CN101379438B - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents
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Abstract
提供一种电子照相感光构件，该电子照相感光构件即使在长期使用时也能改进清洁性能并获得良好图像再现性。还提供使用所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。所述电子照相感光构件的感光层表面具有多个相互独立的凹陷部。当所述凹陷部的长轴径为Rpc，和所述凹陷部的最深处与开口之间的距离为Rdv时，深度与长轴径之间的比(Rdv/Rpc)为大于1.0至7.0以下。
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
考虑到低价格和高生产率的优点，作为电子照相感光构件(以下也简称作“感光构件”)，有机电子照相感光构件变得普及，其具有支承体和在其上设置的使用有机材料作为感光材料(如电荷产生材料和电荷输送材料)的感光层(有机感光层)。考虑到例如高灵敏性和材料设计多样化的优点，作为有机电子照相感光构件，具有多层型感光层的电子照相感光构件是普及的，所述多层型感光层具有含有电荷产生材料的电荷产生层，和含有电荷输送材料的电荷输送层；将所述层叠层以形成感光层。电荷产生材料可包括光导电性染料和光导电性颜料。电荷输送材料可包括光导电性聚合物和光导电性低分子量化合物。
所述电子照相感光构件在直接施加充电、曝光、显影、转印和清洁的电外力和/或机械外力下使用，从而需要对这类外力具有耐久性。具体地说，所述感光构件需要对由于这类外力引起的表面刮擦和磨耗具有耐久性，即耐刮擦性和耐磨耗性。
关于耐磨耗性的改进，至今已经将聚碳酸酯树脂广泛用作电子照相感光构件表面层的粘结剂树脂。然而，近年来提出了使用具有比聚碳酸酯树脂更高机械强度的聚芳酯树脂作为表面层的粘结剂树脂，如此使得电子照相感光构件可在耐久性(运行性能)方面获得更大改进(参见例如日本专利申请特开H10-39521)。所述聚芳酯树脂为一种芳香族二羧酸聚酯树脂。
日本专利申请特开H02-127652公开了具有使用可固化树脂作为粘结剂树脂的固化层作为表面层的电子照相感光构件。日本专利申请特开H05-216249和H07-072640还公开了具有通过在热或光能存在下，使单体进行固化聚合形成的电荷输送固化层作为表面层的电子照相感光构件；所述单体为具有碳-碳双键的粘结剂树脂单体以及具有电荷输送功能和具有碳-碳双键的单体。 日本专利申请特开2000-066424和2000-066425进一步公开了具有通过使化合物在电子射线能存在下进行固化聚合形成的电荷输送固化层作为表面层的电子照相感光构件；所述化合物为在同一分子内具有链可聚合性官能团的空穴输送化合物。
从而，近年来，作为改进有机电子照相感光构件外周表面耐刮擦性和耐磨耗性的技术，提出了形成电子照相感光构件表面层作为固化层，以改进所述表面层的机械强度的技术。
目前，电子照相感光构件通常用于具有上述充电步骤、曝光步骤、显影步骤、转印步骤和清洁步骤的电子照相图像形成方法中。在该电子照相图像形成方法中，为获得清晰图像，清洁步骤是重要的步骤，在该步骤中将转印步骤后残留在电子照相感光构件上的转印残余调色剂除去，以清洁电子照相感光构件的外周表面。使用清洁刮板的清洁法是一种通过使清洁刮板与电子照相感光构件相互摩擦来操作的清洁法。清洁刮板与电子照相感光构件间的部分摩擦力可导致例如清洁刮板震动和清洁刮板翘起的现象。这里，清洁刮板震动是作用于清洁刮板与电子照相感光构件外周表面间的摩擦阻力变大，使得清洁刮板振动的现象。清洁刮板翘起是清洁刮板沿电子照相感光构件表面移动方向反转的现象。
当电子照相感光构件表面层具有更高耐磨耗性，以使得电子照相感光构件的外周表面更加不易磨耗时，这些涉及清洁刮板和电子照相感光构件的问题表现出变得显著的趋势。另外，有机电子照相感光构件表面层通常通过浸涂形成，通过该浸涂形成的表面层的表面表现出更加平滑的趋势。因此，清洁刮板与电子照相感光构件外周表面以更大面积相互接触，清洁刮板与电子照相感光构件外周表面以更高阻力相互摩擦。从而，上述问题表现出变得明显的趋势。
作为克服这些涉及清洁刮板和电子照相感光构件的问题(清洁刮板震动和清洁刮板翘起)的方法之一，提出了适当粗糙化电子照相感光构件表面的方法。
作为粗糙化电子照相感光构件表面的方法，日本专利申请特开S53-092133公开了将电子照相感光构件表面粗糙度控制在特定范围内，以使得转印材料易于从电子照相感光构件表面分离的技术。日本专利申请特开S53-092133还公开了控制形成表面层时的干燥条件，以使得以橘子剥离状态粗糙化电子照相感光构件表面的方法。日本专利申请特开S52-026226公开了将颗粒引入表面层，以粗糙化电子照相感光构件表面的技术。日本专利申请特开S57-094772公开了将表面层表面用由金属制成的金属丝刷抛光，以粗糙化电子照相感光构件表面的技术。日本专利申请特开H01-099060公开了使用特定清洁方式和调色剂粗糙化有机电子照相感光构件表面的技术。根据该日本专利申请特开H01-099060，其描述了当用于具有特定较高处理速度的电子照相设备中时，可解决可成为问题的清洁刮板的翘起及其边缘碎裂的问题。
日本专利申请特开H02-139566公开了使用薄的研磨剂抛光表面层表面以粗糙化电子照相感光构件表面的技术。日本专利申请特开H02-150850公开了进行喷砂以粗糙化电子照相感光构件表面的技术。然而，这些都没有具体公开关于使用该方法粗糙化的电子照相感光构件表面的表面轮廓的细节。国际公开WO 2005/093518公开了进行上述喷砂以粗糙化电子照相感光构件外周表面的技术，并公开了具有规定凹坑轮廓的电子照相感光构件。其中描述了对于在高温和高湿环境中趋于发生的污损图像和调色剂的转印性能，已经获得了改进。日本专利申请特开2001-066814还公开了通过借助具有井状不平坦压模机压缩成形来处理电子照相感光构件表面的技术。
发明内容
然而，在上述日本专利申请特开S53-092133、日本专利申请特开S52-026226、日本专利申请特开S57-094772、日本专利申请特开H01-099060、日本专利申请特开H02-139566、日本专利申请特开H02-150850和国际公开WO2005/093518中公开的电子照相感光构件表面上，当在几μm区域范围内观察通过粗糙化处理的表面区域时，可以确定在微观区域没有实现任何均匀性。还不能说已经足够高度有效地使表面粗糙化(具有表面不平坦的轮廓)，以补救清洁刮板的震动和清洁刮板的翘起。认为这是为什么清洁刮板的震动和清洁刮板的翘起尚未充分解决的原因。从而，需要进一步改进。
上述日本专利申请特开2001-066814具有关于电子照相感光构件表面已微处理的公开，但没有关于如何补救清洁刮板震动和清洁刮板翘起的公开。
本发明的目的在于提供电子照相感光构件以及具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，所述电子照相感光设备即使在长期使用时，也具有改进清洁性能和良好图像再现性。
作为广泛研究的结果，本发明人已经发现，可将电子照相感光构件表面制成具有特定的凹陷部，从而有效补救上述问题，由此他们完成了本发明。
更具体地说，本发明的电子照相感光构件涉及具有支承体和在其上设置的感光层的电子照相感光构件，其中电子照相感光构件具有含多个相互独立的凹陷部的表面，其中各凹陷部的长轴径由Rpc表示，和显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示，各凹陷部各自具有深度与长轴径Rdv/Rpc之比大于1.0至7.0以下。
本发明还涉及具有上述电子照相感光构件和选自充电装置、显影装置和清洁装置的至少一种装置的处理盒；所述处理盒可拆卸地安装在电子照相设备的主体上。
本发明还涉及具有上述电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置的电子照相设备。
本发明的电子照相感光构件可提供即使在长期使用时也使清洁性能得到改进和还具有良好图像再现性的电子照相感光构件，以及具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
附图说明
图1A为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)；图1B为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)；图1C为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)；图1D为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)；图1E为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)；图1F为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)；图1G为显示本发明中凹陷部形状实例的图(俯视图)。
图2A为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图；图2B为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图；图2C为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图；图2D为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图；图2E为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图；图2F为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图；和图2G为显示本发明中凹陷部形状(横截面)实例的图。
图3为显示本发明中使用的掩模配置图案实例的图(局部放大图)。
图4为显示本发明中使用的激光表面处理单元实例的示意图。
图5为显示根据本发明获得的感光构件最外表面凹陷部配置图案的实例的图(局部放大图)。
图6为显示本发明中使用的利用模具的压接型轮廓转印表面处理单元实例的示意图。
图7为本发明中使用的利用模具的压接型轮廓转印表面处理单元另一实例的示意图。
图8A为显示本发明中使用的模具或轮廓提供材料的表面轮廓实例的图，其中图(1)显示了由顶部观察的模具表面轮廓，图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓；和图8B为显示本发明中使用的模具表面轮廓另一实例的图，其中图(1)显示了由顶部观察的模具表面轮廓，图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。
图9为显示Fischer Scope H100V(Fischer Co.制)输出图表概略的图。
图10为显示Fischer Scope H100V(Fischer Co.制)输出图表实例的图。
图11为显示设置有具有根据本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备构造实例的示意图。
图12为显示在实施例1中使用的模具的表面轮廓的图(局部放大图)。图12中的图(1)显示了由其顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。
图13为显示根据实施例1得到的感光构件最外表面凹陷部配置图案的图(局部放大图)。图13中图(1)显示了如何配置在感光构件表面上形成的凹陷部，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。
图14为显示实施例7中使用的模具表面轮廓的图(局部放大图)。图14中图(1)显示了由其顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。
图15为显示根据实施例7得到的感光构件最外表面凹陷部配置图案的图(局部放大图)。在图15中图(1)显示了如何配置在感光构件表面上形成的凹陷部，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。
图16为显示实施例8中使用的模具表面轮廓的图(局部放大图)。图16中图(1)显示了由其顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。
图17为显示根据实施例8得到的感光构件最外表面凹陷部配置图案的图(局部放大图)。图17中图(1)显示了如何配置在感光构件表面上形成的凹陷部，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。
图18为显示实施例21中使用的模具表面轮廓的图。图18中图(1)显示了由其顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。
图19为显示根据实施例21得到的感光构件最外表面凹陷部配置图案的图(局部放大图)。图19中图(1)显示了如何配置在感光构件表面上形成的凹陷部，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。
图20为显示实施例24中使用的掩模配置图案的图(局部放大图)。
图21为显示根据实施例24得到的感光构件最外表面凹陷部配置图案的图(局部放大图)。
图22为显示实施例26中使用的掩模配置图案的图(局部放大图)。
图23为显示根据实施例26得到的感光构件最外表面凹陷部配置图案的图(局部放大图)。
图24显示了在实施例27中生产的感光构件表面上，在激光电子显微镜中观察到的凹陷部的图。
具体实施方式
以下将更加详细地描述本发明。
如上所述，本发明的电子照相感光构件为具有支承体和在其上设置的感光层的电子照相感光构件，其中电子照相感光构件具有存在多个相互独立的凹陷部的表面，其中各凹陷部的长轴径由Rpc表示，显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示，凹陷部各自具有深度与长轴径之比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下。
本发明中相互独立的凹陷部是指与其它凹陷部独立地保持明显分离的凹陷部。在本发明的电子照相感光构件表面上形成的凹陷部可包括，例如在感光构件表面的观察中，具有各自由直线构成的形状的那些、具有各自由曲线构成的形状的那些和具有各自由直线和曲线构成的形状的那些。由直线构成的形状可包括例如三角形、四边形、五边形和六边形。由曲线构成的形状可包括例如圆形和椭圆形。由直线和曲线构成的形状可包括例如具有圆角的四边形、具有圆角的六边形和扇形。
在本发明中的电子照相感光构件表面上形成的凹陷部还可包括，例如在感光构件截面观察中，具有各自由直线构成的形状的那些、具有各自由曲线构成的形状的那些和具有各自由直线和曲线构成的形状的那些。由直线构成的形状可包括例如三角形、四边形和五边形。由曲线构成的形状可包括例如部分圆形和部分椭圆形。由直线和曲线构成的形状可包括例如具有圆角的四边形和扇形。
作为本发明中的电子照相感光构件表面凹陷部的具体实例，其可包括示于图1A-1G(在表面顶部平面图中凹陷部的形状实例)和图2A-2G(在截面视图中凹陷部的形状实例)中的凹陷部。本发明中的电子照相感光构件表面的凹陷部可独立地具有不同形状、尺寸和深度。其也可全部具有相同的形状、尺寸和深度。电子照相感光构件表面可进一步为具有独立地具有不同形状、尺寸和深度的凹陷部与具有相同形状、尺寸和深度的凹陷部的组合的表面。
本发明中的长轴径是指穿过每个凹陷部开口的直线中最长直线的长度。具体地说，如图1A-1G中长轴径Rpc和图2A-2G中长轴径Rpc所示，其是指在每个凹陷部中表面开口的最大长度，基于环绕电子照相感光构件中表面的凹陷部开口的表面。例如，当凹陷部具有圆形开口形状时，长轴径是指其直径。当凹陷部具有椭圆形开口形状时，长轴径是指其长径。当凹陷部具有四边形开口形状时，长轴径是指其对角线中较长的对角线。
本发明中的深度是指各凹陷部的最深处与其开口间的距离。具体地说，如图2A-2G中深度Rdv所示，其是指各凹陷部的最深处与其开口间的距离，基于环绕电子照相感光构件中表面的凹陷部开口的表面S。
本发明的电子照相感光构件为其表面具有上述凹陷部的电子照相感光构件，所述凹陷部为均具有深度(Rdv)与长轴径(Rpc)之比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部。这表明其为其表面具有深度大于长轴径的凹陷部的电子照相感光构件。
本发明中的凹陷部至少在电子照相感光构件的表面上形成。在感光构件表面上凹陷部的区域可为感光构件表面的全部区域，或可在部分表面形成。为实现良好的清洁性能，优选凹陷部在至少与清洁刮板相接触的表面部分形成。
本发明的电子照相感光构件的使用可良好地保持清洁性能，和防止产生各种图像缺陷。其原因尚未清楚了解。认为该效果是由于在其表面具有深度大于长轴径的凹陷部的电子照相感光构件产生了较低摩擦阻力的事实。具体地说，由于电子照相感光构件在其表面上具有不平坦轮廓，因此电子照相感光构件与清洁刮板间的摩擦阻力表现出随接触面积下降而下降的趋势。然而，由于清洁刮板本身为弹性构件，因此认为清洁刮板在一定程度上跟随电子照相感光构件的表面轮廓前进。从而，认为当其表面轮廓不适宜时，不能产生充分的效果。在本发明的电子照相感光构件中，电子照相感光构件在其表面上具有深度大于长轴径的凹陷部，并认为清洁刮板表现出避免跟随电子照相感光构件表面轮廓的趋势，这实现了电子照相感光构件与清洁刮板间明显的低摩擦阻力。结果，改进了清洁性能，不但在初期而且在长期使用中也保持了良好的清洁性能，因此如预期的，可防止各种图像缺陷的发生。
如上所述，本发明的电子照相感光构件具有非常小的电子照相感光构件与清洁刮板间的摩擦系数，认为这使得即使在它们之间不能充分保留显影剂时，也保持良好的清洁性能。进一步地，本发明的电子照相感光构件在其表面上具有深度均大于长轴径的凹陷部。这可使得显影剂组分如调色剂或外部添加剂保留在凹陷部中，并还认为这对于良好清洁性能作出了贡献。
尽管细节尚不清楚，但通常认为良好的清洁性能是由于残留在感光构件表面上而未从其转印的显影剂组分如调色剂或外部添加剂存在于清洁刮板与电子照相感光构件间的事实产生的状态。即，在背景技术中，认为清洁性能通过利用部分未被转印的残留显影剂表现。从而，依赖于未被转印的残留显影剂组分的增加或减少，有时可产生由残留显影剂组分导致的熔融粘附和摩擦阻力增大等的问题。
更具体地说，当未被转印的残留显影剂组分如调色剂或外部添加剂的量足够多时，已经表现出良好的清洁性能。然而，当例如大量打印具有低打印浓度的图案时，和当例如在串联型电子照相体系中连续进行单色打印时，清洁刮板与电子照相感光构件间的摩擦阻力趋于增大。结果，显影剂组分趋于熔融粘附在其上。认为这是由于存在于清洁刮板和电子照相感光构件间的显影剂组分如调色剂或外部添加剂的量极少的事实导致的。因此作为对策，本发明的电子照相感光构件具有在其表面上各自具有深度均大于长轴径的凹陷部。这可使得显影剂组分如调色剂或外部添加剂保留在凹陷部中，这还被认为对良好的清洁性能作出了贡献。从而，认为即使当大量打印具有低打印浓度的图案时，和当在串联型电子照相体系中连续进行单色打印时，清洁方面的任何困难都不易发生。
本发明的电子照相感光构件可优选在其表面上，以100μm见方的电子照相感光构件表面中数量为50以上至70,000以下，具有各自具有深度与长轴径之比Rdv/Rpc为大于1.0至7.0以下的凹陷部。使该特定凹陷部以单位面积大量存在获得了具有良好清洁性能的电子照相感光构件。可进一步优选在100μm见方的电子照相感光构件表面中为100至50,000的数量，具有各自具有深度与长轴径之比Rdv/Rpc均为大于1.0至7.0以下的凹陷部。还可在单位面积中具有除各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部之外的凹陷部或凹洞(hollow)。这里，对于100μm见方的区域，将电子照相感光构件表面沿感光构件的旋转方向等分为4个区域，然后沿落在与感光构件的旋转方向呈直角的方向等分为25个区域，从而获得总计100个区域，在每个这些区域中，提供每边100μm的正方形区域以进行测量。
在电子照相感光构件的表面上，i)通过测量100μm见方的区域中包含的所有凹陷部的深度并计算其平均值求得的平均深度(Rdv-A)，与ii)通过测量100μm见方的区域中包含的所有凹陷部的长轴径并计算其平均值求得的平均长轴径(Rpc-A)之比Rdv-A/Rpc-A可大于1.0至7.0以下。考虑到良好清洁性能，这是优选的。进一步地，平均深度(Rdv-A)与平均长轴径(Rpc-A)之比Rdv-A/Rpc-A可为1.3至5.0。基于良好清洁性能考虑，这是优选的。
在本发明的电子照相感光构件中的凹陷部的深度(Rdv)可为在深度与长轴径之比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的范围内的任意值，但可为大于3.0μm至10.0μm以下。考虑到良好清洁性能，这是优选的。深度(Rdv)可进一步优选3.5μm至8.0μm。
通过测量本发明的电子照相感光构件表面100μm见方的区域中包含的所有凹陷部的深度并计算其平均值求得的平均深度(Rdv-A)可为大于3.0μm至10.0μm以下。考虑到良好清洁性能，这是优选的。平均深度(Rdv-A)可进一步优选3.5μm至8.0μm。
本发明的电子照相感光构件中凹陷部的长轴径(Rpc)可优选为大于3.0μm至10.0μm以下。长轴径(Rpc)可进一步优选3.5μm至8.0μm。
通过测量本发明的电子照相感光构件表面的100μm见方的正方形区域中包含的所有凹陷部的长轴径并计算其平均值求得的平均长轴径(Rpc-A)可为0.1μm至10.0μm。考虑到良好清洁性能，这是优选的。平均长轴径(Rpc-A)可进一步优选0.5μm至8.0μm。
本发明的电子照相感光构件表面中各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部可任意配置。更详细地说，各自具有深度与长轴径Rdv/Rpc比大于1.0至7.0以下的凹陷部可无规律配置，或有规律配置。为改进清洁性能的表面均匀性，优选凹陷部有规律配置。
在本发明中，电子照相感光构件表面的凹陷部可在可商购可得的激光显微镜、光学显微镜、电子显微镜或原子力显微镜上观察。
作为激光显微镜，例如可使用以下设备。超深度轮廓测量显微镜VK-8550、超深度轮廓测量显微镜VK-9000和超深度轮廓测量显微镜VK-9500(均由Keyence Corporation制造)，轮廓测量系统SURFACE EXPLORER SX-520DR型仪器(Ryoka SystemInc.制造)，扫描共聚焦激光显微镜OLS3000(OlympusCorporation制造)，和真色共聚焦显微镜OPTELICSC130(Lasertec Corporation制造)。
作为光学显微镜，例如可使用以下设备。数字显微镜VHX-500和数字显微镜VHX-2000(均由Keyence Corporation制造)，和3D数字显微镜VC-7700(Omron Corporation制造)。
作为电子显微镜，例如可使用以下设备。3D真表面观察显微镜VE-9800和3D真表面观察显微镜VE-8800(均由KeyenceCorporation制造)、扫描电子显微镜常规/可变压力体系SEM(SIINano Technology Inc.制造)和扫描电子显微镜SUPER S CANSS-550(Shimadzu Corporation制造)。
作为所述原子力显微镜，例如可使用以下设备。纳米尺度混合显微镜VN-8000(Keyence Corporation制造)、扫描探针显微镜NanoNavi Station(SII Nano Technology Inc.制造)和扫描探针显微镜SPM-9600(Shimadzu Corporation制造)。
使用上述显微镜，可以在规定的放大率下观察测量视野中凹陷部的长轴径和深度以测量这些。进一步地，可通过计算求得每单位面积凹陷部开口的面积比。
作为实例描述利用分析程序，采用Surface ExplorerSX-520DR型仪器的测量。将测量对象电子照相感光构件放置在工作台上。调节斜面以使工作台水平，在波模式分析器内输入电子照相感光构件外周表面的三维轮廓数据。这里，可将物镜设置在50倍放大率在100μm×100μm(10,000μm2)视野内观察。通过该方法，将测量对象感光构件表面沿感光构件旋转方向等分为4个区域，然后将其沿落在与感光构件旋转方向呈直角的方向等分为2 5个区域，从而获得总计100个区域，在每个这些区域中，均提供每边100μm的正方形区域以进行测量。
接着，电子照相感光构件表面的等高线数据通过使用设置在数据分析软件中的颗粒分析程序显示。
凹陷部的孔分析参数，如凹陷部的轮廓、长轴径、深度和开口面积均可根据形成的凹陷部优化。例如，当观察并测量约10μm长轴径的凹陷部时，可将长轴径的上限设定在15μm，长轴径的下限设定在1μm，深度下限设定在0.1μm和体积下限设定在1μm3以上。然后，计算分析照片上作为凹陷部可分辨的凹陷部的数量，并将得到的值作为凹陷部的数量。
在与上述相同的视野和分析条件下，凹陷部的总开口面积可从通过使用上述颗粒分析程序求得的各凹陷部的开口面积的总和计算，凹陷部开口面积百分率(以下，该开口面积百分率简称为面积百分数)可根据以下表达式计算。
[(凹陷部总开口面积)/(凹陷部总开口面积+非凹陷部总面积)]×100(％)。
另外，对于约1μm长轴径的凹陷部，这些可使用激光显微镜和光学显微镜测量。然而，当需要更加改进的测量精度时，期望组合使用电子显微镜观察和测量。
以下描述如何处理根据本发明的电子照相感光构件的表面。
作为形成表面轮廓的方法，没有特别限制，只要其为能够满足涉及凹陷部上述要求的方法即可。为给出如何处理电子照相感光构件表面的实例，可行的是通过使用具有100ns(纳秒)以下脉冲宽度输出特征的激光照射来处理电子照相感光构件表面的方法，通过使具有规定表面轮廓的模具与电子照相感光构件表面压接以实现表面轮廓转印的处理表面的方法，和通过当形成其表面层时在电子照相感光构件表面上发生冷凝的处理表面的方法。
首先描述通过使用具有100ns(纳秒)以下脉冲宽度输出特征的激光照射来处理电子照相感光构件表面的方法。作为在该方法中使用的激光器的实例，其可包括利用气体如ArF、KrF、XeF或XeCl作为激光介质的准分子激光器，和利用钛蓝宝石作为激光介质的飞秒激光器。进一步地，在上述激光照射中激光优选具有1,000nm以下的波长。
所述准分子激光器为通过以下步骤发光的激光器。首先，稀有气体如Ar、Kr或Xe与卤素气体如F或Cl的混合气体通过放电、电子束或X射线提供有高能量，以激发或结合上述元素。此后，在准分子激光器发出光期间，能量降至基态以引起解离。在所述准分子激光器中使用的气体可包括ArF、KrF、XeCl和XeF，可使用其中的任意一种。特别地，优选KrF或XeF。
作为形成所述凹陷部的方法，使用掩模，在该掩模中，激光遮蔽区域a和激光透过区域b如图3所示适当配置。仅将已经透过所述掩模的激光光用透镜汇聚，并将电子照相感光构件表面使用该光照射。这样能够形成具有期望形状和配置的凹陷部。在上述通过激光照射处理电子照相感光构件表面的方法中，表面处理可迅速同时地进行，以在特定区域形成大量凹陷部，而无需考虑凹陷部的形状和面积。因此，处理表面步骤可在短时间内进行。通过采用此掩模的激光照射，每进行一次照射，将电子照相感光构件表面在从几mm2至几cm2的其区域内处理。在该激光处理中，首先，如图4所示，将电子照相感光构件f通过工作旋转马达d旋转。通过其旋转，准分子激光照射器c的激光照射位置沿电子照相感光构件f的轴向移动。这使得凹陷部以良好效率在电子照相感光构件表面的宽范围内形成。
上述通过激光照射来处理电子照相感光构件表面的方法可生产其表面层具有大量相互独立的凹陷部的电子照相感光构件，其中各凹陷部的长轴径由Rpc表示，显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示，凹陷部各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc为大于1.0至7.0以下。所述凹陷部可各自具有在上述范围内的任意深度。在当电子照相感光构件表面通过激光照射处理的情况下，凹陷部的深度可通过调节生产条件如激光照射的时间和次数来控制。基于制造精度或生产率的观点，在当电子照相感光构件表面通过激光照射处理的情况下，通过进行一次照射形成的凹陷部可期望地为深度0.1μm至2.0μm，优选0.3μm至1.2μm。采用通过激光照射来处理电子照相感光构件表面的方法能够以对于凹陷部的尺寸、形状和配置的高可控性、高精度和高自由度地实现电子照相感光构件的表面处理。
在通过激光照射来处理电子照相感光构件表面的方法中，所述表面处理方法可通过采用相同掩模图案应用于多个表面部分或全部感光构件表面。这种处理方式能够在全部感光构件表面形成高均匀性的凹陷部。结果， 当用于电子照相设备中时施加于清洁刮板上的机械负荷可以是均匀的。此外，如图5所示，所述掩模图案可如此形成以使得凹陷部h和非凹陷部g均存在于感光构件表面中任意周向的线(由箭头表示)上。这更加能够防止机械负荷局部施加于清洁刮板上。
以下描述通过使具有规定表面轮廓的模具与电子照相感光构件表面压接以实现表面轮廓转印的处理表面的方法。
图6为显示利用本发明中使用的模具的压接型轮廓转印表面处理单元实例的示意图。将所述模具B固定在可重复进行加压和卸压的加压单元A上，然后使其在规定压力下与电子照相感光构件C接触以实现表面轮廓的转印。此后，首先卸压以使得电子照相感光构件C旋转，然后再次加压以进行转印表面轮廓的步骤。重复该步骤，使得在电子照相感光构件的全部外周表面上能够形成规定的凹陷部。
相反，例如如图7所示，可将具有长度约与电子照相感光构件C表面一个圆周相对应的所述表面轮廓的模具B固定在加压单元A上，然后使其与电子照相感光构件在规定压力下，在使电子照相感光构件旋转(沿箭头所示方向)并移动(沿另一箭头所示方向)的期间接触，以在电子照相感光构件全部外周表面上形成规定的凹陷部。
作为另一方法，可将薄片状模具保持在辊状加压单元与电子照相感光构件之间，以处理后者的表面，同时供给所述模具薄片。
为了有效地进行表面轮廓转印，可将模具和电子照相感光构件加热。可将模具和电子照相感光构件在任意温度下加热，只要能形成本发明的表面轮廓即可。优选将其加热至使得在表面轮廓转印时模具的温度可高于电子照相感光构件支承体上感光层的玻璃化转变温度(℃)。进一步地，除加热所述模具外，可将在表面轮廓转印时支承体的温度(℃)保持控制为低于感光层的玻璃化转变温度(℃)。为稳定形成转印至电子照相感光构件表面上的凹陷部，这是优选的。
当本发明的电子照相感光构件为具有电荷输送层的感光构件时，优选将所述模具加热，以使得在表面轮廓转印时模具的温度高于支承体上电荷输送层的玻璃化转变温度(℃)。进一步地，除加热所述模具外，可将表面轮廓转印时支承体的温度控制为低于电荷输送层的玻璃化转变温度(℃)。为稳定形成转印至电子照相感光构件表面上的凹陷部，这是优选的。
模具本身的材料、尺寸和表面轮廓可适当选择。所述材料可包括精细表面处理的金属和表面使用抗蚀剂图案化的硅晶片，微粒分散的树脂膜或已经使用金属涂布的具有规定精细表面轮廓的树脂膜。所述模具的表面轮廓的实例示于图8A和8B中。在图8A中，图(1)显示了由顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。同样在图8B中，图(1)显示了由顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。
为了将压力均匀性提供给电子照相感光构件，还可在模具与加压单元间设置弹性构件。
通过使具有规定表面轮廓的模具与电子照相感光构件压接以实现表面轮廓转印的上述处理表面方法，可生产在其表面层具有多个相互独立的凹陷部的电子照相感光构件，其中各凹陷部的长轴径由Rpc表示，显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示，所述凹陷部各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc为大于1.0至7.0以下。所述凹陷部可具有在上述范围内的任意深度。在当使具有所述表面轮廓的模具与电子照相感光构件表面压接以进行图像轮廓转印时的情况下，所述凹陷部可期望地为深度0.1μm至10μm。采用通过使具有所述表面轮廓的模具与电子照相感光构件表面压接以进行表面轮廓转印的表面处理方法，能够以对于凹陷部的尺寸、形状和配置的高可控性、高精确性和高自由度地进行电子照相感光构件的表面处理。
下面描述当其表面层形成时，通过在电子照相感光构件表面上发生冷凝来处理表面的方法。当其表面层形成时，通过在电子照相感光构件表面上发生冷凝来处理表面的方法为如下的方法：其中制备含粘结剂树脂和含特定芳香族有机溶剂的表面层涂布液，所述芳香族有机溶剂的含量基于表面层涂布液中溶剂的总质量为50质量％至80质量％，在其表面上已经形成相互独立的凹陷部的表面层通过以下步骤生产：使用所述涂布液涂布基体构件(作为在其上形成表面层的基体的构件)的涂布步骤，然后保持涂布有涂布液的基体构件并在涂布有涂布液的基体构件表面上导致冷凝发生的冷凝步骤，和此后干燥在其表面上已经发生冷凝的基体构件的干燥步骤。
上述粘结剂树脂可包括例如丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚苯醚树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂和不饱和树脂。特别地，优选聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂和邻苯二甲酸二烯丙酯树脂。进一步优选聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂。可单独或以两种或多种类型的混合物或共聚物形式使用任意这些树脂。
上述特定芳香族有机溶剂为对水具有低亲合性的溶剂。其可具体包括1，2-二甲基苯、1，3-二甲基苯、1，4-二甲基苯、1，3，5-三甲基苯和氯苯。
上述表面层涂布液包含所述芳香族有机溶剂是重要的。为了稳定形成所述凹陷部，该表面层涂布液可进一步包含对水具有高亲合性的有机溶剂或水。作为对水具有高亲合性的有机溶剂，其可优选(甲基磺酰基)甲烷(俗名：二甲基亚砜)、噻吩-1，1-二酮(thiolan-1，1-dione)(俗名：环丁砜)、N，N-二甲基羧酰胺、N，N-二乙基羧酰胺、二甲基乙酰胺或1-甲基吡咯烷-2-酮。可单独包含或以两种或多种的混合物形式包含任意这些有机溶剂。
导致在所述基体构件表面上发生冷凝的上述冷凝步骤，表现为将所述使用表面层涂布液涂布的基体构件在该基体构件表面上发生冷凝的气氛中保持一定时间的步骤。在该表面处理法中的冷凝表明：液滴已经通过水的作用在使用表面层涂布液涂布的基体构件上形成。在基体构件表面上发生冷凝的条件受保持所述基体构件气氛的相对湿度和所述涂布液的溶剂的蒸发条件(如汽化热)影响。然而，该表面层涂布液基于表面层涂布液中溶剂的总质量，包含50质量％以上的所述芳香族有机溶剂。因此，在基体构件表面发生冷凝的条件较少受到涂布液的溶剂的蒸发条件的影响，并主要取决于保持基体构件气氛的相对湿度。在基体构件表面上发生冷凝的相对湿度可为40％至100％。该相对湿度可进一步优选60％至95％。可给予该基体构件保持步骤以通过冷凝形成液滴所需的时间。基于生产率的观点，该时间可优选为1秒至300秒，并可进一步优选约10秒至180秒。相对湿度对于基体构件保持步骤是重要的，此气氛可优选具有20℃至80℃的温度。
通过干燥已经进行冷凝的基体构件的上述干燥步骤，通过所述基体构件保持步骤在表面上产生的液滴可形成为感光构件表面的凹陷部。为形成具有高度均匀性的凹陷部，对于所述干燥，快速干燥是重要的，因此优选进行加热干燥。在该干燥步骤中，干燥温度可优选为100℃至150℃。作为干燥已经进行冷凝的基体构件的干燥步骤的时间，可给予能够除去施涂在基体构件上的涂布液中的溶剂和通过冷凝步骤形成的液滴的时间。干燥步骤的时间可优选20分钟至120分钟，并可进一步优选40分钟至100分钟。
通过上述当形成其表面层时，在电子照相感光构件表面发生冷凝的处理表面的方法，在电子照相感光构件表面上形成了相互独立的凹陷部。当形成其表面层时，在电子照相感光构件表面上采用冷凝处理表面的方法为以下方法：将要通过水的作用形成的液滴使用对水具有低亲合性的溶剂和粘结剂树脂形成，以进行冷凝从而形成凹陷部。通过该生产方法产生的在电子照相感光构件表面上形成的凹陷部通过水的粘合力形成，从而其可独立地具有高度均匀性的凹陷部形状。
此生产方法为进行除去液滴的步骤，或由液滴已经充分生长的状态除去液滴的步骤的生产方法。因此，电子照相感光构件表面的凹陷部为以液滴形状或蜂窝形状(六边形)形成的凹陷部。液滴形状的凹陷部是指在感光构件表面观察中看起来例如圆形或椭圆形的凹陷部，和在感光构件横截面观察中看起来例如部分圆形或部分椭圆形的凹陷部。蜂窝状(六边形)凹陷部为例如作为在电子照相感光构件表面上液滴最紧密堆积的结果形成的凹陷部。具体地说，其是指在感光构件表面观察中，看起来为圆形、六边形或具有圆角的六边形的凹陷部，和在感光构件横截面观察中看起来例如为部分圆形或正方柱状的凹陷部。
通过当形成其表面层时，在电子照相感光构件表面上冷凝来处理表面的方法可生产表面具有大量相互独立的凹陷部的电子照相感光构件，当各凹陷部的长轴径由Rpc表示，和显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示时，各凹陷部均具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下。所述凹陷部可分别具有在上述范围内的任意深度。生产条件可优选设为使得各个凹陷部可具有0.5μm至10μm，更优选大于3.0μm至10.0μm以下，更加优选3.5μm至8.0μm的深度。
上述凹陷部可通过在上述生产方法中所示的范围内调节生产条件来控制。凹陷部通过选择例如本发明中规定的表面层涂布液中溶剂的类型、溶剂的含量、冷凝步骤中的相对湿度、冷凝步骤中的保持时间和干燥温度来控制。
以下描述根据本发明的电子照相感光构件的构造。
如前所述，本发明的电子照相感光构件具有支承体和在该支承体上设置的有机感光层(以下也简称为“感光层”)。根据本发明的电子照相感光构件通常可为广泛使用的圆筒状有机电子照相感光构件，其中所述感光层在圆筒状支承体上形成，并还可为具有带或薄片状的构件。
所述感光层可为在同一层中包含电荷输送材料和电荷产生材料的单层型感光层，或为分离成包含电荷产生材料的电荷产生层和包含电荷输送材料的电荷输送层的多层型(功能分离型)感光层。基于电子照相性能的观点，根据本发明的电子照相感光构件可优选为具有多层型感光层的构件。所述多层型感光层还可为规则层型感光层和反转层型感光层，在所述规则层型感光层中，电荷产生层和电荷输送层由支承体侧以此顺序叠置，在所述反转层型感光层中，电荷输送层和电荷产生层由支承体侧以此顺序叠置。在根据本发明的电子照相感光构件中，当采用多层型感光层时，基于电子照相性能的观点，可优选规则层型感光层。电荷产生层可以多层结构形成，电荷输送层也可以多层结构形成。为了例如改进运行性能的目的，可进一步在感光层上提供保护层。
作为所述支承体，优选具有导电性的支承体(导电性支承体)。例如，可使用由金属如铝、铝合金或不锈钢制成的支承体。在铝或铝合金的情况下，可使用ED管、EI管和通过切割这些管、电解复合抛光(电解采用i)具有电解作用的电极和ii)电解液进行，和抛光采用具有抛光作用的磨石进行)或湿法或干法珩磨得到的那些。还可使用由金属制成的支承体，或由树脂(如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、酚醛树脂、聚丙烯或聚苯乙烯树脂)制成，并具有通过真空沉积铝、铝合金或氧化铟-氧化锡合金成膜的层的支承体。还可使用用导电性颗粒如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒或银颗粒浸渍的树脂或纸形成的支承体，和由含导电性粘结剂树脂的塑料制成的支承体。
为了防止由激光光的散射等引起的干涉条纹的目的，可将支承体表面进行切割、表面粗糙化或铝阳极化处理。
当支承体表面是为了给予导电性而设置的层时，该层可优选具有体积电阻率为1×1010Ω·cm以下，特别地更优选1×106Ω·cm以下。
为防止由激光光等的散射导致的干涉条纹或为覆盖支承体表面刮擦的导电层可设置在支承体与后述中间层或感光层(电荷产生层或电荷输送层)之间。其为通过使用在适宜粘结剂树脂中分散导电性粉末制备的涂布液涂布所述支承体而形成的层。
所述导电性粉末可包括如下：炭黑、乙炔黑、金属粉如铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌和银，以及金属氧化物粉末如导电性氧化锡和ITO。
同时使用的粘结剂树脂可包括以下热塑性树脂、热固性树脂或可光致固化树脂：聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚酯、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚偏二氯乙烯、聚芳酯树脂、苯氧基树脂、聚碳酸酯、纤维素乙酸酯树脂、乙基纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯基甲苯、聚-N-乙烯基咔唑、丙烯酸树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。
所述导电层可通过涂布由在醚类溶剂如四氢呋喃或乙二醇二甲醚、醇类溶剂如甲醇、酮类溶剂如甲乙酮或芳香烃溶剂如甲苯中分散或溶解上述导电性粉末和粘结剂制备的涂布液形成。所述导电层可优选具有0.2μm至40μm，更优选1μm至35μm，和还更优选5μm至3 0μm的平均层厚度。
具有在其中分散的导电性颜料或电阻控制颜料的导电层表现出其表面粗糙化的趋势。
还可在支承体或导电层和感光层(电荷产生层或电荷输送层)之间设置具有作为阻挡层功能和粘结功能的中间层。为了例如改进感光层的粘附、改进涂布性能、改进由支承体的电荷注入和防止感光层受到电气损坏的目的形成中间层。
所述中间层可通过涂布可固化树脂，然后固化该树脂以形成树脂层而形成；或通过在导电层上涂布含粘结剂树脂的中间层涂布液，并干燥形成的湿涂层而形成。
用于中间层的粘结剂树脂可包括以下：水溶性树脂如聚乙烯醇、聚乙烯基甲醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸和干酪素；和聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺酸树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂和聚谷氨酸盐树脂。为有效产生电阻挡层性质，还基于涂布性、粘附性、耐溶剂性和电阻的观点，用于中间层的粘结剂树脂可优选为热塑性树脂。具体地说，优选热塑性聚酰胺树脂。作为所述聚酰胺树脂，由于能够以溶液状态涂布，因此优选低结晶或非结晶共聚物尼龙。中间层可优选具有0.05μm至7μm，更优选0.1μm至2μm的平均层厚度。
在中间层中，可分散半导体颗粒，或可将电子输送材料(电子接受材料如受体)混入，以使得在中间层中电荷(载流子)流动不会停滞。
以下描述本发明的感光层。
在本发明的电子照相感光构件中使用的电荷产生材料可包括如下：偶氮颜料如单偶氮、重氮和三偶氮，酞菁颜料如金属酞菁和无金属酞菁，靛蓝颜料如靛蓝和硫靛蓝，苝颜料如苝酸酐和苝酸酰亚胺，多环醌颜料如蒽醌和芘醌，角鲨鎓(squarilium)染料，吡喃鎓盐和噻喃鎓盐，三苯甲烷染料，无机材料如硒、硒-碲和无定形硅，喹吖啶酮颜料、薁鎓盐颜料，花青染料，呫吨染料、醌亚胺染料和苯乙烯基染料。其中，由于具有高灵敏性，特别优选金属酞菁颜料，如酞菁氧钛、羟基镓酞菁和氯化镓酞菁。
在当感光层为多层型感光层时的情况下，为形成电荷产生层使用的粘结剂树脂可包括如下：聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、缩丁醛树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、硅酮树脂、聚砜树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂、醇酸树脂、环氧树脂、脲树脂和氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂。特别地，优选缩丁醛树脂。可单独或以两种或多种混合物或共聚物的形式使用任意这些。
电荷产生层可通过涂布由在粘结剂树脂和溶剂中分散电荷产生材料得到的电荷产生层涂布液，并干燥形成的湿涂层而形成。电荷产生层还可为电荷产生材料的真空沉积膜。作为分散的方法，利用均化器、超声波、球磨机、砂磨机、超微磨碎机或辊磨机的方法是可行的。电荷产生材料和粘结剂树脂可优选在10∶1至1∶10(质量比)，特别地更优选3∶1至1∶1(质量比)的比例范围内。
用于电荷产生层涂布液的溶剂可考虑要使用的粘结剂树脂和电荷产生材料的溶解性或分散稳定性选择。作为有机溶剂，其可包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳香烃溶剂。
电荷产生层可优选具有5μm以下，特别地更优选0.1μm至2μm的平均层厚度。
还可将各种类型的感光剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂和/或增塑剂任选地添加至该电荷产生层中。还可将电子输送材料(电子接受材料如受体)混入电荷产生层中，以使得在电荷产生层中电荷(载流子)流动不会停滞。
在本发明的电子照相感光构件中使用的电荷输送材料可包括例如三芳基胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物。可仅使用这些电荷输送材料中的任意一种，或可使用两种或多种。
电荷输送层可通过涂布由在溶剂中溶解电荷输送材料和粘结剂树脂制备的电荷输送层涂布液，并干燥形成的湿涂层而形成。此外，上述电荷输送材料中，单独具有成膜性的材料可不使用任何粘结剂树脂单独成膜以提供电荷输送层。
在当所述感光层为多层型感光层时的情况下，用于形成电荷输送层的粘结剂树脂可包括如下：丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚苯醚树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂和不饱和树脂。特别地，优选聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂和邻苯二甲酸二烯丙酯树脂。可单独或以两种或多种混合物或共聚物的形式使用任意这些。
电荷输送层可通过涂布由在溶剂中溶解电荷输送材料和粘结剂树脂得到的电荷输送层涂布液，并干燥形成的湿涂层而形成。电荷输送材料和粘结剂树脂可优选为2∶1至1∶2(质量比)的比例。
在电荷输送层涂布液中使用的溶剂可包括如下：酮类溶剂如丙酮和甲乙酮，酯类溶剂如乙酸甲酯和乙酸乙酯，醚类溶剂如四氢呋喃、二噁烷、二甲氧基甲烷和二甲氧基乙烷，芳香烃溶剂如甲苯、二甲苯和氯苯。可单独使用或以两种或多种混合物的形式使用任意这些溶剂。在这些溶剂中，基于树脂溶解性的观点，优选使用醚类溶剂或芳香烃溶剂。
电荷输送层可优选具有5μm至50μm，特别地更优选10μm至35μm的平均层厚度。
还可任选地向该电荷输送层中添加例如抗氧化剂、紫外线吸收剂和/或增塑剂。
为改进作为本发明的电子照相感光构件中需要的性质之一的运行性能，在上述功能分离型感光层的情况下，作为表面层的电荷输送层的材料设计是重要的。例如可行的是使用具有高强度的粘结剂树脂的方法，使得表现出塑性的电荷输送材料与粘结剂树脂的比例适宜的方法，和使用高分子量电荷输送材料的方法。为更加获得运行性能，对于表面层由固化型树脂组成是有效的。
作为表面层由此固化型树脂组成的方法，例如电荷输送层可由固化型树脂组成，或在电荷输送层上，固化型树脂可作为第二电荷输送层或保护层形成。在固化型树脂层中需要的性质为膜强度和电荷输送能力，该层通常由电荷输送材料和可聚合或可交联单体或低聚物组成。必要时，还可使用控制电阻的导电微粒以提供电荷输送能力。
作为表面层由固化型树脂组成的方法，可使用任何已知的空穴-输送化合物或电子输送化合物作为电荷输送材料。合成这些化合物的材料可包括具有丙烯酰氧基或苯乙烯基的链聚合型材料。还可包括具有羟基、烷氧基甲硅烷基或异氰酸酯基的连续聚合型材料。基于电子照相感光构件的电子照相性能、通用性、材料设计和生产稳定性的观点，优选组合使用空穴输送化合物和链聚合型材料，其中所述电子照相感光构件的表面层由固化型树脂组成。进一步地，特别优选电子照相感光构件为由具有通过固化在分子中具有空穴输送化合物和丙烯酰氧基的化合物形成的表面层组成的构件。
作为固化方式，可使用利用热、光或照射的任意已知方式。
在电荷输送层情况下，此固化层可优选具有5μm至50μm，更优选10μm至35μm的平均层厚度。在第二电荷输送层或保护层的情况下，其可优选具有0.1μm至20μm，还更优选1μm至10μm的平均层厚度。
可向本发明的电子照相感光构件的各层中添加各种添加剂。这类添加剂可包括抗劣化剂如抗氧化剂、紫外线吸收剂和光稳定剂，以及有机微粒或无机微粒。所述抗劣化剂可包括位阻酚型抗氧化剂、位阻胺型光稳定剂、含硫原子的抗氧化剂和含磷原子的抗氧化剂。所述有机微粒可包括高聚物树脂颗粒如含氟原子的树脂颗粒、聚苯乙烯微粒和聚乙烯树脂颗粒。所述无机微粒可包括金属氧化物颗粒如二氧化硅颗粒和氧化铝颗粒。
如上所述，本发明的电子照相感光构件在该电子照相感光构件表面上具有特定的凹陷部。本发明的凹陷部当将其应用于表面不易被磨耗的感光构件时有效地起作用。
本发明的电子照相感光构件表面层可优选具有40％至70％，更优选45％至65％，还更优选50％至60％的弹性变形模量。本发明的电子照相感光构件表面还可优选具有140N/mm2至240N/mm2，更优选150N/mm2至220N/mm2的广义硬度值(HU)。
在本发明中，广义硬度值(HU)和弹性变形模量为在25℃气温和50％相对湿度的环境中采用微硬度测量仪FISCHERSCOPE H100V(Fischer Co.制造)测量的值。所述FISCHERSCOPE H100V为一种使压头与测量对象(电子照相感光构件的外周表面)接触，并将负荷连续地施加在该压头上，其中直接读取在施加负荷下压痕的深度以连续求得硬度。在本发明中，使用相对面之间具有136度角的Vickers金字塔状金刚石压头作为所述压头。将所述压头压向电子照相感光构件的外周表面以进行测量。
持续施加于该压头的最后负荷(最终负荷)：6mN。
保持施加6mN最终负荷于该压头的状态的时间(保持时间)：0.1秒。
在273个点处进行测量。
图9为显示Ficher Scope H100V(Fischer Co.制造)输出图表的概略图。图10为显示Ficher Scope H100V(Fischer Co.制造)输出图表实例的图，其中根据本发明的电子照相感光构件为测量对象。在图9和10中，将施加于压头的负荷F(mN)作为纵坐标，并将压头的压痕深度h(μm)作为横坐标来绘制。图9显示了当施加于压头的负荷F逐步增加直至该负荷达到最大(从A至B)，此后使该负荷逐步降低(从B至C)时得到的结果。图10显示了当施加于压头的负荷逐步增加直至该负荷最终达到6mN，并此后使该负荷逐步降低时得到的结果。
所述广义硬度值(HU)可由将6mN最终负荷施加于所述压头时的压痕深度，并根据以下表达式求得。在以下表达式中，HU代表广义硬度，Ff代表最终负荷(单位N)，Sf代表其中使压头在施加最终负荷下压印的部分的表面积(mm2)，和hf代表施加最终负荷时压头的压痕深度(mm)。
HU＝Ff[N]/Sf[mm2]＝6×10-3/26.43×(hf×10-3)2
弹性变形模量由压头面对测量对象(电子照相感光构件的外周表面)的作功(能量)，即由于压头对测量对象(电子照相感光构件的外周表面)的负荷增加或减少导致的能量变化求得。具体地说，当将弹性变形的作功We除以总作功Wt(We/Wt)时求得的值为弹性变形模量。所述总作功Wt为图9中由A-B-D-A包围的区域面积，和弹性变形作功We为图9中由C-B-D-C包围的区域面积。
当涂布上述各层时，可使用任意涂布方法，例如浸涂、喷涂、旋涂、辊涂、迈耶(Meyer)棒涂、刮涂或环涂。
以下描述根据本发明的处理盒和电子照相设备。图11为显示设置有具有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备构造实例的示意图。
在图11中，附图标记1表示圆筒状电子照相感光构件，其围绕轴2沿箭头方向以给定的圆周速度被旋转驱动。
将被旋转驱动的电子照相感光构件1的表面通过充电装置(一次充电装置如充电辊)3均匀地静电充电至正或负的给定电势。然后将如此带电的电子照相感光构件暴露于由用于狭缝曝光、激光束扫描曝光等的曝光装置(未显示)发射的曝光光(成影像的曝光光)4下。以此方式，在电子照相感光构件1的外周表面上连续形成对应于预期图像的静电潜像。
将在电子照相感光构件1表面上如此形成的静电潜像使用显影装置5具有的包含在显影剂中的调色剂显影，以形成调色图像。然后，将如此形成并保持在电子照相感光构件1表面上的调色图像通过由转印装置(如转印辊)6施加转印偏压来连续转印到转印材料(如纸)P上，该转印材料以与电子照相感光构件1同步旋转的方式，从转印材料进给装置(未示出)进给至电子照相感光构件1与转印装置6之间的部分(接触区)。
将已经转印调色剂图像的转印材料P从电子照相感光构件1外周表面分离，并导入定影装置8中，在其中定影所述调色剂图像，然后将其作为成像材料(打印件或复印件)由所述设备中输出。
将从其上已经转印调色剂图像的电子照相感光构件1的外周表面通过清洁装置(如清洁刮板)7，除去转印后残留的显影剂(调色剂)。从而，清洁其表面。使电子照相感光构件1的表面通过由预曝光装置(未示出)发射的预曝光光(未示出)进一步进行电荷清除，此后重复用于图像形成。另外，当如图11所示充电装置3为采用例如充电辊的接触充电装置时，不必需要预曝光。
所述设备可由来自组件如上述电子照相感光构件1、充电装置3、显影装置5和清洁装置7的多个组件的组合作为处理盒一体化集成在容器中而构成。该处理盒还可设置为可拆卸地安装在电子照相设备如复印机或激光束打印机的主体上。在图11所示的设备中，将电子照相感光构件1和充电装置3、显影装置5和清洁装置7一体化地支承以形成盒来构成处理盒9，所述处理盒9通过导向装置10如设置于电子照相设备主体的轨道可拆卸地安装于电子照相设备的主体上。
实施例
以下通过给出具体实施例更加详细地描述本发明。在以下实施例中“份”表示“重量份”。
实施例1
将已进行表面切割加工的直径30mm和长度357.5mm的铝圆筒用作支承体(圆筒形支承体)。
接着，将由以下组分组成的混合物通过球磨机进行分散约20小时，以制备导电层涂布液。
由具有氧化锡涂层的硫酸钡颗粒组成的粉末 60份
(商品名：PAS TRAN PC1；购自Mitsui Mining & SmeltingCo.，Ltd.)
氧化钛 15份
(商品名：TITANIX JR；购自Tayca Corporation)
甲阶酚醛树脂 43份
(商品名：PHENOLITE J-325；购自Dainippon Ink & Chemicals，Incorporated；固含量：70％)
硅油 0.015份
(商品名：SH28PA；购自Toray Silicone Co.，Ltd.)
硅酮树脂 3.6份
(商品名：TOSPEARL 120；购自Toshiba Silicone Co.，Ltd.)
2-甲氧基-1-丙醇 50份
甲醇 50份
将如此制备的导电层涂布液通过浸涂施涂在上述支承体上，然后在加热至140℃的烘箱中热固化1小时，以在距所述支承体上端170mm位置处形成平均层厚度15μm的导电层。
接着，将通过在400份甲醇和200份正丁醇的混合溶剂中溶解以下组分制备的中间层涂布液通过浸涂施涂在导电层上，然后在加热至100℃的烘箱中热干燥30分钟，以在距支承体上端170mm位置处形成平均层厚度0.45μm的中间层。
共聚物尼龙树脂 10份
(商品名：AMILAN CM8000；购自Toray Industries，Inc.)
甲氧基甲基化的尼龙6树脂 30份
(商品名：TORESIN EF-30T；购自Teikoku Chemical Industry Co.，Ltd.)
接着，使以下组份通过借助直径1mm的玻璃珠的砂磨机进行分散4小时，然后添加700份乙酸乙酯以制备电荷产生层涂布液。
羟基镓酞菁 20份
(在CuKα特征X-射线衍射中在7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°的2θ±0.2°布拉格角处具有强峰的物质)由以下结构式(1)表示的杯芳烃(carixarene)化合物0.2份
聚乙烯醇缩丁醛 10份
(商品名：S-LEC BX-1；购自Sekisui Chemical Co.，Ltd.)
环己酮 600份
将上述电荷产生层涂布液通过浸涂施涂在中间层上，然后在加热至80℃的烘箱中加热干燥15分钟，以在距所述支承体上端170mm位置处形成平均层厚度0.17μm的电荷产生层。
接着，将以下组分溶解在600份氯苯和200份甲缩醛的混合溶剂中，以制备电荷输送层涂布液。将该第一电荷输送层涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，然后通过在加热至100℃的烘箱中热干燥30分钟，在距支承体上端170mm位置处形成平均层厚度15μm的电荷输送层。
由以下结构式(2)表示的电荷输送材料(空穴输送材料) 70份
聚碳酸酯 100份
(商品名：IUPILON Z400；购自Mitsubishi Engineering-PlasticsCorporation)
接着，将以下组分溶解在20份1，1，2，2，3，3，4-七氟环戊烷(商品名：ZEOROLA H，购自Nippon Zeon Co.，Ltd.)和20份1-丙醇的混合溶剂中。
含氟原子的树脂 0.5份
(商品名：GF-300，购自Toagosei Chemical Industry Co.，Ltd.)
向溶解了上述含氟原子树脂的溶液中，添加10份四氟乙烯树脂粉末(商品名：LUBRON L-2，购自Daikin Industries，Ltd.)。此后，将其中添加了所述四氟乙烯树脂粉末的溶液在600kgf/cm2压力下借助高压分散机(商品名：MICROFLUIDIZERM-110EH，Microfluidics Inc.，USA制造)处理四次，以进行均匀分散。将已进行上述分散处理的溶液用Polyfron过滤器(商品名：PF-040，购自Advantec Toyo Kaisha，Ltd.过滤，以制备分散体。此后，将90份由以下结构式(3)表示的电荷输送材料(空穴输送材料)、70份1，1，2，2，3，3，4-七氟环戊烷和70份1-丙醇加入上述分散体中：
将其用Polyfron过滤器(商品名：PF-040，购自Advantec ToyoKaisha，Ltd.)过滤，以制备第二电荷输送层涂布液。
采用该第二电荷输送层涂布液，将所述第二电荷输送层涂布液通过涂布施涂在所述电荷输送层上，然后在保持为50℃的烘箱中于该气氛下干燥10分钟。此后，将形成的层在氮气气氛中和加速电压为150kV和束电流为3.0mV条件下用电子射线照射1.6秒，同时在200rpm下旋转该支承体。随后，在氮气气氛中，将所述支承体周围的温度经30秒由25℃升至125℃，以进行包含在形成的第二电荷输送层中的物质的固化反应。这里，测量电子射线的吸收剂量发现其为15Kgy。发现在电子射线照射和热固化反应的气氛中的氧浓度为15ppm以下。此后，将如此处理的支承体在该气氛下自然冷却至25℃，然后在加热至100℃的烘箱中于该气氛下进行热处理30分钟，以在距支承体上端170mm位置处形成平均层厚度5μm的保护层。从而，得到电子照相感光构件。
将以上述方式生产的电子照相感光构件通过将其设置在图7所示的压接型轮廓转印表面处理单元中，采用图12所示的用于表面轮廓转印的模具进行表面处理。在表面处理时，将电子照相感光构件和模具的温度控制在110℃，将电子照相感光构件在5MPa压力加压下沿其周向旋转，以进行表面轮廓转印。在图12中，图(1)显示了由其顶端观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察的模具表面轮廓。图12中所示的模具具有柱型表面轮廓。其每个柱均具有1.0μm的长轴径D，3.0μm的高度F和1.0μm的柱与柱间隔E。
-电子照相感光构件表面轮廓的测量-
采用超深度轮廓测量显微镜VK-9500(Keyence Corporation制造)观察以上述方式生产的电子照相感光构件表面。将测量对象电子照相感光构件放置在工作台上，其以其圆筒状支承体能够被固定的方式工作，此时，将电子照相感光构件表面在距其上端170mm位置处进行观察。这里，在感光构件表面的100μm见方的视野中在观察下将物镜设置为50倍放大率。在该测量视野中观察的凹陷部采用分析程序分析。
测量在测量视野内其表面部分中各凹陷部的形状、其长轴径(Rpc)和显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度(Rdv)。证实具有如图13所示圆柱状的凹陷部在所述电子照相感光构件表面上形成。计数100μm见方的正方形内具有深度与长轴径之比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部数量，发现其为2,500个凹陷部。在100μm见方的凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)为1.0μm。每个凹陷部和与前一个凹陷部距离最短处存在的凹陷部之间的平均距离I(以下还称作“凹陷部间隔”)为1.0μm，凹陷部在该间隔下形成。在100μm见方的正方形内凹陷部的平均深度(Rdv-A)为1.5μm。还进一步计算了面积百分率，发现其为20％。所述结果示于表1中。(在表1中，“数量”显示了在100μm见方的正方形内具有深度与长轴径之比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部的数量。“Rpc-A”代表在100μm见方的正方形内存在的凹陷部的平均长轴径。“Rdv-A”代表在100μm见方的正方形内存在的凹陷部的平均深度。“Rdv-A/Rpc-A”表示在100μm见方的正方形内存在的凹陷部的平均深度与平均长轴径之比)。
-电子照相感光构件的弹性变形模量和广义硬度(HU)的测量-
将以上述方式生产的电子照相感光构件在23℃气温和50％相对湿度的环境中放置24小时，然后测量其弹性变形模量和广义硬度。结果，发现弹性变形模量为55％，和广义硬度为180N/mm2。
-电子照相感光构件的性能评价-
将以上述方式生产的电子照相感光构件装配到CANONINC.制造的电子照相复印机GP55(电晕放电体系)中，从而以以下方式评价。
在23℃气温和50％相对湿度的环境中，设置电势条件以使电子照相感光构件的暗区电势(Vd)和亮区电势(Vl)分别达到-700V和-200V，并调整电子照相感光构件的初期电势。
接着，将由聚氨酯橡胶制成的清洁刮板相对于电子照相感光构件表面设置为25 °接触角和30g/cm接触压力。
在上述评价条件下，测量用于旋转上述表面处理的电子照相感光构件的马达的初期驱动电流值(电流值A)。该评价用于评价电子照相感光构件与清洁刮板间产生的负荷量。得到的电流值量显示了电子照相感光构件与清洁刮板间的负荷量。进一步地，采用除了其表面未经处理之外以与上述相同的方式得到的电子照相感光构件，测量用于旋转该表面处理的电子照相感光构件的马达的初期驱动电流值(电流值B)。计算如此求得的用于旋转表面处理的电子照相感光构件的马达驱动电流值(电流值A)与用于旋转表面未处理的电子照相感光构件的马达驱动电流值(电流值B)之比。将求得的(电流值A)/(电流值B)的数值作为相对转矩率比较。该相对转矩率的数值显示了电子照相感光构件与清洁刮板间产生的负荷量的程度。其表明：相对转矩率的数值越小，电子照相感光构件与清洁刮板间产生的负荷量越小。
此后，在两张A4尺寸纸间歇供给条件下进行50,000张进纸运行试验。这里，使用具有5％打印百分率的图表作为试验图表。
在运行期间评价反映清洁性能的刮板震动。刮板震动显示当电子照相感光构件与清洁刮板一起摩擦时，当电子照相感光构件开始旋转时或当电子照相感光构件停止旋转时，电子照相感光构件产生噪音的现象。认为刮板震动的主要原因是电子照相感光构件与清洁刮板间的高摩擦阻力。在本发明中使用转矩率评价电子照相感光构件与清洁刮板间的摩擦阻力。结果示于表1。(在表1中，“转矩率”显示了根据上述方法的相对转矩率。“在5000张运行中的刮板震动”显示了在根据上述方法的进纸运行试验中是否出现刮板震动，或出现刮板震动时的张数。)
实施例2
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由F表示的高度3.0μm变为2.4μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例3
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为0.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为0.5μm，和由F表示的高度3.0μm变为2.0μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以0.5μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例4
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为0.2μm，将由E表示的间隔1.0μm变为0.2μm，和由F表示的高度3.0μm变为2.0μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以0.2μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为5 5％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例5
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为0.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为0.2μm，和由F表示的高度3.0μm变为2.0μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以0.2μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为40％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例6
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为0.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为0.1μm，和由F表示的高度3.0μm变为2.0μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以0.1μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为55％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例7
除了将实施例1中使用的模具变为如图14所示的具有山丘形表面轮廓的模具之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。在图1 4中，图(1)显示了由其顶部观察到的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察到的模具表面轮廓。图14所示的模具具有山丘形表面轮廓。其山丘均具有1.0μm的长轴径D、3.0μm的高度F和1.0μm的山丘-山丘间隔E。采用与实施例1中相同的方式测量其表面轮廓，以确定形成了图15所示的山丘状的凹陷部。在图15中，图(1)显示了如何配置在所述感光构件表面形成的凹陷部，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例8
除了将实施例1中使用的模具变为如图16所示的具有锥形表面轮廓的模具之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。在图16中，图(1)显示了由其顶部观察到的模具表面轮廓，和图(2)显示了由其侧面观察到的模具表面轮廓。图16所示的模具具有锥形表面轮廓。其锥均具有0.2μm的长轴径D、2.0μm的高度F和0.2μm的锥-锥间隔E。采用与实施例1中相同的方式测量其表面轮廓，以确定形成了图17所示的锥形凹陷部。在图17中，图(1)显示了如何配置在所述感光构件表面形成的凹陷部，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。测量结果示于表1中。所述凹陷部以0.2μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，广义硬度值为180N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例9
在实施例1中，在不添加含氟原子的树脂(商品名：GF-300，购自Toagosei Chemical Industry Co.，Ltd.)和四氟乙烯树脂粉末(商品名：LUBRON L-2，购自Daikin Industries，Ltd.)下，制备第二电荷输送层涂布液。除上述外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例7中相同的方式，采用实施例7中使用的模具处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成山丘状的凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为62％，广义硬度值为200N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例10
在实施例1中，采用分别为2.0份和40份的含氟原子树脂(商品名：GF-300，购自Toagosei Chemical Industry Co.，Ltd.)和四氟乙烯树脂粉末(商品名：LUBRON L-2，购自Daikin Industries，Ltd.)制备第二电荷输送层涂布液。除上述外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例7相同的方式，采用实施例7中使用的模具处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成山丘状的凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为50％，广义硬度值为175N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例11
在实施例1中，采用分别为3.0份和60份的含氟原子树脂(商品名：GF-300，购自Toagosei Chemical Industry Co.，Ltd.)和四氟乙烯树脂粉末(商品名：LUBRON L-2，购自Daikin Industries，Ltd.)制备第二电荷输送层涂布液。除上述外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例7中相同的方式，采用实施例7中使用的模具处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成山丘状的凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为45％，广义硬度值为165N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例12
重复实施例1的工序以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。接着，将以下组分溶解在600份氯苯和200份甲缩醛的混合溶剂中，以制备电荷输送层涂布液。将该电荷输送层涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，然后在加热至110℃的烘箱中热干燥30分钟，以在距支承体顶端170mm位置处形成平均层厚度15μm的电荷输送层。
由上式(2)表示的电荷输送材料(空穴输送材料) 70份
由以下结构式(4)表示的共聚物型聚芳酯树脂 100份
(在该式中，m和n分别表示该树脂中重复单元的比例(共聚比)。在该树脂中，m∶n为7∶3。共聚形式为无规共聚物。)
在上述聚芳酯树脂中，对苯二酸结构与间苯二酸结构的摩尔比(对苯二酸结构∶间苯二酸结构)为50∶50。所述树脂具有130,000的重均分子量(Mw)。
在本发明中，树脂的重均分子量以下列方式采用常规方法测量。
即，将测量目标树脂放入四氢呋喃中，并放置数小时。此后，在摇动下，将测量对象树脂与四氢呋喃充分混合(混合直至测量对象树脂的聚结物消失)，将其进一步放置12小时或更久。
此后，将通过样品处理过滤器MAI SHORIDI SK H-25-5(购自Tosoh Corporation)的物质用作用于GPC(凝胶渗透色谱)的样品。
接着，将柱在40℃热室中稳定。在保持在该温度下的柱中，使四氢呋喃以1ml/min的流速流过，并将10μl用于GPC的样品注入其中以进行测量。作为所述柱，使用购自Tosoh Corporation的TSKgel SuperHM-M。
在测量目标树脂的重均分子量的测量中，测量目标树脂的分子量分布从使用几种单分散聚苯乙烯标准试样制作的校准曲线对数值与计数间的关系计算。作为用于制作校准曲线的标准聚苯乙烯试样，使用的是购自Aldrich Chemical Co.，Inc.的分子量为3,5 00、12,000、40,000、75,000、98,000、120,000、240,000、500,000、800,000和1,800,00的10种单分散聚苯乙烯样品。使用RI(示差折光)检测器作为检测器。
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由F表示的高度3.0μm变为6.0μm之外，将采用上述方式生产的电子照相感光构件采用与实施例1中相同的方式进行表面处理。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为42％，广义硬度值为230N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例13
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为2.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为7.0μm之外，采用与实施例12中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以2.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为24％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例14
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为4.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为5.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为10.0μm之外，采用与实施例12中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以5.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为18％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例15
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为5.0μm之外，采用与实施例12中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为35％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例16
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为3.0μm，将由E表示的间隔1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为9.0μm之外，采用与实施例12中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以2.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为28％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例17
重复实施例1的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将以下组分溶解在600份氯苯和200份甲缩醛的混合溶剂中，制备电荷输送层涂布液。将所述电荷输送层涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，然后在加热至110℃的烘箱中热干燥30分钟，以在距支承体顶端170mm位置处形成平均层厚度15μm的电荷输送层。
上式(2)表示的电荷输送材料(空穴输送材料) 70份
以下结构式(5)表示的共聚物型聚芳酯树脂 100份
(在该式中，m和n分别表示该树脂中的重复单元的比例(共聚比)。在该树脂中，m∶n为7∶3。共聚形式为无规共聚物。)
上述聚芳酯树脂具有120,000的重均分子量Mw。
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为5.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为5.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为12.0μm之外，将以上述方式生产的电子照相感光构件采用与实施例1中相同的方式进行表面处理。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以5.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为22％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为43％，广义硬度值为240N/mm2。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例18
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为3.0μm，将由E表示的间隔1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为7.0μm之外，采用与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以2.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为28％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例19
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为6.0μm之外，采用与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为34％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
实施例20
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由E表示的间隔1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为4.0μm之外，采用与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表1中。所述凹陷部以2.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表1中。
比较例1
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由F表示的高度3.0μm变为1.4μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量该表面轮廓，以确定形成圆柱状凹陷部。计算在电子照相感光构件表面中100μm见方的正方形内凹陷部的总数，发现形成了2,500个凹陷部。然而，未发现形成具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的任何凹陷部。在100μm见方的正方形内凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)和平均深度(Rdv-A)示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，和广义硬度值为180N/mm2。电子照相感光构件的性能同样采用与实施例1中相同的方式评价。结果示于表1中。
比较例2
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径1.0μm变为5.0μm，和由F表示的高度3.0μm变为1.0μm之外，采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量该表面轮廓，以确定形成圆柱状凹陷部。计算在电子照相感光构件表面中100μm见方的正方形内凹陷部的总数，发现形成了278个凹陷部。然而，未发现形成具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的任何凹陷部。在100μm见方的正方形内凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)和平均深度(Rdv-A)示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为55％。采用与实施例1中相同方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为55％，和广义硬度值为180N/mm2。电子照相感光构件的性能同样采用与实施例1中相同的方式评价。结果示于表1中。
比较例3
除了在实施例1中使用的模具中，将图12中由F表示的高度3.0μm变为1.6μm之外，采用与实施例12中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量该表面轮廓，以确定形成圆柱状凹陷部。计算在电子照相感光构件表面中100μm见方的正方形内凹陷部的总数，发现形成了2,500个凹陷部。然而，未发现形成具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的任何凹陷部。在100μm见方的正方形内凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)和平均深度(Rdv-A)示于表1中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为20％。采用与实施例1中相同的方式测量弹性变形模量和广义硬度。结果，弹性变形模量值为42％，和广义硬度值为230N/mm2。电子照相感光构件的性能同样采用与实施例1中相同的方式评价。结果示于表1中。
比较例4
采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，其表面未经处理。采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件供纸运行试验时，是否出现任何刮板震动。结果示于表1。
比较例5
采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，并通过喷沙粗糙化该电子照相感光构件表面，其中平均粒径35μm的玻璃珠朝所述感光构件表面喷射。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成部分球形的凹陷部。计算电子照相感光构件表面上100μm见方的正方形内凹陷部的总数，发现形成了6(六)个凹陷部。然而，未发现形成具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的任何凹陷部。在100μm见方的正方形内凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)和平均深度(Rdv-A)示于表1中。注意，此处，计算完全包含在100μm见方的正方形内的凹陷部数，并用作均具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部数。电子照相感光构件的性能同样采用与实施例1中相同的方式评价。结果示于表1中。
比较例6
采用与实施例1中相同方式生产电子照相感光构件，并通过喷沙粗糙化该电子照相感光构件表面，其中将平均粒径70μm的玻璃珠朝所述感光构件表面喷射。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成部分球形的凹陷部。计算电子照相感光构件表面上100μm见方的正方形内凹陷部的总数，发现形成了1(一)个凹陷部。然而，未发现形成具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的任何凹陷部。在100μm见方的正方形内凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)和平均深度(Rdv-A)示于表1中。注意，此处，计算完全包含在100μm见方的正方形内的凹陷部数，并用作各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部数。电子照相感光构件的性能同样采用与实施例1中相同的方式评价。结果示于表1中。
表1
*1：第X张后极轻微地出现。
*2：第X张后出现。
*3：从初始即出现。
上述结果表明，在本发明的实施例1-20与比较例1-6的对比中，在其表面具有各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部的电子照相感光构件能够改进清洁性能，特别地，在重复使用时能够更好地防止刮板震动。本发明的具有凹陷部的电子照相感光构件的转矩率结果表明，本发明的具有所述凹陷部的电子照相感光构件实现了所述电子照相感光构件与清洁刮板间较低的摩擦阻力。在本发明进行的评价中，评价了对于具有在30mm直径的支承体上各自形成的具有感光层的电子照相感光构件的50,000张运行性能。然而，即使在该评价条件下，也观察到了减少刮板震动的效果。感光构件在其使用初期表现出不导致刮板震动的趋势，只要在所述感光构件表面上形成任意凹陷部即可。然而，在其重复使用中，发现减少刮板震动效果能够保持多久依赖于其表面上凹陷部的形状而不同的结果。认为这表明了，降低电子照相感光构件与清洁刮板间产生的负荷量的效果通过所述表面具有特定凹陷部的特征保持，以获得更好地防止刮板震动的结果。
实施例21
采用与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。使如此生产的电子照相感光构件通过将其设置在图7所示的表面处理单元中，使用图18所示的用于表面轮廓转印的由镍制成的模具进行表面处理。在图18中，图(1)显示了由顶部观察的模具表面轮廓，和图(2)显示了由侧面观察的模具表面轮廓。图18中所示的模具具有圆柱状表面轮廓。所述柱均具有2.0μm的长轴径D、6.0μm的高度F和1.0μm的柱-柱间隔E。将表面处理时电子照相感光构件和模具的温度控制在110℃，并将所述电子照相感光构件通过在5MPa压力施压下沿其周向旋转，以进行表面轮廓转印。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定在表面上形成了图19所示的凹陷部。在图19中显示了如何配置凹陷部，图(1)显示了由顶部观察的感光构件表面，和图(2)显示了凹陷部的截面轮廓。在100μm见方的正方形内具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部的平均长轴径(Rpc-A)和平均深度(Rdv-A)示于表2中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现为46％。
采用与实施例1中相同的方式评价采用上述方式生产的电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。(在表2中，“数量”显示了在100μm见方的正方形内具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部数。“Rpc-A”代表100μm见方的正方形内存在的凹陷部的平均长轴径。“Rdv-A”代表在100μm见方的正方形内存在的凹陷部的平均深度。“Rdv-A/Rpc-A”代表在100μm见方的正方形内存在的凹陷部的平均深度与长轴径之比。“转矩率”显示了通过实施例1中所述方法求得的相对转矩率。“50,000运行中的刮板震动”显示了根据实施例1中所述方法在供纸运行试验中是否出现刮板震动，或出现刮板震动的张数)。
实施例22
除了在实施例21中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径2.0μm变为1.5μm，将由E表示的间隔1.0μm变为0.8μm，和由F表示的高度6.0μm变为7.0μm之外，采用与实施例21中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以0.8μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为39％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例23
除了在实施例21中使用的模具中，将图12中由D表示的长轴径2.0μm变为4.0μm，将由E表示的间隔1.0μm变为2.0μm，和由F表示的高度6.0μm变为9.0μm之外，采用与实施例21中相同的方式生产电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式处理其表面。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓以确定形成了圆柱状凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以2.0μm的间隔形成。计算其开口面积百分率，发现其为63％。还以与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例24
采用与实施例21中相同的方式生产电子照相感光构件。在得到的电子照相感光构件表面上，通过使用利用如图4所示的KrF准分子激光器(波长λ：248nm)的凹陷部形成法形成凹陷部。这里，使用具有石英玻璃制掩模，该掩膜具有其中如图20所示的直径10μm的圆形激光透射区域以5.0μm的间隔如在附图中所示配置的图案。将照射能设定为0.9J/cm3。进一步地，以每进行一次照射2mm见方的正方形区域来进行照射，和所述表面每2mm见方的正方形照射部分用该激光光照射3次。凹陷部同样采用如图4所示的方法形成，在该方法中，旋转电子照相感光构件，并沿轴向移动所述照射位置，以在所述感光构件表面上形成所述凹陷部。
采用与实施例1中相同的方式测量所述表面轮廓，以确定形成了如图21所示的凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.4μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为41％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例25
除了将所述表面用激光光在每2mm见方的正方形照射部分照射5次之外，采用与实施例24中相同的方式生产电子照相感光构件，并采用与实施例24中相同的方式形成表面轮廓。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成了凹陷部。测量结果示于表2中。将所述凹陷部以1.4μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为41％。采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例26
除了使用具有将如图22所示的直径5.0μm的圆形激光光透射区域以2.0μm的间隔如附图中所示配置的图案的石英玻璃制掩模之外，采用与实施例24中相同的方式生产电子照相感光构件，并采用与实施例24中相同的方式形成表面轮廓。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成了如图23所示的凹陷部。测量结果示于表2中。将所述凹陷部以0.6μm的间隔I形成。发现其开口面积百分率为44％。采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例27
重复实施例1的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将10份具有由上式(1)所示结构的电荷输送材料和10份作为粘结剂树脂的聚碳酸酯树脂(商品名：IUPILON Z400；购自Mitsubishi Engineering-plastics Corporation)溶解在65份氯苯和35份二甲氧基甲烷组成的混合溶剂中，以制备含有所述电荷输送材料的表面层涂布液。将如此制备的表面层涂布液通过浸涂施涂在所述电荷产生层上，以使用该表面层涂布液涂布基体构件。使用该表面层涂布液涂布的步骤在45％相对湿度和25℃气温的条件下进行。在所述涂布步骤完成后60秒，将用该表面层涂布液涂布的基体构件在冷凝步骤单元中保持120秒，所述冷凝步骤单元内部预先调节在70％相对湿度和60℃气温下。冷凝步骤完成后60秒，将所述基体构件放入内部预先加热至120℃的吹风干燥机中，进行干燥60分钟。从而，生产以电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。在实施例27中生产的电子照相感光构件表面在激光显微镜中观察的图像示于图24中。测量结果示于表2。所述凹陷部以1.8μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为44％。采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为对于表面的凹陷部未进行处理的用于评价所述电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面没有凹陷部的感光构件，其在上述感光构件生产中通过用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例28
除了在冷凝步骤中将相对湿度变为70％和将气温变为45℃之外，重复实施例27中的工序以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层，并采用与实施例27中相同的方式生产电子照相感光构件。采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以0.6μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为46％。采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例29
重复实施例1的方法以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将10份具有由上式(1)所示结构的电荷输送材料和10份由上式(5)表示的聚芳酯树脂溶解在由50份氯苯、30份四氢呋喃和20份二甲氧基甲烷组成的混合溶剂中，以制备含有所述电荷输送材料的表面层涂布液。将如此制备的表面层涂布液通过浸涂施涂在所述电荷产生层上，以使用该表面层涂布液涂布基体构件。使用该表面层涂布液涂布的步骤在45％相对湿度和25℃气温的条件下进行。在所述涂布步骤完成后60秒，将用该表面层涂布液涂布的基体构件在冷凝步骤单元中保持120秒，所述冷凝步骤单元内部预先调节在70％相对湿度和60℃气温下。冷凝步骤完成后60秒，将所述基体构件放入内部预先加热至120℃的吹风干燥机中，进行干燥60分钟。从而，生产以电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2。所述凹陷部以2.6μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为47％。采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为其表面对于凹陷部未进行处理，用于评价所述电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面没有凹陷部的感光构件，其在上述感光构件生产中通过用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例30
重复实施例1的工序以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将10份具有由上式(1)所示结构的电荷输送材料和10份作为粘结剂树脂的由下式(6)表示的聚芳酯树脂：
(在上述聚芳酯树脂中，对苯二酸结构和间苯二酸结构的摩尔比(对苯二酸结构∶间苯二酸结构)为50∶50；所述树脂具有130,000的重均分子量Mw)溶解在由70份氯苯、32份二甲氧基甲烷和3份(甲基磺酰基)甲烷组成的混合溶剂中，以制备含有所述电荷输送材料的表面层涂布液。将如此制备的表面层涂布液通过浸涂施涂在所述电荷产生层上，以使用该表面层涂布液涂布基体构件。使用该表面层涂布液涂布的步骤在45％相对湿度和25℃气温的条件下进行。在所述涂布步骤完成后10秒，将用该表面层涂布液涂布的基体构件在冷凝步骤单元中保持10秒，所述冷凝步骤单元内部预先调节在50％相对湿度和30℃气温下。冷凝步骤完成后240秒，将所述基体构件放入内部预先加热至120℃的吹风干燥机中，进行干燥60分钟。从而，生产以电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2。所述凹陷部以0.5μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为67％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为其表面对于凹陷部未进行处理，用于评价所述电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面没有凹陷部的感光构件，其在上述感光构件生产中通过用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例31
重复实施例1中的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将10份具有由上式(1)所示结构的电荷输送材料和10份作为粘结剂树脂的由上式(6)表示的聚芳酯树脂(在上述聚芳酯树脂中，对苯二酸结构和间苯二酸结构的摩尔比(对苯二酸结构∶间苯二酸结构)为50∶50；所述树脂具有130,000的重均分子量Mw)溶解在由70份氯苯、32份二甲氧基甲烷和3份(甲基磺酰基)甲烷组成的混合溶剂中，以制备含有所述电荷输送材料的表面层涂布液。将如此制备的表面层涂布液冷却以形成具有15℃温度的涂布液，然后通过浸涂施涂在所述电荷产生层上，以使用该表面层涂布液涂布基体构件。使用该表面层涂布液涂布的步骤在45％相对湿度和25℃气温的条件下进行。在所述涂布步骤完成后10秒，将用该表面层涂布液涂布的基体构件在冷凝步骤单元中保持60秒，所述冷凝步骤单元内部预先调节在50％相对湿度和28℃气温下。冷凝步骤完成后120秒，将所述基体构件放入内部预先加热至120℃的吹风干燥机中，进行干燥60分钟。从而，生产以电荷输送层作为表面层的电子照相感光构件。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2。所述凹陷部以0.3μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为72％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为其表面对于凹陷部未进行处理，用于评价电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面没有凹陷部的感光构件，其在上述感光构件生产中通过在使用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例32
重复实施例1中的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将5份具有上式(1)所示结构的电荷输送材料、4份具有以下式(7)所示结构的电荷输送材料、10份上式(4)表示的聚芳酯树脂(在上述中，m和n分别表示该树脂中重复单元的比例(共聚比)。在该树脂中，m∶n为7∶3，和对苯二酸结构与间苯二酸结构的摩尔比(对苯二酸结构∶间苯二酸结构)为50∶50；所述树脂具有130,000的重均分子量Mw)和作为抗氧化剂的1份IRGANOX1330(购自Ciba Specialty Chemicals Inc.)溶解在由70份氯苯和35份二甲氧基甲烷组成的混合溶剂中，以制备含所述电荷输送材料的表面层涂布液。
将所述涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，然后在加热至110℃的烘箱中热干燥30分钟，以形成作为表面层的电荷输送层，其在距支承体顶端170mm位置处具有15μm的平均层厚度。
将采用上述方式生产的电子照相感光构件采用与实施例1中相同的方式，但采用实施例18中的模具进行表面处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为46％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例33
除了使用TINUVIN 622 LD(购自Ciba Specialty ChemicalsInc.)代替实施例32中使用的抗氧化剂之外，采用与实施例32中相同的方式生产电子照相感光构件。其表面采用与实施例32中相同的方式处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为46％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例34
重复实施例1中的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，将通过向90份氯苯中添加10份四氟乙烯树脂粉末(商品名：LUBRON L-2，购自Daikin Industries，Ltd.)制备的流体，在600kgf/cm2压力下采用高压分散机(商品名：MICROFLUIDIZER M-110EH，Microfluidics Inc.，USA制造)处理3次。进一步地，将已经进行了上述分散处理的流体用Polyfron过滤器(商品名：PF-040，购自Advantec Toyo Kaisha，Ltd.)过滤以制备分散体。
接着，将4份具有上式(1)所示结构的电荷输送材料、4份具有上式(7)所示结构的电荷输送材料、10份由上式(4)表示的聚芳酯树脂(在上述中，m和n分别表示该树脂中重复单元的比例(共聚比)。在该树脂中，m∶n为7∶3，对苯二酸结构与间苯二酸结构的摩尔比(对苯二酸结构∶间苯二酸结构)为50∶50；所述树脂具有130,000的重均分子量Mw)和20份上述分散体，添加至58份氯苯和35份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，以制备含所述电荷输送材料的表面层涂布液。
将所述涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，然后在加热至110℃的烘箱中热干燥30分钟，以形成作为表面层的电荷输送层，其在距支承体顶端170mm位置处具有15μm的平均层厚度。
将采用上述方式生产的电子照相感光构件采用与实施例1中相同的方式，但采用实施例18中的模具进行表面处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为46％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例35
除了使用表面处理的细二氧化硅颗粒(平均粒径：0.1μm；商品名：KMBX-100，购自Shin-Estu Chemical Co.，Ltd.)代替实施例34中使用的四氟乙烯树脂粉末之外，采用与实施例34中相同的方式生产电子照相感光构件。其表面采用相同的方式处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为46％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例36
除了使用细氧化铝颗粒(平均粒径：0.1μm；商品名：LS-231，购自Nippon Light Metal Co.，Ltd.)代替实施例34中使用的四氟乙烯树脂粉末之外，采用与实施例34中相同的方式生产电子照相感光构件。其表面采用相同的方式处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.0μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为46％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例37
重复实施例1中的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，制备包含与实施例32中相同的电荷输送材料的表面层涂布液。将如此制备的表面层涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，以使用该表面层涂布液涂布基体构件。使用表面层涂布液涂布的步骤在45％相对湿度和25℃气温条件下进行。涂布步骤完成后10秒，将所述使用表面层涂布液涂布的基体构件在冷凝步骤单元中保持120秒，所述冷凝步骤单元内部预先调节在70％相对湿度和35℃气温下。冷凝步骤完成后240秒，将基体构件放入内部预先加热至120℃的吹风干燥机中，进行干燥60分钟。从而，生产电荷输送层为表面层的电子照相感光构件。
对于以上述方式生产的电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.8μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为44％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为其表面对于凹陷部未进行处理，用于评价电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面上没有凹陷部的感光构件，其在上述感光构件生产中通过用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例38
除了使用TINUVIN 622 LD(购自Ciba Specialty ChemicalInc.)代替实施例37中使用的抗氧化剂之外，采用与实施例37中相同的方式生产电子照相感光构件。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.8μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为44％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为其表面对于凹陷部未进行处理，用于评价电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面上没有凹陷部的感光构件，其通过在上述感光构件生产中在使用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例39
重复实施例1中的工序，以在支承体上形成导电层、中间层和电荷产生层。
接着，制备包含与实施例34中相同的电荷输送材料的表面层涂布液。将如此制备的表面层涂布液通过浸涂施涂在电荷产生层上，以使用该表面层涂布液涂布基体构件。使用表面层涂布液涂布的步骤在45％相对湿度和25℃气温条件下进行。涂布步骤完成后10秒，将所述使用表面层涂布液涂布的基体构件在冷凝步骤单元中保持120秒，所述冷凝步骤单元内部预先调节在70％相对湿度和35℃气温下。冷凝步骤完成后240秒，将基体构件放入内部预先加热至120℃的吹风干燥机中，进行干燥60分钟。从而，生产电荷输送层为表面层的电子照相感光构件。
对于以上述方式生产的电子照相感光构件，采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.8μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为44％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
作为其表面对于凹陷部未进行处理，用于评价电子照相感光构件转矩率的电子照相感光构件，使用在其表面上没有凹陷部的感光构件，其在上述感光构件生产中通过用表面层涂布液涂布基体构件后立即进行干燥60分钟获得。
实施例40
除了使用表面处理的细二氧化硅颗粒(平均粒径：0.1μm；商品名：LS-231，购自Nippon Light Metal Co.，Ltd.)代替实施例39中使用的四氟乙烯树脂粉末之外，采用与实施例39中相同的方式生产电子照相感光构件。其表面采用相同的方式处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.8μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为44％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
实施例41
除了使用细氧化铝颗粒(平均粒径：0.1μm；商品名：LS-231，购自Nippon Light Metal Co.，Ltd.)代替实施例39中使用的四氟乙烯树脂粉末之外，采用与实施例39中相同的方式生产电子照相感光构件。其表面采用相同的方式处理。
采用与实施例1中相同的方式测量表面轮廓，以确定形成凹陷部。测量结果示于表2中。所述凹陷部以1.8μm的间隔形成。发现其开口面积百分率为44％。还采用与实施例1中相同的方式评价电子照相感光构件的性能。结果示于表2中。
表2
实施例21-41的结果表明，在其表面上具有各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc大于1.0至7.0以下的凹陷部的电子照相感光构件能够在重复使用时更好地防止刮板震动。
本申请要求于2006年1月31日提交的日本专利申请第2006-022896号、于2006年1月31日提交的日本专利申请第2006-022898号、于2006年1月31日提交的日本专利申请第2006-022899号、于2006年1月31日提交的日本专利申请第2006-022900号和于2007年1月26日提交的日本专利申请第2007-016216号的优先权，在此将其内容整体引入以作参考。
Claims (6)
1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和在其上设置的感光层；其中所述电子照相感光构件具有存在多个相互独立的凹陷部的表面；其中各凹陷部的长轴径由Rpc表示，显示各凹陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示，所述凹陷部各自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc为大于1.0至7.0以下；和
其中，所述凹陷部的平均深度Rdv-A为大于3.0μm至10.0μm以下。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其在所述电子照相感光构件表面的100μm见方的正方形中具有50以上至70,000以下个凹陷部。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述电子照相感光构件表面的凹陷部的平均深度Rdv-A与平均长轴径Rpc-A之比Rdv-A/Rpc-A为大于1.0至7.0以下。
4.根据权利要求3所述的电子照相感光构件，其中所述凹陷部的平均深度Rdv-A与平均长轴径Rpc-A之比Rdv-A/Rpc-A为1.3以上至5.0以下。
5.一种处理盒，其包括根据权利要求1所述的电子照相感光构件，和选自由充电装置、显影装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置；所述处理盒可拆卸地安装在电子照相设备的主体上。
6.一种电子照相设备，其包括根据权利要求1所述的电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
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