CN102086095B - 磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种具有化学增强工序的磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法，该方法所提供的磁盘用玻璃衬底可以抑制在化学增强工序后的玻璃衬底冷却时产生的微小波纹，并防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题，同时还可以谋求磁头的低飞行高度化，并实现高密度信息记录，特别是适合应用于便携信息设备用的小型磁盘。在化学增强工序后的冷却工序中，进行使玻璃衬底与熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液接触的冷却处理。该处理液的温度被调整为低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。

Description

磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法

本申请为同一申请人于2007年3月15日提交的申请号为200780001226.1(PCT/JP2007/055246)、发明名称为“磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法”的中国专利申请的分案申请。 

技术领域

本发明涉及构成作为磁盘装置的硬盘驱动器(HDD)等中使用的磁盘的磁盘用玻璃衬底的制造方法以及使用了该磁盘用玻璃衬底的磁盘的制造方法。 

背景技术

如今，信息记录技术尤其是磁记录技术伴随所谓的IT产业的发达而要求飞跃性的技术革新。而且，在作为计算机用存储器等而使用的磁盘装置即硬盘驱动器(HDD)上所搭载的磁盘与磁带或软盘等其他磁记录介质不同，其信息记录密度的迅速增大化继续进行。 

这种磁盘是在铝系合金衬底或玻璃衬底等的衬底上形成磁性层的膜等而构成。然后，在硬盘驱动器中，一边使磁头在高速旋转的磁盘上浮动飞行，一边通过该磁头将信息信号作为磁化图案记录在磁性层上，再进行再生。 

近些年，在这种磁盘中，信息记录密度已达到超过每1平方英寸40G比特，进而，超过每1平方英寸100G比特的超高记录密度也将要被实现。能够实现这样高的信息记录密度的近些年的磁盘与以往的软盘等磁盘相比较，具有虽然是很小的磁盘面积却能够收纳实用上足够的信息量的特征。 

另外，这种磁盘与其他的信息记录介质相比较，还具有信息的记 录速度及再生速度(应答速度)极其迅速且可以进行信息的随时写入以及读出的特征。 

这种磁盘的种种特征已经得到关注，其结果是，在近些年要求能够搭载在如所谓的移动电话、数码相机、便携信息设备(例如、PDA(personal digital assistant)：个人数字助理)或者汽车导航系统等那样的、壳体远远小于个人计算机装置且要求高应答速度的便携用设备上的小型硬盘驱动器。 

伴随着针对将硬盘驱动器搭载在便携用设备上(所谓“便携式用途”)的要求高涨，作为磁盘用的衬底采用由硬质材料即玻璃构成的玻璃衬底。这是因为玻璃衬底与由软质材料即金属构成的衬底相比较，具有高强度和高刚性。 

另外，因为在玻璃衬底中可获得平滑的表面，所以可以防止磁头碰撞以及热不均匀(thermal asperity)这样的问题，同时还可以使一边在磁盘上浮动飞行一边进行记录再生的磁头的浮起量变得狭小(降低飞行高度)，能够得到高信息记录密度的磁盘。 

但是，玻璃衬底还具有作为脆性材料的负面特性。因此，历来就提出了各种各样的玻璃衬底的增强方法。例如，在专利文献1中记载有以下的化学增强处理：通过将玻璃衬底以规定时间浸渍于在化学增强槽中的加热到300℃左右的硝酸钠(NaNO₃)或硝酸钾(KNO₃)等的硝酸盐熔液中，将玻璃衬底中的表层部的锂离子(Li⁺)置换成钠离子(Na⁺)或钾离子(K⁺)，或者，将玻璃衬底中的表层部的钠离子(Na⁺)置换成钾离子(K⁺)，在两面的表层部形成压缩应力层，并在这些压缩应力层之间设置拉伸应力层。 

另外，在专利文献2中记载有以下的方法：在化学增强处理中使用的硝酸盐熔液中混入微量的阳离子杂质，进行调整以使硝酸盐的完全凝固点小于等于130℃，在化学增强处理后的冷却时使硝酸盐具有流动性，抑制玻璃衬底的翘曲同时进行化学增强处理。 

专利文献1：日本专利公开特开2002-121051公报 

专利文献2：日本专利公开特开2001-192239公报 

发明内容

(发明要解决的问题) 

然而，已知在上述的化学增强工序中无法充分抑制在化学增强工序后产生的玻璃衬底上的微小波纹的情况。另外，已知这种微小波纹在化学增强工序后的玻璃衬底的冷却时产生。 

而且，近年来伴随着磁盘中的信息记录的高密度化，不断降低磁头的飞行高度，要求具有比以往更加平滑的表面的玻璃衬底，这种微小波纹就成为问题。 

因此，本发明就是鉴于上述那样的情况而完成的，其目的在于提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，该方法具有使玻璃衬底接触加热了的化学增强盐熔液并对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序，该方法能够制造这样的磁盘用玻璃衬底，它可以抑制在化学增强工序后的玻璃衬底冷却时产生的微小波纹，并防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题，同时还可谋求磁头的低飞行高度化，并可实现高密度信息记录，特别是能够构成适合用于便携信息设备用的小型硬盘驱动器的磁盘。 

另外，本发明还提供一种磁盘的制造方法，该方法通过采用这种磁盘用玻璃衬底，能够制造可以防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题、同时还可以谋求磁头的低飞行高度化并实现高密度信息记录的、特别是适合用于便携信息设备用的小型硬盘驱动器的磁盘。 

(解决问题的方法) 

本发明人已彻底查明如上述那样的玻璃衬底上产生的微小波纹是在化学增强工序之后，由于残留于玻璃衬底上的增强盐被冷却并结晶时所产生的盐的体积变动以及凝固热而产生的。 

因此，本发明所涉及的磁盘用玻璃衬底的制造方法具有以下构成中的某一种。 

〔构成1〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包括：使玻璃衬底与加热了的 化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序；和对经过该化学增强工序的玻璃衬底进行冷却的冷却工序，其特征在于：在冷却工序中，使玻璃衬底的温度下降至规定的温度，而不使附着于玻璃衬底的表面上的化学增强盐熔液中的化学增强盐固化。 

〔构成2〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包括：使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序；和对经过该化学增强工序的玻璃衬底进行冷却的冷却工序，其特征在于：在冷却工序中，进行使玻璃衬底与熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液接触的冷却处理，处理液的温度被调整得低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。 

〔构成3〕 

具有构成2的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：包括：冷却处理由使玻璃衬底与第1处理液接触的第1冷却处理；和在该第1冷却处理之后使玻璃衬底依次与至少一个第2以后的处理液接触的第2以后的冷却处理，第1冷却处理中使用的第1处理液被调整成低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度且高于化学增强盐的固化温度的温度，第2以后的冷却处理中使用的第2以后的处理液被调整成低于在该冷却处理之前进行的前一个冷却处理中使用的前级处理液的温度且高于该前级处理液的固化温度的温度。 

〔构成4〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包括：将玻璃衬底浸渍于被容纳在化学增强处理槽中且被加热了的化学增强盐熔液中并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序；和将经过该化学增强工序的玻璃衬底浸渍于玻璃衬底保持槽中所容纳的处理液中并保持该玻璃衬底的玻璃衬底保持工序，其特征在于：玻璃衬底保持槽中所容纳的处理液熔解有固化温度低于化学增强盐的物质，并被调整得低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。 

〔构成5〕 

具有构成4的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：玻璃衬底保持工序包括：使玻璃衬底浸渍于第1玻璃衬底保持槽中所容纳的第1处理液中的第1保持处理；和在该第1保持处理之后使玻璃衬底依次浸渍于至少一个第2以后的玻璃衬底保持槽中所容纳的第2以后的处理液中的第2以后的保持处理，第1保持处理中使用的第1处理液被调整成低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度且高于化学增强盐的固化温度的温度，第2以后的保持处理中使用的第2以后的处理液被调整成低于该保持处理的前一个进行的保持处理中使用的前级处理液的温度且高于该前级处理液的固化温度的温度。 

根据本发明，由于在化学增强工序后对玻璃衬底进行冷却的冷却工序或者在玻璃衬底保持工序中，且在残留于玻璃衬底上的化学增强盐熔液的结晶开始前，使玻璃衬底接触或者浸渍于熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液，所以能够对玻璃衬底进行冷却而不会在玻璃衬底的表面上产生微小波纹。希望将该处理液调整成高于化学增强盐的固化温度的高温。此外，在本发明中对化学增强处理的内容并不特别进行限定。 

〔构成6〕 

具有构成2至构成5中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：处理液是以硝酸盐为主要物质的熔液。 

〔构成7〕 

具有构成6的磁盘用玻璃衬底的制造方法中，其特征在于：处理液通过以规定的比例包含从碱金属硝酸盐以及碱土类金属硝酸盐中选择的多种硝酸盐，而被调整成所希望的固化温度。 

〔构成8〕 

具有构成1至构成7中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：使经过化学增强工序的玻璃衬底的温度分阶段地下降。 

另外，根据本发明的磁盘的制造方法具有以下的构成。 

〔构成9〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包括：使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触，并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序；和对经过该化学增强工序的玻璃衬底进行冷却的冷却工序，其特征在于：在冷却工序中，在玻璃衬底的温度下降前，在该玻璃衬底的表面涂敷熔解有在固化时呈玻璃状地固化的物质的熔液。 

〔构成10〕 

具有构成9的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：在冷却工序中，使玻璃衬底的温度下降至规定的温度而不使化学增强盐在玻璃衬底的表面上结晶。 

〔构成11〕 

具有构成9或者构成10的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：在冷却工序中涂敷于玻璃衬底的表面的熔液的温度被调整成高于化学增强盐的固化温度的温度。 

〔构成12〕 

具有构成9至构成11中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：在冷却工序中涂敷于玻璃衬底的表面的熔液是将被调整成在固化时呈玻璃状地固化的硝酸盐进行加热并使其熔解的硝酸盐熔液。 

〔构成13〕 

具有构成12的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：硝酸盐以规定的比例包含从碱金属硝酸盐以及碱土类金属硝酸盐中选择的多种硝酸盐。 

〔构成14〕 

一种磁盘的制造方法，其特征在于：在通过具有构成1至构成13中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法而制造的磁盘用玻璃衬底上至少形成磁性层。 

(发明效果) 

在根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法中，由于在化学增强 工序后对玻璃衬底进行冷却的冷却工序或者玻璃衬底保持工序中，在残留于玻璃衬底上的化学增强盐熔液的结晶开始前，使玻璃衬底接触或者浸渍于熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液，或者由于涂敷熔解有在固化时呈玻璃状(非晶状)地固化的物质的熔液，所以能够对玻璃衬底进行冷却而不会在玻璃衬底的表面上产生微小波纹。 

因此，本发明能够提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，该方法具有使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触以对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序，该方法能够制造这样的磁盘用玻璃衬底，它可以抑制在化学增强工序后的玻璃衬底的冷却时产生的微小波纹，并防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题，同时还可以谋求磁头的低飞行高度化并实现高密度信息记录，特别是能够构成适合用于便携信息设备用的小型硬盘驱动器的磁盘。 

另外，本发明还能够提供一种磁盘的制造方法，该方法通过采用这种磁盘用玻璃衬底，能够制造可以防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题、同时还可以谋求磁头的低飞行高度化并实现高密度信息记录、特别是适合用于便携信息设备用的小型硬盘驱动器的磁盘。 

附图说明

图1是表示根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法的工序的流程图。 

图2是表示根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法中的化学增强工序以及冷却工序或者玻璃衬底保持工序的侧视图。 

具体实施方式

以下，参照附图就用于实施本发明的最佳方式详细地进行说明。 

图1是表示根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法的工序的流程图。 

〔摩擦工序〕 

在根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法中，首先，如图1所示那样，对板状玻璃1的主表面进行摩擦(研削)处理以作为玻璃母材2，并将该玻璃母材2切断而切出玻璃衬底3，对于该玻璃衬底3的主表面至少进行抛光(研磨)处理。 

作为供摩擦处理的板状玻璃1，能够使用各种各样形状的板状玻璃1。该板状玻璃1的形状既可以是矩形状，也可以是盘状(圆盘状)。盘状的板状玻璃1能够使用在以往的磁盘用玻璃衬底的制造中使用的摩擦装置来进行摩擦处理，能够便宜地进行可靠性高的加工。 

该板状玻璃1的尺寸必须是大于欲制造的磁盘用玻璃衬底的尺寸。例如，在制造“1英寸型硬盘驱动器”或者在其以下尺寸的小型硬盘驱动器上搭载的磁盘中使用的磁盘用玻璃衬底的情况下，由于该磁盘用玻璃衬底的直径大致为20mm至30mm左右，所以，优选地，作为盘状的板状玻璃1的直径为大于等于30mm，理想的是，大于等于48mm。如果使用直径大于等于65mm的盘状的板状玻璃1，则能够从1张板状玻璃1获取多个“1英寸型硬盘驱动器”上搭载的磁盘中使用的磁盘用玻璃衬底，适合于大量生产。 

该板状玻璃1，例如以熔融玻璃为材料，能够使用压榨法及浮法(floating)、或者熔合法等公知的制造方法制造。如果在它们之中使用压榨法，能够廉价地制造板状玻璃1。 

另外，作为板状玻璃1的材料，只要是进行化学增强的玻璃，则不特别设置限制，能够优选列举的有硅酸铝玻璃。尤其是最好为含有锂的硅酸铝玻璃。这种硅酸铝玻璃通过离子交换型化学增强处理、特别是通过低温离子交换型化学增强处理，能够精密地获得具有令人满意的压缩应力的压缩应力层以及具有拉伸应力的拉伸应力层，所以优选作为磁盘用化学增强玻璃衬底3的材料。 

作为这种硅酸铝玻璃的组成比，优选含有58～75重量％的SiO₂、5～23重量％的Al₂O₃、3～10重量％的Li₂O、4～13重量％的Na₂O作为主要成分。 

进而，作为硅酸铝玻璃的组成比，优选含有62～75重量％的 SiO₂、5～15重量％的Al₂O₃、4～10重量％的Li₂O、4～12重量％的Na₂O、5.5～15重量％的ZrO₂作为主要成分，并且，Na₂O与ZrO₂的重量比(Na₂O/ZrO₂)为0.5～2.0，Al₂O₃与ZrO₂的重量比(Al₂O₃/ZrO₂)为0.4～2.5。 

摩擦处理(第1摩擦工序)是以提高板状玻璃1的主表面的形状精度(例如，平坦度)及尺寸精度(例如，板厚的精度)为目的的加工。通过将砂轮或者台面按压在板状玻璃1的主表面上，并使这些板状玻璃1以及砂轮或者台面相对地移动，从而研削板状玻璃1的主表面，由此来进行该摩擦处理。这种摩擦处理能够采用利用了行星齿轮机构的两面摩擦装置来进行。 

作为摩擦处理中使用的砂轮能够使用金刚石砂轮。另外，作为游离砂粒，可以使用氧化铝砂粒及氧化锆砂粒、或者碳化硅砂粒等硬质砂粒。 

通过该摩擦处理，板状玻璃1的形状精度提高，主表面的形状被平坦化并且板厚被削减至规定值的玻璃母材2得以形成。玻璃母材2的主表面通过摩擦处理而实现平坦，另外，板厚被削减，由此能够将该玻璃母材2切断，并从该玻璃母材2中切出玻璃衬底3。即，能够在从玻璃母材2切出玻璃衬底3时，防止产生缺口、裂痕、破损之类的缺陷。 

〔端面抛光工序〕 

优选地，进行玻璃衬底3的端面的镜面研磨(端面抛光工序)。这是因为玻璃衬底3的端面为切断形状，所以通过将该端面抛光成镜面就能够抑制来自端面的颗粒的产生，并能够良好地防止在使用该磁盘用玻璃衬底来制造的磁盘中的所谓的热不均匀问题。另外，如果端面为镜面就能够防止因微小裂纹造成的延迟断裂。作为端面的镜面状态，优选算术平均粗糙度(Ra)小于等于100nm的镜面。 

〔第2摩擦工序〕 

优选地，在后述的玻璃衬底3的抛光工序之前进行摩擦处理(第2摩擦工序)。这时的摩擦处理能够通过与上述的对于板状玻璃1的 摩擦处理同样的方法来进行。通过在对玻璃衬底3进行摩擦处理后再进行抛光处理，能够以更短的时间获得经过镜面化的主表面。 

〔抛光工序〕 

对从玻璃母材2切出的玻璃衬底3实施抛光处理，使玻璃衬底3的主表面镜面化。 

通过实施该抛光处理来去除玻璃衬底3的主表面的裂纹，主表面的微小波纹为例如最大值在5nm以下。这一微小波纹的最大值是在使用PHASE SHIFT TECHNOLOGY公司制造的“MicroXAM”，通过非接触激光干涉法对波长为4μm～1mm的频率的波纹进行了测定时的最大值。测定范围是各边为800μm以及980μm的矩形(800μm×980μm)的范围内。 

如果玻璃衬底3的主表面成为这种镜面，则在使用该玻璃衬底3制造的磁盘中即便磁头的浮起量例如为10nm的情况下，也能够防止发生所谓的碰撞问题及热不均匀这样的问题。另外，如果玻璃衬底3的主表面成为这种镜面，则在后述的化学增强工序中能够在玻璃衬底3的细微区域中均匀地实施化学增强处理，而且还能够防止因微小裂纹造成的延迟断裂。 

通过例如使贴附了研磨布(例如，研磨垫)的台面按压在玻璃衬底3的主表面上，一边对玻璃衬底3的主表面供给研磨液一边使这些玻璃衬底3以及台面相对地移动，以研磨玻璃衬底3的主表面，由此来进行该抛光处理。此时，使研磨液中含有研磨砂粒是优选的。能够使用二氧化硅胶体研磨砂粒作为研磨砂粒。作为研磨砂粒使用平均砂粒为10nm～200nm的砂粒是优选的。 

另外，作为别的抛光处理，还可以使用例如在玻璃衬底3的主表面上按压带状的研磨布(例如，研磨带)，一边对玻璃衬底3的主表面供给研磨液一边使这些玻璃衬底3以及研磨布相对地移动，以研磨玻璃衬底3的主表面的带式研磨方法。此时，使研磨液中含有研磨砂粒是优选的。能够使用金刚石研磨砂粒作为研磨砂粒。作为研磨砂粒，使用平均粒径为10nm～200nm的砂粒是优选的。 

优选地，研磨垫或者研磨带的研磨面采用聚氨酯、聚酯等树脂材料。优选地，如果是研磨垫则研磨面采用发泡树脂(例如，发泡聚氨酯)，如果是研磨带则研磨面采用树脂纤维(例如，聚酯树脂纤维)。 

〔化学增强工序〕 

图2是表示根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法中的化学增强工序以及冷却工序或者玻璃衬底保持工序的侧视图。 

在玻璃衬底3的抛光工序之前和/或之后的化学增强工序中实施化学增强处理。通过进行化学增强处理能够在磁盘用玻璃衬底的表层中产生高的压缩应力，可以使耐冲击性提高。特别是在使用硅酸铝玻璃作为玻璃衬底3的材料的情况下，能够适当地进行化学增强处理。 

在该化学增强工序中，使含有离子半径大于玻璃衬底3所含的离子的离子半径的离子的化学增强盐熔液与玻璃衬底3接触，以进行离子交换。该化学增强工序，如图2所示那样，使用化学增强处理槽4来进行，玻璃衬底被浸渍在含有离子半径大于该玻璃衬底所含的离子的离子半径的离子的化学增强盐熔液中。 

该化学增强工序与作为化学增强处理方法的公知方法同等，作为化学增强盐熔液，能够使用加热了的化学增强盐熔液。作为离子交换法，已知有低温型离子交换法、高温型离子交换法、表面结晶法、玻璃表面的脱碱法等，但优选采用在不超过玻璃的慢冷却点的温度区域中进行离子交换的低温型离子交换法。 

此外，这里所说的低温型离子交换法是指在玻璃的慢冷却点以下的温度区域，将玻璃中的碱金属离子与离子半径大于该碱金属离子的碱金属离子进行置换，并通过离子交换部的容积增加来在玻璃表层产生压缩应力，以增强玻璃表层的方法。 

此外，进行化学增强处理时的化学增强盐熔液的加热温度从良好地进行离子交换的观点等来看优选为280℃～660℃，尤其是300℃～400℃。使玻璃衬底3与化学增强盐熔液接触的时间优选为几小时至几十小时。此外，优选在使玻璃衬底3与化学增强盐熔液接触前，作为预备加热将玻璃衬底3加热到100℃～300℃。 

作为用于进行化学增强工序的化学增强处理槽4的材料，只要是在耐蚀性上表现出色而且为低发尘性的材料，则不特别进行限定。由于化学增强盐及化学增强盐熔液具有氧化性、且处理温度为高温，所以需要通过选定耐蚀性优异的材料来抑制损伤及发尘，并且抑制热不均匀问题及磁头碰撞。从这一观点来看，作为化学增强处理槽4的材料，特别优选石英材料，但也能够采用不锈钢材料，特别是耐蚀性优异的马氏体系或者奥氏体系不锈钢材料。此外，石英材料虽然耐蚀性优异，但由于昂贵，所以可以在考虑合理性后适宜选择。 

作为化学增强盐熔液，优选使用含有碱金属元素的硝酸盐，例如含有硝酸钾、硝酸钠、硝酸锂等的硝酸盐。此外，硝酸盐中含有的锂元素优选为0ppm～2000ppm。这是因为这种化学增强盐在对玻璃，特别是包含锂元素的硅酸铝玻璃进行了化学增强处理时，能够实现作为磁盘用玻璃衬底的规定的刚性以及耐冲击性。若化学增强盐熔液中含有的锂离子过多，则离子交换会受到阻碍，结果有难以获得本发明中欲获得的拉伸应力及压缩应力的情况。 

〔冷却工序或者玻璃衬底保持工序〕 

然后，在本发明中对经过化学增强工序的玻璃衬底，如图2所示那样，进行将玻璃衬底3浸渍于玻璃衬底保持槽5所容纳的处理液中并保持该玻璃衬底3的玻璃衬底保持工序。该玻璃衬底保持工序将玻璃衬底3浸渍于玻璃衬底保持槽5所容纳的熔液中，并在将该熔液涂敷在玻璃衬底3的表面后，伴有对玻璃衬底3进行冷却的冷却工序。 

在该冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)中，使玻璃衬底的温度下降至规定的温度(例如，室温)而不使附着于玻璃衬底3的表面的化学增强盐熔液中的化学增强盐固化。 

此外，由于化学增强盐熔液随着温度下降，按液体、冰激淋状、固体的顺序进行转变，所以在该冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)中，还可以使玻璃衬底3的温度下降至规定的温度(例如，室温)而不使附着于玻璃衬底3的表面的化学增强盐熔液中的化学增强盐析出(不会成为冰激淋状)。 

在该冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)中，进行使玻璃衬底与熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液接触的冷却处理(或者保持处理)。该处理液的温度调整为低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。即，将熔解有固化温度低于化学增强盐的物质且调整成低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度的温度的处理液容纳于玻璃衬底保持槽5中，并使玻璃衬底浸渍于该处理液中。 

该处理液能够采用以硝酸盐为主要物质的熔液。处理液的物质通过以规定的比例包含从碱金属硝酸盐以及碱土类金属硝酸盐中选择的多种硝酸盐，能够调整成所希望的固化温度。 

或者，在该冷却工序中，在玻璃衬底的温度下降前，在该玻璃衬底的表面涂敷熔解有在固化时呈玻璃状(非晶状)地固化的物质的熔液。将涂敷于玻璃衬底的表面上的熔液的温度调整成高于化学增强盐的固化温度的温度。即将熔解有在固化时呈玻璃状固化的物质且被调整成低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度并且高于化学增强盐的固化温度的温度的熔液容纳于玻璃衬底保持槽5中，使玻璃衬底浸渍于该处理液中。 

在该冷却工序中涂敷于玻璃衬底的表面的熔液能够采用将硝酸盐进行加热而使其熔解的熔液。即，该熔液能够采用将被调整成在固化时呈玻璃状地固化的硝酸盐进行加热从而使其熔解的硝酸盐熔液。作为这种硝酸盐，可列举出以规定的比例包含从碱金属硝酸盐以及碱土类金属硝酸盐中选择的多种硝酸盐。 

在处理液或者熔液中的浸渍时间，只要是对残留于玻璃衬底上的化学增强盐在处理液或者熔液中进行扩散而言充分的时间即可，例如优选为几分钟到十几分钟。 

然后，将这样浸渍于处理液或者熔液的玻璃衬底，接着按温水、冷水的顺序使其进行浸渍，并冷却直至室温，同时将处理液或者熔液的物质从盘衬底上熔解去除。 

这样，通过在残留于玻璃衬底上的化学增强盐的结晶开始前，涂敷熔解有在固化时呈玻璃状(非晶状)地固化的物质的熔液，能够将 玻璃衬底冷却而不会在玻璃衬底的表面产生微小波纹。 

〔熔液的说明〕 

上述的冷却工序中所使用的熔液是温度高于化学增强工序中所使用的化学增强盐的固化温度的液体。 

冷却工序中所使用的熔液优选包含与化学增强工序中所使用的化学增强盐相同的金属盐。此外，在化学增强工序中所使用的化学增强盐由多种金属盐构成的情况下，优选熔液包含构成化学增强盐的金属盐之中的至少一部分的金属盐，进而更优选包含全部的金属盐。 

另外，优选地，冷却工序中所使用的熔液与化学增强工序中所使用的化学增强盐熔液进行混合，以使化学增强盐熔液的结晶温度下降。由此，能够使附着于化学增强工序后的玻璃衬底表面上的化学增强盐熔液的结晶温度下降。 

可是，若处理液固化并开始结晶的温度较用于将该处理液的物质熔解去除的温水为高温，则存在当将玻璃衬底浸渍于温水时处理液会在玻璃衬底上结晶的担心。为了不会有这种情况，优选地，使用第2以后的处理液，使其依次浸渍于包含在低温开始固化结晶的物质的处理液，在温水之前所浸渍的处理液固化并开始结晶的温度比温水低。 

即，冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)中的冷却处理(或者保持处理)可以包括：使玻璃衬底与第1处理液接触的第1冷却处理；和在该第1冷却处理之后使玻璃衬底依次与至少一个的第2以后的处理液接触的第2以后的冷却处理。在此情况下，进行使玻璃衬底浸渍于被容纳在第1玻璃衬底保持槽中的第1处理液的第1冷却处理(或者保持处理)、和在该第1保持处理之后的至少一个使玻璃衬底依次浸渍于被容纳在第2以后的玻璃衬底保持槽中的第2以后的处理液中的第2以后的冷却处理(或者保持处理)。 

第1冷却处理(或者保持处理)中使用的第1处理液被调整成低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度且高于化学增强盐的固化温度的温度。另外，第2以后的冷却处理(或者保持处理)中使用的第2以后的处理液被调整成低于在该冷却处理之前进行的前一个冷 却处理中使用的前级处理液的温度且高于该前级处理液的固化温度的温度。 

在此情况下，能够在该冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)中，使经过化学增强工序的玻璃衬底的温度分阶段地下降。 

这样，通过在残留于玻璃衬底上的化学增强盐的结晶开始前，使玻璃衬底接触或者浸渍于熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液，能够将玻璃衬底冷却而不会在玻璃衬底的表面产生微小波纹。 

此外，该冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)还能够被认为是使附着于经过化学增强处理的玻璃衬底的表面上的化学增强熔液不会固化地从玻璃衬底表面上扩散，同时使经过化学增强处理的玻璃衬底接触与熔解有固化温度低于化学增强熔液的固化温度的物质的处理液接触的接触工序。 

〔处理液的说明〕 

上述的冷却工序中所使用的处理液是温度高于化学增强工序中所使用的化学增强盐的固化温度的液体。 

冷却工序中所使用的处理液优选包含与化学增强工序中所使用的化学增强盐相同的金属盐。此外，在化学增强工序中所使用的化学增强盐由多种金属盐构成的情况下，处理液优选包含构成化学增强盐的金属盐之中的至少一部分的金属盐，进而优选包含所有的金属盐。 

另外，冷却工序中所使用的处理液优选与化学增强工序中所使用的化学增强盐熔液进行混合，以使化学增强盐熔液的结晶温度下降。由此，能够使附着于化学增强工序后的玻璃衬底表面上的化学增强盐熔液的结晶温度下降。 

〔清洗工序等〕 

然后，完成了如上述那样的化学增强工序以及冷却工序(或者玻璃衬底保持工序)后的玻璃衬底3，如图1所示那样，经清洗工序等，做成产品(磁盘用玻璃衬底)。 

如上述那样制造的根据本发明的磁盘用玻璃衬底特别适合作为 盘厚不足0.5mm，尤其是盘厚为0.1mm～0.4mm的薄型磁盘用玻璃衬底。另外，该磁盘用玻璃衬底特别适合作为盘的直径(外径)小于等于30mm的小型磁盘用玻璃衬底。这是因为这种薄型、小型磁盘被搭载于“1英寸型硬盘驱动器”或者比“1英寸型硬盘驱动器”还要小型的硬盘驱动器。即，该磁盘用玻璃衬底适合作为“1英寸型硬盘驱动器”或者比“1英寸型硬盘驱动器”还要小型的硬盘驱动器上所搭载的磁盘用玻璃衬底。 

此外，用于制造“1英寸型硬盘驱动器”上搭载的磁盘的磁盘用玻璃衬底的直径约为27.4mm、盘厚为0.381mm。另外，用于制造“0.85英寸型硬盘驱动器”上所搭载的磁盘的磁盘用玻璃衬底的直径约为21.6mm。 

通过采用本发明的构成，能够提供例如与浮起量小于等于6nm的磁头相对应的磁记录介质用玻璃衬底的制造方法。 

〔磁性层的形成〕 

在根据本发明的磁盘的制造方法中，作为如上述那样制造的磁盘用玻璃衬底上所形成的磁性层，能够使用例如由钴(Co)系铁磁性材料构成的磁性层。尤其是优选作为由获得高矫顽磁力的钴-铂(Co-Pt)系铁磁性材料或钴-铬(CQ-Cr)系铁磁性材料构成的磁性层而形成。此外，作为磁性层的形成方法，能够使用DC磁控溅射法。 

另外，优选地，在玻璃衬底与磁性层之间适宜地插入基底层等。作为这些基底层的材料，能够使用Al-Ru系合金及Cr系合金等。 

另外，还能够在磁性层上设置用于防护磁盘免于磁头的冲击的保护层。作为该保护层，优选地，可以使用硬质的氢化碳保护层。 

进而，还能够通过在该保护层上形成由PFPE(全氟聚醚)化合物构成的润滑层来缓和磁头与磁盘的干涉。该润滑层例如能够通过浸泡法进行涂布成膜而形成。 

实施例 

以下通过列举实施例以及比较例具体地进行说明。此外，本发明并不限定于这些实施例的构成。 

〔磁盘用玻璃衬底的制造方法的实施例〕 

以下所述的本实施例中的磁盘用玻璃衬底的制造方法由以下的(1)至(9)的工序组成。 

(1)粗摩擦工序(粗研削工序) 

(2)形状加工工序 

(3)精摩擦工序(精研削工序) 

(4)端面镜面加工(抛光)工序 

(5)第1研磨(抛光)工序 

(6)第2研磨(抛光)工序 

(7)化学增强工序 

(8)冷却工序 

(9)清洗工序 

首先，准备由非晶的硅酸铝玻璃构成的盘状玻璃母材。该硅酸铝玻璃含有锂。该硅酸铝玻璃的组成含有63.6重量％的SiO₂、14.2重量％的Al₂O₃、10.4重量％的Na₂O、5.4重量％的Li₂O、6.0重量％的ZrO₂、0.4重量％的Sb₂O₃。 

(1)粗摩擦工序 

将由使其溶融的硅酸铝玻璃所形成的厚度0.6mm的玻璃片用作玻璃母材，并从该玻璃片通过研削砂轮而获得直径28.7mm、厚度0.6mm的圆盘状玻璃衬底。 

作为该片玻璃的材料即硅酸铝玻璃，只要是含有58～75重量％的SiO₂、5～23重量％的Al₂O₃、4～13重量％的Na₂O、3～10重量％的Li₂O即可。 

接着，为了尺寸精度以及形状精度的提高，对玻璃衬底实施摩擦工序。该摩擦工序使用两面摩擦装置并使用粒度#400的砂粒来进行。 

具体而言，开始使用粒度#400的氧化铝砂粒，将荷重量设定成100kg左右，并通过使中心齿轮和内齿轮进行旋转而将托架内所收纳的玻璃衬底的两面摩擦成面精度为0～1μm、表面粗糙度(Rmax)为6μm左右。 

(2)形状加工工序 

接着，使用圆筒状的砂轮，在玻璃衬底的中央部分形成直径6.1mm的孔，同时进行外周端面的研削，在将直径研削成27.43mm后，对外周端面以及内周端面实施规定的倒角加工。此时的玻璃衬底端面的表面粗糙度Rmax为4μm左右。 

(3)精摩擦工序 

接着，将砂粒的粒度换成#1000，通过对玻璃衬底的主表面进行摩擦，将主表面的表面粗糙度做成Rmax为2μm左右，算术平均粗糙度(Ra)为0.2μm左右。 

通过进行该精摩擦工序，使在前工序即粗摩擦工序及形状加工工序中在主表面上所形成的细微的凹凸形状减少。 

将已结束这种精摩擦工序的玻璃衬底依次浸渍于施加了超声波的中性洗涤剂以及水的各清洗槽，并进行了超声波清洗。 

(4)端面镜面加工(抛光)工序 

接着，对于玻璃衬底的端面，通过刷式摩擦一边使玻璃衬底旋转一边将玻璃衬底的端面(内周端面以及外周端面)摩擦成表面粗糙度为算术平均粗糙度(Ra)40nm左右。 

然后，对已结束端面镜面加工的玻璃衬底的主表面进行了水清洗。 

此外，在该端面镜面加工(抛光)工序中使玻璃衬底重合来抛光端面，但这时候，为了避免在玻璃衬底的主表面上产生划痕等，优选在后述的第1研磨(抛光)工序之前或者在第2研磨(抛光)工序的前后进行。 

通过该端面镜面加工(抛光)工序，玻璃衬底的端面被加工成能够防止颗粒等的发尘的镜面状态。 

(5)第1研磨(抛光)工序 

接着，为了去除在上述的精摩擦工序中残留的划痕及变形，使用两面研磨装置进行了第1研磨(抛光)工序。 

使用发泡聚氨酯作为研磨垫来实施了第1研磨(抛光)工序。研 磨条件使用了由氧化铈以及RO水组成的研磨液。将已结束该第1研磨(抛光)工序的玻璃衬底依次浸渍于中性洗涤剂、纯水(1)、纯水(2)、IPA(异丙醇)、IPA(蒸汽干燥)的各清洗槽，并进行超声波清洗并使其干燥。 

(6)第2研磨(抛光)工序 

接着，使用与第1研磨工序中所使用的两面研磨装置同样的两面研磨装置，并将研磨盘(polisher)替换成软质研磨垫(发泡聚氨酯)，作为主表面的镜面研磨工序，实施了第2研磨(抛光)工序。 

第2研磨(抛光)工序的目的是一边维持通过上述的第1研磨(抛光)工序得到的平坦的主表面，一边可靠地去除裂纹，做成该主表面的表面粗糙度降低至算术平均粗糙度(Ra)例如0.4～0.1nm左右的镜面。 

研磨液使用包含二氧化硅胶体研磨砂粒(平均粒径80nm)以及RO水的研磨液，设负荷量为100g/cm²，研磨时间为5分钟。 

将已结束该第2研磨工序的玻璃衬底依次浸渍于中性洗涤剂、纯水(1)、纯水(2)、IPA(异丙醇)、IPA(蒸汽干燥)的各清洗槽，进行超声波清洗并使其干燥。 

(7)化学增强工序 

接着，对已结束清洗的玻璃衬底实施了化学增强处理。化学增强处理利用混合硝酸钾、硝酸钠和硝酸锂而成的化学增强盐经过熔化而成的化学增强盐熔液来进行。 

在该实施例中作为化学增强盐熔液，使用了KNO₃∶NaNO₃＝6∶4的熔液。该化学增强盐熔液的结晶开始温度约为230℃。 

将该化学增强盐熔液加热到380℃，并将已结束清洗以及干燥的玻璃衬底浸渍于化学增强处理槽约2小时至4小时，以进行化学增强处理。在进行该浸渍时，为了使磁盘用玻璃衬底的表面整体被化学增强，在以在端面上保持多个磁盘用玻璃衬底的方式收纳于支架中的状态下进行。 

(8-1)冷却工序(第1实施例) 

由于化学增强工序中使用的化学增强盐熔液的结晶开始温度约为230℃，所以在从化学增强处理槽取出来的玻璃衬底的温度被维持于230℃以上且残留于玻璃衬底表面上的化学增强盐的结晶未开始的状态下，将其浸渍于调整成240℃～330℃的第1处理液中。该第1处理液使用了KNO₃∶NaNO₃∶CaNO₃·4H₂O＝9∶6∶5的处理液。该第1处理液的结晶开始温度约为190℃。 

或者，由于化学增强工序中所用的化学增强盐熔液的结晶开始温度约为230℃，所以在从化学增强处理槽取出来的玻璃衬底的温度被维持于230℃以上且残留于玻璃衬底表面上的化学增强盐的结晶未开始的状态下，将其浸渍于调整成240℃～330℃的处理液中，并涂敷了玻璃衬底的表面。该处理液使用了KNO₃∶CaNO₃·4H₂O＝4∶6的处理液。该处理液是即便冷却也不结晶、且呈玻璃状(非晶状)地进行固化的处理液。 

接着，在从第1处理液取出来的玻璃衬底的温度被维持于190℃以上且残留于玻璃衬底表面的第1处理液的结晶未开始的状态下，将其浸渍于被调整成200℃～230℃的第2处理液中。该第2处理液使用了KNO₃∶NaNO₃∶CaNO₃·4H₂O∶LiNO₃＝3∶2∶3∶2的处理液。 

然后，将从第2处理液或者处理液取出来的玻璃衬底浸渍到被调整成50℃～80℃的温水中，并维持了约10分钟。进而，将从温水中取出来的玻璃衬底浸渍到约20℃的冷水中，并维持了约10分钟。 

这样，使玻璃衬底的温度下降至室温。 

(8-2)冷却工序(第2实施例) 

在从化学增强处理槽中取出来的玻璃衬底的温度被维持于230℃以上且残留于玻璃衬底表面上的化学增强盐的结晶未开始的状态下，使其浸渍于被调整成约270℃的第1处理中。该第1处理液使用了KNO₃∶NaNO₃∶CaNO₃·4H₂O＝3∶1∶6的处理液。该第1处理液的结晶开始温度约为150℃。 

接着，在从第1处理液取出来的玻璃衬底的温度被维持于150℃以上且残留于玻璃衬底表面上的第1处理液的结晶未开始的状态下， 将其浸渍于被调整成170℃的第2处理液。该第2处理液使用了KNO₃∶NaNO₃∶CaNO₃·4H₂O∶LiNO₃＝5∶3∶8∶4的处理液。 

然后，将从第2处理液中取出来的玻璃衬底浸渍到被调整成80℃的温水中，并维持了约10分钟。进而，将从温水中取出来的玻璃衬底浸渍到约20℃的冷水中，并维持了约10分钟。 

或者，在从化学增强处理槽取出来的玻璃衬底的温度被维持于230℃以上且残留于玻璃衬底表面上的化学增强盐的结晶未开始的状态下，将其浸渍于被调整成240℃～330℃的处理液中，并涂敷了玻璃衬底的表面。该处理液使用了KNO₃∶NaNO₃∶CaNO₃·4H₂O＝3∶1∶6的处理液。该处理液是即便冷却也不结晶、且呈玻璃状(非晶状)地进行固化的处理液。 

接着，将从处理液中取出来的玻璃衬底浸渍到被调整成50℃～80℃的温水中，并维持了约10分钟。进而，将从温水中取出来的玻璃衬底浸渍到约20℃的冷水中，并维持了约10分钟。 

这样，使玻璃衬底的温度下降至室温。 

(9)清洗 

将已结束冷却的磁盘用玻璃衬底浸渍于加热成约40℃的浓硫酸中进行了清洗。进而，使已结束硫酸清洗的磁盘用玻璃衬底依次浸渍于纯水(1)、纯水(2)、IPA(异丙醇)、IPA(蒸汽干燥)的各清洗槽中，进行超声波清洗，并使其干燥。 

接着，对已结束清洗的磁盘用玻璃衬底的主表面进行目视检查，进而，实施利用了光的反射、散射以及透射的精密检查。 

使用“Candela公司制造的OSA6100”确认了在经过这种工序得到的磁盘用玻璃衬底的主表面上不存在异常的微小波纹。 

〔磁盘的制造方法的实施例〕 

接着，经由以下的工序来制造磁盘。 

在通过上述工序得到的磁盘用玻璃衬底的两个主表面上使用静止对置型的DC磁控溅射装置，依次形成Al-Ru合金的种子层(seedlayer)、Cr-W合金的基底层、Co-Cr-Pt-Ta合金的磁性层、氢化碳 保护层。种子层起到使磁性层的磁性晶粒细微化的作用，基底层起到使磁性层的磁化容易轴定向到面内方向上的作用。

该磁盘至少具备：作为非磁性衬底的磁盘用玻璃衬底、被形成在该磁盘用玻璃衬底上的磁性层、被形成在该磁性层上的保护层、以及被形成在该保护层上的润滑层。 

在磁盘用玻璃衬底与磁性层之间形成有由种子层以及基底层构成的非磁性金属层(非磁性基底层)。在该磁盘中除磁性层以外全部是由非磁性体构成的层。在该实施例中，磁性层以及保护层、保护层以及润滑层以分别相接的状态形成。 

即，首先，作为溅射靶，使用Al-Ru(铝-钌)合金(Al：50at％、Ru：50at％)，在磁盘用玻璃衬底上通过溅射形成由膜厚30nm的Al-Ru合金构成的种子层。其次，作为溅射靶，使用Cr-W(铬-钨)合金(Cr：80at％、W：20at％)，在种子层5上通过溅射形成由膜厚20nm的Cr-W合金构成的基底层。接下来，作为溅射靶，使用由Co-Cr-Pt-Ta(钴-铬-铂-钽)合金(Cr：20at％、Pt：12at％、Ta：5at％、其余部分为Co)构成的溅射靶，在基底层上通过溅射形成由膜厚15nm的Co-Cr-Pt-Ta合金构成的磁性层。 

其次，在磁性层上形成由氢化碳构成的保护层，进而，用浸涂法形成由PFPE(全氟聚醚)构成的润滑层。保护层起到保护磁性层免于磁头的冲击的作用。 

使用这样所得到的磁盘，通过浮起量为10nm的滑行磁头进行滑行检查，结果能够维持稳定的浮起状态而未检测出冲撞的异物等。另外，使用该磁盘以700kFCI进行记录再生试验，结果能够获得充分的信号强度比(S/N比)。另外，确认未发现信号的错误。 

另外，使用通过实施例得到的玻璃衬底，将磁头的浮起量设定成6nm，进行了装载/卸载试验的结果是，即便进行100万次的动作也未引起磁头碰撞。

进而，在需要每1平方英寸60G比特以上的信息记录密度的“1英寸型硬盘驱动器”进行搭载并使其驱动，结果能够没有特别的问题 地进行记录再生。即，没有发生碰撞问题及热不均匀问题。 

此外，在本发明中对于磁盘用玻璃衬底的直径(尺寸)并没有特别限定。但是，本发明尤其在制造小直径的磁盘用玻璃衬底的情况下发挥表现出色的有用性。这里所说的小直径是例如直径小于等于30mm的磁盘用玻璃衬底。 

即，这是因为例如直径小于等于30mm的小直径磁盘被用于所谓的汽车导航系统等车载用设备及所谓的PDA或便携电话终端装置等便携用设备中的存储装置，与固定使用的设备中的通常的磁盘相比较，要求高的耐久性及耐冲击性。 

另外，使用进行上述实施例1以及实施例2来制造的磁盘用玻璃衬底，以制造垂直磁记录方式的磁盘，并进行了装载/卸载试验以及滑行检查，其结果是，获得了良好的结果。 

〔比较例〕 

在与上述的实施例中的磁盘用玻璃衬底同样地进行了化学增强处理后，作为比较例，通过从化学增强处理液中取出玻璃衬底，并在进行了放置的状态下降低到室温，得到了磁盘用玻璃衬底。通过利用了“Candela公司制造OSA6100”的确认，在该比较例中的磁盘用玻璃衬底的主表面上观察到少许波纹。 

而且，使用该玻璃衬底制造磁盘，并经与实施例同样的滑行检查，发生了磁头碰撞。 

此外，本发明还能够作为以下的发明构成来进行理解。 

〔构成15〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包含使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序，其特征在于：包含使经过化学增强处理的玻璃衬底与熔解有固化温度低于上述化学增强盐的物质的处理液接触的处理。 

〔构成16〕 

具有构成15的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：上述 处理液的温度被设为高于上述化学增强盐的固化温度的温度。 

〔构成17〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包含使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序，其特征在于： 

包含使经过化学增强处理的玻璃衬底与熔解有固化温度低于上述化学增强盐的第1物质的第1处理液接触的处理，并且 

包含使与上述第1处理液接触了的玻璃衬底与熔解有固化温度低于上述第1物质的第2物质的第2处理液接触的处理。 

〔构成18〕 

具有构成17的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于： 

上述第1处理液的温度被设为高于上述化学增强盐的固化温度的温度， 

上述第2处理液的温度被设为高于上述第1物质的固化温度的温度。 

〔构成19〕 

具有构成15至构成18中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：上述处理液是熔解了的硝酸盐。 

〔构成20〕 

具有构成15至构成19中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：使与上述处理液接触了的玻璃衬底的温度分阶段地和/或连续地下降。 

〔构成21〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包含使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序，其特征在于： 

将呈玻璃状地固化的物质的熔液涂敷在经过化学增强处理的玻璃衬底的表面上。 

〔构成22〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包含使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序、和对经过化学增强工序的玻璃衬底进行冷却的冷却工序，其特征在于：将被涂敷了呈玻璃状地固化的物质的熔液的玻璃衬底冷却至规定的温度。 

〔构成23〕 

具有构成21或者构成22的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：使上述玻璃衬底的温度下降至规定的温度而不使晶体析出在被涂敷了呈玻璃状地固化的物质的熔液的玻璃衬底表面上。 

〔构成24〕 

具有构成21至构成23中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：将呈玻璃状地固化的物质的熔液以高于上述化学增强盐的固化温度的温度涂敷在玻璃衬底上。 

〔构成25〕 

一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包含使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序、和对经过该化学增强工序的玻璃衬底进行冷却的冷却工序，其特征在于： 

在冷却工序中使玻璃衬底的温度下降至规定的温度而不使附着于玻璃衬底的表面上的化学增强盐熔液中的化学增强盐固化。 

〔构成26〕 

一种磁盘的制造方法，其特征在于：在通过具有构成15至构成25中任意一项的磁盘用玻璃衬底的制造方法来制造的磁盘用玻璃衬底上至少形成磁性层。 

另外，根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法，还可以是包含通过使玻璃衬底与加热了的化学增强熔液接触来对该玻璃衬底进行化学增强的化学增强工序的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其中，包含通过使经过上述化学增强处理的玻璃衬底与低于上述化学增强熔液的固化温度的处理液接触来使附着于经过化学增强处理的玻璃衬底 的表面上的化学增强熔液不会固化地从玻璃衬底表面上扩散的接触工序。 

另外，在根据本发明的磁盘用玻璃衬底的制造方法中，通过将冷却工序中所使用的处理液设为包含化学增强盐所含的金属盐的至少一部分，能够将附着于玻璃衬底的表面上的进行了化学增强处理的化学增强盐熔液与冷却工序中所使用的处理液不分离地(以液体状态)进行混合。由此，附着于玻璃衬底表面上的化学增强盐熔液能够通过凝固点下降而降低其结晶温度，所以能够更进一步防止在冷却工序中增强盐熔液在玻璃衬底表面上结晶。 

另外，上述冷却工序中所使用的上述熔液还可以包含上述化学增强盐所含的金属盐的至少一部分。 

产业上的可利用性 

本发明适用于构成作为磁盘装置的硬盘驱动器(HDD)等中使用的磁盘的磁盘用玻璃衬底的制造方法以及使用了该磁盘用玻璃衬底的磁盘的制造方法。 

Claims (5)

1.一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，包含使玻璃衬底与加热了的化学增强盐熔液接触并在所希望的温度下对玻璃衬底的表层进行化学增强的化学增强工序、和对经过该化学增强工序的玻璃衬底进行冷却的冷却工序，其特征在于：

在上述冷却工序中，在上述玻璃衬底的温度下降前，在该玻璃衬底的表面上涂敷熔解有在固化时呈玻璃状地固化的物质的熔液。

2.权利要求1所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：

在上述冷却工序中，使上述玻璃衬底的温度下降至室温而不使上述化学增强盐在上述玻璃衬底的表面上结晶。

3.权利要求1所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：

在上述冷却工序中涂敷于上述玻璃衬底的表面上的熔液的温度被调整成高于上述化学增强盐的固化温度的温度。

4.权利要求1所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于：

在上述冷却工序中涂敷于上述玻璃衬底的表面上的熔液是将被调整成在固化时呈玻璃状地固化的硝酸盐进行加热并熔解的硝酸盐熔液。

5.一种磁盘的制造方法，其特征在于：

在通过权利要求1所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法来制造的磁盘用玻璃衬底上至少形成磁性层。

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