JPH06331574A - 分析装置 - Google Patents
分析装置Info
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- JPH06331574A JPH06331574A JP5140043A JP14004393A JPH06331574A JP H06331574 A JPH06331574 A JP H06331574A JP 5140043 A JP5140043 A JP 5140043A JP 14004393 A JP14004393 A JP 14004393A JP H06331574 A JPH06331574 A JP H06331574A
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- vacuum
- ray
- analyzer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 標準試料の変質を防止して精度の高い分析を
行なうことのできる分析装置を提供する。 【構成】 試料3を設置する真空試料室10と励起線発
生手段30と二次放射線の検出手段40と試料保管室2
0とを備えた分析装置1であり、励起線発生手段30
は、真空試料室10の所定位置に配置された試料3の表
面に励起線を照射するものであり、真空試料室10に設
けられている。検出手段40は、上記励起線の照射によ
って試料3から放出される二次放射線を検出するもので
あり、真空試料室10に設けられている。そして、試料
保管室20は、真空試料室10にゲートバルブ21を介
して接続され、且つ真空試料室10との間で試料3が移
動可能であると共に、その内部を真空状態に保つことの
できる部屋である。
行なうことのできる分析装置を提供する。 【構成】 試料3を設置する真空試料室10と励起線発
生手段30と二次放射線の検出手段40と試料保管室2
0とを備えた分析装置1であり、励起線発生手段30
は、真空試料室10の所定位置に配置された試料3の表
面に励起線を照射するものであり、真空試料室10に設
けられている。検出手段40は、上記励起線の照射によ
って試料3から放出される二次放射線を検出するもので
あり、真空試料室10に設けられている。そして、試料
保管室20は、真空試料室10にゲートバルブ21を介
して接続され、且つ真空試料室10との間で試料3が移
動可能であると共に、その内部を真空状態に保つことの
できる部屋である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、分析装置に関し、特に
は試料を真空状態に配置して分析を行う装置に関するも
のである。
は試料を真空状態に配置して分析を行う装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】半導体分野をはじめとして、表面及び界
面を利用した材料の研究が進んでおり、表面及び界面状
態を評価する表面分析法が重要視されている。特に、半
導体装置の製造分野では、各プロセスでの製品検査とし
て表面分析を行っているが、分析前に試料の前処理を行
う必要がなく、特定領域の分析を高感度で行える物理分
析を有効に利用している。例えば、ウエハ表面に、りん
(P)やほう素(B)を不純物として含有するシリコン
酸化膜を成膜した場合、シリコン酸化膜中のPやBの濃
度の管理を蛍光X線分析装置を用いて行っている。
面を利用した材料の研究が進んでおり、表面及び界面状
態を評価する表面分析法が重要視されている。特に、半
導体装置の製造分野では、各プロセスでの製品検査とし
て表面分析を行っているが、分析前に試料の前処理を行
う必要がなく、特定領域の分析を高感度で行える物理分
析を有効に利用している。例えば、ウエハ表面に、りん
(P)やほう素(B)を不純物として含有するシリコン
酸化膜を成膜した場合、シリコン酸化膜中のPやBの濃
度の管理を蛍光X線分析装置を用いて行っている。
【0003】蛍光X線分析装置は、励起線としてX線を
試料に照射することによって、当該試料から放出される
蛍光X線を検出し、試料中に含まれる元素の同定分析及
び定量分析を行う装置である。
試料に照射することによって、当該試料から放出される
蛍光X線を検出し、試料中に含まれる元素の同定分析及
び定量分析を行う装置である。
【0004】上記蛍光X線分析装置の構成を図2に基づ
いて説明する。図に示すように、蛍光X線分析装置2
は、真空試料室201と、励起線発生手段202と、検
出手段203とを備えている。
いて説明する。図に示すように、蛍光X線分析装置2
は、真空試料室201と、励起線発生手段202と、検
出手段203とを備えている。
【0005】真空試料室201は、分光室204と予備
室205とからなり、それぞれがバルブ206、207
を介して真空ポンプ208に接続されている。また、分
光室204と予備室205とはゲートバルブ209で仕
切られている。分光室204は、試料ホルダー210に
載置した試料3を収納して分析を行うところである。ま
た、予備室205は、装置内に試料3を搬入するための
ところであり、試料3を搬入する開閉自在の搬送口21
1が設けられている。また、予備室205には、この中
にドライエアを導入するためのリークバルブ212が接
続されている。また、分光室204と予備室205に
は、それぞれ搬送ベルト213と搬送ベルト214とが
設けられており、これによって真空試料室201内で
は、分光室204と予備室205との間で試料ホルダー
210が移動可能になっている。
室205とからなり、それぞれがバルブ206、207
を介して真空ポンプ208に接続されている。また、分
光室204と予備室205とはゲートバルブ209で仕
切られている。分光室204は、試料ホルダー210に
載置した試料3を収納して分析を行うところである。ま
た、予備室205は、装置内に試料3を搬入するための
ところであり、試料3を搬入する開閉自在の搬送口21
1が設けられている。また、予備室205には、この中
にドライエアを導入するためのリークバルブ212が接
続されている。また、分光室204と予備室205に
は、それぞれ搬送ベルト213と搬送ベルト214とが
設けられており、これによって真空試料室201内で
は、分光室204と予備室205との間で試料ホルダー
210が移動可能になっている。
【0006】次いで、励起線発生手段202は、分光室
204に配置された試料3の表面にX線を照射するもの
であり、X線発生管を備えている。そして、検出手段2
03は、X線の照射によって試料3から放出される蛍光
X線を検出するものである。
204に配置された試料3の表面にX線を照射するもの
であり、X線発生管を備えている。そして、検出手段2
03は、X線の照射によって試料3から放出される蛍光
X線を検出するものである。
【0007】上記構成の蛍光X線分析装置2による試料
3の分析は、以下のように行う。先ず、試料ホルダー2
10を予備室205に移動し、ゲートバルブ209を閉
じ、バルブ206を開いて真空ポンプ208により分光
室204の内部のガスを排気しておく。そして、予備室
205が大気圧状態であることを確認して搬送口211
を開き、分析を行う試料3を試料ホルダー210にセッ
トする。次いで、搬送口211とリークバルブ212を
閉じ、バルブ207を開けて真空ポンプ208にて予備
室205内を分光室204の内部と同程度に減圧した後
に、ゲートバルブ209を開いて試料ホルダー210を
分光室204の分析位置に移動する。
3の分析は、以下のように行う。先ず、試料ホルダー2
10を予備室205に移動し、ゲートバルブ209を閉
じ、バルブ206を開いて真空ポンプ208により分光
室204の内部のガスを排気しておく。そして、予備室
205が大気圧状態であることを確認して搬送口211
を開き、分析を行う試料3を試料ホルダー210にセッ
トする。次いで、搬送口211とリークバルブ212を
閉じ、バルブ207を開けて真空ポンプ208にて予備
室205内を分光室204の内部と同程度に減圧した後
に、ゲートバルブ209を開いて試料ホルダー210を
分光室204の分析位置に移動する。
【0008】そして、分光室204の内部が充分な真空
状態にまで減圧された後、励起線発生手段202から試
料3の表面にX線を照射する。これによって、試料3か
ら放出される蛍光X線を検出手段203で検出し、試料
3の分析を行う。
状態にまで減圧された後、励起線発生手段202から試
料3の表面にX線を照射する。これによって、試料3か
ら放出される蛍光X線を検出手段203で検出し、試料
3の分析を行う。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の蛍光X
線分析装置には、以下のような課題があった。すなわ
ち、上記の蛍光X線分析装置を用いて定量分析を行う場
合には、X線の発生強度の補正が重要になる。この補正
は、試料の分析に先立って標準試料を分析することによ
って行う。そして、特に、ウエハ表面のシリコン酸化膜
中に含まれるBの定量分析のように、軽元素の定量分析
を行う場合には、軽元素から放出される蛍光X線の強度
が弱いので測定値のばらつきが生じ易いため、標準試料
を用いたX線の発生強度の補正を頻繁に行う必要があ
る。しかし、上記の装置においては、その度に標準試料
と分析試料との装置への入替えが必要であり、非常に手
間が掛かる。
線分析装置には、以下のような課題があった。すなわ
ち、上記の蛍光X線分析装置を用いて定量分析を行う場
合には、X線の発生強度の補正が重要になる。この補正
は、試料の分析に先立って標準試料を分析することによ
って行う。そして、特に、ウエハ表面のシリコン酸化膜
中に含まれるBの定量分析のように、軽元素の定量分析
を行う場合には、軽元素から放出される蛍光X線の強度
が弱いので測定値のばらつきが生じ易いため、標準試料
を用いたX線の発生強度の補正を頻繁に行う必要があ
る。しかし、上記の装置においては、その度に標準試料
と分析試料との装置への入替えが必要であり、非常に手
間が掛かる。
【0010】また、上記BやPを含んだシリコン酸化膜
は非常に吸湿し易く、また吸湿によって膜中のB及びP
が溶出してしまう。したがって、標準試料を装置に頻繁
に出し入れすることによって、標準試料中のシリコン酸
化膜が大気中の水分を吸湿して膜中のB及びPの濃度が
変化してしまう。このため、標準試料の新規作成を余儀
無くされるが、これによってコストがかさむだけではな
く標準試料自体のばらつきも定量分析値に含まれてく
る。したがって、製品検査においてシリコン酸化膜中の
BやPの濃度がばらつき、半導体装置の歩留り低下の原
因になる。
は非常に吸湿し易く、また吸湿によって膜中のB及びP
が溶出してしまう。したがって、標準試料を装置に頻繁
に出し入れすることによって、標準試料中のシリコン酸
化膜が大気中の水分を吸湿して膜中のB及びPの濃度が
変化してしまう。このため、標準試料の新規作成を余儀
無くされるが、これによってコストがかさむだけではな
く標準試料自体のばらつきも定量分析値に含まれてく
る。したがって、製品検査においてシリコン酸化膜中の
BやPの濃度がばらつき、半導体装置の歩留り低下の原
因になる。
【0011】そこで本発明は、上記の課題を解決するた
めに、標準試料の変質を防止することによって、精度の
高い分析を行なうことのできる分析装置を提供すること
を目的とする。
めに、標準試料の変質を防止することによって、精度の
高い分析を行なうことのできる分析装置を提供すること
を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の分析装置は、試料を設置する真空試料室と
励起線発生手段と二次放射線の検出手段と試料保管室と
を備えている。上記励起線発生手段は、上記真空試料室
の所定位置に配置された試料の表面に励起線を照射する
ものであり、当該真空試料室に設けられている。上記検
出手段は、上記励起線の照射によって上記試料から放出
される二次放射線を検出するものであり、上記真空試料
室に設けられている。そして、上記試料保管室は、上記
真空試料室にゲートバルブを介して接続され、且つ当該
真空試料室との間で試料が移動可能であると共に、その
内部を真空状態に保つところである。また、上記の分析
装置において、上記励起線はX線であり、上記二次放射
線は蛍光X線であることを特徴とする。
めの本発明の分析装置は、試料を設置する真空試料室と
励起線発生手段と二次放射線の検出手段と試料保管室と
を備えている。上記励起線発生手段は、上記真空試料室
の所定位置に配置された試料の表面に励起線を照射する
ものであり、当該真空試料室に設けられている。上記検
出手段は、上記励起線の照射によって上記試料から放出
される二次放射線を検出するものであり、上記真空試料
室に設けられている。そして、上記試料保管室は、上記
真空試料室にゲートバルブを介して接続され、且つ当該
真空試料室との間で試料が移動可能であると共に、その
内部を真空状態に保つところである。また、上記の分析
装置において、上記励起線はX線であり、上記二次放射
線は蛍光X線であることを特徴とする。
【0013】
【作用】上記の分析装置においては、ゲートバルブを閉
じて真空引きすることによって、真空試料室と試料保管
室とが独立した状態でそれぞれ真空状態に保たれる。ま
た、ゲートバルブを開くことによって、真空試料室と試
料保管室とを一体にした状態でその内部が真空状態に保
たれる。したがって、試料は真空状態の試料保管室に保
管される。また、試料保管室と真空試料室との間の試料
の移動に際しては、試料保管室と真空試料室とを真空状
態に保つことによって、試料は真空雰囲気中に保たれ
る。
じて真空引きすることによって、真空試料室と試料保管
室とが独立した状態でそれぞれ真空状態に保たれる。ま
た、ゲートバルブを開くことによって、真空試料室と試
料保管室とを一体にした状態でその内部が真空状態に保
たれる。したがって、試料は真空状態の試料保管室に保
管される。また、試料保管室と真空試料室との間の試料
の移動に際しては、試料保管室と真空試料室とを真空状
態に保つことによって、試料は真空雰囲気中に保たれ
る。
【0014】
【実施例】以下、本発明の分析装置の実施例を蛍光X線
分析装置を例に取って図面に基づいて説明する。図1
は、蛍光X線分析装置1の構成図である。図に示すよう
に、蛍光X線分析装置1は、真空試料室10と、試料保
管室20と、励起線発生手段30と、検出手段40とを
備えている。
分析装置を例に取って図面に基づいて説明する。図1
は、蛍光X線分析装置1の構成図である。図に示すよう
に、蛍光X線分析装置1は、真空試料室10と、試料保
管室20と、励起線発生手段30と、検出手段40とを
備えている。
【0015】先ず、真空試料室10は、分光室11と予
備室12とからなり、それぞれがバルブ61,62を介
して真空ポンプ60に接続されている。また、分光室1
1と予備室12とは開閉自在のゲートバルブ13によっ
てそれぞれ独立した部屋になる。分光室11は、その内
部に試料ホルダー14に載置した試料3を設置して分析
を行うところである。また、予備室12は、装置内に試
料3を搬入するためのところであり、試料3を搬入する
ための開閉自在な搬送口15が設けられている。また、
予備室12には、この中にドライエアを導入するための
リークバルブ16が接続されている。また、分光室11
と予備室12には、それぞれ搬送ベルト17と搬送ベル
ト18とが設置されている。この搬送ベルト17,18
は、試料ホルダー14を移動するためのものであり、こ
れによって真空試料室10内では、試料ホルダー14が
分光室11と予備室12との間で移動可能になってい
る。
備室12とからなり、それぞれがバルブ61,62を介
して真空ポンプ60に接続されている。また、分光室1
1と予備室12とは開閉自在のゲートバルブ13によっ
てそれぞれ独立した部屋になる。分光室11は、その内
部に試料ホルダー14に載置した試料3を設置して分析
を行うところである。また、予備室12は、装置内に試
料3を搬入するためのところであり、試料3を搬入する
ための開閉自在な搬送口15が設けられている。また、
予備室12には、この中にドライエアを導入するための
リークバルブ16が接続されている。また、分光室11
と予備室12には、それぞれ搬送ベルト17と搬送ベル
ト18とが設置されている。この搬送ベルト17,18
は、試料ホルダー14を移動するためのものであり、こ
れによって真空試料室10内では、試料ホルダー14が
分光室11と予備室12との間で移動可能になってい
る。
【0016】次に、試料保管室20は、ゲートバルブ2
1を介して真空試料室10の分光室11に接続している
ところであり、この試料保管室20にはバルブ63を介
して真空ポンプ60が接続されている。この試料保管室
20は、試料3を保管するための部屋であり、例えば複
数の試料3を載置できる棚状のカセット22と、試料ホ
ルダー14とカセット22との間で試料3を自在に移動
させるロボット24とを備えている。このカセット22
は、エレベータ23によって昇降自在であり、ロボット
24によってカセット22の各棚に試料3が収納される
ようになっている。
1を介して真空試料室10の分光室11に接続している
ところであり、この試料保管室20にはバルブ63を介
して真空ポンプ60が接続されている。この試料保管室
20は、試料3を保管するための部屋であり、例えば複
数の試料3を載置できる棚状のカセット22と、試料ホ
ルダー14とカセット22との間で試料3を自在に移動
させるロボット24とを備えている。このカセット22
は、エレベータ23によって昇降自在であり、ロボット
24によってカセット22の各棚に試料3が収納される
ようになっている。
【0017】そして、励起線発生手段30は、真空試料
室10の分析位置に配置された試料3の表面にX線を照
射するものであり、X線発生管を備えている。また、検
出手段40は、X線の放射によって試料3から放出され
る蛍光X線を検出するものである。
室10の分析位置に配置された試料3の表面にX線を照
射するものであり、X線発生管を備えている。また、検
出手段40は、X線の放射によって試料3から放出され
る蛍光X線を検出するものである。
【0018】上記のように構成された蛍光X線分析装置
1の作動の一例を説明する。先ず、試料ホルダー14を
予備室12に搬送し、分光室11を真空状態にする。こ
の場合、各部屋の境のゲートバルブ13,21と、真空
ポンプ60のバルブ62,63とを閉じ、バルブ61を
開いた状態で真空ポンプ60を作動させて、分光室11
を真空状態にする。
1の作動の一例を説明する。先ず、試料ホルダー14を
予備室12に搬送し、分光室11を真空状態にする。こ
の場合、各部屋の境のゲートバルブ13,21と、真空
ポンプ60のバルブ62,63とを閉じ、バルブ61を
開いた状態で真空ポンプ60を作動させて、分光室11
を真空状態にする。
【0019】次に、分析を行う試料3を真空試料室10
の分光室11に搬入する。この場合、先ず、上記の状態
で試料ホルダー11を搬送口15の下に移動すると共
に、リークバルブ16を開いて予備室12内にドライエ
アを導入する。そして、予備室12の内部が大気圧に戻
ったら搬送口15を開いて試料3を予備室12内の試料
ホルダー14に載置する。次いで、搬送口15とリーク
バルブ16とを閉じ、バルブ62を開いて予備室12の
内部のガスを排気する。これによって、予備室12の内
部の真空度が上がる。そして、予備室12内の圧力が分
光室11内の圧力と同じ程度に下がった後に、ゲートバ
ルブ13を開き、搬送ベルト17,18によって試料3
を載置した試料ホルダー14を分光室11に移動する。
移動が完了した後にゲートバルブ13を閉じる。
の分光室11に搬入する。この場合、先ず、上記の状態
で試料ホルダー11を搬送口15の下に移動すると共
に、リークバルブ16を開いて予備室12内にドライエ
アを導入する。そして、予備室12の内部が大気圧に戻
ったら搬送口15を開いて試料3を予備室12内の試料
ホルダー14に載置する。次いで、搬送口15とリーク
バルブ16とを閉じ、バルブ62を開いて予備室12の
内部のガスを排気する。これによって、予備室12の内
部の真空度が上がる。そして、予備室12内の圧力が分
光室11内の圧力と同じ程度に下がった後に、ゲートバ
ルブ13を開き、搬送ベルト17,18によって試料3
を載置した試料ホルダー14を分光室11に移動する。
移動が完了した後にゲートバルブ13を閉じる。
【0020】分光室11に搬入された試料3の蛍光X線
分析を行う。この場合、励起線発生手段30からのX線
の照射位置に、試料の分析箇所を移動する。そして、分
光室11内の真空度が充分であることを確認し、励起線
発生手段30から試料3の表面に向けてX線を照射す
る。そして、X線の照射によって試料3から放射された
蛍光X線を検出手段40で検出し試料3の分析を行う。
分析終了後、励起線発生手段30からのX線の照射を停
止する。
分析を行う。この場合、励起線発生手段30からのX線
の照射位置に、試料の分析箇所を移動する。そして、分
光室11内の真空度が充分であることを確認し、励起線
発生手段30から試料3の表面に向けてX線を照射す
る。そして、X線の照射によって試料3から放射された
蛍光X線を検出手段40で検出し試料3の分析を行う。
分析終了後、励起線発生手段30からのX線の照射を停
止する。
【0021】そして、試料3を試料保管室20に保管す
る。この場合、バルブ63を開けて、真空ポンプ60で
試料保管室20内のガスを排気する。そして、試料保管
室20内の圧力が分光室11内の圧力と同じ程度にまで
排気された後に、ゲートバルブ21を開き、例えばロボ
ット24によって試料3をカセット22に収納して試料
保管室20に保管する。
る。この場合、バルブ63を開けて、真空ポンプ60で
試料保管室20内のガスを排気する。そして、試料保管
室20内の圧力が分光室11内の圧力と同じ程度にまで
排気された後に、ゲートバルブ21を開き、例えばロボ
ット24によって試料3をカセット22に収納して試料
保管室20に保管する。
【0022】また、試料保管室20に保管した試料3の
分析を行う場合には、分光室11内の圧力が試料保管室
20内の圧力と同じ程度であることを確認してゲートバ
ルブ21を開き、ロボット24によって試料3をカセッ
ト22から試料ホルダー14に移し変える。
分析を行う場合には、分光室11内の圧力が試料保管室
20内の圧力と同じ程度であることを確認してゲートバ
ルブ21を開き、ロボット24によって試料3をカセッ
ト22から試料ホルダー14に移し変える。
【0023】上記の蛍光X線分析装置1においては、ゲ
ートバルブ21とゲートバルブ13とを閉じることによ
って、真空試料室10の分光室11及び予備室12と試
料保管室20とをそれぞれ独立した状態で真空状態に保
つことができる。また、ゲートバルブ13,21を開く
ことによって、真空試料室10の分光室11,予備室1
2と試料保管室20とを一体にした状態でその内部を真
空状態に保つことができる。したがって、試料3を真空
状態の試料保管室20に保管することができる。また、
試料3を真空状態に保ったままで、試料保管室20と真
空試料室10の分光室11との間を移動させることがで
きる。
ートバルブ21とゲートバルブ13とを閉じることによ
って、真空試料室10の分光室11及び予備室12と試
料保管室20とをそれぞれ独立した状態で真空状態に保
つことができる。また、ゲートバルブ13,21を開く
ことによって、真空試料室10の分光室11,予備室1
2と試料保管室20とを一体にした状態でその内部を真
空状態に保つことができる。したがって、試料3を真空
状態の試料保管室20に保管することができる。また、
試料3を真空状態に保ったままで、試料保管室20と真
空試料室10の分光室11との間を移動させることがで
きる。
【0024】以下に、上記の蛍光X線分析装置を用い
て、ウエハの表面に形成されたB及びPを含有するシリ
コン酸化膜(以下BPSG膜)中のほう素(B)の定量
分析を行う場合を説明する。
て、ウエハの表面に形成されたB及びPを含有するシリ
コン酸化膜(以下BPSG膜)中のほう素(B)の定量
分析を行う場合を説明する。
【0025】先ず、各濃度のBを含むBPSG膜を、各
ウエハの表面にそれぞれ成膜した標準試料を用意する。
その際、例えばICP(Inductivity Coupled Plasma)
発光分析によって、それぞれの標準試料についてBPS
G膜中のB濃度を測定しておく。そして、上記の標準試
料を、上記手順によって予め真空状態に保たれた試料保
管室20に保管しておく。
ウエハの表面にそれぞれ成膜した標準試料を用意する。
その際、例えばICP(Inductivity Coupled Plasma)
発光分析によって、それぞれの標準試料についてBPS
G膜中のB濃度を測定しておく。そして、上記の標準試
料を、上記手順によって予め真空状態に保たれた試料保
管室20に保管しておく。
【0026】試料3の分析に先立って、試料保管室20
に保管した標準試料の蛍光X線分析を行い、X線の発生
強度を補正しておく。そして、上記手順にしたがって試
料3であるウエハを搬送口15から分光室11に搬入し
て試料3の蛍光X線分析を行い、BPSG膜中のBの濃
度を測定する。
に保管した標準試料の蛍光X線分析を行い、X線の発生
強度を補正しておく。そして、上記手順にしたがって試
料3であるウエハを搬送口15から分光室11に搬入し
て試料3の蛍光X線分析を行い、BPSG膜中のBの濃
度を測定する。
【0027】上記のようにウエハ表面に成膜されたBP
SG膜中のB濃度の定量分析を行った場合、標準試料
は、予め真空状態に保たれた試料保管室20に保管され
ている。そしてこれらの標準試料を用いてX線の発生強
度の補正を行う場合にも、標準試料は真空雰囲気中に保
たれたまま分光室11に移動される。このため、標準試
料が大気にさらされてBPSG膜中のB濃度が変化する
ことはなく、試料の定量分析を精度良く行うことができ
る。
SG膜中のB濃度の定量分析を行った場合、標準試料
は、予め真空状態に保たれた試料保管室20に保管され
ている。そしてこれらの標準試料を用いてX線の発生強
度の補正を行う場合にも、標準試料は真空雰囲気中に保
たれたまま分光室11に移動される。このため、標準試
料が大気にさらされてBPSG膜中のB濃度が変化する
ことはなく、試料の定量分析を精度良く行うことができ
る。
【0028】尚、上記実施例では、試料保管室20を真
空試料室10の分光室11に接続した場合を説明した。
しかし、試料保管室20は、ゲートバルブを介して真空
試料室10の予備室12に接続しても良い。また、上記
実施例では、蛍光X線分析装置1を例にとって説明を行
ったが、本発明はこれに限るものではなく、励起線によ
って試料から発生する二次放射線を分析する分析装置に
適応可能である。そして、特に、これらの分析装置によ
る分析が、大気によって変質し易い試料を分析対象にす
る場合に有効である。
空試料室10の分光室11に接続した場合を説明した。
しかし、試料保管室20は、ゲートバルブを介して真空
試料室10の予備室12に接続しても良い。また、上記
実施例では、蛍光X線分析装置1を例にとって説明を行
ったが、本発明はこれに限るものではなく、励起線によ
って試料から発生する二次放射線を分析する分析装置に
適応可能である。そして、特に、これらの分析装置によ
る分析が、大気によって変質し易い試料を分析対象にす
る場合に有効である。
【0029】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の分
析装置によれば、真空状態を保てる試料保管室をゲート
バルブを介して真空試料室に接続させて設けたため、試
料を真空状態で保管できると共に、試料保管室と真空試
料室との間で試料を真空状態に保ったまま移動させるこ
とができる。したがって、上記試料保管室に標準試料を
保管することによって標準試料の変質が防止されるの
で、標準試料の新規作成コストの削減化が図られると共
に、分析結果の精度の向上が期待される。そして、特に
半導体装置の製造工程では、シリコン酸化膜中のほう素
の濃度分析において信頼性の高い製品検査を行うことが
可能となり、製品の歩留りの向上が期待される。
析装置によれば、真空状態を保てる試料保管室をゲート
バルブを介して真空試料室に接続させて設けたため、試
料を真空状態で保管できると共に、試料保管室と真空試
料室との間で試料を真空状態に保ったまま移動させるこ
とができる。したがって、上記試料保管室に標準試料を
保管することによって標準試料の変質が防止されるの
で、標準試料の新規作成コストの削減化が図られると共
に、分析結果の精度の向上が期待される。そして、特に
半導体装置の製造工程では、シリコン酸化膜中のほう素
の濃度分析において信頼性の高い製品検査を行うことが
可能となり、製品の歩留りの向上が期待される。
【図1】実施例の蛍光X線分析装置の構成図である。
【図2】従来例の蛍光X線分析装置の構成図である。
1 蛍光X線分析装置(分析装置) 3 試料 10 真空試料室 20 試料保管室 21 ゲートバルブ 30 励起線発生手段 40 検出手段
Claims (2)
- 【請求項1】 試料を設置する真空試料室と、 前記真空試料室の所定位置に配置された試料の表面に励
起線を照射するものであって、当該真空試料室に設けた
励起線発生手段と、 前記励起線の照射によって前記試料から放出される二次
放射線を検出するものであって、前記真空試料室に設け
た検出手段と、 前記真空試料室にゲートバルブを介して接続され、且つ
当該真空試料室との間で試料が移動可能であると共に、
内部を真空状態に保つことのできる試料保管室とを備え
たことを特徴とする分析装置。 - 【請求項2】 前記請求項1記載の分析装置において、
前記励起線はX線であり、前記二次放射線は蛍光X線で
あることを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5140043A JPH06331574A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5140043A JPH06331574A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06331574A true JPH06331574A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=15259653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5140043A Pending JPH06331574A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06331574A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000137010A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2008268235A (ja) * | 2008-08-11 | 2008-11-06 | Ulvac Japan Ltd | 二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置 |
US10663415B2 (en) | 2016-06-27 | 2020-05-26 | Shimadzu Corporation | Analysis device |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP5140043A patent/JPH06331574A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000137010A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2008268235A (ja) * | 2008-08-11 | 2008-11-06 | Ulvac Japan Ltd | 二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置 |
JP4714768B2 (ja) * | 2008-08-11 | 2011-06-29 | 株式会社アルバック | 二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置 |
US10663415B2 (en) | 2016-06-27 | 2020-05-26 | Shimadzu Corporation | Analysis device |
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