JP6749075B2 - 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、表示不良の発生を抑制可能な液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法に関するものである。
液晶表示装置の製造方法として、一般的に真空注入方式と滴下注入方式(ODF)が採用されている。液晶表示装置の製造方法について滴下注入方式を例として説明する。TFTが形成されている電極基板と、色表示をするためのカラーフィルタなどが形成された対向基板とを用いて、それぞれの基板に配向膜を形成しラビングなどの配向処理を施す。
2枚の基板間隔を一定に保つために、ビーズ状のスペーサをどちらか一方の基板に散布する、または予め柱状の突起が形成された基板が用いられる。どちらか一方の基板に2枚の基板を貼り合わせるためのシールパターンを形成した後、液晶を必要量滴下する。
シールパターン中にはシール部分の間隔を一定に保つためのシール内スペーサが一定の割合で混合され、シール内スペーサは、棒状ガラス(ガラスファイバー破砕物)または粒子状シリカで構成される。
次に、真空チャンバー内で上下の定盤にそれぞれ基板を保持し、上下の基板のパターンが一致するように基板位置を調整しながら2枚の基板を近づけて貼り合わせる。シールパターンと基板の接触が不十分である場合、シールパターンと基板との間に隙間があると気泡がパネル内に入りこんだり、上定盤から基板を切り離すときに貼り合わせた基板がずれたりするため、荷重を加えてシールパターンを2枚の基板に十分に密着させる。その後、上定盤の切り離しと大気解放を行い、基板を取り出す。パネル内と周辺部(大気圧)の圧力差によってシールパターンが所定の幅まで潰れ、その後、UV照射装置にてシールパターンを仮硬化させた後、加熱を行い本硬化させる。その後、所定のプロセスを経て液晶表示装置を作製する。
貼り合わせ装置の定盤には、ロボットとの受け渡しのためのピン穴およびロボットアームとの干渉を避けるための凹部などがある。特に滴下注入方式では、真空貼り合わせ時の基板の保持のため静電チャック方式が用いられる。静電チャックユニットを定盤に取り付けるためのねじ穴などが多数存在する。シールパターンを2枚の基板に十分に密着させるために定盤に荷重を加えたときに、ねじ穴近傍などに局所的に大きな荷重がかかる。異物が定盤と基板の間にある場合にも、同様に局所的に大きな荷重がかかる。
局所的に荷重がかかる場所がシール部に該当する場合に問題が生じる。シール内スペーサがガラスファイバー破砕物で構成される場合、ガラスファイバー破砕物は硬いため、TFTアレイ基板の配線にダメージを与えることで断線または短絡の問題が発生する。
このような問題を解消するため、柔らかい樹脂製のビーズ状スペーサを設ける方法、またはシール内スペーサをなくしてシールパターンの近傍に突起を設ける方法(例えば、特許文献1参照)が採用されている。
特開2002−357834号公報
樹脂製のビーズ状スペーサを設けた場合はビーズ状スペーサが大きく変形し、基板間隔が狭くなるため、シールパターンが潰れ過ぎてシール幅が広くなる。貼り合わせ動作終了後、荷重を除去するとビーズ状スペーサが元の形状に戻るためシール幅も元に戻る。このとき、周辺から空気を巻き込んでシールパターン内に気泡を生じるシール内気泡となる。これにより、シールパターンの密着力および耐湿性(耐環境性)が低下し表示不良が発生することで液晶表示装置の歩留りが低下するという問題がある。
また、特許文献1に記載の方法では、シールパターンが潰れてシール幅が広くなり過ぎて表示領域に入り込んで表示不良が発生したり、基板からはみ出したりすることで、液晶表示装置の歩留りが低下するという問題がある。
液晶表示装置は、小型(数インチ)から大型(数十インチ)サイズまで生産されるため基板の任意の箇所にシールパターンが形成され、定盤構造(ネジ穴位置など)を工夫して上記の問題を回避することは難しい。
そこで、本発明は、基板を貼り合わせる際に局所的に荷重がかかった場合にも、表示不良の発生を抑制し歩留りを向上させることが可能な液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る液晶表示装置は、第1基板と、液晶層を介して前記第1基板と対向する位置に配置された第2基板と、前記第1,第2基板間に挟持される液晶を封止するシールパターンと、前記シールパターン内に配置された弾性変形可能な第1スペーサと、前記シールパターン内に配置され、前記第1スペーサよりも、前記液晶層の厚み方向において短い長さに形成される第2スペーサとを備え、前記液晶層の厚み方向における前記第1スペーサおよび前記第2スペーサの長さの差は、前記第1スペーサの長さの15%以下に設定され、前記第1スペーサは、ビーズ状の形状を有し、前記第2スペーサは、前記第1基板と前記第2基板の一方のみに当接され、かつ、前記シールパターンの平面視面積に対する占める面積密度が1%以上50%未満に設定され、分散して複数配置される柱状スペーサである
本発明によれば、第1基板と、液晶層を介して第1基板と対向する位置に配置された第2基板と、第1,第2基板間に挟持される液晶を封止するシールパターンと、シールパターン内に配置された弾性変形可能な第1スペーサと、シールパターン内に配置され第1スペーサよりも、液晶層の厚み方向において短い長さに形成される第2スペーサとを備え
したがって、第1,第2基板を貼り合わせる際に局所的に荷重がかかった場合、第1スペーサが弾性変形するが、第1スペーサよりも液晶層の厚み方向において短い長さに形成される第2スペーサで荷重を支えることができるため、第1,第2基板間の距離を保持することができる。これにより、シールパターンが潰れ過ぎないことからシール内気泡が発生したり、シールパターンの幅が広くなり過ぎたりすることを抑制できるため、液晶表示装置の歩留りを向上させることが可能となる。
実施の形態に係る液晶表示装置の液晶パネルの要部の構成図である。 液晶表示装置の液晶パネルの平面図である。 図2のB-B線断面図である。 液晶パネルの製造工程を示すフローチャートである。 前提技術において荷重入力時の液晶パネルの要部の構成図である。 前提技術において荷重除去後の液晶パネルの要部の構成図である。 前提技術において荷重入力時の液晶パネルの他の例の要部の平面図である。
<実施の形態>
本発明の実施の形態について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態に係る液晶表示装置の液晶パネルの要部の構成図であり、図1(a)は、液晶パネルの要部の平面図であり、図1(b)は、通常時における図1(a)のA-A線断面図であり、図1(c)は、局所的に荷重がかかった場合における図1(a)のA-A線断面図である。
図1(a)と図1(b)に示すように、実施の形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネルは、第1基板であるTFTアレイ基板110と、第2基板であるカラーフィルタ基板(CF基板)120と、シールパターン133と、ビーズ状スペーサ144(第1スペーサ)と、柱状スペーサ134(第2スペーサ)とを備えている。TFTアレイ基板110は、TFTなどのスイッチング素子と画素電極がアレイ状に配列されたアレイ基板である。CF基板120は、カラー表示を行うための色材が形成された基板であり、TFTアレイ基板110と対向する位置に配置された対向基板である。
シールパターン133は、TFTアレイ基板110とCF基板120との間に挟持される液晶を封止するための部材である。ビーズ状スペーサ144は、シールパターン133内に配置され、弾性変形可能な樹脂で形成されている。柱状スペーサ134は、シールパターン133内に配置され、有機樹脂膜をパターニングして形成されている。柱状スペーサ134は、CF基板120の下面から下方に突出するように配置され、ビーズ状スペーサ144よりも変形強度が高く、ビーズ状スペーサ144よりも液晶の厚み方向において低い高さに形成されている。そのため、図1(b)に示すように、荷重が入力されていない通常時は、柱状スペーサ134の下端はTFTアレイ基板110に当接せず、柱状スペーサ134の下端とTFTアレイ基板110との間に隙間が形成され、この隙間にシールパターン133が配置されている。ここで、柱状スペーサ134は、予め定められた荷重を支えることが可能な変形強度を有している。
次に、前提技術に係る液晶表示装置の問題点について説明する。図5は、前提技術において荷重入力時の液晶パネルの要部の構成図であり、図5(a)は、前提技術において荷重入力時の液晶パネルの要部の平面図であり、図5(b)は、C-C線断面図である。図6は、前提技術において荷重除去後の液晶パネルの要部の構成図であり、図6(a)は、前提技術において荷重除去後の液晶パネルの要部の平面図であり、図6(b)は、D-D線断面図である。図7は、前提技術において荷重入力時の液晶パネルの他の例の要部の平面図である。
図5(a),(b)に示すように、前提技術に係る液晶表示装置を構成する液晶パネルは、TFTアレイ基板110と、CF基板120と、シールパターン133と、ビーズ状スペーサ144とを備えている。基板の貼り合わせ時には、荷重がかかりビーズ状スペーサ144が大きく弾性変形し、基板間隔が狭くなるため、シールパターン133が潰れ過ぎてシール幅が広くなる。
図6(a),(b)に示すように、基板の貼り合わせ終了後、荷重を除去するとビーズ状スペーサ144が元の形状に戻るためシール幅も元に戻る(2点鎖線で示される位置から実線で示される位置に戻る)。このとき、周辺から空気を巻き込んでシールパターン133内にシール内気泡(シール内ボイド)145が生じる。これにより、シールパターン133の密着力および耐湿性(耐環境性)が低下し表示不良が発生することで液晶表示装置の歩留りが低下するという問題がある。
また、図7に示すように、シール内スペーサをなくしてシールパターン133の近傍に突起を設けた場合には、シールパターン133が潰れてシール幅が広くなり過ぎて表示領域100に入り込んで表示不良が発生したり、基板からはみ出したりすることで液晶表示装置の歩留りが低下するという問題がある。
これに対して、実施の形態に係る液晶表示装置では、図1(c)に示すように、TFTアレイ基板110およびCF基板120に局所的に柱状スペーサ134の変形強度を超えない範囲の荷重がかかった場合、ビーズ状スペーサ144は柱状スペーサ134の下端がTFTアレイ基板110に当接するまで弾性変形する。しかし、柱状スペーサ134で荷重を支えることができるため、TFTアレイ基板110とCF基板120との間の距離を保持することができる。よって、シールパターン133が潰れ過ぎないため、シール内ボイドが発生したり、シールパターン133の幅が広くなり過ぎたりすることを抑制できる。
次に、液晶表示装置の実験例と比較例について説明する。
(実験例1)
CF基板のシール形成位置に該当する部分にフォトリソグラフィー法(フォトリソ法)によって3.1ミクロンの高さの柱状スペーサを形成した。スペーサ密度(面積換算)は約2%とした。スペーサ密度とは、シールパターンの平面視面積に対する柱状スペーサの占める面積密度である。直径3.5ミクロンの樹脂製ビーズ状スペーサ(積水化学工業製、SP−2035)を1wt%混練したシールパターンをCF基板の所定の位置にディスペンサを用いて塗布した。この後液晶を滴下し、真空中で2枚の基板を貼り合せ、所定のプロセスを経て液晶表示装置を作製した。ここで、液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサと柱状スペーサの高さの差はビーズ状スペーサの直径の11.4%である。
シールパターンに該当する箇所に柱状スペーサが形成されているため、異物の付着またはステージの平坦度が悪いことが原因でシールパターンに該当する箇所に局所的に荷重がかかってもシール内スペーサの変形量が小さく、シール内ボイドが発生しない。このため、良好な歩留まりで液晶表示装置を製造することができた。
(実験例2)
CF基板のシール形成位置に該当する部分にフォトリソ法によって6.0ミクロンの高さの柱状スペーサを形成した。スペーサ密度(面積換算)は約1%とした。直径6.5ミクロンの樹脂製ビーズ状スペーサ(積水化学工業製、SP−2065)を1wt混練したシールパターンをCF基板の所定の位置にディスペンサを用いて塗布した。この後液晶を滴下し、真空中で2枚の基板を貼り合せ、所定のプロセスを経て液晶表示装置を作製した。ここで、液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサと柱状スペーサの高さの差はビーズ状スペーサの直径の7.7%である。
シールパターンに該当する箇所に柱状スペーサが形成されているため、シールパターンに該当する箇所に局所的に大きな荷重が印加されてもシール内スペーサの変形量が小さく、シール内ボイドが発生しない。このため、良好な歩留まりで液晶表示装置を製造することができた。
(実験例3)
CF基板のシール形成位置に該当する部分にフォトリソ法によって5.0ミクロンの高さの柱状スペーサを形成した。スペーサ密度(面積換算)は約1%とした。直径6.5ミクロンの樹脂製ビーズ状スペーサ(積水化学工業製、SP−2065を1wt%混練したシールパターンをCF基板の所定の位置にディスペンサを用いて塗布した。この後液晶を滴下し、真空中で2枚の基板を貼り合せ、所定のプロセスを経て液晶表示装置を作製した。ここで、液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサと柱状スペーサの高さの差はビーズ状スペーサの直径の23.1%である。
シールパターンに該当する箇所に柱状スペーサが形成されているため、シールパターンに該当する箇所に局所的に大きな荷重が印加されてもシール内スペーサの変形量が小さく、シール内ボイドが発生しない。このため、良好な歩留まりで液晶表示装置を製造することができた。
(比較例1)
CF基板のシール形成位置に該当する部分にフォトリソ法によって3.0ミクロンの高さの柱状スペーサを形成した。スペーサ密度(面積換算)は約1%とした。直径6.5ミクロンの樹脂製ビーズ状スペーサ(積水化学工業製、SP−2065)を1wt%混練したシールパターンをCF基板の所定の位置にディスペンサを用いて塗布した。この後液晶を滴下し、真空中で2枚の基板を貼り合せ、所定のプロセスを経て液晶表示装置を作製した。ここで、液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサと柱状スペーサの高さの差はビーズ状スペーサの直径の53.8%である。
この場合、シール内ボイドが発生し良好な歩留まりで液晶表示装置を製造することができなかった。
(比較例2)
CF基板のシール形成位置に該当する部分にフォトリソ法によって3.1ミクロンの高さの柱状スペーサを形成した。スペーサ密度(面積換算)は約0.2%とした。直径3.5ミクロンの樹脂製ビーズ状スペーサ(積水化学工業製、SP−2035)を1wt%混練したシールパターンをCF基板の所定の位置にディスペンサを用いて塗布した。この後液晶を滴下し、真空中で2枚の基板を貼り合せ、所定のプロセスを経て液晶表示装置を作製した。ここで、液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサと柱状スペーサの高さの差はビーズ状スペーサの直径の11.4%である。
この場合、シール内ボイドが発生し良好な歩留まりで液晶表示装置を製造することができなかった。
以上より、柱状スペーサの強度の観点からスペーサ密度(面積換算)は1%以上に設定されることが好ましい。さらに、ビーズ状スペーサとの干渉の観点から、スペーサ密度(面積換算)の現実的な上限としては、50%未満に設定されることが好ましい。また、液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサと柱状スペーサの高さの差はビーズ状スペーサの直径の23.1%(実験例3)であっても液晶表示装置において良好な歩留まりを達成できたが、シール内スペーサの変形量を一層小さくしてシール内ボイドの発生を一層抑制するために15%以下に設定されることが好ましい。
(液晶パネルの構成)
続いて、実施の形態に係る液晶表示装置の主要部である液晶パネル10の具体的な構成について、図2と図3を用いて説明する。図2は、液晶表示装置の液晶パネル10の平面図であり、図3は、図2のB-B線断面図である。なお、図面が煩雑とならないよう、発明の主要部以外の省略および構成の一部簡略化などを適宜行っている。ここでは、一例として、液晶の動作モードがTN(Twisted Nematic)モードで、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)を備える液晶パネル10に本発明を採用した場合について説明する。なお、液晶パネル10の製造方法の詳細については後述する。
液晶パネル10は、TFTなどのスイッチング素子と画素電極がアレイ状に配列するアレイ基板であるTFTアレイ基板110と、TFTアレイ基板110と対向配置される対向基板であるCF基板120を備えている。さらに、液晶パネル10は、一対の基板であるTFTアレイ基板110およびCF基板120の何れか一方の基板表面に液晶が複数の液滴として配置された後に両方の基板間に挟まれることによって、シールパターン133で囲まれる領域内に封止されて形成される滴下注入(ODF:One Drop Filling)方式を用いて製造される。
したがって、シールパターン133は、図でも示されるとおり、閉ループ形状であり真空注入方式で製造される液晶パネルのように液晶を注入するための開口部である注入口は形成されておらず、別途注入口を封止するための封止材も設けられていないという構造的な特徴を備えている。
なお、図2では、CF基板120の下側に配置されるTFTアレイ基板110の構成を図示するために、図中左上の一部のみCF基板120を図示し、それ以外の領域では、CF基板120の図示を省略してTFTアレイ基板110の構成を図示している。実際の構成としては、CF基板120は、シールパターン133により囲まれる領域の外側の領域まで設けられている。
また、表示領域100の外側を額縁状に囲うように額縁領域101が配置されている。図2中では、表示領域100となる矩形領域を額縁領域101との境界としている。なお、ここで使用した表示領域100および額縁領域101については、液晶パネル10のTFTアレイ基板110上、CF基板120上、または両基板間に挟まれる領域の全てにおいて使用することとし、本明細書中においては全て同様の意味にて使用する。
TFTアレイ基板110は、透明基板であるガラス基板111の一方の面に配置され液晶を配向させる配向膜112と、配向膜112の下部に設けられ液晶を駆動する電圧を印加する画素電極113と、画素電極113に電圧を供給するスイッチング素子であるTFT114と、TFT114を覆う絶縁膜115と、TFT114に信号を供給する配線である複数のゲート配線118gおよびソース配線118sと、TFT114に供給される信号を外部から受け入れる端子116と、端子116から入力された信号をCF基板120側へ伝達するためのトランスファ電極(図示省略)と、端子116から入力された信号をゲート配線118g、ソース配線118sおよびトランスファ電極へ伝達する周辺配線(図示省略)等を備えている。
TFT114は、TFTアレイ基板110上の表示領域100において、それぞれ縦横に複数本配列して設けられるゲート配線118gとソース配線118sの各交差部近傍に設けられ、画素電極113は、ゲート配線118gとソース配線118sによって囲まれる各画素領域内にマトリクス状に配列して形成されている。また、端子116、トランスファ電極および周辺配線は、額縁領域101に形成されている。また、ガラス基板111の他方の面には偏光板131が配置されている。
一方、CF基板120は、透明基板であるガラス基板121の一方の面に配置され液晶を配向させる配向膜122と、この配向膜122の下部に配置されTFTアレイ基板110上の画素電極113との間に電界を生じ液晶を駆動する共通電極123と、共通電極123の下部に設けられるカラーフィルタ124およびカラーフィルタ124間を遮光するため、または表示領域100に対応する領域外側に配置される額縁領域101を遮光するために設けられる遮光層であるブラックマトリクス(Black Matrix:BM)125等を備えている。CF基板120のガラス基板121の他方の面、すなわち、カラーフィルタ124、ブラックマトリクス125等の設けられる面と反対側の面には偏光板132が配置されている。
また、TFTアレイ基板110とCF基板120はシールパターン133を介して貼り合わされており、表示領域100に配置される柱状スペーサ134によって所定の基板間隔に、つまり一定に保持されている。なお、異なる2種類の柱状スペーサ形態を混在して備え、一部の柱状スペーサについては、例えば、相対的に高さの高いスペーサとすることで、通常時において対向する基板と当接し基板間を保持するスペーサ(メインスペーサと呼ばれる)とし、他の一部の柱状スペーサについては、相対的に高さの低いスペーサとすることで、通常時は対向する基板と当接せず基板間の保持に寄与せずに外力などにより基板間の距離が縮まった際にのみ対向する基板と当接し基板間を保持するスペーサ(サブスペーサと呼ばれる)とするデュアルスペーサ構造を採用しても良い。
また、シールパターン133によって密封され、柱状スペーサ134によって保持されたCF基板120とTFTアレイ基板110との間の間隙の少なくとも表示領域100に対応する領域に液晶層130が狭持されている。
また、シールパターン133と、その形成領域における構成については、本発明の特徴的な構造を有しており、先に説明を行ったとおり、シールパターン133は、シール内スペーサとして、例えば、3.5ミクロン径(圧力が入力されない状態の直径)の樹脂製ビーズ状スペーサ(積水化学工業製、SP−2035)144が1wt%程度、混在された光硬化型シール剤(光硬化型樹脂)からなる。さらに、シールパターン133の形成領域においては、前記のシール内スペーサの直径よりも所定変形量(シール内スペーサの変形許容量、基本的には、弾性変形範囲の最大値)に相当する長さ分だけ低い高さを有し、かつ、シール内スペーサよりも高い変形強度(弾性定数)を有する柱状スペーサ134がCF基板120側から突出して設けられている。なお、このシールパターン133の形成領域に配置される柱状スペーサ134は、TFTアレイ基板110側から突出して設けても良い。但し、表示領域100に配置される柱状スペーサ134が形成される基板と同じ基板側に設けることよって、製造工程を共通化することが望ましい。
また、TFTアレイ基板110とCF基板120にそれぞれ設けられるトランスファ電極と共通電極123は、これら基板間に設けられ、導電性粒子を混在させた樹脂からなるトランスファ材によって電気的に接続されており、端子116から入力された信号が共通電極123に伝達される。導電性粒子としては、弾性変形可能なものが導通の安定の点で好ましく、例えば、表面に金メッキがされた球形の樹脂を用いると良い。なお、液晶の動作モードがTNモードでなく、横電界モードと変更した場合には、CF基板120に共通電極123が形成されないことから、共通電極123に信号を伝達する構造であるトランスファ電極およびトランスファ材からなる構成は省略される。
さらに、端子116のそれぞれのパッドに対しては、接続配線となるFFC(Flexible Flat Cable)136を介して駆動ICチップを制御する制御信号などを発生する制御IC(Integrated Circuit)チップなどを装備した制御基板135が接続されている。また、制御基板135からの制御信号は、端子116を介して、突出部に取り付けられた駆動ICチップの入力側に入力され、駆動ICチップの出力側から出力される出力信号が表示領域100から引き出された多数の信号引き出し配線(図示省略)を介して、表示領域100内のTFT114に供給される。
また、液晶パネル10における制御基板135および端子116が配置される辺には、液晶パネル10の製造途中において、特に制御基板135の取り付けられる前の状態で液晶パネル10の表示動作を行うための検査回路119が配置される。
さらに、液晶パネル10の表示面の反対側であるTFTアレイ基板110に対向して光源となるバックライトユニット(図示省略)が配置されており、さらに、液晶パネル10とバックライトユニット間には光の偏光状態および指向性などを制御する光学シート(図示省略)が配置されている。液晶パネル10は、これらの部材と共に表示面となる表示領域100におけるCF基板120の外側の部分が開放された筐体(図示省略)の中に収容され、本実施の形態に係る液晶表示装置が構成される。
上記において説明を行った本実施の形態に係る液晶表示装置は次のように動作する。例えば、制御基板135から制御信号が入力され、駆動ICチップが動作し、表示領域100内の配線を介して信号が画素領域に伝わる。その結果、各画素領域に配置される画素電極113とCF基板120上に配置される共通電極123間に所定の駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶の分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光がTFTアレイ基板110、液晶層130およびCF基板120を介して観察者側に透過または遮断されることによって、液晶パネル10のCF基板120側の表示領域100に形成される表示面に映像などが表示される。
なお、例えば、シールパターン133において、シール内ボイドが発生すると、シールパターン133の密着力および耐湿性(耐環境性)が低下し、上記説明のような正常な動作が行われず表示不良が発生することとなる。しかし、本実施の形態に係る液晶表示装置においては、シール内ボイドの発生が抑制されるため、このような表示不良を発生することなく良好な歩留まりで製造することができた。
(液晶パネルの製造フロー)
次に、液晶表示装置を構成する液晶パネル10の製造方法の全体の流れについて説明する。液晶パネル10の製造工程の概要について、図4のフローチャートを用いて説明を行うことにする。図4は、液晶パネル10の製造工程を示すフローチャートである。なお、液晶表示装置の主要部分となる液晶パネル10は、通常、最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネル10を1枚または複数枚(多面取り)切り出して製造され、図4におけるステップS1からステップS9およびステップS10途中までのプロセスは、そのマザー基板の状態でのプロセスである。
先ず、基板準備工程において、それぞれマザー基板の状態でTFTアレイ基板110およびCF基板120を準備する。TFTアレイ基板110およびCF基板120の製造方法については一般的な方法を用いても良いため、簡単に説明する。TFTアレイ基板110は、ガラス基板111の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、およびエッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いてTFT114と画素電極113、端子116、およびトランスファ電極117を形成することで製造される。
また、CF基板120は、同様に、ガラス基板121の一方の面に、カラーフィルタ124、ブラックマトリクス125、共通電極123、および有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ134を形成することで製造される。特に柱状スペーサ134を異なる2種類の柱状スペーサ形態を混在して備えるデュアルスペーサ構造とする場合には、公知のデュアルスペーサ構造の形成方法であるハーフトーン技術を利用したフォトリソ工程を用いて高さのみを作り分けると良い。
また、シールパターン133の形成領域にCF基板120側から突出して配置される柱状スペーサ134についても、有機樹脂膜をパターニングして柱状スペーサ134を形成する際に、この公知のデュアルスペーサ構造の形成方法であるハーフトーン技術を利用して、柱状スペーサ134と形成領域と高さを作り分けて、柱状スペーサ134の形成と共通のフォトリソ工程によって、新規の工程を追加することなく形成することができる。なお、当然、シールパターン133の形成領域に配置される柱状スペーサ134は、表示領域100に配置される柱状スペーサ134と別途形成しても良く、例えば、CF基板120に設けられるカラーフィルタ124を形成する際に、異なる色のカラーフィルタ124を重ね合わせたパターニングすることで、新規の工程を追加することなく、カラーフィルタ124の形成工程によって同時形成することもできる。
続いて、ステップS1の基板洗浄工程において、画素電極113が形成されているTFTアレイ基板110を洗浄する。次に、本発明の特徴的な部分となるステップS2の配向膜材料塗布工程において、TFTアレイ基板110の一方の面に、配向膜材料を塗布形成する。続いて、塗布形成された配向膜材料をホットプレートなどによって焼成処理し乾燥させる。
その後、ステップS3の配向処理工程において、塗布形成された配向膜材料に対して例えばラビング処理などの、配向膜材料表面に特定方向に沿った微細な溝および傷などを形成する配向処理を行い配向膜112とする。なお、配向膜112に対して行う配向処理は、ラビング処理に限られず、光配向処理などの公知の配向処理方法を選択しても良い。
また、TFTアレイ基板110に対するステップS1からステップS3の工程を行う場合について説明したが、共通電極123が形成されているCF基板120についても、同様に、ステップS1の洗浄工程を行った後、ステップS2の配向膜材料の塗布を行い、ステップS3の配向処理としてのラビングを行うことで配向膜122を形成する。なお、CF基板120上に配向膜122を形成するにあたり、より詳細には、CF基板120上に形成された柱状スペーサ134上についても、配向膜122で覆われる。しかしながら、柱状スペーサ134の高さに比べて配向膜122の厚さは薄いので、図においても、柱状スペーサ134上に塗布された配向膜は図示を省略している。
次に、ステップS4において柱状スペーサ134の高さを測定する。本実施の形態では柱状スペーサ134は、CF基板120上に形成されるので、CF基板120上において初期の高さを測定すれば良い。なお、この工程で柱状スペーサ134の高さを測定する意味は、以降でも再度説明を行うが、滴下注入(ODF)方式で液晶を注入するにあたり、液晶の滴下量を決定するためである。従って、液晶を満たす空間の容積に関係するセルギャップを決定することとなる柱状スペーサ134の高さ(デュアルスペーサ構造を用いた場合にはメインスペーサの高さ)を測定する。
次に、ステップS5のシール剤塗布工程において、スクリーン印刷装置を用いて、TFTアレイ基板110またはCF基板120の主面に、弾性変形可能な樹脂製ビーズ状スペーサ144をシール内スペーサとして混入したシール剤を印刷ペーストとして塗布する。シール剤は、液晶パネル10の表示領域100を囲うように塗布され、シールパターン133を形成する。
なお、シールパターン133に導電性粒子を混在させたシール剤をTFTアレイ基板110上のトランスファ電極とCF基板120上の共通電極123の重なる領域に重ねて塗布することで、基板間導通機能を持たせることも可能である。しかし、本実施の形態では、シールパターン133に弾性変形可能な樹脂製ビーズ状スペーサ144をシール内スペーサとして用いることから、シールパターン133に基板間導通機能を持たせずに、別途、シールパターン133で囲まれる領域の外側に、トランスファ電極を配置し、トランスファ電極と重なる領域に導電性粒子を混在させた樹脂ペーストからなるトランスファ材を塗布形成する構成とした。このトランスファ材を塗布形成する工程については、上記のステップS5の工程後にTFTアレイ基板110またはCF基板120の一方の面にトランスファ材の塗布処理を行うと良い。
なお、本実施の形態の樹脂製ビーズ状スペーサ144について、金などがコーティングされた樹脂製ビーズ状スペーサに変更して導電粒子としても機能させることで、先に述べたとおり、シールパターン133に、導電性粒子として、金などがコーティングされた樹脂製ビーズ状スペーサを混在させたシール剤を用いて基板間導通機能を持たせても良い。その場合には、上記説明を行ったトランスファ電極と重なる領域に導電性粒子を混在させた樹脂ペーストからなるトランスファ材を別途塗布形成する必要はなくなり、製造工程を削減することができる。
また、本実施の形態では、基板間を所定の距離に保持するスペーサとしては、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ134を用いたが、球状のスペーサを散布することで、基板間を所定の距離に保持するスペーサを形成しても良い。その場合には、上記のトランスファ材塗布工程と同様に、ステップS5の工程後に、スペーサ散布工程を行うと良い。
次に、ステップS6の液晶滴下工程において、シールパターン133が形成された方の基板のシールパターン133で囲まれた領域内に液晶を滴下する。この液晶の滴下量は、ステップS4において測定した柱状スペーサ134の高さに基づいて決定される。
次に、ステップS7の真空貼り合わせ工程において、マザー基板状態のTFTアレイ基板110とCF基板120とを真空状態で貼り合わせてマザーセル基板を形成する。特に、本発明においては、この真空貼り合わせ工程において、異物の付着またはステージの平坦度が悪いことが原因で、局所的、かつ一時的な荷重が加わった際にも、シールパターン133と、その形成領域における本発明の特徴的な構造が有効に機能し、シール内スペーサが必要以上に(例えば、弾性変形範囲を超えて)変形することがなく、シールボイドが発生しない。
次に、ステップS8のUV(紫外線)照射工程でマザーセル基板に紫外線を照射し、シール剤を仮硬化させる。その後、ステップS9において加熱によってアフターキュアを行い、シール剤を完全に硬化させて、硬化したシールパターン133を得る。
次に、ステップS10のセル分断工程において、マザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶パネルに分断する。
以上のように分断された個々の液晶パネルに対して、ステップS11の偏光板貼り付け工程、およびステップS12の制御基板実装工程などを実行することで一連の製造工程が完了し、液晶パネル10が完成する。
さらに、液晶パネル10の反視認側となるTFTアレイ基板110の裏面側に位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニットを配設し、樹脂または金属などからなるフレーム内に、液晶パネル10およびこれら周辺部材を適宜収容し、最終的な本実施の形態に係る液晶表示装置が完成する。
なお、実施の形態においては、シール内スペーサが所定の変形量を超えて変形しないようにシールパターン133の形成領域に配置されるスペーサとして、フォトリソ法を用いてCF基板120またはTFTアレイ基板110上に形成される柱状スペーサ134によって構成する例を用いて説明を行った。フォトリソ法を用いて形成される柱状スペーサ134を採用する場合、シールパターン133の形成領域内における配置、すなわち、配列、互いの間隔、および密度などを、一層正確に設定することができ、シール内スペーサの強度特性、および想定されるステップS7の真空貼り合わせ工程時における外力の作用に応じて適正に機能させることができる点で一層望ましい。
しかしながら、シールパターン133の形成領域に配置されるスペーサとしては、フォトリソ法を用いて形成される柱状スペーサのみに限られず、シール内スペーサの直径よりも所定変形量に相当する長さ分だけ低い高さを有し、かつ、シール内スペーサよりも高い変形強度(弾性定数)を有したスペーサであって、所定の変形量を超えてシール内スペーサが変形しないように機能すれば、他の形状でも良い。
例えば、シール内スペーサと同様にシールパターン133内に混在される球状のスペーサ、円柱の棒状のスペーサ(マイクロロッド)であっても良く、ガラスまたは弾性変形し難い樹脂など比較的硬質な材料からなる、これらの形状のスペーサとしても良い。これらのスペーサのサイズとして、球状のスペーサの場合には球の直径、棒状のスペーサの場合には円柱の円の直径について、上記の所定のスペーサの高さとして設定すれば良い。なお、通常、シール内スペーサとして、このようなマイクロロッドなどの硬質材料を混入すると、TFTアレイ基板の配線にダメージを与える恐れがあるが、上記のとおり、シール内スペーサの直径よりも高さの低い球状のスペーサまたは円柱の棒状のスペーサであれば、前記のダメージを与える恐れは殆ど無く、本発明のスペーサとして使用することができる。
以上のように、実施の形態に係る液晶表示装置は、TFTアレイ基板110と、TFTアレイ基板110と対向する位置に配置されたCF基板120と、TFTアレイ基板110とCF基板120との間に挟持される液晶を封止するシールパターン133と、シールパターン133内に配置された弾性変形可能なビーズ状スペーサ144と、シールパターン133内に配置された、ビーズ状スペーサ144よりも変形強度の高い柱状スペーサ134とを備え、柱状スペーサ134は、ビーズ状スペーサ144よりも、液晶の厚み方向において低い高さに形成される。
したがって、TFTアレイ基板110とCF基板120を貼り合わせる際に局所的に荷重がかかった場合、ビーズ状スペーサ144が弾性変形するが、ビーズ状スペーサ144よりも変形強度の高い柱状スペーサ134で荷重を支えることができるため、TFTアレイ基板110とCF基板120との間の距離を保持することができる。これにより、シールパターン133が潰れ過ぎないことからシールボイドが発生したり、シールパターン133の幅が広くなり過ぎたりすることを抑制できるため、液晶表示装置の歩留りを向上させることが可能となる。
液晶の厚み方向におけるビーズ状スペーサ144および柱状スペーサ134の高さの差は、ビーズ状スペーサの直径の15%以下に設定されるため、確実にシールボイドを発生しない範囲について、ビーズ状スペーサ144の直径を基準とした具体的な目安を得ることができる。
シールパターン133内に配置される変形強度の高い第2スペーサをパターニングにより形成される柱状スペーサ134とすることで、配置密度および均一性を正確に制御することができ、シールパターン133全体にわたって、一層確実にシールボイドの発生を抑制できる。
シールパターン133の平面視面積に対する柱状スペーサ134の占める面積密度は1%以上50%未満に設定されるため、シールパターン133内の柱状スペーサ134が殆ど変形することなく予め定められた荷重を支えることができる。これにより、シールボイドを発生しない範囲を超えてシールパターン133が変形することを一層確実に抑制できる。
なお、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
110 TFTアレイ基板、120 CF基板、130 液晶層、133 シールパターン、134 柱状スペーサ、144 ビーズ状スペーサ。

Claims (4)

  1. 第1基板と、
    液晶層を介して前記第1基板と対向する位置に配置された第2基板と、
    前記第1,第2基板間に挟持される液晶を封止するシールパターンと、
    前記シールパターン内に配置された弾性変形可能な第1スペーサと、
    前記シールパターン内に配置され、前記第1スペーサよりも、前記液晶層の厚み方向において短い長さに形成される第2スペーサと、
    を備え
    前記液晶層の厚み方向における前記第1スペーサおよび前記第2スペーサの長さの差は、前記第1スペーサの長さの15%以下に設定され、
    前記第1スペーサは、ビーズ状の形状を有し、
    前記第2スペーサは、前記第1基板と前記第2基板の一方のみに当接され、かつ、前記シールパターンの平面視面積に対する占める面積密度が1%以上50%未満に設定され、分散して複数配置される柱状スペーサである、液晶表示装置。
  2. 前記第2スペーサは、前記第1スペーサよりも変形強度が高い、請求項1記載の液晶表示装置。
  3. 第1スペーサを含むシールパターン内に液晶が封止され、液晶層を介して第1基板と第2基板とが対向して配置される液晶表示装置の製造方法であって、
    前記第1または前記第2基板のシールパターン形成領域に第2スペーサを形成する第2スペーサ形成工程と、
    弾性変形可能である前記第1スペーサを含むシールパターンを前記第2基板のシールパターン形成領域に形成する工程と、
    前記第1スペーサを含むシールパターンを形成後において、前記第1スペーサにおける前記液晶層の厚み方向の長さが前記第2スペーサにおける基板表面からの長さよりも長く設けられた状態で、前記シールパターン内に液晶を滴下する液晶滴下工程と、
    前記第2スペーサ形成工程および前記液晶滴下工程後に行われ、前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせ、前記第1,第2基板が重ね合わされた状態で前記第1,第2スペーサを含んだシールパターンを硬化させる工程と、
    を備え
    前記シールパターンを硬化させる工程後の状態において、前記第2スペーサは、前記第1スペーサよりも、前記液晶層の厚み方向において短い長さに形成され、
    前記液晶層の厚み方向における前記第1スペーサおよび前記第2スペーサの長さの差は、前記第1スペーサの長さの15%以下に設定され、
    前記第1スペーサは、ビーズ状の形状を有し、
    前記第2スペーサは、前記第1基板と前記第2基板の一方のみに当接され、かつ、前記シールパターンの平面視面積に対する占める面積密度が1%以上50%未満に設定され、分散して複数配置される柱状スペーサである、液晶表示装置の製造方法。
  4. 前記第2スペーサはパターニングにより形成される、請求項記載の液晶表示装置の製造方法。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102523923B1 (ko) * 2016-02-29 2023-04-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널용 모기판, 그의 절단 방법, 및 그 방법에 의해 제조된 표시 패널
CN107180843B (zh) * 2017-05-17 2020-02-18 京东方科技集团股份有限公司 一种封装面板、器件封装结构及其制备方法
JP6817145B2 (ja) * 2017-05-29 2021-01-20 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 有機電界発光装置および有機電界発光装置の製造方法
CN107844007A (zh) * 2017-11-15 2018-03-27 武汉华星光电技术有限公司 柔性液晶显示面板及其制作方法
CN108181749B (zh) * 2017-12-29 2020-08-28 深圳市华星光电技术有限公司 制造液晶显示面板的方法
CN108897175A (zh) * 2018-08-31 2018-11-27 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示面板及其制作方法、显示装置
TW202134751A (zh) * 2020-03-13 2021-09-16 友達光電股份有限公司 顯示裝置與母片
CN112327543B (zh) * 2020-11-05 2022-04-01 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH660246A5 (de) * 1983-07-08 1987-03-31 Bbc Brown Boveri & Cie Fluessigkristallzelle.
JP3803510B2 (ja) * 1999-05-25 2006-08-02 日本電気株式会社 液晶表示パネル
JP2001005005A (ja) * 1999-06-17 2001-01-12 Sony Corp 液晶表示素子およびその製造方法
JP2001100217A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Nec Corp カラー液晶表示装置およびその製造方法
JP2001142074A (ja) * 1999-11-10 2001-05-25 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP2002328375A (ja) * 2001-04-27 2002-11-15 Optrex Corp 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2005241856A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Seiko Epson Corp 電気光学装置および電子機器
JP2007010843A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Hitachi Displays Ltd 液晶表示パネル
JP2007093683A (ja) * 2005-09-27 2007-04-12 Sanyo Epson Imaging Devices Corp 液晶装置及び電子機器
TW200823573A (en) * 2006-11-17 2008-06-01 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel and manufacture method thereof
JP2009139672A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Sony Corp 液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法
JP2010231193A (ja) * 2009-03-03 2010-10-14 Toshiba Mobile Display Co Ltd 液晶表示装置
CN101697043A (zh) * 2009-06-24 2010-04-21 深超光电(深圳)有限公司 液晶显示面板
JP5934797B2 (ja) * 2012-08-10 2016-06-15 シャープ株式会社 表示パネル
JP2014119710A (ja) * 2012-12-19 2014-06-30 Japan Display Inc 液晶表示装置及びその製造方法

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