CN101374878B - 正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜 - Google Patents

正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜 Download PDF

Info

Publication number
CN101374878B
CN101374878B CN2007800036251A CN200780003625A CN101374878B CN 101374878 B CN101374878 B CN 101374878B CN 2007800036251 A CN2007800036251 A CN 2007800036251A CN 200780003625 A CN200780003625 A CN 200780003625A CN 101374878 B CN101374878 B CN 101374878B
Authority
CN
China
Prior art keywords
composition
heat cross
film
positive type
organic compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2007800036251A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101374878A (zh
Inventor
畑中真
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of CN101374878A publication Critical patent/CN101374878A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101374878B publication Critical patent/CN101374878B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/80—Masked polyisocyanates
    • C08G18/8061—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/64—Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Abstract

本发明提供保存稳定性优异，感度高，未曝光部膜减少小，并且即使在膜形成后进行高温烘烤或进行抗蚀剂剥离液处理，也可保持高透射率，膜厚不减少的正型感光性树脂组合物，本发明还提供了使用这样的正型感光性树脂组合物得到的适合于TFT型液晶元件的阵列平坦化膜等各种显示器的膜材料的固化膜。本发明提供了一种正型感光性树脂组合物和使用该正型感光性树脂组合物得到的固化膜，所述正型感光性树脂组合物含有下述成分，即(A)成分：具有可进行热固化反应的官能团的原料聚合物通过介有含有2个以上的式(1)所示热交联基团的化学结构互相键合形成的热交联体；(B)成分：1分子中具有2个以上封闭异氰酸酯基的化合物；(C)成分：光产酸剂；(D)溶剂。

Description

正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜
技术领域
本发明涉及正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜。更详细地说，本发明涉及适于显示器材料用途的正型感光性树脂组合物和其固化膜、以及使用该固化膜而成的各种材料。
背景技术
一般在薄膜晶体管(TFT)型液晶显示元件、有机EL(electroluminescent)元件等的显示器元件中，设置了形成有图案的电极保护膜、平坦化膜、绝缘膜等。作为用于形成这些膜的材料，在感光性树脂组合物中，一直广泛使用其特征为得到图案形状所需工序数少，且具有充分平坦性的感光性树脂组合物。
并且，对上述这些膜要求各种特性，如耐热性、耐溶剂性、长时间烘烤耐性等工序耐性优异；与基底密合性良好；具有在与使用目的相符合的各种工序条件下可形成图案的较宽的工序空白(process margin)；高感度、高透明性；以及显影后的膜均匀等。于是，从这些要求特性出发，作为上述感光性树脂组合物至今一直广泛使用重氮萘醌化合物。
然而，在这些感光性树脂材料所要求的特性中，作为重要特性之一，可以列举出感度。在显示器元件等的工业生产中，提高感度可大幅缩其生产时间，所以在液晶显示器的需要量显著增大的现状中，感度是对此类感光性树脂材料要求的最重要的特性之一。
然而，含有上述重氮萘醌化合物的现有的感光性树脂材料在感度方面并不能得到充分满足。对材料中的聚合物而言，虽然可以通过提高在碱显影液中的溶解性来提高感度，但该方法有限制，另外，具有下述缺点，即未曝光部出现溶解，残膜率下降，这对于大型显示器用基板而言，是膜不均匀的原因。
因此，至今为了感光性树脂材料的高感度化已提出了若干专利申请。例如，提出了含有碱溶性树脂，并含有特定的聚羟基化合物和其衍生物中的至少一种的感放射线性树脂组合物(例如，参照专利文献1)。然而，该提出的材料，感光剂的对称性高，所以存在保存稳定性等问题。
另外，还提出了含有碱溶性酚树脂和感放射线性化合物的正型感放射线性树脂组合物(例如，参照专利文献2)，以及含有特定的碱溶性树脂和重氮醌化合物的正型感光性树脂组合物(例如，参照专利文献3)。然而，它们在粘合剂聚合物中使用了线性酚醛清漆树脂，所以在透明性、和在长时间烧成时的稳定性上存在问题。
如上述那样，要开发出满足其他特性，并且具有所希望标准的高感度的感光性树脂组合物是非常困难的，仅简单组合现有技术难以得到满意的感光性树脂组合物。
另外，一般对含有重氮萘醌化合物的现有的感光性树脂材料而言，为了防止曝光显影后重氮萘醌化合物造成固化膜着色和透明性降低，进行光漂白(photobleaching)，但即使经过该光漂白工序，如果将得到的膜在250℃左右的高温下烘烤，仍然会发现光透射率降低，着色，并且在更低的温度例如在230℃下长时间烘烤，也会发现光透射率降低(着色)，进而，如果经抗蚀剂剥离液的胺系溶液等的化学处理，会出现光透射率下降，透明性不好的问题，含有重氮萘醌化合物的现有的感光性树脂材料存在这些耐热性和耐化学性的问题(例如，参照专利文献4)。
另一方面，作为高感度、高析像度的感光性材料，开发出了化学放大型抗蚀剂。作为半导体用抗蚀剂开发出的现有的化学放大型抗蚀剂也适用波长比i线短的光源(KrF、ArF)，可形成更细微的图案，但在膜固化中使用的高温下，以及在抗蚀剂剥离液的存在下，保护基的键合部和醚键的热交联部容易分解，耐热性和耐化学性显著降低，几乎不可能作为永久膜使用(例如，参照专利文献5)。另外，如果为了进行热固化，向化学放大型抗蚀剂中导入环氧类和氨基塑料(aminoplast)类的交联系，受抗蚀剂中的光产酸剂(PAG)经曝光产生的酸的影响，曝光部交联，与未曝光部分的溶解差别消失，出现了这些新问题，所以这样向化学放大型抗蚀剂导入交联系存在困难。
专利文献1：特开平4-211255号公报
专利文献2：特开平9-006000号公报
专利文献3：特开平8-044053号公报
专利文献4：特开平4-352101号公报
专利文献5：美国专利第5075199号说明书
发明内容
本发明是鉴于上述事实而完成的，要解决的课题是提供下述正型感光性树脂组合物，所述正型感光性树脂组合物感度充分高，并且显影时未曝光部分观测不到膜减少那样程度的事实上不减少，并且即使在膜形成后进行高温烘烤，也可保持高透射率，并且即使进行抗蚀剂剥离液(胺系溶液)处理，膜厚减少和透射率降低均小。
另外，本发明的课题在于提供使用这样的正型感光性树脂组合物得到的固化膜，该固化膜即使经高温烘烤或抗蚀剂剥离液(胺系溶液)处理，透射率下降也非常小，可保持高透明性，耐热性和耐化学性优异，本发明还提供了使用这样的固化膜制作的各种元件和材料。
本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现本发明。
即，作为第1观点，是一种正型感光性树脂组合物，含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分、和(D)溶剂，其中，
(A)成分：一种热交联体，由原料聚合物通过介有从多官能乙烯基醚化合物衍生出的、含有2个以上的式(1)所示热交联基团的化学结构互相键合形成，并且该热交联体的重均分子量为10,000～250,000，所述原料聚合物具有能够与(B)成分的化合物发生热固化反应的，用于膜固化的官能团，
Figure S2007800036251D00041
式(1)
(B)成分：1分子中具有2个以上的封闭异氰酸酯基的化合物，
(C)成分：光产酸剂，
(D)溶剂。
作为第2观点，是根据第1观点所述的正型感光性树脂组合物，上述用于膜固化的官能团选自除酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一种。
作为第3观点，是根据第1观点或第2观点所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，在上述(A)成分热交联体中还含有能够进行热交联反应的官能团和乙烯基醚基。
作为第4观点，是根据第3观点所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述用于热交联反应的官能团选自羧基和酚性羟基中的至少一种。
作为第5观点，是根据第1观点～第4观点的任一项所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述(A)成分是碱溶性树脂与一分子中具有2个以上的乙烯基醚基的化合物进行热交联反应而成的热交联体，所述碱溶性树脂具有能够进行热交联反应的官能团，且其数均分子量为2,000～30,000。
作为第6观点，是根据第5观点所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述(A)成分是基于100质量份的上述碱溶性树脂，与1～80质量份的上述具有乙烯基醚基的化合物进行热交联反应而成的热交联体。
作为第7观点，是根据第1观点～第6观点的任一项所述的正型感光性树脂组合物，基于100质量份的(A)成分热交联体，含有0.5～80质量份的(B)成分、和0.2～80质量份的(C)成分。
作为第8观点，是根据第1观点～第7观点的任一项所述的正型感光性树脂组合物，还含有作为(E)成分的碱溶性树脂。
作为第9观点，是根据第8观点所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述(E)成分的碱溶性树脂是除了用于形成上述(A)成分热交联体的碱溶性树脂以外的其他碱溶性树脂。
作为第10观点，是根据第1观点～第9观点的任一项所述的正型感光性树脂组合物，还含有基于100质量份的(A)成分热交联体为0.0005～5质量份的作为(F)成分的胺化合物。
作为第11观点，是根据第1观点～第10观点的任一项所述的正型感光性树脂组合物，还含有0.2质量％以下的作为(G)成分的表面活性剂。
作为第12观点，是一种固化膜，是使用第1观点～第11观点的任一项所述的正型感光性树脂组合物得到的。
作为第13观点，是一种液晶显示元件，具有第12观点所述的固化膜。
作为第14观点，是一种液晶显示器用阵列平坦化膜，由第12观点所述的固化膜制成。
作为第15观点，是一种层间绝缘膜，由第12观点所述的固化膜制成。
作为第16观点，是一种微透镜，由第12观点所述的固化膜制成。
根据本发明，通过制备具有下述组成的正型感光性树脂组合物，可以使感度充分高，并且显影时未曝光部分的膜观测不到减少那样程度地，事实上不减少，并且即使在膜形成后在例如250℃那样的高温下烘烤(或者在例如230℃下长时间烘烤)，也可保持高透射率，并且即使进行抗蚀剂剥离液(胺系溶液)处理，膜厚减少和透射率降低均小，得到这些效果，其中上述组成含有可与有封闭异氰酸酯基的化合物进行膜的热固化的基团、和上述式(1)所示的热交联基团。
并且，通过使用具有上述可进行热固化的基团和上述式(1)所示的热交联基团的热交联体作为正型感光性树脂组合物的成分，效果是可以得到保存稳定性优异的组合物。
另外，根据本发明，通过使用这样的正型感光性树脂组合物得到的固化膜，如果经高温(250℃)烘烤或抗蚀剂剥离液(胺系溶液)处理，则透射率降低非常小，可保持高透明性，变成耐热性和耐化学性均优异的固化膜，因而得到以下效果，即可以在现在不适用化学放大型抗蚀剂的TFT型液晶显示元件的阵列(array)平坦化膜等液晶、或有机EL显示器中的各种膜材料的用途、以及微透镜等的用途中适合。
具体实施方式
本发明的正型感光性树脂组合物是含有(A)成分热交联体、(B)成分具有封闭异氰酸酯基的化合物、(C)成分光产酸剂和(D)溶剂，并且根据希望，含有(E)成分碱溶性树脂、(F)成分胺化合物、或(G)成分表面活性剂的组合物。下面对各成分进行详细说明。
<A成分>
(A)成分是原料聚合物通过介有由多官能乙烯基醚化合物衍生出的含有2个以上的式(1)所示热交联基团的化学结构互相键合形成的热交联体，并且其重均分子量为10,000～250,000，其中所述原料聚合物具有可与(B)成分的化合物发生热固化反应使膜固化的官能团。
Figure S2007800036251D00061
式(1)
用于膜固化的官能团，是在上述(A)成分热交联体(对于曝光部而言，是热交联体进一步裂解而成的脱交联体)中，在更高温度下与(B)成分的化合物通过封闭部分裂解出的异氰酸酯基进行交联反应，使膜固化的基团，其代表官能团是选自除酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一种。这里，有活泼氢的氨基指的是可通过反应释放出氢的伯氨基或仲氨基。因此，酰胺基由于不具有活泼氢，所以不能算是有活泼氢的氨基。
(A)成分热交联体，只要是具有这样结构的热交联体即可，对构成热交联体的原料聚合物的其他的骨架和种类等没有特殊限定。
然而，(A)成分热交联体的重均分子量在10,000～250,000的范围内。如果重均分子量过大，超过250,000，则有时在正型感光性树脂组合物的以后的调制工序中遇到障碍，另一方面，如果重均分子量过小，小于10,000，则有时正型感光性树脂组合物不能得到充分的保存稳定性效果。
另外，在(A)成分热交联体中还可含有可进行热交联反应的官能团和乙烯基醚基。
该用于热交联反应的官能团，是在温度升高时可与乙烯基醚基反应形成热交联体，形成抗蚀剂膜的基团，其代表官能团是选自羧基和酚性羟基中的至少一种。
另外，(A)成分热交联体优选为碱溶性树脂与一分子中具有2个以上的乙烯基醚基的化合物进行热交联反应而成的热交联体，其中所述碱溶性树脂在树脂结构中具有可与乙烯基醚基进行热交联反应的官能团、和可与(B)成分的具有封闭异氰酸酯基的化合物进行热固化反应使膜固化的官能团，且该碱溶性树脂数均分子量为2,000～30,000。
对形成(A)成分热交联体的、上述碱溶性树脂的主链骨架和侧链的种类、以及上述具有乙烯基醚基的化合物的种类和结构等没有特殊限定。
另外，形成(A)成分热交联体的上述碱溶性树脂的数均分子量在2,000～30,000的范围内。如果数均分子量过大，大于30,000，则容易出现显影残渣，感度显著降低，另一方面，如果数均分子量过小，小于2,000，则显影时未曝光部分出现相当量的膜减少，有时固化不充分。
下面，对形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂和具有乙烯基醚基的化合物进行叙述。
作为用于形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂，可以列举出例如丙烯酸系树脂、聚羟基苯乙烯系树脂等。特别是，丙烯酸系树脂透明性高，所以更优选。
另外，在本发明中，作为用于形成(A)成分热交联体的一成分，可以使用由多种单体聚合得到的共聚物(以下称作“特定共聚物”)形成的碱溶性树脂。此时，用于形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂，可以是多种特定共聚物的混合物。
也就是说，上述特定共聚物是以下述单体作为必须构成单元形成的共聚物，其数均分子量为2,000～30,000，所述单体为选自具有用于热交联反应的官能团的单体中的至少一种和选自具有用于膜固化的官能团的单体中的至少一种，其中，具有用于热交联反应的官能团的单体具有羧基和酚性羟基中的至少一方，具有用于膜固化的官能团的单体具有选自除酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一方。
上述“具有羧基和酚性羟基中的至少一方的单体”包括：具有羧基的单体、具有酚性羟基的单体、以及具有羧基和酚性羟基两方的单体。这些单体不限于有一个羧基或酚性羟基，可以有多个。
另外，上述“具有除酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一方的单体”包括：具有除酚性羟基以外的羟基的单体、具有有活泼氢的氨基的单体、以及具有除酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基两方的单体。这些单体不限于有一个除酚性羟基以外的羟基或有活泼氢的氨基，可以有多个。
下面列举上述单体的具体例，但并不限于这些。
作为具有羧基的单体，可以列举出例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、单-(2-(丙烯酰氧基)乙基)邻苯二甲酸酯、单-(2-(甲基丙烯酰氧基)乙基)邻苯二甲酸酯、N-(羧基苯基)马来酰亚胺、N-(羧基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(羧基苯基)丙烯酰胺等。
作为具有酚性羟基的单体，可以列举出例如，羟基苯乙烯、N-(羟基苯基)丙烯酰胺、N-(羟基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(羟基苯基)马来酰亚胺等。
作为具有除酚性羟基以外的羟基的单体，可以列举出例如，丙烯酸2-羟基乙基酯、丙烯酸2-羟基丙基酯、5-丙烯酰氧基-6-羟基降冰片烯-2-羧基-6-内酯、甲基丙烯酸2-羟基乙基酯、甲基丙烯酸2-羟基丙基酯、5-甲基丙烯酰氧基-6-羟基降冰片烯-2-羧基-6-内酯等。
进而，作为具有有活泼氢的氨基的单体，可以列举出丙烯酸2-氨基乙基酯、甲基丙烯酸2-氨基甲基酯等。
另外，特定共聚物可以是还以除了具有用于热交联反应的官能团的单体和具有用于膜固化的官能团的单体以外的单体(以下称作“其他单体”)作为构成单元形成的共聚物。
其他单体，具有地讲，只要可以与具有羧基和酚性羟基中的至少一方的单体、以及具有除了酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一方的单体进行共聚即可，只要无损用于形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂的特性，就没有特殊限定。
作为其他单体的具体例，可以列举出丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物、马来酰亚胺化合物、丙烯腈、马来酸酐、苯乙烯化合物、和乙烯基化合物等。
作为丙烯酸酯化合物，可以列举出例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸蒽酯、丙烯酸蒽基甲酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三甘醇丙烯酸酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸3-甲氧基丁酯、2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸酯、2-丙基-2-金刚烷基丙烯酸酯、8-甲基-8-三环癸基丙烯酸酯、和8-乙基-8-三环癸基丙烯酸酯等。
作为甲基丙烯酸酯化合物，可以列举出例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸萘酯、甲基丙烯酸蒽酯、甲基丙烯酸蒽基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异冰片基酯、甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三甘醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸四氢糠基酯、甲基丙烯酸3-甲氧基丁酯、甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸2-丙基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸8-甲基-8-三环癸基酯、和甲基丙烯酸8-乙基-8-三环癸基酯等。
作为乙烯基化合物，可以列举出例如，甲基乙烯基醚、苄基乙烯基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、苯基乙烯基醚、和丙基乙烯基醚等。
作为苯乙烯化合物，可以列举出苯乙烯、甲基苯乙烯、氯代苯乙烯、溴代苯乙烯等。
作为马来酰亚胺化合物，可以列举出例如，马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、和N-环己基马来酰亚胺等。
对得到本发明中使用的特定共聚物的方法没有特殊限定，例如，可以将从具有羧基和酚性羟基中的至少一方的单体中适当选择出的至少一种单体、从具有除了酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一方的单体中适当选择出的至少一种单体、根据希望的除上述单体以外的其他单体、以及根据希望的聚合引发剂等，在溶剂中，在50～110℃的温度下进行聚合反应，从而得到。此时，使用的溶剂只要可溶解构成特定共聚物的单体和特定共聚物，就没有特殊限定。作为具体例，可以列举出在后述的(D)溶剂中记载的溶剂。
这样得到的特定共聚物通常是该特定共聚物溶解在溶剂中的溶液状态。
另外，可将上述那样得到的特定共聚物的溶液搅拌下加入到乙醚、水等中再沉淀，将生成的沉淀物过滤、洗净，然后在常压或减压下、常温或加热干燥，从而制成特定共聚物的粉末。通过这样的操作，可以除去与特定共聚物一起存在的聚合引发剂和未反应的单体，结果得到精制的特定共聚物粉末。在一次操作不能充分精制的情况中，只要将得到的粉末再次溶解在溶剂中，重复进行上述操作即可。
在本发明中，可以将特定共聚物粉末直接使用，或者也可以将该粉末在例如后述的(D)溶剂那样的溶剂中再次溶解，以溶液状态使用。
用于形成(A)成分热交联体的、1分子内具有2个以上的乙烯基醚基的化合物，只要是在惯用的预烘烤温度下可以与同样形成(A)成分的碱溶性树脂的用于热交联反应的官能团进行热交联那样的，在一分子中具有2个以上的乙烯基醚基的化合物即可，对其种类和结构没有特殊限定。
上述化合物，与形成(A)成分的碱溶性树脂部分的用于热交联反应的官能团进行热交联，然后在光产酸剂的存在下经曝光生成酸，通过该酸从该碱溶性树脂部分分离(脱交联)，然后使用碱显影液显影，从而与该碱溶性树脂部分一起除去。因此，作为该类化合物，可以使用一般在乙烯基醚型化学放大型抗蚀剂的成分中使用的乙烯基醚系化合物等。在使用这样的化合物时具有下述优点，即可通过改变该化合物的配合量调整热交联密度，控制形成膜的形状。
并且，作为上述化合物，在上述乙烯基醚系化合物中，特别是式(2)和式(3)所示的化合物，在曝光部没有残膜和残渣而显影，所以优选。
式(2)
(式中，n是2～10的正数，k是1～10的正数，R1表示n价的有机基团。)
Figure S2007800036251D00112
式(3)
(式中，m是2～10的整数。)
式(2)的n表示1分子中乙烯基醚基的个数，但作为n更优选为2～4的整数。并且，式(3)的m表示一分子中乙烯基醚基的个数，但作为m，更优选2～4的整数。
作为式(2)和式(3)所示的化合物的具体例，可以列举出，二(4-(乙烯基氧基甲基)环己基甲基)戊二酸酯、三甘醇二乙烯基醚、己二酸二乙烯基酯、二甘醇二乙烯基醚、三(4-乙烯基氧基)丁基偏苯三酸酯、二(4-(乙烯基氧基)丁基)对苯二甲酸酯、二(4-(乙烯基氧基)丁基间苯二甲酸酯、和环己烷二甲醇二乙烯基醚等。
另外，相对于100质量份的上述碱溶性树脂，以1～80质量份，优选为5～40质量份的比例使用上述具有乙烯基醚基的化合物来形成(A)成分热交联体。如果具有乙烯基醚基的化合物的使用量过少，少于上述范围的下限，则未曝光部分中膜显著减少，图案状的起伏(relief)形状不良。另一方面，如果具有乙烯基醚基的化合物的使用量过多，超过上述范围的上限，则膜感度大大降低，显影后出现图案间的残渣。
对得到本发明中使用的(A)成分热交联体的方法没有特殊限定，例如可以通过将上述碱溶性树脂和上述具有乙烯基醚基的化合物在溶剂中保持35～70℃的温度，使碱溶性树脂的用于热交联反应的官能团与乙烯基醚基进行部分交联反应，从而得到。此时，使用的溶剂只要是可溶解该碱溶性树脂和该具有乙烯基醚基的化合物的溶剂就没有特殊限定，作为具体例，可以列举出后述(D)溶剂中记载的溶剂。
另外，为了得到(A)成分热交联体，如上所述，作为该碱溶性树脂，可以使用上述特定共聚物(该特定共聚物是溶解在溶剂中的溶液状态或精制的粉末状态)(另外，下面将使用特定共聚物得到的(A)成分热交联体称作“特定交联体”。)
在以溶液状态使用特定共聚物的情况中(包括将粉末溶解在溶剂中使用的情况)，在向其中加入具有乙烯基醚基的化合物形成均相溶液时，为了调节浓度还可以追加(D)溶剂。此时在特定共聚物的形成过程(或溶解粉末时)中使用的(D)溶剂，与在调制特定交联体时用于调节浓度的(D)溶剂可以相同，也可以不同。
<B成分>
(B)成分是1分子中具有2个以上封闭异氰酸酯基的化合物。其只要是相对于由上述碱溶性树脂部分形成的膜，可在例如惯用的后烘烤温度下热固化的、1分子中具有2个以上封闭异氰酸酯基的化合物即可，对其种类和结构没有特殊限定，所述碱溶性树脂部分可与用于形成(A)成分热交联体的上述具有乙烯基醚基的化合物部分热交联，或进而它们之间脱交联，形成(A)成分热交联体。
该(B)成分的化合物，一分子中具有2个以上的将异氰酸酯基(-NCO)通过适当的保护基封闭而成的封闭异氰酸酯基，并且如果处于热固化时的高温下，则保护基(封闭部分)热裂解脱离，生成异氰酸酯基，通过该异氰酸酯基与(A)成分中的用于热固化的官能团(例如，除了酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基)互相进行交联反应，该(B)成分的化合物可以列举出一分子中具有2个以上的例如式(4)所示的基团(该基团可以相同，也可以不同)的化合物(式中，R2表示封闭部的有机基团。)。
Figure S2007800036251D00121
式(4)
一分子中具有2个以上的封闭异氰酸酯基的(B)成分的化合物，可以通过例如对一分子中具有2个以上的异氰酸酯基的化合物作用适当的封闭剂来得到。
作为一分子中具有2个以上的异氰酸酯基的化合物可以列举出例如，异佛尔酮二异氰酸酯、1，6-亚己基二异氰酸酯、亚甲基二(4-环己基异氰酸酯)、三甲基六亚甲基二异氰酸酯等，或它们的二聚体、三聚体，或它们与二醇类、三醇类、二胺类、三胺类的反应物。
作为封闭剂，可以列举出例如，甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、2-乙氧基己醇、2-N，N-二甲基氨基乙醇、2-乙氧基乙醇、环己醇等醇类，苯酚、邻硝基苯酚、对氯苯酚、邻、间或对甲酚等酚类，ε-己内酰胺等内酰胺类，丙酮肟、甲乙酮肟、甲基异丁基酮肟、环己酮肟、苯乙酮肟、二苯甲酮肟等肟类，吡唑、3，5-二甲基吡唑、3-甲基吡唑等吡唑类，十二烷硫醇、苯硫醇等硫醇类。
(B)成分的化合物，在后烘烤温度那样的较高温度下，封闭部分发生热裂解，通过异氰酸酯基进行交联反应，但为了在预烘烤温度那样的低温下，异氰酸酯基不进行交联，特别优选封闭部分的热裂解温度比预烘烤温度高很多的化合物，作为(B)成分的化合物特别优选例如热裂解温度在120℃～230℃的化合物。
作为这样的(B)成分的化合物，可以列举出例如下面的具体例。
Figure S2007800036251D00131
式中，异氰酸酯化合物是从异佛尔酮二异氰酸酯衍生出的，该(B)成分的化合物，从耐热性、涂膜性的观点来看更加优选，作为这样的化合物，可以列举出以下的化合物。
下式中，R表示有机基团。
Figure S2007800036251D00151
Figure S2007800036251D00161
在本发明中，(B)成分的化合物可以单独使用一种，还可以组合使用2种以上。
另外，相对于100质量份的(A)成分热交联体，以0.5～80质量份，优选为2～40质量份的比例使用(B)成分的化合物。如果(B)成分的化合物的使用量过少，少于上述范围的下限，则热固化不充分，得不到满意的固化膜，另一方面，如果(B)成分的化合物的使用量过多，超过上述范围的上限，则显影不充分，出现显影残渣。
<C成分>
(C)成分是光产酸剂(PAG)。是经曝光中使用的光(g、h、i线等紫外线，ArF、KrF、F2激光、或电子束等)照射，直接或间接产生酸(磺酸类、羧酸类等)的物质，只要具有这样的性质，就对其种类和结构等没有特殊限定。
作为(C)成分光产酸剂，可以列举出例如，重氮甲烷化合物、鎓盐化合物、砜酰亚胺化合物、二砜系化合物、磺酸衍生物化合物、硝基苄基化合物、苯偶姻甲苯磺酸酯化合物、铁芳烃络合物、含有卤素的三嗪化合物、苯乙酮衍生物化合物、和含有氰基的肟磺酸酯化合物等。现已知或一直使用的任一种光产酸剂，均可在本发明中使用，没有特殊限定。另外，在本发明中，(C)成分光产酸剂可以单独使用一种，还可以组合使用2种以上。
作为这样的光产酸剂的具体例，可以列举出以下的化合物。这些化合物只是可以使用的非常多的光产酸剂中的少数例子，当然并不能仅限这些。
Figure S2007800036251D00171
二苯基氯化碘鎓盐、二苯基碘鎓三氟甲磺酸盐、二苯基碘鎓甲磺酸盐、二苯基碘鎓甲苯磺酸盐、二苯基溴化碘鎓盐、二苯基碘鎓四氟硼酸盐、二苯基碘鎓六氟锑酸盐、二苯基碘鎓六氟砷酸盐、二(对叔丁基苯基)碘鎓六氟磷酸盐、二(对叔丁基苯基)碘鎓甲磺酸盐、二(对叔丁基苯基)碘鎓甲苯磺酸盐、二(对叔丁基苯基)碘鎓三氟甲磺酸盐、二(对叔丁基苯基)碘鎓四氟硼酸盐、二(对叔丁基苯基)氯化碘鎓盐、二(对氯苯基)氯化碘鎓盐、二(对氯苯基)四氟硼酸碘鎓盐、三苯基氯化锍盐、三苯基溴化锍盐、三苯基锍三氟甲磺酸盐、三(对甲氧基苯基)锍四氟硼酸盐、三(对甲氧基苯基)锍六氟膦酸盐、三(对乙氧基基)锍四氟硼酸盐、三苯基氯化鏻、三苯基溴化鏻、三(对甲氧基苯基)鏻四氟硼酸盐、三(对甲氧基苯基)鏻六氟膦酸盐、三(对乙氧基苯基)鏻四氟硼酸盐，
Figure S2007800036251D00181
Figure S2007800036251D00191
Figure S2007800036251D00201
Figure S2007800036251D00221
Figure S2007800036251D00231
另外，相对于100质量份的(A)成分热交联体，以0.2～80质量份，优选为0.5～30质量份的比例使用(C)成分光产酸剂。如果(C)成分光产酸剂的使用量过少，少于上述范围的下限，则曝光时，不能将热交联后的形成(A)成分热交联体的乙烯基醚化合物部分从同样是形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂部分充分裂解，难以得到所希望图案状的起伏，另一方面，如果(C)成分光产酸剂的使用量过多，超过上述范围的上限，则正型感光性树脂组合物的保存稳定性变得不好。
<D溶剂>
本发明中使用的(D)溶剂可溶解(A)成分、(B)成分、(C)成分，且可溶解根据希望添加的后述的(E)成分、(F)成分、(G)成分等，只要是具有这样的溶解能力的溶剂，就对其种类和结构等没有特殊限定。
作为这样的(D)溶剂，可以列举出例如，乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、丙二醇、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、甲苯、二甲苯、甲乙酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、γ-丁内酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、和N-甲基吡咯烷酮等。
这些溶剂可以单独使用一种，或将两种以上组合使用。
这些(D)溶剂中，丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、2-庚酮、丙二醇丙基醚、丙二醇丙基醚乙酸酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯等，涂膜性良好，完全性高，从该观点看更加优选。这些溶剂一般可用作光致抗蚀剂材料的溶剂。
<E成分>
(E)成分是碱溶性树脂，是与形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂部分不同的树脂。对于本发明的正型感光性树脂组合物而言，只要不损害本发明的效果，就还可以含有与形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂不同的其他碱溶性树脂。
作为这样的(E)成分，可以列举出例如，与形成(A)成分热交联体的碱溶性树脂部分不同的丙烯酸系树脂、羟基苯乙烯系树脂、苯酚线型酚醛清漆树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺前体、和聚酰亚胺树脂等。
<F成分>
(F)成分是胺化合物。在本发明的正型感光性树脂组合物中，为了提高其保存稳定性，只要不损害本发明的效果，就还可以含有胺化合物。
作为(F)成分胺化合物，没有特殊限定，可以列举出例如，三乙醇胺、三丁醇胺、三甲胺、三乙胺、三正丙基胺、三异丙基胺、三正丁基胺、三叔丁基胺和二氮杂双环辛烷等叔胺，吡啶、和4-二甲氨基吡啶等芳香族胺，另外还可以列举出苄胺、正丁基胺等伯胺，以及二乙胺、和二正丁基胺等仲胺。
(F)成分胺化合物，可以单独使用一种，或可以组合使用2种以上。
使用胺化合物时，其含量相对于100质量份的(A)成分热交联体，是例如0.0005～5质量份，另外有时是0.002～1质量份，并且优选为0.005～0.5质量份。如果(F)成分胺化合物的使用量过少，小于上述范围的下限，则不能充分提高正型感光性树脂组合物的保存稳定性，另一方面，如果(F)成分胺化合物的使用量过多，超过上述范围的上限，则有时正型感光性树脂组合物的感度下降。
<G成分>
(G)成分是表面活性剂，在本发明的正型感光性树脂组合物中，为了提高其涂布性，只要不损害本发明的效果，就还可以含有表面活性剂。
作为(G)成分表面活性剂，没有特殊限定，可以列举出例如氟系表面活性剂、硅氧烷系表面活性剂、非离子系表面活性剂等。作为此类表面活性剂，可以使用例如住友スリ一エム(株)制、大日本インキ化学工业(株)制、或旭硝子(株)制等的市售品。这些市售品容易得到，所以比较合适。作为其具体例，可以列举出，エフトツプE F 301、E F 303、E F 352((株)ジエムコ制)、メガフアツクF 171、F 173(大日本インキ化学工业(株)制)、フロラ一ドF C 430、F C 431(住友スリ一エム(株)制)、アサヒガ一ドA G 710、サ一フロンS-382、S C 101、SC 102、SC 103、SC 104、SC 105、SC 106(旭硝子(株)制)等氟系表面活性剂。
(G)成分表面活性剂，可以单独使用一种，或可以使用2种以上。
使用表面活性剂时，其含量在100质量％的正型感光性树脂组合物中通常为0.2质量％以下，优选为0.1质量％以下。如果设定(G)成分表面活性剂的使用量超过0.2质量％，则上述涂布性改良效果变得不明显，不经济。
<其他添加剂>
本发明的正型感光性树脂组合物，只要不损害本发明的效果，根据需要还可以含有流变调节剂、硅烷偶联剂等接合辅助剂、颜料、染料、保存稳定剂、消泡剂、以及多价酚、多元羧酸等溶解促进剂等。
<正型感光性树脂组合物>
本发明的正型感光性树脂组合物，是含有(A)成分热交联体、(B)成分的具有封闭异氰酸酯基的化合物、(C)成分光产酸剂和(D)溶剂，且根据希望还含有(E)成分碱溶性树脂、(F)成分胺化合物、(G)成分表面活性剂和其他添加剂中的一种以上的组合物。
其中，本发明的正型感光性树脂组合物的优选例有以下这些。
：(A)成分是基于100质量份具有可进行热交联反应的官能团的碱溶性树脂，与1～80质量份的具有乙烯基醚基的化合物进行热交联反应而成的热交联体，并且基于100质量份该(A)成分热交联体，含有0.5～80质量份的(B)成分和0.2～80质量份的(C)成分，将这些成分溶解在(D)溶剂中而成的正型感光性树脂组合物。
：在上述[1]的组合物中，还含有(E)成分的正型感光性树脂组合物。
：在上述[1]或[2]的组合物中，基于(A)成分热交联体100质量份，还含有0.0005～5质量份的(F)成分的正型感光性树脂组合物。
：在上述[1]、[2]或[3]的正型感光性树脂组合物中，还含有0.2质量％以下的(G)成分的正型感光性树脂组合物。
本发明的正型感光性树脂组合物中的固体成分的比例，只要各成分可均一溶解在溶剂中就没有特殊限定，例如是1～80质量％，或例如是5～60质量％，或10～50质量％。这里，固体成分是指从正型感光性树脂组合物的总成分中除去(D)溶剂后的成分。
对本发明的正型感光性树脂组合物的调制方法没有特殊限定，作为其调制方法，可以列举出例如，在(D)溶剂中按照规定比例混合(A)成分(热交联体)、(B)成分(一分子中具有2个以上的封闭异氰酸酯基的化合物)、(C)成分(光产酸剂)、和(G)成分(表面活性剂)，形成均相溶液的方法，或者在该调制方法的适当阶段，根据需要进一步添加(F)成分(胺化合物)、(E)成分(碱溶性树脂)和/或其他添加剂的方法。
在本发明的正型感光性树脂组合物的调制中，可以直接使用通过在(D)溶剂中聚合反应得到的特定共聚物的溶液，此时，在该特定共聚物的溶液与具有乙烯基醚基的化合物反应形成的(A)成分(特定交联体)的溶液中，与上述同样加入(B)成分、(C)成分等形成均相溶液，此时为了调节浓度，还可以追加(D)溶剂。此时，在形成特定共聚物的过程中使用的(D)溶剂可以与在调制正型感光性树脂组合物时用于调节浓度的(D)溶剂相同，也可以不同。
并且，调制出的正型感光性树脂组合物的溶液，优选使用孔径0.2μm程度的过滤器等进行过滤，然后使用。
<涂膜和固化膜>
在半导体基板(例如硅/二氧化硅被覆基板、氮化硅基板、金属例如铝、钼、铬等被覆的基板、玻璃基板、石英基板、ITO基板等)上，通过旋涂、流涂、辊涂、狭缝涂、狭缝涂后旋涂、喷墨涂等方法涂布本发明的正型感光性树脂组合物，然后用电热板或烘箱等进行预干燥，从而形成涂膜。然后通过对该涂膜进行加热处理来形成正型感光性树脂膜。
作为该加热处理的条件，可以采用例如，加热温度适当选自70℃～160℃的范围，加热时间适当选自0.3～60分钟的范围。加热温度优选为80℃～140℃，加热时间优选为0.5～10分钟。
另外，由正型感光性树脂组合物形成的正型感光性树脂膜的膜厚例如是0.1～50μm，又例如是0.3～30μm，进而例如是0.5～10μm。
并且，形成的正型感光性树脂膜，经形成时的加热处理，可与(A)成分热交联体中的乙烯基醚基进行热交联反应的官能团进一步进行热交联，由此形成在碱显影液中难溶的膜。此时，在加热处理的温度比上述温度范围的下限还低的情况中，热交联不充分，有时在未曝光部出现膜减少。另外，在加热处理的温度过高，超过上述温度范围的上限的情况中，暂且形成的热交联部再次断裂，有时引起未曝光部膜减少。
由本发明的正型感光性树脂组合物形成的正型感光性树脂膜，如果对其使用具有规定图案的掩模，用紫外线、ArF、KrF、F2激光等光曝光，则由于正型感光性树脂膜中含有的(C)成分光产酸剂(PAG)产生的酸的作用，该膜中的曝光部变得在碱性显影液中可溶。
接着，对正型感光性树脂膜进行曝光后加热(PEB)。作为此时的加热条件，加热温度从80℃～150℃的范围适当选择，加热时间从0.3～60分钟的范围适当选择。
然后使用碱性显影液进行显影。由此除去正型感光性树脂膜中的曝光部分，形成图案状的起伏。
作为可使用的碱性显影液，可以列举出例如，氢氧化钾、氢氧化钠等碱金属氢氧化物的水溶液、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱等氢氧化季铵盐的水溶液、乙醇胺、丙胺、乙二胺等胺水溶液等的碱性水溶液。进而，还可以在这些显影液中加入表面活性剂等。
上述中，一般作为光致抗蚀剂的显影液使用四乙基氢氧化铵为0.1～2.38质量％的水溶液，如果在本发明的感光性树脂组合物中，使用该碱性显影液，则可以在不引起膨胀等问题的情况下良好显影。
另外，作为显影方法，可以使用液池(puddle)法、浸渍法、摇动浸渍法等任一种方法。此时的显影时间通常为15～180秒。
显影后，对正型感光性树脂膜用流水洗净例如20～90秒，接着使用压缩空气或压缩氮气，或通过旋转风干除去基板上的水分，得到形成图案的膜。
接着，为了热固化对这样的图案形成膜进行后烘烤，具体地讲，通过使用电热板、烘箱等进行加热，从而得到耐热性、透明性、平坦化性、低吸水性、耐化学性等优异，且具有良好起伏图案的膜。
作为后烘烤，一般加热温度选自140℃～250℃的范围，采用在电热板上时处理5～30分钟，在烘箱时处理30～90分钟的方法。
于是，通过这样的后烘烤，可以得到目标的具有良好图案形状的固化膜。
如以上那样，通过本发明的正型感光性树脂组合物，可以形成感度充分高，且显影时的未曝光部观察不到膜减少那样程度的，事实上未减少的，具有微细图案的涂膜。
另外，由该涂膜得到的固化膜，耐热性、耐溶剂性、透明性优异。
另外，在将此类固化膜作为例如液晶显示器用阵列平坦化膜使用时，在后面的工序中，在金属蒸镀时，在更高温(例如250℃)的加热下，有时在高温(例如230℃)下进行长时间烧成，另外，在蚀刻后剥离抗蚀剂时，要使固化膜与单乙醇胺(MEA)等胺系溶液的抗蚀剂剥离液接触。因此，对这样的固化膜要求对高温烘烤(或长期烘烤)耐性高，并且要求对抗蚀剂剥离液(胺系溶液)处理耐性高。
通过本发明得到的固化膜，无论是经高温烘烤(或长时间烘烤)，还是经抗蚀剂剥离液(胺系溶液)处理，透射率降低均非常小，保持高透明性，并且膜厚减少小，是耐热性和耐化学性优异的固化膜，因此，不仅可理想用于TFT型液晶元件的阵列平坦化膜，而且还可理想用于液晶或有机EL显示器中的各种膜例如，层间绝缘膜、保护膜、绝缘膜、反射膜下侧的凹凸膜等用途中，进而通过选择固化膜的形状，还可以理想用于微透镜。
实施例
下面列举实施例来更详细说明本发明，但本发明并不以这些实施例为限。
[实施例中使用的简写符号]
在下面的实施例中使用的简写符号的意思如下。
MAA：甲基丙烯酸
MMA：甲基丙烯酸甲酯
HEMA：甲基丙烯酸2-羟基乙酯
CHMI：N-环己基马来酰亚胺
ST：苯乙烯
NHPMA：N-羟基苯基甲基丙烯酰胺
PEMA：单-(2-(甲基丙烯酰氧基)乙基)邻苯二甲酸酯
AIBN：偶氮二异丁腈
PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯
PGME：丙二醇单甲醚
PAG1：チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ(株)制CGI1397(商品名)
PVE1：三(4-(乙烯基氧基)丁基)偏苯三酸酯
PVE2：1，4-环己烷二甲醇二乙烯基醚
NCO1：デグサAG制VESTAGON(注册商标)B 1065(商品名)
R30：大日本インキ化学工业(株)制メガフアツクR-30(商品名)
GT4：ダイセル化学工业(株)制GT-401(商品名)
MPTS：γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷
P200：东洋合成工业(株)制P-200(商品名)4，4’-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯基]乙叉基]双酚1摩尔和1，2-萘醌-2-重氮基-5-磺酰氯2摩尔通过缩合反应合成的感光剂
[数均分子量和重均分子量的测定]
使用日本分光(株)制GPC装置(Shodex(注册商标)柱子KF803L和KF804L)，使洗脱溶剂四氢呋喃以1ml/分钟的流量在柱中(柱温40℃)流过，进行洗脱，在此条件下测定依照以下的合成例得到的特定共聚物和特定交联体的数均分子量和重均分子量。另外，下述数均分子量(以下称为Mn。)和重均分子量(以下称为Mw。)表示聚苯乙烯换算值。
[特定共聚物的合成]
<合成例1>
作为构成特定共聚物的单体成分，使用15.5g的MAA、35.3g的CHMI、25.5g的HEMA、23.7g的MMA，作为自由基聚合引发剂使用5g的AIBN，将它们在200g的溶剂PGMEA中、在温度60℃～100℃下进行聚合反应，从而得到Mn4,100、Mw7,600的特定共聚物的溶液P1(特定共聚物浓度：27.5质量％)。
<合成例2～4>
使用下表1中的合成例2～合成例4的各栏中记载的单体成分和溶剂代替合成例1中使用的单体成分和溶剂，按照与合成例1同样的步骤和条件进行聚合反应，从而得到特定共聚物的各溶液(P2～P4)。
对得到的各特定共聚物(P1～P4)的Mn和Mw进行测定。
将这些结果示于表1。
[表1]
Figure S2007800036251D00311
＊1：在特定共聚物的合成中使用的溶剂
[特定交联体的合成]
<合成例5>
混合构成(A)成分特定交联体的，作为特定共聚物成分的合成例1调制的特定共聚物溶液P1 100g、作为多官能乙烯基醚化合物的PVE2(CHDVE)1.38g、和作为溶剂的PGMEA18g，在温度50℃下反应16小时，从而得到Mn4,900、Mw14,400的(A)成分(特定交联体)的溶液C1(特定交联体浓度：25.0质量％)。
<合成例6～合成例9>
使用下表2中的合成例6～合成例9的各栏中记载的特定共聚物溶液、多官能乙烯基醚化合物和溶剂，按照与合成例5同样的步骤和条件进行反应，从而得到特定交联体的各溶液(C2～C5)。
将以上结果示于表2。
[表2]
＊2：特定交联体的调制中使用的溶剂
[正型感光性树脂组合物的调制]
<实施例1～5>
按照下表3所示的组成，在作为(A)成分的特定交联体的溶液中，按照规定比例混合(B)成分、(C)成分和(D)溶剂，以及(G)成分，在室温下搅拌3小时形成均相溶液，从而调制出各实施例的正型感光性树脂组合物。
<比较例1～4>
按照下表3所示的组成，使用特定共聚物(P1～P3)的溶液代替(A)成分的溶液，按照规定比例向其中混合乙烯基醚化合物、(B)成分、(C)成分和(D)溶剂、以及(G)成分，在室温下搅拌3小时形成均相溶液，从而调制出各比较例的正型感光性树脂组合物。
[表3]
  (A)成分的溶液(g)   乙烯基醚化合物(g)   (B)成分(g)  (C)成分(g)   (D)溶剂(g)   (G)成分(g)
实施例1   C125 -   NCO10.6  PAG10.24   PGMEA1.4   R300.0034
实施例2   C225 -   NCO10.6  PAG10.24   PGMEA1.4   R300.0034
实施例3   C325 -   NCO10.6  PAG10.24   PGMEA1.4   R300.0034
实施例4   C425 -   NCO10.6  PAG10.24   PGMEA1.4   R300.0034
实施例5   C525 -   NCO10.6  PAG10.24   PGMEA1.4   R300.0034
比较例1   P223.9   PVE11.11   NCO10.55  PAG10.28   PGME/PGMEA0.57/3.3   R300.0037
比较例2   P320   PVE11.11   NCO10.55  PAG10.28   PGMEA3.3   R300.0037
比较例3   P120   PVE11.11 -  PAG10.28   PGME1.6   R300.0034
比较例4   P120 -   NCO10.55  PAG10.28   PGMEA0.3   R300.0032
<比较例5>
代替(A)成分的溶液，使用合成例1中得到的特定共聚物溶液(P1)20g，作为(C)成分使用1.1g的1，2-醌重氮(1，2-quinone diazide)化合物P200，用1.1g的环氧系交联性化合物GT4代替(B)成分，作为(G)成分表面活性剂使用0.0039g的R30，作为密合助剂使用0.25g的MPTS，作为溶剂使用10.6g的PGMEA，将它们混合，将该混合物在室温下搅拌8小时形成均相溶液，从而调制出比较例5的正型感光性树脂组合物。
对得到的实施例1～5和比较例1～5的各正型感光性树脂组合物，分别按照以下步骤评价感度、膜减少(未曝光部中)、高温烘烤后的光透射率(透明性)、MEA处理后的光透射率、MEA耐性、和尺寸精度各项。
另外，在要从正型感光性树脂组合物得到固化膜时，在比较例5中，在显影后、后烘烤前的阶段进行光漂白(photobleaching)，另一方面，在实施例1和2、以及比较例1～4中，不进行光漂白，在曝光后、显影前的阶段进行曝光后加热(PEB)，基于这一点，两者的评价步骤如下述那样不同。
[感度的评价]
<实施例1～5、比较例1～4>
使用旋涂器将正型感光性树脂组合物涂布在硅晶片上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。膜厚使用FILMETRICS社制F20测定。通过キヤノン(株)制紫外线照射装置PLA-600FA对该涂膜照射一定时间的365nm、光强度5.5mW/cm2的紫外线。接着，在温度110℃的电热板上进行120秒钟的曝光后加热(PEB)。然后在0.4质量％的四甲基氢氧化铵(以下称作“TMAH”)的水溶液中浸渍60秒钟进行显影，之后用超纯水进行20秒钟流水洗净。将曝光部中没有溶解残余的最低曝光量(mJ/cm2)作为感度。
<比较例5>
使用旋涂器将正型感光性树脂组合物涂布在硅晶片上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。膜厚使用FILMETRICS社制F20测定。通过キヤノン(株)制紫外线照射装置PLA-600FA对该涂膜照射一定时间的365nm、光强度5.5mW/cm2的紫外线。然后在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟进行显影，之后用超纯水进行20秒钟流水洗净。将曝光部中没有溶解残余的最低曝光量(mJ/cm2)作为感度。
[膜减少的评价]
使用旋涂器将正型感光性组合物涂布在硅晶片上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。将该膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。接着，通过测定该膜厚度评价显影使未曝光部分的膜减少的程度。该评价中使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。
[高温烘烤后的光透射率(透明性)的评价]
<实施例1～5、比较例1～4>
使用旋涂器将正型感光性组合物涂布在石英基板上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。将该涂膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。接着通过在230℃下加热30分钟进行后烘烤，形成膜厚为1.9μm的固化膜。使用紫外可见分光光度计((株)岛津制作所制SHIMADSUUV-2550型)，测定该固化膜400nm波长的透射率。进而将该涂膜在250℃下加热30分钟，然后测定400nm波长的透射率。该评价中使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。
<比较例5>
使用旋涂器将正型感光性组合物涂布在石英基板上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.4μm的涂膜。将该涂膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。通过キヤノン(株)制紫外线照射装置PLA-600FA对该涂膜照射800mJ/cm2的365nm、光强度5.5mW/cm2的紫外线(光漂白)，接着在230℃下加热30分钟进行后烘烤，形成膜厚1.9μm的固化膜。使用紫外可见分光光度计((株)岛津制作所制SHIMADSU UV-2550型)，对该固化膜测定400nm波长的透射率。进而将该涂膜在250℃下加热30分钟，然后测定400nm波长的透射率。该评价中使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。
[MEA处理后的光透射率和MEA耐性的评价]
<实施例1～5、比较例1～4>
使用旋涂器将正型感光性组合物涂布在石英基板上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。将该涂膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。接着通过在230℃下加热30分钟进行后烘烤，形成膜厚1.9μm的固化膜。将该涂膜在加热至60℃的单乙醇胺中浸渍20分钟，然后用纯水进行20秒钟洗净。接着，在温度180℃的电热板上干燥10分钟，然后测定膜厚，使用紫外可见分光光度计((株)岛津制作所制SHIMADSUUV-2550型)测定400nm波长的透射率。该评价中使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。将后烘烤后的膜厚与MEA处理、干燥后的膜厚没有变化的记作MEA耐性○，将减少的记作×。
<比较例5>
使用旋涂器将正型感光性组合物涂布在石英基板上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.4μm的涂膜。将该涂膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。通过キヤノン(株)制紫外线照射装置PLA-600FA对该涂膜照射800mJ/cm2的365nm、光强度5.5mW/cm2的紫外线(光漂白)，接着在230℃下加热30分钟进行后烘烤，形成膜厚为1.9μm的固化膜。将该涂膜在加热至60℃的单乙醇胺中浸渍20分钟，然后用超纯水进行20秒钟洗净。接着，在温度180℃的电热板上干燥10分钟，然后测定膜厚，并使用紫外可见分光光度计((株)岛津制作所制SHIMADSU UV-2550型)测定400nm波长的透射率。该评价中使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。将后烘烤后的膜厚与MEA处理、干燥后的膜厚没有变化的记作MEA耐性○，将减少的记作×。
[尺寸精度]
<实施例1～5、比较例1～4>
使用旋涂器将正型感光性树脂组合物涂布在硅晶片上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。由キヤノン(株)制紫外线照射装置PLA-600FA通过8μm的线条和间距图案(line and space pattern)的掩模对该涂膜照射40mJ/cm2的365nm、光强度5.5mW/cm2的紫外线，接着在温度110℃的电热板上进行120秒钟的曝光后加热(PEB)。然后将该膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟进行显影，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。然后在230℃的电热板上加热30分钟进行后烘烤。使用扫描电镜(以下称作SEM)观察形成的图案的截面，测定线条宽度。将图案宽度保持在8μm的记作○，将图案宽度变宽或缩小，不能保持8μm的记作×。
<比较例5>
使用旋涂器将正型感光性树脂组合物涂布在硅晶片上，然后在温度110℃的电热板上进行120秒钟的预烘烤，形成膜厚2.5μm的涂膜。使用FILMETRICS社制F20测定膜厚。由キヤノン(株)制紫外线照射装置PLA-600FA通过8μm的线条和间距图案的掩模对该涂膜照射200mJ/cm2的365nm、光强度5.5mW/cm2的紫外线。然后将该膜在0.4质量％的TMAH的水溶液中浸渍60秒钟进行显影，然后用超纯水进行20秒钟流水洗净。然后在230℃的电热板上加热30分钟进行后烘烤。使用SEM观察形成的图案的截面，测定线条宽度。将图案宽度保持在8μm的记作○，将图案宽变宽或缩小，不能保持8μm的记作×。
[保存稳定性]
<实施例1～5、比较例1～5>
在温度23℃下保存正型感光性树脂组合物1个月，然后目视评价。评价中，将未凝胶化的记作○，将凝胶化的记作×。
[评价结果]
将以上评价结果示于下表4中。
[表4]
Figure S2007800036251D00371
＊3“无膜减少”是指测定结果中没有观测到膜减少(也就是说，不存在实际上成为问题那样的膜减少)。
从表4所示的结果可判断，实施例1～5均是高感度的，在测定结果中事实上没有观测到未曝光部中的膜减少，即使在250℃(或230℃)下进行30分钟高温烘烤后，光透射率减少小，保持高透明性，进而在MEA处理后，透射率减少小，具有优异的MEA耐性和尺寸精度，保存稳定性也优异。
相反，在比较例1～3中，经230℃、30分钟的后烘烤，图案形成膜再次流动，不能得到所希望形状和尺寸的图案。另外，如果将没有形成图案的膜在230℃后烘烤30分钟，然后进行MEA处理，则出现膜减少。MEA处理后的膜厚比MEA处理前的膜厚减少约25％。另外，表4中的“MEA处理后的透射率”是MEA处理后出现膜减少的膜的值。
在比较例4中，经显影，膜溶解，消失。
进而在比较例5中，显影后未曝光部中的膜减少量是0.2μm。在230℃后烘烤30分钟后，膜透射率为92％，进而如果在250℃下烘烤30分钟，则膜的透射率降至85％。另外，如果在230℃后烘烤30分钟后进行MEA处理，则膜的透射率从92％降至86％。
产业可利用性
本发明的正型感光性树脂组合物，可以理想地作为薄膜晶体管(TFT)型液晶显示元件、有机EL元件等各种显示器中的保护膜、平坦化膜、绝缘膜等固化膜的形成材料，特别可理想地作为TFT型液晶元件的层间绝缘膜、滤色器的保护膜、阵列平坦化膜、反射型显示器的反射膜下侧的凹凸膜、有机EL元件的绝缘膜等的形成材料，进而还可以理想地作为微透镜材料等的各种电子材料。

Claims (15)

1.一种正型感光性树脂组合物，含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分、和(D)溶剂，其中，
(A)成分：一种热交联体，由原料聚合物通过介有从多官能乙烯基醚化合物衍生出的、含有2个以上的式(1)所示热交联基团的化学结构互相键合形成，并且该热交联体的重均分子量为10,000～250,000，所述原料聚合物具有能够与(B)成分的化合物发生热固化反应的、用于膜固化的官能团，该用于膜固化的官能团选自除酚性羟基以外的羟基和有活泼氢的氨基中的至少一种，
Figure FSB00000543828700011
(B)成分：1分子中具有2个以上的封闭异氰酸酯基的化合物，
(C)成分：光产酸剂，
(D)溶剂。
2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，在上述(A)成分热交联体中还含有能够进行热交联反应的官能团和乙烯基醚基。
3.根据权利要求2所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述用于热交联反应的官能团选自羧基和酚性羟基中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述(A)成分是碱溶性树脂与一分子中具有2个以上的乙烯基醚基的化合物进行热交联反应而成的热交联体，所述碱溶性树脂具有能够进行热交联反应的官能团，且其数均分子量为2,000～30,000。
5.根据权利要求4所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述(A)成分是基于100质量份的上述碱溶性树脂，与1～80质量份的上述具有乙烯基醚基的化合物进行热交联反应而成的热交联体。
6.根据权利要求4所述的正型感光性树脂组合物，基于100质量份的(A)成分热交联体，含有0.5～80质量份的(B)成分、和0.2～80质量份的(C)成分。
7.根据权利要求4所述的正型感光性树脂组合物，还含有作为(E)成分的碱溶性树脂。
8.根据权利要求7所述的正型感光性树脂组合物，其特征在于，上述(E)成分的碱溶性树脂是除了用于形成上述(A)成分热交联体的碱溶性树脂以外的其他碱溶性树脂。
9.根据权利要求6所述的正型感光性树脂组合物，还含有基于100质量份的(A)成分热交联体为0.0005～5质量份的作为(F)成分的胺化合物。
10.根据权利要求6所述的正型感光性树脂组合物，还含有0.2质量％以下的作为(G)成分的表面活性剂。
11.一种固化膜，是使用权利要求1～10的任一项所述的正型感光性树脂组合物得到的。
12.一种液晶显示元件，具有权利要求11所述的固化膜。
13.一种液晶显示器用阵列平坦化膜，由权利要求11所述的固化膜制成。
14.一种层间绝缘膜，由权利要求11所述的固化膜制成。
15.一种微透镜，由权利要求11所述的固化膜制成。
CN2007800036251A 2006-01-25 2007-01-09 正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜 Active CN101374878B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006016564 2006-01-25
JP016564/2006 2006-01-25
PCT/JP2007/050087 WO2007086249A1 (ja) 2006-01-25 2007-01-09 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれから得られる硬化膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101374878A CN101374878A (zh) 2009-02-25
CN101374878B true CN101374878B (zh) 2012-01-18

Family

ID=38309048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800036251A Active CN101374878B (zh) 2006-01-25 2007-01-09 正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5019055B2 (zh)
KR (1) KR101369486B1 (zh)
CN (1) CN101374878B (zh)
TW (1) TWI411883B (zh)
WO (1) WO2007086249A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8828651B2 (en) 2005-07-25 2014-09-09 Nissan Chemical Industries, Ltd. Positive-type photosensitive resin composition and cured film manufactured therefrom
EP2109001B1 (en) 2007-01-22 2012-01-11 Nissan Chemical Industries, Ltd. Positive photosensitive resin composition
EP2207837B1 (en) * 2007-10-30 2015-03-25 Brewer Science, Inc. Method of forming a microelectronic structure
WO2009093419A1 (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Daicel Chemical Industries, Ltd. 化学増幅型フォトレジスト用樹脂及びその製造方法
WO2011111424A1 (ja) * 2010-03-11 2011-09-15 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機ｅｌ表示装置
JP5734152B2 (ja) * 2011-09-30 2015-06-10 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜並びにその製造方法
KR101989196B1 (ko) * 2013-03-14 2019-06-13 동우 화인켐 주식회사 바인더 수지
CN103941544A (zh) * 2014-01-26 2014-07-23 京东方科技集团股份有限公司 一种光刻胶及其制作方法、使用方法
WO2016088757A1 (ja) * 2014-12-04 2016-06-09 日産化学工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
CN107357134B (zh) * 2016-05-09 2021-12-10 台湾积体电路制造股份有限公司 组成物及形成一材料层的方法
JP7445198B2 (ja) 2019-02-25 2024-03-07 日産化学株式会社 マイクロレンズ用感光性樹脂組成物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1698016A (zh) * 2003-05-20 2005-11-16 东京应化工业株式会社 化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
CN1875322A (zh) * 2003-11-25 2006-12-06 东京应化工业株式会社 化学放大正型光敏热固性树脂组合物、形成固化制品的方法及制备功能器件的方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0695369A (ja) * 1991-10-14 1994-04-08 Sannopuko Kk 感光性樹脂組成物
JP3570477B2 (ja) * 1997-01-24 2004-09-29 信越化学工業株式会社 高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料
JP4424630B2 (ja) * 1999-07-13 2010-03-03 三菱レイヨン株式会社 化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4124978B2 (ja) * 2001-04-05 2008-07-23 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
TWI331255B (en) * 2003-05-22 2010-10-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Chemical amplification type positive photoresist composition and resist pattern forming method using the same
JP2006003844A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2006003846A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Daito Chemix Corp 化学増幅型フォトレジスト用重合体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1698016A (zh) * 2003-05-20 2005-11-16 东京应化工业株式会社 化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
CN1875322A (zh) * 2003-11-25 2006-12-06 东京应化工业株式会社 化学放大正型光敏热固性树脂组合物、形成固化制品的方法及制备功能器件的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101374878A (zh) 2009-02-25
KR101369486B1 (ko) 2014-03-05
JP5019055B2 (ja) 2012-09-05
WO2007086249A1 (ja) 2007-08-02
KR20080089485A (ko) 2008-10-06
JPWO2007086249A1 (ja) 2009-06-18
TWI411883B (zh) 2013-10-11
TW200745756A (en) 2007-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101374878B (zh) 正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜
CN1904736B (zh) 正型感光性树脂组合物和由其得到的固化膜
CN101467100B (zh) 含有具有环结构的高分子化合物的正型感光性树脂组合物
JP4988457B2 (ja) フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法
KR101855239B1 (ko) 블록이소시아나토기 함유 폴리머, 그 폴리머를 포함하는 조성물 및 그 용도
TWI760534B (zh) 感光性樹脂組成物及其之製造方法、濾色器及其之製造方法，以及圖像顯示元件
KR101758690B1 (ko) 경화성 수지 조성물, 컬러 필터, 화상 표시 소자 및 컬러 필터의 제조 방법
CN101443705A (zh) 含有硅氧烷化合物的正型感光性树脂组合物
CN105867069A (zh) 负型感光性树脂组合物、使用其形成的光固化图案和图像显示装置
CN105938298A (zh) 负型感光性树脂组合物、使用其形成的光固化图案和图像显示装置
CN101571672A (zh) 负型感光性树脂组合物
TW202237676A (zh) 共聚物及該共聚物之製造方法
CN101517492B (zh) 使用半曝光用正型感光性树脂层的透明性固化膜的制造方法
CN105824194A (zh) 感光性树脂组合物、由其形成的光固化图案及具有其的图像显示装置
KR101285640B1 (ko) 포지형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 얻어지는 경화막
JP4753036B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物及びそれから得られる硬化膜
TWI791563B (zh) 共聚物、聚合物組成物、感光性樹脂組成物、濾色器用感光性樹脂組成物、濾色器、圖像顯示元件、及濾色器之製造方法
JP5033430B2 (ja) 液晶配向制御用突起形成用組成物
JP5076511B2 (ja) 液晶配向制御用突起形成用組成物
CN113853394A (zh) 树脂组合物及树脂膜
JP2007304544A (ja) 液晶配向用突起形成用ネガ型レジスト、液晶配向用突起、カラーフィルター、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法
WO2023119900A1 (ja) 感光性樹脂組成物およびカラーフィルター
JP2010020158A (ja) ネガ型レジスト、カラーフィルター、及び、液晶表示装置
CN103443708A (zh) 负型感光性树脂组合物
WO2024116596A1 (ja) 共重合体及び感光性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant