CN101982012A - 有机电致发光元件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种有机电致发光元件，其具备支撑基板、密封基板和层叠体，该层叠体包含一对电极和夹持在该电极间的有机发光层，所述层叠体搭载在所述支撑基板上且由所述支撑基板及所述密封基板包围而与外界遮断，在所述支撑基板的至少一个表面或所述密封基板的至少一个表面，设置有具有高热辐射性的层，所述具有高热辐射性的层的热辐射率为0.70以上。

Description

有机电致发光元件
技术领域
本发明是涉及一种有机电致发光元件(以下，本说明书中有时会将其称作“有机EL元件”)，更详细而言，本发明涉及在基板上具备阳极、阴极、以及含有有机化合物的发光层的有机电致发光元件。
背景技术
为了开发性能更高的装置，对于有机EL元件以及搭载该有机EL元件的有机EL装置，进行了各种各样的研究。有机EL元件通常具备阳极、阴极以及由这些阳极与阴极所夹持的发光层。发光层是由被施加电压后会发光的有机化合物形成的。有机EL元件具有各种各样的特性，但由于能够将薄膜进行层叠而形成，故可形成极其薄型的装置是有机EL元件的一个较大特征。
上述有机EL元件被施加电压后会发光，但当前的现状则是：一部分会转换成热能(heat energy)，有机EL元件会因焦耳热等而发热。有机EL元件的发热有时会导致亮度等的发光特性的降低、或有机EL元件自身的劣化。会存在该有机EL元件的温度越高，则越容易引起有机EL元件劣化的倾向。而且，在使用期望得以实用化的有机EL装置的照明装置等的情况下，必需进行驱动以产生高亮度，因此，如何从装置中散热成为重要的课题。因此，研究了各种将有机EL元件产生的热散放至元件外部的对策。
作为改善散热性的方法，提出了一部分构件采用热导性高的材料的方法(例如专利文献1等)。此外，提出了在有机EL元件的内部构造中的一部分设置散热膜的方法(例如专利文献2等)。
专利文献1：日本专利特开2004-186045号公报
专利文献2：日本专利特开2006-244847号公报
然而，即便在有机EL元件的内部构造的一部分、例如在发光层的侧面或对各元件进行划分的隔离壁部等上设置热辐射层，但与包含发光层的层叠体部的接触面积小，从而仅设置热辐射层时热的传递效果并不充分。
发明内容
在如上所述的状况下，本发明的课题在于提供一种散热性得到进一步提高的有机EL元件。
然而，由构成有机EL元件的一对电极(即阳极与阴极)以及设置在这些电极之间的发光层等所构成的层叠体，是在基板上对各层进行层叠而形成的。对于基板而言，通用的是玻璃，但一般而言，玻璃的热导率较低，为1W/m·K，因此所产生的热难以自玻璃的内侧传导至外侧。而且，由于热难以均匀地在玻璃中扩散，故而玻璃基板内会产生热分布不均匀，从而导致有机EL元件或安装该有机EL元件的装置中，有时会产生亮度不均、寿命的经时变化等的特性产生差异的情况。因此，本发明者等人考虑采用在玻璃表面贴附热导率高的板等来作为热对策，以达到使玻璃表面的温度的分布均一化(均热化)的目的。
通过贴附热导率高的板，能够使玻璃基板所保有的热扩散，以使玻璃基板的表面温度分布均热化，从而可防止仅一部分温度明显较高而使得该部分提前劣化的情况，而关于自元件自身向外界散热的方面，也要求加以进一步改善。
本发明中，在基板上设置由不仅热导性优异、散热性也优异的被膜或薄片等而形成的层，由此大幅度提高从基板向外界的热辐射，且成功地抑制了有机EL元件的温度上升。即，根据本发明，可提供一种具有下述构成的有机EL元件以及安装该有机EL元件的装置。
[1]一种有机电致发光元件，其中，
具备支撑基板、密封基板和层叠体，该层叠体包含一对电极和夹持在该电极间的有机发光层，
所述层叠体搭载在所述支撑基板上且由所述支撑基板及所述密封基板包围而与外界遮断，
在所述支撑基板的至少一个表面或所述密封基板的至少一个表面，设置有具有高热辐射性的层，
所述具有高热辐射性的层的热辐射率为0.70以上。
[2]根据上述[1]所述的有机电致发光元件，其中，
所述热辐射率为0.85以上。
[3]根据上述[1]或[2]所述的有机电致发光元件，其中，
所述具有高热辐射性的层的热导率为1W/mK以上。
[4]根据上述[3]所述的有机电致发光元件，其中，
所述热导率为200W/mK以上。
[5]根据上述[1]～[4]中任一项所述的有机电致发光元件，其中，
所述具有高热辐射性的层含有黑色系材料。
[6]根据上述[1]～[5]中任一项所述的有机电致发光元件，其中，
所述具有高热辐射性的层是包含高热导性层和黑色系材料层的两层以上的层叠层。
[7]根据上述[6]所述的有机电致发光元件，其中，
所述高热导性层是由下述材料或高热导性的树脂形成，所述材料选自由铝、铜、银、陶瓷材料及选自铝、铜、银、陶瓷材料中的两种以上的合金构成的组中。
[8]根据上述[1]～[7]中任一项所述的有机电致发光元件，其中，
所述支撑基板是玻璃基板，在该玻璃基板的至少一个表面设置有所述具有高热辐射性的层。
[9]根据上述[8]所述的有机电致发光元件，其中，
在所述玻璃基板的与所述层叠体相反的一侧的表面，设置有所述具有高热辐射性的层。
[10]根据上述[8]所述的有机电致发光元件，其中，
在所述玻璃基板的两个表面，设置有所述具有高热辐射性的层。
[11]根据上述[8]所述的有机电致发光元件，其中，
在所述玻璃基板的外侧的表面设置有所述具有高热辐射性的层，并且，在所述玻璃基板的所述层叠体侧的表面设置有具有高热导性的层。
[12]根据上述[1]～[7]中任一项所述的有机电致发光元件，其中，
所述密封基板是玻璃基板，在该玻璃基板的至少一个表面设置有所述具有高热辐射性的层。
[13]一种显示装置，其中，
安装有上述[1]～[12]中任一项所述的有机电致发光元件。
[14]一种照明装置，其中，
安装有上述[1]～[12]中任一项所述的有机电致发光元件。
根据本发明，可提供一种构造简单、且散热性优异的有机EL元件以及装置。
附图说明
图1是本发明的第一实施形态的有机EL元件的剖面图。
图2是本发明的第二实施形态的有机EL元件的剖面图。
图3-1是表示本发明的第三实施形态的剖面图。
图3-2是表示本发明的第三实施形态的一变形例的剖面图。
图3-3是表示本发明的第三实施形态的一变形例的剖面图。
图3-4是表示本发明的第三实施形态的一变形例的剖面图。
图3-5是表示本发明的第三实施形态的一变形例的剖面图。
图3-6是表示本发明的第三实施形态的一变形例的剖面图。
图4是表示本发明的第四实施形态的剖面图。
图5是表示验证实验装置的侧面的图。
图6是表示验证实验装置上载置的测试基板以及测定位置的平面图。
图7-1是表示提供给实施测试例1的测试基板的剖面图的图。
图7-2是表示提供给实施测试例2的测试基板的剖面图的图。
图7-3是表示提供给实施测试例3的测试基板的剖面图的图。
图7-4是表示提供给比较测试例1的测试基板的剖面图的图。
图7-5是表示提供给比较测试例2的测试基板的剖面图的图。
图8是表示验证实验结果的图。
符号说明
1、2、3A、3B、4A：有机EL元件
10：支撑基板
11：玻璃基板
12：测试基板保持玻璃
15：测试基板
20：包含有机发光层的层叠体
30、31：密封基板
40：胶粘部(日文：接着部)
60、61：具有高热辐射性的层
63：由两层构成、且具有高热导性以及高热辐射性的层
63a：黑色涂装层
63b：铝层
64：由三层构成、且具有高热导性以及高热辐射性的层
80：测试台
81：加热板
82：隔热片
83：导热部(热源、黄铜)
84：温度传感器
A～K(图6中)：测定位置
具体实施方式
以下，一面参照附图一面对本发明的实施形态进行说明。另外，为了便于理解，附图中的各构件的缩小比例有时与实际情况不同。而且，本发明并非由以下描述所限定，在不脱离本发明主旨的范围内可进行适当的变更。进而，有机EL装置中也存在电极的引线等的构件，但在本发明的说明中由于不直接需要，故省略记载。
1.有机EL元件
<第一实施形态>
一面参照图1一面对本发明的第一实施形态进行说明。图1表示第一实施形态的有机EL元件1(以下称作“第一实施形态的元件”)的剖面图。第一实施形态的元件是在支撑基板10上形成包含有机发光层的层叠体20。层叠体20整体被密封基板30所覆盖，密封基板30与支撑基板10则利用胶粘部40得以密封。这样，层叠体20与外界隔绝。在支撑基板10的外侧的表面、即与形成有层叠体20的一侧相反的表面，设置有具有高热辐射性的层60。
有机EL元件1使元件所产生的热在基板内扩散从而促进均热化，并且也设置有热辐射机构，从而更有效地使热自支撑基板10向外界散逸。因此，比起仅由热导性高的材料来形成层，能够更有效地向外界散热，从而抑制元件的温度上升的效果较大。而且，采用了附设于支撑基板的构成，有机EL元件的内部构造、例如包含有机发光层的层叠体或对层叠体进行划分的间隔壁(Bank)等的构造设计无需复杂化，而能够形成构造简单的元件。
<基板>
作为构成有机EL元件1的基板，有支撑基板10与密封基板30。在支撑基板10的其中一面搭载有层叠体20。密封基板30覆盖支撑基板10上的层叠体20，从而对元件进行密封。作为构成各基板的材料，可使用在形成电极等、形成有机物的层时不会变性的材料，例如可使用玻璃、塑料、高分子薄膜、硅基板、金属板、以及对这些进行层叠所得的物等。另外，也可使用对塑料、高分子薄膜等实施低透水化处理所得的物。而且，对于基板而言，可使用市售的基板，或者可通过众所周知的方法来制造。支撑基板10的形状较佳为具有能够搭载层叠体20的区域的平面状的形状。此外，密封基板30的形状只要是能够与支撑基板10贴合以对层叠体20进行密封即可，如图1所示可为箱形，或者也可为平板状(未图示)。
有机EL元件1中可形成基板的元件，列举了如上所述的材料，但就易于操作等的观点而言，较佳为玻璃基板。相反，玻璃基板是热辐射性低的材料。本发明为了提高散热性，而可较佳地适用于将玻璃基板等的热辐射性低的材料用作基板的情况。
<具有高热导性以及高热辐射性的层>
具有高热辐射性的层，较好的是由对于热的两种特性、即热导性与热辐射性双方均较高的材料所形成的层(以下有时称作高热导性·高热辐射性层)。本说明书中，所谓热导，是指使热自物体的高温部转移到低温部，而不会发生物质的移动或辐射所引起的能量传输的现象(岩波理化学辞典、岩波书店、1998年、第5版)。此外，所谓热辐射是指热能作为电磁波而自物体中散逸出来的现象、或者指该电磁波(岩波理化学辞典、同上)。
热辐射性高的材料的较好的热辐射率例如可列举0.70以上，更好的可列举0.85以上。就散热观点而言，热辐射率的上限并未作特别规定。所谓热辐射率，是指从某个温度的物质表面辐射出的能量、与从相同温度的黑体(blackbody)(100％吸收辐射所给予的能量的假想物质)辐射出的能量的比率。热辐射率可以按照傅立叶转换红外线分光法(FT-IR)来测定。作为热辐射性高的材料，可列举黑色系材料，且较佳可使用黑色涂料的颜料成分等。作为黑色系材料，例如可例示碳塑料、TiO2、Fe3O4等。
作为热导性高的材料的较好的热导率，例如可列举1W/mK以上，更好的可列举10W/mK以上，尤其好的可列举200W/mK以上。就散热观点而言，热导率的上限并未作特别规定。热导率是指在单位时间内通过物体内部的等温面的单位面积而垂直流动的热量、与该方向上的温度梯度之比(岩波理化学辞典、同上)。热导率例如可以根据美国材料试验协会D5470(American Society For Testing and D5470，ASTM D5470)的方法来测定。作为热导性高的材料，例如可列举铝、铜、银、陶瓷材料、以及高热导性的树脂等。作为高热导性树脂，可列举环氧树脂、三聚氰胺树脂、丙烯酸树脂等。
高热导·高热辐射性层可形成为单层，也可为具有两层以上的多个层的层。当设为单层时，例如可列举使高热导性的微粒分散在树脂材料中，并且混合黑色系的颜料，将该树脂材料涂布在基板上从而形成层等的形态。
而且，作为包含多个层的高热导·高热辐射性层，例如，能够以如下方式而形成：在高热导性的薄片状材料的一面或两面涂布含有黑色系的颜料的涂料，从而制作使高热导性薄片上形成有高热辐射性材料的被膜而成的复合薄片，并将该复合薄片贴合在基板上。另外，作为其它形态，也可使用使高热导性的薄片状材料、与高热辐射性的薄片状材料贴合而成的复合薄片。高热导性层以及高热辐射性层也可分别重叠多层而加以使用。
在将薄片状的高热导·热辐射层设置于基板时，也可使用胶粘剂来进行贴附加工。当使用胶粘剂时，较佳可使用丙烯酸系胶粘剂或环氧系胶粘剂等热导性高的胶粘剂。此外，当使用玻璃基板时，就与玻璃的胶粘性也优异的观点而言，较佳可使用丙烯酸系胶粘剂等的胶粘剂。
作为包含有机发光层的层叠体20，一般可采用可作为有机EL元件而构成的各种形态。以下，对可用作包含有机发光层的层叠体20的层叠体的层构造以及其形成方法等的实施形态加以说明。
搭载于有机EL元件的层叠体必需具有阳极、发光层及阴极，除此之外，可在上述阳极与上述发光层之间、及/或上述发光层与上述阴极之间进而具有其它层。
作为可设置在阴极与发光层之间的层，可列举电子注入层、电子传输层、及空穴阻挡层等。当设置有电子注入层及电子传输层两者时，靠近阴极的层为电子注入层，而靠近发光层的层则为电子传输层。
电子注入层是具有改善自阴极注入电子的效率的功能的层，电子传输层是具有改善自阴极、电子注入层或更靠近阴极的电子传输层注入电子的功能的层。此外，当电子注入层、或者电子传输层具有阻止空穴传输的功能时，这些层有时会兼作空穴阻挡层。
作为设置在阳极与发光层之间的层，可列举空穴注入层、空穴传输层、及电子阻挡层等。当设置有空穴注入层及空穴传输层两者时，靠近阳极的层为空穴注入层，而靠近发光层的层则为空穴传输层。
空穴注入层是具有改善自阳极注入空穴的效率的功能的层，所谓空穴传输层，是指具有改善自阳极、空穴注入层或更靠近阳极的空穴传输层注入空穴的功能的层。而且，当空穴注入层、或空穴传输层具有阻止电子传输的功能时，这些层有时会兼作电子阻挡层。
另外，有时会将电子注入层及空穴注入层统称为电荷注入层，将电子传输层及空穴传输层统称为电荷传输层，并将电子阻挡层及空穴阻挡层统称为电荷阻挡层。
更具体而言，有机EL元件可以具有下述层构成中的任一个：
a)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
b)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极
c)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极
d)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/阴极
e)阳极/空穴注入层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
f)阳极/空穴注入层/发光层/电子传输层/阴极
g)阳极/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极
h)阳极/空穴注入层/发光层/阴极
i)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
j)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极
k)阳极/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极
l)阳极/空穴传输层/发光层/阴极
m)阳极/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
n)阳极/发光层/电子传输层/阴极
o)阳极/发光层/电子注入层/阴极
P)阳极/发光层/阴极
(此处，/表示各层相邻接而层叠，以下相同)。
上述层构成的各例中，可在发光层与阳极之间插入电子阻挡层。而且，也可在发光层与阴极之间插入空穴阻挡层。
有机EL元件中发光层通常是设置一层，但并不限定于此，也可设置两层以上的发光层。此时，两层以上的发光层可直接相邻接而层叠，也可在这些层之间设置发光层以外的层。
作为具有两层发光层的有机EL元件，例如可列举具有如下所示的层构成的元件等。
q)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/电极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
此外，作为具有三层以上的发光层的有机EL元件，具体而言可列举具有如下层构成的元件：将电极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层作为一个重复单位(以下“称作重复单位A”)，且包含
r)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/重复单位A/重复单位A…/阴极、以及
两层以上的重复单位A。
上述层构成q及r中，阳极、阴极、发光层以外的各层视需要可省略。
此处，所谓电极，是指通过施加电场而产生空穴及电子的层。作为构成该电极的材料，例如可列举氧化钒、铟锡氧化物(Indium Tin Oxide：简称ITO)、及氧化钼等。
有机EL元件为了放出来自发光层的光，通常使发光层中的任一侧的层全部成为能够透射光的层。具体而言，例如在具有阳极/电荷注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电荷注入层/阴极/密封构件的构成的有机EL元件的情况下，使阳极、电荷注入层及空穴传输层全部能够透射光、即作为所谓的底部发光型元件，或者使电子传输层、电荷注入层、阴极及密封构件全部能够透射光、即作为所谓的顶部发光型元件。此外，在具有阴极/电子注入层/电子传输层/发光层/空穴传输层/空穴注入层/阳极/密封构件的构成的有机EL元件的情况下，使阴极、电子注入层及电子传输层全部能够透射光、即作为所谓的底部发光型元件，或者使空穴传输层、空穴注入层、阳极及密封构件全部能够透射光、即作为所谓的顶部发光型元件。此处，作为能够透射光的元件，较好的是自发光层起直至放出光的层为止的可见光透射率为30％以上的元件。在要求紫外线区域或红外线区域的发光的元件的情况下，较好的是在该区域具有30％以上的透射率的元件。
有机EL元件中为了进一步提高与电极的密接性或改善自电极的电荷注入，也可与电极相邻接而设置膜厚为2mm以下的绝缘层，此外，为了提高界面的密接性或防止混合等，也可在电荷注入层、电荷传输层、以及发光层中的至少一层的正上方插入较薄的缓冲层。
所层叠的层的顺序及数量、以及各层的厚度，可参考发光效率及元件寿命而适当地使用。
接下来，对构成有机EL元件的各层的材料及形成方法进行更具体的说明。
<阳极>
作为有机EL元件的阳极，使用的是能够透射光的透明电极，由于可构成通过阳极而发光的元件，故而较佳。作为该透明电极，可较佳地利用导电率高的金属氧化物、金属硫化物或金属薄膜这样的透射率高的化合物，且可根据所使用的有机层来适当地选择使用。具体而言，可使用由氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide：简称IZO)形成的薄膜，或金、铂、银、铜、铝、或至少含有一种以上的这些金属的合金等。就高光透射率、易于图案化而言，较佳使由ITO、IZO、氧化锡形成的薄膜来作为阳极。关于阳极的制作方法，可列举真空蒸镀法(包含上述实施形态的电子束蒸镀法)、溅射法、离子镀法、电镀法等。而且，作为该阳极，也可使用聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等有机透明导电膜。此外，也可使用由如下混合物形成的薄膜来作为阳极，该混合物包含选自上述有机透明导电膜中使用的材料、金属氧化物、金属硫化物、金属、以及碳纳米管等碳材料中的至少一种以上。
阳极可以使用使光反射的材料，对于该材料而言，较好的是功函数为3.0eV以上的金属、金属氧化物、金属硫化物。
阳极的膜厚可以考虑光的透射性及导电率而适当地选择，例如为5nm～10μm，较好的是10nm～1μm，尤其好的是20nm～500nm。
<空穴注入层>
空穴注入层可设置在阳极与空穴传输层之间、或阳极与发光层之间。作为构成空穴注入层的空穴注入层材料，并未作特别限制，可适当地使用众所周知的材料。作为空穴注入层材料，例如可列举苯胺系、星爆型胺系、酞菁系、腙衍生物、咔唑衍生物、三唑衍生物、咪唑衍生物、具有氨基的噁二唑衍生物、及氧化钒、氧化钽、氧化钨、氧化钼、氧化钌、氧化铝等氧化物、及无定型碳、聚苯胺、聚噻吩衍生物等。而且，此种空穴注入层的厚度较好的是5～300nm左右。当此种厚度小于上述下限值时，存在制造变得困难的倾向，另一方面，如果上述厚度超过上述上限值，则存在驱动电压、以及施加在空穴注入层的电压变大的倾向。
<空穴传输层>
作为构成空穴传输层的空穴传输层材料并未作特别限制，例如可列举N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)4，4′-二氨基联苯(TPD)、NPB(4，4′-双[N-(1-奈基)-N-苯基氨基]联苯)等芳香族胺衍生物、聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳胺衍生物、茋衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(对亚苯基亚乙烯基)或其衍生物、或聚(2，5-亚噻吩基亚乙烯基)或其衍生物等。
其中，空穴传输层所使用的空穴传输材料较好的是聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺化合物基的聚硅氧烷衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚(对亚苯基亚乙烯基)或其衍生物、或聚(2，5-亚噻吩基亚乙烯基)或其衍生物等高分子空穴传输材料，尤佳为聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物。在低分子的空穴传输材料的情况时，较好的是使该材料分散在高分子粘合剂中加以使用。
空穴传输层的成膜方法并未作特别限制。当使用低分子空穴传输材料时，例如可列举利用与高分子粘合剂的混合溶液来进行成膜的方法等。此外，当使用高分子空穴传输材料时，例如可列举利用溶液来进行成膜的方法等。
作为利用溶液来成膜时所使用的溶剂，只要是使空穴传输材料溶解的溶剂即可，并未作特别限制。作为该溶剂，例如可列举氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂；四氢呋喃等醚系溶剂；甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂；丙酮、甲乙酮等酮系溶剂；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙基溶纤剂醋酸酯等酯系溶剂。
作为利用溶液的成膜方法，例如可使用利用溶液的旋涂法、浇铸法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、线棒涂布法、浸渍涂布法、狭缝涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、喷嘴涂布法等涂布法；凹版印刷法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、反向印刷法、喷墨印刷法等印刷法等涂布法。就容易形成图案的观点而言，较好的是凹版印刷法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、反向印刷法、喷墨印刷法等印刷法。
当使用高分子粘合剂时，较好的是不会极度阻碍电荷传输的高分子粘合剂，且较佳使用对可见光的吸收不强的高分子粘合剂。作为该高分子粘合剂，例如可列举聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚硅氧烷等。
空穴传输层的厚度并未作特别限制，可根据所需设计而适当地变更，较好的是1～1000nm左右。当此种厚度小于上述下限值时，存在制造变得困难、或无法充分获得空穴传输效果等的倾向，而另一方面，若上述厚度超过上述上限值，则存在驱动电压以及施加于空穴传输层的电压变大的倾向。空穴传输层的厚度较好的是2nm～500nm，更好的是5nm～200nm。
<发光层>
发光层是含有发光材料的层，有机发光层是含有有机化合物作为发光材料的层。通常，有机发光层中主要含有发出荧光或磷光的有机物(低分子化合物以及高分子化合物)。另外，还可以含有掺杂剂材料。作为形成可用于本发明中的发光层的材料，例如可列举以下的色素系材料、金属络合物系材料、高分子系材料、以及掺杂剂材料等。
[色素系材料]
作为色素系材料，例如可列举环戊丙甲胺(日文：シクロペンダミン)衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯胺衍生物、噁二唑衍生物、吡唑并喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、联苯乙烯亚芳基衍生物、吡咯衍生物、噻吩环化合物、吡啶环化合物、紫环酮衍生物、苝衍生物、低聚噻吩衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物等。
[金属络合物系材料]
作为金属络合物系材料，例如可以列举铱络合物、铂络合物等具有来自三重激发态的发光的金属络合物、羟基喹啉铝络合物、苯并羟基喹啉铍络合物、苯并噁唑锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、卟啉锌络合物、铕络合物等。进而，作为金属络合物系材料的其他例，可以列举具有Al、Zn、Be等或Tb、Eu、Dy等稀土金属作为中心金属并在配体中具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构等的金属络合物。
[高分子系材料]
作为高分子系材料，例如可列举聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚对亚苯基衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚芴衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物、使上述色素体或金属络合物系发光材料高分子化所得的化合物等。
上述发光性材料中，作为发出蓝色光的材料，例如可列举二苯乙烯基亚芳基衍生物、噁二唑衍生物、以及这些的聚合物、聚乙烯基咔唑衍生物、聚对亚苯基衍生物、聚芴衍生物等。其中，较好的是高分子材料的聚乙烯基咔唑衍生物、聚对亚苯基衍生物及聚芴衍生物等。
而且，作为发出绿色光的材料，例如可列举喹吖啶酮衍生物、香豆素衍生物、及它们的聚合物、聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚芴衍生物等。其中，较好的是高分子材料的聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚芴衍生物等。
此外，作为发出红色光的材料，例如可列举香豆素衍生物、噻吩环化合物、及它们的聚合物、聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。其中，较好的是高分子材料的聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。
[掺杂剂材料]
为了提高发光效率及改变发光波长等目的，也可在发光层中添加掺杂剂。作为此种掺杂剂，例如可列举苝衍生物、香豆素衍生物、红荧烯衍生物、喹吖啶酮衍生物、方酸菁衍生物、卟啉衍生物、苯乙烯系色素、并四苯衍生物、吡唑酮衍生物、十环烯、吩噁嗪酮等。另外，此种发光层的厚度通常约为2nm～2000nm。
<发光层的成膜方法>
作为含有有机物的发光层的成膜方法，可以使用将含有发光材料的溶液涂布在基体之上或上方的方法、真空蒸镀法、转印法等。作为利用溶液来成膜时所使用的溶剂的具体例，可列举与利用上述溶液来使空穴传输层成膜时使空穴传输材料溶解的溶剂相同的溶剂。
作为将含有发光材料的溶液涂布在基体之上或上方的方法，例如可以使用旋涂法、浇铸法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、线棒涂布法、浸渍涂布法、狭缝涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、喷嘴涂布法等涂布法；凹版印刷法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、反向印刷法、喷墨印刷法等的印刷法等涂布法。就容易形成图案及区分多种颜色而言，较好的是凹版印刷法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、反向印刷法、喷墨印刷法等的印刷法。此外，在升华性的低分子化合物的情况下，可使用真空蒸镀法。进而，也可使用如下方法：通过利用激光或摩擦的转印或者热转印，仅在所需处形成发光层。
<电子传输层>
作为构成电子传输层的电子传输材料，可使用众所周知的材料，例如可列举噁二唑衍生物、蒽醌二甲烷或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷或其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯或其衍生物、联苯醌衍生物、或8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物等。
其中，较好的是噁二唑衍生物、苯醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、或8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物，尤其好的是2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、苯醌、蒽醌、三(8-羟基喹啉)铝、聚喹啉。
电子传输层的成膜法并未作特别限制。当使用低分子电子传输材料时，例如可以列举利用粉末的真空蒸镀法、或者利用溶液或熔融状态来成膜的方法。而且，当使用高分子电子传输材料时，例如可以列举利用溶液或熔融状态来成膜的方法等。当利用溶液或熔融状态来成膜时，也可并用高分子粘合剂。作为利用溶液来使电子传输层成膜的方法，例如可列举与利用上述溶液来使空穴传输层成膜的方法相同的成膜法等。
电子传输层的厚度并未作特别限制，可根据所需设计而适当地变更，较好的是1～1000nm左右。当此种厚度小于上述下限值时，存在制造变得困难、或无法充分获得空穴传输效果等的倾向，另一方面，若上述厚度超过上述上限值，则存在驱动电压以及施加至电子传输层的电压变大的倾向。电子传输层的厚度较好的是2nm～500nm，更好的是5nm～200nm。
<电子注入层>
电子注入层设置在电子传输层与阴极之间、或发光层与阴极之间。作为电子注入层，根据发光层的种类可以列举碱金属或碱土金属，或者含有一种以上上述金属的合金，或者上述金属的氧化物、卤化物及碳酸化物，或者上述物质的混合物等。作为碱金属或其氧化物、卤化物、碳酸化物，例如可以列举锂、钠、钾、铷、铯、氧化锂、氟化锂、氧化钠、氟化钠、氧化钾、氟化钾、氧化铷、氟化铷、氧化铯、氟化铯、碳酸锂等。此外，作为碱土金属或其氧化物、卤化物、碳酸化物的示例，可列举镁、钙、钡、锶、氧化镁、氟化镁、氧化钙、氟化钙、氧化钡、氟化钡、氧化锶、氟化锶、碳酸镁等。进而，金属、金属氧化物、掺杂金属盐的有机金属化合物、以及有机金属络合物化合物、或这些的混合物也可用作电子注入层的材料。电子注入层也可为层叠两层以上所得的层。具体而言，可列举LiF/Ca等。电子注入层可通过蒸镀法、溅射法、印刷法等来形成。作为电子注入层的膜厚较好的是1nm～1μm左右。
<阴极材料>
作为阴极的材料，较好的是功函数小且容易向发光层注入电子的材料及/或导电率高的材料及/或可见光反射率高的材料。金属中例如可使用碱金属或碱土金属、过渡金属或第13族(IIIA族)金属等。若举出更具体的示例，可列举锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、铝、钪、钒、锌、钇、铟、铈、钐、铕、铽、镱、金、银、铂、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡、或至少含有一种以上这些金属的合金、或石墨或者石墨层间化合物等。作为合金的示例，例如可列举镁-银合金、镁-铟合金、镁-铝合金、铟-银合金、锂-铝合金、锂-镁合金、锂-铟合金、钙-铝合金等。此外，可使用透明导电性电极来作为阴极，例如可使用导电性金属氧化物或导电性有机物等。具体而言，作为导电性金属氧化物，可使用氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO、IZO，作为导电性有机物，可使用聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等的有机透明导电膜。另外，阴极也可为两层以上的层叠结构。此外，有时也使用电子注入层来作为阴极。
阴极的膜厚可以考虑导电率及耐久性而适当地选择，例如为10nm～10μm，较好的是20nm～1μm，更好的是50nm～500nm。
作为阴极的制作方法，可使用真空蒸镀法(包含上述实施形态的电子束蒸镀法)、溅射法、化学气相沈积(CVD)法、离子镀法、激光消融法、以及对金属薄膜进行压接的层压法等。
<第二实施形态>
参照图2对本发明的第二实施形态进行说明。图2表示第二实施形态的有机EL元件2(以下称作“第二实施形态的元件”)的剖面图。图2中，对与第一实施形态相同的构件标注与图1相同的符号，以下主要说明与第一实施形态不同的方面。
有机EL元件2中，在密封基板31的外侧的表面、即与层叠体20相反侧的表面，设置有高热辐射性层61。密封基板31使用玻璃基板或具有可塑性的薄片状材料，且使密封基板31与支撑基板10熔接。即，如有机EL元件2所示，也可将高热导·高热辐射性层61设置在密封基板30侧。
<第三实施形态>
参照图3-1～图3-5对本发明的第三实施形态以及其变形例进行说明。图3-1表示第三实施形态的有机EL元件3A(以下有时称作“第三实施形态的元件”)的剖面图。图3-1中，对与第一实施形态相同的构件标注与图1相同的符号，以下主要对与第一实施形态不同的方面进行说明。
有机EL元件3A中，在支撑基板的外侧的表面设置有高热导·高热辐射性层63。高热导·高热辐射性层63由两个层构成。其中一个层是黑色涂装层63a，另一个层是铝层63b。通过有机发光层的发热而向支撑基板10传导热。当使用如玻璃基板这样的热导性低的材料来作为支撑基板10时，热特别容易在支撑基板10中停滞。然而，在有机EL元件3A中，通过将具有高热导性的铝层63b与支撑基板10相接触而设置，能加快支撑基板10以及铝层63b中的热分布的分散化，且有助于向支撑基板10的外部散热。进而，铝层63b的外侧表面设置有涂布黑色涂料所形成的黑色涂装层63a，能够促进传递至黑色涂装层63a的热向外界的辐射。有机EL元件3A中，在支撑基板侧设置有黑色涂装层63a，因此是从密封基板侧进行采光的顶部发光型元件。
将高热导·高热辐射性层63设置于支撑基板10的方法并未作特别限制，作为方法的一例，可列举如下形态：在铝薄片的其中一表面涂布黑色涂料，制作形成有黑色涂装层63a的薄片，使用胶粘剂(未图示)等将该薄片胶粘在支撑基板10上。此外，作为其它形态，可列举预先将铝蒸镀在支撑基板10上，并在该铝上涂布黑色涂料而形成黑色涂装层的形态。
图3-2表示作为第三实施形态的元件的一变形例的有机EL元件3B。有机EL元件3A中仅在支撑基板10的其中一表面设置有高热导·高热辐射性层63，但有机EL元件3B中，在支撑基板10的两个表面设置有高热导·高热辐射性层63。这样，通过在支撑基板10的两面设置高热导·高热辐射性层63，可使以层叠体20作为热源的热，更顺畅地传递至支撑基板10整体，从而可进一步提高热分散性。图3-2所示的示例中，支撑基板10与高热导·高热辐射性层63是自层叠体20起朝向外侧依次(图式中是自层叠体20起朝向下方依次)按照以下顺序而构成。
(I)铝层63b/黑色涂装层63a/支撑基板10/黑色涂装层63a/铝层63b
黑色涂装层63a与铝层63b的位置可根据电极形成等的设计上的情况等而进行变更。例如，如图3-3所示的变形例所示，支撑基板与高热导·高热辐射性层也可自层叠体20(未图示)起依次按照以下顺序而构成。另外，以下图3-3～图3-5中，由于层叠体20等的上部构成与图3-2相同，故省略说明。
(II)黑色涂装层63a/铝层63b/支撑基板10/铝层63b/黑色涂装层63a进而，也可按照下述(III)、(IV)以及(V)的顺序来层叠(未图示)。
(III)黑色涂装层63a/铝层63b/支撑基板10/黑色涂装层63a/铝层63b
(IV)铝层63b/黑色涂装层63a/支撑基板10/铝层63b/黑色涂装层63a
(V)铝层63b/黑色涂装层63a/支撑基板10/黑色涂装层63a/铝层63b/黑色涂装层63a
就散热性的观点而言，较好的是按照(V)所示的顺序来层叠。
图3-4表示第三实施形态的元件的其它变形例。有机EL元件3B中，设置有包含黑色涂装层63a及铝层63b两层的高热导·高热辐射性层63，但图3-4所示的变形例中，在铝层63b的两面设置有黑色涂装层63a。这样，就能够进一步提高散热性方面而言，在两面设置黑色涂装层63a的形态为一较佳形态。
图3-5表示第三实施形态的元件的其它变形例。图3-5所示的变形例中，在支撑基板10的层叠体侧的表面(图3-5中，支撑基板10的上表面)上，仅设置有铝层63b。当不期望在有机EL元件的内面侧设置黑色涂装层等的情况下，便采用上述构成。
图3-6表示第三实施形态的元件的其它变形例。图3-6所示的变形例中，在支撑基板10的层叠体侧主表面(图3-6中，支撑基板10的上表面)上，设置有黑色涂装层63a与铝层63b。
<第四实施形态>
参照图4对本发明的第四实施形态进行说明。图4表示第四实施形态的有机EL元件4A(以下称作“第四实施形态的元件”)的剖面图。图4中，对与第三实施形态相同的构件标注与图1相同的符号，以下主要对与第一实施形态不同的方面进行说明。
有机EL元件4A中，高热导·高热辐射性层63不设置在支撑基板侧，而是设置在密封基板30的上表面。这样，高热导·高热辐射性层63也可设置在密封基板侧。有机EL元件4A是从支撑基板10侧进行采光的底部发光型元件。
2.有机EL装置
本发明的有机EL装置是搭载有一个或者两个以上的上述有机EL元件的装置。有机EL装置例如可以是面状光源、分段式显示装置、点矩阵显示装置、液晶显示装置的背光灯、照明装置等。本发明的有机EL装置的元件的散热性优异。因此，可获得亮度不均少、且经时耐久性优异的装置。特别是由于照明装置要求高亮度，故而强烈需要施加高电力，发热量也容易变大。因此，本发明的有机EL装置特别适用于作为照明装置。
为了使用搭载有机EL元件的有机EL装置而获得面状发光，只要将面状的阳极与阴极重合配置即可。此外，为了获得图案状的发光，有如下方法：在上述面状的发光元件的表面设置形成图案状窗口的掩模的方法；使非发光部的有机物层形成得非常厚而实现实质上非发光的方法；以及使阳极或阴极中的任一个电极或两个电极形成为图案状的方法。通过所述方法中的任一方法来形成图案，并使若干电极以能够独立地ON/OFF的方式而配置，由此可获得能够显示数字或文字、简单符号等的分段式显示装置。进而，为了获得点矩阵元件，可使用如下基板：将阳极与阴极以均形成为条纹状而正交的方式配置的无源矩阵用基板；或者配置有薄膜晶体管且以像素单位来进行控制的有源矩阵用基板。进而，通过分开涂布发光色不同的发光材料的方法、或者使用彩色滤光片或荧光转换滤光片的方法，可进行部分彩色显示、多种色彩显示。这些显示元件可用作计算机、电视、移动终端、行动电话、汽车导航、摄像机的取景器等的显示装置。
进而，上述面状的发光装置为自发光薄型，可较佳地用作液晶显示装置的背光灯用的面状光源、或者面状的照明用光源。此外，若使用挠性基板，也可用作曲面状的光源或显示装置。
实施例
以下，一面表示验证实验以及实施例，一面对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于下述实施例等。
验证实验是使用如图5所示的测试装置来进行的。考虑到本发明实质上并不依赖于有机EL元件的层叠体部分的构造，因此使用自制的点加热器(point heater)作为热源，并使用玻璃、覆盖热辐射率较高的原材料的铝薄片等来进行评价。如图5所示，在测试台80上设置有加热板81，并在其中央部设置有圆柱形状的导热部83。导热部83为黄铜制，而且，在导热部83的侧面外周部缠绕着隔热薄片82。在导热部83的上端部设置有测试基板保持玻璃12。并且，在测试基板保持玻璃12上载置有作为被测试体的测试基板15。通过温度传感器84，自测试基板15上表面部的上侧开始测定温度。自该测试基板15的上表面部开始测定辐射热。
图6表示载置在测试基板保持玻璃12上的测试基板15的平面图。测试基板15上所示的A～K的符号，表示温度传感器84从上侧开始的测定位置。另外，图6是中央部的虚线穿过位于测试基板保持玻璃12下方的导热部83的上端面的图。以此方式在中央部设置热源，来对测试基板15的其中一个角部到中央部为止、进而到对角的另一个角部为止的多个位置进行测定，由此可测定出测试基板15的热扩散性。
各测试基板的评价是按照以下要领来进行的。首先，散热效果是以最大温度(测试基板的中心部)的降低水平作为指标。具体而言，将比较测试例1(仅玻璃基板)中的测试基板的最大温度(中心部的温度)设为最大温度的最高值，并求出从其它测试基板的中心部的最大温度中减去该最高值的差。最大温度越低、最大温度的差在负侧越大，则表示热辐射性越优异。此外，均热性(热分散性)是将根据各测试基板内的每个测定位置的温度所表示的温度分布作为指标。测试基板内的温度分布中的不均匀越少，则表示均热化越优异。
<实施测试例1>
实施测试例1中，使用图7-1所示的测试基板。制作如下基板来作为实施测试例1的测试基板：在玻璃基板11(厚度为0.7mm)，设置有实施了热辐射率高的黑色涂装的高热导性铝薄片、以及由用于使该铝薄片胶粘在玻璃基板上的胶粘材料而构成的薄片(神户制钢公司制、商品名：コ一ベホ一ネツ·铝(KS750)、热导率230W/mK、热辐射率0.86)。因此，实施测试例1的测试基板构成为自测试基板保持玻璃12起，依次层叠玻璃基板11/铝层63b/黑色涂装层63a而成的层叠体。
加热板的设定温度是将比较测试例1的测试玻璃基板为90℃的温度作为基准，设定为达到该温度后对测试基板进行加热。测定点的温度变化在±0.2℃的范围内的状态下则判断温度稳定，并使用温度传感器84，对图6所示的A～K的位置测定温度。
<实施测试例2>
使用图7-2所示的基板来作为测试基板，除此以外，以与上述实施测试例1相同的方式，对测试基板的热辐射性以及均热性进行测定。如图7-2所示，实施测试例2的测试基板中，在玻璃基板的两面贴附有具有高热导性以及高热辐射性的层。即，实施测试例3的测试基板构成为自测试基板保持玻璃12侧起，依次层叠黑色涂装层63a/铝层63b/玻璃基板11/铝层63b/黑色涂装层63a而成的层叠体。
<实施测试例3>
使用图7-3所示的基板来作为测试基板，除此以外，以与上述实施测试例1相同的方式，对测试基板的热辐射性以及均热性进行测定。如图7-3所示，实施测试例3的测试基板中，在玻璃基板的外面侧(形成有层叠体一侧的相反侧)表面贴附有具有高热导性及高热辐射性的层，另一方面，在内面侧表面仅贴附有铝薄片。因此，实施测试例3的测试基板构成为自测试基板保持玻璃12侧起，依次层叠铝层63b/玻璃基板11/铝层63b/黑色涂装层63a而成的层叠体。
<比较测试例1>
使用图7-4所示的基板来作为测试基板，除此以外，以与上述实施测试例1相同的方式，对测试基板的热辐射性以及均热性进行测定。如图7-4所示，使用玻璃基板11单体作为比较测试例3的测试基板。
<比较测试例2>
使用图7-5所示的基板来作为测试基板，除此以外，以与上述实施测试例1相同的方式，对测试基板的热辐射性以及均热性进行测定。如图7-5所示，比较测试例2的测试基板中，在玻璃基板11的形成有层叠体的一侧的表面仅贴附有铝薄片。因此，比较测试例2的测试基板15构成为自测试基板保持玻璃12开始依次层叠铝层63b/玻璃基板11而成的层叠体。
<评价>
图8以及表1表示以上的实施测试例1～3、以及比较测试例1及2的上述验证实验结果。
[表1]
表1最大温度以及最大一最小温度差
Figure BPA00001231195400221
表1表示最大温度以及最大-最小温度差的一览。最大温度是表示各测试基板的最高温度的值，且表示各测试基板的中央部的温度。而且括号内的数值是从各测试基板的最高温度减去比较测试例1的最大温度(即90.0℃)后的值。此外，最大-最小温度的数值是同一测试基板内的最大值以及最小值的差，且是均热性(热分散性)的指标。
如表1所示，可知实施测试例1～实施测试例3的最大温度均低于比较测试例1及2的最大温度，在表现出最大温度的中央部散出更多的热。此外，可知比较测试例1及2的最大-最小温度差的值较大，且同一基板内的温度差较大。
如图8所示，可知比较例1及2中，测试基板周边部的测定位置A～C以及I～K的温度约为40℃～55℃左右，与此相对，基板中央部的测定位置D～H的温度约为80℃～90℃左右，出现了显著的温度差。如此，可知提供给比较测试例1及2的测试基板的均热性(热分散性)低。
与此相对，实施测试例1～实施测试例3中，可知测定位置A～K之间的温度分布在约70℃～80℃左右的范围内平稳地分布着。即，可知提供给实施测试例1～实施测试例3的测试基板的均热性(热分散性)高。
<实施例1>底部发光型有机EL元件的制作
利用以下方法，制作底部发光型有机EL元件。首先，制作形成有多个30mm×40mm大小的有机EL元件用的ITO透明导电膜图案以及Cr图案的200mm×200mm玻璃基板。ITO透明导电膜利用溅射法而以约150nm的膜厚来成膜，Cr利用溅射法而形成200nm的图案。
接下来，在附有ITO以及Cr图案的玻璃基板上，使用聚(3，4)乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸(HC スタルク公司制、Baytron P TP AI 4083)的悬浮液，利用旋涂法来成膜，并在烘箱上以200℃干燥20分钟，从而形成厚度为60nm的空穴注入层。其后，使用浸水的擦拭件来擦拭有机EL元件周围的多余部分的空穴注入层，以将其除去。
接着，使用以1∶1的比例混合环己酮与二甲苯的溶剂来制作高分子有机发光材料(ルメ一シヨンGP1300、サメイシヨン公司制)的1.5重量％的溶液，利用旋涂法将该溶液涂布在形成有空穴注入层的基板上，从而形成发光层。其后利用有机溶剂来擦拭元件周边部的多余部分的发光层，之后进行真空干燥(以压力1×10-4Pa以下、温度约170℃、加热15分钟)。
之后，将基板转移到蒸镀室中，将该基板与阴极掩模对准后对阴极进行蒸镀。阴极是利用电阻加热法来加热Ba金属并以蒸镀速度约为 (0.2nm/sec)、膜厚为
Figure BPA00001231195400233
(5nm)的条件下进行蒸镀，使用电子束蒸镀法以蒸镀速度约为
Figure BPA00001231195400234
(1nm/sec)、膜厚为(100nm)的条件下蒸镀A1。形成阴极后，将基板从蒸镀室转移到惰性气体环境下的手套箱中，而不暴露在大气中。
接下来，准备贴附有如下材料的玻璃密封基板(厚度为0.7mm)，该材料由实施了黑色涂装的高热导性材料构成。对于实施了黑色涂装的高热导性材料而言，使用的是实施了热辐射率高的黑色涂装的高热导性铝薄片、以及由用于使该铝薄片胶粘在玻璃基板上的胶粘材料构成的薄片(神户制钢公司制、商品名：コ一ベホ一ネツ·铝(KS750)、热导率为230W/mK、热辐射率为0.86)。使用热固性树脂(Robnor resins公司制、商品名：PX681C/NC)将实施了黑色涂装的高热导性材料胶粘在玻璃密封基板上，胶粘区域为周边部。涂布整个表面后，将玻璃密封基板放入惰性气体环境下的手套箱中，使其与形成阴极的基板对准后贴合在一起，进而保持真空后回复到大气压下，利用加热而使元件基板与密封基板固定，从而制作出高分子有机EL元件。另外，所使用的热固性树脂的固化前的粘度为50mPa·s。
<实施例2>底部发光型有机EL元件的制作
实施例2中，上述实施例1中的元件基板与密封基板的材料组合相反。即，支撑基板使用的是贴附有由实施了黑色涂装的高热导性材料构成的材料的基板，密封基板则使用的是玻璃基板，并进行全面密封。由此，对于自密封基板侧释放出光的所谓顶部发光型元件而言，可制作出与实施例1相同的表面温度分布均匀的元件。
[产业上的可利用性]
如上所述，本发明可用于与有机EL装置相关联的产业领域。

Claims (14)

1.一种有机电致发光元件，其中，
具备支撑基板、密封基板和层叠体，该层叠体包含一对电极和夹持在该电极间的有机发光层，
所述层叠体搭载在所述支撑基板上且由所述支撑基板及所述密封基板包围而与外界遮断，
在所述支撑基板的至少一个表面或所述密封基板的至少一个表面，设置有具有高热辐射性的层，
所述具有高热辐射性的层的热辐射率为0.70以上。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光元件，其中，
所述热辐射率为0.85以上。
3.根据权利要求1所述的有机电致发光元件，其中，
所述具有高热辐射性的层的热导率为1W/mK以上。
4.根据权利要求3所述的有机电致发光元件，其中，
所述热导率为200W/mK以上。
5.根据权利要求1所述的有机电致发光元件，其中，
所述具有高热辐射性的层含有黑色系材料。
6.根据权利要求1所述的有机电致发光元件，其中，
所述具有高热辐射性的层是包含高热导性层和黑色系材料层的两层以上的层叠层。
7.根据权利要求6所述的有机电致发光元件，其中，
所述高热导性层是由下述材料或高热导性的树脂形成，所述材料选自由铝、铜、银、陶瓷材料及选自铝、铜、银、陶瓷材料中的两种以上的合金构成的组中。
8.根据权利要求1所述的有机电致发光元件，其中，
所述支撑基板是玻璃基板，在该玻璃基板的至少一个表面设置有所述具有高热辐射性的层。
9.根据权利要求8所述的有机电致发光元件，其中，
在所述玻璃基板的与所述层叠体相反的一侧的表面，设置有所述具有高热辐射性的层。
10.根据权利要求8所述的有机电致发光元件，其中，
在所述玻璃基板的两个表面，设置有所述具有高热辐射性的层。
11.根据权利要求8所述的有机电致发光元件，其中，
在所述玻璃基板的与所述层叠体相反的一侧的表面设置有所述具有高热辐射性的层，并且，在所述玻璃基板的所述层叠体侧的表面设置有具有高热导性的层。
12.根据权利要求1所述的有机电致发光元件，其中，
所述密封基板是玻璃基板，在该玻璃基板的至少一个表面设置有所述具有高热辐射性的层。
13.一种显示装置，其中，
安装有权利要求1所述的有机电致发光元件。
14.一种照明装置，其中，
安装有权利要求1所述的有机电致发光元件。
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