JP3291591B2 - 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 - Google Patents
荷電粒子線描画露光方法及びその装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路のパターン等
を形成するための荷電粒子線描画露光方法及びその装置
に係り、特に描画露光の信頼性向上に関する。
を形成するための荷電粒子線描画露光方法及びその装置
に係り、特に描画露光の信頼性向上に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、荷電粒子線描画露光装置によって
描画露光された集積回路のパターン等の良否判定は、描
画露光中はもちろん、その直後にもできず、現像等の後
処理を行なった後でないとできなかった。
描画露光された集積回路のパターン等の良否判定は、描
画露光中はもちろん、その直後にもできず、現像等の後
処理を行なった後でないとできなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このため、描画露光不
良が発見されるまでに時間が掛り、生産計画に対しより
大巾な遅くれを生じると共に、描画露光のための機械コ
スト，現像や検査のコスト，人件費等の多大な浪費を生
じることがあった。
良が発見されるまでに時間が掛り、生産計画に対しより
大巾な遅くれを生じると共に、描画露光のための機械コ
スト，現像や検査のコスト，人件費等の多大な浪費を生
じることがあった。
【０００４】本発明は、前述したような点に鑑みなされ
たもので、描画露光不良の発生を未然に防ぐことを目的
としている。
たもので、描画露光不良の発生を未然に防ぐことを目的
としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、試料を、ロードロック室を介して真空の描
画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパタ
ーンを描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断プ
ログラムを用意し、描画露光に先立って行われる前記ロ
ードロック室の真空引き時及び／又はロードロック室と
描画室との間の試料搬送時に、描画露光装置内の各種の
メモリ，レジスタ，演算素子並びに回路の少なくとも一
部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把握
し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行する
ことを特徴とする荷電粒子線描画露光方法にある。
の本発明は、試料を、ロードロック室を介して真空の描
画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパタ
ーンを描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断プ
ログラムを用意し、描画露光に先立って行われる前記ロ
ードロック室の真空引き時及び／又はロードロック室と
描画室との間の試料搬送時に、描画露光装置内の各種の
メモリ，レジスタ，演算素子並びに回路の少なくとも一
部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把握
し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行する
ことを特徴とする荷電粒子線描画露光方法にある。
【０００６】
【０００７】また、本発明は、試料を、ロードロック室
を介して真空の描画室内に搬入して荷電粒子線により試
料上に所望のパターンを描画露光する装置において、同
装置内の各種のメモリ，レジスタ，演算素子並びに回路
の少なくとも一部について不具合の有無を把握するため
の診断プログラムを制御プロセッサ内に設け、該診断プ
ログラムを描画露光に先立って行われる前記ロードロッ
ク室の真空引き時及び／又はロードロック室と描画室と
の間の試料搬送時に実行可能に構成したことを特徴とす
る荷電粒子線描画露光方法にある。
を介して真空の描画室内に搬入して荷電粒子線により試
料上に所望のパターンを描画露光する装置において、同
装置内の各種のメモリ，レジスタ，演算素子並びに回路
の少なくとも一部について不具合の有無を把握するため
の診断プログラムを制御プロセッサ内に設け、該診断プ
ログラムを描画露光に先立って行われる前記ロードロッ
ク室の真空引き時及び／又はロードロック室と描画室と
の間の試料搬送時に実行可能に構成したことを特徴とす
る荷電粒子線描画露光方法にある。
【０００８】
【０００９】
【作用】荷電粒子線による描画露光は、高真空に保たれ
ている描画室に隣接して設けられたロードロック室を介
して試料を描画室内へ搬入して描画露光を行う。本発明
は、試料をロードロック室へ搬入して、このロードロッ
ク室を描画室と同程度の真空度まで真空引きする時間及
び／又はその後に試料をロードロック室から描画室へ搬
送する時間を利用して、診断プログラムにより装置内の
各種のメモリ，レジスタ，演算素子並びに回路の少なく
とも一部について不具合の有無を把握する。こうして不
具合がないことを確認してから描画することにより、描
画露光不良の発生は大巾に減少し、前述した課題が大巾
に改善されると共に、上記時間を利用して不具合の有無
を把握するため、この不具合の有無の把握による生産効
率の低下を招くことはない。
ている描画室に隣接して設けられたロードロック室を介
して試料を描画室内へ搬入して描画露光を行う。本発明
は、試料をロードロック室へ搬入して、このロードロッ
ク室を描画室と同程度の真空度まで真空引きする時間及
び／又はその後に試料をロードロック室から描画室へ搬
送する時間を利用して、診断プログラムにより装置内の
各種のメモリ，レジスタ，演算素子並びに回路の少なく
とも一部について不具合の有無を把握する。こうして不
具合がないことを確認してから描画することにより、描
画露光不良の発生は大巾に減少し、前述した課題が大巾
に改善されると共に、上記時間を利用して不具合の有無
を把握するため、この不具合の有無の把握による生産効
率の低下を招くことはない。
【００１０】
【実施例】以下本発明の実施例について図１ないし図２
を参照して説明する。図１において、１０は高真空に保
たれている描画室，２０は荷電粒子線光学鏡筒である。
を参照して説明する。図１において、１０は高真空に保
たれている描画室，２０は荷電粒子線光学鏡筒である。
【００１１】描画室１０内には、試料１１を載置するＸ
Ｙステージ１２が設けられている。ＸＹステージ１２は
ステージ制御回路３１及び駆動系３２によりＸ方向及び
Ｙ方向に移動され、ＸＹステージ１２の位置はレーザ測
長系３３及び位置検出回路３４により検出される。な
お、ステージ制御回路３１はコンピュータ等からなる制
御プロセッサ３０からの指令により作動し、位置検出回
路３４の検出信号は制御プロセッサ３０に取り込まれ
る。
Ｙステージ１２が設けられている。ＸＹステージ１２は
ステージ制御回路３１及び駆動系３２によりＸ方向及び
Ｙ方向に移動され、ＸＹステージ１２の位置はレーザ測
長系３３及び位置検出回路３４により検出される。な
お、ステージ制御回路３１はコンピュータ等からなる制
御プロセッサ３０からの指令により作動し、位置検出回
路３４の検出信号は制御プロセッサ３０に取り込まれ
る。
【００１２】描画室１０には、ゲート弁１３を介してロ
ードロック室１４が接続されている。ロードロック室１
４内には上下動可能なマガジン１５が設けられ、複数の
試料１１を収納するようになっている。ロードロック室
１４は図示しない開閉扉により大気に対して開閉可能に
形成されると共に、図示しない真空装置によって描画室
１０と同程度に真空引きされるようになっている。
ードロック室１４が接続されている。ロードロック室１
４内には上下動可能なマガジン１５が設けられ、複数の
試料１１を収納するようになっている。ロードロック室
１４は図示しない開閉扉により大気に対して開閉可能に
形成されると共に、図示しない真空装置によって描画室
１０と同程度に真空引きされるようになっている。
【００１３】マガジン１５に収納された試料１１は、ロ
ードロック室１４の側部に取付けられた搬送装置１６に
よりゲート弁１３を通してＸＹステージ１２上へ搬送さ
れ、また、描画露光が終ったＸＹステージ１２上の試料
１１は搬送装置１６によってマガジン１５に戻される。
ードロック室１４の側部に取付けられた搬送装置１６に
よりゲート弁１３を通してＸＹステージ１２上へ搬送さ
れ、また、描画露光が終ったＸＹステージ１２上の試料
１１は搬送装置１６によってマガジン１５に戻される。
【００１４】荷電粒子線光学鏡筒２０は、荷電粒子線発
生部２１，各種レンズ２２，２３，２４，ブランキング
電極２５，走査用偏向器２６等から構成されている。４
０は、荷電粒子線発生部２１及び各種レンズ２２，２
３，２４の電源であり、制御プロセッサ３０によってそ
れぞれへの出力を制御される。
生部２１，各種レンズ２２，２３，２４，ブランキング
電極２５，走査用偏向器２６等から構成されている。４
０は、荷電粒子線発生部２１及び各種レンズ２２，２
３，２４の電源であり、制御プロセッサ３０によってそ
れぞれへの出力を制御される。
【００１５】ブランキング電極２５には描画回路３５が
接続され、走査用偏向器２６には偏向回路３６が接続さ
れている。描画回路３５は、位置検出回路３４の検出信
号に関連付けられて制御プロセッサ３０から与えられる
ＯＮ，ＯＦＦ信号によって試料１１に対する荷電粒子線
の照射のＯＮ，ＯＦＦを行うようになっている。また、
偏向回路３６は、同じく位置検出回路３４の検出信号に
関連付けられて制御プロセッサ３０から与えられる偏向
電圧によって荷電粒子線を試料１１上の所定位置に対し
て走査させるようになっている。
接続され、走査用偏向器２６には偏向回路３６が接続さ
れている。描画回路３５は、位置検出回路３４の検出信
号に関連付けられて制御プロセッサ３０から与えられる
ＯＮ，ＯＦＦ信号によって試料１１に対する荷電粒子線
の照射のＯＮ，ＯＦＦを行うようになっている。また、
偏向回路３６は、同じく位置検出回路３４の検出信号に
関連付けられて制御プロセッサ３０から与えられる偏向
電圧によって荷電粒子線を試料１１上の所定位置に対し
て走査させるようになっている。
【００１６】制御プロセッサ３０には、診断プログラム
３７が設けられている。この診断プログラム３７は、描
画回路３５内の図示しない描画データバッファメモリ，
繰り返しパターンの圧縮用メモリ及び補正用パラメータ
格納メモリをはじめ、各回路３１，３４，３５，３６内
の各種メモリ，レジスタ，演算素子等のミクロ的なもの
から各回路のテスト作動による正常動作チェック等のマ
クロ的なものを含めて描画露光に関係する部分の少なく
とも一部の不具合の有無を把握するようになっている。
３７が設けられている。この診断プログラム３７は、描
画回路３５内の図示しない描画データバッファメモリ，
繰り返しパターンの圧縮用メモリ及び補正用パラメータ
格納メモリをはじめ、各回路３１，３４，３５，３６内
の各種メモリ，レジスタ，演算素子等のミクロ的なもの
から各回路のテスト作動による正常動作チェック等のマ
クロ的なものを含めて描画露光に関係する部分の少なく
とも一部の不具合の有無を把握するようになっている。
【００１７】診断プログラム３７による診断は、図２に
示すように、描画露光に先立って行われるロードロック
室１４の真空引き時（ステップ１０３）及び／又は搬送
装置１６によるロードロック室１４から描画室１０への
試料搬送時間（ステップ１０７）等を利用して、描画露
光前に自動的に実行されるように制御プロセッサ３０に
組み込まれている。
示すように、描画露光に先立って行われるロードロック
室１４の真空引き時（ステップ１０３）及び／又は搬送
装置１６によるロードロック室１４から描画室１０への
試料搬送時間（ステップ１０７）等を利用して、描画露
光前に自動的に実行されるように制御プロセッサ３０に
組み込まれている。
【００１８】次いで、本装置の作用について説明する。
ロードロック室１４を大気に開放し、図２のステップ１
０１に示すようにマガジン１５に試料１１をセットして
ロードロック室１４を閉じ、ロードロック室１４の真空
引きを開始する（ステップ１０２）。
ロードロック室１４を大気に開放し、図２のステップ１
０１に示すようにマガジン１５に試料１１をセットして
ロードロック室１４を閉じ、ロードロック室１４の真空
引きを開始する（ステップ１０２）。
【００１９】この真空引き開始後、ステップ１０３で真
空引きが終了か否かを判断し、終了していないとき、す
なわち真空引き時間を利用してステップ１０４に示すよ
うに、診断プログラム３７を実行させて各回路３１，３
４，３５，３６及びそれらの中のメモリ等の不具合の有
無の診断を行う。
空引きが終了か否かを判断し、終了していないとき、す
なわち真空引き時間を利用してステップ１０４に示すよ
うに、診断プログラム３７を実行させて各回路３１，３
４，３５，３６及びそれらの中のメモリ等の不具合の有
無の診断を行う。
【００２０】ロードロック室１４の真空度が描画室１０
の真空度と略等しくなったところで、真空引きを終了
し、ゲート弁１３を開いてマガジン１５内の試料１１を
搬送装置１６によってＸＹステージ１２上へ搬送する
（ステップ１０６）。この搬送時にも、ステップ１０
７，１０８で示すように搬送終了までの時間を利用して
診断を行う。
の真空度と略等しくなったところで、真空引きを終了
し、ゲート弁１３を開いてマガジン１５内の試料１１を
搬送装置１６によってＸＹステージ１２上へ搬送する
（ステップ１０６）。この搬送時にも、ステップ１０
７，１０８で示すように搬送終了までの時間を利用して
診断を行う。
【００２１】なお、上記診断は、実質的には１つの
ものとして連続して行ってもよく、真空引き開始から搬
送終了までの時間内で診断を完了するように構成されて
いる。
ものとして連続して行ってもよく、真空引き開始から搬
送終了までの時間内で診断を完了するように構成されて
いる。
【００２２】上記診断によって不具合が発見される
と、その時点でプログラムの進行は停止され、不具合個
所を図示しないディスプレイに表示する。不具合がなけ
れば、ステップ１０７の搬送終了に従って、ステップ１
０９で示す描画露光が実行され、描画露光が終了したと
ころで、ステップ１１０で示すように、描画露光された
試料１１をマガジン１５へ戻す。
と、その時点でプログラムの進行は停止され、不具合個
所を図示しないディスプレイに表示する。不具合がなけ
れば、ステップ１０７の搬送終了に従って、ステップ１
０９で示す描画露光が実行され、描画露光が終了したと
ころで、ステップ１１０で示すように、描画露光された
試料１１をマガジン１５へ戻す。
【００２３】図１に示した実施例のように、ロードロッ
ク室１４に複数の試料１１を収容して順次描画露光する
場合、上記のように、最初の試料の描画露光の前にのみ
診断を行って、残りの試料の描画露光前には、該診
断を省略してもよいが、上記のように、ステップ１１０
で描画露光された試料１１をマガジン１５へ戻す時間
（ステップ１１１参照）を利用すると共に、ステップ１
０６，１０７と同様に行われる次の試料１１をＸＹステ
ージ１２へ搬入する時間を利用して、各試料１１の描画
露光前に診断をそれぞれ行うようにしてもよい。
ク室１４に複数の試料１１を収容して順次描画露光する
場合、上記のように、最初の試料の描画露光の前にのみ
診断を行って、残りの試料の描画露光前には、該診
断を省略してもよいが、上記のように、ステップ１１０
で描画露光された試料１１をマガジン１５へ戻す時間
（ステップ１１１参照）を利用すると共に、ステップ１
０６，１０７と同様に行われる次の試料１１をＸＹステ
ージ１２へ搬入する時間を利用して、各試料１１の描画
露光前に診断をそれぞれ行うようにしてもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、描
画露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引
き時及び／又はロードロック室と描画室との間の試料搬
送時に装置の不具合が自動的に診断され、不具合がない
ときのみ描画露光が実行されるため、生産効率を低下さ
せることなく描画露光不良の発生を大巾に減少させるこ
とができ、また、不具合を早期に発見して未然に対処で
きるため、生産計画に対する遅くれ小さく押さえること
ができると共に、描画露光用機械コスト，現像や検査コ
スト及び人件費等の浪費を削減することができる効果が
得られる。
画露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引
き時及び／又はロードロック室と描画室との間の試料搬
送時に装置の不具合が自動的に診断され、不具合がない
ときのみ描画露光が実行されるため、生産効率を低下さ
せることなく描画露光不良の発生を大巾に減少させるこ
とができ、また、不具合を早期に発見して未然に対処で
きるため、生産計画に対する遅くれ小さく押さえること
ができると共に、描画露光用機械コスト，現像や検査コ
スト及び人件費等の浪費を削減することができる効果が
得られる。
【図１】本発明の実施例を示す概要構成図である。
【図２】本発明による描画露光工程のフローチャートを
示す図である。
示す図である。
１０ 描画室 １１ 試料 １２ ＸＹステージ １４ ロードロック室 １５ マガジン １６ 搬送装置 ２０ 荷電粒子線光学鏡筒 ２１ 荷電粒子線発生部 ２２，２３，２４ レンズ ２５ ブランキング電極 ２６ 走査用偏向器 ３０ 制御プロセッサ ３１ ステージ制御回路 ３２ 駆動系 ３３ レーザ測長系 ３４ 位置検出回路 ３５ 描画回路 ３６ 偏向回路 ３７ 診断プログラム
Claims (2)
- 【請求項１】 試料を、ロードロック室を介して真空の
描画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパ
ターンを描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断
プログラムを用意し、描画露光に先立って行われる前記
ロードロック室の真空引き時及び／又はロードロック室
と描画室との間の試料搬送時に、描画露光装置内の各種
のメモリ，レジスタ，演算素子並びに回路の少なくとも
一部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把握
し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行する
ことを特徴とする荷電粒子線描画露光方法。 - 【請求項２】 試料を、ロードロック室を介して真空の
描画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパ
ターンを描画露光する装置において、同装置内の各種の
メモリ，レジスタ，演算素子並びに回路の少なくとも一
部について不具合の有無を把握するための診断プログラ
ムを制御プロセッサ内に設け、該診断プログラムを描画
露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引き
時及び／又はロードロック室と描画室との間の試料搬送
時に実行可能に構成したことを特徴とする荷電粒子線描
画露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32592192A JP3291591B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32592192A JP3291591B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06151284A JPH06151284A (ja) | 1994-05-31 |
| JP3291591B2 true JP3291591B2 (ja) | 2002-06-10 |
Family
ID=18182087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32592192A Expired - Lifetime JP3291591B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3291591B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014165202A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Nuflare Technology Inc | 電子線描画装置の故障診断方法、電子線描画装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007250196A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Ricoh Co Ltd | 搬送装置及び真空プロセス装置 |
-
1992
- 1992-11-11 JP JP32592192A patent/JP3291591B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014165202A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Nuflare Technology Inc | 電子線描画装置の故障診断方法、電子線描画装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06151284A (ja) | 1994-05-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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