CN101057309A - 用于透射电子显微镜和加热元件的微反应器及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种用在显微镜中的微反应器，包括第一和第二覆盖层(13)，这两个覆盖层对于电子显微镜的电子束(14)来说至少是部分透明的，并且彼此延伸一段共有距离，在该二者之间围成腔室(15)，并且其中，设置有用于穿过腔室馈送流体的入口(4)和出口(5)，并且其中，设置有加热装置(8)，用于加热腔室和/或其中提供的元件。

Description

用于透射电子显微镜和加热元件的微反应器及其制造方法

技术领域

本发明涉及用于电子显微镜的微反应器。

背景技术

电子显微镜用于以高分辨率，例如高于0.2nm的分辨率，尤其是高于0.12nm的分辨率，来研究试件。为此，将其中具有试件的试件支架放置在电子显微镜的电子束中，从而在例如荧光屏上显示或借助相机来捕获由该波束所生成的图像。这些试件研究通常是在室温下，在真空环境中进行的。

美国第5406087号专利说明了用于电子显微镜的试件支架，其中的试件支架是通过两层塑料薄膜制成的，并且覆有石墨涂层以用于导电。薄膜被支撑在用于进行支撑的金属线栅上，并且通过O形环使它们的边缘都彼此绝缘密封。可以将试件和水一起被封起来，之后可以借助试件支架将试件支架放置在电子显微镜下。

已知的试件支架的缺点是需要使用液体和试件来填充试件支架的腔室，以便使两个薄膜保持一段距离。另外，在试件和/或腔室没有发生变形的情况下不能对腔室施加压力，这严重地干扰了电子显微镜的图像。该已知试件支架的进一步缺点是其中试件和/或腔室的温度控制可能不是很好。

该试件支架的进一步缺点是平行于电子束来测得的室壁之间距离相对较大，使得图像发生进一步的干扰。另外，薄膜非常薄，以至于无法对它们使用HREM(高分辨率电子显微镜)。另外，液体会造成非期望的电子束扩散，从而使HREM派不上用场。

美国第5406087号专利说明了其中试件室具有相对较硬室壁的试件支架来作为该技术的现状。它们保持着相对较大的距离，并且提供有磁透镜以用于将电子束直接聚焦在试件室的上部和下部。该试件室还有一个缺点，尤其是对小型试件来说，会得到不充分清晰的图像。

这些已知的试件支架都具有有限的应用领域，使用它可能得到不充分清晰的图像。另外，其中不能控制温度。

存在对在液体环境下研究试件的可能性的需求，而优选情况下可以控制周围的温度。

发明内容

本发明考虑要提供至少可以避免一部分现有技术的问题的微反应器。

本发明考虑要提供具有简单结构并且易于使用的那种微反应器。

本发明进一步考虑要提供其中可以控制压力和温度，并且其中，可以至少以较高分辨率观察相对较小的试件而同时获取相对清晰的图像的微反应器。

本发明进一步考虑要提供其中可以在不同条件下，包括在气体或液体环境下，观看试件的微反应器。

本发明进一步考虑要提供用于形成微反应器和其中使用的加热元件的方法。

根据本发明的微反应器至少实现了许多这些和其它的目标。根据本发明的微反应器的特征如权利要求1所述。

根据本发明的微反应器包括两个覆盖层，且对于电子显微镜的电子束至少是部分透明的，该覆盖层相互之间保持着较小的间距。在覆盖层之间，包含有试件室，且该试件室带有入口和出口，以便流体和/或试件可以被馈送到和/或馈送经过该腔室。微反应器进一步带有加热装置，用于加热该腔室中现有的流体和/或诸如试件等其中现有的元件。

在本说明书中，可以将透明至少理解成这样一种层：通过使用透射电子显微镜的电子束，其可以实现高于约0.2nm，特别是高于0.12nm的分辨率。

由于为微反应器提供了加热装置，因此例如通过间接加热流体，其中现有的试件可以被加热到和/或保持在期望温度，以便例如可以在微反应器中促进发生、保持或者相反地防止发生特定反应。另外，该试件可以因此被带到和/或保持在以用于获取最佳图像的期望条件下。这里，入口和出口允许流体流进和/或通过该腔室，以便可以控制其中相对于该腔室环境的压力。

在根据本发明的微反应器中，覆盖层之间的间距优选情况下较小，例如平均小于50微米，特别是小于20微米，并且优选情况下小于10微米。从与电子束方向成直角来测量的该腔室的暴露表面优选情况下较小。该表面例如小于20mm²，尤其是小于10微米。因此，所获取的腔室具有较小的容量，以便温度控制相对简单和尽可能迅速，就像控制压力变化一样。

优选情况下，覆盖层是由框架形支撑元件来进行支撑的，以便在每一个支撑元件内部，设置凹槽，该凹槽由覆盖层的暴露部分所覆盖。该暴露部分优选情况下具有较小的表面，例如小于5mm²，特别是在0到4mm²之间，例如约为1mm²。优选情况下每一个覆盖层实质上是平的并且较硬，以便在正常使用期间其内部实际上不会发生变形。

在具有特别优势的实施例中，覆盖层的至少一个，优选情况下覆盖层的每一个均设置有对电子束透明的一个或更多窗口，特别是要比所述的进一步的覆盖层更透明。因此，例如覆盖层可以局部很薄，从而形成了凹槽，其底部是以窗口所形成的并对电子束透明。这里，每一个窗口的表面与该腔室的总表面相比来讲特别小，例如几平方微米。在这种窗口上提供了以微米或者甚至纳米量级的试件，以便可以获取更好的图像。

在根据本发明的试件室中，以一个或多个加热装置实际上分布于所述腔室的整个表面上的形式，所述加热装置优选情况下至少设置于其如上所述的暴露部分上，特别地设置于覆盖层的至少一个中，以便在表面上并且结果在所述腔室中得到均匀的热分布。通过在与覆盖层之间的部件相分开的加热部件中设计该加热元件或该每一个加热元件，防止了图像被加热元件所覆盖。这是因为之后至少在加热元件之间可以观察到该试件或每一个试件。

在具有特别优势的本实施例中，使用了加热线圈形式的加热元件。优选情况下，根据本发明的加热元件是例如以条带和/或平板形式由硝酸钛制成的，且厚度特别小，例如小于500纳米，特别是例如等于或小于300纳米。因此，在所述腔室不受其形状不利影响的情况下，加热元件可以特别简单地被包括在覆盖层中或者形成于其中。

根据本发明的微反应器优选情况下是采用根据本发明的方法进行制造的，其中使用了芯片技术，尤其是平版印刷。从而，芯片可以由不同的层建成，例如窗口可以由硅制成，并且在其两侧覆盖有硅氧化物，其上提供有一或多个硝酸硅覆盖层。已知可以除去作为一部分覆盖层的中间层和支持物，特别是经过蚀刻的，以用于形成待保留的覆盖层的凹槽部分，以便能够获得覆盖层的好的支持物，可以以特别小的量级来维持准确的尺寸，另外，可以获得期望的属性。所提到的材料仅仅是作为例子来提及。

在施加最外的完成层(朝向所述腔室的覆盖层的完成层)之前，可以通过例如已知的溅镀技术、蒸镀技术、蚀刻技术或任何其他合适的方式来提供加热装置。同时，还可以提供连接电极，例如，进口和出口。可以在覆盖层上提供例如由硅氧化物制造得到的间隔装置，以便只获得腔室的侧壁。

这样形成的两个芯片可以只简单地位于彼此的上部，而覆盖层通过间隔物而彼此保持一段距离。

本发明进一步涉及试件支架，具有根据本发明的微反应器，其试件支架适用于将试件放置在电子显微镜的试件室中，不过，作为或可以和微反应器的入口和出口分别相连接的供应和释放信道通过试件支架而延伸，以便液体通过试件支架可以被反馈到或通过试件室。

附图说明

下面通过本发明的解释并结合附图，将使根据本发明的微反应器的实例实施例，方法和试件支架，以及它的加热元件更加详细清楚，其中：

图1示出了根据本发明的微反应器的截面透视图；

图2示出了根据本发明的微反应器的经过放大和非等比例的截面侧仰透视图；

图3示出了根据本发明的用于形成微反应器所使用的芯片的俯视图；

图4示出了根据本发明的芯片的覆盖层一部分的进一步放大图；

图5示出了根据本发明的试件支架；

图6示出了根据本发明的试件支架的顶端的透视图；

图7示出了根据如图6中所示的顶端沿着线VII-VII的截面透视图；

图8示出了其中带有根据本发明的微反应器的根据本发明的试件支架的顶端一部分的截面侧仰视图；

图9示出了根据本发明的试件支架的可选实施例；

图10示出了根据本发明的加热元件的俯视图；以及

图11示出了根据本发明的加热元件的四个可选实施例。

在下面的说明中，相同或相对应的部件被标以相同或相对应的附图标记。这些示例性实施例仅用于解释本发明，不应以此为限。

具体实施方式

在该说明中将要示出微反应器，它基本上是由两个构建部件所组成。这些构建部件由于基本上是用芯片技术来制造的，因此被称为“芯片”。不过，这些构建部件也可以以不同方式来形成。

图1示出了根据本发明的微反应器1的截面视图，它包括第一芯片2和第二芯片3。在图1中，第一芯片2位于底部，并且除了中央凹槽6以外还包括入口4和出口5。与中央凹槽6相反的顶部芯片3包括类似的凹槽7。芯片2、3在凹槽6、7的周围形成框架形支撑部件50，并且在相对侧形成外围环形间隔物9。间隔物9彼此相靠被固定起来，例如，通过粘胶、夹紧或其他任何合适的技术。在凹槽6、7中，加热线圈8是可见的，下面将对其进行详细说明。

图2示出了根据图1的微反应器的经过放大的截面侧仰视图，其中截面所示非等比例。为了清除起见，所示出的有些尺寸相对其它尺寸有些放大。

在图2中芯片2和芯片3是清楚可见的，它们通过间隔物9保持着相互的距离，例如，通过中间开口的盘形部分而形成。

在所示的实例实施例中，每一个芯片是由一组层所构建成的，这在下面将通过图示进行讨论，并且不应该局限于这些。在所示的实例实施例中，两个芯片2、3的结构基本上是相同的。芯片2、3包括中央的由硅制成的第一层10。在其两侧具有第二层11，例如由硅氧化物(湿的SiO2)所制成。在第二层11的两侧上有第三层12，它是由硅氮化物(lpcvd SiN)的两个基本上相同的层而形成的，被称为层12a和12b。在第二层11和第三层12之间具有例如由硅氮化物制成的中间层13，位于第一和第二芯片2、3的表面侧。

通过图示给出了这些层的厚度的一些尺寸，但是并不局限于这些。第一层10为例如大约525μm，每一个第二层为大约0.75μm。两个第三层12a、12b每一个是5μm厚，而中间层13为大约10纳米厚。两个间隔物9每一个都具有例如1μm厚的厚度。

借助已知的芯片技术，特别是平版印刷，在第一芯片2和第二芯片3中从图2中的芯片2、3的相对侧至各个中间层13分别做了凹槽6、7。在所示的实例实施例中，凹槽6、7在第一层10中具有倾斜的壁，以便凹槽6、7的彼此距离较远的端比彼此相对侧上的远。

两个芯片2、3的第三层12与中间层13一起形成覆盖层，其由硅氮化物制成。至少在凹槽6、7中，这些覆盖层对于电子显微镜的电子束14来说是稍微透明的，如图2中的箭头所示。在第一芯片2中，在凹槽6的第一侧具有入口4，并且在凹槽6的另一侧具有出口5。正像凹槽6那样，入口4和出口5是使用芯片技术，特别是平版印刷技术来制造的，并且延伸至覆盖层12中。间隔物9和覆盖层12将反应室包括起来，并且有入口4和出口5与之连通。因此，诸如气体或液体等流体可以经过操作从入口4经由反应室15流至出口5，以便可以简单地控制和/或测量出反应室中的流动和压强。

在第一芯片2的位于凹槽6中央的覆盖层12中，提供了线圈形式的加热装置8，位于层12a和12b之间。图3中以俯视图示出了第一芯片2的结构示意，而图4和图10中以放大方式示出了这种加热元件的实施例。在所示的实施例中，加热器线圈8是由钛氮化物的细丝制成的，连接到两个第一电极15和两个第二电极16。加热器线圈8由一系列直的加热部件17组成，所有部件彼此之间都成近似直角偏移，这样就构成了双缠绕线圈。在使用中，对它施加电压，这样由于有了阻抗，因此可以进行准确可控制的加热。可以通过反应性溅射来提供钛氮化物，例如在Trikon Sigma DC微波反应器。

在所示的具有近似圆形横截面的实施例中，在彼此平行延伸的加热部件17之间，提供了用于形成窗口的凹槽19。从图2中可以看出，设计的这些凹槽进行延伸穿过覆盖层12直达中间层13。中间层13可以让电子射线容易地穿过该层而不会对成像有任何不利的影响。

通过图示，给出了加热元件和这些窗口的大量尺寸，但是不应该局限于这些。例如，加热部件17可以具有大约20nm的厚度和大约18μm的宽度。在彼此平行延伸的两个加热部件17之间，提供了宽度为大约12μm的条带，其中提供了两排窗口19彼此相靠近，每一个窗口的直径为例如大约2μm(图4)或者，在每一种情况下，一排窗口19的直径稍为大一些(图10)。在使用中，试件可以延伸在凹槽19上，或者在使用中，对于特别小的试件，元件可以延伸在凹槽19中，位于中间层13上。优选情况下，每一个覆盖层12具有这种凹槽19，特别是，在每一情况下，成对的凹槽19直接彼此相对。

从图3中清除可见，电极15、16延伸至底部附近，在第一芯片2中，如图2所示，电子接触20暴露在芯片2的各个表面中，从而能得到电子接触。由于加热器线圈8被层12a、12b之一覆盖在两侧，因此加热部件17被保护得很好，并且在腔室15中可以获得更加均匀的热量分布。

图11结构性地示出了加热装置8的四个实施例，正如上面所讨论的。从左上角按照顺时针开始，在例如SiN等薄膜上，以若干行的开口支撑着的线圈；在部件17之间具有完整开口19的线圈，在优选情况下没有底部；在开口19上的具有部件17的线圈，该开口17由平行构建的很薄的带17B构建；具有部件17的线圈，该部件17之间具有开口19，同时，薄突起17A在与部件17相连的开口中延伸。

图5示意性示出了根据本发明的试件支架21的纵向截面。截至目前尚未详细讨论的是，根据本发明的试件支架21被设计成已知的试件支架，例如在PCT/NL95/00444中已经说明的试件支架，特别是用于电子显微镜中的悬挂和试件支架控制的装置。

这种试件支架21具有第一端22，它可操作地延伸到电子显微镜的外部，用于控制试件支架，以及具有相对的第二端或末梢(tip)23，可操作地延伸到电子显微镜的真空(图中未示出)中。在末梢23中，可以接收到试件以放置在电子束中。在如图5所示的根据本发明的试件支架21中，接收到如图1和图2所示的根据本发明的微反应器1，以便凹槽6、7在末梢23中的通道24中延伸，使得在各个凹槽6、7中延伸的覆盖层12的部件25在其中是可见的。图5用点划线示出了光轴26，表示电子束14。

气体供给通道28在大约平行于纵向轴27的方向上延伸穿过试件支架21，该气体供给通道28将气体供给29与位于开口24的第一侧上的入口4相连接。在它的另一侧，腔室15的出口5与气体排放通道30相连，在出口5的下面只示出了它的一个小部件。该气体出口通道从末梢23开始大约平行于气体供给通道28延伸至第一端22，连接到气体排放。另外，电子线路31从第一端22开始延伸进入微反应器1附近的腔室32中，其中电子线路31经由接触33与第一芯片2上的四个接触20相连。

根据图5的试件支架的优点是，来自和流向反应器1的电压和气体或者另一种流体等的所有供给和排放可以通过试件支架21的杆状物34来发生，并且可以从电子显微镜的外部来进行控制。另外，可以沿着纵向轴27来旋转杆状物34，而不需要干扰试件支架的操作。这意味着相对于光轴26来说，腔室15中的试件可以沿着纵向轴27进行旋转。

很清楚，经由入口通道28和排放通道30，可以获得流经腔室15的流体流动，诸如气体流动或液体流动等，但是即使其中没有流动产生，也可以控制腔室15中的压强。另外，在加热装置8的帮助下，腔室中的温度可以被准确的控制和监控。另外，可以使用加热器线圈8来检测腔室15中的温度变化，例如作为在腔室15中发生反应的结果。

图8示出了试件支架21的末梢23的一部分，其中同样的部件具有相同的附图标记。为了简化，在图5-图9中并没有都示出加热装置8和窗口19。

如图8所示，相对于杆状物34，微反应器1被位于它们之间的衬垫35进行气封锁定，特别是O形环。图8仅示出了位于上部的衬垫35，与第二芯片3相对，但是以同样的方式，封件35位于底部，与第一芯片2相对。衬垫35在腔室36中围绕开口24进行延伸。这样保证了电子显微镜的真空室中的真空可以容易得到保持。在其腔室32中，图8进一步示出了电子线路31的电线37的末端，其中，在与线路37相连的一侧上和与微反应器1的电子接触20相邻接的另一侧上，清楚地示出了弹性元件38。在该实施例中，入口4直接与腔室32相连，并且出口5在相对一侧上与其腔室39相连。以类似于图5所示的方式，其腔室32和39分别与入口通道28和出口通道30相连(图8中未示出)，用于流体的供给和排放，以及腔室15中的压强控制。

图6和图7示出了试件支架21的末梢23的可选实施例，而图7示意性示出了根据图6的末梢的线VII-VII的截面。在该实施例中，微反应器1被容纳在围绕轴41进行旋转的枢轴体40中，轴41在与试件支架21的纵轴27成直角的方向上延伸。在这种试件支架21中的枢轴体40的操作装置是实际中经常用到的，这里就不再详述。

在图6和图7所示的实施例中，微反应器1以与图8所示类似的方式被容纳在枢轴体40中，而在图7中，第一腔室32在左侧进行延伸，并且第二腔室39在微反应器1的右侧进行延伸。这里，枢轴41是由第一枢轴部件41A和第二枢轴部件41B来构建的，这两个部件都是中空管，固定在末梢23中。衬垫42将位于枢轴体40中的枢轴41A、41B进行密封。位于外部的管41A、41B的端43A、43B分别朝向供给通道28和排放通道30进行开口，以类似图5的方式穿过试件支架21，而管41A、41B的相对端44A、44B分别朝向第一腔室32和第二腔室39进行开口。因此，流体可以在腔室15中由试件支架21的第一端22进行供给和排放，并且/或者可以控制腔室15中的压强。通过使用目前已知的装置，枢轴体40可以沿着围绕枢轴41的管41A、41B的第二端44A、44B进行旋转，以便腔室15以及之后位于其中的试件在相对于光轴26彼此相互独立的两个方向上进行旋转。

在图7所示的实施例中，枢轴体40是由从管子41A、41B悬挂的底部部件45和盖子46所构建的。在底部部件45中具有可以放置带有衬垫35的微反应器1的空间，再者，可以借助于盖子46将其锁住。这样方便进行微反应器的更换。这种结构当然还可以用在根据本发明的试件支架21的其他实施例中。

例如，可以借助芯片技术来制造芯片2、3。

在第一层10上，两侧都提供了第二层11，然后在其上覆盖第三层12的第一层12A，而在至少一侧上，中间层13位于第二层11和第三层12之间。然后，为了制造第一芯片2，例如，通过溅射和随后的蚀刻等来在芯片2的一侧设置加热器线圈8。可以通过很薄的一层钛来固定钛氮化物层。然后，提供各个覆盖层12的第二层12B。在至少一侧上，为间隔物9提供硅氧化物层。

通过使用根据芯片技术的目前已知并且这里未加详述的方法，特别是平版印刷和蚀刻步骤，在第一和第二芯片中分别提供凹槽4、5、6和7，另外，一部分硅氧化物层被除去，以用于形成窗口形间隔物9。接着，形成凹槽19以获得该窗口。另外，层12B被从接触20去除。

这样，第一芯片2和第二芯片3彼此贴附在一起，从而形成腔室15。

在前述中，在每一种情况下，所形成的基本上闭合的腔室15具有入口4和出口5。当然，以同样方式可以获得完全闭合的腔室15。可选情况下，还可以提供凹槽19，以便它们形成与环境的开口连接，例如使用相对较大的试件，并且/或者在以下情况下，也就是其中腔室15和环境之间的压强差不重要或不太重要时。

可选情况下，根据本发明的芯片，特别是带有加热元件8的芯片，可以作为热板单独使用。图9示出了这种芯片2A，它容纳在试件支架21的末梢23中，类似于并且参考图5中所示的支架，但是没有气体供给通道28和气体排放通道30。芯片2A基本上与参考图1和图2所述的芯片2相同，不过，入口4和出口5被省去了。特别是对于这种实施例，凹槽19可以已连续孔洞的方式延伸穿过覆盖层12的整个厚度。不过，也可以将他们封闭。电子供给线路31被再次连接到芯片2A的连接点20。

在使用中，试件被放置到加热元件8中，从而可以随意覆盖大量的加热部件17和它们之间的凹槽19。有了加热元件，就可以以比较良好和准确的方式来加热试件，而只需供给较少的能量。通过图示，为了获得大约500℃的温度需要大约20mW的功率，而不是通过利用现有的用于电子显微镜的加热元件时的大约1W的功率。这些值只是作为例子提出来，而不应该受此限制。由于相对较低的供给能量，从而实现芯片扩展相对较小这样一个优势，因此最小化了偏移。这意味着防止了不利的图像移动，从而使获取合适的、足够清晰的试件图像更加简单。

在进一步的可选实施例中，可以使用根据本发明的微反应器1来作为气候电池(climate cell)(现有情况下也称之为环境电池、湿电池或水化器)，特别是用于通过电子显微镜来研究生物组织。为此目的，在微反应器和/或在试件支架21中，提供了额外的腔室，其中具有加热装置。在使用中，在该额外的腔室中，例如图7或图8中的腔室32或腔室39中，借助额外的加热装置，提供了温度基本上与腔室15中的温度相等的液体，特别是水。在使用中，以防止压缩的方式，将生物组织形式的试件引入到被饱和水蒸气所包围的腔室15。为此目的，在额外的腔室中的水被加热到期望温度，而另外，腔室中的压强得到控制，从而可以一直保持饱和水蒸气。根据本发明的这种电池提供了与现有技术的已知电池相比的优势，作为加热装置和/或入口和出口的结果，可以在腔室内进行相对较好的气候控制，因此可以更好地防止试件损坏，并且另外，可以获得更好的图像。进一步的优势是，通过使用芯片技术，大大地简化了它的制造。

凹槽6、7的至少一个可以被设计成在宽度方向和纵向方向上具有延长槽。这里，优选情况下，纵向方向大约在支架的旋转轴的横向上进行延伸，特别是对于倾斜微反应器的旋转轴，因此，在具有相对较大倾角的情况下，通过围绕凹槽6、7的材料来防止电子束被阻挡，如果凹槽，至少覆盖层所暴露的部件，彼此不完全相互对齐的情况下也可以。

正如该情况所示的那样，窗口可以是一定程度上或完全能透过气体的，尤其是在所使用的气体并不损害显微镜的情况下。对于窗口具有特别小表面的情况，压强仍然可以得到有效控制。

本发明决不应该局限于这里的介绍和说明中所给的实施例。在本发明的框架内可以对其进行任何变化。因此，这里给出的材料和尺寸仅用于解释性目的，并且不应该受到任何限制。特别是正如所实施和说明地，也应理解所述各实施方式的部件的组合。特别是，可以单独使用第一和第二芯片2、3来作为微反应器，至少作为所设计的热板。

这些以及许多类似的变化都应理解为在本发明所述权利要求的框架内。

Claims (21)

1.一种用在显微镜中的微反应器，包括第一和第二覆盖层，这两个覆盖层对于电子显微镜的电子束来说至少是部分透明的，并彼此延伸出一段共有距离，该两个覆盖层之间围成腔室，其中，

设置有入口和出口，用于穿过该腔室馈送流体，以及其中

设置有加热装置，用于加热腔室和/或其中提供的元件。

2.如权利要求1所述的微反应器，其中，

至少对电子束透明的所述覆盖层的部件彼此之间的共有距离平均距离小于100mm，特别是小于20mm，并且优选情况下小于10mm。

3.如权利要求2所述的微反应器，其中，

所述共有距离为几个mm，并且其中，

在所述覆盖层的部件之间包围的所述腔室具有暴露的表面，在基本上平行于所述覆盖层的部件来测量的情况下，该表面的面积小于20mm²，尤其是小于10mm²，更尤其是小于5mm²，并且优选情况下大小的量级为1mm²。

4.如前述权利要求中的任何一个所述的微反应器，其中，

所述覆盖层为气封或液封的。

5.如前述权利要求中的任何一个所述的微反应器，其中，

在覆盖层中，设置有对电子束透明的窗口，其中，第一覆盖层中有至少一个窗口位于相对的第二覆盖层中的窗口的相对位置。

6.如权利要求5所述的微反应器，其中，在所述腔室中，在至少一个覆盖层中形成作为凹槽的窗口。

7.如前述权利要求中的任何一个所述的微反应器，其中，加热装置包括加热元件，特别是加热器线圈，其中加热元件容纳在覆盖层中或在其上。

8.如权利要求7所述的微反应器，其中，

设置所述或者所述每一个加热元件，使得它能够保证在腔室中的实质均匀的热量分布。

9.如前述权利要求中的任何一个所述的微反应器，其中，

在至少一个覆盖层中容纳有加热元件，该加热元件包括彼此保持一段共有距离的加热部件，其中，在至少多个所述加热部件之间设置有对电子显微镜的电子束透明的所述或者所述每一个相应覆盖层的各部件。

10.如前述权利要求中的任何一个所述的微反应器，其中，

对其至少一部分进行制造时使用了芯片技术，特别是使用平版印刷技术。

11.如前述权利要求中的任何一个所述的微反应器，其中，

每一个覆盖层是实体的一部分，所述实体相互连接起来以形成微反应器。

12.一种在电子显微镜中使用的微反应器，包括覆盖层，该覆盖层的至少一部分对于特别是透射型的电子显微镜的电子束是透明的，其中，

加热元件被容纳在所述覆盖层中或在所述覆盖层上，其中所述透明部件至少在所述加热元件的加热部件之间部分地延伸。

13.根据权利要求12所述的微反应器在根据权利要求1-11之任一所述的微反应器中的应用。

14.一种加热元件，用于在根据权利要求中的任何一个所述的微反应器中，其中，

该加热元件包括以条带和/或平板形式、由TiN以小于500nm甚至小于300nm的厚度所制造的加热元件。

15.一种用于制造用于电子显微镜中的微反应器的方法，其中，

借助平版印刷技术，制造至少一个带有凹槽的芯片，该凹槽被覆盖层所密封，该覆盖层至少对电子显微镜的电子束来说是透明的。

16.如权利要求15所述的方法，其中，

借助于间隔物，第二覆盖层以一段距离设置于第一覆盖层之上，以便在二者之间围成腔室。

17.如权利要求15或16所述的方法，其中，

借助平版印刷技术，在两个分离的芯片之间制造第一和第二覆盖层，这两个芯片互相设置在对方上面，从而形成所述腔室。

18.如权利要求15-17中的任何一个所述的方法，其中，

在至少一个并且优选情况下在每一个覆盖层中，以带有底部的凹槽的形式设置至少一个窗口，其中该底部对于所述电子束来说是透明的。

19.如权利要求15-18中的任何一个所述的方法，其中，

在至少一个覆盖层中，设置加热元件，其中在朝向腔室的一侧上覆盖该加热元件。

20.如权利要求15-19中的任何一个所述的方法，其中为腔室设置入口和出口。

21.一种芯片，具有加热元件，该加热元件具有彼此间隔开来的加热部件，其中，

至少在多个所述加热部件之间设置有用于形成窗口的凹槽，该凹槽对于电子显微镜的电子束是透明的。

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