CN102502663A - 一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法 - Google Patents
一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102502663A CN102502663A CN2011103547581A CN201110354758A CN102502663A CN 102502663 A CN102502663 A CN 102502663A CN 2011103547581 A CN2011103547581 A CN 2011103547581A CN 201110354758 A CN201110354758 A CN 201110354758A CN 102502663 A CN102502663 A CN 102502663A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- silica
- hydrophobic nano
- preparation
- silicon
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 72
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 22
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 claims description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- -1 organic acid compound Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 claims description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 abstract 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 10
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 8
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 4
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 4
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 4
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 3
- 239000002283 diesel fuel Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- OEOIWYCWCDBOPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-heptanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCC(O)=O OEOIWYCWCDBOPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) silicon(4+) titanium(4+) Chemical compound [Si+4].[O-2].[O-2].[Ti+4] VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N perfluorooctanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本发明属于纳米材料技术领域，具体涉及一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法。将四氯化硅加入碱性溶液中进行水解反应制备二氧化硅，在反应液中加入有机修饰剂后进行反应，然后水洗、干燥获得疏水性纳米二氧化硅；或者对反应液水洗后加入有机修饰剂进行反应，然后干燥获得疏水性纳米二氧化硅。本发明有效地解决了光伏产业和其他工业生产中的副产物四氯化硅的利用问题，是一种简单、快捷、安全可控、成本较低并可大规模处理四氯化硅的方法。
Description
技术领域
本发明属于纳米材料技术领域，具体涉及一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法。
背景技术
随着我国近年来光伏产业的加速发展，多晶硅产量急剧增加，而每生产1吨的多晶硅，就会产生10-20吨四氯化硅副产品。四氯化硅是一种具有强腐蚀性的有毒有害液体，极易与水反应生成硅酸和氯化氢，直接排放严重污染环境，并严重威胁着人们的生命安全，如何安全处理四氯化硅已成为制约多晶硅发展的瓶颈。
目前处理四氯化硅的方法主要有两种：一种是气相法制备二氧化硅，这种方法主要集中在发达国家的少数大型公司。该法设备投入大，能耗大，从而导致消耗的四氯化硅量很少。另一种是在高温高压下利用氢气将其还原为多晶硅的主要原料三氯氢硅，再加工合成多晶硅。这种方法目前最大的问题是产物三氯氢硅的收率不够高，项目能耗大，投资规模高，回收三氯氢硅的成本还可能高于直接生产三氯氢硅的成本。
近来有专利报道利用四氯化硅在碱性条件下制备二氧化硅，此法虽然操作简单，经济成本低，但是制备出的二氧化硅分散性较差，易于团聚，难于在有机材料和聚合物中很好的分散。如能改善制备出的二氧化硅的分散性，获得疏水性的纳米二氧化硅，将为四氯化硅的安全经济处理开辟一条新的途径。
发明内容
本发明的目的在于提供一种利用四氯化硅为原料制备疏水性纳米二氧化硅的方法。
本发明采用的技术方案如下：
一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法，将四氯化硅加入碱性溶液中进行水解反应制备二氧化硅，在反应液中加入有机修饰剂后进行反应，然后水洗、干燥获得疏水性纳米二氧化硅；或者对反应液水洗后加入有机修饰剂进行反应，然后干燥获得疏水性纳米二氧化硅。
进一步，四氯化硅在碱性溶液中水解制备二氧化硅的步骤如下：搅拌条件下在碱的水溶液中加入四氯化硅至溶液pH值为3-5或8-10，温度控制在室温和100℃之间，反应1-10h。
碱在水中的质量浓度为2-40%。
四氯化硅滴加时优选缓慢滴加，时间控制在5-15min为宜。
所述的碱为（偏）硅酸钠、碳酸钠、氢氧化钠、氨或胺。
在水洗或未经水洗的反应液中加入表面修饰剂后，在室温与100℃之间反应1-10h。
所述的有机修饰剂为有机硅化合物和/或有机酸化合物，所述的修饰剂带有三甲基、二甲基、乙基、乙烯基、氟代烷基中的一种或几种疏水性基团。
有机硅化合物为碳链长度为1-20的烷氧基硅烷、氯硅烷或硅氮烷；有机酸分子式为RCOOH，其中R的碳链长度为2-20。
有机修饰剂和反应液中生成的二氧化硅的物质的量比为1:2-15。
所述的干燥为烘干或喷雾干燥。
烘干的温度优选控制为100-200℃，以防止修饰剂的脱落。
制备过程中水洗的目的是除去反应的副产物。
更为具体的，步骤为：搅拌下将四氯化硅直接注入到碱性水溶液中，控制反应温度和溶液的pH值，加入有机修饰剂，反应一定时间后得纳米二氧化硅乳液。然后经水洗、干燥工艺，制得具有疏水性的纳米二氧化硅产品。修饰剂也可以在水洗后加入，同样可得到疏水性纳米二氧化硅。
该方法制备的纳米二氧化硅颗粒尺寸在5-100nm之间且粒径分布均匀，在多种有机溶剂如四氯化碳、甲苯、柴油、液体石蜡和聚合物中具有良好的分散性，可用于涂料、润滑油等材料的改性以及橡胶、纤维等高分子材料的补强增韧，有着良好的工业应用前景。
本发明针对目前多晶硅产业中的副产物四氯化硅无法高效处理、投资高、成本大等问题，利用四氯化硅水解制备二氧化硅的同时，结合表面有机改性技术，得到粒径可控的纳米粒子，且原位表面修饰法有效的阻止了纳米粒子团聚，增加其在有机介质及聚合物材料中的分散能力。通过修饰剂的引入，使纳米二氧化硅不仅在有机介质中具有良好的分散性，而且由于其表面带有可反应性官能团，因此有着良好的工业应用前景。同时获得的纳米二氧化硅也有很高的疏水性。本发明提供的制备方法简单，工艺易于控制，能耗低，生产成本低，产品质量好，且很好的合理处理了多晶硅产业副产的四氯化硅，适合于大规模的工业应用。
本发明相对于现有技术，有以下优点：
本发明有效地解决了光伏产业和其他工业生产中的副产物四氯化硅的利用问题，是一种简单、快捷、安全可控、成本较低并可大规模处理四氯化硅的方法。
附图说明
图1为实施例4疏水性纳米二氧化硅的分散情况照片，溶剂从左至右依次为柴油、四氯化碳和水；
图2为水滴在实施例4疏水性纳米二氧化硅膜上的接触角图片。
具体实施方式
以下以具体实施例来说明本发明的技术方案，但本发明的保护范围不限于此：
实施例1
称取23g偏硅酸钠于140ml去离子水中，转移至250ml三口烧瓶。于室温机械搅拌下逐渐滴加四氯化硅直至溶液的pH值为8，控制滴加时间8min，之后再反应1h；然后按修饰剂：二氧化硅的摩尔比为1:2加入修饰剂KH151(乙烯基三乙氧基硅烷)，在60℃反应8h得二氧化硅乳液。所得乳液用去离子水洗涤，直至副产物除去。将所得产品经抽滤、100℃烘干得疏水性纳米二氧化硅。
实施例2
称取23g偏硅酸钠于160ml去离子水中，转移至250ml三口烧瓶。机械搅拌下逐渐滴加四氯化硅直至溶液的pH值为4，控制滴加时间为15min，反应温度40℃，滴加完毕后再反应2h；然后加入混合修饰剂，其中按摩尔比，KH570（γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷）：二氯二甲基硅烷：二氧化硅=1:4:20加入，在50℃反应3h，80℃反应4h得二氧化硅乳液。所得乳液用去离子水洗涤，直至副产物除去。将所得产品经抽滤、150℃烘干得疏水性纳米二氧化硅。
实施例3
称取31g泡花碱于170ml去离子水中，转移至250ml三口烧瓶。机械搅拌下逐渐滴加四氯化硅直至溶液的pH值为9，控制反应温度50℃，滴加时间5min，滴加完毕后再反应4h得二氧化硅乳液。所得乳液用自来水洗涤，直至副产物除去。将洗涤后的滤饼分散于去离子水，加入混合修饰剂，其中按摩尔比，异辛酸：全氟辛酸：二氧化硅=1:6:15，在70℃反应7h得二氧化硅乳液，将所得产品经抽滤、190℃烘干得疏水性纳米二氧化硅。
实施例4
称取21g泡花碱于175ml去离子水中，转移至250ml三口烧瓶。机械搅拌下逐渐滴加四氯化硅直至溶液的pH值为8，控制反应温度60℃，滴加时间10min，之后反应3h。然后按修饰剂：二氧化硅的摩尔比1:8加入修饰剂六甲基二硅氮烷，在70℃反应4h得二氧化硅乳液。所得乳液用去离子水洗涤，直至副产物除去。将所得产品经抽滤、120℃烘干得疏水性纳米二氧化硅。
上述实施例为本发明优选的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本发明所作的改变均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1. 一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，将四氯化硅加入碱性溶液中进行水解反应制备二氧化硅，在反应液中加入有机修饰剂后进行反应，然后水洗、干燥获得疏水性纳米二氧化硅；或者对反应液水洗后再加入有机修饰剂进行反应，然后干燥获得疏水性纳米二氧化硅。
2.如权利要求1所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，在水洗或未经水洗的反应液中加入表面修饰剂后，在室温与100℃之间反应1-10h。
3.如权利要求2所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述的有机修饰剂为有机硅化合物和/或有机酸化合物，所述的修饰剂带有三甲基、二甲基、乙基、乙烯基、氟代烷基中的一种或几种疏水性基团。
4.如权利要求3所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，有机硅化合物为碳链长度为1-20的烷氧基硅烷、氯硅烷或硅氮烷；有机酸分子式为RCOOH，其中R的碳链长度为2-20。
5.如权利要求3所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，有机修饰剂和反应液中生成的二氧化硅的物质的量比为1:2-15。
6.如权利要求1-5之一所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，四氯化硅在碱性溶液中水解制备二氧化硅的步骤如下：搅拌条件下在碱的水溶液中加入四氯化硅至溶液pH值为3-5或8-10，温度控制在室温和100℃之间，反应1-10h。
7.如权利要求6所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，碱在水中的质量浓度为2-40%。
8.如权利要求6所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述的碱为（偏）硅酸钠、碳酸钠、氢氧化钠、氨或胺。
9.如权利要求1所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述的干燥为烘干或喷雾干燥。
10.如权利要求9所述的疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，烘干的温度为100-200℃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201110354758 CN102502663B (zh) | 2011-11-10 | 2011-11-10 | 一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201110354758 CN102502663B (zh) | 2011-11-10 | 2011-11-10 | 一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102502663A true CN102502663A (zh) | 2012-06-20 |
| CN102502663B CN102502663B (zh) | 2013-08-21 |
Family
ID=46214814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201110354758 Active CN102502663B (zh) | 2011-11-10 | 2011-11-10 | 一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102502663B (zh) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103739847A (zh) * | 2013-12-17 | 2014-04-23 | 韦兴祥 | 一种窄粒径分布表面富有机化有机硅氧烷微球的制备方法 |
| CN107442134A (zh) * | 2017-08-30 | 2017-12-08 | 江苏大学 | 一种铑/镍合金纳米催化剂及其制备方法和应用 |
| CN107970880A (zh) * | 2018-01-19 | 2018-05-01 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种改性二氧化硅吸附剂的制备方法 |
| CN108059168A (zh) * | 2018-01-19 | 2018-05-22 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种利用氯硅烷残液制备改性二氧化硅吸附剂的方法、产品及用途 |
| CN108176366A (zh) * | 2018-01-19 | 2018-06-19 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种利用氯硅烷残液与壳聚糖制备复合吸附剂的方法、产品及用途 |
| CN110028606A (zh) * | 2019-04-29 | 2019-07-19 | 河南大学 | 一种高吸油率聚氯乙烯树脂及其制备方法 |
| CN111019198A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-17 | 河南大学 | 一种天然橡胶/纳米二氧化硅复合材料及其制备方法 |
| CN111094184A (zh) * | 2017-08-31 | 2020-05-01 | 株式会社德山 | 表面处理溶胶凝胶二氧化硅及其制造方法 |
| CN111748220A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-10-09 | 西安石油大学 | 一种基于化学改性实现对纳米二氧化硅表面润湿性的调控方法 |
| CN113136179A (zh) * | 2020-01-19 | 2021-07-20 | 中国石油化工股份有限公司 | 氟化纳米二氧化硅以及改性纳米分散液及其制备方法和应用 |
| CN113544091A (zh) * | 2019-03-06 | 2021-10-22 | 扶桑化学工业株式会社 | 疏水性二氧化硅粉末和调色剂树脂颗粒 |
| CN114317065A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-12 | 东莞理工学院 | 一种基于二茂铁基团的可粘度调控型氟硅油及其生产方法 |
| CN115029018A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-09-09 | 河南海博瑞硅材料科技有限公司 | 一种高稳定疏水改性纳米二氧化硅及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1704452A (zh) * | 2004-05-28 | 2005-12-07 | 河南大学 | 一种纳米二氧化硅微粒制备方法 |
| CN101798088A (zh) * | 2009-12-25 | 2010-08-11 | 河南科技大学 | 一种利用四氯化硅制备白炭黑的方法 |
-
2011
- 2011-11-10 CN CN 201110354758 patent/CN102502663B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1704452A (zh) * | 2004-05-28 | 2005-12-07 | 河南大学 | 一种纳米二氧化硅微粒制备方法 |
| CN101798088A (zh) * | 2009-12-25 | 2010-08-11 | 河南科技大学 | 一种利用四氯化硅制备白炭黑的方法 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103739847A (zh) * | 2013-12-17 | 2014-04-23 | 韦兴祥 | 一种窄粒径分布表面富有机化有机硅氧烷微球的制备方法 |
| CN107442134A (zh) * | 2017-08-30 | 2017-12-08 | 江苏大学 | 一种铑/镍合金纳米催化剂及其制备方法和应用 |
| CN111094184A (zh) * | 2017-08-31 | 2020-05-01 | 株式会社德山 | 表面处理溶胶凝胶二氧化硅及其制造方法 |
| CN108059168A (zh) * | 2018-01-19 | 2018-05-22 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种利用氯硅烷残液制备改性二氧化硅吸附剂的方法、产品及用途 |
| CN108176366A (zh) * | 2018-01-19 | 2018-06-19 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种利用氯硅烷残液与壳聚糖制备复合吸附剂的方法、产品及用途 |
| CN108176366B (zh) * | 2018-01-19 | 2019-09-24 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种利用氯硅烷残液与壳聚糖制备复合吸附剂的方法、产品及用途 |
| CN108059168B (zh) * | 2018-01-19 | 2019-09-24 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种利用氯硅烷残液制备改性二氧化硅吸附剂的方法、产品及用途 |
| CN107970880A (zh) * | 2018-01-19 | 2018-05-01 | 四川广阳环保科技有限公司 | 一种改性二氧化硅吸附剂的制备方法 |
| CN113544091A (zh) * | 2019-03-06 | 2021-10-22 | 扶桑化学工业株式会社 | 疏水性二氧化硅粉末和调色剂树脂颗粒 |
| CN110028606A (zh) * | 2019-04-29 | 2019-07-19 | 河南大学 | 一种高吸油率聚氯乙烯树脂及其制备方法 |
| CN111019198A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-17 | 河南大学 | 一种天然橡胶/纳米二氧化硅复合材料及其制备方法 |
| CN113136179A (zh) * | 2020-01-19 | 2021-07-20 | 中国石油化工股份有限公司 | 氟化纳米二氧化硅以及改性纳米分散液及其制备方法和应用 |
| CN111748220A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-10-09 | 西安石油大学 | 一种基于化学改性实现对纳米二氧化硅表面润湿性的调控方法 |
| CN114317065A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-12 | 东莞理工学院 | 一种基于二茂铁基团的可粘度调控型氟硅油及其生产方法 |
| CN115029018A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-09-09 | 河南海博瑞硅材料科技有限公司 | 一种高稳定疏水改性纳米二氧化硅及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102502663B (zh) | 2013-08-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102502663B (zh) | 一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法 | |
| CN101798088B (zh) | 一种利用四氯化硅制备白炭黑的方法 | |
| CN106311199B (zh) | 一种稳定分散且光催化活性可控的SiO2@TiO2核壳结构、其制备方法及其应用 | |
| CN102001671A (zh) | 一种利用四氯化硅制取白炭黑的方法 | |
| CN103896265A (zh) | 以稻壳为原料生产活性炭、无机硅化合物的方法 | |
| Zhang et al. | Microwave-aided synthesis of BiOI/g-C3N4 composites and their enhanced catalytic activities for Cr (VI) removal | |
| CN103183827A (zh) | 一种有机氯硅烷连续的浓酸水解方法 | |
| CN103466637A (zh) | 一种利用碳酸氢钠控制过饱和度生产沉淀二氧化硅的方法 | |
| CN102701221A (zh) | 一种煤矸石制备纳米白炭黑的方法 | |
| CN110117021A (zh) | 一种基于撞击流的连续式氢氧化镁生产工艺 | |
| CN109880500A (zh) | 纳米碳化硼改性水性聚氨酯高耐磨涂料的制备方法 | |
| CN102190908A (zh) | 一种表面改性的二氧化硅及其制备方法与应用 | |
| CN101659416B (zh) | 一种制备白炭黑联产氯化钙的方法 | |
| CN101704532A (zh) | 硼酸锌的制备方法 | |
| CN102502669A (zh) | 一种纳米二氧化硅的制备方法 | |
| CN103213992B (zh) | 一种以硅灰石为原料制备纳米白炭黑的方法 | |
| CN102515104A (zh) | 一种有机溶剂中四氯化硅水解制备氯化氢和二氧化硅的方法 | |
| CN114085381B (zh) | 气相二甲基二氯硅烷水解工艺 | |
| CN102180470A (zh) | 多晶硅副产物四氯化硅的资源化处理方法 | |
| CN102120612B (zh) | 一种锐钛矿型二氧化钛纳米粒子的制备方法 | |
| KR20100037410A (ko) | 내수성 친환경 무기수지 | |
| CN102198941B (zh) | 一种四氯化硅水解制备白炭黑的方法 | |
| CN101172610A (zh) | 一种高温二氧化硅粉体的制备方法 | |
| CN108570248B (zh) | 一种核壳型二氧化钛包覆二氧化硅的制备方法 | |
| CN107902660A (zh) | 一种黄磷炉渣制备SiO2基ATO导电粉体材料的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20170621 Address after: 454003 Henan city of Jiaozuo province Jiyuan city high tech Industrial Development Zone Henan Wangwu Nano Technology Co Ltd building room 217 Patentee after: Jiyuan sea bri new and materials Co.,Ltd. Address before: 475001 Henan province city Minglun Street No. 85 Patentee before: Henan University |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: Room 217, Comprehensive Building, Engineering Research Center for Nanomaterials, Jiyuan Hi-tech Industrial Development Zone, Henan Province, 454650 Patentee after: Jiyuan Haibori New Material Technology Co.,Ltd. Address before: Room 217, Comprehensive Building of Henan Wangwu Nanotechnology Co., Ltd., Jiyuan High-tech Industrial Development Zone, Jiaozuo City, Henan Province Patentee before: Jiyuan sea bri new and materials Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20191121 Address after: Wulongkou town wulongtou Village West, Jiyuan City, Henan Province Patentee after: Henan haiborui silicon material technology Co.,Ltd. Address before: Room 217, Comprehensive Building, Engineering Research Center for Nanomaterials, Jiyuan Hi-tech Industrial Development Zone, Henan Province, 454650 Patentee before: Jiyuan Haibori New Material Technology Co.,Ltd. |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: A preparation method of hydrophobic nano silica Effective date of registration: 20230828 Granted publication date: 20130821 Pledgee: Bank of China Limited by Share Ltd. Jiyuan branch Pledgor: Henan haiborui silicon material technology Co.,Ltd. Registration number: Y2023980053909 |