CN101213267A - 含有近红外线吸收剂的压敏粘合剂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种包含耐热性和耐湿热性优异,同时保持足够的NIR屏蔽性和透明性的近红外线吸收剂的压敏粘合剂组合物。使用压敏粘合剂组合物可解决问题,所述压敏粘合剂组合物包括:(I)选自在800至920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线吸收剂;(II)选自在超过920nm区域内具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线吸收剂;和具有酸值不高于25的压敏粘合剂树脂。

Description

含有近红外线吸收剂的压敏粘合剂组合物
技术领域
本发明涉及一种含有NIR吸收剂的压敏粘合剂组合物,特别是,涉及一种含有耐热性及耐湿热性优异的近红外线(NIR)吸收剂的压敏粘合剂组合物。
背景技术
近年来,已经注意到可应用于薄型大屏幕的PDP(等离子体显示板)。PDP在等离子体放电时存在NIR光发射,导致电器如家用电视机、空调和录像机等运转不正常的问题。为解决这一问题,发明了具有高度NIR屏蔽性和可见光透过性的NIR屏蔽膜(JP-A-2001-133624)。该公开于JP-A-2001-133624中的NIR屏蔽膜由透明树脂膜、含有NIR吸收剂的透明NIR屏蔽层、透明树脂膜和含有色材以补偿透明NIR屏蔽层的色调的透明色调补偿层的层压体构成。这种情况下,考虑到对具有波长超过920nm的光具有最有效截止能力,使用二亚铵化合物作为NIR吸收剂。
另一方面,对于用作显示板等,  色调和NIR吸收特性同样重要,通常需要将几种染料混合以调节色调。然而,在NIR区域具有吸收特性的染料中,存在当与其它染料混合时改变该特性,或因化学反应等或介电相互作用导致改变NIR吸收能力的染料。此外,由于显示板生产包括高温下的熔融挤出或聚合反应的步骤,因此必须使用热或化学稳定的NIR吸收材料。为解决这些问题,例如已经公开了采用浇铸法、由将具有NIR吸收能力的染料与聚合物树脂在溶剂中均匀混合的溶液的涂覆法、或染料与聚合物树脂混合物的熔融挤出法、或用于聚合或固化均匀混合的具有NIR吸收能力的染料和单体的聚合法的任一种形成的NIR吸收滤光器(JP-A-2002-82219)。在JP-A-2002-82219公开的方法中,由于在染料中存在当与其它染料混合时改变特性、或具有化学反应等或介电相互作用、或具有较差热稳定性的染料,因此每种膜独立地采用相应于其特性的成型法生产,并层压这些膜,以达到目标NIR吸收范围。就这一点而言,作为NIR吸收剂,示例为酞菁类染料、二亚铵化合物、二硫醇镍配合物、聚甲炔类染料等。
此外,这种通过在透明基材上形成具有1至50μm厚度、包含一种或多种在800至1200nm具有最大吸收波长的NIR吸收染料(A染料)和一种或多种在575至595nm具有最大吸收波长并具有不大于40nm半值宽度的NIR吸收染料(B染料)的树脂层得到的NIR吸收膜也已被公开(JP-A-2002-187229)。作为在800至1200nm具有最大吸收波长的NIR吸收染料,示例为酞菁类染料。另外,作为具有氖发射的选择性吸收的染料,即在575至595nm具有最大吸收波长,并具有不大于40nm半值宽度的B染料,示例为菁类染料。
另外,还公开了使用含有NIR吸收染料和只在550至620nm波长区域内具有选择性吸收的染料的透明树脂涂膜的NIR吸收材料(US-2002/127395)。其目的在于除去这些波长,因为这些波长为使得图像不清晰的橙色光。就这点而言,在该公报中使用的NIR吸收染料包括二硫醇-镍配合物和二亚铵化合物,作为只选择性吸收橙色光(550至620nm区域)的染料,示例为菁类染料。
对于用于显示板的NIR屏蔽滤光器,在可见光区的优异透过性为与NIR屏蔽同样重要的要素。
发明内容
然而,在JP-A-2001-133624中公开的用于NIR屏蔽膜的二亚铵化合物存在在溶剂或树脂中化学稳定性差,导致其色调改变或减弱,以及热稳定性、湿热稳定性或耐光性差的问题,因而导致不能形成包含NIR吸收剂的透明NIR屏蔽层和透明树脂膜层作为同一层的问题,这又要求存在独立的层,随着层压层数量的增加生产步骤的数量也增加,并增加了繁琐的工作。
此外,采用在JP-A-2002-82219中所述的NIR吸收滤光器中使用的二亚铵化合物作为NIR吸收剂也存在上述问题,另外,二硫醇-镍配合物在溶剂中的溶解度不足,在某些情况下与树脂的相容性可能不良,这导致在可见光区透过率下降和在某些情况下不能得到清晰图像的问题。此外,在JP-A-2002-82219中,作为与NIR吸收树脂混合的树脂,使用芳香族二醇化合物或二羧酸,然而当在树脂中存在这种羟基或羧基时,在某些情况下其与NIR吸收剂反应并可降低NIR吸收。
另外,如在JP-A-2002-187229和US-2002/127395中所述的,当多种NIR吸收剂组合使用时,其通过混合它们而化学反应,或每种NIR吸收剂的特性发生改变,这可能导致NIR屏蔽特性不能充分实现和遥控器等误操作不充分的抑制效果。
因此,在这些情况下进行了本发明,本发明的一个目的在于提供一种包含在保持足够的NIR屏蔽特性和透明性的同时,耐热性和耐湿热性优异的NIR吸收剂的压敏粘合剂组合物。
本发明的其它目的在于提供一种压敏粘合剂组合物,即使当压敏粘合剂层通过将NIR吸收剂混合于压敏粘合剂树脂中形成时,其仍能够保持得到的粘合剂层的NIR屏蔽特性和透明性。
在JP-A-2004-309655中,具有至少800至920nm最大吸收波长的酞菁,以及作为在超过920nm区域具有最大吸收波长的化合物的酞菁具有在溶剂或树脂中优异的化学稳定性,与使用传统使用的二亚铵染料相比,当通过加入高Tg粘结剂或粘合剂中而使用时,其被认为很少产生如色调改变或褪色的问题。
在这些情况下,本发明人进行了广泛的研究,通过关注这些酞菁化合物达到了目的,并发现在超过920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类(naphthalocyanine-based)化合物当在具有不高于特定值的酸值的压敏粘合剂中混合时,改进了其稳定性。因此,已发现通过将在800至920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物以及在超过920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物分散在这类压敏粘合剂树脂中得到的压敏粘合剂组合物具有高稳定性,使得能够有效地截止从氙发射得到的800至1200nm的NIR波长的光,并能够有效抑制电器经较长时期后的误运转。已经发现这类压敏粘合剂组合物可以适用于生产滤光器或等离子体显示器(特别是等离子体显示器的前面板或用于等离子体显示器的NIR吸收滤光器)。基于这些知识,完成了本发明。
即,本发明的一个目的可通过包含下列物质的压敏粘合剂组合物实现:(I)选自在800至920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线(NIR)吸收剂;(II)选自在超过920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线(NIR)吸收剂;和具有不高于25的酸值的压敏粘合剂树脂。
本发明包含NIR吸收剂的压敏粘合剂组合物特征在于,由在800至920nm区域具有最大吸收波长的(I)和在超过920nm区域具有最大吸收波长的(II)作为NIR吸收剂以及具有不高于25的酸值的压敏粘合剂树脂组成。根据本发明,由于使用将其酸值抑制至不高于特定值的压敏粘合剂树脂,可以改善(II)的稳定性。因此,通过将(I)和(II)分散于压敏树脂中得到的压敏粘合剂组合物具有高稳定和几乎无色调改变或褪色的优点。除这些优点外,通过在这类压敏粘合剂树脂中分散本发明的酞菁(I)和(II)所得的压敏粘合剂组合物,能够有效地截止得自氙发射的800至1200nmNIR波长的光,并能够有效抑制电器长时间后的误操作。因此,通过使用本发明的压敏粘合剂组合物生产的滤光器或等离子体显示器(特别是等离子体显示器的前面板或用于等离子体显示器的NIR吸收滤光器)具有高可见光区透明性、改进的显示器外观或优异的稳定性,从而能抑制等离子体显示器周围遥控器的误操作,还可改变显器示外观。
此外,由于可作为一层生产压敏粘合剂层和NIR屏蔽层,可简化生产等离子体显示器前面板或用于等离子体显示器的NIR吸收滤光器的步骤。
通过参考在以下解释中作为例子的优选实施方案,将阐明本发明的其它目的、特征和优点。
附图说明
图1为表示在实施例1中得到的试验物质的可见-NIR吸收光谱的图。
图2为表示在实施例6中得到的试验物质的可见-NIR吸收光谱的图。
图3为表示在实施例7中得到的试验物质的可见-NIR吸收光谱的图。
图4为表示在实施例10中得到的试验物质的可见-NIR吸收光谱的图。
具体实施方式
本发明的第一实施方案涉及一种压敏粘合剂组合物,其包括:(I)选自在800至920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线吸收剂;(II)选自在超过920nm区域内具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线吸收剂;和具有不大于25的酸值的压敏粘合剂树脂。然而,传统地,报道将酞菁类化合物与聚合物树脂混合,但对于树脂的详细研究并不公知,因此通过将聚合物树脂尤其是用于压敏粘合剂的树脂与酞菁类化合物混合形成的压敏粘合剂层通常导致稳定性下降,这迫使形成压敏粘合剂层和NIR屏蔽层两个独立层。本发明的一个目的在于提供压敏粘合剂层和NIR屏蔽层的单层,已经阐明作为不会降低各种性质如酞菁的NIR屏蔽特性、热稳定性(耐热性)、耐湿热性或耐光性的压敏粘合剂树脂,适于使用具有不高于25的酸值的压敏粘合剂树脂。即,已经阐明(II)的稳定性可在具有不高于25的酸值的压敏粘合剂树脂中得到改进,用其作为压敏粘合剂组合物的单层型滤光器或等离子体显示器既几乎没有色调改变,又没有褪色。还已发现组合使用(I)和(II)能够有效地截止得自氙发射800至1200nm的NIR波长,并能够有效抑制电器长时间后的误操作。因此,由(I)和(II)及具有不高于25的酸值的压敏粘合剂树脂组成的压敏粘合剂组合物,在形成具有压敏粘合剂层和NIR屏蔽层两种功能的单一层非常有用,因而,其可以适用于生产滤光器或等离子体显示器(特别是等离子体显示器前面板或用于等离子体显示器的NIR吸收滤光器)。
以下将更加详细的解释本发明。
(1)酞菁类化合物和萘菁类化合物
在本发明中,作为NIR吸收剂,使用(I)选自在800至920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种,以及(II)选自在超过920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种。作为(I)和(II),可使用任何化合物只要其在800至920nm和超过920nm区域具有最大吸收波长即可。
作为用作(I)和(II)的酞菁类化合物,优选以下式(1)表示的化合物:
(化学式1)
Figure S200680016017XD00071
在式(1)中A1至A16表示官能团,其各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羟基磺酰基、羧基、硫醇基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷基磺酰基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳基磺酰基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基磺酰基、可被取代的具有1至20个碳原子的酰基(酰基表示在由Daily Industrial Newspaper Co.Ltd.出版的ComprehensiveDictionary of Science Technical Terms,第三版中第17页所述的那种)、可被取代的具有2至20个碳原子的烷氧基羰基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳氧基羰基、可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷氧基羰基、可被取代的具有2至20个碳原子的烷基羰氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳基羰氧基、可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷基羰氧基、可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基、可被取代的氨基、可被取代的氨基磺酰基和可被取代的氨基羰基。官能团A1至A16可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,它们也可以相同或不同,官能团本身可以通过连接基团键合。M1表示2个氢原子、二价金属原子、三价或四价取代的金属原子或氧金属(oxy metal)。
(在除氨基、氨基磺酰基和氨基羰基以外的官能团的情况下)
作为用于式(1)中的官能团A1至A16的卤素原子,包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。作为可被取代的具有1至20个碳原子烷基,包括但不限于直链、支链或环状烷基例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、正庚基、正辛基和2-乙基己基。作为可被取代的具有1至20个碳原子烷氧基,包括但不限于直链、支链或环状烷氧基例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、正己氧基、环己氧基、正庚氧基、正辛氧基和2-乙基己氧基。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳基,包括但不限于苯基、萘基等。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基,包括但不限于苯氧基、萘氧基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基,包括但不限于苄基、苯乙基、二苯甲基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基,包括但不限于苄氧基、苯乙氧基、二苯基甲氧基等。作为可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基,包括但不限于直链、支链或环状烷硫基例如甲硫基、乙硫基、正丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、异丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、正戊硫基、正己硫基、环己硫基、正庚硫基、正辛硫基和2-乙基己硫基。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基,包括但不限于苯硫基、萘硫基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基,包括但不限于苄硫基、苯乙硫基、二苯甲硫基等。作为可被取代的具有1至20个碳原子的烷基磺酰基,包括但不限于直链、支链或环状烷基磺酰基例如甲磺酰基、乙磺酰基、正丙磺酰基、异丙磺酰基、正丁磺酰基、异丁磺酰基、仲丁磺酰基、叔丁磺酰基、正戊磺酰基、正己磺酰基、环己磺酰基、正庚磺酰基、正辛磺酰基和2-乙基己磺酰基。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳基磺酰基,包括但不限于苯磺酰基、萘磺酰基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基磺酰基,包括但不限于苄基磺酰基、苯乙基磺酰基、二苯甲基磺酰基等。作为可被取代的具有1至20个碳原子的酰基,包括但不限于直链、支链或环状烷基羰基例如甲基羰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、正辛基羰基和2-乙基己基羰基。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳羰基,包括但不限于芳羰基如苄羰基、苯羰基。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基羰基,包括但不限于芳烷基羰基例如苯甲酰基。作为可被取代的具有2至20个碳原子的烷氧基羰基,包括但不限于甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙氧基羰基、异丙氧基羰基、正丁氧基羰基、异丁氧基羰基、仲丁氧基羰基、叔丁氧基羰基、正戊氧基羰基、正己氧基羰基、环己氧基羰基、正庚氧基羰基、正辛氧基羰基、2-乙基己氧基羰基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳氧基羰基,包括但不限于苯氧基羰基、萘氧基羰基等。作为可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷氧基羰基,包括但不限于苯甲氧基羰基、苯乙氧基羰基、二苯甲氧基羰基等。作为可被取代的具有2至20个碳原子的烷基羰氧基,包括但不限于乙酰氧基、乙基羰氧基、正丙基羰氧基、异丙基羰氧基、正丁基羰氧基、异丁基羰氧基、仲丁基羰氧基、叔丁基羰氧基、正戊基羰氧基、正己基羰氧基、环己基羰氧基、正庚基羰氧基、3-庚基羰氧基、正辛基羰氧基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳基羰氧基,包括但不限于苯甲酰氧基等。作为可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷基羰氧基,包括但不限于苯甲羰氧基等。作为可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基,包括但不限于吡咯基、咪唑基、哌啶基、吗啉基等。
如果必要,作为存在于式(1)中的官能团A1至A16,即,烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、芳烷基、芳烷氧基、烷硫基、芳硫基、芳烷硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、芳烷基磺酰基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳烷氧基羰基、烷基羰氧基、芳基羰氧基、芳烷基羰氧基和杂环基中的取代基,包括但不限于卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷羰基氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基、杂环基等。这些取代基可以多个存在,当它们以多个存在时,其可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
(在氨基、氨基磺酰基和氨基羰基的情况下)
作为对于式(1)中的官能团A1至A16,即,可被取代的氨基,可被取代的氨基磺酰基和可被取代的氨基羰基的取代基,包括但不限于氢原子,直链、支链或环状烷基如甲基、乙基、正丙基、正丁基、仲丁基、正戊基、正己基、2-乙基己基和环己基;芳基如苯基和萘基;芳烷基如苄基和苯乙基;直链、支链或环状烷羰基如乙酰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、3-庚基羰基和正辛基羰基;芳羰基如苯甲酰基和萘羰基;芳烷基羰基如苄羰基等,这些取代基可进一步用取代基取代。这些取代基可不存在或可存在一个或两个,当存在两个取代基时,其彼此可以是相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以是任何相同或不同的。此外,  当存在两个取代基时,其可以通过连接基团键合。
作为可进一步存在的对于烷基、芳基、芳烷基、烷羰基、芳羰基和芳烷基羰基,即,对于可被取代的氨基、可被取代的氨基磺酰基和可被取代的氨基羰基的取代基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基和杂环基。这些取代基可以多个存在,当其以多个存在时,可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
此外,作为式(1)的M1中二价金属的例子,包括但不限于Cu(II)、Co(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Cd(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)等。作为三价取代金属的例子,包括但不限于Al-F、Al-Cl、Al-Br、Al-I、Fe-Cl、Ga-F、Ga-Cl、Ga-I、Ga-Br、In-F、In-Cl、In-Br、In-I、Tl-F、Tl-Cl、Tl-Br、Tl-I、Al-C6H5、Al-C6H4(CH3)、In-C6H5、In-C6H4(CH3)、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn[OSi(CH3)3]、Ru-Cl等。作为四价取代金属的例子,包括但不限于CrCl2、SiF2、SiCl2、SiBr2、SiI2、ZrCl2、GeF2、Ge Cl2、GeBr2、GeI2、SnF2、SnCl2、SnBr2、TiF2、TiCl2、TiBr2、Ge(OH)2、Mn(OH)2、Si(OH)2、Sn(OH)2、Zr(OH)2、Cr(R1)2、Ge(R1)2、Si(R1)2、Sn(R1)2、Ti(R1)2(R1表示烷基、苯基、萘基及其衍生物)、Cr(OR2)2、Ge(OR2)2、Si(OR2)2、Sn(OR2)2、Ti(OR2)2(R2表示烷基、苯基、萘基、三烷基甲硅烷基、二烷基烷氧基甲硅烷基及其衍生物)、Sn(SR3)2、Ge(SR3)2(R3表示烷基、苯基、萘基及其衍生物)等。作为氧金属的例子,包括但不限于VO、MnO、TiO等。
作为用作(I)和(II)的萘菁类化合物,优选由下式(2)表示的化合物:
(化学式2)
Figure S200680016017XD00121
在式(2)中,B1至B24表示官能团,并各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羟基磺酰基、羧基、硫醇基(thiol)、可被取代的具有1至20个碳原子的烷基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷基磺酰基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳基磺酰基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基磺酰基、可被取代的具有1至20个碳原子的酰基(酰基表示在由Daily Industrial Newspaper Co.Ltd.出版的Comprehensive Dictionary of Science Technical Terms,第三版中第17页所述的那种)、可被取代的具有2至20个碳原子的烷氧基羰基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳氧基羰基、可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷氧基羰基、可被取代的具有2至20个碳原子的烷基羰氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳基羰氧基、可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷基羰氧基、可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基、可被取代的氨基、可被取代的氨基磺酰基和可被取代的氨基羰基。官能团B1至B24可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其也可以相同或不同,且官能团本身可以通过连接基团键合。M2表示2个氢原子、二价金属原子、三价或四价取代的金属原子或氧金属。
(在除氨基、氨基磺酰基和氨基羰基以外的官能团的情况下)
在式(2)中,作为用于官能团B1至B24的卤素原子,包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。作为可被取代的具有1至20个碳原子的烷基,包括但不限于直链、支链或环状烷基例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、正庚基、正辛基和2-乙基己基。作为可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基,包括但不限于直链、支链或环状烷氧基例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、正己氧基、环己氧基、正庚氧基、正辛氧基和2-乙基己氧基。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳基,包括但不限于苯基、萘基等。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基,包括但不限于苯氧基、萘氧基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基,包括但不限于苄基、苯乙基、二苯甲基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基,包括但不限于苄氧基、苯乙氧基、二苯基甲氧基等。作为可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基,包括但不限于直链、支链或环状烷硫基例如甲硫基、乙硫基、正丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、异丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、正戊硫基、正己硫基、环己硫基、正庚硫基、正辛硫基和2-乙基己硫基。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基,包括但不限于苯硫基、萘硫基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基,包括但不限于苄硫基、苯乙硫基、二苯甲硫基等。作为可被取代的具有1至20个碳原子的烷基磺酰基,包括但不限于直链、支链或环状烷基磺酰基例如甲磺酰基、乙磺酰基、正丙磺酰基、异丙磺酰基、正丁磺酰基、异丁磺酰基、仲丁磺酰基、叔丁磺酰基、正戊磺酰基、正己磺酰基、环己磺酰基、正庚磺酰基、正辛磺酰基和2-乙基己磺酰基。作为可被取代的具有6至20个碳原子的芳基磺酰基,包括但不限于苯磺酰基、萘磺酰基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基磺酰基,包括但不限于苄基磺酰基、苯乙基磺酰基、二苯甲基磺酰基等。作为可被取代的具有1至20个碳原子的酰基,包括但不限于直链、支链或环状烷羰基例如甲基羰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、正辛基羰基和2-乙基己基羰基。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳羰基,包括但不限于芳羰基如苄羰基、苯羰基。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷基羰基,包括但不限于芳烷基羰基例如苯甲酰基。作为可被取代的具有2至20个碳原子的烷氧基羰基,包括但不限于甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙氧基羰基、异丙氧基羰基、正丁氧基羰基、异丁氧基羰基、仲丁氧基羰基、叔丁氧基羰基、正戊氧基羰基、正己氧基羰基、环己氧基羰基、正庚氧基羰基、正辛氧基羰基、2-乙基己氧基羰基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳氧基羰基,包括但不限于苯氧基羰基、萘氧基羰基等。作为可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷氧基羰基,包括但不限于苯甲氧基羰基、苯乙氧基羰基、二苯甲氧基羰基等。作为可被取代的具有2至20个碳原子的烷基羰氧基,包括但不限于乙酰氧基、乙基羰氧基、正丙基羰氧基、异丙基羰氧基、正丁基羰氧基、异丁基羰氧基、仲丁基羰氧基、叔丁基羰氧基、正戊基羰氧基、正己基羰氧基、环己基羰氧基、正庚基羰氧基、3-庚基羰氧基、正辛基羰氧基等。作为可被取代的具有7至20个碳原子的芳基羰氧基,包括但不限于苯甲酰氧基等。作为可被取代的具有8至20个碳原子的芳烷基羰氧基,包括但不限于苯甲羰氧基等。作为可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基,包括但不限于吡咯基、咪唑基、哌啶基、吗啉基等。
如果必要,存在于式(2)的官能团B1至B24中的取代基,即,烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、芳硫基、芳烷硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、芳烷基磺酰基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳烷氧基羰基、烷基羰氧基、芳基羰氧基、芳烷基羰氧基和杂环基中的取代基,包括但不限于卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷羰基氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基、杂环基等。这些取代基可以存在多个,当它们以多个存在时,其可以是相同类型或不同类型的,在相同类型的情况下,其可以为相同或不同的。取代基本身可通过连接基团键合。
(在氨基、氨基磺酰基和氨基羰基的情况下)
作为式(2)的官能团B1至B24的可被取代的氨基、可被取代的氨基磺酰基和可被取代的氨基羰基的取代基,包括但不限于氢原子,直链、支链或环状烷基如甲基、乙基、正丙基、正丁基、仲丁基、正戊基、正己基、2-乙基己基和环己基;芳基如苯基和萘基;芳烷基如苄基和苯乙基;直链、支链或环状烷羰基如乙酰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、3-庚基羰基和正辛基羰基;芳羰基如苯甲酰基和萘羰基;芳烷基羰基如苄羰基等,这些取代基可进一步使用取代基取代。这些取代基可不存在或存在一个或两个,当它们以两个存在时,其可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以为任何相同或不同的。此外,当存在两个取代基时,其可以通过连接基团键合。
作为可进一步存在的对于烷基、芳基、芳烷基、烷羰基、芳羰基和芳烷基羰基,即,对于可被取代的氨基、可被取代的氨基磺酰基、可被取代的氨基羰基的取代基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基和杂环基。这些取代基可以多个存在,当其以多个存在时,可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
此外,作为式(2)的M2中二价金属的例子,包括但不限于Cu(II)、Co(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Cd(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)等。作为三价取代金属的例子,包括但不限于Al-F、Al-Cl、Al-Br、Al-I、Fe-Cl、Ga-F、Ga-Cl、Ga-I、Ga-Br、In-F、In-Cl、In-Br、In-I、Tl-F、Tl-Cl、Tl-Br、Tl-I、Al-C6H5、Al-C6H4(CH3)、In-C6H5、In-C6H4(CH3)、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn[OSi(CH3)3]、Ru-Cl等。作为四价取代金属的例子,包括但不限于CrCl2、SiF2、SiCl2、SiBr2、SiI2、ZrCl2、GeF2、GeCl2、GeBr2、GeI2、SnF2、SnCl2、SnBr2、TiF2、TiCl2、TiBr2、Ge(OH)2、Mn(OH)2、Si(OH)2、Sn(OH)2、Zr(OH)2、Cr(R1)2、Ge(R1)2、Si(R1)2、Sn(R1)2、Ti(R1)2(R1表示烷基、苯基、萘基及其衍生物)、Cr(OR2)2、Ge(OR2)2、Si(OR2)2、Sn(OR2)2、Ti(OR2)2(R2表示烷基、苯基、萘基、三烷基甲硅烷基、二烷基烷氧基甲硅烷基及其衍生物)、Sn(SR3)2、Ge(SR3)2(R3表示烷基、苯基、萘基及其衍生物)等。作为氧金属的例子,包括但不限于VO、MnO、TiO等。
进一步地,优选用于本发明的(I)为由以下式(3)表示的酞菁类化合物:
(化学式3)
Figure S200680016017XD00181
在式(3)中,Z1至Z16表示官能团,并各自独立地表示卤素原子、可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基、可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基、可被取代的氨基。官能团Z1至Z16可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同,官能团本身可通过连接基团键合。更优选地,在式(3)的官能团Z1至Z16中,至少4个基团各自独立地为例如以下的基团:可被取代的具有l至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基和可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基,至少一个基团为可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基、可被取代的氨基。此外,在这些取代基为相同类型的情况下,其可以相同或不同,且官能团本身可通过连接基团键合。
M3表示2个氢原子、二价金属原子、三价或四价取代金属原子或氧金属。在M3表示二价金属原子、三价或四价取代金属原子或氧金属的情况下,包括在式(1)中所述的例子。
如果必要,作为存在于式(3)中的烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、芳硫基、芳烷硫基和杂环基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳基羰氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基、杂环基等。这些取代基可以多个存在,当它们以多个存在时,其可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
作为式(3)中可被取代的氨基的取代基,包括但不限于氢原子;直链、支链或环状烷基如甲基、乙基、正丙基、正丁基、仲丁基、正戊基、正己基、2-乙基己基和环己基;芳基如苯基和萘基;芳烷基如苄基和苯乙基;直链、支链或环状烷羰基如乙酰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、3-庚基羰基和正辛基羰基;芳羰基如苯甲酰基和萘羰基;芳烷基羰基如苄羰基等。这些取代基可进一步使用取代基取代。这些取代基可不存在或存在一个或两个,它们以两个存在时,其彼此可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。取代基本身可以通过连接基团键合。
作为可进一步存在于其是可被取代的氨基的取代基的烷基、芳基、芳烷基、烷羰基、芳羰基和芳烷基羰基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基和杂环基。这些取代基可以多个存在,当其以多个存在时,可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
进一步地,更优选用于本发明的其它(I)为下式(4)表示的萘菁类化合物:
(化学式4)
Figure S200680016017XD00201
在式(4)中,Y1至Y24表示官能团,并各自独立地表示卤素原子、可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基、可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基和可被取代的氨基。官能团Y1至Y24可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同,官能团本身可通过连接基团键合。M4表示2个氢原子、二价金属原子、三价或四价取代金属原子或氧金属。在M4表示金属的情况下,包括在式(2)中所述的例子。
如果必要,作为存在于式(4)中的烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、芳硫基、芳烷硫基和杂环基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳基羰氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基、杂环基等。这些取代基可以多个存在,当它们以多个存在时,其可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
作为式(4)中可被取代的氨基的取代基,包括但不限于氢原子;直链、支链或环状烷基如甲基、乙基、正丙基、正丁基、仲丁基、正戊基、正己基、2-乙基己基和环己基;芳基如苯基、萘基;芳烷基如苄基和苯乙基;直链、支链或环状烷羰基如乙酰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、3-庚基羰基和正辛基羰基;芳羰基如苯甲酰基和萘羰基;芳烷基羰基如苄羰基等,这些氨基的取代基可进一步使用取代基取代。这些氨基的取代基可不存在或存在一个或两个,当它们以两个存在时,其彼此可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。当存在两个取代基时,其本身可以通过连接基团键合。
作为可进一步存在于其为可被取代的氨基的取代基的烷基、芳基、芳烷基、烷羰基、芳羰基和芳烷基羰基等的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基和杂环基。这些取代基可以多个存在,当其以多个存在时,可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。此外,取代基本身可通过连接基团键合。
在本发明中,组合使用在不低于800nm至低于850nm具有最大吸收波长的一种或多种和在850至920nm具有最大吸收波长的一种或多种作为(I),具有得到的NIR吸收滤光器高可见光透过率,并还能够有效地截止NIR光,从而是有利的。
在所述(I)中,在不低于800nm至低于920nm具有最大吸收波长的那些示例如下。在以下化合物的缩写中,Ph表示苯基,Pc表示酞菁核,就在Pc的前面,显示M3,以及就在Pc的后面,显示了在酞菁核β位的8个取代基(Z2、Z3、Z6、Z7、Z10、Z11、Z14和Z15的取代位置),在β位取代基后,显示在酞菁核α位的8个取代基(Z1、Z4、Z5、Z8、Z9、Z12、Z13和Z16的取代位置)。这些在不低于800nm至低于850nm具有最大吸收波长的物质包括CuPc(2,5-Cl2PhO)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4max为807nm)、VOPc(2,5-Cl2PhO)8(2,6-Br2-4-CH3PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F(λmax为835nm)、VOPc(2,5-Cl2PhO)8(2,6-Br2-4-CH3PhO)4{PhCH2NH}3F(λmax为840nm)、VOPc(2,5-Cl2PhO)8(2,6-(CH3)2PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F(λmax为828nm)、VOPc(2,6-Cl2PhO)8(2,6-(CH3)2PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F(λmax为835nm)、VOPc(4-CNPhO)8(2,6-Br2-4-CH3PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F(λmax为836nm)和VOPc(4-CNPhO)8(2,6-(CH3)2PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F(λmax为834nm)。在850至920nm具有最大吸收波长的那些包括VOPc(2,5-Cl2PhO)8(2,6-(CH3)2PhO)4{PhCH2NH}4max为870nm)、VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4max为916nm)和VOPc(2,5-Cl2PhO)4(2,6-(CH3)2PhO)4{(C2H5)2NCH2CH2NH}4max为893nm)。
作为这类(I)的具体例子,包括EX Color IR-10A、EX ColorIR-12、EX Color IR-14和TX-EX-906B(其均由Nippon ShokubaiCo.Ltd.生产)。
上述(I)可单独使用,或两种酞菁类化合物和/或萘菁类化合物组合使用作为酞菁(I)。
更优选用于本发明的在920至1100nm具有最大吸收波长的(II)为由下式(5)表示的酞菁类化合物:
(化学式5)
Figure S200680016017XD00231
在式(5)中,W1至W16表示官能团,并各自独立地表示卤素原子、可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基、可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基、可被取代的氨基。官能团W1至W16可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同,官能团本身可通过连接基团键合。更优选地,在式(5)的官能团W1至W16中,至少4个基团各自独立地为例如可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基,以及至少4个基团各自独立地为可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基和可被取代的氨基。这些取代基可以是相同或不同类型,在相同类型的情况下,所述官能团本身可通过连接基团键合。
M5表示2个氢原子、二价金属原子、三价或四价取代金属原子或氧金属。在M5表示二价金属原子、三价或四价取代金属原子或氧金属的情况下,包括在式(1)中所述的例子。
如果必要,作为式(5)中的烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、芳硫基、芳烷硫基和杂环基的取代基,包括但不限于卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳基羰氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基、杂环基等。这些取代基可以多个存在,当它们以多个存在时,其可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
作为式(5)中可被取代的氨基的取代基,包括但不限于氢原子,直链、支链或环状烷基如甲基、乙基、正丙基、正丁基、仲丁基、正戊基、正己基、2-乙基己基和环己基;芳基如苯基和萘基;芳烷基如苄基和苯乙基;直链、支链或环状烷羰基如乙酰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、3-庚基羰基和正辛基羰基;芳羰基如苯甲酰基和萘羰基;芳烷基羰基如苄羰基等,这些氨基的取代基可进一步使用取代基取代。这些氨基的取代基可不存在,或存在一个或两个。当存在两个取代基时,其彼此可以是相同或不同类型,在相同类型情况下,其可以是相同或不同的。当存在两个取代基时,其本身可以通过连接基团键合。
作为可进一步存在的其为可被取代的氨基的取代基的烷基、芳基、芳烷基、烷羰基、芳羰基和芳烷基羰基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基和杂环基。这些取代基可以多个存在,当其以多个存在时,可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型情况下,其可以相同或不同。此外,取代基本身可通过连接基团键合。
进一步地,更优选用于本发明的在920至1100nm具有最大吸收波长的(II)为由下式(6)表示的萘菁类化合物:
(化学式6)
Figure S200680016017XD00251
在式(6)中,X1至X24表示官能团,并各自独立地表示卤素原子、可被取代的具有1至20个碳原子的烷氧基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳氧基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷氧基、可被取代的具有1至20个碳原子的烷硫基、可被取代的具有6至20个碳原子的芳硫基、可被取代的具有7至20个碳原子的芳烷硫基、可被取代的具有2至20个碳原子的杂环基、可被取代的氨基。官能团X1至X24可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同,官能团本身可通过连接基团键合。M6表示2个氢原子、二价金属原子、三价或四价取代金属原子或氧金属。在M6表示金属的情况下,包括式(1)中所述的例子。
如果必要,作为式(6)中的烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、芳硫基、芳烷硫基和杂环基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳基羰氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基、杂环基等。这些取代基可以多个存在,当它们以多个存在时,其可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同。取代基本身可通过连接基团键合。
作为式(6)中可被取代的氨基的取代基,包括但不限于氢原子,直链、支链或环状烷基如甲基、乙基、正丙基、正丁基、仲丁基、正戊基、正己基、2-乙基己基和环己基;芳基如苯基和萘基;芳烷基如苄基和苯乙基;直链、支链或环状烷羰基如乙酰基、乙基羰基、正丙基羰基、异丙基羰基、正丁基羰基、异丁基羰基、仲丁基羰基、叔丁基羰基、正戊基羰基、正己基羰基、环己基羰基、正庚基羰基、3-庚基羰基和正辛基羰基;芳羰基如苯甲酰基和萘羰基;芳烷基羰基如苄羰基等。这些氨基的取代基可进一步使用取代基取代。这些氨基的取代基可不存在,或存在一个或两个。当存在两个取代基时,其彼此可以是相同或不同类型,在相同类型情况下,其可以是相同或不同的。当存在两个取代基时,其本身可以通过连接基团键合。
作为可进一步存在于其为可被取代的氨基的取代基的烷基、芳基、芳烷基、烷羰基、芳羰基和芳烷基羰基的取代基,包括但不限于例如卤素原子、酰基、烷基、苯基、烷氧基、卤化烷基、卤化烷氧基、硝基、氨基、烷氨基、烷基羰氨基、芳氨基、芳羰基氨基、羰基、烷氧基羰基、烷氨基羰基、烷氧基磺酰基、烷硫基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、氰基和杂环基。这些取代基可以多个存在,当其以多个存在时,可以是任何相同类型或不同类型,在相同类型的情况下,其可以相同或不同。此外,取代基本身可通过连接基团键合。
在本发明中,组合使用在920nm至950nm具有最大吸收波长的一种或多种与在950至1100nm具有最大吸收波长的一种或多种作为(II),提供了NIR滤光器的高可见光透过率,并能够有效地截止NIR光的优点。
在(II)中,在大于920nm至小于1100nm具有最大吸收波长的那些示例如下。在以下化合物的缩写中,Ph表示苯基,Pc表示酞菁核,就在Pc的前面,显示了M5,就在Pc的后面,显示在酞菁核β位的8个取代基(W2、W3、W6、W7、W10、W11、W14和W15取代位置),在β位取代基后,显示在酞菁核α位的8个取代基(W1、W4、W5、W8、W9、W12、W13和W16取代位置)。
在大于920nm至小于950nm具有最大吸收波长的那些包括如下:VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{(C2H5)2NCH2CH2NH}4max为941nm)、VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4[{CH3(CH2)2CH}NCH2CH2NH]4max为944nm)、
(化学式7)
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4
Figure S200680016017XD00281
(CH2)2NH}4max为923nm)
(化学式8)
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4
Figure S200680016017XD00282
(CH2)2NH}4max为922nm)、VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{(CH3CH2O(CH2)3NH)4}(λmax为928nm)、
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{(CH3)2CHO(CH2)3NH}4max为930nm)、
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)3O(CH2)3NH}4max为930nm)、
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)3CH(C2H5)CH2O(CH2)3NH}4max为933nm)、
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)5NH}4max为930nm)、
VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)3CH(C2H5)CH2NH}4max为939nm)、VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)7NH}4max为931nm)、VOPc(Ph S)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)17NH}4max为935nm)。
在950至1100nm具有最大吸收波长的那些包括如下:
VOPc{4-(CH3O)PhS}8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)3CH(C2H5)CH2NH}4max为968nm)、
VOPc{2-(CH3O)Ph S}8{2,6-(CH3)2PhO}4{(C2H5)2NCH2CH2NH}4)(λmax为950nm)、VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4[{(CH3)2CH}2NCH2CH2NH]4max为952nm)、VOPc(2,5-Cl2PhO)8(PhCH2NH)8((λmax为1020nm)。
作为这类(II)的具体例子,优选包括TX-EX-910B和TX-EX-902K(其均由Nippon Shokubai Co.Ltd.生产)。
上述(II)可单独使用,或两种酞菁类化合物和/或萘菁类化合物组合使用作为酞菁(II)。
根据本发明生产(I)和(II)的方法不需特别限制,但可适宜地从例如JP-A-2004-309655所述的公知方法中选择。
作为可用于本发明的NIR吸收滤光器的在大于920nm区域具有最大吸收波长的(II)包括:在透射光谱测量中,在调节酞菁的浓度以使得在超过920nm、更优选920至1100nm的NIR区域内透过率的最小值为5至6%的溶液中,能够表现出不低于65%,优选不低于70%的可见光透过率的那些物质。
对于压敏粘合剂树脂中(I)和(II)的配混量没有特别限制,只要其为能够实现期望性质,特别是有效NIR的截止能力、在可见光区域优异的透明性、耐热性和耐湿热性的量即可。优选地,在将干膜厚度设定为10至30m的情况下,基于100重量份压敏粘合剂树脂的固体成分,(I)和(II)的配混量为0.1至10重量份,更优选0.5至8重量份和最优选1至5重量份。在该情况下,低于0.1重量份的(I)和(II)的配混量在酞菁配混中是不足够的,不能够得到优异的NIR屏蔽能力,而当该配混量甚至超过10重量份时,不能够提供与加入的酞菁相当的性能改进,从而是不经济的,并具有失去在可见光区域透明性的风险。就这一点而言,(I)和(II)的配混量可根据目标NIR吸收滤光器在可见光和NIR区域的透过率设定和NIR吸收滤光器的厚度来变化。此外,对NIR吸收滤光器的形状没有特别限制,包括各种形状如最常见的平板状或膜状滤光器,以及波板状、球状和圆顶状滤光器。对于具有例如波板外形的滤光器,应考虑在从上侧投影面积中的重量。只要不会造成外观问题,允许酞菁浓度不均匀。
此外,对(I)与(II)的配混比没有特别限制,只要其为能够实现期望的NIR吸收能力和透明性的比例即可,然而酞菁(I)与(II)的比例(重量比)优选2至8∶8至2,更优选3至7∶7至3,且最优选4至6∶6至4。
(2)压敏粘合剂树脂
用于本发明的压敏粘合剂树脂基本具有不大于25的酸值。通过向这种树脂中配混所述(I)和(II)形成压敏粘合剂层,能够有意义地抑制压敏粘合剂树脂的酸基与(II)的反应,形成的压敏粘合剂层表现出优异的稳定性,于是其能够有效地吸收NIR,提供优异的可见光区域透明性。此外,通过与压敏粘合剂树脂组合形成压敏粘合剂层,能够取消传统需要的NIR屏蔽层的单独形成,这能够有意义地简化NIR吸收滤光器的生产步骤。因此,使用这些物质的压敏组合物特别适用于生产等离子体显示器的前面板或用于等离子体显示器的NIR吸收滤光器。
在本发明中,压敏粘合剂树脂的酸值不大于25。该限制的原因在于,在该范围内的酸值提供包含在压敏粘合剂树脂中用作NIR吸收剂的(II)在压敏树脂中的高稳定性,这又使得能够更加稳定地实现优异的NIR吸收功能或透明性。压敏粘合剂树脂的酸值优选0至20,更优选0至10和最优选为0。本说明书中的“ 酸值”表示中和1g样品需要的以mg计的氢氧化钾量。
此外,用于本发明的压敏粘合剂树脂优选具有不大于10的羟值,更优选压敏树脂的羟值为0至10,进一步优选为0至5,以及最优选0至2。
作为用于本实施方案并具有上述性质的材料,具体地包括(甲基)丙烯酸类树脂,聚酯类树脂,聚氨酯类树脂,环氧类树脂,聚氨基甲酸酯类树脂或氟类树脂如聚四氟乙烯(PTFE)、由四氟乙烯与全氟烷基乙烯基醚共聚物构成的全氟烷氧基树脂(PFA)、四氟乙烯与六氟丙烯共聚物(FEP)、四氟乙烯与全氟烷基乙烯基醚及六氟丙烯共聚物(EPE)、四氟乙烯与乙烯或丙烯共聚物(ETFE)、聚氯三氟乙烯树脂(PCTFE)、乙烯和氯三氟乙烯共聚物(ECTFE)、偏二氟乙烯树脂(PVDF)、氟化乙烯树脂(PVF);聚酰亚胺类树脂如聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺;硅酮类树脂等。其中,优选(甲基)丙烯酸类树脂。
特别优选用于本发明的(甲基)丙烯酸类树脂代表具有酸值不高于25的(甲基)丙烯酸类聚合物,其采用(甲基)丙烯酸酯作为单体聚合并用作压敏粘合剂的原料。在这种情况下,(甲基)丙烯酸类树脂基本上具有不高于25的酸值,从而特别优选不使用(甲基)丙烯酸作为单体。(甲基)丙烯酸类聚合物可通过仅使用一种(甲基)丙烯酸酯,或两种或多种(甲基)丙烯酸酯作为单体,或使用(甲基)丙烯酸酯和可与(甲基)丙烯酸酯共聚的化合物(以下描述为“可共聚化合物”)作为单体聚合而得到。就这一点而言,“(甲基)丙烯酸类树脂”既表示未通过交联剂交联的聚合物,也表示通过交联剂交联的聚合物,但优选具有至少部分交联的结构。
在本发明中,作为用作单体的(甲基)丙烯酸酯的具体例子,包括具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯,例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯及其取代产物;具有羟基的(甲基)丙烯酸酯,例如(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯和(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯;(甲基)丙烯酸芳酯,例如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯;(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯,例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯和(甲基)丙烯酸乙氧基丙酯;(甲基)丙烯酸的醇氧化烯加合物,例如(甲基)丙烯酸乙氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二甘醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸的壬基酚环氧乙烷(EO)加合物、(甲基)丙烯酸的壬基酚环氧丙烷(PO)加合物;(甲基)丙烯酸环烷酯,例如(甲基)丙烯酸环己酯,等等。然而也可使用除这些化合物外的(甲基)丙烯酸酯。所述(甲基)丙烯酸酯可单独使用或以两种或多种的混合形式使用。
如果必要,作为用作单体的可共聚化合物,包括例如具有烯属不饱和键的化合物。这里,“具有烯属不饱和键的化合物”表示乙烯(CH2=CH2)中的氢原子被取代的化合物。可使用其它化合物作为单体,只要其能够与(甲基)丙烯酸酯共聚,且不抑制本发明的效果即可。作为可共聚化合物的其它例子,包括芳香族乙烯基单体如苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯、乙烯基萘和卤化苯乙烯;乙烯基酯单体如乙酸乙烯酯;卤化乙烯基单体如氯乙烯、偏二氯乙烯;含酰胺基的乙烯基单体,例如(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺和N,N-二甲基丙烯酰胺;含腈基单体,例如丙烯腈;和乙烯基醚类单体。此外,在本发明中,在生产的压敏粘合剂树脂的酸值不大于25范围内,含羧基单体如(甲基)丙烯酸可用作共聚化合物。
作为优选用于本发明的单体,在上述单体中,优选包括(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯和(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯。在本发明中,优选使用这些单体中至少一种具有高玻璃化转变温度(Tg)的单体(以下称作“高Tg单体”)的聚合,以制备根据本发明的(甲基)丙烯酸类树脂。这样生产的原因在于,通过使用这种高Tg单体的聚合所得的压敏粘合剂层具有优异的粘合性和改进的耐热性。在这种情况下,高Tg单体的Tg优选为50至150℃且最优选60至100℃。就这一点而言,高Tg单体优选为脂环族单体,因为与常规(甲基)丙烯酸类树脂相比,脂环族单体的使用能够实现耐候性改进,或由于热降解温度升高而获得耐热性改进。本文中可使用的脂环族单体例子没有特别限制,包括(甲基)丙烯酸脂环族单体,尤其是(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等。
在本发明中,(甲基)丙烯酸类树脂通过单体的聚合/共聚而合成,对(甲基)丙烯酸类树脂的聚合方法没有特别限制,可使用公知的方法。聚合方法可根据使用的单体或工作环境,适宜地在溶液聚合、悬浮聚合、乳液聚合、本体聚合等中选择。优选使用溶液聚合。采用溶液聚合的原因在于,聚合期间的聚合热可容易地除去,并且聚合反应的可操作性优异。
作为在溶液聚合情况下使用的溶剂,包括芳香烃,例如甲苯和二甲苯;脂肪族酯,例如乙酸乙酯和乙酸丁酯;脂环烃,例如环己烷;脂肪族烃,例如己烷和戊烷;等。然而也可使用其它化合物,只要其不抑制聚合反应即可,因而溶剂并不特别限定于此。上述溶剂可单独使用或以两种或多种混合的形式使用。溶剂的用量没有特别限制,可适宜地根据单体的种类和量而确定。
此外,用于聚合反应的聚合引发剂也没有特别限制。作为聚合引发剂,可使用公知的自由基聚合引发剂如有机过氧化物,例如过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酰、过氧化二枯基、氢过氧化叔丁基、氢过氧化枯烯、过氧化辛酸叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化月桂酰、商品名为“NYPER BMT-K40”的物质(NOFCorp.生产;过氧化间甲苯酰和过氧化苯甲酰的混合物);偶氮化合物,例如偶氮二异丁腈、商品名为“ABN-E”的物质(JapanHydrazine Inc.生产;2,2’-偶氮二(2-甲基丁腈))。在某些情况下,两种或多种聚合引发剂可组合使用。
聚合引发剂的用量优选基于单体总重量为0.01至1重量%。过大的聚合引发剂用量不可能获得粘性优异的高分子量(甲基)丙烯酸类树脂。
聚合条件如聚合温度或聚合时间可根据单体种类、聚合溶剂种类、聚合引发剂种类、要求的所得(甲基)丙烯酸类树脂特性、压敏粘合剂的应用等适宜地设定。聚合压力同样没有特别限制,可采用任何常压、减压或加压条件。就这一点而言,聚合反应期望地在惰性气体如氮气下进行。
对上述得到的(甲基)丙烯酸类树脂的组成没有特别限制。包含于(甲基)丙烯酸类树脂中的衍生自(甲基)丙烯酸酯的重复单元的总重量优选为70至99.9重量%。衍生自(甲基)丙烯酸酯的重复单元的总重量在该范围内,表现出足够的粘合性。
为生产具有足够粘性的(甲基)丙烯酸类树脂,使用的(甲基)丙烯酸类树脂的重均分子量优选不低于200,000,更优选不低于300,000。要使用的(甲基)丙烯酸类树脂的重均分子量的上限没有特别限制。考虑到合成中的困难,使用的(甲基)丙烯酸类树脂的重均分子量优选不高于2,000,000,更优选不高于1,000,000。
在本发明中,使用交联剂的压敏粘合剂树脂,特别是(甲基)丙烯酸类树脂的交联是优选的,以表现出足够的作为压敏粘合剂的功能。但在压敏粘合剂组合物阶段,(甲基)丙烯酸类树脂可以不通过交联剂交联,或不以通过交联剂已交联的形式。因此,本发明的压敏粘合剂组合物可以包含或不含交联剂。当压敏粘合剂采用不含交联剂的本发明的压敏粘合剂组合物生产时,压敏粘合剂在组合物中配制,并以相应于目标的形式成型,随后可将(甲基)丙烯酸类树脂交联。
作为这里使用的交联剂,包括多官能异氰酸酯化合物,例如甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、联甲苯胺二异氰酸酯、4,4’-二苯甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,5-萘基二异氰酸酯、二环己基甲烷-4,4-二异氰酸酯、反式亚乙烯基二异氰酸酯、三苯甲烷二异氰酸酯和多苯甲烷二异氰酸酯;使用封闭剂保护的封闭异氰酸酯化合物,所述封闭剂例如为多元醇类、酚类、酰胺类、酰亚胺类、酮肟类、醛肟、内酯类和内酰胺类;多价金属配合物,例如乙酰乙酸乙酯铝二异丙酸酯、三(乙酰乙酸乙酯)铝、单乙酰丙酮酸铝双(乙酰乙酸乙酯)、三(丙酮酸乙酰酯)铝、乙酰丙酮络钛、乳酸钛铵和碳酸锆铵;环氧类化合物,例如聚缩水甘油醚类、聚缩水甘油胺类、聚缩水甘油酯类、乙内酰脲类、三缩水甘油异氰脲酸酯类和双酚类;三聚氰胺化合物,例如聚羟甲基三聚氰胺和烷基化羟甲基三聚氰胺,等等。但也可使用不同于示例的化合物作为交联剂。此外,所述交联剂可单独使用或以两种或多种混合的形式使用。
在本发明中,当压敏粘合剂组合物包含交联剂时,其用量基于100重量份的压敏粘合剂树脂(优选(甲基)丙烯酸类树脂),优选为0至4重量份,更优选0至2.5重量份。超出该范围的交联剂用量不可能获得足够的粘合性。
此外,作为其它可用于本发明的优选压敏粘合剂树脂,包括在同一分子中具有玻璃化转变温度不低于50℃的第一聚合物部分和具有玻璃化转变温度低于0℃的第二聚合物部分的聚合物(以下称作聚合物(A))。聚合物如具有两个或多个具有不同玻璃化转变温度的聚合物部分的聚合物(A),通常公知地呈微相分离结构,其中具有高玻璃化转变温度的聚合物部分形成不连续相(微畴(micro-domain)),并呈假交联结构,其即使没有通过交联剂等进行交联,仍然提供高内聚强度。同时,具有低玻璃化转变温度的聚合物部分形成连续相,并表现出粘性。因此,由于保持优异的粘性,同时即使不使用交联剂仍然具有高内聚强度,并进一步改进了压敏粘合剂组合物的耐热性和耐湿热性,因此优选使用聚合物(A)作为压敏粘合剂树脂。
作为聚合物(A),可采用任何一种,只要其具有在同一分子中包含玻璃化转变温度不低于50℃的第一聚合物部分和玻璃化转变温度低于0℃的第二聚合物部分的结构即可。作为这种聚合物,包括例如嵌段共聚物或接枝共聚物。
作为生产所述嵌段共聚物或接枝共聚物方法的例子,包括以下方法:采用有机金属化合物作为引发剂的离子聚合法(3MCo.Ltd.JP-A-60-8379);采用引发-转移-终止剂的自由基聚合法(Otsu,Osaka City University,“Living mono-and biradicalpolymerization in homogeneous synthesis of an AB and ABA typeblock copolymers”,Polymer Bulletin,11,135-142(1984));采用多元硫醇的自由基聚合法(JP No.2842782、JP No.3385177等);采用大单体的自由基聚合法(JP-A-2-167380)等。这些方法中,由于可以低成本合成嵌段共聚物,因而优选采用多元硫醇的自由基聚合法。
作为可用于聚合物(A)的可聚合单体,可使用任何单体,只要其通过自由基聚合形成均聚物或共聚物即可。
这种单体的具体例子包括例如由具有1至30个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯和(甲基)丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯代表的(甲基)丙烯酸酯;由α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯和苯乙烯代表的苯乙烯类单体;由苯基马来酰亚胺和环己基马来酰亚胺代表的马来酰亚胺类单体;由甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、异丁基乙烯基醚代表的乙烯基醚类单体;富马酸和富马酸单烷基酯、富马酸二烷基酯;马来酸、马来酸单烷基酯和马来酸二烷基酯;衣康酸、衣康酸单烷基酯和衣康酸二烷基酯;(甲基)丙烯腈、丁二烯、异戊二烯、氯乙烯、偏二氯乙烯、乙酸乙烯酯、乙烯酮、乙烯基吡啶、乙烯基咔唑,等等。其可以单独使用或以两种或多种混合形式使用。
此外,作为在第一阶段的具有玻璃化转变温度不低于50℃的第一聚合物部分,还可使用大单体。作为大单体,可使用任何聚合物,只要其具有玻璃化转变温度不低于50℃和在一个末端具有可聚合双键。作为这类大单体的例子,包括聚甲基丙烯酸甲酯(AA-6,由Toagosei Co.Ltd.生产)、聚苯乙烯(AS-6,由Toagosei Co.Ltd.生产)、聚(丙烯腈-苯乙烯)(AN-6,由ToagoseiCo.Ltd.生产)等。
用于具有玻璃化转变温度不低于50℃的聚合物部分,以及具有玻璃化转变温度低于0℃的聚合物部分的单体,没有特别限制,只要其根据下式表示的Fox方程计算的玻璃化转变温度满足特定值即可。
1/(Tg+273)=∑[Wi/(Tgi+273)]:Fox方程
Tg(℃):玻璃化转变温度
Wi:每种单体的重量分数
Tgi(℃):每种单体组分的均聚物的玻璃化转变温度
考虑到增强聚合物(A)的内聚强度的作用,设计所述具有玻璃化转变温度不低于50℃的第一聚合物部分,并且其优选具有尽可能高的玻璃化转变温度,优选不低于60℃,更优选不低于70℃,进一步优选不低于80℃。
考虑到提供聚合物(A)粘性的作用,设计所述具有玻璃化转变温度低于0℃的第二聚合物部分,并且其优选具有尽可能低的玻璃化转变温度,优选低于-10℃,更优选低于-20℃和进一步优选低于-30℃。
第一聚合物部分与第二聚合物部分的重量比(固体成分的重量比)为3/97至50/50。第一聚合物部分的重量比低于3重量%,不可能提供改进内聚强度(cohesive strength)的作用,而重量比超过50重量%,可能提供不足的粘性。
就这一点而言,当在本发明的树脂组合物中使用所述聚合物(A)时,用于等离子体显示器的滤光器在400nm至800nm,即可见光范围内期望地具有高透过率。
聚合物(A)具有微相分离结构,与常规无规共聚物相比,其趋于提供更低的透过率。然而,对于高Tg聚合物部分和低Tg聚合物部分的组成和重量比以及进一步的合成方法的优化,使得能够改进透过率。在400nm至800nm的平均透过率优选不低于50%,更优选不低于60%和进一步优选不低于70%。
以下解释一种生产聚合物(A)的优选方法。聚合物(A)通过在多元硫醇存在下的多阶段聚合步骤得到,优选至少在所述多阶段聚合步骤的第一阶段和第二阶段使用相互具有不同组成的单体组分进行多阶段聚合步骤。
即,在多元硫醇存在下,在每个阶段使用不同类型的可聚合单体进行多阶段自由基聚合得到星型嵌段共聚物是优选的生产方式之一。
关于生产方法,通过以下方式可得到在同一分子中具有玻璃化转变温度不低于50℃的第一聚合物部分,以及玻璃化转变温度低于0℃的第二聚合物部分的聚合物:在多元硫醇的存在下,通过自由基聚合第一可聚合单体组分而形成具有玻璃化转变温度不低于50℃的聚合物部分,作为第一阶段;和随后当聚合转化率达到不低于50%,优选不低于60%后,通过加入第二可聚合单体组分而形成具有玻璃化转变温度低于0℃的聚合物部分,以作为第二阶段聚合。设定在首先进行的自由基聚合中聚合转化率不低于50%的原因在于,使得即使随后的聚合在不除去聚合后残留的可聚合单体下进行,形成第二聚合物部分的聚合物性质也尽可能的不同。从而,通过挥发除去第一聚合后的可聚合单体也是可行的。
当作为第一聚合阶段,第一可聚合单体在聚合转化率为70%处停止自由基聚合后,通过加入第二可聚合单体组分继续进行自由基聚合时,第二阶段形成由30%第一阶段聚合未反应的单体与作为第二聚合物组分加入的单体构成的共聚物。
作为多元硫醇,包括由二醇与具有羧基的硫醇形成的二酯,例如二硫代二乙醇酸乙二醇酯、二硫代丙酸乙二醇酯、二硫代二乙醇酸1,4-丁二醇酯和二硫代丙酸1,4-丁二醇酯;由三元醇与具有羧基的硫醇形成的三酯,例如三硫代二乙醇酸三羟甲基丙酯和三硫代丙酸三羟甲基丙酯;由具有四个羟基的化合物和具有羧基的硫醇形成的聚酯,例如四硫代二乙醇酸季戊四醇酯和四硫代丙酸季戊四醇酯;由具有六个羟基的化合物和具有羧基的硫醇形成的聚酯,例如六硫代二乙醇酸二季戊四醇酯和六硫代丙酸二季戊四醇酯;由具有三个或更多羟基的化合物与具有羧基的硫醇形成的聚酯化合物;具有三个或更多巯基的化合物,例如三硫甘油;三嗪的多硫醇,例如2-二正丁基氨基-4,6-二巯基仲三嗪和2,4,6-三巯基-s-三嗪;引入通过向多环氧化合物中的多个环氧基加成硫化氢形成的多个巯基的化合物;通过在多羧酸中的多个羧基与巯基乙醇的酯化形成的酯化合物。可单独使用这些化合物中的任何一种,或以两种或多种的混合形式使用。这里的“具有羧基的硫醇”包括具有一个巯基和一个羧基的化合物,例如巯基乙酸、巯基丙酸、硫代水杨酸等。
对于星型嵌段共聚物的聚合方法没有特别限制,可使用公知的方法。根据使用的单体或工作环境,星型嵌段共聚物的聚合方法可适宜地在溶液聚合、悬浮聚合、乳液聚合、本体聚合等中选择。优选使用溶液聚合。
作为用于溶液聚合的溶剂,包括芳香烃如甲苯和二甲苯;脂肪族酯如乙酸乙酯和乙酸丁酯;脂环烃如环己烷;脂肪烃如己烷和戊烷,等等。
此外,对用于聚合反应的聚合引发剂同样没有特别限制,可使用公知的聚合引发剂,例如有机过氧化物如过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酰、过氧化二枯基、氢过氧化叔丁基、氢过氧化枯烯、过氧化辛酸叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化月桂酰、商品名为“NYPER BMT-K40”的物质(NOF Corp.生产;过氧化间甲苯酰与过氧化苯甲酰的混合物);偶氮化合物如偶氮二异丁腈、两品名为“ABN-E”的物质(Japan Hydrazine Inc.生产,2,2’-偶氮二(2-甲基丁腈))。在某些情况下,可组合使用两种或多种聚合引发剂。
聚合引发剂的用量基于多元硫醇,以重量比计优选不超过1/3,更优选不超过1/5。超过该比例的用量产生大量由聚合引发剂延伸出的聚合物,而不是由形成嵌段共聚物的多元硫醇延伸出的聚合物部分,这降低了嵌段共聚物形成效率,并还降低得到的聚合物内聚强度。
聚合条件如聚合温度或聚合时间可根据单体类型、聚合溶剂类型、聚合引发剂类型、星型嵌段聚合物要求的特性、压敏粘合剂的应用等适宜地设定。对聚合压力同样没有特别限定,可采取任何常压、减压或加压条件。
根据本发明的压敏粘合剂树脂可按原状使用,但优选将其溶解在有机溶剂中,对这里使用的溶剂没有特别限制,只要其能够溶解压敏粘合剂树脂即可,可使用公知的有机溶剂。具体地说,包括烃溶剂如甲苯、二甲苯、己烷和乙酸乙酯。也可使用其它溶剂而不特别限于此,只要其不损害聚合反应即可。其中,优选乙酸乙酯和甲苯。在这种情况下,这些溶剂可单独使用或以两种或多种的混合形式使用。此外,对所述压敏粘合剂树脂的固体成分浓度同样没有特别限定,但优选10至80%,更优选20至60%。在这种情况下,固体成分浓度低于20%可能由于需要更长的干燥时间而不经济,而超过60%可能由粘度过高导致损害涂覆性质。
在本发明的压敏粘合剂组合物中,可包含增粘剂。在本发明中,“增粘剂”表示通过与树脂共混来增强粘合强度的添加剂。
作为增粘剂,可使用各种公知的增粘剂,例如松香类树脂、萜烯类树脂、石油类树脂、香豆酮类树脂、二甲苯类树脂和苯乙烯类树脂。这些增粘剂可单独使用或以两种或多种的混合形式使用。这些增粘剂中,优选使用通常廉价的松香类树脂、萜烯类树脂或石油类树脂。此外,在很多情况下这些树脂表现出强着色,配混荧光增白剂意义大。然而,使用的增粘剂并不仅限于此,可使用其它增粘剂。
松香类树脂为从松树上收集的松香、由石油溶剂提取切削松树桩后得到的木松香、在生产牛皮纸浆(craft pulp)中蒸煮废液得到的松香如浮油松香以及它们的衍生物。松香由通式C19H29COOH表示的几种异构体和少量中性组分组成,其组成根据原木的类型、产地和松香的纯化步骤而不同。主要组分通常为松香酸。松香衍生物表示进行改性如氢化、歧化或二聚化以改进对氧化的稳定性的松香。作为松香衍生物,包括氢化松香、歧化松香、聚合松香等。松香衍生物基于松香合成,还可采用商品例如商品名“Hypale”(由Arakawa Chemical Industries Ltd.生产)和商品名“Polypale”(由Hercules A.G.生产)。
萜烯类树脂是采用在由松树生产松香中得到的松节油作为原料的树脂。松节油包括树胶松节油、木材松节油、硫酸盐松节油等。其组成取决于原木的类型、产地和萜烯类树脂的纯化步骤。萜烯类树脂的主要组分通常为α-蒎烯。作为其它组分,可包含β-蒎烯、莰烯、二戊烯等。作为萜烯类树脂的具体例子,包括萜烯、萜烯酚、松香酚、芳香族化合物改性的萜烯、氢化萜烯等。除这些外,可使用各种公知的萜烯类树脂。萜烯类树脂可以是合成的,或也可使用商业松香衍生物,例如商品名“Tamanol 803”(由Arakawa Chemical Industries Ltd.生产)和商品名“zonatac”(由Arizona Chemical Co.Ltd.生产)。
石油类树脂是通过阳离子聚合包含由热解石脑油等得到的不饱和烃副产物的蒸馏物而获得的物质。石油类树脂按组分单体或分子结构类型大致分为脂肪型石油类树脂、芳香型石油类树脂、共聚物型石油类树脂等。脂肪型石油类树脂是通过采用氯化铝作为催化剂,阳离子聚合在石脑油分解油中具有沸点20至80℃的蒸馏物得到的树脂。芳香型石油类树脂是通过使用氯化铝或BF3催化剂,阳离子聚合在石脑油分解油中包含苯乙烯或茚的C9蒸馏物得到的树脂。共聚物型石油类树脂是通过阳离子聚合适宜比例的C5蒸馏物与C9蒸馏物的混合物得到的树脂。
包含在本发明压敏粘合剂组合物中的增粘剂的量,基于100重量份的压敏粘合剂树脂,优选5至100重量份,更优选10至50重量份。过低的增粘剂含量可由增粘剂提供不足的粘合强度改进效果。相反,过高的增粘剂含量可导致粘性下降和粘合强度降低。
如果必要,可向本发明的压敏粘合剂组合物中加入常规的公知添加剂,例如填料、颜料、稀释剂、抗氧化剂、UVA(紫外线吸收剂)、HALS(受阻胺光稳定剂)和UV稳定剂。其中,当本发明的组合物用于显示板用途如PDP时,优选使用UVA(紫外线吸收剂)和HALS(受阻胺光稳定剂)。对UVA(紫外线吸收剂)没有特别限制,可使用公知的紫外线吸收剂。此外,对HALS(受阻胺光稳定剂)也没有特别限制,可使用公知的受阻胺光稳定剂。这些添加剂的加入量可适宜地设定,以能够获得期望的性质。例如,UVA的加入量基于压敏粘合剂组合物的总重量为0.1至100重量%,更优选2至20重量%。此外,例如HALS的加入量基于压敏粘合剂组合物的总重量为0.1至50重量%,更优选0.5至10重量%。
如上所述,本发明的压敏粘合剂组合物包含(I)和(II)和特定的压敏粘合剂树脂作为必要组分,并由于这种组合物,即使当压敏粘合剂层和NIR屏蔽层作为单层形成时,仍然没有观察到NIR屏蔽性能或透明性下降,得到的压敏粘合剂层还能够实现各种性质,例如优异的热稳定性(耐热性)、耐湿热性或耐光性。因此,本发明的压敏粘合剂组合物可以适用于生产NIR吸收材料、滤光器或等离子体显示器(特别是等离子体显示器的前面板或用于等离子体显示器的NIR吸收滤光器)。就这一点而言,除上述应用外,还可使用本发明的压敏粘合剂组合物作为用于光学、农业、建筑、车辆和图像记录应用中的膜或片材;用于致冷器和冰箱的陈列橱;太阳能电池如染料敏化(dye-sensitizing)型太阳能电池;采用半导体激光作为光源的光敏材料;例如用于光盘的信息记录介质;眼疲劳防止材料;光热转换材料如光敏纸和粘合剂或压敏粘合物质,特别是用于光学和图像记录应用的膜或片材;例如用于光盘的信息记录介质;光热转化材料如光敏纸;和粘合剂或压敏粘合物质。
(3)NIR吸收材料
本发明的NIR吸收材料是通过在透明基材上层压包含压敏粘合剂组合物的层得到的材料。
对透明基材没有特别限制,只要其可用作常规光学物质并基本透明即可。作为具体例子,包括玻璃;烯烃类聚合物如环聚烯烃和无定形聚烯烃;甲基丙烯酸类聚合物如聚甲基丙烯酸甲酯;乙烯基类聚合物如聚乙酸乙烯酯和聚卤化乙烯;聚酯如PET;聚碳酸酯;聚乙烯醇缩醛如丁醛树脂;聚芳醚类树脂;等等。此外,所述透明基材可采用常规公知的方法进行表面处理,这些方法例如电晕放电处理、火焰处理、等离子体处理、辉光放电处理、表面粗糙化(roughening)处理和化学处理或者使用锚固涂布剂或底涂层施涂。此外,所述基材树脂可与公知的添加剂、耐热抗氧化剂、润滑剂和抗静电剂配混,并可采用公知的方法如注塑成型、T-模成型、压延成型和压缩成型或通过溶于有机溶剂的浇铸法形成膜或片材。包括这类透明基材的基材可以是未取向的或取向的,或者可以与其它基材层压。
作为在NIR吸收材料用作膜的情况下的透明基材,优选玻璃、PET膜、易于粘合型PET膜、抗反射膜或电磁波屏蔽膜,更优选PET膜,PET膜,特别是经处理易于粘合的PET膜特别适合。具体地说,包括Cosmoshine A4300(由Toyobo Co.Ltd.生产)、Lumiler U34(由Toray Industries,Inc.生产)、Melinex 705(由TeijinDuPont Films Japan Ltd.生产)等。
此外,通过使用抗反射膜、防眩膜、冲击吸收膜、电磁波屏蔽膜等作为透明基材,可容易地生产用于等离子体显示器的滤光器。使用膜是优选的。
本发明NIR吸收材料的厚度通常约10μm至10mm,然而其可根据目的适宜地确定。此外,包含在NIR吸收材料中的NIR吸收染料的含量也可根据目的适宜地决定。
对使用本发明的压敏粘合剂组合物在透明基材上形成压敏粘合剂层的方法没有特别限制,可采用公知的涂布机。例如可使用刮刀涂布机如逗点涂布机(comma coater)、缝模涂布机、给漆涂布机例如唇涂机、吻涂机如微槽辊涂布机、槽辊涂布机、辊涂机例如反转辊涂机、流涂机、喷涂机、刮涂机等。在施涂前可采用公知的方法如电晕放电处理和等离子体处理进行表面处理。作为干燥和固化方法,可使用采用热空气、远红外线、UV固化等公知的方法。干燥和固化后,膜可采用公知的保护膜缠绕。此外,当施涂于采用上述方法等的可剥离膜上,然后将其层压在透明基材上时这种方法也可使用。作为可剥离基材,可使用采用硅酮类、烯烃类、油类、氟类剥离剂施涂的纸或膜、氟类基材、烯烃类基材等。此外,作为透明基材或施涂器,可使用上述仪器。
另外,对上述方法中压敏粘合剂层的厚度没有特别限制,可根据期望的用途(例如用于等离子体显示器前面板或等离子体显示器的NIR吸收滤光器的用途)适宜地确定,然而优选5至50μm,更优选10至30μm。
通过这些方法得到的压敏粘合剂层可采用公知的方法牢固地粘合在其它部件如其它基材或等离子显示面板上,并可实现优异的NIR吸收能力和透明性,以及优异的各种性质如热稳定性(耐热性)、耐湿热性或耐光性。
本发明的NIR吸收材料可以是耐久性和NIR吸收能力优异的用于等离子体显示器的滤光器组分材料。本发明的NIR吸收材料具有高稳定性,从而即使长期存储和使用仍然保持外观和NIR吸收能力。此外,由于具有这种性质,其可用作要求截止红外线的滤光器或膜,例如绝热膜、太阳镜、光学记录材料,而不仅限于显示器应用。
(4)用于等离子体显示器的滤光器
本发明用于等离子体显示器的滤光器是使用所述NIR吸收材料的滤光器。这种滤光器具有不低于40%,优选不低于50%,进一步优选不低于60%的可见光区透过率,在800至1200nm波长下的NIR透过率不高于30%,优选不高于15%,进一步优选不高于5%。
本发明的滤光器可附着有支承基材,如电磁波屏蔽层、抗反射层、防眩层、防擦伤层、调色层、冲击吸收层和玻璃,而非NIR吸收材料组成的NIR吸收层。
具有NIR吸收层和抗反射层的滤光器通过在抗反射层背面层压由本发明的压敏粘合剂组合物组成的层得到,或通过在本发明的NIR吸收材料上施涂抗反射涂层剂得到。
抗反射层为抑制表面反射并防止外部光例如荧光在表面上干涉的层。抗反射层可以由无机物质例如金属氧化物、氟化物、硅化物、硼化物、碳化物、氮化物和硫化物的薄膜组成,或者由通过将具有不同折射率的树脂例如丙烯酸类树脂和氟碳树脂层压为单层或多层而获得的层组成。在前一情形中,采用这样的方法:使用汽相沉积法或溅射法在透明基材上形成单层或多层。此外,在后一情形中,采用使用刮刀涂布机例如逗点涂布机、缝模涂布机、给漆涂布机例如唇涂机、槽辊涂布机、流涂机、喷涂机或刮涂机将抗反射涂层施涂到透明基材的表面上的方法。
此外,具有NIR吸收层和防眩层的滤光器可通过在防眩层背面层压由本发明的压敏粘合剂组合物组成的层获得,或通过在本发明的NIR吸收材料上施涂防眩涂布剂而获得。
防眩层通过由二氧化硅、三聚氰胺树脂、丙烯酸类树脂等微粉制备墨,并采用常规施涂方法将其施涂在本发明滤光器的任意层上,然后进行热固化或光固化来形成。此外,可将防眩处理后的膜粘贴在滤光器上。防擦伤层通过将丙烯酸酯如氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和多官能丙烯酸酯及光聚合引发剂溶解或分散在有机溶剂中得到的涂布溶液,使用常规施涂方法施涂在本发明滤光器的任意层,优选在最外层位置上,并随后干燥和光固化而形成。
具有NIR吸收层和电磁波屏蔽层的滤光器可通过在电磁波屏蔽层上层压由所述NIR吸收组合物组成的层得到。
作为所述电磁波屏蔽层,也可以使用通过借助于用于蚀刻或印刷等方法将金属网压印在膜上,然后用树脂将其整平得到的膜,或者通过将金属汽相沉积在纤维网上并将其嵌入树脂中得到的膜。作为整平薄膜上的金属网的树脂,还可使用压敏粘合剂组合物。此外,作为嵌入用金属沉积的纤维的树脂,还可使用本发明的NIR吸收组合物。
冲击吸收层是保护显示器设备避免外部冲击的层,其优选用于不具有支承物质的滤光器。作为冲击吸收层,可使用公开于JP-A-2004-246365和JP-A-2004-264416中的乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、丙烯酸类聚合物、聚氯乙烯、聚氨酯类或硅酮类树脂等,但其不限于此。
滤光器各层的组成可任意地选择。优选其为至少两层的组合,即抗反射层和防眩层的任意一层和NIR吸收层的组合,或进一步优选具有组合电磁波屏蔽层的至少3层的滤光器。
抗反射层或防眩层应该是相对于人体一侧的最外层,NIR吸收层和电磁波屏蔽层的组合是任意的。此外,其它层如防擦伤层、调色层、冲击吸收层、支承物质和透明基材可插入所述3层中。
每层可仅使用本发明的NIR吸收材料层压,或可组合使用其它压敏粘合剂或粘合剂。使用本发明的NIR吸收材料能够简化等离子体显示器的滤光器的组成,因而是经济的。
在层压每层中,可对其进行物理处理如电晕处理和等离子体处理,或也可使用公知的极性聚合物如聚乙烯亚胺、噁唑啉类聚合物、聚酯和纤维素的锚固涂布剂。
(5)等离子体显示器
本发明的等离子体显示器是其中使用用于等离子体显示器的滤光器的显示器。所述滤光器可远离显示设备设置,或直接层压在显示设备上。
当直接层压时,优选使用不具有支承物质的滤光器,进一步优选使用具有冲击吸收层的滤光器。
作为用于在显示设备上层压压敏粘合剂的材料,包括橡胶如丁苯橡胶、聚异戊二烯橡胶、聚异丁烯橡胶、天然橡胶、氯丁橡胶、氯丁二烯橡胶、丁基橡胶;聚丙烯酸烷基酯如聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯和聚丙烯酸丁酯;等等,其可单独使用,但也可使用加入作为增粘剂的Piccolite、Polypale、松香酯等的那些。此外,可使用例如在JP-A-2004-263084中公开的具有冲击吸收能力的压敏粘合剂,但其并不限于此。
所述压敏粘合剂层的厚度通常为5至2000μm,优选10至1000μm。还优选在压敏粘合剂层的表面上设置可剥离膜,以保护所述压敏粘合剂层直至将其层压到等离子体显示器表面上,目的在于防止尘埃等附着在所述压敏粘合剂层上。在这种情况下,在滤光器外围部分的压敏粘合剂层和可剥离膜之间形成未设置压敏粘合剂层的区域,或通过夹入非粘性膜等形成非粘性区域,以提供剥离起始部分,使得层压操作便捷。
实施例
本发明借助实施例更加具体地解释,但这些实施例决不用于限制本发明。就此而论,NIR吸收能力、耐热性、耐湿热性、最大吸收波长和粘合性(粘合强度)的评价,根据以下方法进行。
1.NIR吸收能力的评价
在作为NIR区域的波长980至1050nm下,  使用分光计(UV-3700,由Shimadzu Corp.生产)测量每个试验样品的透过率。此外,测量在450nm的透过率作为在可见光区的透过率,并将每个得到的透过率示于下表2中的“处理前”列中。
2.耐热性评价
使试验物质在100℃的烘箱中静置120小时,并在试验前后测量在可见-红外区域的透射光谱。使用分光计(UV-3700,由Shimadzu Corp.生产)测量透过率的变化。
3.耐湿热性评价
使试验物质在保持在80℃和90%RH恒温恒湿下的容器中静置120小时,并以与耐热性试验类似的方式评价该物质。
4.最大吸收波长的测量
将使用的酞菁或萘菁溶解在特定量的甲乙酮(MEK)中,并保证在吸光度测量前没有不溶物存在。对于吸光度测量,使用UV-1600分光计(由Shimadzu Corp.生产),并使用具有10mm光路的玻璃制测量池。
5.粘合性(粘合强度)评价
根据JIS-Z02 3 7按如下测量在以下实施例和比较例中得到的压敏膜的粘合强度:在23℃和65%RH气氛下,将宽25mm的粘合片通过2kg重的胶辊的一次往复层压在不锈钢板(SUS304)上,在25分钟后在180度方向以300mm/min速率剥离。粘结强度的接受水平(在表2中以“o”表示)不低于100g/25mm。
此外,根据以下方法测量在生产实施例1至4和比较生产例1中的酸值和羟值。
6.酸值的测量方法
在准确称取的0.5g丙烯酸类聚合物溶液中加入50g甲苯,并均匀溶解。加入2至3滴作为使用0.1N氢氧化钾醇溶液滴定的指示剂的酚酞醇溶液,,将浅红色溶液的颜色消失约30秒时的时间确定为滴定终点。基于到达该点时的滴定量和树脂固体成分测定酸值。酸值表示中和1g树脂固体成分需要的以mg计的氢氧化钾量。
7.羟值的测量方法
根据JIS K0070采用以下方法测量羟值。
(乙酰化试剂的制备)
通过以100/30的体积比均匀混合吡啶/醋酸酐制备乙酰化试剂。
(吡啶水溶液的制备)
通过以2/3的体积比混合吡啶(一级试剂)/去离子水制备吡啶水溶液。
(KOH甲醇溶液的制备)
向约70g KOH(特级试剂)中加入约50mL去离子水并溶解,向其中加入甲醇(一级试剂)以制备约1L的溶液,然后振荡溶解。在屏蔽二氧化碳的同时将该溶液静置不少于1夜后,取出其上清液,用具有已知因数的1mol/L盐酸溶液滴定,并测定因数(以下方程中的“f”)。
(滴定)
向准确称取的10g样品中,使用全量吸液管加入5mL乙酰化试剂。将样品完全溶解,并随后浸入100±2℃的油浴中60分钟。使用全量吸液管加入5ml吡啶水溶液并混合均匀后,将该溶液浸入100℃的油浴中10分钟。
使该溶液在室温下进行冷却后,加入40ml二噁烷并均匀混合,加入2至3滴用于使用氢氧化钾甲醇溶液滴定的酚酞指示剂。测定该溶液显示浅红色的时间作为测量滴定量的终点(在以下方程中的“C”)。
类似地,同样测量在未加入样品的空白试剂中的滴定量(以下方程中的“B”)。
(羟值的计算1)
采用以下方程计算羟值。羟值表示与1g树脂固体成分中含有的羟基相当的以mg计的氢氧化钾的量。
(数值方程)
羟值={[(B-C)×f×56.1]/(s×N)}+A
其中B表示空白的滴定量(mL);C表示样品的滴定量(mL);s表示以g计的样品重量(10g);f表示1mol/L KOH甲醇溶液的因数;A表示树脂固体成分的酸值;和N表示树脂固含量。
生产实施例1:丙烯酸类聚合物溶液的制备
称取作为单体的丙烯酸2-乙基己酯(478.2g)、甲基丙烯酸环己酯(120g)和丙烯酸羟乙酯(1.8g),并充分混合以制备单体混合物。
向装有温度计、搅拌器、惰性气体引入管、回流冷凝器和滴液漏斗的烧瓶中加入40重量%的该单体混合物和乙酸乙酯(147g)。将由60重量%所述单体混合物、乙酸乙酯(16g)和聚合引发剂NYPER BMT-K40(0.72g)组成的用于滴加的单体混合物加入所述滴液漏斗中,并充分混合。
在以20mL/min通入氮气的同时,使烧瓶内部温度升至84℃,并将聚合引发剂NYPER BMT-K40(0.96g)加入烧瓶中以引发聚合反应。加入所述聚合引发剂10分钟后,开始滴加已经加入滴液漏斗中的所述用于滴加的单体混合物。在90分钟内使所述用于滴加的单体混合物均匀滴加。滴加结束后,将乙酸乙酯(50g)加入烧瓶中。随后,使该反应液在82℃下进行老化4.3小时。
反应结束后,加入乙酸乙酯(44.4g),最后用甲苯稀释所述反应液,使得非挥发性物质为约41%以制备丙烯酸类聚合物(重均分子量=41×104)溶液(1)。得到的丙烯酸类聚合物(1)分别具有0和1.4的酸值和羟值。
生产实施例2:丙烯酸类聚合物溶液的制备
称取作为单体的丙烯酸2-乙基己酯(478.2g)、丙烯酸丁酯(120g)和丙烯酸羟乙酯(1.8g),并充分混合以制备单体混合物。
向装有温度计、搅拌器、惰性气体引入管、回流冷凝器和滴液漏斗的烧瓶中加入40重量%的该单体混合物和乙酸乙酯(147g)。将由60重量%的所述单体混合物、乙酸乙酯(16g)和聚合引发剂NYPER BMT-K40(0.72g)组成的用于滴加的单体混合物,加入所述滴液漏斗中,并充分混合。
在以20mL/min通入氮气的同时,使烧瓶内部温度升至84℃,并将聚合引发剂NYPER BMT-K40(0.96g)加入烧瓶中以引发聚合反应。加入所述聚合引发剂10分钟后,开始滴加已经加入滴液漏斗中的所述用于滴加的单体混合物。在90分钟内使所述用于滴加的单体混合物均匀滴加。滴加结束后,将乙酸乙酯(50g)加入烧瓶中。随后,使该反应液在82℃下进行老化4.3小时。
反应结束后,加入乙酸乙酯(44.4g),最后用甲苯稀释所述反应液,使得非挥发性物质为约41%以制备丙烯酸类聚合物(重均分子量=60×104)溶液(2)。得到的丙烯酸类聚合物(2)分别具有0和1.4的酸值和羟值。
生产实施例3-a:具有玻璃化转变温度不低干50℃的聚合物部分的生产
将作为单体的甲基丙烯酸甲酯(297g)和NK-esterA-200(Shin-Nakamura Chemical Co.Ltd生产)(3g)以及作为溶剂的乙酸乙酯(300g)加入装有搅拌装置、氮气引入管、滴液漏斗、温度计和冷凝器的2L四颈烧瓶中,并在氮气气氛下升温至85℃。当内部温度达到85℃后,加入作为多元硫醇的四硫代丙酸季戊四醇酯(9g)和作为自由基聚合引发剂的偶氮二异丁腈(0.45g)和作为溶剂的乙酸乙酯(9g),以引发聚合。聚合引发10分钟后,在110分钟内滴加甲基丙烯酸甲酯(693g)、NK-esterA-200(7g)、四硫代丙酸季戊四醇酯(21g)、偶氮二异丁腈(1.05g)、乙酸乙酯(31g)。从聚合引发起170分钟后,当聚合转化率达到70.2%时,将作为聚合抑制剂的甲氧基苯酚(0.5g)和作为溶剂的乙酸乙酯(475g)加入并冷却,以完成第一阶段聚合。
生产实施例3:使用具有玻璃化转变温度不低于50℃的聚合物部分制备嵌段共聚物
将生产实施例3-a中得到的第一聚合物部分(1-a)(137.1g)、丙烯酸丁酯(171.4g)和乙酸乙酯(124.2g)加入装有搅拌装置、氮气引入管、滴液漏斗、温度计和冷凝器的2L四颈烧瓶中,并在氮气气氛下升温至85℃。所述内部温度升至85℃后,加入偶氮二异丁腈(0.14g)和乙酸乙酯(3.5g)以引发聚合。从反应引发起10分钟后,在110分钟内滴加所述第一聚合物部分(1-a)(205.7g)、丙烯酸丁酯(257.1g)、偶氮二异丁腈(0.22g)和乙酸乙酯(192.4g)。从滴加结束起60、90、120和150分钟后,在每一点加入偶氮二异丁腈(0.15g)和乙酸乙酯(9g),进一步使反应在回流下进行4小时,然后冷却,得到具有固体成分浓度50.6%和聚合物重均分子量34×104的丙烯酸类聚合物溶液(3)。得到的丙烯酸类聚合物(3)具有的酸值和羟值均为0。
生产实施例4
采用与生产实施例3中类似的操作,使用表1所示的组成物进行聚合以生产具有50.3%固体成分浓度和16×104的聚合物重均分子量的丙烯酸类聚合物溶液(4)。得到的丙烯酸类聚合物(4)具有的酸值和羟值均为0。
生产实施例5:使用大单体的接枝共聚物的制备
向装有搅拌装置、氮气引入管、滴液漏斗、温度计和冷凝器的2L四颈烧瓶中加入大单体AA-6(由作为可聚合不饱和基团的甲基丙烯酰基、作为单体组分的甲基丙烯酸甲酯组成,具有经计算得到的玻璃化转变温度105℃,由Tohagosei Co.Ltd.生产)(48g)、丙烯酸丁酯(172.8g)、甲基丙烯酸环己酯(19.2g)、乙酸乙酯(179g)、甲苯(179g),并在氮气气氛下升温至85℃。所述内部温度达到85℃后,加入偶氮二异丁腈(0.14g)和乙酸乙酯(3.5g)以引发聚合。从聚合引发起10分钟后,在110分钟内滴加大单体AA-6(72g)、丙烯酸丁酯(259.2g)、甲基丙烯酸环己酯(28.8g)、偶氮二异丁腈(0.22g)、乙酸乙酯(120g)和甲苯(120g)。从滴加结束起60、90、120和150分钟后,在每一点加入偶氮二异丁腈(0.15g)和乙酸乙酯(9g),进一步使反应在回流下进行4小时,然后冷却至得到具有固体成分浓度49.2%和聚合物重均分子量23×104的丙烯酸类聚合物溶液(5)。得到的丙烯酸类聚合物(5)具有的酸值和羟值均为0。
实施例1
通过基于每100重量份采用类似于生产实施例1所述方法制备的丙烯酸类聚合物溶液(1)的固体成分,加入2重量份NIR吸收染料(VOPc{4-(CH3O)PhS}8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)3CH(C2H5)CH2NH}4∶VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4∶VOPc(2,5-Cl2PhO)8(2,6-(CH3)2PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F=5∶2∶5(重量比,以下相同)),并混合和搅拌直至得到均匀状态,制备树脂溶液。用于本实施例的(VOPc{4-(CH3O)PhS}8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2)3CH(C2H5)CH2NH}4(以下描述为“化合物A”)、VOPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4(以下描述为“化合物B”)、VOPc(2,5-Cl2PhO)8(2,6-(CH3)2PhO)4{Ph(CH3)CHNH}3F(以下描述为“化合物C”))的最大吸收波长(λmax)分别为968nm、916nm和828nm(在MEK溶剂中)。
将该树脂溶液使用涂膜器涂布在可剥离膜上,使得干燥后厚度为25μm,以形成压敏粘合剂层。使该层在100℃下干燥2分钟。将所述压敏粘合剂层与25μm厚度的PET膜层压(使所述压敏粘合剂层转移至该侧)。评价该压敏粘合剂样品的粘合性质,结果示于下表2中。
将与上述类似制备的树脂溶液采用涂膜器涂布在经处理以易于粘合的PET膜(Cosmoshine A4300,Tohyobo Co.Ltd.生产)上,在热空气干燥机中于100℃下干燥2分钟,以生产具有25μm厚度的涂膜。在该膜上,层压经处理易于粘合的PET膜,以生产试验物质。得到的试验物质的可见-NIR吸收光谱示于图1中。此外,对该试验物质进行劣化评价(耐热性和耐湿热性评价),结果示于表2中。
实施例2
除了基于每100重量份实施例1中的所述丙烯酸类聚合物溶液(1)的固体成分,加入2重量份的NIR吸收染料酞菁(化合物A∶化合物C=5∶5),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
实施例3
除了基于每100重量份实施例1中的所述丙烯酸类聚合物溶液(1)的固体成分,加入2重量份NIR吸收染料酞菁(化合物A∶化合物B∶化合物C=5∶2∶5)和0.5重量份的异氰酸酯交联剂CoronateL-55E(商品名,由Japan Polyurethane Co.Ltd.生产),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
实施例4
除了使用所述丙烯酸类聚合物溶液(2)代替实施例1的丙烯酸类聚合物溶液(1),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
实施例5
除了基于每100重量份实施例1中的丙烯酸类聚合物溶液(1)的固体成分,加入2.7重量份NIR吸收染料酞菁(VOPc(2,5-Cl2PhO)8(PhCH2NH)8(以下描述为“化合物D”)∶化合物A∶化合物B∶化合物C=4/5/2/5),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。本实施例中使用的酞菁化合物D的最大吸收波长(λmax)为1020nm(在MEK溶剂中)。结果示于下表2中。
实施例6
除了基于每100重量份实施例1中的丙烯酸类聚合物溶液(1)的固体成分,加入2.5重量份NIR吸收染料酞菁(化合物D∶化合物B∶化合物C=8/2/5),进行与实施例1中同样的方法。结果示于下表2中。
实施例7
除了使用丙烯酸类聚合物溶液(3)代替实施例1中的丙烯酸类聚合物溶液(1),进行与实施例1中相同的方法,结果示于下表2中。
实施例8
除了使用丙烯酸类聚合物溶液(4)代替实施例1中的丙烯酸类聚合物溶液(1),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
实施例9
除了使用丙烯酸类聚合物溶液(5)代替实施例1中的丙烯酸类聚合物溶液(1),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
实施例10
除了使用丙烯酸类聚合物溶液(3)代替实施例6中的丙烯酸类聚合物溶液(1),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
比较例1
除了基于每100重量份实施例1的丙烯酸类聚合物溶液(1)的固体成分,加入1重量份的二亚铵类染料(一种商品)和1重量份的酞菁类染料(化合物C),进行与实施例1中相同的方法。结果示于下表2中。
比较生产例1:丙烯酸类聚合物溶液的制备
称取作为单体的丙烯酸2-乙基己酯(126g)、  丙烯酸丁酯(422g)、丙烯酸(96.6g)、醋酸乙烯酯(30g)和丙烯酸羟乙酯(0.6g),并充分混合以生产单体混合物。
向装有温度计、搅拌器、惰性气体引入管、回流冷凝器和滴液漏斗的烧瓶中加入40重量%的该单体混合物和乙酸乙酯(339g)。将由60重量%的单体混合物、乙酸乙酯(38.5g)和聚合引发剂ABN-E(0.09g)组成的用于滴加的单体混合物加入所述滴液漏斗中,并充分混合。
在以20mL/min通入氮气的同时,使烧瓶内部温度升至82℃,并将聚合引发剂ABN-E(0.09g)加入烧瓶中以引发聚合反应。从加入所述聚合引发剂起15分钟后,开始滴加已经加入滴液漏斗中的用于滴加的单体混合物。在90分钟内使所述用于滴加的单体混合物均匀滴加。滴加结束后,将乙酸乙酯(70g)加入烧瓶中。随后,使该反应液在80℃下进行老化5.5小时。
反应结束后,加入乙酸乙酯(650g),最后用乙酸乙酯稀释所述反应液,使得非挥发性物质为约30%,以生产比较丙烯酸类聚合物溶液(6)。得到的比较丙烯酸类聚合物(6)分别具有27.2和0.5的酸值和羟值。
比较例2
除了使用对比丙烯酸类聚合物溶液(6)代替实施例1的丙烯酸类聚合物溶液(1)之外,以与实施例1中类似的方式进行添加NIR吸收染料、制备压敏粘合剂样品和评价NIR吸收染料劣化及粘合性质。结果示于下表2中。
表1
生产实施例 3  4  5
高Tg聚合物部分 1-a  1-a  AA-6
第二可聚合单体组成
CHMA  35  10
BA 100  90
2EHA  65
高Tg聚合物部分与低Tg聚合物部分的固体成分重量比 20/80 10/90 15/85
高Tg聚合物部分的计算Tg 105  105  105
低Tg聚合物部分的计算Tg -45  -30  -46
Mw 34×104  16×104  23×104
固体成分浓度(%) 50.6  50.3  49.2
CHMA:甲基丙烯酸环己酯(Tg:83℃)
BA:丙烯酸丁酯(Tg:-55℃)
2EHA:丙烯酸2-乙基己酯(Tg:-70℃)
表2
  丙烯酸类聚合物   在450nm的透过率(%)     在980nm的透过率(%)   在1050nm的透过率(%) 粘合强度
  处理前     耐热性试验后     耐湿热性试验后     处理前     耐热性试验后     耐湿热性试验后   处理前     耐热性试验后     耐湿热性试验后
实施例1   1   50.0     48.9     45.2     9.4     14.4     9.0   81.8     81.4     78.9
实施例2   1   50.3     50.5     44.4     7.0     11.6     6.7   79.2     79.4     77.3
实施例3   1   49.1     46.6     44.6     7.8     10.5     8.5   80.8     80.4     78.4
实施例4   2   51.2     50.1     45.0     8.5     15.3     11.4   82.1     81.3     81.8
实施例5   1   49.3     47.9     48.1     3.3     4.3     3.5   21.5     26.6     25.1
实施例6   1   52.2     49.8     51.5     4.2     6.4     5.3   11.5     17.1     13.5
实施例7   3   50.0     49.9     47.0     6.7     6.8     8.6   65.0     65.1     68.3
实施例8   4   52.4     53.0     52.2     6.9     6.1     6.8   66.3     67.7     67.2
实施例9   5   50.7     50.2     49.3     6.1     7.2     8.3   69.2     72.8     70.1
实施例10   3   53.6     53.8     52.4     5.1     6.1     5.4   13.1     15.5     13.8
比较例1   1   60.0     55.1     53.5     9.6     54.6     60.6   12.3     54.4     61.9
比较例2   6   56.4     56.1     55.9     30.3     81.9     31.5   74.2     75.8     73.7
实施例1:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5
实施例2:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/0/5
实施例3:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5,NCO加入
实施例4:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5,无脂环族单体
实施例5:染料2.7份,化合物D/化合物A/化合物B/化合物C=4/5/2/5
实施例6:染料2.5份,化合物D/化合物A/化合物B/化合物C=8/0/2/5
实施例7:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5
实施例8:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5
实施例9:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5
实施例10:染料2.5份,化合物D/化合物A/化合物B/化合物C=8/0/2/5
比较例1:染料2份,DIM/化合物C=1/1
比较例2:染料2份,化合物A/化合物B/化合物C=5/2/5,聚合物酸值:27
根据上述评估结果,实施例1-10显示出是能够抑制在NIR区域透过率同时保持在可见光区域的透过率并进一步具有高性能的耐热性和耐湿热性的压敏粘合剂组合物。
此外,在其中使用具有λmax1020nm(在MEK溶剂中)的化合物D的实施例5、6和10同样显示出在1050nm处优异的NIR光截止效率。
相反,在比较例1中,二亚胺类染料经热处理劣化,并在NIR区域透过率增加。此外,在其中使用具有27.2酸值的粘合剂树脂的比较例2中,显示出在NIR区域透过率明显增加,并且耐热性和耐湿热性变差。这被认为是在树脂中大量酸基的存在导致的,所述酸基使染料劣化并降低染料的NIR光截止效率、耐热性和耐湿热性。
2005年5月10日提交的日本专利申请2005-1357546的全部内容包括说明书、权利要求书、附图和摘要在此以其整体引入以作参考。

Claims (14)

1.一种压敏粘合剂组合物,包括:(I)选自在800至920nm区域具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线吸收剂;(II)选自在超过920nm区域内具有最大吸收波长的酞菁类化合物和萘菁类化合物的至少一种作为近红外线吸收剂;和具有酸值不高于25的压敏粘合剂树脂。
2.根据权利要求1所述的压敏粘合剂组合物,其中所述组合物包括至少一种在不小于800nm至低于850nm具有最大吸收波长的化合物和至少一种在850至920nm具有最大吸收波长的化合物作为所述(I)。
3.根据权利要求1或2所述的压敏粘合剂组合物,其中所述组合物包括至少一种在大于920nm至小于950nm具有最大吸收波长的化合物和至少一种在950至1100nm具有最大吸收波长的化合物作为所述(II)。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的压敏粘合剂组合物,其中所述压敏粘合剂树脂为(甲基)丙烯酸类树脂。
5.根据权利要求4所述的压敏粘合剂组合物,其中所述(甲基)丙烯酸类树脂包含作为单体组分的脂环族单体。
6.根据权利要求1至5任意一项所述的压敏粘合剂组合物,其中所述压敏粘合剂树脂为在同一分子中具有玻璃化转变温度不低于50℃的第一聚合物部分和具有玻璃化转变温度低于0℃的第二聚合物部分的聚合物。
7.根据权利要求1至6任意一项所述的压敏粘合剂组合物,其中所述压敏粘合剂树脂为嵌段共聚物或接枝共聚物。
8.根据权利要求1至7任意一项所述的压敏粘合剂组合物,其中所述压敏粘合剂树脂是一种在同一分子中包含多元硫醇部分、第一聚合物部分和第二聚合物部分的聚合物;所述多元醇部分是质子从其中离解的多元硫醇中巯基的残余部分;所述第一聚合物部分由多元硫醇部分径向伸展并具有玻璃化转变温度不低于50℃;以及所述第二聚合物部分具有玻璃化转变温度低于0℃。
9.根据权利要求8所述的压敏粘合剂组合物,其中所述压敏粘合剂树脂为通过在多元硫醇存在下,在每一阶段采用不同类型的可聚合单体的多阶段自由基聚合生产的。
10.根据权利要求6或7所述的压敏粘合剂组合物,其中所述压敏粘合剂树脂使用在一末端具有可聚合双键的大单体作为具有玻璃化转变温度不低于50℃的聚合物部分。
11.一种近红外线吸收材料,其通过在透明基材上层压包含根据权利要求1-10任意一项所述的压敏粘合剂组合物的涂膜而制成。
12.根据权利要求11所述的近红外线吸收材料,其中所述透明基材选自由玻璃、PET膜、易于粘合的PET膜、抗反射膜和电磁波屏蔽膜组成的组中。
13.一种用于等离子体显示器的滤光器,其使用根据权利要求11或12所述的近红外线吸收材料。
14.一种等离子体显示器,其使用根据权利要求13所述的滤光器。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104592913A (zh) * 2015-01-30 2015-05-06 日东电工(上海松江)有限公司 丙烯酸类粘合剂的制备方法、粘合剂及其用途
CN106133082A (zh) * 2014-04-01 2016-11-16 德莎欧洲公司 等离子体引发粘结的方法

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007231067A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 近赤外線吸収粘着剤及びその製造方法並びに近赤外線吸収シート
US7986389B2 (en) * 2006-06-29 2011-07-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Adhesive composition for optical filter, adhesive layer having optical filter functions and composite filter
CN102163394B (zh) 2006-07-14 2013-12-25 迪睿合电子材料有限公司 图像显示装置、树脂组成物及树脂固化物层
EP2118115B1 (en) 2007-01-11 2010-08-11 Basf Se Near infrared absorbing phthalocyanines and their use
JP5401824B2 (ja) * 2007-04-09 2014-01-29 デクセリアルズ株式会社 画像表示装置
CN101675461B (zh) 2007-04-09 2013-11-13 迪睿合电子材料有限公司 图像显示装置
JP5470735B2 (ja) * 2007-04-10 2014-04-16 デクセリアルズ株式会社 画像表示装置の製造方法
JP2008297419A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Daio Paper Corp 電子ディスプレイ用の粘着シート
KR100892121B1 (ko) 2007-07-24 2009-04-09 엘지전자 주식회사 필터 및 그를 이용한 플라즈마 디스플레이 장치
JP4978493B2 (ja) * 2007-10-05 2012-07-18 日立化成工業株式会社 回路接続材料、接続構造体及びその製造方法
JP2009227851A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルタ用粘着剤組成物及び光学フィルタ
JP5184949B2 (ja) * 2008-04-14 2013-04-17 リケンテクノス株式会社 粘着剤組成物および粘着シート部材
JP2010197305A (ja) * 2009-02-26 2010-09-09 Fujifilm Corp ナフタロシアニン化合物を用いた製品の真偽を証明する方法、シグナル変換方法及び印刷用インク又はトナー、及びナフタロシアニン化合物の製造方法
JP5554933B2 (ja) * 2009-03-04 2014-07-23 ニッタ株式会社 感温性粘着剤
JP5588755B2 (ja) * 2010-06-18 2014-09-10 株式会社寺岡製作所 光学部材用粘着剤
JP6033543B2 (ja) * 2010-12-15 2016-11-30 日東電工株式会社 光学用粘着シート
JP5655660B2 (ja) * 2011-03-25 2015-01-21 日油株式会社 近赤外線遮蔽フィルム及びこれを用いた近赤外線遮蔽体
JP2013050593A (ja) * 2011-08-31 2013-03-14 Fujifilm Corp 近赤外線カットフィルタおよび近赤外線カットフィルタの製造方法
KR101789896B1 (ko) * 2013-02-01 2017-10-25 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 표시 장치 및 적층 광학 필름
CN105531608B (zh) * 2013-08-20 2020-03-06 Jsr株式会社 滤光器、固体摄像装置以及照相机模块
CN105451994B (zh) * 2013-09-02 2018-05-11 三井化学株式会社 层合体
JP6324758B2 (ja) * 2014-03-03 2018-05-16 山本化成株式会社 フタロシアニン化合物を含有して成るフィルタ
WO2015141383A1 (ja) * 2014-03-18 2015-09-24 綜研化学株式会社 偏光板用粘着剤組成物、粘着剤層、粘着シートおよび粘着剤層付き偏光板
KR101771774B1 (ko) * 2014-03-21 2017-08-28 주식회사 엘지화학 점착 필름용 광경화성 수지 조성물 및 점착 필름
US11478567B2 (en) 2015-11-24 2022-10-25 University Of Washington Photosensitive medical tape
CN108449956A (zh) * 2015-11-30 2018-08-24 Jsr株式会社 光学滤波器、环境光传感器及传感器模块
WO2018016232A1 (ja) * 2016-07-21 2018-01-25 富士フイルム株式会社 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ
JP7134984B2 (ja) * 2017-09-20 2022-09-12 ハリマ化成株式会社 粘着付与樹脂および粘着剤組成物
KR102081370B1 (ko) * 2018-05-23 2020-04-23 주식회사 네패스 적외선 반사필름 및 이의 제조방법
US11878499B2 (en) 2019-06-28 2024-01-23 University Of Washington Apparatus, system, and method for activating a low-adhesion state of thermal-sensitive tape

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3465833B2 (ja) * 1995-06-07 2003-11-10 株式会社日本触媒 溶剤型の粘着剤組成物
AU718609B2 (en) * 1996-04-18 2000-04-20 Osaka Gas Co., Ltd. Near-infrared absorbing film, and multi-layered panel comprising the film
US6310175B1 (en) * 1999-10-23 2001-10-30 Nippon Shokubai Co., Ltd. Star-shaped block copolymer and production process therefor
JP2001288439A (ja) * 2000-04-06 2001-10-16 Sekisui Chem Co Ltd 保護フィルム用アクリル系ホットメルト粘着剤及び保護フィルム
JP3517210B2 (ja) * 2000-12-28 2004-04-12 日清紡績株式会社 近赤外線吸収材料
TW200305626A (en) * 2002-04-04 2003-11-01 Sekisui Chemical Co Ltd Acrylic adhesive and adhesive tape
DE60304397T2 (de) * 2002-06-12 2007-03-08 Nippon Shokubai Co. Ltd. Phthalocyanin Verbindung, im nahen Infrarot absorbierende Farbstoffe und Wärmestrahlen-Abschirmung
JP3949603B2 (ja) * 2003-04-03 2007-07-25 株式会社日本触媒 近赤外吸収フィルター、該フィルターを用いたプラズマディスプレイ前面板およびプラズマディスプレイ
JP4412895B2 (ja) * 2002-12-05 2010-02-10 株式会社日本触媒 感圧接着剤組成物
JP2004339285A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Nippon Shokubai Co Ltd 粘着剤組成物
EP1602700A1 (en) * 2004-06-01 2005-12-07 Nippon Shokubai Co., Ltd. Pressure-sensitive adhesive composition
EP1852483B1 (en) * 2005-02-22 2008-12-17 Asahi Glass Company, Limited Adhesive composition, adhesive film, and optical filter
JP4942303B2 (ja) * 2005-03-16 2012-05-30 リンテック株式会社 粘着剤組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106133082A (zh) * 2014-04-01 2016-11-16 德莎欧洲公司 等离子体引发粘结的方法
CN106133082B (zh) * 2014-04-01 2019-08-09 德莎欧洲股份公司 等离子体引发粘结的方法
US10899947B2 (en) 2014-04-01 2021-01-26 Tesa Se Method for plasma-initiated adhesive bonding
CN104592913A (zh) * 2015-01-30 2015-05-06 日东电工(上海松江)有限公司 丙烯酸类粘合剂的制备方法、粘合剂及其用途
CN104592913B (zh) * 2015-01-30 2016-11-02 日东电工(上海松江)有限公司 丙烯酸类粘合剂的制备方法、粘合剂及其用途

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