CN101452158A - 液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法 - Google Patents

液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101452158A
CN101452158A CNA200810178001XA CN200810178001A CN101452158A CN 101452158 A CN101452158 A CN 101452158A CN A200810178001X A CNA200810178001X A CN A200810178001XA CN 200810178001 A CN200810178001 A CN 200810178001A CN 101452158 A CN101452158 A CN 101452158A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
column spacer
liquid crystal
planarization film
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA200810178001XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN101452158B (zh
Inventor
馆森修一
加边正章
山口英将
上岛诚司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Inc
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Publication of CN101452158A publication Critical patent/CN101452158A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101452158B publication Critical patent/CN101452158B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133371—Cells with varying thickness of the liquid crystal layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

这里给出了一种液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置包括：液晶层；第一基板和第二基板，介由其间的所述液晶层而彼此面对；多个柱状间隔物，保持所述第一基板和所述第二基板之间的间隙，其中该多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，并且在设置第一柱状间隔物的部分和设置第二柱状间隔物的部分的至少一个部分中，第一基板和第二基板的一个的基板表面设置有凹槽。

Description

液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示装置及一种液晶显示装置的制作方法。
背景技术
在液晶显示器通常具有的结构中，配置两个基板以彼此面对，在它们之间具有预定的间隙(间隔)，液晶填充地密封在两个基板之间的间隙中以形成液晶层。在如此构造的液晶显示器中，间隔物插在两个基板之间，使得两个基板之间的间隙(液晶层的厚度)保持在预定的大小。尽管已经使用了细颗粒状的(球形)间隔物，然而近年来开始使用柱状形状的间隔物(下面称作“柱状间隔物”)代替颗粒状间隔物。通过使用光敏树脂材料，例如光致抗蚀剂，柱状间隔物形成在基板上，因此，它们也称作“光致间隔物(photo-spacers)”
当负载在厚度方向施加在具有柱状间隔物的液晶显示装置上时，基板和柱状间隔物在负载的作用下形变。当过量的负载施加在部分的液晶显示装置上时，在该部分保持基板间间隙(间隔)的柱状间隔物将发生塑性形变。因此，即使移除该负载，基板间的间隙也不会恢复到它原始的尺寸，因此会产生显示的不规则。
近年来，随着移动设备的厚度减小，液晶显示装置的玻璃部件的薄化和覆盖液晶显示装置表面的丙烯酸树脂等的薄化不断发展，并存在施加在液晶显示装置上的负载增加的趋势。为了在这样的情形下实现具有高抗压性的液晶显示装置，增加布置在基板表面的柱状间隔物的密度以分散施加在单个柱状间隔物上的压力是有效的。具体地，通过增加单位面积布置的柱状间隔物的数目或者通过扩大单个柱状间隔物的外径以增加基板和柱状间隔物间的接触面积就足够了。
然而，由于在低温环境下液晶密度的降低，液晶显示装置通常会发生体积收缩，从而如果如上所述通过增加间隔物的数目或者通过扩大间隔物的外径而提高了柱状间隔物的布置密度，柱状间隔物的弹性收缩可能会跟不上液晶的体积收缩。因此，可能引起品质方面(quality basis)的问题，如果在低温环境下仅仅一个微小的作用力施加在液晶显示装置上则会在液晶层中产生气泡。尤其，在移动使用中，液晶显示装置频繁地暴露于低温环境，产生的气泡将构成品质方面的致命缺陷。因此，就有了对于为了获得更高抗压性的目的而提高布置密度的限制。鉴于此，通常地，保持品质优先于提高抗压性，并且柱状间隔物的布置密度设计得略低。
举例来说，为了解决这样的问题，日本专利公开No.2005-326887和日本专利公开No.2002-341354公开了一种构造，其中布置有两种高度不同的柱状间隔物，从而根据负载(负载压力)的量而变化有效支持两个基板的柱状间隔物的数目。此外，日本专利公开No.2002-341354披露了一种构造，其中通过堆叠基板构成材料的层而形成突出的阶梯状部分(projected steppedparts)，并且使第一柱状间隔物和阶梯状部分接触，由此间隙被居间地设置在了材料及高度均与第一间隔物相同的第二间隔物和基板之间。
然而，为了形成两种高度不同的柱状间隔物，形成第一柱状间隔物的步骤和形成与第一柱状间隔物的高度不同的第二柱状间隔物的步骤就必须分开执行。这个过程将随着制造步骤数目的大幅增加，导致成本升高。此外，在通过大尺寸曝光掩膜的使用而形成柱状间隔物的情形下，柱状间隔物布置密度的修改等(如果有)将使得必须根据该修改而改变大尺寸的曝光掩膜，导致成本的显著增加。
另一方面，在由基板构成材料形成突出的阶梯状部分的情形下，基板构成材料在原本没有阶梯的部分上堆叠。因此，如日本专利公开No.2002-341354所披露的，在通过构图电极材料、布线材料和绝缘材料而形成阶梯状部分的情形下，必须在设置阶梯状部分的同时避免与构成液晶显示装置的像素电路的电极部分、布线部分、绝缘部分等发生位置干扰。因此，设置阶梯状部分时布局的自由程度低。
因此，需要实现高抗压液晶显示装置，其中可以防止低温环境下气泡的产生，并且不会损害布置的自由程度。
发明内容
公开根据本发明的实施例，提供了一种液晶显示装置，包括：
液晶层；
第一基板和第二基板，经由其间的液晶层而彼此面对；和
多个柱状间隔物，保持第一基板和第二基板之间的间隙，
其中该多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，并且
在设置第一柱状间隔物的部分和设置第二柱状间隔物的部分的至少一个部分中，第一基板和第二基板的一个的基板表面设置有凹槽。
根据本发明的另一个实施例，提供了一种液晶显示装置的制造方法。该液晶显示装置包括：液晶层；第一基板和第二基板，经由其间的液晶层而彼此面对；和多个柱状间隔物，保持第一基板和第二基板之间的间隙，其中该多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，在设置第一柱状间隔物的部分和设置第二柱状间隔物的部分的至少一个部分中第一基板和第二基板的一个的基板表面设置有凹槽，该一个基板具有驱动基板，该驱动基板包括用于选择性驱动像素的开关元件、覆盖该开关元件的绝缘膜、和覆盖该绝缘膜的平坦化膜、以及以凹陷形式形成在该平坦化膜的上表面中的凹槽。该方法包括：
第一步骤，涂敷光敏材料至该驱动基板上，从而覆盖绝缘膜，由此由光敏材料形成平坦化膜；
第二步骤，使突出部分经受曝光处理，该突出部分由于第一步骤中形成的平坦化膜的配线和要形成凹槽的部分而突出；
第三步骤，显影在第二步骤中已经经受曝光处理的平坦化膜，由此从该平坦化膜移除突出部分并在该平坦化膜中形成凹槽。
根据本发明的再一个实施例，提供了一种液晶显示装置的制造方法。该液晶显示装置包括：液晶层；第一基板和第二基板，经由其间的液晶层而彼此面对；和多个柱状间隔物，保持第一基板和第二基板之间的间隙，其中该多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，在设置第一柱状间隔物的部分和设置第二柱状间隔物的部分的至少一个部分中第一基板和第二基板的一个的基板表面设置有凹槽，该一个基板具有驱动基板，该驱动基板包括用于选择性驱动像素的开关元件、覆盖该开关元件的绝缘膜、和覆盖该绝缘膜的平坦化膜、以及以凹陷形式形成在该平坦化膜的上表面中的凹槽。该方法包括：
第一步骤，涂敷光敏材料至该驱动基板上，从而覆盖绝缘膜，由此由光敏材料形成平坦化膜；
第二步骤，依次序或同时进行第一步骤中形成的平坦化膜的要形成像素接触连接孔的部分曝光的处理，和平坦化膜的要形成凹槽的部分曝光的处理。
第三步骤，显影在第二步骤中已经经受曝光处理的平坦化膜，由此在该平坦化膜中形成像素接触连接孔和凹槽。
附图说明
图1是示出应用本发明实施例的液晶显示装置的构造实例的横截面图；
图2是示出根据本发明第一实施例的液晶显示装置的构造的主要部分的放大横截面图；
图3图示了柱状间隔物和凹槽的实例的平面图布局；
图4是示出根据本发明第二实施例的液晶显示装置的构造的主要部分的放大横截面图；
图5为示意图，其中由曲线图表示实验确定的间隙改变量和负载之间的关系；
图6是示出液晶显示装置第一具体实例的示意性横截面图，其中第一基板是驱动基板，第二基板是对向基板；
图7是示出超过预定值的负载施加在图6所示的液晶显示装置上的状态的横截面图；
图8是示出液晶显示装置第二具体实施例的示意性横截面图，其中第一基板是驱动基板，第二基板是对向基板；
图9是示出超过预定值的负载施加在图8所示的液晶显示装置上的状态的横截面图；
图10图示了柱状间隔物之间的相互关系；
图11是示出根据本发明实例的液晶装置的构造实例的主要部分横截面图；
图12是示出柱状间隔物和电容电极的布局实例的平面图；
图13是示出超过预定值的负载施加在图11所示的液晶显示装置上的状态的横截面图；
图14A到14C是根据本发明一个实施例的液晶显示装置的第一制作方法的图示；
图15A到15C是根据本发明一个实施例的液晶显示装置的第二制造方法的图示(NO.1)；
图16A和16B是根据本发明一个实施例的液晶显示装置的第二制造方法的图示(NO.2)。
具体实施方式
现在下面将参考附图详细描述本发明的具体实施例。顺便提一下，本发明的技术范围并不局限于下述的实施例，而是包括各种修改和改善，只要它们在能得到根据本发明的构造要求及其组合而获得的具体效果的范围内。
图1是示出应用本发明实施例的液晶显示装置的构造实例的横截面图。如图1所示的液晶显示装置10通常包括第一基板1、第二基板2、液晶层3、多个柱状间隔物4和密封部分5。第一基板1和第二基板2的每个都包括透光基板。第一基板1的平面视图尺寸设定为大于第二基板2的。第一基板1和第二基板2设置处于彼此面对的状态，液晶层3在它们之间的显示区域6中。通过将液晶注入填充到第一基板1和第二基板2之间的间隔(间隙)而形成液晶层3。液晶层3用于选择性地透射第一基板1和第二基板2之间的显示光。通过像素电路(未示出)以单元像素为基础来控制透过液晶层3的光的量。单元像素构成液晶层3中用于控制透射光的量的最小像素单元。
柱状间隔物4用以保持第一基板1和第二基板2之间的间隙(间隔)。柱状间隔物4设置有多个，处于分散在显示区域6中的状态。在本发明的实施例中，多个柱状间隔物4分成“第一柱状间隔物”和“第二柱状间隔物”。密封部分5形成为四方框架状，处于包围显示区域6的状态。密封部分5包括用于使第一基板1和第二基板2彼此结合的密封材料。举例来说，液晶显示装置10构造为：背光(back-light)的光从第一基板1一侧入射到其上并从其中透射而在第二基板2一侧出射。
<第一实施例>
图2是示出根据本发明第一实施例的液晶显示装置的构造的主要部分的放大横截面图。在图2中，第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成在第二基板2上，处于与第二基板2密切接触的状态。第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成为柱状形状，从而在高度上大致相等。此外，柱状间隔物4A、4B的每个都形成为截头圆锥体的形状，其中底端部分的外径大于顶部分的外径。
在第二基板2的基板表面中，设置第一柱状间隔物4A的部分和设置第二柱状间隔物4B的部分构成无阶梯的平整表面。另一方面，在第一基板1的基板表面中，设置第一柱状间隔物4A的部分是平整的表面，而设置第二柱状间隔物4B的部分是凹陷的，从而此凹陷部分构成凹槽7。凹槽7形成为平面视图形状为圆形。
此外，第一柱状间隔物4A的底端部分与第二基板2的内侧表面接触，第一柱状间隔物4A的顶部分与第一基板1的内侧表面接触。另一方面，第二柱状间隔物4B的底端部分与第二基板2的内侧表面接触，而由于凹槽7的存在，第二柱状间隔物4B的顶部分不接触(或离开)第一基板1的内侧表面。第一基板1的内侧表面在这里是指第一基板1的面对第二基板2的表面，第二基板2的内侧表面在这里是指第二基板2的面对第一基板1的表面。
参考第一基板1的设置有第一柱状间隔物4A的基板表面的一部分(表面)，凹槽7的凹槽尺寸d设定在例如d＝0.1到1.5μm的范围内，优选d＝0.1到0.5μm，从而即使当负载施加其上的时候，第一柱状间隔物4A也不会经历塑性形变。这确保了厚度方向没有负载施加至液晶显示装置的条件下(负载为零的情形)，对应于尺寸d的间隙(间隔)被居间地提供在第二柱状间隔物4B的顶部分与第一基板1中的凹槽7的底表面之间。凹槽7的底表面形成为具有大于第二柱状间隔物4B的外径的直径。例如，第二间隔物4B的直径设定为Dsμm并且第一基板1和第二基板2彼此结合时的位置交错排列(未对准)公差设定为±αμm，则凹槽7的圆形底表面的直径设定为“Ds±2α”。
此外，从整体上看液晶显示装置10，布置第一柱状间隔物4A使其处于均匀地分散遍布显示区域6的状态，并同样布置第二柱状间隔物4B使其处于均匀地分散遍布显示区域6的状态。图3图示了柱状间隔物和凹槽的平面视图布局实例。在该布局实例中，在布置成矩阵图案的多个柱状间隔物4(4A、4B)中，第一柱状间隔物4A布置成在行方向和在列方向分开两个位置，从而布置两个第二柱状间隔物4B和两个凹槽7以填充第一柱状间隔物4A之间的每个空位。因此，8个第二柱状间隔物4B和8个凹槽7布置在每个包括1个第一柱状间隔物4A的3×3矩阵中。
这里，液晶显示装置10的显示区域6的面积(显示面积)定义为“S1”，布置在第一基板1和第二基板2之间的全部柱状间隔物4的布局面积[(柱状间隔物4的截面面积)×(柱状间隔物4的总数)]定义为“S2”，全部柱状间隔物4中第一柱状间隔物4A的布局面积[(第一柱状间隔物4A的截面面积)×(第一柱状间隔物4A的总数)]定义为“S3”，全部柱状间隔物4中第二柱状间隔物4B的布局面积[(第二柱状间隔物4B的截面面积)×(第二柱状间隔物4B的总数)]定义为“S4”。然后，显示区域6中全部柱状间隔物4的布局密度D0由下面的公式(1)表示，显示区域6中第一柱状间隔物4A的布局密度D1由下面的公式(2)表示，显示区域6中第二柱状间隔物4B的布局密度由下面的公式(3)表示。
D0＝S2÷S1   (1)
D1＝S3÷S1   (2)
D2＝S4÷S1   (3)
希望设定第一柱状间隔物4A的布局密度D1在“0.1<D1<0.3”条件中，这主要是从有助于维持柱状间隔物4的响应随着低温环境下液晶密度降低而产生的液晶层3体积收缩的弹性收缩随动特性(follow-up property)的角度来考虑的。另一方面，希望设定第二柱状间隔物4B的布局密度D2等于或高于第一柱状间隔物4A的布局密度D1，即“D2≥D1”(优选“D2≥2×D1”)，这主要是从提高液晶显示装置10对负载的抗压性的角度来考虑的。
在如上构造的液晶显示装置10中，在负载不大于预定值情形下(包括负载为零的情形)，第一柱状间隔物4A的顶部分设置为与第一基板1接触，而形成在第二基板2上以面对第一基板1中的凹槽的第二柱状间隔物4B的顶部分设置处于不接触(或离开)第一基板1的状态。因此，第一基板1和第二基板2之间的间隙(间隔)仅通过第一柱状间隔物4A来保持。因此，当施加不超过预定值的负载时，支撑第一基板1和第二基板2的柱状间隔物4的有效布局密度取决于第一柱状间隔物4A的布局密度D1。
另一方面，当负载超过预定值时，由于第二基板2随着负载施加而发生形变，第二柱状间隔物4B的顶部分开始与第一基板1中凹槽7的底表面接触，同时第一柱状间隔物4A的顶部分则保持与第一基板1接触。因此，第一基板1和第二基板2之间的间隙(间隔)由第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B来保持。因此，当施加超过预定值的负载时，支撑第一基板1和第二基板2的柱状间隔物4的有效布局密度取决于全部柱状间隔物4的布局密度D0(＝D1+D2)。
因此，举例来说，在没有负载施加至液晶显示装置10的情形下，柱状间隔物4的有效布局密度被抑制到低的水平，从而即使由于低温环境下液晶密度降低而导致产生体积收缩，柱状间隔物4(第一柱状间隔物4A)的弹性收缩也可以跟上体积收缩。此外，在超过预定值的过量负载施加至液晶显示装置10的情形下，柱状间隔物4的有效布局密度可以增加，仅在该情形下。因此，可以实现高抗压的液晶显示装置，其中在低温环境下的气泡产生可以被有效地防止。
<第二实施例>
图4是示出根据本发明第二实施例的液晶显示装置的构造的主要部分的放大横截面图。在图4中，第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成在第一基板上，处于与第一基板1接触的状态。第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成为在高度上大致相等。此外，柱状间隔物4A、4B的每个都形成为截头圆锥体的形状，其中底端部分的外径大于顶部分的外径。
第二基板2的基板表面中，设置第一柱状间隔物4A的部分和设置第二柱状间隔物4B的部分构成无阶梯的平整表面。另一方面，在第一基板1的基板表面中，设置第一柱状间隔物4A的部分是平整的表面，而设置第二柱状间隔物4B的部分是凹陷的，从而此凹陷部分构成凹槽7。此外，第二柱状间隔物4B形成在第一基板1上的凹槽7中。凹槽7形成为平面视图形状为圆形。
此外，第一柱状间隔物4A的底端部分与第一基板1的内侧表面接触，第一柱状间隔物4A的顶部分与第二基板2的内侧表面接触。另一方面，第二柱状间隔物4B的底端部分与第一基板1中的凹槽7的底表面接触，而由于凹槽7的存在，第二柱状间隔物4B的顶部分不接触(或离开)第二基板2的内侧表面。
参考第一基板1的设置有第一柱状间隔物4A的基板表面的一部分(表面)，凹槽7的凹槽尺寸d设定在例如d＝0.1到1.5μm的范围内，优选d＝0.1到0.5μm，从而即使当负载施加其上的时候，第一柱状间隔物4A也不会经历塑性形变。这确保了在厚度方向没有负载施加至液晶显示装置的条件下(负载为零的情形)，对应于尺寸d的间隙(间隔)被居间地提供在第二柱状间隔物4B的顶部分与第二基板2的内侧表面之间。凹槽7的底表面形成为具有大于第二柱状间隔物4B的外径(底端部分的外径)的直径。此外，从整体上看液晶显示装置10，布置第一柱状间隔物4A使其处于均匀地分散遍布显示区域6的状态，并同样布置第二柱状间隔物4B使其处于均匀地分散遍布显示区域6的状态。
如上所述的第一柱状间隔物4A的布局密度D1和第二柱状间隔物4B的布局密度D2希望设定在与上述第一实施例相同的条件下。具体地，希望设定第一柱状间隔物4A的布局密度D1在“0.1<D1<0.3”条件中，并且第二柱状间隔物4B的布局密度D2希望设定在“D2≥D1”(优选“D2≥2×D1”)的条件中。
在如上构造的液晶显示装置10中，在负载不大于预定值情形下(包括负载为零的情形)，第一柱状间隔物4A的顶部分设置为与第二基板2接触，而形成在凹槽7中第一基板1上的第二柱状间隔物4B的顶部分设置处于不接触(或离开)第二基板2的状态。因此，第一基板1和第二基板2之间的间隙(间隔)仅通过第一柱状间隔物4A来保持。当施加不超过预定值的负载时，支撑第一基板1和第二基板2的柱状间隔物4的有效布局密度取决于第一柱状间隔物4A的布局密度D1。
另一方面，当负载超过预定值时，由于第二基板2随着负载施加发生形变，第二柱状间隔物4B的顶部分开始与第二基板2的内侧表面接触，同时第一柱状间隔物4A的顶部分则保持与第二基板2接触。因此，第一基板1和第二基板2之间的间隙(间隔)由第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B来保持。因此，当施加超过预定值的负载时，支撑第一基板1和第二基板2的柱状间隔物4的有效布局密度取决于全部柱状间隔物4的布局密度D0(＝D1+D2)。
因此，举例来说，在没有负载施加至液晶显示装置10的情形下，柱状间隔物4的有效布局密度被抑制到低的水平，从而即使由于低温环境下液晶密度降低而导致产生体积收缩，柱状间隔物4(第一柱状间隔物4A)的弹性收缩也可以跟上体积收缩。此外，在超过预定值的过量负载施加至液晶显示装置10的情形下，则仅在该情形中柱状间隔物4的有效布局密度可以增加。因此，可以实现高抗压的液晶显示装置，其中在低温环境下的气泡产生可以被有效地防止。
此外，柱状间隔物4形成在设置有凹槽7的第一基板上的构造使得在设定凹槽7的尺寸时不需要考虑会发生在第一基板1和第二基板2彼此结合时的位置交错(未对准)。因此，与如上述第一实施例的凹槽7和柱状间隔物4形成在不同基板侧的情形相比，凹槽7的形成区域可以减小。因此，可以设定更小的遮光区域以抑制由于在柱状间隔物4的外围中液晶取向不规则而导致的光泄漏，并且可以实现比第一实施例具有更高透射性的液晶显示装置。
图5为示意图，其中由曲线图表示实验确定的间隙改变量和负载之间的关系。纵坐标轴上显示的间隙改变量(μm)表示第一基板1和第二基板2间的间隙(间隔)改变，而横坐标轴上显示的负载(N/mm2)表示在厚度方向施加至液晶显示装置10的负载。在实验中，以布局密度D1＝0.26和D2＝0仅将第一柱状间隔物4A插在第一基板1和第二基板2之间的构造被用作相对于本发明的对比实例。此外，在实验中，以尺寸d＝0.2μm的条件而将凹槽7形成在第一基板1的基板表面中并且以D1＝0.26和D2＝0.26的布局密度而将第一间隔物4A和第二间隔物4B插在第一基板1和第一基板2之间的构造被用作本发明的应用实例1。此外，在实验中，以D1＝0.26和D2＝0.52的布局密度而将第一间隔物4A和第二间隔物4B插在第一基板1和第一基板2之间的构造被用作本发明的应用实例2。因此，在对比实例的构造中，柱状间隔物4的有效布局密度恒等于0.26。另一方面，在应用实例1的构造中，柱状间隔物4的有效布局密度在负载增加的过程中从0.26增加至0.52。此外，在应用实例2的构造中，柱状间隔物4的有效布局密度在负载增加的过程中从0.26增加至0.78。
正如从图5所看到的，在仅将第一柱状间隔物4A插在第一基板1和第二基板2之间的对比实例的构造中，间隙改变量从施加至液晶显示装置10的负载超过1N/mm2的点附近迅速增加，并且在负载稍微大于2N/mm2的阶段，间隙改变量达到0.2μm。然后，在负载从3N/mm2经由4N/mm2增加至5N/mm2的同时，间隙改变量从0.28μm经由0.36μm增加至0.41μm，最大间隙改变量约为0.43μm。
另一方面，在第一间隔物4A的布局密度D1和第二间隔物4B的布局密度D2都等于0.26的应用实例1的构造中，即使在负载稍微大于2N/mm2的阶段，间隙改变量也被抑制为低于0.05μm，并且间隙改变量从负载超过2.5N/mm2的时刻附近逐渐增加。这里要注意的是，在负载为5N/mm2的阶段，间隙改变量抑制到大约0.27μm，相当于基于对比实例中的间隙改变量的70％，最大间隙该变量大约是0.32μm。
此外，在第二柱状间隔物4B的布局密度D2设定为第一柱状间隔物4A的布局密度D1的两倍的应用实例2的构造中，间隙改变量以与应用实例1中相同的方式从负载超过2.5N/mm2阶段附近逐渐增加，然而即使在负载稍微大于3N/mm2的阶段间隙改变量也被抑制为小于0.05μm。此外，在负载为5N/mm2的阶段，间隙改变量被抑制为大约0.15μm，相当于基于对比实例中的间隙改变量的40％，最大间隙改变量大约是0.18μm。
从上述的实验结果也证实了第一基板1和第二基板2之间的柱状间隔物4的增加非常有利于液晶显示装置10的抗压性能的提高。此外，尽管未在附图示出，对于以D1＝0.26的布局密度而仅将第一间隔物4A插在第一基板1和第二基板2之间的情形、以D1＝0.52的布局密度而仅将第一间隔物4A插在第一基板1和第二基板2之间的情形、和以D1＝0.78的布局密度而仅将第一间隔物4A插在第一基板1和第二基板2之间的情形，都检查了低温环境下受冲击时气泡是否会产生。结果，发现在第一柱状间隔物4A的布局密度分别设定为D1＝0.52和D1＝0.78的情形下气泡产生“存在”，而在第一柱状间隔物4A的布局密度设定为D1＝0.26的情形下气泡产生“不存在”。
<第一具体实例>
图6是示出液晶显示装置第一具体实例的横截面图，其中第一基板是驱动基板，第二基板是对向基板。构成第一基板的驱动基板11以透明的玻璃基板11A为基础，构成第二基板的对向基板12同样以透明的玻璃基板12A为基础。第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成在对向基板12上，处于密切接触对向基板12的状态。顺便说一下，在图6中，省略了液晶层3。
驱动基板11设置有由例如金属形成的遮光膜13，对应于设置有柱状间隔物4的部分。从驱动基板11的外侧(背侧)入射的显示光(背光的光等)当经由驱动基板11透射时被遮光膜13遮挡。因此，由于柱状间隔物4的外围中的液晶取向不规则而导致的光泄露可以被抑制。此外，由例如绝缘有机材料(有机树脂材料)形成的平坦化膜(flattening film)14提供在驱动基板11上，处于覆盖遮光膜13的状态中。为了平坦化由于形成在驱动基板11上表面的开关元件(未示出)和遮光膜13的存在而产生的台阶，形成平坦化膜14。
驱动基板11的设置有第二柱状间隔物4B的基板表面部分设置有凹槽7。凹槽7以凹陷的形式形成在平坦化膜14的上表面中。因此，对应于凹槽7的凹槽尺寸的间隙在第二柱状间隔物4B的顶部分和凹槽7的底表面之间得到确保。因此，当驱动基板11的最里表面被假定为平坦化膜14的上表面时，第二柱状间隔物4B的顶部分设置为不接触(或离开)平坦化膜14，而第一柱状间隔物4A的顶部分设置为与平坦化膜14接触。
另一方面，举例来说，对向基板12形成有滤色器层(未示出)。在经由驱动基板11和液晶层3而透射到达对向基板12的光中，滤色器层选择性地透射在特定波长区域的光。举例来说，红色滤色器选择性地透射红色波长区域中的光，绿色滤色器选择性地透射绿色波长区域中光，并且蓝色滤色器选择性地透射蓝色波长区域中的光。
在上述构造的液晶显示装置10中，在负载不大于预定值的情形下(包括负载为零的情形)，设置第一柱状间隔物4A的顶部分处于和驱动基板11的平坦化膜14接触的状态，而设置形成在对向基板12上以面对驱动基板11中的凹槽7的第二柱状间隔物4B的顶部分处在不接触(或离开)驱动基板11的平坦化膜14的状态。因此，驱动基板11和对向基板12之间的间隙(间隔)仅由第一柱状间隔物4A来保持。因此，在施加不大于预定值的负载的情形下，支撑驱动基板11和对向基板12的柱状间隔物4的有效布局密度取决于第一柱状间隔物4A的布局密度。
另一方面，在负载超过预定值的情形下，如图7所示，由于对向基板12随着负载施加而发生形变，第二柱状间隔物4B的顶部分开始与平坦化膜14中的凹槽7的底表面接触，同时第一柱状间隔物4A的顶部分保持与平坦化膜14接触。因此，驱动基板11和对向基板12之间的间隙(间隔)由第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B来保持。因此在施加超过预定值的负载的情形下，支撑驱动基板11和对向基板12的柱状间隔物4的有效布局密度取决于全部柱状间隔物4的布局密度。
举例来说，这确保了在没有负载施加至液晶显示装置10的情形下，即使当由于低温环境下密度降低而产生体积收缩时，柱状间隔物4(第一柱状间隔物4A)的弹性收缩也能跟上体积收缩，因为柱状间隔物4的有效布局密度被抑制到了低的水平。此外，在超过预定值的过量负载施加至液晶显示装置10的情形下，则仅在此情形中柱状间隔物4的有效布局密度可得以增加。因此，可以实现高抗压的液晶显示装置10，其中低温环境下的气泡产生可以被防止。
此外，向驱动基板11提供凹槽7时，对应于当驱动基板11和对向基板12彼此结合时设置有第二柱状间隔物4B的部分，平坦化膜14的上表面局部凹陷，由此在平坦化膜14的上表面中形成该凹陷的凹槽7。由于处于完全平坦化的目的而使平坦化膜14形成为厚的膜，所以即使当上表面局部凹陷例如约1.5μm时，也不会产生对于液晶显示装置10的功能的任何问题。此外，驱动基板11上的平坦化膜14形成了必不可少的部件，作为下层膜(underfilm)用来形成平坦的透明电极(将在下面描述)。因此，通过凹陷原本存在的作为液晶显示装置10的部件的平坦化膜14的一些部分(设置有第二柱状间隔物4B的部分)而形成凹槽7时，与例如构成像素电路的电极部分、配线部分和绝缘部分的位置干扰将不会发生。因此，在驱动基板11设置有凹槽7的情形下，布局的自由程度很高。
<第二具体实例>
图8是示出液晶显示装置的第二具体实例的横截面图，其中第一基板是驱动基板，第二基板是对向基板。构成第一基板的驱动基板11以透明的玻璃基板11A为基础，构成第二基板的对向基板12同样以透明的玻璃基板12A为基础。第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成在驱动基板11上，处于与驱动基板1密切接触的状态。顺便说一下，在图8中，省略了液晶层3。
驱动基板11设置有由例如金属形成的遮光膜13，对应于设置有柱状间隔物4的部分。从驱动基板11的外侧(背侧)入射的显示光(背光等)当经由驱动基板11透射时被遮光膜13遮挡。因此，由于柱状间隔物4的外围中的液晶取向不规则而导致的光泄露可以被抑制。此外，由例如绝缘有机材料(有机树脂材料)形成的平坦化膜14提供在驱动基板11上，处于覆盖遮光膜13的状态中。为了平坦化由于形成在驱动基板11上表面的开关元件(未示出)和遮光膜13的存在而产生的台阶，而形成了平坦化膜14。
驱动基板11的设置有第二柱状间隔物4B的基板表面部分设置有凹槽7。凹槽7以凹陷的形式形成在平坦化膜14的上表面中。此外，第二柱状间隔物4B形成在驱动基板11上，处于间隔物的底端部分与平坦化膜14中的凹槽7的底表面密切接触的状态。因此，对应于凹槽7的凹槽尺寸的间隙在第二柱状间隔物4B的顶部分和对向基板12的内侧表面之间被确保。因此，第一柱状间隔物4A的顶部分设置为与对向基板12接触，而第二柱状间隔物4B的顶部分设置为不接触(或离开)对向基板12的内表面。
另一方面，举例来说，对向基板12设置有滤色器层(未示出)。在经由驱动基板11和液晶层3透射而到达对向基板12的光中，滤色器层选择性地透射在特定波长区域的光。举例来说，红色滤色器选择性地透射红色波长区域中的光，绿色滤色器选择性地透射绿色波长区域中光，并且蓝色滤色器选择性地透射蓝色波长区域中的光。
在上述构造的液晶显示装置10中，在负载不大于预定值的情形下(包括负载为零的情形)，设置第一柱状间隔物4A的顶部分处于和对向基板12的内侧表面接触的状态，而设置形成在驱动基板11中的凹槽7的底表面上的第二柱状间隔物4B的顶部分处于不接触(或者离开)对向基板12的内侧表面的状态。因此，驱动基板11和对向基板12之间的间隙(间隔)仅由第一柱状间隔物4A来保持。因此，在施加不大于预定值的负载的情形下，支撑驱动基板11和对向基板12的柱状间隔物4的有效布局密度取决于第一柱状间隔物4A的布局密度。
另一方面，在负载超过预定值的情形下，如图9所示，由于对向基板12随着负载施加而发生形变，第二柱状间隔物4B的顶部分开始与对向基板12的内侧表面接触，同时第一柱状间隔物4A的顶部分保持与对向基板12的内侧表面接触。因此，驱动基板11和对向基板12之间的间隙(间隔)由第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B来保持。因此在施加超过预定值的负载的情形下，支撑驱动基板11和对向基板12的柱状间隔物4的有效布局密度取决于全部柱状间隔物4的布局密度。
举例来说，这确保了在没有负载施加至液晶显示装置10的情形下，即使当由于低温环境下密度降低而产生体积收缩时，柱状间隔物4(第一柱状间隔物4A)的弹性收缩也能跟上体积收缩，因为柱状间隔物4的有效布局密度被抑制到了低的水平。此外，在超过预定值的过量负载施加至液晶显示装置10的情形下，柱状间隔物4的有效布局密度可以增加，仅在此情形中。因此，可以实现高抗压的液晶显示装置10，其中低温环境下的气泡产生可以被防止。
此外，为驱动基板11提供凹槽7时，对应于当驱动基板11和对向基板12彼此结合时设置有第二柱状间隔物4B的部分，平坦化膜14的上表面局部凹陷，由此在平坦化膜14的上表面中形成凹陷的凹槽7。由于处于完全平坦化的目的而使平坦化膜14形成为厚的膜，所以即使当上表面局部凹陷例如约1.5μm时，也不会产生对于液晶显示装置10的功能的任何问题。此外，驱动基板11上的平坦化膜14形成了必不可少的部件，作为下层膜用来形成平坦的透明电极(将在下面描述)。因此，通过凹陷原本存在的作为液晶显示装置10的部件的平坦化膜14的一些部分(设置第二柱状间隔物的部分)而形成凹槽7时，与例如构成像素电路的电极部分、配线部分和绝缘部分的位置干扰将不会发生。因此，在为驱动基板11设置有凹槽7的情形下，布局的自由程度很高。
顺便说一下，柱状间隔物4的外径不必都相等；例如，如图10所示，第二柱状间隔物4B的外径可以设定为大于或小于第一柱状间隔物4A的外径。此外，柱状间隔物4的截面形状不必要是圆形，例如可以是诸如四边形和六边形的多边形，尽管未示出。此外，凹槽7的平面视图形状可以根据柱状间隔物4的截面形状来改变。
<实例>
图11是示出根据本发明工作实例的液晶显示装置构造实例的主要部分横截面图。如图所示，薄膜晶体管15和电容电极13A一起提供在构成驱动基板11的基体的玻璃基板11A上，电容电极13A也用作上述的遮光膜13。薄膜晶体管15形成为开关元件以选择性地驱动像素。薄膜晶体管15包括连接至栅极配线(扫描线)的栅极电极16、覆盖栅极电极16的栅极绝缘膜17、层叠在栅极绝缘膜17上的多晶硅层18、和覆盖多晶硅层18的绝缘膜19。此外，平坦化膜14形成在驱动基板11上，处于覆盖薄膜晶体管15、存储电容元件(将在后面描述)等的状态。
栅极电极16和电容电极13A每个都包括金属材料，例如钼。栅极绝缘膜17形成在驱动基板11的玻璃基板11A上，处于覆盖栅极电极16和电容电极13A的状态。在多晶硅层18上，层叠绝缘膜19处于覆盖多晶硅层18的状态。此外，多晶硅层18的一部分18A介由栅极绝缘膜17而面对电容电极13A，并作为与电容电极13A成对的电容电极，电容电极彼此面对的区域构成存储电容元件。在栅极电极16的两侧，多晶硅层18的一侧部分构成源极区域，同时另一侧部分构成漏极区域。另一方面，绝缘膜19设置有用于连接多晶硅层18的源极区域的连接孔(通路孔)和用于连接多晶硅层18的漏极区域的连接孔(通路孔)。此外，在绝缘膜19上，形成信号配线20，处于填充用于连接源极区域的连接孔的状态，并形成像素连接配线21，处于填充用于连接漏极区域的连接孔的状态。信号配线20和像素连接配线21每个都由例如铝的配线材料形成，并且每个都形成处于从绝缘膜19突出的状态。
平坦化膜14设置有用于连接像素连接配线21的像素接触连接孔(通路孔)23。透明电极22形成在平坦化膜14的上表面上，包括连接孔23的内表面及像素连接配线21的暴露表面。透明电极22形成基于单元像素而形成的像素电极，并且通过使用例如ITO(氧化铟锡)的透明电极材料来形成。透明电极22由未在图中示出的取向膜(例如，聚酰亚胺膜)覆盖。
另一方面，在用作对向基板12的基体的玻璃基板12A上，滤色器层25、覆盖滤色器层25的保护层(overcoat layer)26和覆盖保护层26的透明电极27从玻璃基板12A一侧依次序层叠。透明电极27是公共电极，由所有单元像素共同使用。透明电极27由未在图中示出的取向膜(例如，聚酰亚胺膜)覆盖。此外，形成液晶层3，处于面对覆盖驱动基板11一侧的透明电极22的取向膜和覆盖对向基板12一侧的透明电极27的取向膜的状态。
第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B形成在对向基板12上，处于与对向基板12密切接触的状态。具体地，形成第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B处于从对向基板12的透明电极27突出的状态。因此，柱状间隔物4A和4B的底端部分形成为处于和对向基板12的透明电极27密切接触的状态。在从对向基板12一侧看液晶显示装置10的平面图中，如图12所示，包括第一柱状间隔物4A和第二柱状间隔物4B的柱状间隔物4的每个都设置处于与电容电极13A交叠的状态，优选处于与电容电极13的中间部分交叠的状态。
另一方面，驱动基板11设置有凹槽7。凹槽7以凹陷的形式形成在平坦化膜14的上表面中，同时位于设置有第二柱状间隔物4B的部分。因此，对应于凹槽7的凹槽尺寸的间隙(间隔)在第二柱状间隔物4B的顶部分和覆盖凹槽7的底表面的透明电极22之间固定。因此，当驱动基板11的最里表面被假定为透明电极22的电极表面时，由于凹槽7的居间存在，第二柱状间隔物4B的顶部分设置处于不接触(或离开)透明电极22的电极表面，同时第一柱状间隔物4A的顶部分设置处于与透明电极22的电极表面接触的状态。
在上述构造的液晶显示装置10中，在负载不大于预定值的情形下(包括负载为零的情形)，第一柱状间隔物4A的顶部分设置处于与驱动基板11上的透明电极22接触的状态，而形成在对向基板12上以面对驱动基板11中的凹槽7的第二柱状间隔物4B的顶部分设置为不接触(或离开)驱动基板11上的透明电极22。因此，驱动基板11和对向基板12之间的间隙(间隔)仅由第一柱状间隔物4A来保持。因此，在施加不大于预定值的负载的情形下，支撑驱动基板11和对向基板12的柱状间隔物4的有效布局密度取决于第一柱状间隔物4A的布局密度。
另一方面，在负载超过预定值的情形下，由于对向基板12随着负载施加而发生形变，第二柱状间隔物4B的顶部分开始与覆盖凹槽7的底表面的透明电极22接触，如图13所示，同时第一柱状间隔物4A的顶部分保持与驱动基板11上的透明电极22接触。因此，驱动基板11和对向基板12之间的间隙(间隔)由第一柱状间隔物和第二柱状间隔物4B来保持。因此，在施加超过预定值的负载的情形下，支撑驱动基板11和对向基板12的柱状间隔物4的有效布局密度取决于全部柱状间隔物4的布局密度。
举例来说，这确保了在没有负载施加至液晶显示装置10的情形下，即使当由于低温环境下液晶密度降低而产生体积收缩时，柱状间隔物4(第一柱状间隔物4A)的弹性收缩也能跟上体积收缩，因为柱状间隔物4的有效布局密度被抑制到了低的水平。此外，在超过预定值的过量负载施加至液晶显示装置10的情形下，柱状间隔物4的有效布局密度可以增加，仅在此情形中。因此，可以实现高抗压的液晶显示装置10，其中低温环境下的气泡产生可以被防止。
现在，在下面将描述根据本发明实施例的液晶显示装置的制造方法，特别地，将描述适用于驱动基板11设置有凹槽7的情形的方法。
<第一制造方法>
图14A到14C图示了根据本发明一个实施例的液晶显示装置的第一制造方法。如图14A所示，通过应用熟知的膜形成工艺和构图工艺，如上所述的电容电极13A、薄膜晶体管15、绝缘膜19、信号配线20等形成在制备以作为驱动基板11的基体的玻璃基板11A上，然后浆状有机树脂材料作为光敏层涂敷到玻璃基板11A上，处于覆盖这些部件的状态，从而由该光敏材料(有机树脂材料)形成平坦化膜14。在此情形下，举例来说，平坦化膜14的厚度设定为3μm。由于在平坦化膜14形成之前的阶段，信号配线20从绝缘膜19突出，所以形成平坦化膜14以覆盖该突出的信号配线就导致了平坦化膜14的一些部分(后面称作“突出部分”)14A在信号线20正上方的位置向上侧突出。顺便说一下，在图14A到14C中，为了描述方便，以简化的形式示出驱动基板11(玻璃基板11A)的上表面简单地覆盖有绝缘膜19的情形。
接着，如图14B所示，通过使用曝光掩模29而以光辐照平坦化膜14的上表面，使得平坦化膜14曝光，曝光掩模29在其面对平坦化膜14的突出部分14A的部分及其面对凹槽7形成部分的部分设置有开口28A、28B。因此，在突出部分14A的区域和形成凹槽7的部分，平坦化膜14的上表面选择性地曝光。处于平坦化的目的，将平坦化膜14的突出部分14A曝光，以通过显影移除该部分。在此情形下，通过使用正型(positive-type)光敏材料来形成平坦化膜14，从而曝光部分在显影溶液中变得可溶。
此后，通过使用显影溶液而使平坦化膜14显影，从而从平坦化膜的上表面移除突出部分14A并在平坦化膜14的上表面中形成凹槽7，如图14C所示。在经由曝光掩模29的开口28B而曝光的区域中，凹槽7以凹陷的形状形成。
通过由上述方法制造液晶显示装置，在平坦化膜14形成之后为移除突出部分14A而进行的曝光和显影步骤中，凹槽7可以形成在平坦化膜14的上表面中。因此，具有凹槽的结构可以形成在驱动基板11上，而不需要特别的新步骤。
<第二制造方法>
图15A到15C和16A到16B图示了根据本发明一个实施例的液晶显示装置的第二制造方法。首先，如图15A所示，通过应用熟知的膜形成工艺和构图工艺，如上所述的电容电极13A、薄膜晶体管15、绝缘膜19、信号配线20等形成在制备以作为驱动基板11的基体的玻璃基板11A上，然后浆状有机树脂材料作为光敏层涂敷到玻璃基板11A上，处于覆盖这些部件的状态，从而由该光敏材料(有机树脂材料)形成平坦化膜14。在此情形下，举例来说，平坦化膜14的厚度设定为3μm。
此后，如图15B所示，通过使用第一曝光掩模31而以光辐照平坦化膜14的上表面，使得平坦化膜14曝光，第一曝光掩模31在其面对要形成上述像素接触连接孔23的部分设置有开口30。因此，在要形成连接孔23的区域中，平坦化膜14的上表面选择性地曝光。在此情形下，通过使用正型光敏材料来形成平坦化膜14，从而曝光部分在显影溶液中变得可溶。接着，如图15C所示，通过以光辐照平坦化膜14并使用第二曝光掩模33使平坦化膜14曝光，第二曝光掩模33在其面对要形成凹槽7的部分设置有开口32。在要形成凹槽7的区域中，平坦化膜14的上表面选择性地曝光。
此后，通过使用显影溶液而使平坦化膜14显影，从而在平坦化膜14中形成像素接触连接孔(通路孔)23，同时在平坦化膜14的上表面中形成凹槽7。像素接触连接孔23形成为处于局部地暴露信号配线20的表面(上表面)的状态。经由第二曝光掩模33中的开口32，在曝光的区域中以凹陷的形式形成凹槽7。随后，如图16B所示，透明电极22形成为处于覆盖平坦化膜14的上表面的状态。举例来说，通过由溅射形成ITO膜并然后构图ITO膜，从而基于单元像素分隔形成透明电极22。
通过由上述方法制造液晶显示装置，在平坦化膜14形成之后为形成像素接触连接孔23而进行的曝光和显影过程中，凹槽7可以形成在平坦化膜14的上表面中。因此，具有凹槽的结构可以形成在驱动基板11上，而不需要特别的新步骤。此外，因为使用专用的曝光掩模33进行要形成凹槽7的部分的曝光，所以要形成凹槽7的部分可以以期望的曝光量来曝光，而不用考虑要形成像素接触孔23的部分。因此，凹槽7的凹槽尺寸可以精确地控制。
尽管在上述第二制造方法中，通过使用各自专用的曝光掩模31和33已经依次序(以分开的两个步骤)进行了要形成像素接触连接孔23的部分的曝光和要形成凹槽7的部分的曝光，但这不是限定性的。换句话说，要形成像素接触连接孔23的部分的曝光和要形成凹槽7的部分的曝光可以同时进行。具体实例如下。尽管未示出，但是使用了半色调掩模(half-tone mask)，该半色调掩模的对应于要形成像素接触连接孔的区域的部分由半透明膜构成。在此情形下，举例来说，要形成像素接触连接孔的部分以形成连接孔所需的预定曝光量来曝光，以成为“完全曝光部分”；要形成凹槽7的部分以大约三分之一预定曝光量的曝光量来曝光，例如成为“中等曝光部分”；余下的其它部分成为“未曝光部分”。以这种方式，平坦化膜14的曝光处理可以在一个步骤中完成。
本领域的技术人员应该了解，根据设计需求及其它因素，可以在权利要求及其等同特征的范围内进行各种修改、组合、部分组合和变化。
本发明包含于2007年12月7日在日本专利局提交的日本专利申请JP2007-316539的主题内容，在此通过引用结合。

Claims (6)

1、一种液晶显示装置，包括：
液晶层；
第一基板和第二基板，夹着所述液晶层彼此面对；和
多个柱状间隔物，保持所述第一基板和所述第二基板之间的间隙，
其中所述多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，并且
所述第一基板和所述第二基板中的一个基板的基板表面在设置所述第一柱状间隔物的部分和设置所述第二柱状间隔物的部分的至少之一中设置有凹槽。
2、根据权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述多个柱状间隔物形成在所述第一基板和所述第二基板中的另一个基板上，处于与所述另一个基板的基板表面密切接触的状态。
3、根据权利要求1所述的液晶显示装置，
其中所述多个柱状间隔物形成在所述第一基板和所述第二基板中的所述一个基板上，处于与所述一个基板的基板表面密切接触的状态。
4、根据权利要求1所述的液晶显示装置，
其中所述第一基板和所述第二基板中的所述一个基板为驱动基板，所述驱动基板包括用于选择性驱动像素的开关元件、覆盖所述开关元件的绝缘膜和覆盖所述绝缘膜的平坦化膜。
5、一种液晶显示装置的制造方法，
所述液晶显示装置包括：液晶层；第一基板和第二基板，夹着所述液晶层彼此面对；和多个柱状间隔物，保持所述第一基板和所述第二基板之间的间隙，
其中所述多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，
所述第一基板和所述第二基板中的一个基板的基板表面在设置所述第一柱状间隔物的部分和设置所述第二柱状间隔物的部分的至少之一中设置有凹槽，
所述一个基板具有驱动基板，所述驱动基板包括用于选择性驱动像素的开关元件、覆盖所述开关元件的绝缘膜和覆盖所述绝缘膜的平坦化膜、以及以凹陷形式形成在所述平坦化膜的上表面中的所述凹槽，
所述制造方法包括：
第一步骤，涂敷光敏材料至所述驱动基板上，从而覆盖所述绝缘膜，由此由所述光敏材料形成所述平坦化膜；
第二步骤，对所述第一步骤中形成的所述平坦化膜的由于配线而突出的突出部分和要形成所述凹槽的部分进行曝光处理；
第三步骤，对已经在所述第二步骤中经过所述曝光处理的所述平坦化膜进行显影，由此从所述平坦化膜移除所述突出部分并在所述平坦化膜中形成所述凹槽。
6、一种液晶显示装置的制造方法，
所述液晶显示装置包括：液晶层；第一基板和第二基板，夹着所述液晶层彼此面对；和多个柱状间隔物，保持所述第一基板和所述第二基板之间的间隙，
其中所述多个柱状间隔物包括形成为高度大致相等的第一柱状间隔物和第二柱状间隔物，
所述第一基板和所述第二基板中的一个基板的基板表面在设置所述第一柱状间隔物的部分和设置所述第二柱状间隔物的部分的至少之一中设置有凹槽，
所述一个基板具有驱动基板，所述驱动基板包括用于选择性驱动像素的开关元件、覆盖所述开关元件的绝缘膜、和覆盖所述绝缘膜的平坦化膜、以及以凹陷形式形成在所述平坦化膜的上表面中的所述凹槽，
所述制造方法包括：
第一步骤，涂敷光敏材料至所述驱动基板上，从而覆盖所述绝缘膜，由此由所述光敏材料形成所述平坦化膜；
第二步骤，依次序或同时进行：对所述第一步骤中形成的所述平坦化膜的要形成像素接触连接孔的部分进行曝光的处理，和对所述平坦化膜的要形成所述凹槽的部分进行曝光的处理，
第三步骤，对已经在所述第二步骤中经过所述曝光处理的所述平坦化膜进行显影，由此在所述平坦化膜中形成所述像素接触连接孔和所述凹槽。
CN200810178001XA 2007-12-07 2008-12-08 液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法 Active CN101452158B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP316539/07 2007-12-07
JP2007316539A JP2009139672A (ja) 2007-12-07 2007-12-07 液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101452158A true CN101452158A (zh) 2009-06-10
CN101452158B CN101452158B (zh) 2012-10-03

Family

ID=40721284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200810178001XA Active CN101452158B (zh) 2007-12-07 2008-12-08 液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8023092B2 (zh)
JP (1) JP2009139672A (zh)
KR (1) KR20090060159A (zh)
CN (1) CN101452158B (zh)
TW (1) TWI393967B (zh)

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102213857A (zh) * 2010-04-07 2011-10-12 上海广电富士光电材料有限公司 一种彩色滤光基板及其制作方法
CN102213870A (zh) * 2010-04-07 2011-10-12 上海广电富士光电材料有限公司 一种彩色滤光基板及其制作方法
CN102231026A (zh) * 2011-06-27 2011-11-02 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 液晶显示器
CN102591048A (zh) * 2012-03-26 2012-07-18 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制造方法以及液晶显示装置
CN102955297A (zh) * 2012-10-22 2013-03-06 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板及其制作方法
WO2013060061A1 (zh) * 2011-10-25 2013-05-02 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其形成方法
CN103149741A (zh) * 2011-12-07 2013-06-12 群康科技(深圳)有限公司 滤光层基板及显示装置
CN103676259A (zh) * 2012-09-10 2014-03-26 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
CN103913896A (zh) * 2013-01-07 2014-07-09 瀚宇彩晶股份有限公司 液晶显示面板
CN103926747A (zh) * 2013-01-11 2014-07-16 瀚宇彩晶股份有限公司 液晶显示面板
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104793403A (zh) * 2015-04-27 2015-07-22 深圳市华星光电技术有限公司 平面显示面板及制作方法
CN104950512A (zh) * 2015-07-13 2015-09-30 武汉华星光电技术有限公司 液晶面板及其彩色滤光片基板、液晶显示器
CN105278174A (zh) * 2015-08-26 2016-01-27 友达光电股份有限公司 显示面板
CN105676547A (zh) * 2016-04-19 2016-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板、显示装置
CN105974629A (zh) * 2016-07-08 2016-09-28 武汉华星光电技术有限公司 触控式液晶面板以及液晶显示器
CN106773348A (zh) * 2016-12-27 2017-05-31 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
WO2018120567A1 (zh) * 2016-12-29 2018-07-05 惠科股份有限公司 一种显示面板和显示装置
WO2018137343A1 (zh) * 2017-01-24 2018-08-02 京东方科技集团股份有限公司 垂直取向模式显示面板及显示装置
WO2020056928A1 (zh) * 2018-09-21 2020-03-26 重庆惠科金渝光电科技有限公司 一种显示面板及显示器
WO2020098042A1 (zh) * 2018-11-12 2020-05-22 惠科股份有限公司 一种显示面板及显示装置
WO2020097990A1 (zh) * 2018-11-12 2020-05-22 惠科股份有限公司 显示面板、显示装置及其制作光罩
CN111221170A (zh) * 2018-11-23 2020-06-02 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示器
US10802330B2 (en) 2016-12-29 2020-10-13 HKC Corporation Limited Liquid crystal display panel and liquid crystal display apparatus
CN113805387A (zh) * 2020-06-11 2021-12-17 华为技术有限公司 液晶显示屏以及电子显示设备

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100201934A1 (en) * 2009-02-12 2010-08-12 Tpo Displays Corp. Display panel and method for forming the same
JP5283579B2 (ja) 2009-07-14 2013-09-04 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法および電子機器
KR101621027B1 (ko) * 2009-12-30 2016-05-16 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP5548488B2 (ja) * 2010-03-10 2014-07-16 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル
KR20120136098A (ko) 2011-06-08 2012-12-18 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP5837350B2 (ja) * 2011-07-21 2015-12-24 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
WO2013047455A1 (ja) * 2011-09-27 2013-04-04 シャープ株式会社 液晶パネル
JP5917126B2 (ja) * 2011-12-19 2016-05-11 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
CN103278400B (zh) * 2013-04-24 2015-09-16 中国科学院力学研究所 土体原位环剪实验仪
KR102125224B1 (ko) * 2014-03-11 2020-06-23 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 이의 제조방법
CN103823316A (zh) * 2014-03-24 2014-05-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN104111562B (zh) * 2014-06-12 2017-02-01 京东方科技集团股份有限公司 液晶面板及其制备方法、显示装置
JP6340268B2 (ja) * 2014-07-02 2018-06-06 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
CN104503151A (zh) * 2014-12-19 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示装置
JP6749075B2 (ja) * 2015-03-10 2020-09-02 三菱電機株式会社 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
CN204462601U (zh) * 2015-03-30 2015-07-08 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示面板及显示装置
KR102363676B1 (ko) 2015-04-16 2022-02-17 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 그 제조방법
CN104952934B (zh) * 2015-06-25 2018-05-01 京东方科技集团股份有限公司 薄膜晶体管及制造方法、阵列基板、显示面板
KR102507144B1 (ko) 2016-01-06 2023-03-07 티씨엘 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 표시장치 및 그 제조방법
KR102549444B1 (ko) 2016-06-16 2023-06-29 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN106226957A (zh) * 2016-09-21 2016-12-14 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 液晶显示面板
JP2018165778A (ja) * 2017-03-28 2018-10-25 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
JP2018165779A (ja) * 2017-03-28 2018-10-25 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN107065286A (zh) * 2017-05-16 2017-08-18 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板及其制备方法
US11133580B2 (en) * 2017-06-22 2021-09-28 Innolux Corporation Antenna device
JP7360255B2 (ja) * 2019-01-07 2023-10-12 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置および表示装置の製造方法
WO2020145135A1 (ja) * 2019-01-07 2020-07-16 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN110867136B (zh) * 2019-11-22 2021-10-15 维沃移动通信有限公司 极点屏及电子设备

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002107744A (ja) 2000-09-27 2002-04-10 Koninkl Philips Electronics Nv 電極形成方法、画素電極形成方法、及び液晶表示装置
US6642986B2 (en) * 2001-04-13 2003-11-04 Koninklijke Philips Electronics N.V. Liquid crystal display device having uniform integrated spacers
JP2002341354A (ja) 2001-05-16 2002-11-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子
JP4081643B2 (ja) * 2001-08-01 2008-04-30 株式会社日立製作所 液晶表示装置
US7292304B2 (en) * 2001-12-17 2007-11-06 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display panel and method for fabricating the same comprising a dummy column spacer to regulate a liquid crystal flow and a supplemental dummy column spacer formed substantially parallel and along the dummy column spacer
JP2005189662A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2005338770A (ja) * 2004-04-26 2005-12-08 Nec Lcd Technologies Ltd 液晶表示装置
JP2006039155A (ja) * 2004-07-27 2006-02-09 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
JP4455449B2 (ja) * 2005-08-05 2010-04-21 東芝モバイルディスプレイ株式会社 液晶表示素子の製造方法
JP2007171715A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置および電子機器
JP2007316329A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
KR101295246B1 (ko) * 2006-11-03 2013-08-16 삼성디스플레이 주식회사 표시 기판 및 이를 구비한 표시 패널
JP2008242035A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Sharp Corp 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2008281594A (ja) * 2007-05-08 2008-11-20 Nec Lcd Technologies Ltd 液晶表示装置及びその製造方法

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102213857A (zh) * 2010-04-07 2011-10-12 上海广电富士光电材料有限公司 一种彩色滤光基板及其制作方法
CN102213870A (zh) * 2010-04-07 2011-10-12 上海广电富士光电材料有限公司 一种彩色滤光基板及其制作方法
CN102231026A (zh) * 2011-06-27 2011-11-02 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 液晶显示器
WO2013060061A1 (zh) * 2011-10-25 2013-05-02 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其形成方法
CN103149741A (zh) * 2011-12-07 2013-06-12 群康科技(深圳)有限公司 滤光层基板及显示装置
CN102591048A (zh) * 2012-03-26 2012-07-18 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制造方法以及液晶显示装置
WO2013143139A1 (zh) * 2012-03-26 2013-10-03 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制造方法以及液晶显示装置
CN103676259B (zh) * 2012-09-10 2016-08-10 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
CN103676259A (zh) * 2012-09-10 2014-03-26 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
CN102955297A (zh) * 2012-10-22 2013-03-06 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板及其制作方法
CN102955297B (zh) * 2012-10-22 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示面板及其制作方法
CN103913896A (zh) * 2013-01-07 2014-07-09 瀚宇彩晶股份有限公司 液晶显示面板
CN103926747A (zh) * 2013-01-11 2014-07-16 瀚宇彩晶股份有限公司 液晶显示面板
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104793403A (zh) * 2015-04-27 2015-07-22 深圳市华星光电技术有限公司 平面显示面板及制作方法
WO2016173113A1 (zh) * 2015-04-27 2016-11-03 深圳市华星光电技术有限公司 平面显示面板及制作方法
CN104950512A (zh) * 2015-07-13 2015-09-30 武汉华星光电技术有限公司 液晶面板及其彩色滤光片基板、液晶显示器
CN105278174A (zh) * 2015-08-26 2016-01-27 友达光电股份有限公司 显示面板
CN105676547A (zh) * 2016-04-19 2016-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板、显示装置
WO2017181460A1 (zh) * 2016-04-19 2017-10-26 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板、显示装置
US10481712B2 (en) 2016-07-08 2019-11-19 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Touch liquid crystal panel and liquid crystal display
CN105974629A (zh) * 2016-07-08 2016-09-28 武汉华星光电技术有限公司 触控式液晶面板以及液晶显示器
CN106773348A (zh) * 2016-12-27 2017-05-31 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
US10802330B2 (en) 2016-12-29 2020-10-13 HKC Corporation Limited Liquid crystal display panel and liquid crystal display apparatus
WO2018120567A1 (zh) * 2016-12-29 2018-07-05 惠科股份有限公司 一种显示面板和显示装置
US11119350B2 (en) 2016-12-29 2021-09-14 HKC Corporation Limited Display panel and display apparatus
WO2018137343A1 (zh) * 2017-01-24 2018-08-02 京东方科技集团股份有限公司 垂直取向模式显示面板及显示装置
US10914990B2 (en) 2017-01-24 2021-02-09 Boe Technology Group Co., Ltd. Vertical alignment display panel and display apparatus
WO2020056928A1 (zh) * 2018-09-21 2020-03-26 重庆惠科金渝光电科技有限公司 一种显示面板及显示器
WO2020097990A1 (zh) * 2018-11-12 2020-05-22 惠科股份有限公司 显示面板、显示装置及其制作光罩
WO2020098042A1 (zh) * 2018-11-12 2020-05-22 惠科股份有限公司 一种显示面板及显示装置
US11487145B2 (en) 2018-11-12 2022-11-01 HKC Corporation Limited Display panel, mask for manufacturing same, and display device
CN111221170A (zh) * 2018-11-23 2020-06-02 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示器
CN113805387A (zh) * 2020-06-11 2021-12-17 华为技术有限公司 液晶显示屏以及电子显示设备

Also Published As

Publication number Publication date
US20090147208A1 (en) 2009-06-11
KR20090060159A (ko) 2009-06-11
TWI393967B (zh) 2013-04-21
US8023092B2 (en) 2011-09-20
TW200928526A (en) 2009-07-01
CN101452158B (zh) 2012-10-03
JP2009139672A (ja) 2009-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101452158B (zh) 液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法
KR100870660B1 (ko) 패널의 합착력이 향상된 액정표시소자 및 제조방법
US6781762B2 (en) Method of manufacturing microlens, microlens, microlens array plate, electrooptic device and electronic equipment
US6888596B2 (en) Liquid crystal display device
US9678400B2 (en) Array substrate for liquid crystal display and manufacturing method thereof
CN101666936B (zh) 电光装置、滤色器基板及电子设备
JP4679067B2 (ja) 液晶表示装置
JP2009192757A (ja) 表示装置
KR20090041337A (ko) 액정 디스플레이 패널
CN102566148A (zh) 液晶显示面板及其制造方法
TWM503591U (zh) 顯示面板
JP2015230427A (ja) マイクロレンズアレイ基板、マイクロレンズアレイ基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器
JP2012237998A (ja) 電子機器、液晶ディスプレイ及びその製造方法
CN107037657A (zh) 一种coa基板及其制作方法、显示面板、显示装置
KR20110016242A (ko) 액정표시장치
CN111025781A (zh) 液晶显示面板
US20210382347A1 (en) Counter substrate for liquid crystal device
JP2008261936A (ja) 液晶装置、その製造方法、及び液晶装置用基板
JP2022139567A (ja) 電気光学装置および電子機器
KR20080086062A (ko) 액정표시장치의 어레이 기판 및 그의 제조방법
CN114371570B (zh) 一种彩膜基板、液晶显示面板和液晶显示装置
TWI307783B (en) Color filter substrate, display devices using the same and methods for assembling the same
JP4349105B2 (ja) 電気光学装置の製造方法及び該電気光学装置、並びに電子機器
JP2009265326A (ja) 表示装置およびその製造方法
JP2024006210A (ja) 液晶表示パネル、電子デバイスおよび液晶表示パネルの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: NIPPON DISPLAY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: SONY CORPORATION

Effective date: 20121120

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20121120

Address after: Aichi

Patentee after: Japan display West Co.,Ltd.

Address before: Tokyo, Japan

Patentee before: Sony Corporation

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20211021

Address after: Tokyo, Japan

Patentee after: JAPAN DISPLAY Inc.

Address before: Aichi

Patentee before: Japan display West Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right