CN102361541A - 带半孔的pcb板制作工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)开料;(2)钻孔操作,所钻孔直径保持在1.0~6.0毫米,接着对其进行刷板操作;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理;(4)兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;(6)电镀锡;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。通过本发明在PCB板上需要半孔来实现不同的功能,本方法操作简单易行。本发明在电镀后铣孔,如在成品时铣时会将孔内铜拉掉、如在钻孔后铣会在边沿沉上铜。
Description
技术领域
本发明涉及PCB制作领域,具体是一种带半孔的PCB板制作工艺。
背景技术
随着科学技术的进步,印刷电路板在电子领域得到的广泛的应用。印刷电路板因具有装配密度高等优点而得到了广泛的应用。PCB板又称印刷电路板、印刷线路板,简称印制板,英文简称PCB(printed circuit board )或PWB(printed wiring board),以绝缘板为基材,切成一定尺寸,其上至少附有一个导电图形,并布有孔(如元件孔、紧固孔、金属化孔等),用来代替以往装置电子元器件的底盘,并实现电子元器件之间的相互连接。由于这种板是采用电子印刷术制作的,故被称为印刷电路板。然而在实际制作过程中,PCB板上通常设有圆孔用于完成一些功能,圆孔面积大,不易操作。因此在PCB板上有时需要用半孔来实现不同的功能,为了满足不同客户的需求,做到半孔工艺孔口无毛刺,不易脱落是PCB行业目前无人解决的问题,而且现有PCB板制备操作中也不涉及将PCB板制备成带半孔的方法。
发明内容
本发明的目的在于在此提供一种带半孔的PCB板制作工艺,满足不同需要。
本发明是这样实现的,构造一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:包括以下步骤:
(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在1.0-6.0毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2.5Pa以下;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为5微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为10-20分钟、温度为70-90℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米以上;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为7微米以上;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
根据本发明所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在2-5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为1-2.5Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为5-7微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为14-16分钟、温度为80-88℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25-30微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为7-10微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
根据本发明所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2.5Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为6微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为15分钟、温度为85℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为8微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
根据本发明所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为6微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为14分钟、温度为84℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在27微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为9微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
根据本发明所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:在所述蚀刻步骤后还进行以下操作:丝印阻焊、烘烤、兑片、曝光、显影、检修、丝印字符、高温烘烤、热风整平、数铣、测试、包装出货,所述高温烘烤温度150度,烘烤时间60-80分钟,所述烘烤温度为130度,时间30分钟。
裸板(上头没有零件)也常被称为"印刷线路板Printed Wiring Board(PWB)"。板子本身的基板是由绝缘隔热、并不易弯曲的材质所制作成。在表面可以看到的细小线路材料是铜箔,原本铜箔是覆盖在整个板子上的,而在制造过程中部份被蚀刻处理掉,留下来的部份就变成网状的细小线路了。这些线路被称作导线(conductor pattern)或称布线,并用来提供PCB上零件的电路连接。
通常PCB的颜色都是绿色或是棕色,这是阻焊(solder mask)的颜色。是绝缘的防护层,可以保护铜线,也可以防止零件被焊到不正确的地方。在阻焊层上还会印刷上一层丝网印刷面(silk screen)。通常在这上面会印上文字与符号(大多是白色的),以标示出各零件在板子上的位置。丝网印刷面也被称作图标面(legend)。 在制成最终产品时,其上会安装集成电路、电晶体、二极管、被动元件(如:电阻、电容、连接器等)及其他各种各样的电子零件。借着导线连通,可以形成电子讯号连结及应有机能。
本实用新型的优点在于:通过本发明在PCB板上需要半孔来实现不同的功能,本方法操作简单易行。本发明在电镀后铣孔,如在成品时铣时会将孔内铜拉掉、如在钻孔后铣会在边沿沉上铜。
附图说明
图1 是本发明的流程示意图。
图2是本发明所描述的带半孔的PCB板。
具体实施方式
本发明在此提供一种带半孔的PCB板制作工艺,图1 是本发明的流程示意图,图2是本发明所描述的一种边沿带半孔的PCB板的示意图,本发明包括以下步骤:
(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在1.0-6.0毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2.5Pa以下;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为5微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为10-20分钟、温度为70-90℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米以上;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为7微米以上;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
在所述蚀刻步骤后还进行以下操作:在所述蚀刻步骤后还进行以下操作:丝印阻焊、烘烤、兑片、曝光、显影、检修、丝印字符、高温烘烤、热风整平、数铣、测试、包装出货,所述高温烘烤温度150度,烘烤时间60-80分钟,所述烘烤温度为130度,时间30分钟。
本发明所述一种带半孔的PCB板制作工艺,具体可按照如下操作:
实施例1:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在6.0毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2.5Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为5微米,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为15分钟、温度为85℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为7微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
实施例2:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力位1Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为7微米,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为16分钟、温度为80℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在30微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为10微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
实施例3:按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力位2.5Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为6微米,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为15分钟、温度为85℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为8微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
实施例4:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力位2Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为6微米,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为14分钟、温度为84℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在27微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为9微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
实施例5:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力位2Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为12微米,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为14分钟、温度为83℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在30微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为10微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
Claims (5)
1.一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:包括以下步骤:
(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在1.0-6.0毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2.5Pa以下;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为5微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为10-20分钟、温度为70-90℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米以上;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为7微米以上;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
2.根据权利要求1所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在2-5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为1-2.5Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为5-7微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为14-16分钟、温度为80-88℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25-30微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为7-10微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
3.根据权利要求2所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:(1)按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2.5Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为6微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为15分钟、温度为85℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在25微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为8微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
4.根据权利要求2所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:按照规格准备基材完成开料操作;(2)在所准备好的基材上进行钻孔操作,所钻孔直径保持在5毫米,接着对其进行刷板操作,刷板其压力为2Pa;(3)沉铜:在已钻孔的不导电的孔壁基材上沉积上一层化学铜,以作为后面电镀铜的基底,为了防止沉铜厚度不够而出现真空沙眼的情况,所沉铜厚度为6微米以上,接着再进行刷板、印湿膜以及烘烤处理,此时烘烤时间为14分钟、温度为84℃;(4)进行兑片、曝光、显影操作,实现图形转移过程;(5)电镀铜;为了防止后期操作中电镀的铜断开,因此此时电镀的铜其厚度应保持在27微米;(6)电镀锡:作为电镀铜的保护层应电镀以层锡,为了增强抗蚀刻能力,因此此时电镀锡厚度为9微米;(7)铣孔:用铣削方法将所钻圆孔铣成半孔;(8)对板材进行蚀刻处理。
5.根据权利要求1所述的一种带半孔的PCB板制作工艺,其特征在于:在所述蚀刻步骤后还进行以下操作:丝印阻焊、烘烤、兑片、曝光、显影、检修、丝印字符、高温烘烤、热风整平、数铣、测试、包装出货,所述高温烘烤温度150度,烘烤时间60-80分钟,所述烘烤温度为130度,时间30分钟。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20120222 |