CN101192008A - 涂敷方法和涂敷装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置，其在浮起搬送中不会使被处理基板的前端部和后端部产生波动而能够正确稳定地控制基板的浮起高度，使涂敷膜的膜厚品质提高。基板搬送部(84)包括：平行地配置在利用气体压力的力在空中使基板G浮起的浮起式台(80)的两侧的左右一对导轨(100L、100R)；沿搬送方向(X方向)可移动地安装在这些的导轨(100L、100R)上的左右一对滑动件(102L、102R)；使两滑动件(102L、102R)在两导轨(100L、100R)上同时或平行地直进移动地搬送驱动部；和为了可装卸保持基板(G)的四角而搭载在两滑动件(102L、102R)上的保持部(106)。

Description

涂敷方法和涂敷装置
技术区域
本发明涉及以浮起搬送方式在被处理基板上形成处理液的涂敷膜的涂敷方法和涂敷装置。
背景技术
在LCD等的平面面板显示器(FPD)的制造工艺的光刻工序中，多使用对具有狭缝状的吐出口的长方形的抗蚀剂喷嘴进行相对地扫描，在被处理基板(玻璃基板等)上涂敷抗蚀剂液的非旋涂的涂敷法。
作为这样的非旋涂涂敷法的一个方式，已知有例如专利文献1所公开的浮起搬送方式：用于支撑FPD用的矩形的被处理基板(例如玻璃基板)的台(stage)构成为浮起式，使在台上的基板保持在空中浮起的状态沿水平方向(台的长边方向)搬送，在搬送途中的规定位置使设置在台上方的长方形的抗蚀剂喷嘴向通过其正下的基板带状地喷出抗蚀剂液，从基板上的一端至另一端涂敷抗蚀剂液。
现有的普通的喷嘴移动方式为将基板固定在吸附式的台上，通过在其上方使长方形抗蚀剂喷嘴沿水平方向移动，同时带状地吐出抗蚀剂液，从基板上的一端至另一端涂敷抗蚀剂液的方式，浮起搬送方式与现有的普通的喷嘴移动方式相比较，因为保持固定长方形抗蚀剂喷嘴的状态进行涂敷扫描，所以被认为对基板的大型化(即抗蚀剂喷嘴的庞大沉重化)有利。
采用浮起搬送方式的现有的抗蚀剂涂敷装置，为了在浮起式的台上浮起搬送基板，包括：被配置在台的左右两侧的一对导轨；沿着这些的导轨平行地直线移动的左右一对滑动件；以一定的间隔可装卸地吸附在基板的左右两边部的左右单列的吸附垫；和将这些的左右单列的吸附垫分别连接在左右的滑动件上，并且随着基板的浮起高度上下移位的板簧等的连接部件。
通常，根据从浮起台的上面向基板供给的气体(一般为空气)的压力规定基板的浮起高度(浮起量)，对沿搬送方向划分的浮起台上的每个区域设定最佳的浮起量。即，在进行基板的搬入和搬出的台两端部的区域(搬入区域和搬出区域)设定例如250～350μm的比较大的浮起量，在从抗蚀剂喷嘴向基板上供给抗蚀剂液的台中心部的区域(涂敷区域)设定例如30～60μm的小的浮起量。然后，在浮起台上将基板从搬入区域通过涂敷区域浮起搬送至搬出区域时基板的浮起高度发生变化，在搬送方向的各位置追随基板的浮起高度使各位置的连接单元上下移位。
此外，在浮起搬送方式中，为了在抗蚀剂喷嘴和基板之间形成一定的狭小间隙，不仅要求使基板的浮起高度控制为与设定值高精度地一致，也有必要正确地管理抗蚀剂喷嘴的高度位置，在装置的装配时和装置运转的间隔测定相对台的抗蚀剂喷嘴的相对高度位置或间隙，基于该测定值进行基准值的初始化或误差的校正。
以往，为了测定台和抗蚀剂喷嘴之间的间隙，将块状的夹具以其测定点露出到台外(旁边)的方式载置在台上，从下方将千分表的触针按压在该夹具的测定点上，从表的读取值测定台上面(基准)的高度位置，接着卸下夹具从下方将千分表的触针按压在抗蚀剂喷嘴的下端，从表读取值测定抗蚀剂喷嘴下端的高度位置。然后，将从第二测定值(抗蚀剂喷嘴下端的高度位置)减去第一测定值(台上面的高度位置)的差分作为间隙测定值。
专利文献1：日本特开平2005-244155
如上所述，现有的浮起搬送式抗蚀剂涂敷装置，利用从浮起台向基板供给的气体的压力对基板的浮起高度(浮起量)进行可变控制，并使保持基板的吸附垫到连接部件随着基板的浮起高度上下移位。但是，在浮起搬送中存在基板的前端部和后端部上下振动而产生波动的问题。即，基板的前端在大致完全覆盖台上面的各列或各个别的喷出口或吸引口的瞬间，从台侧承受的浮起压力急剧地变动，在基板上产生垂直方向的振动，另外基板的后端在对大气开放各列或各个别喷出口或吸引口的瞬间，浮起压力也急剧地变动，在基板上产生垂直方向的振动。此时，保持基板的吸附垫和连接部件也随着基板一起振动。由此，会造成在浮起搬送上的基板的前端部和后端部不稳定地波动，导致抗蚀剂涂敷膜的膜厚变得不稳定，产生缟状的涂敷不均的情况。
另外，如上所述，为了测定抗蚀剂喷嘴的高度位置使用千分表的现有的方法，不仅存在千分表的设置和使用麻烦，而且存在由于是接触式的千分表，对抗蚀剂喷嘴造成损伤，表触针被抗蚀剂弄脏，易于检测出错等问题。
发明内容
本发明是鉴于上述现有技术的问题而提出的，其目的在于提供一种在浮起搬送中不会使被处理基板的前端部和后端部产生波动而正确稳定地控制基板的浮起高度，使涂敷膜的膜厚品质提高的浮起搬送方式的涂敷方法和涂敷装置。
进一步地，本发明的目的在于提供一种能够简便并且安全正确地测定喷嘴的高度位置的浮起搬送方式的涂敷装置。
为了达到上述目的，本发明的涂敷装置包括：台，利用气体的压力使矩形的被处理基板浮起；搬送部，具有以能够装卸的方式保持在上述台上处于浮起状态的上述基板的保持部，为了在上述台上沿规定的搬送方向浮起搬送上述基板而使保持上述基板的上述保持部沿上述搬送方向移动；和处理液供给部，具有配置在上述台的上方的长方形的喷嘴，为了在上述基板上形成处理液的涂敷膜，使处理液从上述喷嘴向着利用上述浮起搬送通过上述喷嘴的正下方的上述基板吐出，上述保持部具有局部地保持上述基板的四角的实质上不挠曲的保持部件，和用于使上述保持部件升降移动或移位的升降部。
另外，本发明的涂敷方法，在上面设置有多个喷出口的台上，沿着搬送方向，依次单列设定用于将矩形的被处理基板搬入上述台上的搬入区域、用于在上述基板上涂敷处理液的涂敷区域、和用于将上述基板从上述台搬出的搬出区域，利用从上述台的喷出口喷出的气体的压力使上述基板浮在上述台上，以实质上不挠曲的能够升降的保持部件局部地保持上述基板的四角，并将上述基板从上述搬入区域搬送至上述搬出区域，在途中的上述涂敷区域内使处理液从配置在上方的喷嘴吐出，在上述基板上涂敷上述处理液。
在本发明中，具备搬送部的保持部或保持部件实质上不挠曲而保持基板的四角，因此在搬送部在台上浮起搬送矩形的基板时，即使从台侧承受的浮起压力发生变动，也能通过保持部或保持部件的刚性的保持力或束缚力抑制基板的前端部或后端部的不稳定波动。
根据本发明的涂敷方法的一个优选方式，在搬入区域、涂敷区域、搬出区域的每个区域分别设定台上的基板的浮起高度，在将基板从搬入区域搬送至搬出区域的搬送期间根据基板的浮起高度的变化使每一个的保持部件升降移动或移位。这种情况下，优选在搬送中使前列的保持部件彼此之间和后列的保持部件彼此之间分别在同一时刻升降移动或移位。
在本发明的涂敷装置的一个优选方式，保持部件包括：能够分别吸附在基板的四角的背面的4个吸附垫，和在沿搬送方向以规定的间隔设置的2个位置上分别规定各个吸附垫的垂直方向的移位并支撑其的第一和第二垫支撑部。这种情况下，为了吸收第一和第二垫支撑部之间的升降误差，优选构成为：第一和第二垫支撑部的双方具有使吸附垫在其周围在垂直面内能够旋转移位的水平旋转轴，第一和第二垫支撑部的一方具有使吸附垫在水平方向能够直动(直线)移位的直动轴。另外，作为一个优选的实施方式，升降部具有：分别独立的对第一和第二垫支撑部进行升降驱动的第一和第二驱动器，和对第一和第二驱动器的驱动动作进行集中控制的升降控制部。在此，第一驱动器可以具有第一电动机、和将该第一电动机的旋转驱动力变换为第一垫支撑部的垂直方向的直线运动的第一传动机构。第二驱动器可以具有第二电动机、和将该第二电动机的旋转驱动力变换为第二垫支撑部的垂直方向的直进运动的第二传动机构。
根据这样的以双轴使吸附垫升降移动使其吸附结合在基板的四角上的结构，能够稳定可靠地保持吸附垫的水平姿势进而稳定可靠的保持基板前端部和基板后端部的水平度。
另外，在一个优选实施方式中，升降控制部包括用于分别检测第一和第二电动机的旋转角的第一和第二编码器，为了控制第一垫支撑部的升降移动距离，将第一编码器的输出信号作为反馈信号，对第一电动机的旋转量进行控制，为了控制第二垫支撑部的升降移动距离，第二编码器的输出信号作为反馈信号，对第二电动机的旋转量进行控制。或者是作为另外的优选实施方式，升降控制部包括用于分别检测第一和第二垫支撑部的升降移动距离的第一和第二距离传感器。这种情况下，为了控制第一垫支撑部的升降移动距离，将第一距离传感器的输出信号作为反馈信号对第一电动机的旋转量进行控制，为了控制第二垫支撑部的升降移动距离，将第二距离传感器的输出信号作为反馈信号，对第二电动机的旋转量进行控制。
在本发明的一个优选实施方式中，在第一和第二垫支撑部之间具有相对地调节吸附垫的支点的高度位置的吸附垫水平调节部，使得相对于喷嘴的吐出口的高度位置，各吸附垫的上面整体为均匀水平。
根据本发明的一个优选实施方式，搬送部包括：在台的两侧沿上述搬送方向延伸的一对导轨；搭载保持部，并能够沿导轨移动的滑动件；和使滑动件沿导轨直进驱动的搬送驱动部。
另外，作为一个优选的实施方式，在设置有用于使喷嘴升降移动的喷嘴升降机构，并且设置有为了光学测定与正下的测定对象物的距离间隔，安装在喷嘴或安装在支撑喷嘴并一体地升降移动的喷嘴支撑体上的光学式距离传感器。优选，也可以使该光学式距离传感器测定与吸附垫的距离间隔，或者是也可以测定与台上的基板之间的距离间隔。
进一步地，根据本发明的最佳的一个方式，在搬送部的保持部上安装用于光学地检测喷嘴的高度位置的光学式位置传感器。优选将该光学式位置传感器与至少一个吸附垫一体地设置，优选将其设置在以搬送方向作为前方的台的左右两侧。作为一个优选方式，该光学式位置传感器包括：以相对于搬送方向平行或倾斜的角度射出大致水平的光束的投光部，和隔着大小为喷嘴的下端部可从上方出入的间隔与投光部的出射面直接相对的受光面，发生表示光束是否到达受光面的电信号的受光部。
根据本发明的涂敷方法和涂敷装置，通过上述那样的结构和作用，在浮起搬送中正确稳定地控制基板的浮起高度，使得被处理基板的前端部和后端部不波动，能够提高涂敷膜的膜厚品质。进一步地，根据本发明的涂敷装置，通过具备上述那样的光学地位置传感器，能够简便并且安全正确地测定喷嘴的高度位置。
附图说明
图1为表示可适用于本发明的涂敷显影处理系统的结构的平面图。
图2为表示上述涂敷显影处理系统的处理顺序的流程图。
图3为表示实施方式中的抗蚀剂涂敷单元的整体结构的大致平面图。
图4为表示上述抗蚀剂涂敷单元的整体结构的立体图。
图5为表示上述抗蚀剂涂敷单元的整体结构的大致正面图。
图6为表示上述抗蚀剂涂敷单元内的台涂敷区域内的喷出口和吸入口的排列模式的一例的平面图。
图7为表示上述抗蚀剂涂敷单元的基板搬送部的结构的一部分截面侧视图。
图8为表示上述基板搬送部的保持部的结构的放大侧视图。
图9为表示上述基板搬送部的保持部的结构的立体图。
图10为表示在上述保持部中垫支撑部支撑吸附垫的一个优选结构例子的立体图。
图11为表示上述抗蚀剂涂敷单元的喷嘴升降机构、压缩空气供给机构和真空供给机构的结构的图。
图12为表示上述抗蚀剂涂敷单元的控制系统的主要的结构的程序图。
图13为表示在上述抗蚀剂涂敷单元中在基板上形成抗蚀剂涂敷膜的样子的侧视图。
图14为表示在上述抗蚀剂涂敷单元中在基板的前端部形成抗蚀剂涂敷膜时的各部的状态的侧视图。
图15为表示在上述抗蚀剂涂敷单元中进行吸附垫的整平检查或校正的方法的一个阶段的侧视图。
图16为表示在上述抗蚀剂涂敷单元中使用实施方式的光学位置传感器测定台的高度的方法的立体图。
图17为表示在上述抗蚀剂涂敷单元中使用实施方式的光学位置传感器测定抗蚀剂喷嘴的高度位置的方法的立体图。
符号说明
10涂敷显影处理系统
30涂敷处理部
44抗蚀剂涂敷单元(COT)
80台
82抗蚀剂喷嘴
82a喷出口
84基板搬送部
96抗蚀剂液供给机构
104搬送驱动部
106保持部
108(1)～108(4)吸附垫
110a、110b垫支撑部
112a、112b垫驱动器
130光学位置传感器
132喷嘴升降机构
170控制器
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的优选实施方式进行说明。
图1表示作为能够适用于本发明的涂敷装置的一个结构例的涂敷显影处理系统。该涂敷显影处理系统10被设置在清洁室内，例如以矩形的玻璃基板为被处理基板G，在LCD制造工艺中进行光刻工序中的清洗、抗蚀剂涂敷、预烘焙、显影和后烘焙等一系列处理。在与该系统邻接设置的外部曝光装置12中进行曝光处理。
该涂敷显影处理系统10在中心部配置有横长的工艺站(processstation)(P/S)16，在其长边方向(X方向)两端部配置有盒站(cassettestation)(C/S)14和接口站(interface station)(I/F)18。
盒站(C/S)14为系统10的盒搬入搬出端口，其包括：盒台20，该盒台20能够在水平方向(Y方向)上并排载置4个盒C，其中该盒C能够以多层层叠的方式收容多个基板G；以及搬送机构22，其用于相对该台20上的盒C进行基板G的搬入搬出。搬送机构22具有能够以一个单位或两个单位保持基板G的搬送臂22a，并且能够在X、Y、Z、θ的4个轴上进行动作，能够与相邻的工艺站(P/S)16侧进行基板G的交接。
按照工艺流程或工序的顺序，将工艺站(P/S)16的各处理部配置在沿着水平的系统长边方向(X方向)延伸的平行并且反向的一对线路A、B上。
更详细地说，沿着第一平流搬送通路34，从上游侧开始，以搬入单元(IN PASS)24、清洗工艺部26、第一热处理部28、涂敷工艺部30和第二热处理部32的顺序并且以单列的方式将这些部件配置在从盒站(C/S)14侧到接口站(I/F)18侧的上游部的工艺线路A上。
更详细地说，搬入单元(IN PASS)24构成为：从盒站(C/S)14的搬送机构22以一枚单位或两枚单位接收到未处理的基板G，以规定的生产节奏(tact)将基板G一枚一枚地投入到第一平流搬送通路34。清洗工艺部26沿着第一平流搬送通路34从上游侧依次设置有受激准分子UV照射单元(E-UV)36和洗刷清洗单元(SCR)38。第一热处理部28从上游侧依次设置有粘附单元(AD)40和冷却单元(COL)42。
涂敷工艺部30从上游侧依次设置有传递单元(PASS)43、抗蚀剂涂敷单元(COT)44、传递单元(PASS)45和减压干燥单元(VD)46，同时设置有用于将传递单元(PASS)43、45与抗蚀剂涂敷单元(COT)44之间的基板G从第一平流搬送通路34暂且迂回到外面(旁边)的搬送装置47和迂回搬送通路49。更详细地说，上游侧的传递单元(PASS)43将从第一热处理部28以平流搬送而来的基板G交接到迂回搬送通路49的搬送装置47，搬送装置47将其接收到的基板G经由迂回搬送通路49搬入到抗蚀剂涂敷单元(COT)44。然后，搬送装置47将在抗蚀剂涂敷单元(COT)44完成抗蚀剂涂敷处理的基板G搬出，并将其经由迂回搬送通路49交接到下游侧的传递单元(PASS)45。将来自传递单元(PASS)45的基板G再次以第一平流搬送通路34上的平流送入到减压干燥单元(VD)46。减压干燥单元(VD)46包括：收容基板G，并且能够进行减压的腔室，和以平流将基板G搬入搬出该腔室的搬送机构。
第二热处理部32从上游侧依次设置有预烘焙单元(PRE-BAKE)48和冷却单元(COL)50。在位于第二热处理部32的下游侧的旁边的第一平流搬送通路34的终点上设置有传递单元(PASS)52。将在第一平流搬送通路34上以平流的方式搬送的基板G，从该终点的传递单元(PASS)52移动到接口站(I/F)18。
另一方面，将显影单元(DEV)54、后烘焙单元(POST-BAKE)56、冷却单元(COL)58、检查单元(AP)60和搬出单元(OUT-PASS)62沿着第二平流搬送通路64从上游侧以该顺序单列配置在从接口站(I/F)18侧到盒站(C/S)14侧的下游部的工艺线路B上。由此，后烘焙单元(POST-BAKE)56和冷却单元(COL)58构成第三热处理部66。搬出单元(OUT-PASS)62构成为，一枚一枚的接收来自第二平流搬送通路64的完成处理的基板G，并以一个单位或两个单位将其交接到盒站(C/S)14的搬送机构22。
在两工艺线路A、B之间设置有辅助搬送空间68。另外，也可以使以一枚单位水平载置基板G的往复移动装置(未图示)能够利用驱动机构(未图示)沿工艺线路方向(X方向)双方向移动。
接口站(I/F)18具有搬送装置72，该搬送装置72用于与上述第一和第二平流搬送通路34、64、以及邻接的曝光装置12之间进行基板G的存取，在该搬送装置72的周围配置有旋转台(R/S)74和周边装置76。旋转台(R/S)74是为了使基板G在水平面内旋转的台，用于在与曝光装置12进行交接时变换长方形的基板G的方向。将周边装置76例如标记器(TITLER)、周边曝光装置(EE)等连接在第二平流搬送通路64上。虽然省略了图示，但是在周边装置76的下方，设置有用于从搬送装置72接受基板G，载于第二平流搬送通路64的始点的传递单元(PASS)。
图2表示该涂敷显影处理系统中的一个基板G的整个工序的处理过程。首先，在盒站(C/S)14中，搬送机构22从台20上的任一个盒C中取出一个或2个基板G，并将该取出的基板G搬入到工艺站(P/S)16的工艺线路A侧的搬入单元(IN PASS)24(步骤S1)。将来自搬入单元(IN PASS)24的基板G一个一个的移载或投入到第一平流搬送通路34上。
最初，在清洗工艺部26中，通过受激准分子UV照射单元(E-UV)36和洗刷清洗单元(SCR)38，对投入到第一平流搬送通路34上的基板G依次实施紫外线清洗处理和洗刷(Scrubbing)清洗处理(步骤S2、S3)。洗刷清洗单元(SCR)38通过对在第一平流搬送通路32上水平移动的基板G实施擦刷(brushing)清洗和吹风(blow)处理除去基板表面的粒子状污垢，其后，实施漂洗(rinse)处理，最后，利用吹拂器(air knife)等使基板G干燥。若洗刷清洗单元(SCR)38的一系列清洗处理完成，则顺着第一平流搬送通路34使基板G原封不动地通过第一热处理部28。
在第一热处理部28中，最初在粘附单元(AD)40中使用蒸气状HMDS对基板G实施粘附处理，被处理面被疏水化(步骤S4)。在该粘附处理完成之后，在冷却单元(COL)42中将基板G冷却至规定的基板温度(步骤S5)。此后，顺着第一平流搬送通路34，将基板G搬入到涂敷工艺部30。
一旦进入到涂敷工艺部30，基板G从传递单元(PASS)43经由迂回搬送通路49被搬入到抗蚀剂涂敷单元(COT)44，通过使用长方形的狭缝喷嘴的浮起搬送的非旋涂法对基板上面(被处理面)涂敷抗蚀剂液。接着，基板G经由迂回搬送通路49和传递单元(PASS)45被送到减压干燥单元(VD)46，在此接收减压进行的常温的干燥处理(步骤S6)。
从涂敷工艺部30出来的基板G，顺着第一平流搬送通路34通过第二热处理部32。在第二热处理部32中，最初，基板G在预烘焙单元(PRE-BAKE)48中受到作为抗蚀剂涂敷后的热处理或曝光前的热处理的预烘焙(步骤S7)。通过该预烘焙，蒸发除去残留在基板G上的抗蚀剂膜中的溶剂，增强抗蚀剂膜相对于基板的密接性。然后，在冷却单元(COL)50中将基板G冷却至规定的基板温度(步骤S8)。然后，将基板G从第一平流搬送通路34的终点的传递单元(PASS)52引领至接口站(I/F)18的搬送装置72。
在接口站(I/F)18中，基板G在旋转台74中接受例如90度的方向变换，之后，被搬入到周边装置76的周边曝光装置(EE)中，在此处接受用于在显影时除去附着在基板G的周边部上的抗蚀剂的曝光之后，被传送到相邻的曝光装置12(步骤S9)。
在曝光装置12中，将基板G上的抗蚀剂曝光成规定的电路图案。然后，对于完成图案曝光的基板G，若使其从曝光装置12返回到接口站(I/F)18(步骤S9)，则首先将其搬入到周边装置76的标记器(TITLER)，在此处将规定的信息记录在基板上的规定部位上(步骤S10)。然后，将基板G从搬送装置72搬入到被敷设在工艺站(P/S)16的工艺线路B侧的第二平流搬送通路64的始点的传递单元(PASS)。
这样，此次从第二平流搬送通路64向工艺线路B的下游侧搬送基板G。最初在显影单元(DEV)54中，在平流搬送基板G的期间对其实施显影、漂洗、干燥等一系列显影处理(步骤S11)。
将在显影单元(DEV)54中完成一系列显影处理的基板G原封不动地放置在第二平流搬送通路64上，保持原状地依次通过第三热处理部66和检查单元(AP)60。在第三热处理部66中，基板G最初在后烘焙单元(POST-BAKE)56中接受作为显影处理后的热处理的后烘焙(步骤S12)。通过该后烘焙来蒸发除去残留在基板G上的抗蚀剂膜上的显影液和清洗液，增强抗蚀剂图案相对基板的密接性。然后，在冷却单元(COL)58中将基板G冷却至规定的基板温度(步骤S13)。在检查单元(AP)60中，对基板G上的抗蚀剂图案进行非接触的线宽度检查和膜质·膜厚检查等(步骤S14)。
搬出单元(OUT-PASS)62从第二平流搬送通路64一个一个地接收完成全部工序处理的基板G，并以一个单位或两个单位将其转移到盒站(C/S)14的搬送机构22。在盒站(C/S)14侧，搬送机构22以一个单位或两个单位将从搬出单元(OUT-PASS)62接收的完成处理的基板G收容在任意一个(通常为原来的盒)盒C中(步骤S1)。
在该涂敷显影处理系统10中，涂敷工艺部30内的抗蚀剂工艺部30内的抗蚀剂涂敷单元(COT)44能够适用于本发明。以下，参照图3～图17，对本发明优选实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COT)44进行详细地说明。
图3～图5表示该实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COT)44的整体结构，图3为大致平面图，图4为立体图，图5为大致正面图。
如图3所示，抗蚀剂涂敷单元(COT)44具有沿第一平流搬送通路34(图1)的搬送方向(X方向)长地延伸的台80。将应该受到涂敷处理的新的基板G，通过搬送装置47从迂回搬送通路49如箭头FcA所示搬入到台80的搬送上游端的区域(搬入区域M1)。然后，将通过台80上的箭头FB所示的浮起搬送受到非旋涂法的抗蚀剂涂敷处理的基板G从台80搬送下游端的区域(搬出区域M5)如箭头FC所示引取到迂回搬送通路49侧的搬送装置47。在台80的长边方向中心部的区域(涂敷区域M3)的上方配置有用于向基板G供给抗蚀剂液的长方形的抗蚀剂喷嘴82。
如图4所示，台80构成为利用气体压力的力使基板G在空中浮起的浮起式台，在其上面，喷出规定的气体(通常为空气)的多个喷出口88形成于一面。然后，配置在台80的左右两侧的直进运动型的基板搬送部84可装卸地保持浮在台80上的基板G并沿台长边方向(X方向)搬送基板G。台80上的基板G以其一对边与搬送方向(X方向)平行、另一对边与搬送方向垂直的水平姿势被浮起搬送。
将台80在其长边方向分割成5个区域M1、M2、M3、M4、M5(图5)。左端的区域M1为搬入区域，参照图3如上所述，将应该受到涂敷处理的新的基板G从迂回搬送通路49搬入到该搬入区域M1。在该搬入区域M1上以规定的间隔设置有用于从搬送装置47的搬送臂接收到基板G并将其装载在台80上、在台下方的原位置和台上方的往动位置之间可升降移动的多个升降销86。例如通过将气缸(未图示)当作驱动源使用的搬入用的升降销升降部85(图12)使这些的升降销86升降驱动。
该搬入区域M1为开始基板G的浮起搬送的区域，在该区域内的台上面以一定的密度设置有多个喷出高压或正压的压缩空气的喷出口88，用于使基板G以搬入用的浮起高度或浮起量Ha浮起。在此，搬入区域M1内的基板G的浮起高度Ha，特别是没必要制成高精度，只要保持在例如250～350μm的范围内就可以。另外，在搬送方向(X方向)上，搬入区域M1的最佳尺寸为超过基板G的尺寸。进一步地，也可以在搬入区域M1上设置用于使基板G在台80上对位的定位部(未图示)。
设定在台80的长边方向中心部的区域M3为抗蚀剂液供给区域或涂敷区域，基板G在通过该涂敷区域M3时从上方的抗蚀剂喷嘴82接受抗蚀剂液R的供给。涂敷区域M3的基板浮起高度Hb规定抗蚀剂喷嘴80的下端(吐出口)和基板上面(被处理面)之间的涂敷间隙S(例如200μm)。该涂敷间隙S为影响抗蚀剂涂敷膜的膜厚和抗蚀剂消费量的重要参数，有必要将其维持在一定的高精度。由此，以例如图6所示的排列模式将用于使基板G以希望的浮起高度Hb浮起、喷出高压或正压的压缩空气的喷出口88和以负压吸入空气的吸引口90混合设置在涂敷区域M3的台上面。然后，对位于基板G的涂敷区域M3内的部分，从喷出口88施加由压缩空气而产生的垂直向上的力，同时从吸引口90施加由负压吸引力而产生的垂直向下的力，通过控制相对抗的两方向的力的平衡，将涂敷用的浮起高度Hb维持在设定值(例如30～50μm)附近。
搬送方向(X方向)的涂敷区域M3的尺寸为能够在抗蚀剂喷嘴82的正下方形成稳定的如上述那样的间隙S那样的余量即可，通常也可以比基板G的尺寸小，例如可以为1/3～1/4的程度。
如图6所示，在涂敷区域M3内，将喷出口88和吸引口90交替配置在相对搬送方向(X方向)成一定的倾斜角度的直线C上，并且将其在相邻的各列之间的直线C上的间距设为适当的偏移α。通过这样的配置模式，不仅能够使喷出口88和吸引口90的混合密度均匀、台80上的基板浮起力均匀，而且也能够在基板G沿搬送方向(X方向)移动时与喷出口88和吸引口90相对的时间比例在基板各部上均匀化，由此能够防止在基板G上形成的涂敷膜上附着喷出口88和吸引口90的轨迹或转印痕迹。优选增高在相同方向(直线J上)上排列的喷出口88和吸引口90的密度，使得在涂敷区域M3的入口，基板G的前端部稳定地受到与搬送方向正交的方向(Y方向)的均匀的浮起力。另外，在涂敷区域M3内，为了防止基板G的两侧边缘部下垂，优选仅将喷出口88配置在台80的两侧边部(直线K上)上。
再在图5中，设定于搬入区域M1和涂敷区域M3之间的中间区域M2为用于使搬送中的基板G的浮起高度位置从搬入区域M1的浮起高度Ha向涂敷区域M3的浮起高度Hb变化或过渡的过渡区域。即使在该过渡区域M2内也能够使喷出口88和吸引口90混合配置在台80的上面。那时，吸引口90的密度沿搬送方向逐渐增大，由此在搬送中基板G的浮起量逐渐地从Ha转变为Hb即可。或者是，在该过渡区域M2内，也可采用不具有吸引口90仅以适当的配置模式设置喷出口88的结构。
涂敷区域M3的下游侧附近的区域M4为用于使搬送中的基板G的浮起量从涂敷用的浮起量Hb变化为搬出用的浮起高度Hc(例如250～350μm)的过渡区域。即使在该过渡区域M4，将喷出口88和吸引口90混合配置在台80的上面即可，吸引口90的密度沿搬送方向逐渐减小即可。或者是，也可采用不具有吸引口90仅以适当的配置模式设置喷出口88的结构。另外，如图6所示，即使在与涂敷区域M3相同的过渡区域M4，为了防止在基板G上形成的抗蚀剂涂敷膜上附着转印痕迹，优选将吸引口90(和喷出口88)配置在相对基板搬送方向(X方向)成一定的倾斜角度的直线E上，并且将其在相邻的各列之间的配列间距设为适当的偏移量β。
台80的下游端(右端)的区域M5为搬出区域。将在抗蚀剂涂敷单元(COT)44受到涂敷处理的基板G从该搬出区域M5通过搬送装置47(图1)经由迂回搬送通路49移送到下游侧的减压干燥单元(VD)46(图1)。在该搬出区域M5内，将多个用于使基板G以搬出用的浮起高度Hc浮起的喷出口88以一定的密度设置在台上面，同时以规定的间隔设置用于将基板G从台80上卸载转移到搬送装置47、在台下方的原位置和台上方的往动位置之间可升降移动的多个升降销92。例如通过将气缸(未图示)当作驱动源使用的搬出用的升降销升降部95(图12)使这些的升降销92升降驱动。
抗蚀剂喷嘴82具有能够从一端至另一端覆盖台80上的基板G的狭缝状的吐出口82a，将抗蚀剂喷嘴82可升降地安装在门形或反コ字形的框架138(图3、图11)上，与来自抗蚀剂液供给机构96(图12)的抗蚀剂液供给管98(图4)相连接。
如图3、图4和图7所示，基板搬送部84包括：平行地配置在台80的两侧的左右一对导轨100L、100R；沿搬送方向(X方向)可移动地安装在这些的导轨100L、100R上的左右一对滑动件102L、102R；使两滑动件102L、102R在两导轨100L、100R上同时或平行地直进移动的搬送驱动部104；和为了可装卸保持基板G而搭载在两滑动件102L、102R上的保持部106。搬送驱动部104由直进型的驱动机构例如直线电动机构成。
如图3、图4、图7～图9所示，保持部106包括：以真空吸引力结合在基板G的四角的背面(下面)的4个吸附垫108(1)、108(2)、108(3)、108(4)；在沿搬送方向(X方向)以一定的间隔设置的2个位置上规定各吸附垫108(i)(i＝1～4)的垂直方向的移位并支撑其的一对垫支撑部110a、110b；和使这些的一对垫支撑部110a、110b分别独立地升降移动或升降移位的一对垫驱动器112a、112b。
更详细地说，如图9和图10所示，各吸附垫108(i)在例如由不锈钢(SUS)构成的长方体形状的垫片本体的上面设置有多个吸引口114。并且，图示的结构例，为了提高对基板的密接性或吸附力，在各吸引口114上安装橡胶的波纹管116，使其一部分露出。各吸引口114通过垫本体内的真空通路与外部的真空管118(图8)连接。该真空管118通过垫吸附控制部115(图12)的真空源(图中未示)。
垫支撑部110a、110b为例如由不锈钢(SUS)构成的L字形的刚体棒。前部的垫支撑部110a，其下端部(基端部)沿垂直方向延伸与前部垫驱动器112a结合，其上端部沿水平方向延伸与该吸附垫108(i)的前部结合。后部的垫支撑部110b，其下端部(基端部)沿垂直方向延伸与后部垫驱动器112b结合，其上端部沿水平方向延伸与该吸附垫108(i)的后部结合。
在此，吸附垫108(i)和两垫支撑部110a、110b的结合关系为，优选能够在吸附垫108(i)侧吸收两垫支撑部110a、110b之间的升降误差。优选的结构为：两垫支撑部110a、110b的双方具有使吸附垫108(i)在其周围在垂直面内可旋转移位的水平旋转轴，两垫支撑部110a、110b的一方具有使吸附垫108(i)可在水平方向直动移位的直动轴。在该实施方式中，例如如图10所示，将前部轴承122a通过连接部120a安装在吸附垫108(i)的前部，同时将后部轴承122b通过直动导轨120b安装在吸附垫108(i)的后部，使两垫支撑部110a、110b的水平上端部分别与前部轴承122a和后部轴承122b结合。
前部垫驱动器112a包括：例如伺服电动机124a和例如传动机构126a，该传动机构126a将该伺服电动机124a的旋转驱动力变换为前部垫支撑部110a的垂直方向的直进运动，由直动导向一体型的滚珠螺杆机构构成。后部垫驱动器112b包括：例如伺服电动机124b和例如传动机构126b，该传动机构126b将该伺服电动机124b的旋转驱动力变换为后部垫支撑部110b的垂直方向的直线运动，例如由直动导向一体型的滚珠螺杆机构构成。在两伺服电动机124a、124b上安装有用于检测出各自的旋转角的回转式编码器(未图示)。通过这些的回转式编码器的输出信号作为反馈信号对两伺服电动机124a、124b的旋转量分别进行控制，能够使前部和后部垫支撑部110a、110b的升降移动距离大致精确一致。
另外，在该实施方式中，为了进一步提高对两垫支撑部110a、110b的上述那样的升降移动控制的精度，如图8和图9所示，设置有对两垫支撑部110a、110b的升降位置或升降移动距离分别进行实际测量并反馈的直线检测元件124a、124b。各直线检测元件124a、124b包括：安装在滑动件102L(102R)上的沿Z方向延伸的刻度部126；和为了光学读取该刻度部126的刻度，安装在各垫支撑部110a、110b上的刻度读取部128。
该实施方式的保持部106，如上所述，隔着实质上不挠曲的一对刚性的垫支撑部110a、110b通过一对垫驱动器112a、112b以双轴升降驱动各吸附垫108(i)，因此保持部106能够使各吸附垫108(i)保持一定的姿势(特别是水平姿势)并使其稳定地升降移动。
另外，在基板搬送部84中，将连接搭载在滑动件102L、102R上的各部和固定的控制部、用力供给源的电配线和配管全部收纳在可挠性的电缆支架(cable bearer)(未图示)内。
在图9中，在前列左侧的吸附垫108(1)上安装有与其一体的光学式位置传感器130。在前列右侧的吸附垫108(2)上也安装有与其一体的光学式位置传感器130。该光学式位置传感器130代替现有的千分尺用于抗蚀剂喷嘴82的高度位置测定，参照图9、图16、图17对其结构和作用在后面进行详细阐述。
如上所述，通过在台80的上面形成的多个喷出口88和向这些喷出口供给浮起发生力用的压缩空气的压缩空气供给机构134(图11)，进一步地在台80的涂敷区域M3内与喷出口88混合形成的多个吸引口90和向这些吸引口供给真空的压力的真空供给机构136(图11)，构成用于在搬入区域M1和搬出区域M5中使基板G浮起适应搬入搬出和高速搬送的浮起高度Ha、Hc、在涂敷区域M3中使基板G浮起适应稳定并且精确的抗蚀剂涂敷扫描的设定浮起高度Hb的台基板浮起部135(图12)。
图11表示升降机构132、压缩空气供给机构134和真空供给机构136的结构。升降机构132包括：以在与搬送方向(X方向)正交的水平方向(Y方向)跨越涂敷区域M3的上方的方式架设的门形框架138；安装在该门形框架138上的垂直直线运动机构140L、140R；和水平跨越这些的垂直直线运动机构140L、140R之间的移动体(升降体)的喷嘴支撑体142。各垂直直线运动机构140L、140R的驱动部具有例如脉冲电动机144L、144R，滚珠螺杆146L、146R和导向部件148L、148R。将脉冲电动机144L、144R的旋转力通过滚珠螺杆机构(146L、148L)(146R、148R)变换为垂直方向的直线运动，抗蚀剂喷嘴82与升降体的喷嘴支撑体142一体地沿垂直方向进行升降移动。通过脉冲电动机144L、144R的旋转量和旋转停止位置能够任意控制抗蚀剂喷嘴82的升降移动量和高度位置。喷嘴支撑体142由例如四棱柱的刚体构成，通过凸缘、螺栓等将抗蚀剂喷嘴82可装卸地安装在其一个侧面上。
压缩空气供给机构134包括：将在台80上面分割的多个区域分别与喷出口88连接的正压分流器150；将例如来自工厂用力的压缩空气源152的压缩空气送到这些的正压分流器150的压缩空气供给管154；和设置在该压缩空气供给管154的中途的调整器156。真空供给机构136包括：将在台80上面分割的多个区域分别与吸引口90连接的负压分流器158；将例如来自工厂用力的真空源160的真空送到这些的负压分流器158的真空管162；和设置在该真空管162的中途的节流阀164。
另外，该抗蚀剂涂敷单元(COT)44，为了测定抗蚀剂喷嘴82与基板G或与各吸附垫108(i)的距离间隔，如图11所示，在喷嘴支撑体142上安装有光学式的距离传感器166(166L、166R)。该光学式距离传感器166与喷嘴支撑体142和抗蚀剂喷嘴82一体地升降移动，并能够从任意的高度位置光学测定与正下方的物体、即与台80上的基板G的距离间隔，或与各吸附垫108(i)的距离间隔。为了该光学的距离测定，光学式距离传感器166包括：向垂直下方投射光束的投光部；在根据规定距离的位置对从该光束接触的物体(基板或吸附垫)反射而来的光进行受光的受光部。在图示的结构例中，使用左右一对的光学式距离传感器166L、166R，在左右两侧面对与基板G或吸附垫108(i)的距离分别进行测定。
图12表示该实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COT)44中的控制系统的主要结构。控制器170包括一个或多个微型计算机，对单元内的各部、特别是抗蚀剂液供给机构96、喷嘴升降机构132、台基板浮起部135、基板搬送部84(搬送驱动部104、垫吸附控制部115、垫驱动器112)、搬入用升降销升降部85、搬出用升降销升降部95等的个个动作和整体的动作(程序)进行控制。特别是，控制器170具有容纳用于执行与涂敷处理相关的一切控制和与各种附加机能相关的一切控制的程序(软件)的程序存储器，微型计算机的中央运算控制部(CPU)从程序存储器逐次读取所需要的程序并将其执行。另外，在程序的保存管理中能够使用硬盘、光盘、闪存器等的各种存储介质。
接着，对该实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COT)44中的涂敷处理动作进行说明。控制器170随着上述那样的容纳在程序存储器内的抗蚀剂涂敷处理用的程序进行一连串的涂敷处理动作的控制。
一旦未处理的新基板G从搬送装置47(图1)搬入到台80的搬入区域M1，升降销86在往复位置接收基板G。搬送装置47的搬送臂退出后，升降销86下降，将基板G降至搬送用的高度位置即浮起高度Ha(图5)。接着，定位部(未图示)工作，将按压部件(未图示)从四方压向浮起状态的基板G，使基板G在台80上对位。另外，在宽度方向(Y方向)台80的尺寸比基板G的尺寸稍小，基板G的左右两端部稍微(例如6～10mm左右)露出到台80的外面。
基板搬送部84在搬入部M1待机，定位工作一完成，基板G的四角和保持部106的吸附垫108(1)、108(2)、108(3)、108(4)分别上下相对。之后，各位置的保持部106使前部和后部垫驱动器112a、112b同时工作，使前部和后部垫支撑部110a、110b在相同的时刻和冲程上升移动，使吸附垫108(i)从原位置(退避位置)向往复位置(保持位置)上升。在此之前垫吸附控制部115使向吸附垫108(1)～108
(4)的真空供给开放，在一定的高度位置4个吸附垫108(1)～108
(4)分别从下方与基板G的四角的背面接触并以真空吸引力与其结合。如此，基板G在受到从台80向基板整体的空气压的浮起力的同时，仅将其四角通过保持部106的4个吸附垫108(1)～108(4)局部地吸附保持。保持部106接收到基板G，之后定位部使按压部件向规定位置退避。
接着，基板搬送部84在使基板G的四角保持在保持部106的吸附垫108(1)～108(4)上的状态下，开始基板G的浮起搬送。即，搬送驱动部104使左右的两滑动件102L、102R以比较高的一定速度从搬送始点位置向搬送方向(X方向)直线移动。这样基板G在台80上以浮起搬送向涂敷区域M3移动，不久当基板G的前端部到达抗蚀剂喷嘴82的正下方附近的设定位置后，基板搬送部84停止该第一阶段的基板搬送。此时喷嘴升降机构132使抗蚀剂喷嘴82在上方的退避位置待机。
基板G一停止，喷嘴升降机构132开始工作，使抗蚀剂喷嘴82向垂直下方下降，当喷嘴喷出口82a和基板G的距离间隔或间隙S达到设定值后，停止喷嘴的下降动作。接着，抗蚀剂液供给机构96开始从抗蚀剂喷嘴82向基板G的上面喷出抗蚀剂液。另一方面，基板搬送部84开始第二阶段的基板搬送。在该第二阶段即涂敷时的基板搬送中，选择比较低速的一定速度VA。如此，在涂敷区域M3内，通过在基板G保持水平姿势以一定速度VA沿搬送方向(X方向)移动，长方形的抗蚀剂喷嘴82以一定的流量带状地向正下方的基板G喷出抗蚀剂液R，如图13所示，从基板G的前端侧向后端侧形成抗蚀剂液的涂敷膜RM。
在涂敷区域M3内，上述那样的涂敷处理一完成，就将基板G向搬送区域M5搬送。在此，基板搬送部84切换成搬送速度比较大的第三阶段的基板搬送。然后，基板G一到达搬送区域M5内的搬送终点位置，基板搬送部84就停止第三阶段的基板搬送。之后，在垫吸附控制部115停止对吸附垫108(1)～108(4)的真空供给，同时保持部106的前部和后部垫驱动器112a、112b工作，使前部和后部垫支撑部110a、110b在相同的时刻和冲程下降移动，使各吸附垫108(i)从往复位置(保持位置)向原位置(退避位置)下降。如此，4个吸附垫108(1)～108(4)同时从基板G的四角分离。取而代之，升降销92为了卸载将基板G从台下方的原位置向台上方的往动位置上升。
之后，搬出机即搬送装置47从迂回搬送通路49接近搬送区域M5，从升降销92接收到基板G并将其向台80的外面搬出。基板搬送部84将基板G交接到升降销92之后就立即以高速度返回到搬入区域M1。在搬送区域M5将上述那样的处理完成的基板G搬出时，在搬入区域M1内接着对应受到涂敷处理的新基板G进行搬入、定位或搬送开始。
如上所述，该实施方式采用下述结构：在基板搬送部84中，将浮在台80上的状态的基板G的四角以4个吸附垫108(1)～108(4)局部地保持，同时以实质上不挠曲的刚性的垫支撑部110支撑各吸附垫108(i)，并且通过垫驱动器112的升降驱动力使其向希望的高度位置升降移动或升降移位。而且，通过一对的垫支撑部110a、110b和一对的垫驱动器112a、112b以双轴升降驱动，并且以伺服进行控制，因此能够使各吸附垫108(i)保持一定的姿势(特别是水平姿势)稳定地升降移动或升降移位。
根据这样的基板搬送部84的结构，在浮起搬送台80上的基板G的时候，在基板G的前端大致覆盖台上面的各列或各个别的喷出口88或吸引口90的瞬间，或基板G的后端向大气开放各列或各个别的喷出口88或吸引口90的瞬间即使从台80侧受到的浮起压力急剧地变动，通过保持部106的刚性的保持力或束缚力也能够抑制基板G的前端部或后端部的波动。
另外，在将台80上的基板G从搬入区域M1通过涂敷区域M3浮起搬送至搬出区域M5时，能够根据各区域分别设定的基板浮起高度适当可变控制各吸附垫108(1)～108(4)的高度位置。
更详细地说，首先在马上开始基板G的浮起搬送之前和开始之后立即，能够将吸附垫108(1)～108(4)设置在相同的高度位置，使得基板G与设定在搬入区域M1内的浮起高度Ha大致水平。
然后，在基板G的前端通过搬入区域M1和涂敷区域M3之间的过渡区域M2时，在该区间内与基板浮起高度从Ha变到Hb配合，前列左右的保持部106使前列各组的垫驱动器(112a、112b)工作，使前列左右的吸附垫108(1)，108(2)在同一时刻尽量下降相同的高低差(Ha-Hb)。如此，在基板G的前端进入涂敷区域M3到达抗蚀剂喷嘴82的正下方时，进一步地在开始涂敷处理扫描(第二阶段的基板搬送)时，如图14所示，通过前列左右的保持部106的刚性的束缚力能够将基板G的前端部在设定浮起高度Hb稳定可靠地保持水平。由此，能够使在基板G的前端部形成的抗蚀剂涂敷膜RM的膜厚的均匀性提高。另外，基板G的前端部在抗蚀剂喷嘴82的正下方移动时，基板G的后端以浮起高度Ha还在搬入领域M1内。
另外，在基板G的后端通过过渡区域M2时，保持部106使后列各组的垫驱动器(112a、112b)工作，使后列的吸附垫108(3)，108(4)在同一时刻尽量下降相同的高低差(Ha-Hb)。如此，基板G的后端在涂敷区域M3通过抗蚀剂喷嘴82的正下方时，虽然省略图示，但通过后列左右的保持部106的刚性的束缚力能够将基板G的后端部在设定浮起高度Hb稳定可靠地保持水平。由此，能够使在基板G的后端部形成的抗蚀剂涂敷膜RM的膜厚的均匀性提高。另外，基板G的后端部在通过抗蚀剂喷嘴82的正下方时，基板G的前端进入搬出区域M5以浮起高度Hc移动。
为了检查或校正相对抗蚀剂喷嘴82的各吸附垫108(i)的水平度，能够利用安装在喷嘴升降机构132的喷嘴支撑体142上的光学距离传感器166L(166R)。即，如图15所示，通过使吸附垫108(1)在光学距离传感器166L的正下方移动，能够检查距离光学距离传感器166L的距离间隔，即距离抗蚀剂喷嘴82的距离间隔L在吸附垫108(1)上面的各部是否相等。并且，对前部和后部垫驱动器112a、112b进行控制，使与吸附垫108(1)的上面的距离间隔L在与前部和后部垫支撑部110a、110b的支点对应的位置上相等，也可以进行吸附垫108(1)的调平。另外，虽然在图15中仅表示前列左侧的吸附垫108(1)，但也能够对其它的吸附垫108(2)、108(3)、108(4)进行同样的调平检查或校正。
接着，参照图9、图16、图17，对设置在该实施方式中的保持部106的光学式位置传感器130的结构和作用进行说明。如上所述，该光学式位置传感器130代替现有的千分尺，用于测定抗蚀剂喷嘴82的高度位置。
如图9所示，例如使前列左侧的吸附垫108(1)的垫主体沿搬送方向(X方向)延长，在其延长块172上安装有光学式位置传感器130。更详细地说，在延长块172上，在其长边方向中心部上形成有抗蚀剂喷嘴82的下端部可从上方出入大小的槽部174，夹着该槽部174在两侧配置有投光部176和受光部178。
如图17所示，投光部176具有例如光学结合在发光二极管或激光二极管等的发光元件180上的光纤182，从该光纤182的端面(射出面)以与搬送方向(X方向)平行或倾斜的角度向受光部178射出大致水平的光束LB。受光部178具有例如光学结合在光电二极管等的受光元件(光电变换元件)184上的光纤186，使该光纤186的端面(受光面)与投光部176的射出面正面相对。控制器170发光驱动投光部176的发光元件180，输入来自受光部178的受光元件184的输出信号，能够判定从投光部176射出的光束LB是否横切槽部174入射打破受光部178的受光面，换言之，能够判定在槽部174内是否存在遮断光束LB传播的物质。
使用该光学式位置传感器130测定抗蚀剂喷嘴82的高度位置，如图16所示，算出台80的上面(基准)的高度位置。更详细地说，在台80上载置图示那样的夹具186，在光学式位置传感器130上读取该夹具186的露出台80的外面的L字形探针186a的前端。即，利用保持部106的垫驱动器(112a、112b)和垫支撑部(110a、110b)的升降驱动使光学式位置传感器130从比台80低的位置慢慢上升，检测出L字形探针186a的前端在槽部174内遮断光束LB时的光学式位置传感器130的高度位置。使用设置在保持部106上的编码器或直线检测元件124能够读取该高度位置。另外，也可以将L字形探针186a的前端设定在与台80的上面相对应的高度位置上。
接着，从台80取出夹具186，取而代之如图17所示，使喷嘴升降机构132工作，将抗蚀剂喷嘴82从涂敷处理用的基准的高度位置慢慢下降。此时，如图所示，使抗蚀剂喷嘴82的下端(喷出口)位于光学式位置传感器130的槽部174的正下方。如此，检测出抗蚀剂喷嘴82的下端(吐出口)进入光学式位置传感器130的槽部174遮断光束LB时的抗蚀剂喷嘴82的高度位置。例如使用设置在喷嘴升降部132的电动机144L(144R)上的编码器(EC)188能够读取该喷嘴高度位置。如此，能够测定抗蚀剂喷嘴82的涂敷处理用的基准的高度位置和台80之间的距离间隔(隙缝)。该隙缝测定值与设定值不同时，可以校正抗蚀剂喷嘴82的基准高度位置，使得该隙缝测定值与设定值一致。
如上所述，在该实施方式的抗蚀剂涂敷单元(COT)44中，通过在基板搬送部84的保持部106上安装上述那样的光学式位置传感器130的结构，能够以光学式简便安全(不损伤喷嘴)并且高精度地检测出抗蚀剂喷嘴82的高度位置。
另外，通过使用安装在喷嘴升降机构132的喷嘴支撑体142上的光学距离传感器166L(166R)测定台80上(特别是涂敷领域M3上)的与基板G距离间隔，从该距离测定值能够测定抗蚀剂喷嘴82的喷出口82a与基板G的隙缝和浮起高度Hb。这种情况，如上所述能够随时检查或校正抗蚀剂喷嘴82的基准高度位置，因此能够使利用光学距离传感器166L(166R)的测定机能的信赖性提高。
在图16和图17中虽然仅表示与前列左侧的吸附垫108(1)设置成一体的光学式位置传感器130，但也能在前列右侧的吸附垫108(2)设置成一体的光学式位置传感器130上进行与上述相同的喷嘴高度测定。由此，使抗蚀剂喷嘴82的左右两端部的高度位置一致，也能够调节喷嘴喷出口82a的平行度。
在上述的实施方式中将光学式位置传感器130与前列左右的吸附垫108(1)、108(2)设置成一体，但也可以为与后列左右的垫108(3)、108(4)设置成一体的结构，和与4个吸附垫108(1)～108(4)的任何一个设置成一体的构成，或也可以为使光学式位置传感器130从吸附垫108(i)分离，安装在垫支撑部(110a、110b)或垫驱动器(112a、112b)上的构成等。进一步地，本发明的光学式位置传感器130也可以设置在以与本发明的保持部不同的构成或作用保持基板的可升降移动的保持部上。
本发明的被处理基板并不限定于LCD用的玻璃基板，也可以为其它的平面面板显示器用基板和光掩模、印刷基板等。在基板上涂敷的处理液也并不限定于抗蚀剂液，也可以为例如层间绝缘材料、介质材料、配线材料等的处理液。

Claims (19)

1.一种涂敷装置，其特征在于，包括：
台，利用气体的压力使矩形的被处理基板浮起；
搬送部，具有以能够装卸的方式保持在所述台上处于浮起状态的所述基板的保持部，为了在所述台上沿规定的搬送方向浮起搬送所述基板而使保持所述基板的所述保持部沿所述搬送方向移动；和
处理液供给部，具有配置在所述台的上方的长形的喷嘴，为了在所述基板上形成处理液的涂敷膜，使处理液从所述喷嘴向着由所述浮起搬送而通过所述喷嘴的正下方的所述基板吐出，
所述保持部具有局部地保持所述基板的四角的实质上不挠曲的保持部件，和用于使所述保持部件升降移动或移位的升降部。
2.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于：
所述保持部件包括：能够分别吸附在所述基板的四角的背面的4个吸附垫，和在沿搬送方向以规定的间隔设置的2个位置分别规定各个所述吸附垫的垂直方向的移位并支撑其的第一和第二垫支撑部。
3.如权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于：
所述第一和第二垫支撑部的两方具有使所述吸附垫在其周围在垂直面内能够旋转移位的水平旋转轴，所述第一和第二垫支撑部的一方具有使所述吸附垫在水平方向能够直动移位的直动轴。
4.如权利要求2或3所述的涂敷装置，其特征在于：
所述升降部包括：
分别独立地对所述第一和第二垫支撑部进行升降驱动的第一和第二驱动器；和
对所述第一和第二驱动器的驱动动作进行集中控制的升降控制部。
5.如权利要求4所述的涂敷装置，其特征在于：
所述第一驱动器包括：第一电动机；和将所述第一电动机的旋转驱动力变换为所述第一垫支撑部的垂直方向的直进运动的第一传动机构，
所述第二驱动器包括：第二电动机；和将所述第二电动机的旋转驱动力变换为所述第二垫支撑部的垂直方向的直线运动的第二传动机构。
6.如权利要求5所述的涂敷装置，其特征在于：
所述升降控制部包括用于分别检测所述第一和第二电动机的旋转角的第一和第二编码器，为了控制所述第一垫支撑部的升降移动距离，将所述第一编码器的输出信号作为反馈信号，对所述第一电动机的旋转量进行控制，为了控制所述第二垫支撑部的升降移动距离，将所述第二编码器的输出信号作为反馈信号，对所述第二电动机的旋转量进行控制。
7.如权利要求5所述的涂敷装置，其特征在于：
所述升降控制部包括用于分别检测所述第一和第二垫支撑部的升降移动距离的第一和第二距离传感器，为了控制所述第一垫支撑部的升降移动距离，将所述第一距离传感器的输出信号作为反馈信号，对所述第一电动机的旋转量进行控制，为了控制所述第二垫支撑部的升降移动距离，将所述第二距离传感器的输出信号作为反馈信号，对所述第二电动机的旋转量进行控制。
8.如权利要求2或3所述的涂敷装置，其特征在于：
在所述第一和第二垫支撑部之间具有相对地调节所述吸附垫的支点的高度位置的吸附垫水平调节部，使得相对于所述喷嘴的吐出口的高度位置在各个所述吸附垫的上面整体为均匀水平。
9.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于：
所述搬送部包括：在所述台的两侧沿所述搬送方向延伸的一对导轨；
搭载所述保持部并能够沿所述导轨移动的滑动件；和
沿所述导轨对所述滑动件进行直进驱动的搬送驱动部。
10.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于：
包括：用于使所述喷嘴升降移动的喷嘴升降机构，
为了光学地测定与正下方的测定对象物的距离间隔，安装在所述喷嘴上或安装在支撑所述喷嘴并与其一体地升降移动的喷嘴支撑体上的光学式距离传感器。
11.如权利要求10所述的涂敷装置，其特征在于：
使用所述光学式距离传感器测定与所述吸附垫的距离间隔。
12.如权利要求10所述的涂敷装置，其特征在于：
使用所述光学式距离传感器测定与所述台上的所述基板的距离间隔。
13.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于：
在所述保持部上安装有用于光学检测所述喷嘴的高度位置的光学式位置传感器。
14.如权利要求13所述的涂敷装置，其特征在于：
所述光学式位置传感器与至少一个所述吸附垫设置为一体。
15.如权利要求13所述的涂敷装置，其特征在于：
将所述光学式位置传感器以所述搬送方向作为前方设置在所述台的左右两侧。
16.如权利要求13所述的涂敷装置，其特征在于：
所述光学式位置传感器包括：
以相对于所述搬送方向平行或倾斜的角度射出大致水平的光束的投光部；和
具有隔着大小为所述喷嘴的下端部能够从上方出入的间隙与所述投光部的出射面正面相对的受光面，发生表示所述光束是否到达所述受光面的电信号的受光部。
17.一种涂敷方法，其特征在于：
在上面设置有多个喷出口的台上，沿着搬送方向，依次单列设定用于将矩形的被处理基板搬入所述台上的搬入区域、用于在所述基板上涂敷处理液的涂敷区域、和用于将所述基板从所述台搬出的搬出区域，
利用从所述台的喷出口喷出的气体的压力使所述基板在所述台上浮起，
以实质上不挠曲的能够升降的保持部件局部保持所述基板的四角，并且将所述基板从所述搬入区域搬送至所述搬出区域，
在途中的所述涂敷区域内使处理液从配置在上方的喷嘴吐出，在所述基板上涂敷所述处理液。
18.如权利要求17所述的涂敷方法，其特征在于：
在所述搬入区域、所述涂敷区域、所述搬出区域的每个区域分别设定所述台上的所述基板的浮起高度，
在将所述基板从所述搬入区域搬送至所述搬出区域的搬送期间，根据所述基板的浮起高度的变化使各个的所述保持部件升降移动或移位。
19.如权利要求18所述的涂敷方法，其特征在于：
在所述搬送中使前列的保持部件彼此之间和后列的保持部件彼此之间分别在同一时刻升降移动或移位。
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