部41。搬送手12进一步被往上方驱动后，载置于基板保持具9的保持部31的基板P交接至托盘T。此外，真空泵的吸引(基板保持具9进行的基板P的吸附)的解除只要在凸部12c卡合于凹部41的前进行即可。此时，根据本实施形态，如上述，由于基板P的一部分被设在载置部20的多个支承部20b支承，因此可在较以往平坦的状态下将基板P载置于托盘T的载置部20上。搬送手12进一步被往上方驱动后，支承基板P的托盘T往基板保持具9的上方被举起，载置部20从基板保持具9离开。

在托盘T被举起至此载置部20与基板保持具9离开的位置的时点，保持基板P的托盘T借由搬送手12而从基板保持具9上退开。以此方式，完成对曝光装置本体3的基板P的搬出动作。

接着，援引图1～图6及图9A～图9D，使用图12A～图12C及图13A～图13B说明本发明的第2实施形态。本实施形态的基板搬送装置7A，在搬出入部5A支承托盘T的多个托盘支承销(第2支承销)52b设成仅支承托盘T的两侧部18，18或其附近的点与上述第1实施形态的基板搬送装置7不同。其他点则与第1实施形态的基板搬送装置7相同，因此对相同部分赋予相同符号以省略说明。

图12A～图12C及图13A～图13B是显示将基板P载置于托盘T的步骤的步骤图。以下，说明本实施形态的曝光装置1的动作。具体而言，针对借由搬送机器手4将载置于托盘T的基板P与托盘T一起搬送以将基板P搬入及搬出的基板搬送方法进行说明。此处，针对将基板P载置至托盘T，将载置于此托盘T的基板P搬入、搬出曝光装置本体3的步骤进行说明。

与第1实施形态相同，涂布有感光剂的基板P从涂布显影机搬送至与图1所示的搬出入部5相同的搬出入部5A，定位载置于图4A所示的基板支承部51的基板支承销51b上的既定位置，吸附保持于基板支承销51b的上面。若基板P吸附保持于基板支承销51b的上面，则基板支承部51在基板P吸附保持于基板支承销51b的上面的状态下，使驱动部54作动，使基板P对准于托盘T。

此处，本实施形态中，如图4B所示，支承托盘T的多个托盘支承销52b沿着托盘T的两侧部18，18配置。此外，各托盘支承销52b仅支承托盘T的两侧部18，18或其附近。借此，托盘T在与基板P载置于载置部20并借由搬送手12支承两侧部18，18时的托盘T的形状相同的形状且因托盘T的本身重量而弯曲的状态下，与基板P对向支承于基板P的下方。

基板搬送装置7A，在基板P与托盘T的对准结束后，借由未图示的驱动部使图4A所示的托盘支承部(支承机构)52沿着导引部56上升移动。借此，如图12A所示，借由托盘支承销52b支承的托盘T以接近基板P的方式上升移动。接着，如图12B所示，设在托盘T的载置部20的多个支承部20b与基板P的下面抵接。

在此状态下，若使托盘T进一步上升移动，则如图12C所示，基板P从多个基板支承销51b分离并载置于托盘T的载置部20。借由上述，基板P从基板支承销51b交接至托盘T。如上述，本实施形态中，搬出入部5A作用为支承托盘T的既定被保持部即两侧部18，18的支承机构，且作用为将基板P载置于两侧部18，18被支承的托盘T的载置机构。

此处，托盘T，多个支承部20b分别的高度H，在支承托盘T的两侧部18，18、将基板P载置于载置部20时，与基板P抵接的多个支承部20b的上端，调整成分别配置在与水平面平行的相同假想平面上。借此，与第1实施形态相同，载置于托盘T的载置部20的基板P借由多个支承部20b支承成与水平面大致平行且大致平坦。

如上述，本实施形态中，与第1实施形态相同，在将基板P载置于托盘T之前，支承载置有基板P的托盘T的搬送时的被支承部即两侧部18，18，使载置有基板P前的托盘T的形状成为与载置有基板P的状态下搬送时的托盘T的形状相同的形状。此外，在使托盘T弯曲成该形状后，将基板P载置于托盘T。

接着，基板搬送装置7A，使搬送机器手4驱动，如图12C所示，将搬送手12沿着两侧部18，18配置在托盘T的侧方下侧。接着，如图13A所示，使搬送手12移动，使设在搬送手12的托盘保持部12a的凸部12c与设在托盘T的载置部20的凹部41对准。

接着，基板搬送装置7A，使搬送机器手4驱动，如图13B所示，使搬送手12上升移动，使搬送手12的凸部12c与托盘T的凹部41卡合。之后，使搬送手12进一步沿着铅垂方向上升移动，借由搬送手12支承托盘T的被支承部即两侧部18，18将托盘T举起。

接着，如图3所示，与第1实施形态相同，搬送机器手4从图2所示的状态改变搬送手12的方向以使搬送手12的长边方向朝向曝光装置本体3的基板保持具9侧。之后，使搬送手12移动，将载置有基板P的托盘T朝向基板保持具9上方搬送。接着，与图9A～图9D所示的第1实施形态相同，将基板P从托盘T交接至曝光装置1的基板保持具9。

如以上说明，根据具备本实施形态的托盘T的基板搬送装置7A的基板搬送方法，如图12A～图12C及图13A～图13B所示，借由搬送手12保持载置有基板P的托盘T并搬送时，基板P不会如以往般变形。又，如图9A～图9D所示，可将与水平面大致平行且平坦状态下的基板P交接至基板保持具9的保持部31。是以，可消除所有图10(a)～图10(c)所示的以往基板P的变形产生的问题、图11(a)～图11(c)所示的基板P的压缩产生的问题、或此等的组合产生的问题。

此外，上述实施形态中，虽说明托盘的被保持部设在两侧部的构成，但被支承部设在例如两侧部的中间部等两侧部以外的部分亦可。又，上述各实施形态中，虽说明将基板载置于托盘时使配置在基板下方的托盘相对基板上升移动的情形，但使配置在托盘上方的基板相对托盘下降移动以载置于托盘亦可。

又，作为上述实施形态的基板P，不仅适用显示器元件用的玻璃基板，亦适用于半导体元件制造用的半导体晶圆、薄膜磁头用的陶瓷晶圆、或曝光装置所使用的光掩膜或标线片的原版(合成石英、硅晶圆)等。

又，作为曝光装置，除了适用使光掩膜M与基板P同步移动以经由光掩膜M的图案的曝光用光IL使基板P扫描曝光的步进扫描方式的扫描型曝光装置(扫描步进器)外，亦可适用于在光掩膜M与基板P静止的状态下使光掩膜M的图案一次曝光、使基板P依序步进移动的步进重复方式的投影曝光装置(步进器)。

又，本发明亦可适用于美国专利第6341007号说明书、美国专利第6208407号说明书、美国专利第6262796号说明书等所揭示的具备多个基板载台的双载台型曝光装置。

又，本发明亦可适用于美国专利第6897963号说明书、欧洲专利申请公开第1713113号说明书等所揭示的具备保持基板的基板载台及不保持基板、装载形成有基准标记的基准构件及/或各种光电感测器的测量载台的曝光装置。又，可采用具备多个基板载台及测量载台的曝光装置。

此外，上述实施形态中，虽使用在光透射性基板上形成既定遮光图案(或相位图案、减光图案)的光透射型光掩膜，但替代此光掩膜，使用例如美国专利第6778257号说明书所揭示的根据待曝光图案的电子资料形成透射图案或反射图案、或发光图案的可变成形光掩膜(亦称为电子光掩膜、主动光掩膜、或影像产生器)亦可。又，替代具备非发光型影像显示元件的可变成形光掩膜，具备包含自发光型影像显示元件的图案形成装置亦可。

上述实施形态的曝光装置，是以保持既定机械精度、电气精度、光学精度的方式组装包含本案权利要求记载的各构成要素的各种子系统来制造。为了确保该等各种精度，在该组装前后对各种光学系统进行用以达成光学精度的调整，对各种机械系统进行用以达成机械精度的调整，对各种电气系统进行用以达成电气精度的调整。

从各种子系统至曝光装置的组装步骤，包含各种子系统相互的机械连接、电路的配线连接、气压回路的配管连接等。在从各种子系统至曝光装置的组装步骤之前，当然有各子系统个别的组装步骤。在各种子系统至曝光装置的组装步骤结束后，进行综合调整以确保曝光装置整体的各种精度。此外，曝光装置的制造以在温度及真空度等受到管理的无尘室进行为佳。

半导体元件等的微元件，如图14所示，是经由下述步骤制造，即进行微元件的功能/性能设计的步骤201、根据该设计步骤制作光掩膜(标线片)的步骤202、制造元件的基材即基板的步骤203、包含基板处理(曝光处理)(包含根据上述实施形态使用光掩膜的图案以曝光用光使基板曝光的动作、及使曝光后基板(感光剂)显影的动作)的基板处理步骤204、元件组装步骤(包含切割步骤、接合步骤、封装步骤等的加工程序)205、以及检查步骤206等。此外，在步骤204，包含借由使感光剂显影，形成与光掩膜的图案对应的曝光图案层(显影后感光剂的层)，通过该曝光图案层对基板加工的动作。

此外，上述实施形态的要件可适当加以组合。又，亦有未使用一部分的构成要素的情形。又，在法令容许的范围内，援引在上述实施形态引用的关于曝光装置等的所有公开公报及美国专利的揭示作为本说明书记载的一部分。

Claims (49)

1.一种基板支承构件，用以支承基板，其特征在于，具备：

载置部，载置该基板；以及

多个支承部，设于该载置部，支承载置于该载置部的该基板；

该多个支承部之中第1部分的支承部与第2部分的支承部相对于该载置部的高度彼此不同。

2.如权利要求1的基板支承构件，其特征在于其中，该多个支承部，在该基板载置于该载置部的状态下，将该基板支承成该基板的弯曲量小于该载置部的弯曲量。

3.如权利要求2的基板支承构件，其特征在于其中，该多个支承部，在该基板载置于该载置部的状态下，将该基板支承成大致平坦。

4.如权利要求1至3中任一项的基板支承构件，其特征在于其中，该第1部分的支承部与该第2部分的支承部，与载置有该基板的状态下的该载置部的弯曲量对应，相对于该载置部的高度彼此不同。

5.如权利要求1至4中任一项的基板支承构件，其特征在于其中，该第1部分的支承部，相较于该第2部分的支承部，设在该载置部的弯曲量大的位置；

该第1部分的支承部的该高度较该第2部分的支承部的该高度高。

6.如权利要求1至5中任一项的基板支承构件，其特征在于其中，配置在该载置部的被支承部附近的该支承部的该高度较配置在其他位置的该支承部的该高度低。

7.如权利要求1至6中任一项的基板支承构件，其特征在于其中，该多个支承部，相对于该载置部的两侧部的中间部呈对称配置。

8.如权利要求1至7中任一项的基板支承构件，其特征在于其中，该多个支承部相对该载置部的配置及该高度，根据该载置部的材质、形状及被支承部的位置决定。

9.如权利要求1至8中任一项的基板支承构件，其特征在于其中，该支承部的与该基板抵接的面为凸曲面。

10.一种基板搬送装置，用以搬送基板，其特征在于，具备：

权利要求1至9中任一项的基板支承构件，用以支承该基板；以及

搬送部，保持该基板支承构件并移动。

11.如权利要求10的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送部保持该载置部的两侧部。

12.如权利要求9或11的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送部，使该基板支承构件朝向保持该基板的基板保持具移动，将该基板支承构件支承的该基板交接至该基板保持具。

13.如权利要求12的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送部将该基板支承构件交接至该基板保持具。

14.如权利要求13的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送部，将该基板交接至该基板保持具之中用以载置该基板的保持具部，将该基板支承构件交接至该基板保持具之中与该保持具部不同的部分。

15.如权利要求14的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送部将该基板支承构件交接至对该基板保持具之中该保持具部槽状设置的槽部。

16.如权利要求10至15中任一项的基板搬送装置，其特征在于其具备支承该基板的多个支承销；

该基板支承构件具有供该多个支承销插通的多个插通孔；

该搬送部，使该多个支承销之中至少一部分支承销插通于该多个插通孔的该基板支承构件上升移动，以使该多个支承销所支承的该基板支承于该基板支承构件。

17.如权利要求16的基板搬送装置，其特征在于其中，该多个支承销将该基板以大致沿着水平面的状态支承；

该搬送部，使该基板以大致沿着水平面的状态支承于该基板支承构件的该支承部。

18.一种基板搬送方法，其特征在于包含：

支承权利要求1至9中任一项的基板支承构件的动作；

使该基板载置于该基板支承构件的该载置部的动作；以及

将该基板从该载置部交接至基板保持具的动作。

19.如权利要求18的基板搬送方法，其特征在于其中，在支承该基板支承构件之后，使该基板载置于该载置部，借由该支承部将该基板的一部分支承成该基板的弯曲量小于该载置部的弯曲量。

20.如权利要求19的基板搬送方法，其特征在于其中，在支承该基板支承构件的两侧部之后，使该基板载置于该载置部，借由该支承部将该基板以大致沿着水平面的状态支承。

21.一种曝光装置，对基板保持具保持的基板照射曝光用光以使该基板曝光，其特征在于：

具备将该基板搬送至该基板保持具的权利要求10至17中任一项的基板搬送装置。

22.一种元件制造方法，其特征在于包含：

使用权利要求21的曝光装置使该基板曝光的动作；以及

根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。

23.一种基板搬送方法，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于，包含：

支承该基板支承构件的既定被支承部的动作；

将该基板载置于支承有该被支承部的该基板支承构件的动作；以及

保持载置有该基板的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并使该基板支承构件移动的动作。

24.一种基板搬送方法，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于：

在以该基板支承构件的形状、与在支承该基板的状态下搬送时的该基板支承构件的形状成为相同形状的方式支承该基板支承构件之后，将该基板载置于该基板支承构件并搬送该基板。

25.如权利要求23或24的基板搬送方法，其特征在于其中，在使该基板与该基板支承构件对向的状态下支承该基板支承构件，使该基板支承构件相对该基板移动以将该基板载置于该基板支承构件。

26.如权利要求25的基板搬送方法，其特征在于其中，在以大致沿着水平面的状态支承的该基板的下方支承该基板支承构件，使该基板支承构件相对该基板往沿着大致铅垂方向的方向移动以将该基板载置于该基板支承构件。

27.如权利要求23至26中任一项的基板搬送方法，其特征在于其中，在将该基板载置于该基板支承构件时，借由设在该基板支承构件的支承部支承该基板的一部分。

28.如权利要求27的基板搬送方法，其特征在于其中，在将该基板载置于该基板支承构件时，借由该支承部将该基板以大致沿着水平面的状态支承。

29.如权利要求23的基板搬送方法，其特征在于其中，该被支承部设在至少该基板支承构件的两侧部。

30.如权利要求23至29中任一项的基板搬送方法，其特征在于其中，将支承该基板的状态的该基板支承构件往保持该基板的基板保持具搬送，将该基板支承构件支承的该基板交接至该基板保持具。

31.如权利要求30的基板搬送方法，其特征在于其中，将该基板支承构件交接至该基板保持具。

32.如权利要求31的基板搬送方法，其特征在于其中，将该基板交接至该基板保持具之中用以载置该基板的保持具部，将该基板支承构件交接至该基板保持具之中与该保持具部不同的部分。

33.如权利要求32的基板搬送方法，其特征在于其中，将该基板支承构件交接至对该基板保持具之中该保持具部槽状设置的槽部。

34.一种基板搬送装置，将载置于基板支承构件的基板与该基板支承构件一起搬送，其特征在于，具备：

支承机构，支承该基板支承构件的既定被支承部；

载置机构，将该基板载置于支承有该被支承部的该基板支承构件；以及

搬送机构，保持载置有该基板的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并使该基板支承构件移动。

35.如权利要求34的基板搬送装置，其特征在于其中，该支承机构，以该基板支承构件的弯曲形状、与借由该搬送机构保持时的该基板支承构件的弯曲形状成为相同形状的方式支承该基板支承构件的该被支承部。

36.如权利要求34或35的基板搬送装置，其特征在于其中，该被支承部设在至少该基板支承构件的两侧部。

37.如权利要求34至36中任一项的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送机构，使该基板支承构件往保持该基板的基板保持具移动，将该基板支承构件支承的该基板交接至该基板保持具。

38.如权利要求37的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送机构，将该基板支承构件交接至该基板保持具。

39.如权利要求38的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送机构，将该基板交接至该基板保持具之中用以载置该基板的保持具部，将该基板支承构件交接至该基板保持具之中与该保持具部不同的部分。

40.如权利要求39的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送机构，将该基板支承构件交接至对该基板保持具之中该保持具部槽状设置的槽部。

41.如权利要求34至40中任一项的基板搬送装置，其特征在于其具备支承该基板的多个支承销；

该基板支承构件具有供该多个支承销插通的多个插通孔；

该载置机构，使该支承机构以该多个支承销之中至少一部分支承销插通于该多个插通孔的状态支承的该基板支承构件上升移动，以使该多个支承销所支承的该基板载置于该基板支承构件。

42.如权利要求41的基板搬送装置，其特征在于其中，该多个支承销将该基板以大致沿着水平面的状态支承；

该载置机构，在使该基板支承于该基板支承构件时，使该基板以大致沿着水平面的状态支承于设在该基板支承构件、支承该基板的一部分的支承部。

43.如权利要求34至42中任一项的基板搬送装置，其特征在于其中，该支承机构具备支承该基板支承构件的该被支承部的保持臂；

该载置机构使该多个支承销支承的该基板与该保持臂相对移动，以使该基板载置于该基板支承构件；

该搬送机构使保持该基板支承构件的该保持臂移动。

44.如权利要求34至42中任一项的基板搬送装置，其特征在于其中，该支承机构具备支承该基板支承构件的该被支承部的多个第2支承销；

该载置机构使该多个支承销支承的该基板与该多个第2支承销相对移动，以使该基板载置于该基板支承构件；

该搬送机构具备搬送臂，该搬送臂保持该多个第2支承销支承的该基板支承构件的该被支承部或该被支承部的附近并移动。

45.如权利要求44的基板搬送装置，其特征在于其中，该多个第2支承销使该基板支承构件上升移动，将该基板载置于该基板支承构件。

46.如权利要求44的基板搬送装置，其特征在于其中，该搬送臂具有供该多个第2支承销插通的缺口部，在该基板载置于该基板支承构件之后，保持该被支承部并上升移动。

47.一种曝光装置，对基板保持具保持的基板照射曝光用光以使该基板曝光，其特征在于：

具备将该基板搬送至该基板保持具的权利要求34至46中任一项的基板搬送装置。

48.一种元件制造方法，其特征在于包含：

使用权利要求47的曝光装置使该基板曝光的动作；以及

根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。

49.一种元件制造方法，其特征在于包含：

使用权利要求23至33中任一项的基板搬送方法搬送该基板的动作；

使该基板曝光的动作；以及

根据曝光结果处理曝光后的该基板的动作。

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