CN101038447A - 搬送装置及真空处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于，实现简化电子束描画装置用的搬送装置。解决手段是：所述装置含有具备使搬送装置(100)可在水平方向上相互滑动的第1滑动台(53A)和第2滑动台(53B)的多级滑块(50)、分别将第1滑动台(53A)和第2滑动台(53B)向着X轴方向驱动的同步机构臂(70)而构成。利用开闭单元(60)使同步机构臂(70)伸长或伸缩，藉此汇总驱动多个第1滑动台(53A)和第2滑动台(53B)。由此，不必对多个第1滑动台(53A)和第2滑动台(53B)个别进行控制，能够使搬送装置(100)的驱动简单化。

Description

搬送装置及真空处理装置

技术领域

本发明涉及搬送装置及真空处理装置，更详细地说，本发明涉及搬送被搬送体的搬送装置以及具备该搬送装置的真空处理装置。

背景技术

近年来，随着信息的数字化，对于作为记录介质或记录媒体的盘片的大容量化要求越来越高，取代CD(Compact Disk)、DVD(Digital VersatileDisk)等已有的盘片，利用例如波长为400nm左右的紫外光进行信息的记录和重放的下一代光盘的研究开发正在积极进行。

在这种下一代光盘的原盘(stamper，母盘)的制造工艺中，形成于记录层上的凹坑(pit)比已有型号的光盘细微，因此经常使用于可描画极细线条的电子束描画装置。这种电子束描画装置在例如10^-4Pa左右的高真空环境下，对涂覆保护材料的硅片等工件照射电子束，在工件表面描画细微的图案。通常，在这种电子束描画装置中，采用三室一转移结构，即，具备对工件描画细微图案的真空处理室，从外部大气压环境下将工件搬入的装入固定室，通过例如门阀连接于真空处理室与装入固定室上的转移室(参照例如专利文献1和专利文献2)。而且，送入装入固定室的工件借助于在转移室中配置的例如辙叉脚型的搬送机械臂等被送入真空处理室。但是采用这种结构时存在着这样的问题，即从提高生产效率的观点考虑，在工件大型化的情况下，为了确保搬送机械臂的行程，需要使转移室大型化。

为此，有人提出了通过将紧凑的与长行程对应的搬送装置配置于装入固定室，省略转移室的两室一转移结构的电子束描画装置(参照例如专利文献3)。专利文献3中记载的电子束描画装置为了确保搬送行程的长度，采用由多个滑块构成的望远镜型的搬送装置，能够使搬送装置的占有面积不进一步增加的情况下加大搬送行程。

但是，根据专利文献3中所记载的搬送装置，为了控制多个滑块的位置，必须在各滑块上配备滑轮，使其相互之间作带子结合等，使各滑块连动，需要复杂的驱动机构。

专利文献1：特开平11-330199号公报

专利文献2：特开平9-2709450号公报

专利文献3：特开2004-165579号公报

发明内容

本发明是在上述情况下做出的，本发明的第一目的在于：提供一种能够谋求装置简化的搬送装置。

本发明的第二目的在于：提供一种能够谋求小型化和低成本化的真空处理装置。

从第一观点出发，本发明是搬送被搬送体的搬送装置，该装置具备：将多个能够相互交叉转动的连杆对在水平面内的规定方向上连接成缩放仪状的伸缩机构，具有固定在所述伸缩机构的一端、能够保持所述被搬送体的移载滑块，以及能够相对所述移载滑块在所述规定方向相对移动的至少一个滑块的多级滑块，通过改变所述交叉的连杆对的相对角度，使所述伸缩机构伸缩的驱动机构。

如果采用这一发明，搬送装置具备包含保持被搬送体的移载滑块的多个滑块构成的多级滑块、以及借助于驱动机构伸长或缩短，使移载滑块在水平面内的规定方向上移动的伸缩机构。从而，不必分别使多级滑块的多个滑块连动加以驱动，因此能够使驱动机构简单化，结果能够使装置简化。

在本发明的搬送装置中，可以将所述滑块配置于重力方向上，将所述移载滑块配置于所述重力方向的一侧。

根据本发明的搬送装置，还可以具备在所述伸缩机构处于收缩状态时，能够对所述伸缩机构在伸长方向上赋能的赋能手段。

在本发明的搬送装置中，所述滑块可以连接于形成对的所述连杆的交点上。

在本发明的搬送装置中，所述移载滑块可以具有保持所述被搬送体的保持机构。

在本发明的搬送装置中，形成所述对的两个连杆可以通过中空轴连接，所述保持机构利用通过所述中空轴的中空部配线的电缆提供的电信号驱动。

从本发明的第2观点出发，本发明是在工件上描画微细图案的真空处理装置，具备对所述工件描画微细图案的真空处理室、通过门阀连接于所述真空处理室的装入固定室、以及配置于所述装入固定室、将从外部搬入所述装入固定室的所述工件搬送到所述处理室的搬送装置。

按照本发明，则真空处理装置具备本发明的搬送装置。因而，能够实现搬送装置的简单化，结果能够降低真空处理装置的制造成本和削减运行成本。

附图说明

图1是本发明第1实施形态的真空处理装置10的结构概念图。

图2是搬送装置100的侧面图。

图3是搬送装置100的平面图。

图4A是同步机构臂(lazy-tongs arm)70的平面图。

图4B是同步机构臂70的剖面图。

图5是真空处理装置10的动作说明图之一。

图6A和图6B是同步机构臂70的行程的说明图。

图7A和图7B是真空处理装置10的动作说明图之二、之三。

图8是本发明第2实施形态的真空处理装置的搬送装置100’的剖面图。

图9是从+X侧观察第2真空室23的内部的图。

图10是说明输入器100的动作用的说明图。

图11是开闭单元60的变形例的说明图。

图12A和图12B表示加压单元120。

图13表示在同步机构臂70上配线的电缆83。

图中符号说明如下：

10    真空处理装置

11    真空处理室

12    装入固定室

30    转台单元

31    转台

32    电动机

32a   垂直轴

33    滑动单元

40    照射系统

20    第1真空室

20a   第1部分腔室

20b   第2部分腔室

20c   开口

21    平台

22    门阀

22a   开口

22b   闸门

23    第2真空室

23a、23b  开口

23c   盖

23d   凹部

23e   贯通孔

50    多级滑块

51A、51B  可动构件

52A、52B  线性导向器

53A   第1滑动台

53B   第2滑动台

54A、54B、54C  工件卡盘

60    开闭单元

62    旋转轴

62a、62b  阳螺纹部

61A、61B    可动构件

63    电动机

66    齿轮

67    万向接头

70    同步机构臂

71、72、73    连杆

72A   伸缩机构

74A、74B   连接部

80    中心销

81    外侧销

90    上下移动机构

91    直动导向器

93    第1单元基底

94    第2单元基底

95    驱动轴

100   搬送装置

110   输入器

110a  输入器主体

110b  平台

111   平行连杆

120   加压单元

W     工件

具体实施方式

第1实施形态

下面根据图1～图7，对本发明的第1实施形态进行说明。图1表示第1实施形态的真空处理装置10的大概结构。该真空处理装置10是在例如真空度10^-4Pa左右的环境条件下对涂覆保护材料的硅片等工件W照射电子束，在工件W的表面描画微细图案的处理装置。

如图1所示，该真空处理装置10具备载置工件W的转台单元30、将电子束照射于工件W的照射系统40、将工件搬入和搬出转台单元30的搬送装置100、容纳转台单元30和照射系统40的第1真空室20、通过门阀22连接于第1真空室20的第2真空室23、以及对这些部件进行总控制的未图示的控制装置等。

所述转台单元30配置于在水平地面上放置的平台21上。该转台单元30具备：载置工件W的转台31，在水平保持转台31的同时，以规定的转速以轴32a为中心旋转的主轴电动机32，以及在支持主轴电动机32的同时，在X轴方向上以规定的行程进行驱动的滑动单元33。

所述照射系统40配置于转台30的上方。该照射系统40具备：将电子束垂直向下照射的电子枪41，将从电子枪41射出的电子束照射于转台31上载置的工件W的调制单元42。调制单元42作为一例，含有电容透镜、狭缝、多个聚焦透镜而构成，使从电子枪41射出的电子束成形的同时，聚光于转台31上的工件W的表面上。

第1真空室20以其下端与平台21的上表面无间隙地接触的状态设置于平台21上。该第1真空室20具有大致为长方体形状的第1部分腔室20a和形成于该第1部分腔室20a上部的圆筒状的第2部分腔室20b两个部分，第1部分腔室20a内容纳转台单元30，第2部分腔室20a内容纳照射系统40。又，在第1部分腔室20a的-X侧的面上形成有以长度方向为Y轴方向的长方形状的开口20c。所述第2真空室23连接于第1真空室20的-X侧。该第2真空室23在+X侧的面上形成与开口20c大致相同形状的开口23a。在第2真空室23的上表面设置比工件W大得足够多的开口23b、以及藉由在第2真空室23的上表面沿着X轴方向驱动滑块，可将开口23b对外部空间打开或关闭的盖23c。

所述门阀22具备：形成贯通于X轴方向的开口22a的框状部，和通过在z轴方向的滑动，能够关闭或打开开口22a的闸门22b。而且，框状部的+X侧端和-X侧端分别无间隙地连接于第1真空室20的开口20c和第2真空室23的开口23a的周围的侧壁。由此，门阀22通过使闸门22b向+z方向滑动关闭开口22a，可以使由第1真空室20与平台21形成的空间(以下称为真空处理室11)以及第2真空室23的内部空间(以下称为装入固定室12)形成气密状态。又，通过使闸门22b向z方向滑动，打开开口23a，可使真空处理室11与装入固定室12连通。以下，将闸门22b滑动打开和关闭开口22a的动作简称为打开和关闭门阀22。

图2是搬送装置100的侧面图。如图2所示，搬送装置100具备：配置于第2真空室23的底壁上面的多级滑块50，将多级滑块50向X轴方向驱动的同步机构臂70，以及使同步机构臂70伸长和收缩的开闭单元60等。

综合图2和作为搬送装置100的平面图的图3可知，所述多级滑块50具备一对线性导向器52A、第1滑动台53A、一对可动构件51A、一对线性导向器52B、第2滑动台53B、以及一对可动构件51B等。

一对线性导向器52A分别以X轴方向为长度方向，固定于第2真空室23的底壁的上面的Y轴方向一侧和另一侧的端部近旁。而且在一对线性导向器52A的各导向器上分别可在X轴方向上滑动地安装所述可动构件51A。

第1滑动台53A由以X轴方向为长度方向的板状构件构成。该第1滑动台53A通过将其下表面的-X侧的角落部分分别固定于可动构件51A上而得到水平保持，同时能够在X轴方向上移动。

一对线性导向器52B分别以X轴方向为长度方向固定于第1滑动台53A上表面的X轴方向一侧和另一侧的端部近旁。而且一对线性导向器52B上分别安装所述可动构件51B，且使其能够在X轴方向上滑动。

第2滑动台53B由以X轴方向为长度方向的板状构件构成。该第2滑动台53B，藉由使其下表面-X侧的角落部分分别固定在可动构件51B上，而得到水平保持，同时，能够在X轴方向上移动。又在第2滑动台53的上表面沿着该工件W的外围，配置进行所载置的工件W的定位的3个工件卡盘54A、54B、54C。所述开闭单元60如图3所示，具备：配置于第2真空室23内部的-X侧端部、由以Y轴方向为长度方向的棒状构件构成的旋转轴62，安装于旋转轴上的一对可动构件61A、61B，以及使旋转轴62旋转的电动机63。

旋转轴62以其两个端部可旋转地支持于固定在第2真空室23的-X侧侧壁上的一对轴承65上的状态，以Y轴方向为长度方向配置在第2真空室23的内部的-X侧。在该旋转轴62的外周面上，从长度方向中央部的+Y侧的部分形成阳螺纹部62a，在-Y侧的部分以和阳螺纹部62a相同的螺距形成逆向的阳螺纹部62b。这里，如图3所示，定义与X轴平行通过旋转轴62的长度方向中央部的直线L1(可动中心线L1)和与Y轴平行通过旋转轴62的长度方向中央部的直线L2。

一对可动构件61A、61B是由形成了在Y轴方向贯通的阴螺纹部的大致为长方体形状的可动部61a，和固定于可动构件61a的+X侧的ZX剖面为U字形的连接部61b这两个部分构成的构件。而且可动构件61A、61B分别在相对可动中心线L1为对称的位置上，分别与阳螺纹部62a、62b螺合。

电动机63固定于第1真空室23的-Y侧侧壁的外表面，通过设置于第1真空室的-Y侧侧壁上的真空隔板用的磁流体轴承64，使得旋转轴62以规定的方向和转速，绕平行于Y轴的轴，被驱动旋转。

如上所述，在开闭单元60中，藉由旋转轴62和可动构件61A、61B，形成可动构件61A和可动构件61B相对于可动中心线L作互为逆向移动的传送螺旋机构，利用电动机63使旋转轴62旋转。由此，使可动构件61A、61B能够沿着Y轴方向作互为逆向(接近或背离方向)移动。

所述同步机构臂70通过将多支连杆组合成缩放仪状而构成，是能够在X轴方向上伸缩自如的机械臂。综合该同步机构臂70伸长时的平面图、即图4A、以及沿图4A的A-A线的剖面图的图4B可知，该同步机构臂7含有折叠状连杆而构成，所述折叠状连杆由圆筒状的外侧销81，对于利用圆柱状的中心销80相互可旋转地交叉的成对连杆71，将利用圆柱状的中心销80相互可旋转地交叉的多对连杆72，朝向+x方向相互连接而构成。一对连杆71的-X侧端部分别通过旋转轴82连接于可动构件61A、61B的连接部61b。而且在位于折叠状连杆的+X侧端部的连杆72的各端部上，通过外侧销81可转动地连接有连杆73，连杆73的+X侧端部之间由中心销80作相互可转动的连接。

中心销以及外侧销81各自配置为，中心销80位于可动中心线L1上，使相邻的销80、81之间的距离相等。而且，位于中央的中心销80和处于最靠+X侧的中心销80通过连接构件74A、74B分别连接于第1滑动台53A上表面的-X侧端部以及第2滑动台53B上表面的-X端部上。

还有，在本实施形态中，中心销80以及外侧销81为了能够平滑地对折叠连杆进行摇动驱动，通过滚针轴承与连杆71、72、73连接，且添加含氟润滑剂。而且连接连杆71的-X侧端的旋转轴82，其上端和下端由可动构件61A、61B的连结部61b通过例如滚珠轴承被支持。

如上所述构成的同步机构臂70，由开闭单元60的可动构件61A、61B，籍由相互交叉的多支连杆71的开闭，在X轴方向上伸长或伸缩。

下面，对上述构成的真空处理装置10的动作进行说明。作为前提，如图3所示，搬送装置10的同步机构臂70处于收缩状态，如图5所示，关闭门阀22，以此将真空处理室11的内部维持于例如真空度10^-4Pa左右的真空度。又，假定处于旋转台31上和搬送装置10的第2滑动台53B上没有载置工件W的状态。又，将同步机构臂70的收缩状态下的第1转台和第2转台的位置作为各自的待机位置。

工件W利用未图示的搬送系统搬送到装入固定室12上方时，未图示的控制装置将盖23c向-X方向滑动驱动，打开开口23b。然后，工件W由搬送系统载置于搬送装置100的第2滑动台53B上表面时，对盖23c在+X方向上进行滑动驱动，关闭开口23b，使装入固定室12处于气密状态。还有，工件W在被装置于第2滑动台53B时，可以利用工件卡盘54A、54B、54C，对于滑动台53B规定水平方向的位置。

接着，控制装置利用未图示的真空泵将处于气密状态的装入固定室12内部抽真空至例如，与真空处理室11内部的真空度相同程度的真空度(10^-4Pa)，打开门阀22。

接着，控制装置对开闭单元60的电动机63进行驱动，使旋转轴62旋转，由此，可动构件61A、61B分别被向-X方向和+X方向驱动同步机构臂70开始向+X方向伸长。又如图4B所示，分别通过连接部74A、74B连接于同步机构臂70的中心销80上的第1滑动台53A和第2滑动台53B，分别与同步机构臂70的伸长同步地，开始+X方向的移动。

图6A以黑圆点表示中心销80的位置，以白圆点表示外侧销81的位置，以白正方形表示可动构件61A、61B的位置。这里，相邻的销80、81相互之间的距离设为L，同步机构臂70的行程设为S，可动构件61A、61B从与可动中心线L1相隔L的位置的位移设为y。为了说明方便，简单地将可动构件61A、61B与相邻的中心销的距离设为L。

同步机构臂70的行程S可用可动构件61A、61B的位移y(0＜y＜L)、相邻的销80、81之间的距离L表示为下式(1)。在本实施形态中，k为9。

$S=k\·\sqrt{2\·L\·y-y^2}=9\·\sqrt{2\·L\·y-y^2}...\left(1\right)$

也就是说，同步机构臂70的行程与可动构件61A、61B位移y的二次函数的平方根成正比，以位移y为参数的行程S的变化量形成如图6B所示的曲线。式(1)由于与从同步机构臂70的位于最X侧的中心销80连接的第2滑动台53B的待机位置移动的移动量一致，控制装置能够一边根据图6B的曲线监控可动构件61A、61B的位移y，一边驱动开闭单元60，由此，如图7A和图7B所示，使同步机构臂伸长，将第2滑动台53B上放置的工件W搬入真空处理室11的规定位置。

又，从同步机构臂70的中央的中心销80上连接的第2滑动台53B的待机位置移动的移动量S’如下式(2)所示。

$S^{\′}=5\·\sqrt{2\·L\·y-y^2}...\left(2\right)$

因此，第1滑动台53A与第2滑动台53A之间的间隔维持如下式(3)所示的距离SAB，以对各移动量S’、S进行时间微分得到的速度S’/dt、S/dt与同步机构臂70同步移动。

$S_{\mathrm{AB}}=S-S^{\′}=4\·\sqrt{2\·L\·y-y^2}...\left(3\right)$

放置工件W的第2滑动台53B一旦移动到真空处理室11的规定位置上，控制装置就使开闭单元60停止，同步机构臂70的伸长也就停止。接着用未图示的上下移动型移载卡盘，保持第2滑动台53B上载置的工件W，从第2滑动台53B上将工件W拿起来，将工件W转移到转台单元30的转台31上。

一旦工件W从第2滑动台53B向转台31的转移完成，控制装置就驱动开闭单元60，使同步机构臂70开始收缩，然后第1滑动台53A和第2滑动台53B移动到待机位置时，停止驱动开闭单元60。

另一方面，移置到转台31上的工件W在门阀22关闭之后由转台单元30以规定的转速旋转，同时被以规定的速度向X轴方向驱动，同时用照射系统40射出的电子束进行照射。借助于此，在工件W的表面上描画螺旋状或同心圆状的微细图案。而微细图案描画结束之后的工件W借助于搬送装置100，以和上述步骤相反的步骤搬送到装入固定式12，利用未图示的搬送系统搬送到外部。

如上所述，根据本发明第1实施形态的搬送装置100，搬送装置100具备：具有可在水平方向上相互滑动的第1滑动台53A和第2滑动台53B的多级滑块50，以及分别将第1滑动台53A和第2滑动台53B向着X轴方向驱动的同步机构臂70。利用开闭单元60使同步机构臂70伸长或伸缩，籍此，多个滑动台53A、53B分别以维持规定的位置关系的状态被一起驱动。因此，不需要对多个滑动台53A、53B个别进行控制，能够简化搬送装置100的驱动机构。

又，在例如第1滑动台53A、以及第2滑动台53B上设置皮带轮，利用皮带连接进行驱动的情况下，零部件数目增加，不仅驱动机构变得复杂，而且可动部增加，因此产生灰尘的量也增加。但是在搬送装置100中，由于驱动机构被简化，能够有效减少发生的灰尘量。

又如图6B所示，同步机构臂70的行程S随着其值变大，其增加量(曲线的斜率)变小。这意味着同步机构臂70的行程S越大，X轴方向的分辨率越高。因此，在搬送装置100中，伸长同步机构臂70，使放置工件的第2滑动台53D进入真空处理室11内时，能够高精度地对工件W进行定位。

又，第1滑动台53A和第2滑动台53B的间隔经常保持式(3)所示的距离SAB。从而，在使同步机构臂70收缩时，第1滑动台53A的连接部74A与第2滑动台53B不发生冲突，伸长时可动构件51A、51B的移动范围不会超过线性导向器52A、52B的长度。

又，本第1实施形态的真空处理装置10具备搬送装置100。由此，能够简化在装入固定室12与真空处理室11之间搬送工件W的搬送系统，结果是能够获得装置的小型化和低成本化。

第2实施形态

以下，根据图8～图10说明本发明第2实施形态的真空处理装置。与上述第1实施形态相同或相等的结构部分采用相同的符号表示，省略或简化其说明。

图8是第2实施形态的真空处理装置的装入固定室12上配置的搬送装置100’的XZ剖面图。如图8所示，第2实施形态的真空处理装置，其搬送装置100’的多级滑块50和同步机构臂70的配置在以下各方面不同于真空处理装置10。所述不同方面是：与上述第1实施形态的搬送装置100相比上下反向；搬送装置100’通过上下移动机构90设置于第2真空室23内部；附加将工件W从外部搬入装入固定室12的输入器110。

上下移动机构90形成包含长方形板状的第1单元基底93、水平支持第1单元基底93的4个直动导向器91、将第1单元基底93向着垂直方向驱动的驱动轴95、以及通过四个支柱92水平支持于第1单元基底93上表面的第2单元基底94的结构。

而且，搬送装置100’的多级滑块50在第1单元基底94的下表面的Y轴方向的一侧和另一侧的端部上，将线性导向器52A分别以X轴方向为长度方向固定，以此将多级滑块50支持于上下移动机构90。开闭单元60被配置于第1单元基底93的上表面的-X侧端部。

如上所述，支持于上下移动机构90上的搬送装置100’借助于驱动轴95的上下运动进行垂直驱动。

图9是从+X侧观察第2真空室23内部的图。如图9所示，输入器110具备：在Y轴方向移动的输入器主体110a，以及通过由四根连杆构成的平行连杆111(参照图10)连接于输入器主体110a的平台110b。输入器主体110a具备与设置于第2真空室23的-Y侧侧面的矩形开口23d无间隙地嵌合的嵌合部，其一例为，利用未图示的驱动机构往复运动于图9上用虚线表示的位置(待机位置)与用实线表示的位置(搬入位置)之间。并且，在搬入位置上，籍由所述嵌入部嵌合于开口23d，使向+Y方向的移动停止，同时平台110b来到第2滑动台53B的下方。

以下，对搬送装置100’搬送工件W的搬送动作进行说明。作为前提，假设输入器110待机于待机位置，在搬送装置110’上，工件W没有被卡盘卡住。

当工件W放置于平台110b上时，输入器110向+Y方向移动，以此将其送入装入固定室12。然后如图10所示，籍由未图示的驱动机构，将输入器110的平行连杆111驱动至实线所示的位置，由此，工件W由平台110b压接在第2滑动台53B下表面上。而且被压接的工件W由设置于第2滑动台53B上的工件卡盘54A～54C卡住。工件卡盘可以使用例如图10所示的、向半径方向移动的3个L字形构件形成的3爪卡盘或使L字形的长尺寸部分旋转的方式的旋转式3爪卡盘，又可以采用利用真空吸附或静电吸附等方法吸住工件W的方式。

其次，输入器110的平行连杆111受到驱动，一旦平台110b下降至图10中虚线所示的位置，工件W就由搬送装置110’向真空处理室11内的转台30上方输送。

接着，由上下移动机构90使搬送装置100’下降，工件W下降到转台30的正上方，由于工件卡盘54A～54C松开工件，被放置在转台31上。然后，一旦对工件W的描画微细图案结束，工件W就以和上面所述相反的步骤被搬出到外部。

如上所述，根据本实施形态的真空处理装置，搬送到真空处理室11的工件W因上下移动机构90使搬送装置100’下降，不必通过在第1实施形态中说明的上下移动型移载卡盘，就可被载置于转台单元30的转台31上。因此，在真空处理室11的内部不需要将工件W从搬送装置100’向转台31移载的装置，能够实现真空处理装置10的小型化。而且，由于灰尘发生源减少，能够维持真空处理室11的清洁程度。

又，在本第2实施形态的真空处理装置中，搬送装置100’的开闭单元60被配置于第1单元基底93上，但是在将电动机93配置于装入固定室12外部的情况下，作为其一例，也可以如图11所示，对旋转轴62，通过例如一组齿轮66和万向接头67，将电动机63的驱动力传递到旋转轴62。在旋转轴62上下移动的情况下，可以通过使开闭单元60形成这样的结构，也可籍由用电动机63使旋转轴旋转，同时进行工件W的上下方向的传送和水平方向的传送。

还有，在上述各实施形态的搬送装置100、100’中，同步机构臂70形成包含借助于中心销80可相互转动地交叉的多支连杆72(以下称为交叉连杆)的结构，但交叉连杆的数目不限于3支，也可以是4支或4支以上，又可以是2支或2支以下。

又，在同步机构臂70的交叉连杆数目有多个的场合等，在使同步机构臂70收缩时，有时候X轴方向的间隙变大。由于该间隙一旦大到某一程度，例如滑动台53A、53B的待机位置发生误差，有时候定位精度会下降。因此，作为一例，如图12A和图12B所示，将具备由未图示的支持构件固定的固定构件120a，和由固定构件120a可滑动地支持于X轴方向上的同时利用弹簧等弹性体在+X方向上赋能的滑动构件120b的加压单元120配置于旋转轴中央部近旁，在使同步机构臂70收缩时，也可以由加压单元120的滑动部120b对连结连杆71的中心销80赋于X方向的能。这样一来，在使同步机构臂70收缩的情况下，滑动台53A、53B经常待机于固定位置，能够提高伸长时的定位精度。

在上述各实施形态的搬送装置100、100’中，在将传感器和驱动装置配置于例如第2滑动台53B和第3滑动台53A的情况下，作为一例，如图13A所示，也可以将外侧销81的中空部作为导向器配线电缆83。又可以同样配置提供驱动机构的驱动空气的软管和提供冷却水的软管等。

又，在上述各实施形态的搬送装置100、100’中，将第1滑动台53A连接于中央的中央销80。但不限于此，可以与同步机构臂70的行程配合地，连接于适当的中心销上。

又，在上述各实施形态中，系就搬送装置100、100’具备具有两个滑动台53A、53B的多级滑块50的情况进行了说明。但不限于此，例如也可以具备具有三个以上滑动台的多级滑块。

又，在上述各实施形态的搬送装置100、100’中，采用具备旋转轴62和可动构件61A、61B的开闭单元60。但不限于此，例如也可以使用采用齿条和小齿轮的开闭单元。

又，在上述各实施形态中，系就搬送装置100、100’被使用于真空环境下的两个领域之间的工件W的搬送情况进行了说明。但不限于此，例如也可以使用于充填惰性气体等的领域之间的搬送等。

如上所述，本发明的搬送装置适合于物体的搬送，本发明的真空处理装置适合于使用光刻的光刻工序。

上面参照附图说明了本发明的实施例，但本发明并不局限于上述实施例。在本发明技术思想范围内可以作种种变更，它们都属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种搬送装置，搬送被搬送体，其特征在于：

所述搬送装置具备：

伸缩机构，使多个相互可转动地交叉的连杆对在向水平方向内的规定方向上作缩放仪状连接；

多级滑块，包括固定在所述伸缩机构的一端、可保持所述被搬送体的移载滑块、以及可相对于所述移载滑块在所述规定方向上相对移动的至少一个滑块；

驱动机构，通过使所述交叉的连杆对的相对角度改变，使所述伸缩机构伸缩。

2.根据权利要求1所述的搬送装置，其特征在于：

所述滑块配置于重力方向，所述移载滑块配置于所述重力方向的一侧。

3.根据权利要求1或2所述的搬送装置，其特征在于：

还具备在所述伸缩机构处于收缩状态时，对所述伸缩机构在伸长方向上赋能的赋能手段。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的搬送装置，其特征在于：

所述滑块连接于形成所述对的连杆的交点上。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的搬送装置，其特征在于：

所述移载滑块具有保持所述被搬送体的保持机构。

6.根据权利要求5所述的搬送装置，其特征在于：

形成所述对的两个连杆通过中空轴被连接，所述保持机构由通过所述中空轴的中空部配线的电缆提供的电信号被驱动。

7.一种真空处理装置，该装置是在工件上描画微细图案的真空处理装置，其特征在于：

所述真空处理装置具备：

对所述工件描画微细图案的真空处理室；

通过所述门阀连接于所述真空处理室的装入固定室；

配置于所述装入固定室，将从外部搬入所述装入固定室的所述工件搬送到所述处理室的权利要求1～6中的任一项所述的搬送装置。

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