JPH06151284A - 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 - Google Patents
荷電粒子線描画露光方法及びその装置Info
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- JPH06151284A JPH06151284A JP32592192A JP32592192A JPH06151284A JP H06151284 A JPH06151284 A JP H06151284A JP 32592192 A JP32592192 A JP 32592192A JP 32592192 A JP32592192 A JP 32592192A JP H06151284 A JPH06151284 A JP H06151284A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
用機械コスト,現像や検査のコスト,人件費,時間等の
浪費を低減させる。 【構成】 制御プロセッサ30内に診断プログラム37
を設け、ロードロック室14の真空引き時及び/又はロ
ードロック室14と描画室10との間の試料11の搬送
時等の時間を利用することにより、描画露光前に描画露
光装置内の各種のメモリ,レジスタ,演算素子並びに回
路の少なくとも一部の不具合がないことを確認して描画
露光を実行する。
Description
を形成するための荷電粒子線描画露光方法及びその装置
に係り、特に描画露光の信頼性向上に関する。
描画露光された集積回路のパターン等の良否判定は、描
画露光中はもちろん、その直後にもできず、現像等の後
処理を行なった後でないとできなかった。
良が発見されるまでに時間が掛り、生産計画に対しより
大巾な遅くれを生じると共に、描画露光のための機械コ
スト,現像や検査のコスト,人件費等の多大な浪費を生
じることがあった。
たもので、描画露光不良の発生を未然に防ぐことを目的
としている。
の本発明は、試料をロードロック室を介して真空の描画
室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパター
ンを描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断プロ
グラムを用意し、描画露光前に、描画露光装置内の各種
のメモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少なくとも
一部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把握
し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行する
ことを特徴とする荷電粒子線描画露光方法にある。
把握は、描画露光に先立って行われる前記ロードロック
室の真空引き時及び/又はロードロック室と描画室との
間の試料搬送時に行うことが好ましい。
介して真空の描画室内に搬入して荷電粒子線により試料
上に所望のパターンを描画露光する装置において、同装
置内の各種のメモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の
少なくとも一部について不具合の有無を把握するための
診断プログラムを制御プロセッサ内に設け、該診断プロ
グラムを描画露光前に実行可能に構成したことを特徴と
する荷電粒子線描画露光装置にある。
先立って行われる前記ロードロック室の真空引き時及び
/又はロードロック室と描画室との間の試料搬送時に実
行可能に構成することが好ましい。
ている描画室に隣接して設けられたロードロック室を介
して試料を描画室へ搬入して描画露光を行う。好ましく
は、試料をロードロック室へ搬入して、このロードロッ
ク室を描画室と同程度の真空度まで真空引きする時間及
び/またはその後に試料をロードロック室から描画室へ
搬送する時間等を利用して、診断プログラムにより装置
内の各種メモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少な
くとも一部について不具合の有無を把握する。こうして
不具合がないことを確認してから描画することにより、
描画露光不良の発生は大巾に減少し、前述した課題が大
巾に改善される。
を参照して説明する。図1において、10は高真空に保
たれている描画室,20は荷電粒子線光学鏡筒である。
Yステージ12が設けられている。XYステージ12は
ステージ制御回路31及び駆動系32によりX方向及び
Y方向に移動され、XYステージ12の位置はレーザ測
長系33及び位置検出回路34により検出される。な
お、ステージ制御回路31はコンピュータ等からなる制
御プロセッサ30からの指令により作動し、位置検出回
路34の検出信号は制御プロセッサ30に取り込まれ
る。
ードロック室14が接続されている。ロードロック室1
4内には上下動可能なマガジン15が設けられ、複数の
試料11を収納するようになっている。ロードロック室
14は図示しない開閉扉により大気に対して開閉可能に
形成されると共に、図示しない真空装置によって描画室
10と同程度に真空引きされるようになっている。
ードロック室14の側部に取付けられた搬送装置16に
よりゲート弁13を通してXYステージ12上へ搬送さ
れ、また、描画露光が終ったXYステージ12上の試料
11は搬送装置16によってマガジン15に戻される。
生部21,各種レンズ22,23,24,ブランキング
電極25,走査用偏向器26等から構成されている。4
0は、荷電粒子線発生部21及び各種レンズ22,2
3,24の電源であり、制御プロセッサ30によってそ
れぞれへの出力を制御される。
接続され、走査用偏向器26には偏向回路36が接続さ
れている。描画回路35は、位置検出回路34の検出信
号に関連付けられて制御プロセッサ30から与えられる
ON,OFF信号によって試料11に対する荷電粒子線
の照射のON,OFFを行うようになっている。また、
偏向回路36は、同じく位置検出回路34の検出信号に
関連付けられて制御プロセッサ30から与えられる偏向
電圧によって荷電粒子線を試料11上の所定位置に対し
て走査させるようになっている。
37が設けられている。この診断プログラム37は、描
画回路35内の図示しない描画データバッファメモリ,
繰り返しパターンの圧縮用メモリ及び補正用パラメータ
格納メモリをはじめ、各回路31,34,35,36内
の各種メモリ,レジスタ,演算素子等のミクロ的なもの
から各回路のテスト作動による正常動作チェック等のマ
クロ的なものを含めて描画露光に関係する部分の少なく
とも一部の不具合の有無を把握するようになっている。
示すように、描画露光に先立って行われるロードロック
室14の真空引き時(ステップ103)及び/又は搬送
装置16によるロードロック室14から描画室10への
試料搬送時間(ステップ107)等を利用して、描画露
光前に自動的に実行されるように制御プロセッサ30に
組み込まれている。
ロードロック室14を大気に開放し、図2のステップ1
01に示すようにマガジン15に試料11をセットして
ロードロック室14を閉じ、ロードロック室14の真空
引きを開始する(ステップ102)。
空引きが終了か否かを判断し、終了していないとき、す
なわち真空引き時間を利用してステップ104に示すよ
うに、診断プログラム37を実行させて各回路31,3
4,35,36及びそれらの中のメモリ等の不具合の有
無の診断を行う。
の真空度と略等しくなったところで、真空引きを終了
し、ゲート弁13を開いてマガジン15内の試料11を
搬送装置16によってXYステージ12上へ搬送する
(ステップ106)。この搬送時にも、ステップ10
7,108で示すように搬送終了までの時間を利用して
診断を行う。
ものとして連続して行ってもよく、真空引き開始から搬
送終了までの時間内で診断を完了するように構成されて
いる。
と、その時点でプログラムの進行は停止され、不具合個
所を図示しないディスプレイに表示する。不具合がなけ
れば、ステップ107の搬送終了に従って、ステップ1
09で示す描画露光が実行され、描画露光が終了したと
ころで、ステップ110で示すように、描画露光された
試料11をマガジン15へ戻す。
ク室14に複数の試料11を収容して順次描画露光する
場合、上記のように、最初の試料の描画露光の前にのみ
診断を行って、残りの試料の描画露光前には、該診
断を省略してもよいが、上記のように、ステップ110
で描画露光された試料11をマガジン15へ戻す時間
(ステップ111参照)を利用すると共に、ステップ1
06,107と同様に行われる次の試料11をXYステ
ージ12へ搬入する時間を利用して、各試料11の描画
露光前に診断をそれぞれ行うようにしてもよい。
画露光前に装置の不具合が自動的に診断され、不具合が
ないときのみ描画露光が実行されるため、描画露光不良
の発生を大巾に減少させることができ、また、不具合を
早期に発見して未然に対処できるため、生産計画に対す
る遅くれを小さく押さえることができると共に、描画露
光用機械コスト,現像や検査コスト及び人件費等の浪費
を削減することができる効果が得られる。
示す図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 試料をロードロック室を介して真空の描
画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパタ
ーンを描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断プ
ログラムを用意し、描画露光前に、描画露光装置内の各
種のメモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少なくと
も一部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把
握し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行す
ることを特徴とする荷電粒子線描画露光方法。 - 【請求項2】 前記診断プログラムによる不具合の把握
を、描画露光に先立って行われる前記ロードロック室の
真空引き時及び/又はロードロック室と描画室との間の
試料搬送時に行うことを特徴とする請求項1の荷電粒子
線描画露光方法。 - 【請求項3】 試料をロードロック室を介して真空の描
画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパタ
ーンを描画露光する装置において、同装置内の各種のメ
モリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少なくとも一部
について不具合の有無を把握するための診断プログラム
を制御プロセッサ内に設け、該診断プログラムを描画露
光前に実行可能に構成したことを特徴とする荷電粒子線
描画露光装置。 - 【請求項4】 前記診断プログラムが、描画露光に先立
って行われる前記ロードロック室の真空引き時及び/又
はロードロック室と描画室との間の試料搬送時に実行可
能に構成されていることを特徴とする請求項3の荷電粒
子線描画露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32592192A JP3291591B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP32592192A JP3291591B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH06151284A true JPH06151284A (ja) | 1994-05-31 |
JP3291591B2 JP3291591B2 (ja) | 2002-06-10 |
Family
ID=18182087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP32592192A Expired - Lifetime JP3291591B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | 荷電粒子線描画露光方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3291591B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007250196A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Ricoh Co Ltd | 搬送装置及び真空プロセス装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6063767B2 (ja) * | 2013-02-21 | 2017-01-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子線描画装置の故障診断方法、電子線描画装置 |
-
1992
- 1992-11-11 JP JP32592192A patent/JP3291591B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007250196A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Ricoh Co Ltd | 搬送装置及び真空プロセス装置 |
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JP3291591B2 (ja) | 2002-06-10 |
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